KR20110030014A - Encapsulation method of light emitting diode and light emitting diode encapsulated using same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 발광다이오드의 밀봉 방법 및 이에 의해 밀봉된 발광다이오드에 관한 것으로, 상기 밀봉 방법 의해 연속공정이 가능하고, 마스크 없이 이미지로 구현된 패턴에 따라 노광하여 밀봉 공정을 진행함으로써 발광다이오드의 양산 수율을 향상시킬 수 있다. The present invention relates to a method for sealing a light emitting diode and a light emitting diode sealed by the method, and the continuous method is possible by the sealing method, and the mass production yield of the light emitting diode by performing a sealing process by exposing according to a pattern implemented as an image without a mask. Can improve.
LED(light emitting diode: 발광다이오드)는 전류에 의해 발생한 전자와 정공이 사파이어 기판 위에 형성된 N층(전자층, negatively charged carrier)과 P층(정공층, positively charged carrier)의 화합물 반도체층 사이 경계면에서 재결합(recombination)하고, 그 결과로 생성된 여분의 에너지가 빛으로 발생되는 작동 메카니즘에 의해 구동하는 광반도체 소자이다. Light emitting diodes (LEDs) emit light at the interface between the N-layer (negatively charged carrier) and P-layer (positively charged carrier) compound semiconductor layers in which electrons and holes generated by current are formed on the sapphire substrate. An optical semiconductor device that is recombined and driven by an operating mechanism in which the resulting excess energy is generated by light.
LED는 고효율, 고속 응답, 장수명, 소형화, 경량, 및 저소비 전력에 의한 에 너지 절감 등의 장점과 함께, 일산화탄소 발생이 전혀 없고, 무수은 광원이므로 폐기물 처리가 간편한 친환경 광원이며, 점광원 및 초소형 광소자로 선, 면, 공간 디자인을 자유롭게 할 수 있어서 표시, 신호등, 디스플레이, 조명, 바이오, 통신, 휴대전화, LCD, 자동차 산업 등 광범위한 분야에서 활용되고 있으며, 그 용도 및 활용분야는 앞으로도 계속해서 증가할 것으로 예상된다.LED is an eco-friendly light source that has no carbon monoxide generation and no mercury-free light source, and is an eco-friendly light source that is easy to dispose of waste, with advantages such as high efficiency, high-speed response, long life, miniaturization, light weight, and low energy consumption. The design of lines, planes, and spaces is free, so it is used in a wide range of fields such as display, traffic light, display, lighting, bio, telecommunication, mobile phone, LCD, automobile industry, and its use and field of use will continue to increase in the future. It is expected.
일반적으로, LED 패키지는 사파이어 기판 및 실리콘 카바이드 웨이퍼로부터 다이싱한 LED 칩을 전극패턴이 형성된 기판 또는 리드프레임 상에 실장한 후에 상기 칩의 단자와 전극 패턴(또는 리드)을 와이어 본딩 공정을 통해 전기적으로 연결하고, 그 상부에 봉지재로서 형광체와 고분자 화합물을 블렌딩한 액상 투명수지를 디스펜싱 또는 스크린프린팅 공정 등을 통해 도포한 후 경화시켜 수지 포장부를 형성하는 방식으로 제조된다. 그러나, 상기와 같은 밀봉 공정은 공정시간, 그중에서도 특히 봉지재 경화에 시간이 많이 소요되기 때문에 전체 LED 공정의 양산 수율이 낮다는 문제점이 있었다. 또한, 통상의 반도체용 봉지재와 달리, LED 용 봉지재로는 광학 투명성, UV에 대한 내광성, LED의 열방출에 대한 내열성 및 방열성, 광추출 효율의 향상을 위한 고굴절성, 반사를 위한 코팅면에 대한 접착력의 신뢰성, 점도(공정 적용가능한 수준), 열응력 완화를 위한 저수축력, 내습성, 발열에 대한 고난연성 등의 물성이 요구된다. 그러나, 상기 물성적 요건을 모두 충족하는 수지 조성물은 아직 개발되지 않았으며, 이와 같이 상기 물성적 요건을 충족하지 않는 수지 조성물을 봉지재로 사용할 경우 LED 패키지의 발광효율을 저하시키는 등의 문제가 있었다.In general, an LED package is mounted on an LED pattern diced from a sapphire substrate and a silicon carbide wafer on a substrate or lead frame on which an electrode pattern is formed, and then the terminals and electrode patterns (or leads) of the chip are electrically connected through a wire bonding process. Connected to, and the liquid transparent resin blending the phosphor and the polymer compound as an encapsulating material on the top is applied through a dispensing or screen printing process and then cured to form a resin packaging. However, the sealing process as described above has a problem that the mass production yield of the entire LED process is low because the process time, in particular, it takes a long time to harden the encapsulant. In addition, unlike the conventional encapsulant for semiconductor, the encapsulant for LED includes optical transparency, light resistance to UV, heat resistance and heat dissipation for heat emission of the LED, high refractive index for improving light extraction efficiency, and a coated surface for reflection. Physical properties such as reliability of adhesion to the viscosity, viscosity (level applicable to the process), low shrinkage force for relieving thermal stress, moisture resistance, and high flame retardancy against heat generation are required. However, a resin composition that satisfies all of the above physical property requirements has not been developed yet, and thus, when a resin composition that does not meet the above physical property requirements is used as an encapsulant, there is a problem of lowering the luminous efficiency of the LED package. .
이에 따라 상기 물성적 요건을 충족하여 LED 패키지의 발광효율을 저하시키지 않으면서도 공정시간을 단축할 수 있는 봉지재 조성물 및 봉지 공정에 대한 개발이 요구되고 있다.Accordingly, there is a demand for development of an encapsulant composition and an encapsulation process capable of shortening the process time without sacrificing the luminous efficiency of the LED package by satisfying the physical property requirements.
최근 마이크로 구조물들을 생성하기 위한 기술로서 연속 흐름 리소그래피 기술이 사용되고 있다. 상기 연속 흐름 리소그래피 기술은 마이크로유체관(microfluidic channel) 내부에 광경화성 액체를 흐르게 하고, 광경화성 액체에 소정의 모양을 노출하여 광경화성 액체를 선택적으로 경화시킴으로서 여러 종류의 자유로이 움직이는(free floating) 마이크로구조물을 연속적으로 생산하는 방법으로, 상기 방법에 의해 다양한 형태, 크기 및 화학 조성의 마이크로 입자들 및 구조물들을 보다 빠르고 쉽게 형성할 수 있다. 그러나, 상기 방법은 포토 마스크를 사용하므로 일정 모양의 마이크로 구조물만을 생성할 수 있다는 제약이 있었다. Recently, a continuous flow lithography technique has been used as a technique for generating microstructures. The continuous flow lithography technique allows the photocurable liquid to flow inside a microfluidic channel and selectively cures the photocurable liquid by exposing a predetermined shape to the photocurable liquid, thereby freeing various kinds of free floating microparticles. As a method of continuously producing a structure, the method can form micro particles and structures of various shapes, sizes and chemical compositions more quickly and easily. However, the method uses a photo mask, so that only a microstructure of a certain shape can be generated.
따라서, 본 발명의 목적은 LED 밀봉시 광유체적 리소그래피 시스템을 적용함으로써, 마스크 없이 이미지로 구현된 패턴에 따라 노광하여 LED를 밀봉하는 공정을 연속적으로 실시할 수 있는 동시에, LED의 양산 수율을 향상시킬 수 있는 LED의 밀봉 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to apply a photofluidic lithography system at the time of LED sealing, thereby continuously performing the process of sealing the LED by exposing according to an image-implemented pattern without a mask, and at the same time improving the mass production yield of the LED. It is to provide a method of sealing LED that can be.
본 발명의 다른 목적은 상기 밀봉 방법에 의해 밀봉된 LED를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an LED sealed by the above sealing method.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 유체 레일을 구비한 마이크로 유체관에 LED용 광반도체 칩 및 광경화형 수지 조성물을 제공하는 단계, 및 선택된 특성을 가진 빛을 상기 광경화형 수지 조성물에 조사하여 경화시킴으로써, 경화된 광경화형 수지에 의해 상기 LED용 광반도체 칩을 밀봉하는 단계를 포함하는 LED의 밀봉 방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides an optical semiconductor chip for LED and a photocurable resin composition in a microfluidic tube having a fluid rail, and cured by irradiating the photocurable resin composition with light having selected characteristics. Thereby, it provides a method of sealing an LED comprising the step of sealing the optical semiconductor chip for LED by the cured photocurable resin.
본 발명은 또한 상기 밀봉 방법에 의해 밀봉된 LED를 제공한다.The present invention also provides an LED sealed by the above sealing method.
본 발명에 따른 LED 밀봉 방법에 의해 마스크 없이 광경화 공정을 진행할 수 있어 연속공정이 가능하고, 마스크 없이 이미지로 구현된 패턴에 따라 노광하여 밀 봉 공정을 진행함으로써 LED 양산 수율을 향상시킬 수 있다. The LED sealing method according to the present invention can proceed the photocuring process without a mask, a continuous process is possible, it is possible to improve the LED mass production yield by performing a sealing process by exposing according to the pattern implemented as an image without a mask.
이하 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
본 발명은 LED의 밀봉 공정에, 유체 레일을 따라 광경화형 수지 조성물을 이동시키면서 마스크 없이 이미지로 구현된 패턴에 따라 노광하는 광유체적 리소그래피 시스템을 도입함으로써, 연속적으로 마스크 없이 LED 밀봉 공정을 수행하는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a method of sealing an LED in a continuous process without a mask by introducing a photofluidic lithography system that exposes a patterned image without a mask while moving the photocurable resin composition along the fluid rail. It features.
상기 "광유체적 리소그래피 시스템"이란 광경화형 수지 조성물과 기재를 유체 레일을 따라 이동하며 봉지막을 형성하고, 형성된 봉지막의 노광부의 형상을 CCD 카메라, 이미지센서, 이미지렌즈, 마이크로스코프 등을 포함하는 촬영장치로 촬영하고, 촬영된 이미지를 컴퓨터를 이용하여 저장 및 분석한 후, 저장-분석된 이미지를 이용하여 마스크 없이 노광(maskless lithograph)하여 광경화하는 등, 상기의 일련의 공정이 수행되는 시스템을 의미한다(도 1 참조). The "photo-liquid lithography system" refers to a photographing apparatus including a CCD camera, an image sensor, an image lens, a microscope, and the like, wherein the photocurable resin composition and the substrate are moved along a fluid rail to form an encapsulation film. Means a system in which the above-described series of processes are performed, such as photographing using a computer, storing and analyzing a photographed image using a computer, and then performing photocuring by using a storage-analyzed image without a mask (maskless lithograph). (See FIG. 1).
상기 광유체적 리소그래피 시스템은 광원(light source), 상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기(spatial light modulator), 내부에 광경화형 수지 조성물이 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화형 수지 조성물을 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로 유체관(microfluidic channel), 상기 마이크로 유체관의 이미지에 대응하는 전기적인 이미지 신초를 출력하는 카메라, 및 상기 마이크로 유체관에 비축 조명을 제공하는 조명기를 포함하며, 선택적으로 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 변조된 광을 축소하여 마이크로 유체관에 제공하는 축조 렌즈(demagnification lens), 상기 마이크로 유체관의 모니터링을 위한 빔분리기(beam splitter)를 포함할 수 있다. 상기 광유체적 리소그래피 시스템은 구체적인 일예로 등록특허 제875900호(도 2)에 기재된 것을 이용할 수 있다. The photofluidic lithography system includes a light source, a spatial light modulator for modulating the light provided by the light source, a photocurable resin composition therein, and the modulated light provided by the spatial light modulator. A microfluidic channel for selectively curing and outputting the photocurable resin composition, a camera for outputting electrical image buds corresponding to the image of the microfluidic tube, and stockpiling illumination to the microfluidic tube And a demagnification lens for selectively reducing the modulated light provided by the spatial light modulator to the microfluidic tube, and a beam splitter for monitoring the microfluidic tube. can do. The photofluidic lithography system may use the one described in Patent No. 875900 (FIG. 2) as a specific example.
상기 광유체적 리소그래피 시스템을 이용한 본 발명에 따른 LED 밀봉 방법은, 유체 레일을 구비한 마이크로 유체관에 LED용 광반도체 칩 및 상기 광경화형 수지 조성물을 제공하는 단계(단계 1), 및 선택된 특성을 가진 빛을 상기 광경화형 수지 조성물에 조사하여 경화시킴으로써, 경화된 광경화형 수지에 의해 상기 광반도체 칩을 밀봉하는 단계(단계 2)를 포함한다. The LED sealing method according to the present invention using the photo-liquid lithography system, the step of providing an optical semiconductor chip for the LED and the photo-curable resin composition in a micro fluid tube having a fluid rail (step 1), and having selected characteristics Irradiating and curing light to the photocurable resin composition, thereby sealing the optical semiconductor chip with the cured photocurable resin (step 2).
이하 각 단계별로 상세히 설명한다. Hereinafter, each step will be described in detail.
(단계 1)(Step 1)
상기 단계 1은 유체 레일을 구비한 마이크로 유체관에 광반도체 칩 및 상기 광경화형 수지 조성물을 제공하는 단계이다.Step 1 is a step of providing an optical semiconductor chip and the photocurable resin composition in a microfluidic tube having a fluid rail.
상기 마이크로 유체관은 표준 소프트 리소그래피 기술을 사용한 것으로, 마이크로 유체관은 이를 둘러싸는 PDMS(poly dimethyl siloxane)에 의하여 형성되는 것이 바람직하다. 구체적으로 상기 마이크로 유체관의 4면 중 1면은 유리기판에 코팅된 PDMS에 의하여 형성되며, 나머지 3면은 PDMS 몰드에 의하여 형성될 수 있다. 유체관의 내측의 모든 면들에는 산소 및 기체에 대한 불투과층이 형성되어 있는 것이 바람직하며, 상기 불투과층은 기재가 유체관내에서 자유 이동하는 것을 돕는 동시에 광경화형 수지 조성물이 유체관 내에서 산소 또는 기타 기체와 반응하는 것을 방지하는 역할을 한다. The microfluidic tube uses standard soft lithography techniques, and the microfluidic tube is preferably formed by a poly dimethyl siloxane (PDMS) surrounding the microfluidic tube. Specifically, one of four surfaces of the microfluidic pipe may be formed by PDMS coated on a glass substrate, and the other three surfaces may be formed by a PDMS mold. It is preferable that all surfaces inside the fluid tube have an impermeable layer for oxygen and gas, and the impermeable layer helps the substrate move freely in the fluid tube, while the photocurable resin composition has oxygen in the fluid tube. Or to prevent reaction with other gases.
상기 LED용 광반도체 칩으로는 사파이어 기판, 실리콘 카바이드 웨이퍼 등을 통상의 방법으로 다이싱하여 제조된 것을 사용할 수 있다.As the optical semiconductor chip for LEDs, one manufactured by dicing a sapphire substrate, a silicon carbide wafer, or the like by a conventional method may be used.
상기 광경화형 수지 조성물로는 유체로의 형성이 가능하여 관 내부를 이동할 수 있으며, 광경화 공정이 가능한 수지라면 특별히 한정되지 않는다. 바람직하게는 LED의 봉지재로서의 요건인 고굴절율 및 고투과도 특성을 만족할 수 있는 실리콘수지, 에폭시수지, 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA) 수지 등을 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는 고굴절율 및 광투과도 특성과 함께 우수한 내자외선 특성을 갖는 실리콘 수지가 바람직하다. The photocurable resin composition is not particularly limited as long as it can be formed into a fluid and can move inside the tube, and a resin capable of a photocuring step. Preferably, a silicone resin, an epoxy resin, a polymethyl methacrylate (PMMA) resin, etc., which can satisfy high refractive index and high transmittance characteristics, which are requirements for the encapsulation material of the LED, may be used, and more preferably, high refractive index and light transmittance. Silicone resins having excellent ultraviolet light characteristics as well as properties are preferred.
본 발명에서 사용가능한 광경화형 수지 조성물로는 (a) 실리콘계 수지 50-100 중량부, (b) 가교수지 2-100 중량부, (c) 선택적으로 충진제 1-50 중량부, (d) 선택적으로 광경화 개시제 0.1-20 중량부, (e) 선택적으로 광증감제 0.1-20 중량부, 및 (f) 선택적으로 광촉매 0.1-10 중량부를 포함하는 수지 조성물을 사용할 수 있다.The photocurable resin composition usable in the present invention includes (a) 50-100 parts by weight of silicone-based resin, (b) 2-100 parts by weight of crosslinked resin, (c) optionally 1-50 parts by weight of filler, (d) optionally A resin composition comprising 0.1-20 parts by weight of a photocuring initiator, (e) optionally 0.1-20 parts by weight of a photosensitizer, and (f) optionally 0.1-10 parts by weight of a photocatalyst may be used.
(a) 실리콘계 수지(a) Silicone resin
본 발명의 광경화형 수지 조성물에 적용이 가능한 실리콘계 수지로는 알케닐기, 아크릴레이트기, 에폭시기, 옥세타닐기 등의 반응성 관능기를 포함하는 폴리오가노실록산을 사용할 수 있다. 구체적인 예로는, 메틸비닐폴리실록산, 디메틸실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 디메틸실록산·메틸비닐실록산·메틸페닐실록산 공중합체, 에폭시기 함유 디메틸폴리실록산, 에폭시기 함유 메틸페닐폴리실록산 등을 들 수 있다. As a silicone resin applicable to the photocurable resin composition of this invention, the polyorganosiloxane containing reactive functional groups, such as an alkenyl group, an acrylate group, an epoxy group, an oxetanyl group, can be used. Specific examples include methyl vinyl polysiloxane, dimethyl siloxane, methyl vinyl siloxane copolymer, dimethyl siloxane, methyl vinyl siloxane, methyl phenyl siloxane copolymer, epoxy group-containing dimethyl polysiloxane, epoxy group-containing methyl phenyl polysiloxane, and the like.
바람직하게는 주쇄가 알킬기(예컨대 메틸기, 에틸기 등), 아릴기(예컨대 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기 등), 실록산 에테르 등을 포함하고, 말단이 알케닐기, 아크릴레이트기, 에폭시기, 옥세타닐기 등을 포함하는 폴리오가노실록산을 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는 주쇄가 알킬기(예컨대 메틸기, 에틸기 등), 아릴기(예컨대 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기 등), 실록산 에테르 등을 포함하고, 말단이 알케닐기, 아크릴레이트기 또는 이들의 조합을 포함하는 폴리오가노실록산을 사용할 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다.Preferably, the main chain contains an alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, etc.), an aryl group (e.g., phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, etc.), siloxane ether, etc., and the terminal is alkenyl group, acrylate group, epoxy group, Polyorganosiloxane containing an oxetanyl group or the like can be used, and more preferably, the main chain is an alkyl group (such as a methyl group, an ethyl group, etc.), an aryl group (such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, etc.), a siloxane ether And the like, and a polyorganosiloxane having an alkenyl group, an acrylate group, or a combination thereof can be used. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
상기 폴리오가노실록산의 분자 구조는 특별히 한정되지 않으며, 예를들어 선상, 분지상, 환상 또는 3차원 망상구조(수지상)를 가질 수 있다.The molecular structure of the polyorganosiloxane is not particularly limited and may have, for example, a linear, branched, cyclic or three-dimensional network structure (resin phase).
또한 상기 폴리오가노실록산은 25 ℃에서 100-500,000 mPa·s의 점도를 갖는 것이 바람직하다. 상기 범위 내인 경우 작업성 및 경화체의 강도 특성을 모두 만족시킬 수 있다.In addition, the polyorganosiloxane preferably has a viscosity of 100-500,000 mPa · s at 25 ° C. When it is in the said range, both workability and the intensity | strength characteristic of a hardened | cured material can be satisfied.
상기 실리콘계 수지는 수지 조성물 중에 50-100 중량부로 포함되는 것이 바 람직하다.The silicone resin is preferably included in the
(b) 가교수지(b) crosslinked resin
본 발명의 광경화형 수지 조성물에 적용이 가능한 가교수지로는 1 분자중에 2 이상의 Si-H 결합을 갖는 오르가노하이드로젠폴리실록산을 사용할 수 있다. 상기 가교수지는 디메틸실록산, 메틸히드로젠실록산, 메틸-페닐 실록산, 트리메틸 실록산 등의 실록산 단위를 선택적으로 함유할 수 있다.As a crosslinking resin applicable to the photocurable resin composition of this invention, the organohydrogen polysiloxane which has 2 or more Si-H bond in 1 molecule can be used. The crosslinked resin may optionally contain siloxane units such as dimethylsiloxane, methylhydrogensiloxane, methyl-phenyl siloxane, trimethyl siloxane and the like.
구체적으로 상기 가교수지로는 메틸하이드로젠 폴리실록산, 트리스(디메틸하이드로젠실록시)메틸실란, 디메틸실록산ㅇ메틸하이드로젠실록산 공중합체, 화학식 R3SiO0.5로 표시되는 실록산 단위(이때, R로서는 예를 들면, 탄소수 1-6의 알킬기; 탄소수 6-24의 아릴기; 벤질기, 페네틸기 등의 아르알킬기; 또는 클로로메틸기, 3-클로로프로필기, 3,3,3-트리플루오로프로필기 등의 할로겐화 알킬기이다. 이하 동일)와 화학식 R2HSiO0.5로 표시되는 실록산 단위와 화학식 SiO2로 표시되는 실록산 단위로 이루어지는 오르가노폴리실록산 공중합체, 화학식 RHSiO2/2의 실록산 단위 및 화학식 RSiO3/2의 실록산 단위, 또는 화학식 HSiO3/2의 실록산 단위로 이루어진 오르가노 폴리실록산의 공중합체 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다.Specifically, as the crosslinking resin, methylhydrogen polysiloxane, tris (dimethylhydrogensiloxy) methylsilane, dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, siloxane units represented by the formula R 3 SiO 0.5 For example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group; or a chloromethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, etc. Organopolysiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by formula R 2 HSiO 0.5 and a siloxane unit represented by formula SiO 2 , a siloxane unit represented by formula RHSiO 2/2 , and a formula of RSiO 3/2 And copolymers of organopolysiloxanes composed of siloxane units or siloxane units of the general formula HSiO 3/2 . These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
상기 오르가노하이드로젠폴리실록산 1분자 중의 규소 원자의 수(중합도)는 2-1000인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3-300이다It is preferable that the number (polymerization degree) of the silicon atom in 1 molecule of the said organohydrogenpolysiloxane is 2-1000, More preferably, it is 3-300
또한 상기 오르가노하이드로젠폴리실록산은 25 ℃에서 0.1-5000 mPa·s의 점도를 갖는 것이 바람직하다. 상기 범위 내인 경우 균일한 혼합 및 우수한 작업성을 가진다.In addition, the organohydrogenpolysiloxane preferably has a viscosity of 0.1-5000 mPa · s at 25 ° C. Within the above range, it has uniform mixing and excellent workability.
상기 가교수지는 경화과정 중 광촉매 또는 광개시제의 종류에 따라 선택적으로 적용할 수 있으며, 상기 가교 수지는 수지 조성물 중에 2-100 중량부로 포함되며, 바람직하게는 10-50 중량부로 포함된다. 가교 수지의 함량이 2 중량부 미만이면 점도가 높아 작업성이 저하되고, 가교가 불충분하여 경화물의 강도가 저하될 우려가 있고, 100 중량부를 초과하면 상기 실리콘계 수지에 대한 보강 효과가 불충분해지고, 경화물의 강도가 저하될 우려가 있어 바람직하지 않다.The crosslinking resin may be selectively applied according to the type of photocatalyst or photoinitiator during the curing process, and the crosslinking resin is included in the resin composition in an amount of 2-100 parts by weight, and preferably in an amount of 10-50 parts by weight. If the content of the crosslinked resin is less than 2 parts by weight, the viscosity is high, the workability is lowered, the crosslinking is insufficient, and the strength of the cured product may be lowered. If the content of the crosslinked resin is more than 100 parts by weight, the reinforcing effect on the silicone resin is insufficient, and the curing is performed. It is not preferable because the strength of water may be lowered.
(c) 충진제(c) fillers
본 발명에 따른 광경화형 수지 조성물은 수지 조성물의 경화시 도막강도를 향상시키거나 발광소자에서 나오는 광의 굴절률을 조정하기 위해 충진제를 포함한다. The photocurable resin composition according to the present invention comprises a filler to improve the coating film strength during curing of the resin composition or to adjust the refractive index of light emitted from the light emitting device.
상기 충진제로는 오가노실리케이트류, 실록산계 화합물, 실리카, 폴리헤드랄 올리고실세스퀴옥산(POSS) 등을 사용할 수 있다. 상기 화합물들은 굴절률이나 내열성 및 기계적 특성을 향상시키기 위한 기능성 기를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 경화시 도막 강도를 향상시키기 위해서는 말단이 알케닐 작용성기를 갖거나 또는 Si-H 관능기를 갖는 오가노실리케이트류, 실록산 연결기 중 Q(SiO4/2) 단위 또는 T((RSiO3/2)n) 단위를 중심으로 이루어진 실록산계 화합물, SiO2, 또는 POSS를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 충진제는 또한 수지 조성물의 경화 후, 저수축률(low shringkage) 및 요변성(thixotropy)을 부여하고, 내열특성 및 기계적 특성을 향상시키는 효과가 있다.As the filler, organosilicates, siloxane compounds, silica, polyhedral oligosilsesquioxane (POSS), and the like may be used. The compounds may further comprise functional groups for improving the refractive index, heat resistance and mechanical properties. Specifically, in order to improve the coating film strength during curing, organosilicates having alkenyl functional groups or Si-H functional groups, Q (SiO 4/2 ) units or T ((RSiO 3 / 2 ) It is preferable to use a siloxane compound, SiO 2 , or POSS composed mainly of n ) units. These fillers also have the effect of imparting low shringkage and thixotropy after curing of the resin composition and improving heat resistance and mechanical properties.
상기와 같은 충진제는 수지 조성물 중 1-50 중량부로 포함되는 것이 바람직하다.The filler as described above is preferably included in 1-50 parts by weight of the resin composition.
(d) 광경화 개시제(d) photocuring initiator
본 발명의 광경화형 수지 조성물에 적용이 가능한 광경화 개시제로는 상기 실리콘계 수지를 광에 의해 경화시킬 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 경화방식에 따라 라디칼 개시제, 양이온 개시제 등에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다.The photocuring initiator applicable to the photocurable resin composition of the present invention is not particularly limited as long as the silicone resin can be cured by light, and may be appropriately selected from a radical initiator, a cationic initiator and the like according to the curing method.
상기 라디칼 개시제로는 벤조인에테르(benzoinether); 벤질디메틸케탈(benzildimethylketal; BDK) 등의 벤질케탈(benzilketal); α,α디에톡시아세토페논(α,α-diethoxyacetophenone; DEAP) 등의 α,α-디알콕시아세토페논(α,α-dialkoxyacetophenone); α-히드록시알킬페논(α-hydroxyalkylphenone); α-아미노알킬페논(α-aminoalkylphenone); 아실포스핀옥사이드(acylphosphine oxide; APO); 벤조페논(benzophenone) 및 그 유도체; 또는 이소프로필티옥산톤(isopropylthioxanthone; IPTX) 등의 티옥산톤 등을 사용할 수 있다. Examples of the radical initiator include benzoinether; Benzilketal such as benzildimethylketal (BDK); α, α-dialkoxyacetophenone (α, α-dialkoxyacetophenone) such as α, α-diethoxyacetophenone (DEAP); α-hydroxyalkylphenones; α-aminoalkylphenones; Acylphosphine oxide (APO); Benzophenone and its derivatives; Or thioxanthones such as isopropylthioxanthone (IPTX).
상기 양이온 개시제로는 브론스테드 산 발생 형태계와 루이스산 발생 형태계 등이 있으며, 구체적으로는 디아조늄(diazonium)염계, 요오드늄(iodonium)염계, 술포늄(sulphonium)염계, 피리디늄(pyridinium)염계, 아릴실라놀(arylsilanol)염계, 알루미늄(aluminium) 등의 금속착체계 등을 사용할 수 있다. The cationic initiators include a Bronsted acid generation type system and a Lewis acid generation type system, and specifically, a diazonium salt type, an iodonium salt type, a sulfonium salt type, and a pyridinium salt. A salt complex, an arylsilanol salt system, metal complex systems, such as aluminum, etc. can be used.
상기 광경화 개시제와 함께 광산발생제를 선택적으로 포함할 수 있다. 상기 광산발생제로는 노광에 의해 루이스산 또는 브론스테드산을 생성시킬 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 구체적으로는 유기술폰산 등의 황화염계 화합물; 오니움염 등의 오니움계 화합물을 사용할 수 있다. 바람직하게는 프탈이미도트리플루오로메탄술포네이트, 디니트로벤질토실레이트, n-데실디술폰, 나프틸이미도트리플루오로메탄술포네이트, 디페닐요도염, 헥사플루오로포스페이트, 디페닐요오드염, 헥사플루오로아르세네이트, 디페닐요도염, 헥사플루오로안티모네이트, 디페닐파라메톡시페닐설포늄 트리플레이트, 디페닐파라톨루에닐설포늄 프리플레이트, 디페닐파라이소부틸페닐설포늄 트리플레이트, 프리페닐설포늄 헥사플루오로 아르세네이트, 트리페닐설포늄 헥사플루오로 안티모네이트, 트리페닐설포늄 트리플레이트, 디부틸나프틸설포늄 트리플레이트 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.A photoacid generator may be optionally included with the photocuring initiator. The photoacid generator is not particularly limited as long as it can generate Lewis acid or Bronsted acid by exposure, and specifically, sulfur-based compounds such as eutechonic acid; Onium-based compounds such as onium salts can be used. Preferably phthalimidotrifluoromethanesulfonate, dinitrobenzyltosylate, n-decyldisulfone, naphthylimidotrifluoromethanesulfonate, diphenyl iodo salt, hexafluorophosphate, diphenyl iodide salt, hexafluoro Roarsenate, diphenyl iodo salt, hexafluoroantimonate, diphenyl paramethoxyphenylsulfonium triflate, diphenyl paratoluenylsulfonium preplate, diphenyl paraisobutylphenyl sulfonium triflate, prephenyl Sulfonium hexafluoro arsenate, triphenylsulfonium hexafluoro antimonate, triphenylsulfonium triflate, dibutylnaphthylsulfonium triflate and mixtures thereof can be used.
상기와 같은 광경화 개시제는 수지 조성물 중 0.1-20 중량부로 포함되는 것이 바람직하다.It is preferable that such a photocuring initiator is contained in 0.1-20 weight part in a resin composition.
(e) 광증감제(e) photosensitizers
본 발명의 광경화형 수지 조성물에 적용이 가능한 광증감제로는 공정상의 광 원과 흡수파장이 일치하고, 상기 광경화 개시제를 활성화시킬 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 경화방식에 따라 선택적으로 사용할 수 있다. The photosensitizer which can be applied to the photocurable resin composition of the present invention is not particularly limited as long as the light source and the absorption wavelength of the process coincide with each other, and the photocuring initiator can be activated, and can be selectively used depending on the curing method. .
구체적인 예로는 벤조인 유도체 화합물, 벤질케탈 유도체 화합물, 아세토페논 유도체 화합물, 페논 유도체 화합물, 포스핀 옥사이드 유도체 화합물을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 벤조페논 유도체 화합물을 사용할 수 있다.Specific examples thereof may include benzoin derivative compounds, benzyl ketal derivative compounds, acetophenone derivative compounds, phenone derivative compounds, phosphine oxide derivative compounds, and preferably benzophenone derivative compounds.
상기와 같은 광증감제는 수지 조성물 중 0.1-20 중량부로 포함되는 것이 바람직하다.The photosensitizer as described above is preferably included in 0.1-20 parts by weight of the resin composition.
(f) 광촉매 (f) photocatalyst
본 발명에 따른 광경화형 수지 조성물은 상기 (b) 가교수지에서의 Si-H기와 상기 (a) 실리콘계 수지와의 경화반응을 촉진하기 위하여 촉매를 선택적으로 포함할 수 있다. The photocurable resin composition according to the present invention may optionally include a catalyst in order to promote a curing reaction between the Si-H group in the crosslinked resin (b) and the silicone resin (a).
상기 광촉매로는 백금흑, 염화제2백금, 염화백금산과 올레핀류와의 착체, 또는 백금 비스아세토아세테이트 등의 백금계 촉매; 팔라듐계 촉매; 로듐계 촉매 등의 금속 촉매의 착체화합물를 사용할 수 있다. 바람직하게는 디올레핀-아릴 백금 착체, 팔라듐(Ⅱ) 또는 백금(Ⅱ)의 디케톤 착체를 사용할 수 있으며, 특히 히드로실릴화를 위한 광촉매로서는 비스아세틸아세토네이트 백금(Ⅱ) 등의 백금계 금속 촉매를 사용하는 것이 좋다. Examples of the photocatalyst include platinum-based catalysts such as platinum black, platinum chloride, complexes of chloroplatinic acid and olefins, or platinum bisacetoacetate; Palladium-based catalysts; Complex compounds of metal catalysts such as rhodium-based catalysts can be used. Preferably, diolefin-aryl platinum complexes, diketone complexes of palladium (II) or platinum (II) can be used. Particularly, as a photocatalyst for hydrosilylation, platinum-based metal catalysts such as bisacetylacetonate platinum (II) It is good to use
상기와 같은 광촉매는 수지 조성물 중 0.1-10 중량부로 포함되는 것이 바람직하다.The photocatalyst as described above is preferably included in 0.1-10 parts by weight of the resin composition.
(g) 기타 첨가제(g) other additives
본 발명에 따른 광경화형 수지 조성물은 수지 조성물의 구체적인 구현 요건에 따라 경화 특성 또는 비경화 특성을 개질시키기 위한 열전도성 강화제, 접착촉진제, 가요성부여제, 산화방지제, 가소제, 윤활제, 실란계 등의 커플링제, 무기충전제의 표면처리제, 난연제, 대전방지제, 레벨링제, 무기이온교환체, 소포제, 광확산제 등의 기타 첨가제를 선택적으로 포함할 수 있다. 또한 본 발명에 따른 광경화형 수지 조성물은 또한 굴절율을 향상시키기 위하여 필러를 포함할 수도 있다. 상기 필러는 특별히 크기를 한정하지는 않으나 가시광 파장대의 빛의 광추출 효율을 향상시키기 위하여 파장대의 1/4 크기의 필러를 사용하는 것이 바람직하며, 필러를 적용할 경우 유기막 재료에 분산 시킨 후 공정에 적용할 수 있다. The photocurable resin composition according to the present invention is a couple of a thermally conductive reinforcing agent, an adhesion promoter, a flexible imparting agent, an antioxidant, a plasticizer, a lubricant, a silane system, and the like for modifying the curing or non-curing properties according to specific implementation requirements of the resin composition. Other additives such as a ring agent, a surface treatment agent of an inorganic filler, a flame retardant, an antistatic agent, a leveling agent, an inorganic ion exchanger, an antifoaming agent, and a light diffusing agent may be optionally included. In addition, the photocurable resin composition according to the present invention may also contain a filler in order to improve the refractive index. The filler is not particularly limited in size, but in order to improve the light extraction efficiency of light in the visible wavelength range, it is preferable to use a filler having a size of 1/4 in the wavelength range. Applicable
상기 기타첨가제는 수득되는 경화체의 특성을 해치지 않는 함량 범위에서 적절히 사용될 수 있다. 예를 들어, 접착 촉진제로서, (메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 트리알킬 또는 트리알릴 이소시아누레이트, 글리시독시프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란 등을 수지 조성물 중 5 중량부 이하의 양으로 포함할 수 있다. 또한, 산화방지제로서, 예를 들어 페놀(phenol)계, 유황계, 인계 산화 방지제 등을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 트리페닐 포스파이트(triphenyl phosphate), 디페닐 데실 포스파이트(diphenyl decyl phosphate) 등의 파라 크레졸(palladium Kresol) 등을 사용할 수 있다.The other additives may be suitably used in a content range that does not impair the properties of the resulting cured product. For example, as the adhesion promoter, 5 weight of (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, trialkyl or triallyl isocyanurate, glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane and the like in the resin composition It may be included in an amount of less than or equal to. In addition, as the antioxidant, for example, phenol (phenol), sulfur-based, phosphorus-based antioxidant and the like can be used, preferably triphenyl phosphite (triphenyl phosphate), diphenyl decyl phosphate (diphenyl decyl phosphate) and the like Palladium Kresol and the like can be used.
상기와 같은 조성을 갖는 본 발명에 따른 광경화형 수지 조성물은 우수한 광 투과율, 내자외선 특성, 접착강도 및 굴절률을 가져, 발광다이오드(LED), 마이크로전자기계시스템(MEMS), 반도체, 액정표시장치(LCD), LCD 백라이트 유닛(BLU), 유기전기발광다이오드(OLED) 등의 광반도체 소자의 봉지에 유용하게 적용되어, 광반도체 소자의 성능 특성을 향상시킬 수 있다. 바람직하게는 상기 광경화형 수지 조성물은 경화후 95 % 이상의 광투과율을 가지며, 굴절율이 1.4 이상, 바람직하게는 1.4-1.7의 굴절율을 가지며, 0.1 MPa 이상, 바람직하게는 0.5 내지 1.5 MPa 의 접착강도를 갖는다. Photocurable resin composition according to the present invention having the composition as described above has excellent light transmittance, UV resistance, adhesive strength and refractive index, light emitting diodes (LED), microelectromechanical systems (MEMS), semiconductors, liquid crystal display (LCD) ), And is usefully applied to encapsulation of an optical semiconductor device such as an LCD backlight unit (BLU) and an organic electroluminescent diode (OLED), thereby improving performance characteristics of the optical semiconductor device. Preferably, the photocurable resin composition has a light transmittance of 95% or more after curing, has a refractive index of 1.4 or more, preferably 1.4-1.7, and has an adhesive strength of 0.1 MPa or more, preferably 0.5 to 1.5 MPa. Have
또한 상기 광경화형 수지 조성물은 상기와 같은 특성으로 인해 연속적으로 마스크 없이 봉지 공정을 진행할 수 있는 광유체적 리소그래피 시스템에 유용하게 적용될 수 있다.In addition, the photocurable resin composition may be usefully applied to a photofluidic lithography system capable of continuously performing an encapsulation process without a mask due to the above characteristics.
상기와 같은 광경화형 수지 조성물은 펌프를 이용한 실린지 토출 방법에 의해 마이크로 유체관의 유체 레일에 제공되는 것이 바람직하다.It is preferable that such a photocurable resin composition is provided to the fluid rail of a microfluidic pipe by the syringe discharge method using a pump.
(단계 2)(Step 2)
상기 단계 2는 선택된 특성을 가진 빛을 상기 광경화형 수지 조성물에 조사하여 경화시킴으로써, 경화된 광경화형 수지에 의해 상기 광반도체 칩을 밀봉하는 단계이다.Step 2 is a step of sealing the optical semiconductor chip with the cured photocurable resin by irradiating and curing the light having a selected characteristic to the photocurable resin composition.
상기 '선택된 특성을 가진 빛'이란, CCD 카메라, 이미지센서, 이미지렌즈, 마이크로스코프 등의 촬영장치로 촬영되어 컴퓨터에 저장된 노광부의 이미지 대로 변조된 광을 의미하며, 상기 광원으로는 자외선, 가시광선 등 마이크로 유체관 내 에 흐르는 광경화형 수지 조성물을 경화시킬 수 있는 광이라면 특별한 제한없이 사용할 수 있다.The light having a selected characteristic means light that is photographed by a photographing apparatus such as a CCD camera, an image sensor, an image lens, a microscope, and modulated according to an image of an exposed part stored in a computer, and the light source includes ultraviolet rays and visible light. Etc. Any light that can cure the photocurable resin composition flowing in the microfluidic tube can be used without particular limitation.
상기 광 조사에 의해 광경화형 수지 조성물이 경화되며, 경화된 수지 내에 광반도체 칩이 포함되게 된다.Photocurable resin composition is hardened by the said light irradiation, and the optical semiconductor chip is contained in hardened resin.
이때, 상기 변조된 광에 따라 다양한 모양을 갖는 광경화형 수지 조성물의 경화물이 형성될 수 있다. In this case, a cured product of the photocurable resin composition having various shapes may be formed according to the modulated light.
실리콘 수지 조성물의 충분한 경화를 위한 노광조건은 개시제의 종류 및 함량, 노광량, 노광 파장대에 따라 달라질 수 있으나, 평균파장 365nm에서 노광하는 것이 바람직하며, 양이온 개시제를 사용하는 경우 라디칼 개시제를 사용할 때에 비해 노광량을 증가시키는 것이 좋다. Exposure conditions for the sufficient curing of the silicone resin composition may vary depending on the type and content of the initiator, the exposure amount, and the exposure wavelength range, it is preferable to expose at an average wavelength of 365nm, when using a cationic initiator, the exposure dose compared to when using a radical initiator It is good to increase.
상기와 같은 밀봉 방법에 의해 마스크 없이 광경화 공정을 진행할 수 있어 연속공정이 가능하고, 기존 열경화형 수지를 사용할 때에 비해 공정시간을 현저히 단축할 수 있으며, 마스크 없이 이미지로 구현된 패턴에 따라 노광하여 봉지 공정을 진행함으로써 LED 양산수율을 향상시킬 수 있다. The photocuring process can be carried out without a mask by the sealing method as described above, and thus a continuous process is possible, and the process time can be significantly shortened compared with using a conventional thermosetting resin. Through the encapsulation process, the yield of LED mass production can be improved.
본 발명은 또한 상기와 같은 방법에 의해 밀봉된 LED를 제공한다.The present invention also provides an LED sealed by such a method.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the scope of the present invention is not limited to the following examples.
[실시예 1 내지 4: 광경화형 수지 조성물의 제조][Examples 1 to 4: Preparation of Photocurable Resin Compositions]
하기 표 1에 기재된 성분 및 함량으로 혼합 후, 3롤 혼련기로 혼합 분산시켜 전극 페이스트를 제조하였다.After mixing with the components and contents shown in Table 1 below, mixing and dispersing with a three-roll kneader to prepare an electrode paste.
[표 1]TABLE 1
실록산수지 2 : PDV-1631 (젤레스트사제)
가교수지 : HPM-502 (젤레스트사제)
광개시제 : DETX (알드리치사제)
광증감제 : IPTX (알드리치사제)
광촉매 : 2,4-펜탄디오네플라디늄 유도체(2,4-Pentanedioneplatinum(II) derivative(Pt(아세틸아세토네이트)2) (알드리치사제)
충진제 : SST-V8V01 (젤레스트사제)
실란 커플링제 : KBM503 (신에쓰사제)Siloxane Resin 1: PDV-1625 (manufactured by gelest)
Siloxane Resin 2: PDV-1631 (Gelest Corporation)
Crosslinked resin: HPM-502 (made by Gelest)
Photo Initiator: DETX (Aldrich)
Photosensitizer: IPTX (Aldrich)
Photocatalyst: 2,4-pentanedioneplatinium derivative (2,4-Pentanedioneplatinum (II) derivative (Pt (acetylacetonate) 2) (made by Aldrich)
Filling agent: SST-V8V01 (made by Gelest)
Silane coupling agent: KBM503 (manufactured by Shin-Etsu Corp.)
[수지 조성물의 특성 평가][Characteristic Evaluation of Resin Composition]
상기 실시예 1 내지 4에서 제조된 수지 조성물에 대하여 하기와 같은 방법으로 광투과율, 접착강도 및 굴절률을 평가하였다. 그 결과는 하기 표 2에 나타내었다.The light transmittance, adhesive strength, and refractive index of the resin compositions prepared in Examples 1 to 4 were evaluated in the following manner. The results are shown in Table 2 below.
1. 광투과율1. Light transmittance
상기 실시예 1 내지 4에서 제조된 광경화형 수지 조성물을 바 어플리케이터를 이용하여 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 표면에 50 mm ⅹ 50 mm ⅹ 0.1 mm 의 크기가 되도록 각각 코팅한 후, 3000 mJ/cm2의 UV를 조사하여 시편을 제조하였다. 자외선-가시광선 분광법(UV-Vis spectroscopy; 메카시스(Mecasys)사제)를 사용하여 400-780 nm의 파장에서 상기 제조된 시편의 6 포인트별 투과율을 측정하고 얻어진 파장범위 내의 평균값으로부터 광투과율을 평가하였다. The photocurable resin composition prepared in Examples 1 to 4 was coated on the surface of the polyethylene terephthalate film using a bar applicator so as to have a size of 50 mm × 50 mm × 0.1 mm, and then UV of 3000 mJ / cm 2 . Was prepared to prepare a specimen. UV-Vis spectroscopy (manufactured by Mecasys) was used to measure the transmittance of each point of the prepared specimens at a wavelength of 400-780 nm, and the light transmittance was evaluated from the average value within the obtained wavelength range. It was.
2. 접착강도2. Adhesive strength
50 mm ⅹ 50 mm ⅹ 1.1 mm의 글라스를 하판으로 하는 기재 위에 상기 실시예 1 내지 4에서 제조된 광경화형 수지 조성물을 ASTM D-638에 준하는 크기로 준비하고, 3000 mJ/cm2의 UV를 조사하여 접착강도 측정기(UTM-5566™, 인스트론사제)로 측정하였다.The photocurable resin composition prepared in Examples 1 to 4 was prepared on a substrate having a glass of 50 mm × 50 mm × 1.1 mm in a size according to ASTM D-638, and irradiated with UV of 3000 mJ / cm 2 . Was measured by an adhesive strength meter (UTM-5566 ™, manufactured by Instron).
3. 굴절률3. refractive index
상기 실시예 1 내지 4에서 제조된 광경화형 수지 조성물을 실리콘 웨이퍼 위에 스핀 코팅법을 이용하여 도포한 후, 3000 mJ/cm2의 UV를 조사하여 생성된 경화막의 굴절률 (589 nm)을 엘립소미터를 이용하여 측정하였다.After applying the photocurable resin composition prepared in Examples 1 to 4 using a spin coating method on a silicon wafer, the refractive index (589 nm) of the cured film produced by irradiation with UV of 3000 mJ / cm 2 ellipsometer Measured using.
[표 2] TABLE 2
상기 표 2에 나타난 바와 같이 실시예 1 내지 4에 따른 광경광형 수지 조성물은 우수한 광투과율, 접착강도 및 굴절률을 나타내었다.As shown in Table 2, the photocurable resin composition according to Examples 1 to 4 exhibited excellent light transmittance, adhesive strength and refractive index.
[실시예 5 내지 8: LED 제조][Examples 5 to 8: LED Manufacturing]
상기 실시예 1 내지 4에 따른 광경화형 수지 조성물 각각을 LED 광반도체 칩과 함께 유체 레일을 구비한 마이크로 유체관으로 이동시키면서 UV를 조사하여 상기 광경화형 수지 조성물의 경화물에 의해 밀봉된 LED를 제조하였다. Irradiating UV while moving each photocurable resin composition according to Examples 1 to 4 to a microfluidic tube having a fluid rail together with an LED optical semiconductor chip to manufacture an LED sealed by a cured product of the photocurable resin composition. It was.
도 1은 광유체적 리소그래피 시스템에서의 공정을 개략적으로 도시한 공정도이다.1 is a process diagram schematically illustrating a process in a photofluidic lithography system.
도 2는 본 발명에 적용할 수 있는 광유체적 리소그래피 시스템의 구체적인 일예이다.2 is a specific example of a photofluidic lithography system applicable to the present invention.
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