KR20110016002A - Cleaning unit, chemical coating apparatus having the same and cleaning method using the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A cleaning unit, a chemical coating device with the same and a cleaning method using the same are provided to increase the cleaning efficiency. CONSTITUTION: A rotation driving unit(172) can rotate. A pulley(173) is separately fixed to the rotation driving unit and is arranged to face each other and rotates the rotation force of the rotating driving unit. A belt partially covers the rotation driving unit and the pulley and rotates the rotation driving unit and transmits the rotation force of the rotation driving unit to the pulley. At least one cleaning pad(175a,175b,176a,176b,176c) is installed in the external surface of the belt to be detachable, moves by rotation of the belt, contacts with the discharging surface of a nozzle discharging liquid and cleans the foreign material of the discharging surface.

Description

세정 유닛, 이를 갖는 약액 도포 장치 및 이를 이용한 세정 방법{CLEANING UNIT, CHEMICAL COATING APPARATUS HAVING THE SAME AND CLEANING METHOD USING THE SAME}CLEANING UNIT, CHEMICAL COATING APPARATUS HAVING THE SAME AND CLEANING METHOD USING THE SAME

본 발명은 기판 상에 약액을 도포하는 잉크젯 방식의 약액 도포 장치에 관한 것으로, 보다 상세히는 약액이 토출되는 노즐을 세정하는 세정 유닛, 이를 갖는 약액 도포 장치 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an inkjet method of applying a chemical liquid on a substrate, and more particularly to a cleaning unit for cleaning a nozzle from which the chemical liquid is discharged, a chemical liquid applying apparatus having the same and a cleaning method using the same.

영상을 표시하는 액정표시장치는 다양한 박막들이 증착된 두 장의 기판 및 두 장의 기판 사이에 개재된 액정층으로 이루어진다. 일반적으로, 각 기판에 형성된 박막들은 다양한 형상의 패턴을 가지므로, 패턴의 정밀도를 위해 증착 공정 및 사진 식각 공정을 통해 형성된다. 이와 같이, 하나의 박막을 형성하기 위해서는 고가의 마스크가 사용되는 사진 식각 공정이 이용되므로, 제조 원가가 상승하고, 제조 공정 시간이 증가한다.A liquid crystal display for displaying an image includes two substrates on which various thin films are deposited and a liquid crystal layer interposed between the two substrates. In general, since the thin films formed on each substrate have patterns of various shapes, they are formed through a deposition process and a photolithography process for the accuracy of the pattern. As such, since a photolithography process using an expensive mask is used to form one thin film, manufacturing cost increases and manufacturing process time increases.

최근, 이러한 박막 형성 방법의 대안으로 잉크젯 프린팅 방식을 이용한 박막 형성 방법이 사용되고 있다. 잉크젯 프린팅 방식은 기판의 특정 위치에 약액을 도포하여 방막을 형성하므로, 별도의 식각 공정을 필요로 하지 않는다. 이러한 잉크 젯 프린팅 방식은 액정표시장치의 컬러필터 또는 배향막 등을 형성하는 데 사용될 수 있다.Recently, a thin film forming method using an inkjet printing method has been used as an alternative to the thin film forming method. The inkjet printing method forms a barrier by applying a chemical to a specific position of the substrate, and thus does not require a separate etching process. The ink jet printing method may be used to form a color filter or an alignment layer of a liquid crystal display device.

일반적으로, 잉크젯 프린트 장치는 기판 상에 약액을 도포하는 헤드 및 헤드를 세정하는 세정 유닛을 구비한다. 헤드는 약액을 분사하는 다수의 노즐을 구비하며, 기판의 특정 위치에 약액을 분사한다. 일반적으로, 잉크젯 프린트 장치에 사용되는 약액은 점성 및 휘발성이 높기 때문에, 응고되기 쉽다. 특히, 약액 도포 후, 노즐들의 토출구 주변에는 약액이 잔류할 수 있으며, 이러한 잔류 약액은 토출구 주변에 응고되어 노즐의 토출구를 막거나 이후 약액 도포 시 기판에 도포되어 불균일한 막을 형성할 수 있다.In general, an inkjet printing apparatus includes a head for applying a chemical liquid on a substrate and a cleaning unit for cleaning the head. The head has a plurality of nozzles for injecting the chemical liquid and injects the chemical liquid at a specific position on the substrate. In general, the chemical liquid used in the inkjet printing apparatus is easily coagulated because of its high viscosity and volatility. In particular, after the chemical liquid is applied, the chemical liquid may remain around the ejection openings of the nozzles, and the residual chemical liquid may solidify around the ejection openings to block the ejection openings of the nozzles or may be applied to the substrate when the chemical liquid is applied to form a non-uniform film.

이를 방지하기 위해, 세정 유닛은 다수의 노즐을 세정하여 제품의 수율을 향상시킨다. 구체적으로, 세정 유닛은 노즐을 세정하는 와이퍼, 와이퍼를 공급하는 공급롤러 및 사용된 와이퍼를 회수하는 회수롤러를 포함한다. 와이퍼는 테이프 형상으로 이루어지고, 양 단부가 공급롤러와 회수롤러에 감긴다. 공급롤러와 회수롤러는 서로 이격되어 위치하며, 공급롤러와 회수롤러의 회전에 의해 공급롤러에 감긴 와이퍼가 회수롤러에 감긴다. 공급롤러와 회수롤러의 사이에는 승강 및 하강이 가능한 쿠션이 설치되며, 쿠션은 공급롤러와 회수롤러 사이에 위치하는 와이퍼의 일부분을 지지한다. 세정시, 헤드의 노즐들은 쿠션의 상부에 위치하며, 노즐들의 토출면이 쿠션 상면에 위치하는 와이퍼에 접촉시켜 노즐의 토출면에 잔류하는 약액을 와이퍼를 통해 닦아낸다.To prevent this, the cleaning unit cleans the plurality of nozzles to improve the yield of the product. Specifically, the cleaning unit includes a wiper for cleaning the nozzle, a supply roller for supplying the wiper, and a recovery roller for recovering the used wiper. The wiper has a tape shape, and both ends are wound around the supply roller and the recovery roller. The feeding roller and the collecting roller are spaced apart from each other, and the wiper wound on the feeding roller by the rotation of the feeding roller and the collecting roller is wound around the collecting roller. A cushion capable of lifting and lowering is provided between the supply roller and the recovery roller, and the cushion supports a portion of the wiper positioned between the supply roller and the recovery roller. In the cleaning, the nozzles of the head are located on the upper part of the cushion, and the ejection surface of the nozzles is in contact with the wiper located on the upper surface of the cushion to wipe the chemical liquid remaining on the ejection surface of the nozzle through the wiper.

이와 같이, 노즐의 세정은 와이퍼와 노즐 토출면의 마찰을 통해 이루어지므 로, 세정 과정에서 노즐의 토출면에 와이퍼에 의한 이물이 낄 수 있다. 또한, 세정 유닛은 쿠션의 이동 및 공급 롤러와 회수 롤러를 구동시키기 위한 고가의 구동부들이 많이 필요하고, 그 구조가 복잡하여 와이퍼 교체시 분해 및 조립이 어렵다. 또한, 재이용이 불가능하고 소모품인 고가의 와이퍼를 사용하므로, 유지 비용이 증가한다.As such, since the cleaning of the nozzle is performed through friction between the wiper and the nozzle discharge surface, foreign matter by the wiper may be caught on the discharge surface of the nozzle during the cleaning process. In addition, the cleaning unit requires a lot of expensive driving parts for moving the cushion and driving the supply roller and the recovery roller, and its structure is complicated, so it is difficult to disassemble and assemble when replacing the wiper. In addition, the use of expensive wipers, which are not reusable and consumables, increase maintenance costs.

본 발명의 목적은 노즐의 세정 효율을 향상시킬 수 있는 세정 유닛을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a cleaning unit capable of improving the cleaning efficiency of a nozzle.

또한, 본 발명의 목적은 상기한 세정 유닛을 구비하는 약액 도포 장치를 제공하는 것이다.It is also an object of the present invention to provide a chemical liquid applying apparatus including the cleaning unit described above.

또한, 본 발명의 목적은 상기한 세정 유닛을 이용하여 약액 도포 장치의 노즐을 세정하는 방법을 제공하는 것이다.It is also an object of the present invention to provide a method for cleaning a nozzle of a chemical liquid applying apparatus using the above-described cleaning unit.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 하나의 특징에 따른 세정 유닛은, 회전 가능한 회전 구동부; 상기 회전 구동부와 이격되어 서로 마주하게 배치되고, 회전 구동부의 회전력에 회전하는 풀리; 상기 회전 구동부 및 상기 풀리를 부분적으로 둘러싸고, 상기 회전 구동부에 의해 회전하며, 상기 회전 구동부의 회전력을 상기 풀리에 전달하는 벨트; 및 상기 벨트의 외면에 탈착 가능하도록 설치되고, 상기 벨트의 폭 방향으로 연장되며, 탄성을 가지고, 상기 벨트에 회전에 의해 이동되 며, 약액을 토출하는 노즐의 토출면과 접촉하여 상기 토출면의 이물을 닦아내는 적어도 하나의 세정 패드를 포함한다.Cleaning unit according to one feature for realizing the above object of the present invention, the rotatable rotation drive unit; A pulley spaced apart from the rotation driving unit so as to face each other and rotating at a rotational force of the rotation driving unit; A belt partially surrounding the rotation drive unit and the pulley, rotating by the rotation drive unit, and transmitting a rotational force of the rotation drive unit to the pulley; And detachably installed on an outer surface of the belt, extend in the width direction of the belt, have elasticity, move by rotation on the belt, and come into contact with the discharge surface of the nozzle for discharging the chemical liquid. At least one cleaning pad for wiping off the foreign matter.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 하나의 특징에 따른 약액 도포 장치는, 약액을 토출하는 다수의 노즐을 구비하고, 기판 상에 상기 약액을 도포하는 헤드; 및 상기 노즐들에 잔존하는 이물을 제거하는 세정유닛을 포함하고, 상기 세정 유닛은, 회전 가능한 회전 구동부; 상기 회전 구동부와 이격되어 서로 마주하게 배치되고, 회전 구동부의 회전력에 회전하는 풀리; 상기 회전 구동부 및 상기 풀리를 부분적으로 둘러싸고, 상기 회전 구동부에 의해 회전하며, 상기 회전 구동부의 회전력을 상기 풀리에 전달하는 벨트; 및 상기 벨트의 외면에 탈착 가능하도록 설치되고, 상기 벨트의 폭 방향으로 연장되며, 탄성을 가지고, 상기 벨트에 회전에 의해 이동되며, 약액을 토출하는 노즐의 토출면과 접촉하여 상기 토출면의 이물을 닦아내는 적어도 하나의 세정 패드를 포함한다.According to one aspect of the present invention, there is provided a chemical liquid applying apparatus comprising: a head having a plurality of nozzles for discharging a chemical liquid and applying the chemical liquid onto a substrate; And a cleaning unit for removing foreign substances remaining in the nozzles, wherein the cleaning unit comprises: a rotatable rotation drive unit; A pulley spaced apart from the rotation driving unit so as to face each other and rotating at a rotational force of the rotation driving unit; A belt partially surrounding the rotation drive unit and the pulley, rotating by the rotation drive unit, and transmitting a rotational force of the rotation drive unit to the pulley; And a foreign material of the discharge surface which is installed on the outer surface of the belt so as to be detachable, extends in the width direction of the belt, has elasticity, is moved by rotation on the belt, and comes into contact with the discharge surface of the nozzle for discharging the chemical liquid. At least one cleaning pad to wipe off the.

상술한 본 발명에 따르면, 세정 패드의 교체가 용이하며, 세정 효율을 향상시킬 수 있다.According to the present invention described above, it is easy to replace the cleaning pad, it is possible to improve the cleaning efficiency.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명한다. 이하에서는 약액 도포 장치로서, 액정표시장치의 컬러필터를 형성하기 위한 잉크젯 프린트 장치를 일례로하여 설명하나, 약액 도포 장치는 컬러필터 이외에 다양한 박막들을 형성할 수 있으며, 액정표시장치 이외에 다양한 장치의 박 막을 형성하는 데 사용될 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Hereinafter, an inkjet printing apparatus for forming a color filter of a liquid crystal display device as a chemical liquid applying device will be described as an example. However, the chemical liquid applying device may form various thin films in addition to the color filter, It can be used to form a film.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 형성 장치를 개략적으로 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view schematically showing a thin film forming apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 박막 형성 장치(1000)는 잉크젯 프린트부(100), 약액 공급부(200), 로더부(300), 언로더부(400), 인덱서부(500), 베이크부(600), 및 메인 제어부(700)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the thin film forming apparatus 1000 may include an inkjet print unit 100, a chemical solution supply unit 200, a loader unit 300, an unloader unit 400, an indexer unit 500, and a baking unit 600. , And a main controller 700.

잉크젯 프린트부(100)는 기판 상에 약액, 예컨대, RGB 잉크들을 도포하여 기판 상에 컬러필터를 형성한다. 이 실시예에 있어서, 상기 잉크젯 프린트부(100)는 RGB 잉크들을 도포하여 컬러필터를 형성한다. 그러나, 상기 잉크젯 프린트부(100)는 RGB 잉크들 이외에 다양한 종류의 약액을 도포할 수 있으며, 이에 따라, 약액에 대응하는 박막, 예컨대, 배향막 등 다양한 박막들을 기판 상에 형성할 수 있다.The inkjet print unit 100 forms a color filter on the substrate by applying a chemical solution, for example, RGB inks, on the substrate. In this embodiment, the inkjet print unit 100 applies RGB inks to form a color filter. However, the inkjet print unit 100 may apply various kinds of chemical liquids in addition to RGB inks, and thus, various thin films, such as an alignment layer, corresponding to the chemical liquid may be formed on the substrate.

상기 잉크젯 프린트부(100) 일측에 설치된 상기 메인 제어부(700)는 상기 잉크젯 프린트부(100)의 공정 조건을 제어하며, 상기 잉크젯 프린트부(100)는 상기 메인 제어부(700)의 제어에 따라 도포 공정을 진행한다.The main controller 700 installed at one side of the inkjet print unit 100 controls process conditions of the inkjet print unit 100, and the inkjet print unit 100 is applied under the control of the main controller 700. Proceed with the process.

상기 잉크젯 프린트부(100)의 일측에는 상기 약액 공급부(200)가 설치된다. 상기 약액 공급부(200)는 상기 잉크젯 프린트부(100)에서 기판에 도포할 약액을 저장하고, 상기 약액을 상기 잉크젯 프린트부(100)에 제공한다. 이 실시예에 있어서, 상기 약액 공급부(200)는 상기 RGB 잉크들을 서로 혼색되지 않게 개별 저장한다.The chemical liquid supply unit 200 is installed at one side of the inkjet print unit 100. The chemical liquid supply unit 200 stores the chemical liquid to be applied to the substrate in the inkjet print unit 100, and provides the chemical liquid to the inkjet print unit 100. In this embodiment, the chemical liquid supply unit 200 stores the RGB inks separately from each other.

상기 잉크젯 프린트부(100)의 타측에는 외부로부터 공정 대기중인 기판을 제 공받아 적재하는 상기 로더부(300)와 상기 박막 형성 장치(1000)에서 공정 완료된 기판을 적재하는 상기 언로더부(400)가 나란히 설치된다.On the other side of the inkjet print unit 100, the loader 300 for receiving and loading a substrate waiting for processing from the outside and the unloader 400 for loading a substrate processed in the thin film forming apparatus 1000. Are installed side by side.

상기 로더부(300) 및 상기 언로더부(400)는 상기 인덱서부(500)의 일측에 설치되며, 상기 로더부(300) 및 상기 언로더부(400)는 상기 인덱서부(500)를 사이에두고 상기 잉크젯 프린트부(100)와 마주한다. 상기 인덱서부(500)는 상기 잉크젯 프린트부(100), 상기 로더부(300), 상기 언로더부(400), 및 베이크부(600)와 연통되며, 상기 잉크젯 프린트부(100), 상기 로더부(300), 상기 언로더부(400), 및 베이크부(600) 간에 기판을 이송한다.The loader unit 300 and the unloader unit 400 are installed at one side of the indexer unit 500, and the loader unit 300 and the unloader unit 400 are interposed between the indexer unit 500. The inkjet print unit 100 faces the inkjet print unit 100. The indexer unit 500 communicates with the inkjet print unit 100, the loader unit 300, the unloader unit 400, and the bake unit 600, and the inkjet print unit 100 and the loader. The substrate 300 is transferred between the unit 300, the unloader unit 400, and the bake unit 600.

구체적으로, 상기 인덱서부(500)는 기판을 이송하는 이송 로봇(미도시)을 구비하고, 상기 이송 로봇은 상기 로더부(300)로부터 기판을 인출하여 상기 잉크젯 프린트부(100)로 이송한다. 상기 잉크젯 프린트부(100)에서 상기 기판의 RGB 잉크 도포가 완료되면, 상기 이송 로봇은 상기 잉크젯 프린트부(100)로부터 컬러필터가 형성된 기판을 인출하여 상기 베이크부(600)로 이송한다. 상기 베이크부(600)는 인입된 기판을 가열하여 상기 기판에 형성된 박막, 즉, 컬러필터를 경화시키고, 이로써, 박막 형성 장치(1000)에 의한 박막 형성 공정이 완료된다. 상기 이송 로봇은 상기 베이크부(600)로부터 공정 완료된 기판을 인출한 후 상기 언로더부(400)로 이송한다. 상기 언로더부(400)에 적재된 기판은 반송 장치에 의해 외부로 반출된다.In detail, the indexer 500 includes a transfer robot (not shown) for transferring a substrate, and the transfer robot draws the substrate from the loader 300 and transfers the substrate to the inkjet print unit 100. When the inkjet printing unit 100 completes the RGB ink coating of the substrate, the transfer robot draws the substrate on which the color filter is formed from the inkjet printing unit 100 and transfers the substrate to the baking unit 600. The bake unit 600 heats the inserted substrate to cure the thin film formed on the substrate, that is, the color filter, thereby completing the thin film forming process by the thin film forming apparatus 1000. The transfer robot withdraws the processed substrate from the bake unit 600 and transfers it to the unloader unit 400. The board | substrate mounted in the said unloader part 400 is carried out by a conveying apparatus.

이상에서는 박막 형상 장치(1000)의 구성에 대해 개략적으로 설명하였으며, 이하, 도면을 참조하여 상기 잉크젯 프린트부(100)에 대해 구체적으로 설명한다.In the above, the structure of the thin film apparatus 1000 has been schematically described. Hereinafter, the inkjet print unit 100 will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 도 1에 도시된 잉크젯 프린트부를 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 2에 도시된 잉크젯 프린트부를 나타낸 평면도이다.FIG. 2 is a perspective view illustrating the inkjet print unit shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view illustrating the inkjet print unit illustrated in FIG. 2.

도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 잉크젯 프린트부(100)는 스테이지(110), 기판 지지부(120), 갠트리(Gantry)(130), 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b), 제1 및 제2 헤드 이동부(151, 152), 제1 세정 유닛(160), 및 제2 세정 유닛(170)을 포함할 수 있다.2 and 3, the inkjet print unit 100 may include a stage 110, a substrate support 120, a gantry 130, first and second head assemblies 140a and 140b, The first and second head moving parts 151 and 152, the first cleaning unit 160, and the second cleaning unit 170 may be included.

상기 스테이지(110) 상에는 상기 약액 도포를 위한 설비들, 즉, 기판 지지부(120), 갠트리(Gantry)(130), 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b), 제1 및 제2 헤드 이동부(151, 152), 제1 세정 유닛(160), 및 제2 세정 유닛(170)이 설치된다. 상기 스테이지(110)에는 상기 스테이지(110)의 일 변을 따라 연장된 중앙 레일(111)이 설치되고, 상기 중앙 레일(111)에는 상기 기판 지지부(120)가 결합된다. 상기 기판 지지부(120)는 상기 약액이 도포될 기판을 지지하고, 상기 중앙 레일(111)을 따라 이동 가능하다. 또한, 상기 기판 지지부(120)는 상기 기판이 안착되는 지지대가 회전 가능하게 설치될 수 있으며, 약액 도포 공정시 상기 기판을 상기 지지대에 고정시킨다.On the stage 110, facilities for applying the chemical liquid, that is, the substrate support 120, the gantry 130, the first and second head assemblies 140a and 140b, and the first and second head movements The units 151 and 152, the first cleaning unit 160, and the second cleaning unit 170 are installed. The stage 110 is provided with a central rail 111 extending along one side of the stage 110, and the substrate support 120 is coupled to the central rail 111. The substrate support part 120 supports the substrate on which the chemical liquid is to be applied and is movable along the center rail 111. In addition, the substrate support unit 120 may be rotatably installed on the support on which the substrate is mounted, and fixes the substrate to the support during the chemical liquid application process.

한편, 상기 스테이지(110)는 상기 중앙 레일(111)을 사이에 두고 서로 마주하게 설치되는 제1 및 제2 가이드 레일(112a, 112b)을 구비할 수 있다. 상기 제1 및 제2 가이드 레일(112a, 112b) 각각은 상기 중앙 레일(111)과 동일한 제1 방향(D1)으로 연장되어 형성되고, 상기 제1 방향(D1)으로 연장된 상기 스테이지(110)의 일변과 거의 동일한 길이를 갖는다.The stage 110 may include first and second guide rails 112a and 112b that face each other with the center rail 111 interposed therebetween. Each of the first and second guide rails 112a and 112b extends in the same first direction D1 as the center rail 111 and extends in the first direction D1. It has almost the same length as one side of.

상기 제1 및 제2 가이드 레일(112a, 112b)에는 상기 갠트리(130)가 결합된다. 상기 갠트리(130)는 양 단부가 상기 제1 및 제2 가이드 레일(112a, 112b)에 각각 결합되고, 상기 제1 및 제2 가이드 레일(112a, 112b)을 따라 수평 이동할 수 있다.The gantry 130 is coupled to the first and second guide rails 112a and 112b. Both ends of the gantry 130 may be coupled to the first and second guide rails 112a and 112b, respectively, and may move horizontally along the first and second guide rails 112a and 112b.

상기 갠트리(130)에는 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)가 고정 설치된다. 상기 갠트리(130)의 수평 이동 시, 상기 갠트리(130)에 설치된 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)가 함께 이동되며, 이에 따라, 상기 제1 방향(D1)으로 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 위치를 변경시킬 수 있다.The first and second head assemblies 140a and 140b are fixed to the gantry 130. When the gantry 130 is horizontally moved, the first and second head assemblies 140a and 140b installed in the gantry 130 are moved together, and accordingly, the first and the first and second heads D1 are moved in the first direction D1. The position of the two head assemblies 140a and 140b may be changed.

상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)는 상기 약액 공급부(200)로부터 상기 약액을 제공받아 상기 기판 지지대(120)에 고정된 기판에 상기 약액을 토출한다. 이 실시예에 있어서, 상기 잉크젯 프린트부(100)는 두 개의 헤드 어셈블리(140a, 140b)를 구비하나, 상기 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 개수는 공정 효율 및 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 크기에 따라 증가하거나 감소할 수 있다.The first and second head assemblies 140a and 140b receive the chemical liquid from the chemical liquid supply part 200 and discharge the chemical liquid to the substrate fixed to the substrate support 120. In this embodiment, the inkjet print unit 100 has two head assemblies 140a and 140b, but the number of the head assemblies 140a and 140b is a process efficiency and the size of the head assemblies 140a and 140b. May increase or decrease depending on the

상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)는 상기 제1 방향(D1)으로 병렬 배치되며, 서로 이격되어 위치한다. 이 실시예에 있어서, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)는 서로 동일한 구성을 갖는다. 따라서, 이하, 상기 제1 헤드 어셈블리(140a)의 구성에 대해 구체적으로 설명하고, 상기 제2 헤드 어셈블리(140b)에 대한 구체적인 설명은 생략한다.The first and second head assemblies 140a and 140b are disposed in parallel in the first direction D1 and are spaced apart from each other. In this embodiment, the first and second head assemblies 140a and 140b have the same configuration. Therefore, hereinafter, the configuration of the first head assembly 140a will be described in detail, and the detailed description of the second head assembly 140b will be omitted.

상기 제1 헤드 어셈블리(140a)는 상기 제1 방향(D1)과 수평 방향으로 직교하는 제2 방향(D2)으로 나란하게 배치된 상기 제1, 제2 및 제3 헤드(141a, 142a, 143a)를 구비하고, 상기 제1 내지 제3 헤드(141a, 142a, 143a) 각각은 약액을 토출하는 다수의 노즐을 구비한다.The first head assembly 140a is arranged in parallel with the first direction D1 in the second direction D2 perpendicular to the horizontal direction, and the first, second and third heads 141a, 142a, and 143a are arranged side by side. And each of the first to third heads 141a, 142a, and 143a includes a plurality of nozzles for discharging the chemical liquid.

이 실시예에 있어서, 상기 제1 헤드 어셈블리(140a)는 세개의 헤드(141a, 142a, 143a)를 구비하나, 상기 헤드(141a, 142a, 143a)의 개수는 공정 효율 및 약액의 종류 개수에 따라 증가하거나 감소할 수 있다.In this embodiment, the first head assembly 140a includes three heads 141a, 142a, and 143a, but the number of the heads 141a, 142a and 143a depends on the process efficiency and the number of types of chemicals. May increase or decrease.

상기 제1 내지 제3 헤드(141a, 142a, 143a)는 서로 다른 색을 갖는 잉크를 토출하여 상기 기판 상에 컬러필터를 형성한다. 구체적으로, 상기 제1 헤드(141a)는 빨간색을 갖는 R 잉크를 토출하고, 상기 제2 헤드(142a)는 초록색을 갖는 G 잉크를 토출하며, 상기 제3 헤드(143a)는 파란색을 갖는 B 잉크를 토출한다. 여기서, 상기 제1 내지 제3 헤드(141a, 142a, 143a)의 잉크 배열는 상기 컬러필터의 색화소 배열에 따라 변경될 수 있다. The first to third heads 141a, 142a, and 143a discharge ink having different colors to form a color filter on the substrate. Specifically, the first head 141a discharges R ink having a red color, the second head 142a discharges G ink having a green color, and the third head 143a has B ink having a blue color. To discharge. Here, the ink arrangement of the first to third heads 141a, 142a, and 143a may be changed according to the color pixel arrangement of the color filter.

상기 각 헤드(141a, 142a, 143a)는 각 헤드(141a, 142a, 143a)의 중심축을 기준으로 회전 가능하다.Each of the heads 141a, 142a, and 143a is rotatable based on the central axis of each of the heads 141a, 142a, and 143a.

상기 약액 도포 공정 시, 상기 제1 내지 제3 헤드(141a, 142a, 143a)가 동시에 잉크를 토출할 수도 있고, 한번에 어느 하나의 헤드에서만 잉크를 토출할 수도 있다. 또한, 상기 제1 내지 제3 헤드(141a, 142a, 143a)가 교대로 잉크를 토출할 수도 있다.In the chemical liquid applying process, the first to third heads 141a, 142a, and 143a may discharge ink at the same time, or ink may be discharged from only one head at a time. In addition, the first to third heads 141a, 142a, and 143a may alternately discharge ink.

또한, 상기 약액 도포 공정 시, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)가 동시에 구동되어 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)로부터 잉크가 동시에 토출될 수도 있고, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)가 교대로 잉 크를 토출할 수도 있다. 또한, 제1 또는 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)를 먼저 구동시켜 잉크를 도포한 후 해당 헤드 어셈블리에 공급된 잉크가 모두 소진되면, 나머지 헤드 어셈블리를 구동시켜 잉크를 도포할 수도 있다.In addition, during the chemical liquid applying process, the first and second head assemblies 140a and 140b may be driven at the same time so that ink may be ejected from the first and second head assemblies 140a and 140b at the same time. And the second head assemblies 140a and 140b may alternately discharge the ink. In addition, when the first or second head assembly (140a, 140b) is first driven to apply ink, and then all the ink supplied to the head assembly is exhausted, the remaining head assembly may be driven to apply ink.

한편, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)는 제1 헤드 이동부(151)에 고정 설치되며, 상기 제1 헤드 이동부(151)에는 상기 제2 방향(D2)으로 연장된 제1 이동 레일들이 구비된다. 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)는 서로 다른 제1 이동 레일에 결합되며, 결합된 제1 이동 레일을 따라 상기 제2 방향(D2)으로 왕복 이동이 가능하다. 여기서, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 각 헤드들은 결합된 제1 이동 레일을 따라 개별 이동이 가능하다.Meanwhile, the first and second head assemblies 140a and 140b are fixedly installed on the first head moving part 151, and the first head moving part 151 extends in the second direction D2. 1 moving rails are provided. The first and second head assemblies 140a and 140b may be coupled to different first moving rails and may reciprocate in the second direction D2 along the combined first moving rails. Here, the heads of the first and second head assemblies 140a and 140b are individually movable along the combined first moving rail.

상기 제1 헤드 이동부(151)는 상기 제2 헤드 이동부(152)에 고정 설치되며, 상기 제2 헤드 이동부(152)에는 제2 이동 레일(미도시)이 설치된다. 상기 제2 이동 레일은 상기 제1 및 제2 방향(D1, D2)과 수직하는 방향(D3), 즉, 상기 스테이지(110)의 상면에 대해 수직하는 제3 방향(D3)으로 연장된다. 상기 제1 헤드 이동부(151)는 상기 제2 이동 레일에 결합되며, 상기 제2 이동 레일을 따라 상/하 방향(D2)으로 왕복 이동이 가능하다. 상기 제2 헤드 이동부(152)는 상기 갠트리(130)에 고정 설치된다. 상기 갠트리(130)에는 상기 제2 방향(D2)으로 연장된 제3 이동 레일(미도시)이 설치된다. 상기 제2 헤드 이동부(152)는 상기 제3 이동 레일에 결합되며, 상기 제3 이동 레일을 따라 상기 제2 방향(D2)으로 왕복 이동이 가능하다.The first head moving part 151 is fixed to the second head moving part 152, and a second moving rail (not shown) is installed in the second head moving part 152. The second moving rail extends in a direction D3 perpendicular to the first and second directions D1 and D2, that is, in a third direction D3 perpendicular to the upper surface of the stage 110. The first head moving part 151 is coupled to the second moving rail, and can be reciprocated in the up / down direction D2 along the second moving rail. The second head moving part 152 is fixed to the gantry 130. A third moving rail (not shown) extending in the second direction D2 is installed in the gantry 130. The second head moving part 152 is coupled to the third moving rail, and reciprocating in the second direction D2 is possible along the third moving rail.

이와 같이, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 14b)는 상기 갠트리(130)와 상기 제1 및 제2 헤드 이동부(151, 152)에 의해 상기 제1 내지 제3 방향(D1, D2, D3)으로의 이동이 가능하다. 즉, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)는 상기 갠트리(130)의 수평 이동에 의해 상기 제1 방향(D1)으로 이동 가능하고, 제2 헤드 이동부(152)의 이동에 의해 상기 제2 방향(D2)으로 이동 가능하며, 상기 제1 헤드 이동부(151)의 이동에 의해 상기 제3 방향(D3)으로 이동 가능하다. 또한, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 각 헤드들은 대응하는 제1 이동 레일을 따라 상기 제2 방향(D2)으로 이동 가능하다.As such, the first and second head assemblies 140a and 14b may be formed by the gantry 130 and the first and second head moving parts 151 and 152 in the first to third directions D1 and D2. , D3). That is, the first and second head assemblies 140a and 140b are movable in the first direction D1 by the horizontal movement of the gantry 130, and by the movement of the second head moving unit 152. It is movable in the second direction D2, and is movable in the third direction D3 by the movement of the first head moving part 151. In addition, the heads of the first and second head assemblies 140a and 140b are movable in the second direction D2 along the corresponding first moving rail.

상기 약액 도포 공정시, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)가 상기 제1 및 제2 헤드 이동부(151, 152) 및 상기 갠트리(130)에 의해 이동하면서 상기 기판에 잉크를 도포할 수 있다. 또한, 상기 기판 지지대(120)가 상기 중앙 레일(111)을 따라 상기 제1 방향(D1)으로 이동하고, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)는 상기 제2 및 제3 방향(D2, D3)으로만 이동하여 잉크 도포가 이루어질 수도 있다.During the chemical liquid applying process, the first and second head assemblies 140a and 140b are moved by the first and second head moving parts 151 and 152 and the gantry 130 to apply ink to the substrate. can do. In addition, the substrate support 120 moves in the first direction D1 along the center rail 111, and the first and second head assemblies 140a and 140b are moved in the second and third directions ( The ink application may be performed only by moving to D2 and D3).

한편, 상기 스테이지(110)의 상기 중앙 레일(111)과 상기 제2 가이드 레일(112b) 사이에 마련된 유지 보수 영역에는 상기 제1 및 제2 세정 유닛(160, 170)이 설치된다. Meanwhile, the first and second cleaning units 160 and 170 are installed in a maintenance area provided between the center rail 111 and the second guide rail 112b of the stage 110.

상기 제1 세정 유닛(160)은 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)에 잔류하는 잉크를 긁어내어 제거한다. 구체적으로, 상기 제1 세정 유닛(160)은 상기 각 헤드의 노즐들에 잔존하는 잉크를 수거하여 외부로 배출하는 세정 탱크를 구비하고, 상기 세정 탱크 상단에는 상기 각 헤드의 노즐들에 잔존하는 잉크를 긁어 내기 위한 블레이드들이 설치된다. 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)는 한 매의 기판에 잉크 도포가 완료되면, 상기 갠트리(130)에 의해 상기 제1 세정 유닛(160)의 상부로 이송되고, 상기 노즐들의 토출면이 블레이드들에 맞닿은 상태에서 상기 제1 방향(D1)으로 이동한다. 이때, 상기 블레이들은 상기 노즐들의 토출면들과의 마찰력에 의해 상기 노즐의 토출면에 잔류하는 잉크를 긁어낸다.The first cleaning unit 160 scrapes and removes the ink remaining in the first and second head assemblies 140a and 140b. Specifically, the first cleaning unit 160 includes a cleaning tank that collects the ink remaining in the nozzles of the heads and discharges the ink to the outside, and the ink remaining in the nozzles of the heads on the top of the cleaning tanks. Blades for scraping off are installed. The first and second head assemblies 140a and 140b are transferred to the upper portion of the first cleaning unit 160 by the gantry 130 when ink is applied to a single substrate, and the nozzles are discharged. The surface moves in the first direction D1 while the surface abuts the blades. At this time, the blades scrape off the ink remaining on the discharge surface of the nozzle by friction with the discharge surfaces of the nozzles.

또한, 공정 대기 시간이 길 경우, 각 노즐 내부에 잔류하는 잉크가 응고될 수 있다. 이를 제거하기 위해 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)는 각 노즐 내부에 잔류하는 잉크를 상기 세정 탱크에 토출하여 제거한다. 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)가 내부의 잔류 잉크를 토출하면, 블레이드들은 각 노즐의 토출면에 묻은 잉크를 긁어낸다.In addition, when the process waiting time is long, ink remaining in each nozzle may solidify. To remove this, the first and second head assemblies 140a and 140b discharge and remove the ink remaining in each nozzle in the cleaning tank. When the first and second head assemblies 140a and 140b discharge the remaining ink therein, the blades scrape off the ink deposited on the discharge surface of each nozzle.

상기 세정 탱크에는 세정액이 제공될 수도 있다. 상기 세정액은 상기 세정 탱크 내벽에 잔류하는 잉크를 상기 세정 탱크의 내벽으로부터 분리시켜 잔류 잉크가 외부로 배출되도록 유도한다. The cleaning tank may be provided with a cleaning liquid. The cleaning liquid separates the ink remaining on the inner wall of the cleaning tank from the inner wall of the cleaning tank to induce residual ink to be discharged to the outside.

한편, 상기 제1 세정 유닛(160)의 일측에는 상기 제2 세정 유닛(170)이 설치된다. 상기 갠트리(130)가 홈 위치에 위치시, 제2 세정 유닛(170)은 상기 제1 세정 유닛(160)을 사이에 두고 상기 갠트리(130)와 마주한다. 상기 제2 세정 유닛(170)은 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 각 노즐에 묻은 잉크를 닦아내어 제품의 수율을 향상시킨다. 여기서, 상기 제2 세정 유닛(170)은 상기 제1 세정 유닛(160)에 의해 1차 세정된 노즐들을 2차 세정할 수도 있고, 상기 제1 세정 유닛(160)에 의해 세정되지 않은 노즐들을 세정할 수도 있다.On the other hand, the second cleaning unit 170 is installed on one side of the first cleaning unit 160. When the gantry 130 is positioned at the home position, the second cleaning unit 170 faces the gantry 130 with the first cleaning unit 160 interposed therebetween. The second cleaning unit 170 wipes the ink on each nozzle of the first and second head assemblies 140a and 140b to improve the yield of the product. Here, the second cleaning unit 170 may secondary clean the nozzles first cleaned by the first cleaning unit 160, and clean the nozzles not cleaned by the first cleaning unit 160. You may.

이하, 도면을 참조하여 상기 제2 세정 유닛(170)의 구성에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.Hereinafter, the configuration of the second cleaning unit 170 will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 도 2에 도시된 제2 세정 유닛을 나타낸 단면도이고, 도 5는 도 4에 도시된 제2 세정 유닛을 나타낸 평면도이며, 도 6은 도 4에 도시된 제2 세정 유닛의 일부분을 나타낸 사시도이고, 4 is a cross-sectional view showing the second cleaning unit shown in FIG. 2, FIG. 5 is a plan view showing the second cleaning unit shown in FIG. 4, and FIG. 6 shows a part of the second cleaning unit shown in FIG. 4. Perspective view,

도 4 내지 도 6을 참조하면, 상기 제2 세정 유닛(170)은 세정조(171), 회전 구동부(172), 풀리(173), 벨트(174), 제1 세정 패드부(175a, 175b, 175c), 제2 세정 패드부(176a, 176b, 176c), 및 다수의 패드 고정부(177a, 177b, 177c, 177d, 177e, 177f)를 포함할 수 있다.4 to 6, the second cleaning unit 170 includes a cleaning tank 171, a rotation driving unit 172, a pulley 173, a belt 174, a first cleaning pad unit 175a, 175b, 175c), second cleaning pad parts 176a, 176b, and 176c, and a plurality of pad fixing parts 177a, 177b, 177c, 177d, 177e, and 177f.

구체적으로, 상기 세정조(171)는 상면에 개구되고, 상기 회전 구동부(172), 풀리(173) 및 벨트(174)가 설치되는 공간을 제공한다. 상기 세정조(171)는 바닥면(171a) 및 상기 바닥면(171a)으로부터 수직하게 연장된 제1 내지 제4 측벽(171b, 171c, 171d, 171e)을 구비한다.Specifically, the cleaning tank 171 is opened in the upper surface, and provides a space in which the rotation drive unit 172, the pulley 173 and the belt 174 is installed. The cleaning tank 171 includes a bottom surface 171a and first to fourth sidewalls 171b, 171c, 171d, and 171e extending vertically from the bottom surface 171a.

상기 세정조(171) 내에는 상기 회전 구동부(172), 풀리(173) 및 벨트(174)가 상기 바닥면(171a)으로부터 이격되어 설치된다. 상기 회전 구동부(172)는 상기 회전 가능하며, 상기 세정조(171)의 제1 측벽(171b)과 인접하게 배치되고, 회전축이 상기 바닥면(171a)에 대해 평행하도록 설치된다.In the cleaning tank 171, the rotation driving unit 172, the pulley 173, and the belt 174 are installed to be spaced apart from the bottom surface 171a. The rotation driving unit 172 is rotatable, is disposed adjacent to the first side wall 171b of the cleaning tank 171, and is installed so that the rotation shaft is parallel to the bottom surface 171a.

상기 풀리(173)는 상기 제2 및 제3 측벽(171c, 171d)의 가로 방향으로 상기 회전 구동부(172)와 마주하게 배치되고, 상기 회전 구동부(172)의 회전력에 의해 회전한다. 상기 회전 구동부(172)와 상기 풀리(173)는 상기 벨트(174)를 통해 연결 된다.The pulley 173 is disposed to face the rotation driver 172 in the horizontal direction of the second and third sidewalls 171c and 171d, and rotates by the rotational force of the rotation driver 172. The rotation driver 172 and the pulley 173 are connected through the belt 174.

상기 벨트(174)는 상기 회전 구동부(172)와 상기 풀리(173)를 부분적으로 둘러싸고, 폐루프 형상을 갖는다. 상기 벨트(174)는 상기 회전 구동부(172)의 회전력에 의해 회전하며, 상기 회전 구동부(172)의 회전력을 상기 풀리(173)에 전달한다. 상기 벨트(174)는 상기 헤드를 세정하는 과정에서 발생된 이물이 상기 벨트(174)에 잔류하는 것을 최소화하기 위해 그물(mesh) 형태로 이루어질 수 있다.The belt 174 partially surrounds the rotation driving unit 172 and the pulley 173 and has a closed loop shape. The belt 174 rotates by the rotational force of the rotational drive 172, and transmits the rotational force of the rotational drive 172 to the pulley 173. The belt 174 may be formed in a mesh form to minimize foreign matters generated in the process of cleaning the head in the belt 174.

상기 벨트(174)의 외면에는 제1 세정 패드부(175a, 175b, 175c), 제2 세정 패드부(176a, 176b, 176c) 및 다수의 패드 고정부(177a, 177b, 177c, 177d, 177e, 177f)가 설치된다. 제1 세정 패드부(175a, 175b, 175c)는 R 세정 패드(175a), G 세정 패드(175b), 및 B 세정 패드(175c)를 포함할 수 있고, 상기 제1 헤드 어셈블리(140a)(도 2 참조)의 헤드들을 세정한다. 제2 세정 패드부(176a, 176b, 176c)는 R 세정 패드(176a), G 세정 패드(176b), 및 B 세정 패드(176c)를 포함할 수 있고,상기 제2 헤드 어셈블리(140b)(도 2 참조)의 헤드들을 세정한다.On the outer surface of the belt 174, first cleaning pad parts 175a, 175b, and 175c, second cleaning pad parts 176a, 176b, and 176c, and a plurality of pad fixing parts 177a, 177b, 177c, 177d, 177e, 177f) is installed. The first cleaning pad portions 175a, 175b, and 175c may include an R cleaning pad 175a, a G cleaning pad 175b, and a B cleaning pad 175c, and the first head assembly 140a (FIG. Clean heads). The second cleaning pad portions 176a, 176b, and 176c may include an R cleaning pad 176a, a G cleaning pad 176b, and a B cleaning pad 176c, and the second head assembly 140b (FIG. Clean heads).

이 실시예에 있어서, 상기 제2 세정 유닛(170)은 두 개의 세정 패드부(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)를 구비하나, 상기 세정 패드부의 개수는 상기 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 개수 및 세정 공정의 효율에 따라 증가하거나 감소할 수 있다.In this embodiment, the second cleaning unit 170 has two cleaning pad parts 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176c, but the number of the cleaning pad parts is the head assembly 140a and 140b. Can be increased or decreased depending on the number of s) and the efficiency of the cleaning process.

또한, 이 실시예에 있어서, 각 세정 패드부(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)는 세 개의 세정 패드(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)를 구비하나, 하나의 세정 패드부에 구비되는 세정 패드의 개수는 하나의 헤드 어셈블리에 구비되 는 헤드의 개수 및 세정 공정의 효율에 따라 증가하거나 감소할 수 있다.Further, in this embodiment, each cleaning pad portion 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c has three cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c, but one cleaning The number of cleaning pads provided in the pad part may increase or decrease according to the number of heads provided in one head assembly and the efficiency of the cleaning process.

상기 제1 및 제2 세정 패드부의 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)은 상기 벨트(174)의 길이 방향으로 서로 이격되어 배치되며, 각 세정 패드부 별로 세정 패드들이 연속적으로 배치된다. 즉, 상기 제1 세정 패드부의 세정 패드들(175a, 175b, 175c)이 R 세정 패드(175a), G 세정 패드(175b), 및 B 세정 패드(175c) 순으로 연속적으로 이격되어 배치된다. 상기 제2 세정 패드부는 상기 제1 세정 패드부와 인접하게 배치되며, 상기 제2 세정 패드부의 세정 패드들(176a, 176b, 176c) 또한 R 세정 패드(176a), G 세정 패드(176b), 및 B 세정 패드(176c) 순으로 연속적으로 이격되어 배치된다.The cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176c of the first and second cleaning pad parts are spaced apart from each other in the longitudinal direction of the belt 174, and the cleaning pads are continuously formed for each cleaning pad part. Is placed. That is, the cleaning pads 175a, 175b, and 175c of the first cleaning pad part are sequentially spaced apart in the order of the R cleaning pad 175a, the G cleaning pad 175b, and the B cleaning pad 175c. The second cleaning pad part is disposed adjacent to the first cleaning pad part, and the cleaning pads 176a, 176b, and 176c of the second cleaning pad part also include an R cleaning pad 176a, a G cleaning pad 176b, and The B cleaning pads 176c are sequentially spaced apart from each other.

상기 R 세정 패드들(175a, 176a)은 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 헤드 들 중 R 잉크를 토출하는 헤드들의 노즐들을 세정한다. 상기 G 세정 패드들(175b, 176b)은 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 헤드들 중 G 잉크를 토출하는 헤드들의 노즐들을 세정한다. 상기 B 세정 패드들(175c, 176c)은 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 헤드 들 중 B 잉크를 토출하는 헤드들의 노즐들을 세정한다.The R cleaning pads 175a and 176a clean nozzles of the heads that discharge R ink among the heads of the first and second head assemblies 140a and 140b. The G cleaning pads 175b and 176b clean nozzles of the heads discharging G ink among the heads of the first and second head assemblies 140a and 140b. The B cleaning pads 175c and 176c clean nozzles of the heads ejecting the B ink among the heads of the first and second head assemblies 140a and 140b.

상기 RGB 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)은 상기 패드 고정부들(177a, 177b, 177c, 177d, 177e, 177f)에 의해 상기 벨트(174)에 고정된다. 상기 패드 고정부들(177a, 177b, 177c, 177d, 177e, 177f)은 상기 RGB 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)과 동일한 개수로 설치되며, 상기 RGB 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)과 일대일 대응한다. The RGB cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c are fixed to the belt 174 by the pad fixing portions 177a, 177b, 177c, 177d, 177e, 177f. The pad fixing parts 177a, 177b, 177c, 177d, 177e, and 177f are installed in the same number as the RGB cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176c, and the RGB cleaning pads ( 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c) in one-to-one correspondence.

상기 패드 고정부들(177a, 177b, 177c, 177d, 177e, 177f)은 상기 벨트(174)의 길이 방향으로 서로 이격되어 위치하며, 상기 벨트(174)의 외면에 탈착 가능하도록 결합될 수 있다. 각 세정 패드(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)는 대응하는 패드 고정부에 탈착 가능하게 결합된다.The pad fixing parts 177a, 177b, 177c, 177d, 177e, and 177f may be spaced apart from each other in the longitudinal direction of the belt 174, and may be detachably coupled to an outer surface of the belt 174. Each cleaning pad 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c is detachably coupled to the corresponding pad fixing portion.

이 실시예에 있어서 상기 세정 패들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)은 서로 동일한 구성을 가지며, 상기 패드 고정부들(177a, 177b, 177c, 177d, 177e, 177f) 또한 서로 동일한 구성을 갖고, 상기 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)과 대응하는 패드 고정부들 간의 결합 또한 서로 동일하다. 따라서, 이하, 상기 제1 세정 패드부의 R 세정 패드(175a)와 이에 대응하는 패드 고정부(177a)를 일례로하여 각 세정 패드와 각 패드 고정부의 구성 및 결합 관계에 대해 구체적으로 설명한다.In this embodiment, the cleaning paddles 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176c have the same configuration, and the pad fixing parts 177a, 177b, 177c, 177d, 177e, and 177f are also identical to each other. In addition, the coupling between the cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176c and corresponding pad fixing parts is also the same. Accordingly, the structure and the coupling relationship of each cleaning pad and each pad fixing unit will be described in detail with reference to the R cleaning pad 175a of the first cleaning pad unit and the pad fixing unit 177a corresponding thereto.

도 7은 도 6에 도시된 세정 패드와 패드 고정부를 구체적으로 나타낸 분해 사시도이다.FIG. 7 is an exploded perspective view illustrating in detail the cleaning pad and the pad fixing part illustrated in FIG. 6.

도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 R 세정 패드(175a)는 상기 벨트(174)의 폭 방향으로 연장되고, 상면이 곡면으로 이루어진 반원 형상을 가지며, 표면이 매끄러우며, 형상 변경이 용이하도록 탄성을 갖는다. 상기 R 세정 패드(175a)의 양 측면에는 상기 패드 고정부(177a)와 결합하기 위한 결합홈(75a, 75b)이 각각 형성된다. 상기 R 세정 패드(175a)는 형상 변경이 거의 없고, 습윤 상태를 유지하며, 항상 연질 상태를 유지하고, 표면의 정도가 높은 폴리 올레핀(PO) 재질로 이루어질 수 있다.6 and 7, the R cleaning pad 175a extends in the width direction of the belt 174, has a semicircular shape having a curved upper surface, and has a smooth surface and elasticity for easy shape change. Has Engaging grooves 75a and 75b are formed on both side surfaces of the R cleaning pad 175a to engage the pad fixing part 177a, respectively. The R cleaning pad 175a has almost no shape change, maintains a wet state, always maintains a soft state, and may be made of a polyolefin (PO) material having a high degree of surface.

상기 헤드 세정시, 상기 R 세정 패드(175a)에 대응하는 헤드의 노즐들이 상기 R 세정 패드(175a)의 상면에 접촉된 상태에서, 상기 R 세정 패드(175a)가 상기 회전 구동부(172)의 회전력에 의한 벨트(174)의 회전에 의해 이동하여 상기 노즐들의 토출면에 잔존하는 이물을 닦아 낸다.When the head is cleaned, the R cleaning pad 175a is rotated by the rotation driving unit 172 while nozzles of the head corresponding to the R cleaning pad 175a are in contact with the top surface of the R cleaning pad 175a. It moves by the rotation of the belt 174 by wiping the foreign matter remaining on the discharge surface of the nozzles.

한편, 상기 패드 고정부(177a)는 상기 벨트(174)의 폭 방향으로 연장되고, 상기 벨트(174)의 표면에 탈착 가능하게 결합된다. 상기 패드 고정부(177a)는 상기 벨트(174) 표면에 결합되는 바닥판(77a), 및 서로 마주하는 두 개의 측판(77b, 77c)을 포함할 수 있다. 상기 측판들(77b, 77c)은 상기 바닥판(77a)으로부터 수직하게 연장되어 상기 R 세정 패드(175a)가 삽입되는 공간을 형성한다. 상기 각 측판(77b, 77c)의 상단부(77d, 77e)는 안으로 절곡되어 상기 바닥판(77a)과 마주하고, 상기 R 세정 패드(175a)에 형성된 결합홈(75a, 75b)에 삽입되어 상기 R 세정 패드(175a)를 상기 패드 고정부(177a)에 고정시킨다. 상기 R 세정 패드(175a)는 탄성을 갖는 재질로 이루어져 형상 변경이 용이하므로, 상기 패드 고정부(177a)로부터 탈착이 용이하다. 이에 따라, 상기 제2 세정 유닛(170)은 특정 세정 패드가 오염된 경우 이를 새로운 세정 패드로 교체가 용이하며, 노즐 세정용 소모품의 교체에 소요되는 시간을 단축시킬 수 있다.Meanwhile, the pad fixing part 177a extends in the width direction of the belt 174 and is detachably coupled to the surface of the belt 174. The pad fixing part 177a may include a bottom plate 77a coupled to the surface of the belt 174, and two side plates 77b and 77c facing each other. The side plates 77b and 77c extend vertically from the bottom plate 77a to form a space in which the R cleaning pad 175a is inserted. The upper end portions 77d and 77e of the side plates 77b and 77c are bent inward to face the bottom plate 77a, and are inserted into coupling grooves 75a and 75b formed in the R cleaning pad 175a to be inserted into the R. The cleaning pad 175a is fixed to the pad fixing part 177a. Since the R cleaning pad 175a is made of a material having elasticity, the shape of the R cleaning pad 175a may be easily changed, and thus the R cleaning pad 175a may be easily detached from the pad fixing part 177a. Accordingly, when the second cleaning unit 170 is contaminated with a specific cleaning pad, the second cleaning unit 170 can easily replace it with a new cleaning pad, and shorten the time required for replacing the nozzle cleaning consumable.

상기 패드 고정부(177a)는 나사(미도시)를 이용하여 상기 벨트(174)에 결합될 수 있다. 이를 위해, 상기 패드 고정부(177a)의 바닥판(77a)에는 각각 나사가 삽입되는 스크류 홀들(77f)이 형성되며, 나사들은 상기 스크류 홀들(77f)을 관통하여 상기 벨트(174)에 체결된다.The pad fixing part 177a may be coupled to the belt 174 using a screw (not shown). To this end, screw holes 77f through which screws are inserted are formed in the bottom plate 77a of the pad fixing part 177a, and the screws are fastened to the belt 174 through the screw holes 77f. .

다시, 도 4 내지 도 6을 참조하면, 상기 제2 세정 유닛(170)은 상기 벨트(174)의 내면에서 상기 벨트(174)를 지지하는 다수의 가이드 롤러(178a, 178b, 178c)를 더 포함할 수 있다.Again, referring to FIGS. 4-6, the second cleaning unit 170 further includes a plurality of guide rollers 178a, 178b, and 178c supporting the belt 174 at the inner surface of the belt 174. can do.

상기 다수의 가이드 롤러(178a, 178b, 178c)은 상기 벨트(174)에 의해 정의된 공간 안에 설치되고, 상기 벨트(174)의 길이 방향으로 서로 이격되어 배치된다. 각 가이드 롤러(178a, 178b, 178c)는 상기 벨트(174)의 폭 방향으로 연장되어 원 기둥 형상을 갖고, 상기 벨트(174) 하면을 지지한다. 상기 가이드 롤러들(178a, 178b, 178c)은 측면에서 볼 때 상기 벨트(174)의 상하로 마주하는 부분들 중 상측에 위치하는 부분의 하면을 지지한다. 이에 따라, 상기 제2 세정 유닛(170)은 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b) 세정 시 상기 RGB 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)와 대응하는 헤드 간의 밀착력을 향상시킬 수 있다.The plurality of guide rollers 178a, 178b, and 178c are installed in the space defined by the belt 174 and are spaced apart from each other in the longitudinal direction of the belt 174. Each of the guide rollers 178a, 178b, and 178c extends in the width direction of the belt 174 to have a circular columnar shape, and supports the lower surface of the belt 174. The guide rollers 178a, 178b, and 178c support the lower surface of the upper portion of the upper and lower portions of the belt 174 facing from the side. Accordingly, the second cleaning unit 170 may be disposed between the corresponding RGB cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176c when the first and second head assemblies 140a and 140b are cleaned. Adhesion can be improved.

또한, 상기 제2 세정 유닛(170)은 세정액(CL)을 상기 RGB 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c)에 분사하는 세정액 분사부(181) 및 상기 벨트(174)에 에어(AF)를 분사하는 에어 나이프(189)를 더 포함할 수 있다.In addition, the second cleaning unit 170 may be applied to the cleaning liquid spraying unit 181 and the belt 174 that spray the cleaning liquid CL to the RGB cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176c. It may further include an air knife 189 for ejecting air (AF).

상기 세정액 분사부(181)는 상기 세정조(171)의 제1 측벽(171b) 상단부에 고정 설치되고, 상기 세정액(CL)을 분사하는 다수의 분사 노즐(181a)을 포함할 수 있다. 상기 세정액 분사부(181)는 상기 세정액(CL)을 분사하여 상기 RGB 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176)을 항상 습윤 상태로 만들어 주며, 오염된 RGB 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176)을 세정한다.The cleaning liquid spraying unit 181 may be fixed to an upper end portion of the first sidewall 171b of the cleaning tank 171, and may include a plurality of spray nozzles 181a for spraying the cleaning liquid CL. The cleaning liquid spraying unit 181 sprays the cleaning liquid CL to make the RGB cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176 always wet, and contaminates the RGB cleaning pads 175a. , 175b, 175c, 176a, 176b, 176 are cleaned.

상기 세정액 분사부(181)는 제1 세정액 공급 라인(182)을 통해 상기 세정 조(171)의 외부에 설치된 저장 탱크(183)와 연결되고, 상기 저장 탱크(183)는 세정액 공급부(187) 및 에어 공급부(188)와 연결된다. 상기 세정액 공급부(187)는 제2 세정액 공급 라인(186)을 통해 상기 저장 탱크(183)에 세정액(CL)을 제공하고, 상기 에어 공급부(188)는 에어 공급라인(187)을 통해 상기 저장 탱크(183)에 공기를 제공한다. 상기 저장 탱크(183)에는 상기 세정액 공급부(187)로부터 제공된 세정액(CL)이 저장되며, 상기 에어 공급부(188)로부터 제공된 공기압에 의해 상기 저장 탱크(183) 내의 세정액(CL)이 배출되어 상기 제1 세정액 공급라인(182)을 통해 상기 세정액 분사부(181)에 제공된다.The cleaning liquid spraying unit 181 is connected to the storage tank 183 installed outside the cleaning tank 171 through the first cleaning liquid supply line 182, and the storage tank 183 is the cleaning liquid supplying unit 187 and It is connected to the air supply 188. The cleaning liquid supply unit 187 provides the cleaning liquid CL to the storage tank 183 through the second cleaning liquid supply line 186, and the air supply unit 188 supplies the storage tank through the air supply line 187. Provide air to 183. In the storage tank 183, the cleaning liquid CL provided from the cleaning liquid supply unit 187 is stored, and the cleaning liquid CL in the storage tank 183 is discharged by the air pressure provided from the air supply unit 188, and the cleaning liquid CL is discharged. 1 is provided to the cleaning liquid injection unit 181 through the cleaning liquid supply line 182.

상기 에어 나이프(189)는 상기 제1 측벽(171b)과 마주하는 제4 측벽(171e)의 상단부에 고정 설치되며, 상기 벨트(174)를 향해 에어(AF)를 분사하여 상기 벨트(174)와 각 세정 패드(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176c) 및 각 패드 고정부(177a, 177b, 177c, 177d, 177e, 177f)에 낀 이물을 제거한다.The air knife 189 is fixedly installed at an upper end of the fourth sidewall 171e facing the first sidewall 171b, and sprays air AF toward the belt 174 to provide the belt 174 with the belt 174. Foreign substances caught on the cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176c and the pad fixing parts 177a, 177b, 177c, 177d, 177e, and 177f are removed.

상기 세정조(171)의 바닥면(171a)에는 상기 노즐들의 세정 과정에서 발생된 이물 및 상기 세정액을 배출하는 배출홀(171g)이 형성되며, 상기 배출홀(171g)은 상기 제1 측벽(171b)과 인접하게 위치한다. 또한, 상기 세정조(171)의 바닥면(171a)은 상기 세정조(171) 내의 이물 및 잔류 세정액을 상기 배출홀(171g) 측으로 유도하기 위해 상기 제4 측벽(171e)으로부터 상기 제1 측벽(171b) 측으로 갈수록 하향 경사지게 설치된다.The bottom surface 171a of the cleaning tank 171 is formed with a discharge hole (171g) for discharging the foreign substances and the cleaning liquid generated during the cleaning process of the nozzles, the discharge hole (171g) is the first side wall (171b) Adjacent to). In addition, the bottom surface 171a of the cleaning tank 171 may include the first sidewall (from the fourth sidewall 171e to guide foreign matter and residual cleaning liquid in the cleaning tank 171 toward the discharge hole 171g). 171b) is installed to be inclined downward toward the side.

또한, 상기 세정조(171)의 제4 측벽(171e)은 흰지(171f)를 통해 상기 바닥면(171a)과 결합된다. 이와 같이, 상기 제4 측벽(171e)이 상기 바닥면(171a)에 흰 지 결합되므로, 상기 세정 패드 교체시 오픈된 상기 제4 측벽(171e)을 통해 교체가 용이하다.In addition, the fourth sidewall 171e of the cleaning tank 171 is coupled to the bottom surface 171a through white paper 171f. As described above, since the fourth sidewall 171e is coupled to the bottom surface 171a, it is easy to replace the fourth sidewall 171e through the fourth sidewall 171e opened when the cleaning pad is replaced.

한편, 상기 제2 세정 유닛(170)은 상기 RGB 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176)이 적정 수분을 함유하고 있도록 상기 RGB 세정 패드들(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176)로부터 세정액을 일부분 제거하는 수분 제거부들(179a, 179b, 179c, 179d)을 더 포함할 수 있다.Meanwhile, the second cleaning unit 170 may include the RGB cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176 to contain appropriate moisture. The apparatus may further include water removing parts 179a, 179b, 179c, and 179d to partially remove the cleaning liquid from the 176b and 176.

각 수분 제거부는 상기 벨트(174)에 의해 정의된 공간 안에 설치된 고정 롤러(179a, 179c) 및 상기 벨트(174)의 외부에 설치된 가압 롤러(179b, 179d)로 이루어진다. 고정 롤러들(179a, 179c)과 가압 롤러들(179b, 179d)은 서로 일대일 대응하고, 상기 벨트(174)를 사이에 두고 마주하게 배치된다. 이 실시예에 있어서, 상기 수분 제거부(179a, 179b, 179c, 179d)는 상기 가이드 롤러들(178a, 178b, 178c)의 아래에 설치된다.Each water removing unit is composed of fixing rollers 179a and 179c installed in the space defined by the belt 174 and pressure rollers 179b and 179d provided outside the belt 174. The fixing rollers 179a and 179c and the pressure rollers 179b and 179d correspond one to one with each other and are disposed to face each other with the belt 174 interposed therebetween. In this embodiment, the water removing parts 179a, 179b, 179c, and 179d are installed below the guide rollers 178a, 178b, and 178c.

가압 롤러들(179b, 179d)은 실린더들(91, 92)에 결합되고, 연결된 실린더(91, 92)의 구동에 의해 승강 및 하강된다. 즉, 상기 가압 롤러들(179b, 179d)은 상기 실린더들(91, 92)에 의해 상기 고정 롤러들(179a, 179c)과의 이격 거리가 조절된다. 가압 롤러들(179b, 179d)은 세정 공정 시 상기 세정액에 적셔진 상기 RGB 세정 패드(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176)가 상기 벨트(174)와의 사이로 지나갈 경우, 상기 실린더들(91, 92)에 의해 승강되어 해당 세정 패드를 누르고, 이에 따라, 상기 RGB 세정 패드(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176) 내의 세정액이 일부분 제거된다. 즉, 상기 수분 제거부(179a, 179b, 179c, 179d)는 상기 세정액에 적셔진 상기 RGB 세정 패드(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176)로부터 상기 세정액을 눌러짜내 상기 RGB 세정 패드(175a, 175b, 175c, 176a, 176b, 176)가 적정한 습윤 상태를 유지하도록 한다.The pressure rollers 179b and 179d are coupled to the cylinders 91 and 92, and are lifted and lowered by the driving of the connected cylinders 91 and 92. That is, the pressing rollers 179b and 179d are separated from the fixing rollers 179a and 179c by the cylinders 91 and 92. The pressure rollers 179b and 179d may be used when the RGB cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176 soaked in the cleaning liquid pass between the belt 174. , 92) to press the cleaning pad, thereby partially removing the cleaning liquid in the RGB cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176. That is, the moisture removing unit 179a, 179b, 179c, and 179d presses the cleaning solution from the RGB cleaning pads 175a, 175b, 175c, 176a, 176b, and 176 soaked in the cleaning solution, and squeezes the RGB cleaning pad 175a. , 175b, 175c, 176a, 176b, and 176) are in proper wet condition.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 헤드 세정 과정을 나타낸 흐름도이고, 도 9a 내지 도 9c는 도 4에 도시된 제2 세정 유닛에서 헤드를 세정하는 과정을 나타낸 단면도들이다.8 is a flowchart illustrating a head cleaning process according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 9A to 9C are cross-sectional views illustrating a process of cleaning a head in the second cleaning unit illustrated in FIG. 4.

도 8 및 도 9a를 참조하면, 먼저, 상기 갠트리(140)가 상기 제1 및 제2 가이드 레일(112a, 112b)을 따라 이동하여 상기 제1 헤드 어셈블리(140a)를 상기 제2 세정유닛(170)의 상부에 배치시킨다(단계 S110).8 and 9A, first, the gantry 140 moves along the first and second guide rails 112a and 112b to move the first head assembly 140a to the second cleaning unit 170. ) Is placed on the top (step S110).

상기 제1 헤드 이동부(151)(도 2 참조)는 아래로 이동하여 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 R 헤드(141a)의 처리액 토출면을 상기 제1 세정 패드부의 R 세정 패드(175a) 상면에 밀착시킨다(단계 S120).The first head moving part 151 (see FIG. 2) moves downward to move the processing liquid discharge surface of the R head 141a of the first and second head assemblies 140a and 140b into the first cleaning pad part. It adheres to the upper surface of the R cleaning pad 175a (step S120).

상기 벨트(174)가 상기 회전 구동부(172)의 구동에 의해 회전하고, 이에 따라, 상기 R 세정 패드(175a)가 이동하면서 상기 R 헤드(141a)의 노즐들의 처리액 토출면에 잔존하는 처리액을 닦아낸다(단계 S130). 여기서, 상기 벨트(174)는 상기 제1 및 제1 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 세정이 개시되면, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 세정이 완료될 때까지 계속해서 회전한다.The belt 174 is rotated by the driving of the rotation driving unit 172, and thus the processing liquid remaining on the processing liquid discharge surface of the nozzles of the R head 141a while the R cleaning pad 175a is moved. Wipe off (step S130). In this case, when the cleaning of the first and first head assemblies 140a and 140b is started, the belt 174 is continuously rotated until the cleaning of the first and second head assemblies 140a and 140b is completed. do.

도 8, 도 9b 및 도 9c를 참조하면, 오염된 상기 R 세정 패드(175a)는 상기 벨트(174)의 회전에 의해 상기 세정액 분사부(181) 측으로 이동하고, 상기 세정액 분사부(181)로부터 분사되는 세정액(CL), 예컨대, 솔벤트에 의해 세정된다(단계 S140). 여기서, 세정액 분사부(181)는 상기 상기 제1 및 제1 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 세정이 개시되면, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 세정이 완료될 때까지 계속해서 상기 세정액(CL)을 분사한다.8, 9B, and 9C, the contaminated R cleaning pad 175a is moved toward the cleaning liquid jet 181 by the rotation of the belt 174, and from the cleaning liquid jet 181. It is cleaned by the cleaning liquid CL injected, for example, a solvent (step S140). Here, when the cleaning liquid injection unit 181 starts cleaning of the first and first head assemblies 140a and 140b, the cleaning liquid injection unit 181 continues until the cleaning of the first and second head assemblies 140a and 140b is completed. The cleaning liquid CL is sprayed.

계속해서 상기 벨트(174)의 회전에 의해 상기 R 세정 패드(175a)는 상기 수분 제거부(179a, 179b, 179c, 179d) 측으로 이동한다.Subsequently, the R cleaning pad 175a is moved toward the water removing parts 179a, 179b, 179c, and 179d by the rotation of the belt 174. FIG.

한편, 상기 R 헤드(141a)의 세정이 완료되면, 상기 제1 헤드 어셈블리(140a)의 G 헤드(142a) 및 B 헤드(143a)의 세정이 순차적으로 이루어지며, 상기 제1 헤드 어셈블리(140a)의 G 헤드(142a) 및 B 헤드(143a)의 세정 과정은 상기 R 헤드(141a)의 세정 과정과 동일한 과정으로 상기 제1 세정 패드부의 G 세정 패드(175b)과 B 세정 패드(175c)에 의해 이루어진다.Meanwhile, when the cleaning of the R head 141a is completed, the cleaning of the G head 142a and the B head 143a of the first head assembly 140a is performed sequentially, and the first head assembly 140a is performed. The cleaning process of the G head 142a and the B head 143a in the same manner as the cleaning process of the R head 141a is performed by the G cleaning pad 175b and the B cleaning pad 175c of the first cleaning pad part. Is done.

도 8 및 도 9c를 참조하면, 상기 벨트(174)의 회전에 의해 상기 R 세정 패드(175a)가 고정 롤러들(179a, 179c)과 가압 롤러들(179b, 179d) 사이를 통과하면, 상기 가압 롤러들(179d, 179d)이 상기 R 세정 패드(175a)를 가압하여 상기 R 세정 패드(175a)에 흡수된 세정액을 눌러짜낸다(단계 S150).8 and 9C, when the R cleaning pad 175a passes between the fixing rollers 179a and 179c and the pressure rollers 179b and 179d by the rotation of the belt 174, the pressure is applied. The rollers 179d and 179d pressurize the R cleaning pad 175a to squeeze the cleaning liquid absorbed into the R cleaning pad 175a (step S150).

마찬가지로, 상기 G 세정 패드(175b)와 상기 B 세정 패드(175c) 또한 상기 R 세정 패드(175a)와 동일한 방법으로 세정된다.Similarly, the G cleaning pad 175b and the B cleaning pad 175c are also cleaned in the same manner as the R cleaning pad 175a.

한편, 상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 세정이 이루어지는 동안, 상기 에어 나이프(189)는 상기 벨트(174) 측으로 계속해서 에어(AF)를 분사하여 상기 벨트(174)에 낀 이물을 제거한다.On the other hand, while the first and second head assemblies 140a and 140b are being cleaned, the air knife 189 continues to inject air AF toward the belt 174 to be caught by the belt 174. Remove the foreign object.

상기 제1 및 제2 헤드 어셈블리(140a, 140b)의 세정이 완료되고, 상기 세정 패드들의 기 설정된 교체 주기에 도달하면, 해당 세정 패드를 패드 고정부로부터 분리한 후 새로운 세정 패드로 교체한다(단계 S160).When the cleaning of the first and second head assemblies 140a and 140b is completed and the predetermined replacement cycle of the cleaning pads is reached, the cleaning pad is detached from the pad holder and replaced with a new cleaning pad (step) S160).

이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described with reference to the embodiments above, those skilled in the art will understand that the present invention can be variously modified and changed without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. Could be.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 형성 장치를 개략적으로 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view schematically showing a thin film forming apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 잉크젯 프린트부를 나타낸 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view illustrating the inkjet print unit shown in FIG. 1.

도 3은 도 2에 도시된 잉크젯 프린트부를 나타낸 평면도이다.3 is a plan view illustrating the inkjet print unit illustrated in FIG. 2.

도 4는 도 2에 도시된 제2 세정 유닛을 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the second cleaning unit illustrated in FIG. 2.

도 5는 도 4에 도시된 제2 세정 유닛을 나타낸 평면도이다.FIG. 5 is a plan view illustrating the second cleaning unit illustrated in FIG. 4.

도 6은 도 4에 도시된 제2 세정 유닛의 일부분을 나타낸 사시도이다.FIG. 6 is a perspective view illustrating a part of the second cleaning unit illustrated in FIG. 4.

도 7은 도 6에 도시된 세정 패드와 패드 고정부를 구체적으로 나타낸 분해 사시도이다.FIG. 7 is an exploded perspective view illustrating in detail the cleaning pad and the pad fixing part illustrated in FIG. 6.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 헤드 세정 과정을 나타낸 흐름도이다.8 is a flowchart illustrating a head cleaning process according to an embodiment of the present invention.

도 9a 내지 도 9c는 도 4에 도시된 제2 세정 유닛에서 헤드를 세정하는 과정을 나타낸 단면도들이다.9A to 9C are cross-sectional views illustrating a process of cleaning a head in the second cleaning unit illustrated in FIG. 4.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 잉크젯 프린트부 200 : 로더부100: inkjet print portion 200: loader portion

300 : 언로더부 400 : 약액 공급부300: unloader 400: chemical solution supply

500 : 인덱서부 600 : 베이크부500: indexer 600: baking unit

Claims (20)

회전 가능한 회전 구동부; A rotatable rotation drive unit; 상기 회전 구동부와 이격되어 서로 마주하게 배치되고, 회전 구동부의 회전력에 회전하는 풀리; A pulley spaced apart from the rotation driving unit so as to face each other and rotating at a rotational force of the rotation driving unit; 상기 회전 구동부 및 상기 풀리를 부분적으로 둘러싸고, 상기 회전 구동부에 의해 회전하며, 상기 회전 구동부의 회전력을 상기 풀리에 전달하는 벨트; 및A belt partially surrounding the rotation drive unit and the pulley, rotating by the rotation drive unit, and transmitting a rotational force of the rotation drive unit to the pulley; And 상기 벨트의 외면에 탈착 가능하도록 설치되고, 상기 벨트의 폭 방향으로 연장되며, 탄성을 가지고, 상기 벨트에 회전에 의해 이동되며, 약액을 토출하는 노즐의 토출면과 접촉하여 상기 토출면의 이물을 닦아내는 적어도 하나의 세정 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.It is installed to be detachable on the outer surface of the belt, extends in the width direction of the belt, is elastic, is moved by the rotation of the belt, the foreign material on the discharge surface in contact with the discharge surface of the nozzle for discharging the chemical liquid And at least one cleaning pad for wiping off. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 벨트에 탈착 가능하게 설치되고, 상기 세정 패드가 탈착 가능하게 삽입 결합되며, 상기 세정 패드를 상기 벨트에 고정시키는 적어도 하나의 패드 고정부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.And at least one pad fixing part detachably installed on the belt, the cleaning pad being detachably inserted and fixed to fix the cleaning pad to the belt. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 패드 고정부는,The pad fixing part, 상기 벨트의 길이 방향으로 연장된 바닥판; 및A bottom plate extending in the longitudinal direction of the belt; And 상기 바닥판으로부터 수직하게 연장되어 상기 세정 패드가 삽입되는 공간을 형성하고, 서로 마주하며, 각각 상단부가 안으로 절곡된 적어도 두 개의 측판을 포함하고,Extending vertically from the bottom plate to form a space into which the cleaning pad is inserted, facing each other, each comprising at least two side plates having an upper end bent inward, 상기 세정 패드는 상기 측판들의 상단부가 삽입되는 결합홈들이 형성된 것을 특징으로 하는 세정 유닛.The cleaning pad is a cleaning unit, characterized in that the coupling grooves are formed is inserted into the upper end of the side plates. 제3항에 있어서, 상기 패드 고정부는 나사 결합을 통해 상기 벨트에 결합되는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.The cleaning unit according to claim 3, wherein the pad fixing part is coupled to the belt through screwing. 제1항에 있어서, 상기 벨트는 그물 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.The cleaning unit according to claim 1, wherein the belt has a net shape. 제1항에 있어서, 상기 세정 패드는 폴리 올레핀 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 세정 유닛.The cleaning unit of claim 1, wherein the cleaning pad is made of a polyolefin material. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 6, 상기 밸트와 인접하게 설치되고, 상기 세정 패드와 동일한 방향으로 연장되며, 상기 세정 패드에 세정액을 분사하는 세정액 분사부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.And a cleaning solution spraying unit disposed adjacent to the belt, extending in the same direction as the cleaning pad, and spraying the cleaning solution onto the cleaning pad. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 밸트를 사이에 두고 상기 세정액 분사부와 마주하게 배치되고, 상기 벨트에 에어를 분사하는 에어 나이프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.And an air knife disposed to face the cleaning liquid injection unit with the belt interposed therebetween, the air knife injecting air to the belt. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 벨트에 인접하게 설치되고, 상기 세정 패드를 가압하여 상기 세정 패드에 흡수된 세정액을 일부분 제거하는 적어도 하나의 수분 제거부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.And at least one moisture removing unit installed adjacent to the belt and partially removing the cleaning liquid absorbed by the cleaning pad by pressing the cleaning pad. 제9항에 있어서, 상기 수분 제거부는,The method of claim 9, wherein the water removing unit, 상기 벨트의 내면측에 위치하는 고정 롤러; 및A fixing roller located on an inner surface side of the belt; And 상기 벨트의 외면측에 위치하여 상기 고정 롤러와 마주하고, 상기 고정 롤러와의 사이에 상기 세정 패드가 개재된 상태에서 상기 세정 패드를 상기 고정 롤러측으로 가압하는 가압 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.And a pressure roller positioned on an outer surface side of the belt to face the fixing roller, and pressurizing the cleaning pad toward the fixing roller in a state where the cleaning pad is interposed between the fixing rollers. unit. 약액을 토출하는 다수의 노즐을 구비하고, 기판 상에 상기 약액을 도포하는 헤드; 및A head having a plurality of nozzles for discharging the chemical liquid and applying the chemical liquid onto a substrate; And 상기 노즐들에 잔존하는 이물을 제거하는 세정유닛을 포함하고,It includes a cleaning unit for removing foreign matter remaining in the nozzles, 상기 세정 유닛은, The cleaning unit, 회전 가능한 회전 구동부;A rotatable rotation drive unit; 상기 회전 구동부와 이격되어 서로 마주하게 배치되고, 회전 구동부의 회전력에 회전하는 풀리; A pulley spaced apart from the rotation driving unit so as to face each other and rotating at a rotational force of the rotation driving unit; 상기 회전 구동부 및 상기 풀리를 부분적으로 둘러싸고, 상기 회전 구동부에 의해 회전하며, 상기 회전 구동부의 회전력을 상기 풀리에 전달하는 벨트; 및A belt partially surrounding the rotation drive unit and the pulley, rotating by the rotation drive unit, and transmitting a rotational force of the rotation drive unit to the pulley; And 상기 벨트의 외면에 탈착 가능하도록 설치되고, 상기 벨트의 폭 방향으로 연장되며, 탄성을 가지고, 상기 벨트에 회전에 의해 이동되며, 약액을 토출하는 노즐의 토출면과 접촉하여 상기 토출면의 이물을 닦아내는 적어도 하나의 세정 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.It is installed to be detachable on the outer surface of the belt, extends in the width direction of the belt, is elastic, is moved by the rotation of the belt, the foreign material on the discharge surface in contact with the discharge surface of the nozzle for discharging the chemical liquid And at least one cleaning pad for wiping off. 제11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 벨트에 탈착 가능하게 설치되고, 상기 세정 패드가 탈착 가능하게 삽입 결합되며, 상기 세정 패드를 상기 벨트에 고정시키는 적어도 하나의 패드 고정부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.Detachably installed on the belt, the cleaning pad is detachably inserted and coupled, the chemical liquid applying apparatus further comprises at least one pad fixing portion for fixing the cleaning pad to the belt. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 패드 고정부는,The pad fixing part, 상기 벨트의 길이 방향으로 연장된 바닥판; 및A bottom plate extending in the longitudinal direction of the belt; And 상기 바닥판으로부터 수직하게 연장되어 상기 세정 패드가 삽입되는 공간을 형성하고, 서로 마주하며, 각각 상단부가 안으로 절곡된 적어도 두 개의 측 판을 포함하고,A space extending vertically from the bottom plate to form a space into which the cleaning pad is inserted, facing each other, each having at least two side plates having an upper end bent inward, 상기 세정 패드는 상기 측판들의 상단부가 삽입되는 결합홈들이 형성된 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.The cleaning pad is a chemical liquid applying apparatus, characterized in that the coupling grooves are formed is inserted into the upper end of the side plates. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 유닛은,The cleaning unit according to any one of claims 11 to 13, wherein 상기 밸트와 인접하게 설치되고, 상기 세정 패드와 동일한 방향으로 연장되며, 상기 세정 패드에 세정액을 분사하는 세정액 분사부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.And a cleaning solution spraying unit disposed adjacent to the belt and extending in the same direction as the cleaning pad and spraying the cleaning solution on the cleaning pad. 제14항에 있어서, 상기 세정 유닛은,The method of claim 14, wherein the cleaning unit, 상기 밸트를 사이에 두고 상기 세정액 분사부와 마주하게 배치되고, 상기 벨트에 에어를 분사하는 에어 나이프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.And an air knife disposed to face the cleaning liquid injection unit with the belt interposed therebetween, the air knife injecting air to the belt. 제14항에 있어서, 상기 세정 유닛은,The method of claim 14, wherein the cleaning unit, 상기 벨트에 인접하게 설치되고, 상기 세정 패드를 가압하여 상기 세정 패드에 흡수된 세정액을 일부분 제거하는 적어도 하나의 수분 제거부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.And at least one water removing unit installed adjacent to the belt and partially removing the cleaning liquid absorbed by the cleaning pad by pressing the cleaning pad. 제16항에 있어서, 상기 수분 제거부는,The method of claim 16, wherein the water removing unit, 상기 밸트의 내면측에 위치하는 고정 롤러; 및A fixing roller located on an inner surface side of the belt; And 상기 밸트의 외면측에 위치하여 상기 고정 롤러와 마주하고, 상기 고정 롤러와의 사이에 상기 세정 패드가 개재된 상태에서 상기 세정 패드를 상기 고정 롤러측으로 가압하는 가압 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.And a pressure roller positioned on an outer surface side of the belt to face the fixing roller, and pressurizing the cleaning pad toward the fixing roller in a state where the cleaning pad is interposed between the fixing rollers. Application device. 약액을 토출하는 헤드의 약액 토출면을 회전하는 벨트의 외면에 탈착 가능하게 설치된 세정 패드의 상면에 배치시키는 단계; 및Disposing a chemical liquid discharge surface of the head for discharging the chemical liquid on an upper surface of the cleaning pad detachably installed on an outer surface of the rotating belt; And 상기 세정 패드와 상기 헤드의 약액 토출면이 밀착된 상태에서 상기 벨트를 회전시켜 상기 약액 토출면에 잔존하는 약액을 닦아내는 단계를 포함하고,And wiping the chemical liquid remaining on the chemical liquid discharge surface by rotating the belt while the cleaning pad and the chemical liquid discharge surface of the head are in close contact with each other. 상기 세정 패드는 탄성을 갖는 수지 재질로 이루어져 습윤 상태를 유지하고 있는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치 세정 방법.The cleaning pad is made of a resin material having elasticity to maintain a wet state, characterized in that the chemical coating device cleaning method. 제18항에 있어서,The method of claim 18, 오염된 세정 패드를 세정하기 위해 상기 벨트의 회전에 의해 이동중인 상기 오염된 세정 패드에 세정액을 분사하는 단계; 및Spraying a cleaning liquid on the contaminated cleaning pad being moved by the rotation of the belt to clean the dirty cleaning pad; And 상기 벨트에 잔존하는 이물을 제거하기 위해 회전 중인 상기 벨트에 기체를 분사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치 세정 방법.And spraying gas onto the rotating belt to remove foreign matter remaining on the belt. 제19항에 있어서,The method of claim 19, 상기 세정액을 분사하는 단계 이후에, 상기 벨트의 회전에 의해 이동중인 상 기 세정 패드를 가압하여 상기 세정 패드에 흡수된 상기 세정액을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치 세정 방법.And after the spraying of the cleaning solution, removing the cleaning solution absorbed by the cleaning pad by pressurizing the cleaning pad being moved by the rotation of the belt.
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KR20160094141A (en) * 2015-01-30 2016-08-09 세메스 주식회사 Cleaning unit and substrate treating apparatus including the same
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