KR20110013907A - Heat dissipation pad with high thermoconductivity and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A heat emitting pad with high heat conductivity and a manufacturing method thereof are provided to have a metallic oxide film with a fixed thickness, thereby increasing a heat emitting property and an electricity insulating property. CONSTITUTION: The center part of a heat emitting pad is made of silver particles. The surface of the heat emitting pad is made of the first filter and a curable coupling agent. The center of the surface is made of copper. The first filter is made of a silver oxide film whose average thickness is thicker than 500 nano meter. The surface of the heat emitting pad includes the second filer made of a copper oxide film whose average thickness is thicker than 500 nano meter.

Description

높은 열전도 효율을 가지는 방열 패드 및 이의 제조방법{Heat dissipation pad with high thermoconductivity and manufacturing method thereof}Heat dissipation pad with high thermoconductivity and manufacturing method

본 발명은 높은 열전도 효율을 가지는 방열 패드 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 중심부가 금속 입자로 이루어지고 표면이 금속 산화물 막으로 이루어진 충전제를 포함하는 열 전도성 조성물로 성형된 방열 패드에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat radiation pad having a high thermal conductivity efficiency and a method of manufacturing the same, and to a heat radiation pad molded from a thermally conductive composition comprising a filler consisting of a metal particle in a center portion and a metal oxide film.

반도체, PCB, 디스플레이 장치 등의 각종 전자부품은 소재 자체의 특성과 각 부품의 연결부위에서 발생하는 전기적 저항으로 인하여 기기 작동시에 발열을 수반하게 된다. 이렇게 발생되는 열은 작동부품의 온도를 증가시킴으로써 전자기기의 내구연한을 단축시키는 원인으로 작용하며, 특히 중앙처리장치(CPU), 메모리(memory), 플라즈마 디스플레이 모니터 또는 액정 디스플레이 모니터의 회로나 램프 등의 각종 전자회로 소자는 일정 온도 이상에서 오작동을 일으키거나 해당 부품의 최대 성능을 발휘하기 어려운 경향이 있다.Various electronic parts such as semiconductors, PCBs, and display devices are accompanied by heat generation during operation of the device due to the characteristics of the material itself and the electrical resistance generated at the connection parts of the components. Heat generated in this way acts as a cause of shortening the endurance of electronic equipment by increasing the temperature of operating parts, especially circuits and lamps of CPU, memory, plasma display monitor or liquid crystal display monitor. The various electronic circuit elements of the device tend to malfunction or exhibit the maximum performance of the part above a certain temperature.

그리고, 최근의 전자부품 소형화 및 집적화는 단위 면적에 포함되는 회로 수의 증가로 인하여 더욱 심각한 발열을 초래하고 있으며, 따라서 이러한 전자부품의 냉각이 매우 중요한 문제로 대두 되었다.In recent years, miniaturization and integration of electronic components have caused more serious heat generation due to an increase in the number of circuits included in a unit area, and thus cooling of such electronic components has become a very important problem.

냉각을 위한 방법으로는 미국특허 제6409475호, 미국특허 제6935130호에서 개시된 냉각팬을 이용한 능동형 냉각 방식이 가장 높은 냉각성능을 나타내기는 하나, 이 경우 냉각팬에서 발생하는 소음, 냉각장치의 운전을 위한 전력 사용 등이 문제시되며, 또한 추가적인 전기회로 및 부품공간을 구성해야 하므로 최근 전자제품의 발전추세인 제품의 경박단소화를 어렵게 하는 등의 문제점을 가지고 있다.As the cooling method, the active cooling method using the cooling fan disclosed in U.S. Patent No. 6409475 and U.S. Patent No. 6,595,130 has the highest cooling performance, but in this case, the noise generated from the cooling fan and the operation of the cooling device are suppressed. The use of power for such a problem is problematic, and additional electric circuits and component spaces must be configured, and thus, there is a problem such as making it difficult to reduce the light weight of the product, which is the recent development trend of electronic products.

이를 개선하기 위하여 여러 가지 수단이 제시된 바 있으며, 특히 방열판(heat sink) 또는 전자기기의 외피(casing)를 이용하여 외기로 열을 방출하는 수동형 냉각방식이 중요한 수단으로 쓰이고 있다. 이 경우에는 전자회로의 냉각이 단순히 방열판 또는 외피를 통한 외기로의 복사 또는 대류에 의한 열전도에 의하여 이루어지기 때문에, 장치를 운전하는데 있어 특별히 외부 전력을 필요로 하지 않으며, 무소음 운전이 가능하고, 또한 냉각팬을 사용하는 경우에 비해 장치의 설계에 있어서도 더욱 많은 자유도를 부여할 수 있게 된다. 그러나, 상기와 같이 방열판이나 기기 외피에 의한 열전도에 의하여 냉각을 실시할 경우 전자기기에서 발생하는 열을 효과적으로 방열판 또는 외피로 전달해주는 것이 중요한 문제가 된다.In order to improve this, various means have been proposed. In particular, a passive cooling method of dissipating heat to the outside by using a heat sink or a casing of an electronic device is used as an important means. In this case, since the cooling of the electronic circuit is simply performed by heat conduction by radiation or convection to the outside air through the heat sink or shell, no special external power is required to operate the device, and noiseless operation is possible. Compared to the case of using a cooling fan, more freedom in designing the device can be provided. However, when cooling by heat conduction by the heat sink or the device shell as described above, it is important to effectively transfer the heat generated from the electronic device to the heat sink or the shell.

일반적으로 전자회로와 방열판 또는 외피 사이를 단순하게 빈 공간으로 남겨둘 경우에는 공기의 높은 단열능력으로 인하여 효과적인 열의 확산이 이루어지지 않게 되며, 이에 효과적인 열전도를 위해서는 전자회로와 방열판 또는 외피 사이의 공기층을 최대한 배제하는 것이 필요하다. 그리고, 방열판 또는 외피는 제품을 보호할 수 있으면서 외관상 보기가 좋아야 하고 동시에 열을 효과적으로 확산시킬 수 있어야 하므로 주로 금속계 소재를 사용하여 제작된다. 따라서, 공기층으로 인한 단열효과를 제거하기 위하여 전자회로와 방열판 또는 외피를 접촉 설계할 경우에는 전자회로에 부가되는 전류가 누전되어 전자기기의 오작동이 유발될 수 있으며, 상대적으로 누설되는 전류의 양이 적어 장치의 일반적인 작동이 가능한 경우라 하더라도 전력의 사용효율이 급격히 떨어지게 되고, 사용자의 감전 위험이 발생한다.In general, if the electronic circuit and the heat sink or the sheath are simply left in an empty space, the high heat insulating ability of the air prevents the effective diffusion of heat. Therefore, for effective heat conduction, the air layer between the electronic circuit and the heat sink or the sheath is prevented. It is necessary to exclude as much as possible. In addition, the heat sink or the outer shell should be made of metal-based material because it should be able to protect the product and should look good and at the same time be able to diffuse heat effectively. Therefore, in the case of designing contact between the electronic circuit and the heat sink or the outer skin to remove the insulation effect caused by the air layer, the current applied to the electronic circuit may be shorted, which may cause malfunction of the electronic device. At least, even if the normal operation of the device is possible, the use efficiency of the power drops drastically, and there is a risk of electric shock to the user.

이를 개선하기 위하여 상기의 전자회로와 방열판 또는 기기 외피 사이에 충전제 또는 방열 패드를 사용하는 방법이 고안되었다. 예를 들어, 미국특허 제4842911호에서는 연질의 실리콘 수지를 전자회로와 방열판 사이에 사용하는 방법이 개시되어 있으며, 이때 실리콘 수지는 전자회로에서 발생하는 열을 방열판 또는 기구 외피에 전달하여 열을 대기중으로 확산시킴으로써 전자회로의 냉각을 유도하는 역할을 하게 된다. 또한, 미국특허 제5679457호에서는 사용되는 실리콘 수지의 열전도 효율을 향상시킴으로써 냉각효율을 극대화하기 위하여 알루미나(alumina), 그라파이트(graphite), 보론 나이트라이드(boron nitride), 및 티타늄 나이트라이드(titanium nitride) 등 열전도 특성이 우수한 고체 분말을 포함시키는 방법이 개시되어 있다.In order to improve this, a method of using a filler or a heat dissipation pad has been devised between the electronic circuit and the heat sink or the outer shell of the device. For example, US Pat. No. 4,831,11 discloses a method of using a soft silicone resin between an electronic circuit and a heat sink, wherein the silicone resin transfers heat generated from the electronic circuit to the heat sink or the outer shell of the device to wait for heat. Diffusion into the medium serves to induce cooling of the electronic circuit. In addition, US Pat. No. 5679457 discloses alumina, graphite, boron nitride, and titanium nitride to maximize cooling efficiency by improving the thermal conductivity of the silicone resin used. The method of including the solid powder which is excellent in thermal conductivity etc. is disclosed.

그러나, 최근 전자회로의 고집적화로 인한 방출열 증가의 효과적인 대응을 위해서 그리고 플라즈마 디스플레이 패널 또는 액정 디스플레이 패널 등에서 발산되는 높은 열을 냉각하기 위해서는 열전도 효율을 더욱 개선해야 한다. 또한, 방열 패드는 우수한 냉각효과 외에도 높은 전기절연 특성을 보유해야 하는데, 그 이유는 금속 소재로 이루어져 있는 방열판 또는 제품 외피로 전류의 누설이 일어날 경우 전력의 낭비는 물론 기기의 오작동 및 내구성 저하, 안전사고의 위험을 초래할 수 있기 때문이다.However, in order to effectively cope with the increase in heat emission due to the recent high integration of electronic circuits and to cool the high heat dissipated in the plasma display panel or the liquid crystal display panel, the thermal conductivity efficiency must be further improved. In addition, the heat dissipation pad must have a high electrical insulation property in addition to the excellent cooling effect, because if the leakage of current occurs to the heat sink or the product shell made of metal material, not only waste of power, but also malfunction of the device and reduced durability, safety This can cause an accident.

본 발명은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명은 높은 열전도 효율을 가진 방열 패드 및 이의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the conventional problems, and an object of the present invention is to provide a heat radiation pad having a high thermal conductivity efficiency and a method of manufacturing the same.

본 발명의 일 목적은, 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제, 및 경화형 결합제를 포함하는 열 전도성 조성물로 성형된 방열 패드를 제공함으로써 달성될 수 있다. One object of the present invention is a heat dissipation pad molded from a thermally conductive composition comprising a first filler made of silver (Ag) oxide film having a central portion of silver (Ag) particles and an average thickness of 500 nm or more, and a curable binder. Can be achieved by providing

본 발명의 다른 목적은, 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제, 결합제와 경화제의 혼합물로 이루어진 경화형 결합제, 휘발성 실리콘 오일, 및 경화반응 촉매를 혼합하여 열 전도성 조성물을 제공하는 단계; 코터로 상기 열 전도성 조성물을 이형지에 도포한 후 80~140℃의 온도 범위에서 경화 및 건조시키는 단계;를 포함하는 방열 패드의 제조방법을 제공함으로써 달성될 수 있다.Another object of the present invention is to provide a first filler comprising a silver (Ag) oxide film having a central portion of silver (Ag) particles and an average thickness of 500 nm or more, a curable binder comprising a mixture of a binder and a curing agent, a volatile silicone oil, And mixing the curing reaction catalyst to provide a thermally conductive composition; It can be achieved by providing a method for producing a heat radiation pad comprising a; coating the thermally conductive composition on a release paper with a coater and curing and drying at a temperature range of 80 ~ 140 ℃.

본 발명에 방열 패드 및 이의 제조방법에 있어서, 열 전도성 조성물은 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제와 함께 중심부가 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 제2충전제를 더 포함할 수 있다.In the heat dissipation pad and a method for manufacturing the same, the thermally conductive composition has a center portion made of silver (Ag) particles and a center portion is formed of copper (Ag) oxide film having an average thickness of 500 nm or more. And a second filler made of a copper (Cu) oxide film having an average thickness of 500 nm or more.

본 발명에 따른 방열 패드는 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제 및 선택적으로 중심부가 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 제2충전제를 포함하는 열 전도성 조성물로 성형되어 5~6 W/mK 범위의 높은 열 전도도를 가진다. 또한, 충전제의 표면이 소정의 평균 두께를 가진 금속 산화물 막으로 이루어져 있어서, 향상된 방열 효과와 동시에 전기 절연성을 가지므로 전자제품에 안정적으로 사용할 수 있다.The heat dissipation pad according to the present invention has a first filler made of silver (Ag) particles having a central portion of silver (Ag) particles and an average thickness of 500 nm or more, and optionally a central portion of copper (Cu) particles. It is molded into a thermally conductive composition comprising a second filler made of a copper (Cu) oxide film having an average thickness of at least 500 nm to have a high thermal conductivity in the range of 5-6 W / mK. In addition, since the surface of the filler is made of a metal oxide film having a predetermined average thickness, it has an improved heat dissipation effect and electrical insulation, and thus can be stably used in electronic products.

더불어, 제1충전제와 제2충전제를 모두 포함하는 열 전도성 조성물을 사용하는 경우 상대적으로 저가인 구리(Cu)에 의해 낮은 비용으로 방열 패드를 제조할 수 있다.In addition, when the thermally conductive composition including both the first filler and the second filler is used, heat radiation pads may be manufactured at low cost by relatively low cost copper (Cu).

본 발명의 일측면은 본 발명은 높은 열전도 효율을 가지는 방열 패드에 관한 것으로서, 본 발명의 방열 패드는 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제, 및 경화형 결합제를 포함하는 열 전도성 조성물로 성형된다. 또한, 본 발명의 방열 패드의 제조에 사용되는 열 전도성 조성물은 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제와 함께 중심부가 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 제2충전제를 더 포함할 수 있다.One aspect of the present invention relates to a heat dissipation pad having a high thermal conductivity efficiency, the heat dissipation pad of the present invention is the first filler consisting of silver (Ag) particles in the center and the surface of the silver (Ag) oxide film, And a thermally conductive composition comprising a curable binder. In addition, the thermally conductive composition used in the manufacture of the heat dissipation pad of the present invention has a central portion made of silver (Ag) particles and a central portion made of copper (Cu) particles with a first filler made of a silver (Ag) oxide film. The upper surface may further include a second filler made of a copper (Cu) oxide film.

본 발명에 따른 열 전도성 조성물에 함유된 충전제는 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 은(Ag) 산화물 막으로 이루어지거나, 중심부가 구리(Cu) 입 자로 이루어지고 표면이 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 이중-층 구조를 갖는 충전제이다. 본 발명에 사용되는 충전제의 중심부는 세라믹 및 알루미늄과 비교하여 높은 열 전도성을 가지는 은(Ag) 또는 구리(Cu)로 구성되어 있다. 따라서, 본 발명에 따른 열 전도성 조성물은 충전제로서 세라믹 충전제를 사용하는 경우와 비교하여 높은 열 전도성을 보인다.The filler contained in the thermally conductive composition according to the invention consists of silver (Ag) particles in the center and a silver (Ag) oxide film in the center, or in the center of copper (Cu) particles and the surface of copper (Cu) It is a filler having a double-layer structure consisting of an oxide film. The center of the filler used in the present invention is composed of silver (Ag) or copper (Cu), which has a high thermal conductivity compared to ceramic and aluminum. Therefore, the thermally conductive composition according to the present invention exhibits high thermal conductivity as compared to the case of using a ceramic filler as the filler.

또한, 본 발명에 따른 열 전도성 조성물의 충전제로 중심부가 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 이중-층 구조를 갖는 충전제만을 사용할 수 있다. 비록, 구리(Cu)가 은(Ag)보다 낮은 열 전도성을 가지나 그 차이가 매우 작아, 열 전도성 조성물의 충전제로 중심부가 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 이중-층 구조를 갖는 충전제를 사용하는 경우에도 중심부가 은(Agu) 입자로 이루어지고 표면이 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 이중-층 구조를 갖는 충전제를 사용하는 경우와 근접한 열 전도성을 나타낼 것으로 기대된다. 아울러, 본 발명에 따른 열 전도성 조성물에 사용되는 충전제는 중심부가 은(Ag) 입자 또는 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 중심부 입자 성분에 대응하여 은(Ag) 산화물 막 또는 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 이중-층 구조를 갖는 충전제에서 선택되는 하나 이상의 충전제와, 중심부가 알루미늄(Al) 입자 또는 니켈(Ni) 입자로 이루어지고 표면이 중심부 입자 성분에 대응하여 알루미늄(Al) 산화물 막 또는 니켈(Ni) 산화물 막으로 이루어진 이중-층 구조를 갖는 충전제에서 선택되는 하나 이상의 충전제의 조합을 포함한다.In addition, as a filler of the thermally conductive composition according to the present invention, only a filler having a double-layer structure in which the center portion is made of copper (Cu) particles and the surface is made of a copper (Cu) oxide film can be used. Although copper (Cu) has a lower thermal conductivity than silver (Ag), but the difference is very small, a double layer consisting of copper (Cu) particles and a surface of copper (Cu) oxide film as a filler of the thermally conductive composition The use of a filler with a layered structure is expected to exhibit thermal conductivity close to that of a filler with a double-layered structure consisting of silver (Agu) particles in its core and a silver oxide film on its surface. do. In addition, the filler used in the thermally conductive composition according to the present invention comprises a silver (Ag) particle or a copper (Cu) particle in the center and a surface of the silver (Ag) oxide film or copper (Cu) oxide corresponding to the center particle component. One or more fillers selected from fillers having a bi-layer structure consisting of a membrane, and an aluminum (Al) oxide film or nickel whose center is composed of aluminum (Al) particles or nickel (Ni) particles and whose surface corresponds to the central particle component A combination of one or more fillers selected from fillers having a double-layer structure consisting of (Ni) oxide films.

본 발명에 따른 열 전도성 조성물에 함유된 충전제의 산화물 막의 평균 두께 는 500 nm 이상인데, 500 nm 미만의 평균 두께를 가질 경우, 충전제는 충분한 전기-절연능을 나타내지 못할 수 있다. 추가로, 산화물 막의 평균 두께의 상한에는 제한이 없지만, 중심부의 열 전도도를 극도로 제한하지 않는 측면에서는, 평균 두께의 상한은 3000 nm 이하가 바람직하다. 충전제의 중심부 평균 입경은 5 내지 200 ㎛가 바람직한데, 중심부가 5 ㎛ 미만의 평균 입경을 가지는 경우 직경이 너무 작기 때문에, 때때로 충분한 열 전도도를 나타내지 않을 우려가 있고, 중심부가 200 ㎛ 초과의 평균 입경을 가지는 경우에는 충전제를 다른 열 전도성 조성물의 구성성분과 균일하게 혼합시키기가 어려운 경향이 있다. 추가로, 본 명세서에서 "평균 입경"이란 입자가 구인 경우에는 직경의 평균, 입자가 타원구인 경우에는 각각의 입자의 긴 직경 및 짧은 직경 각각의 평균값의 평균, 입자가 불규칙한 형태인 경우에는 각각의 입자의 가장 긴 길이 및 가장 짧은 길이 각각의 평균값의 평균을 의미한다.The average thickness of the oxide film of the filler contained in the thermally conductive composition according to the present invention is at least 500 nm, when having an average thickness of less than 500 nm, the filler may not exhibit sufficient electrical-insulating capability. In addition, there is no restriction | limiting in the upper limit of the average thickness of an oxide film, However, The upper limit of average thickness is preferably 3000 nm or less from the point of not restricting the thermal conductivity of the center part extremely. The mean particle diameter of the filler is preferably 5 to 200 µm, but when the core has an average particle diameter of less than 5 µm, the diameter is too small, and sometimes there is a fear that sufficient thermal conductivity may not be exhibited, and the center has an average particle diameter of more than 200 µm. In the case of, the filler tends to be difficult to uniformly mix with the components of other thermally conductive compositions. In addition, the term "average particle diameter" as used herein means the average of the diameter of the particles in the sphere, the average of the average value of each of the long and short diameter of each particle, if the particle is an ellipsoid, The mean of the average of each of the longest and shortest lengths of the particles.

본 발명에 따른 열 전도성 조성물에 함유된 충전제는 은 또는 구리 입자에 소정의 처리를 하여 입자에 산화물 막을 형성함으로써 생성될 수 있다. 산화물 막은 금속 입자에 산 처리, 에너지 빔 조사 처리, 전기화학 처리, 및 열처리로 구성되는 군으로부터 선택되는 일 이상의 처리를 함으로써 형성될 수 있다. 추가로, 일정한 정도의 두께를 가지는 산화물 막은 금속 입자를 공기 중에서 단순히 놓아두기만 해도 형성될 수 있다. 하지만, 임의의 상기 처리를 사용하는 것이 바람직한데, 이는 산화물 막의 두께를 원하는 대로 조절할 수 있기 때문이다. 나아가, 임의의 상기 처리시에는, 공기 중에 금속 입자를 단순히 놓아둔 경우보다 우수한 전기 절 연능을 가지는 산화물 막이 형성될 수 있을 것으로 기대된다.The filler contained in the thermally conductive composition according to the present invention may be produced by subjecting silver or copper particles to a predetermined treatment to form an oxide film on the particles. The oxide film can be formed by subjecting the metal particles to at least one treatment selected from the group consisting of acid treatment, energy beam irradiation treatment, electrochemical treatment, and heat treatment. In addition, an oxide film having a certain degree of thickness may be formed by simply leaving the metal particles in the air. However, it is preferable to use any of the above treatments because the thickness of the oxide film can be adjusted as desired. Further, in any of the above treatments, it is expected that an oxide film having an excellent electrical insulation performance can be formed than simply leaving the metal particles in the air.

"산 처리"는 예를 들어, 적절한 농도를 가지는 유기산 또는 무기산 용액 등에 금속 입자를 두고, 이들을 혼합 및 교반시키는 처리를 의미한다. "에너지 빔 조사 처리"는 예를 들어, 고압 수은 램프로 금속 알루미늄 입자의 표면에 자외선을 조사하는 처리를 의미한다. "전기화학 처리"는 예를 들어, 금속 입자를 양극 산화시키는 처리를 의미한다. "열 처리"는 예를 들어, 400 내지 600 ℃의 오븐에 금속 입자를 두고 적절한 시간 동안 공기 또는 산소 분위기 중에 이들을 방치하는 처리를 의미한다."Acid treatment" means, for example, a treatment in which metal particles are placed in an organic or inorganic acid solution having an appropriate concentration, and mixed and stirred thereof. "Energy beam irradiation process" means a process of irradiating ultraviolet light to the surface of metallic aluminum particles, for example, with a high-pressure mercury lamp. "Electrochemical treatment" means, for example, a treatment for anodizing metal particles. "Heat treatment" means a treatment in which metal particles are placed in an oven at 400 to 600 ° C, for example, and left in an air or oxygen atmosphere for a suitable time.

본 발명에 따른 열 전도성 조성물에는 충전제로서 바람직하게는 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제와 함께 중심부가 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 제2충전제를 더 포함한다. 충전제로서 제1충전제와 제2충전제를 사용하는 경우 제1충전제를 사용하는 경우보다 열 전도도는 떨어지나, 은(Ag)이 구리(Cu)에 비해 상대적으로 고가인 점을 감안하면 방열 패드의 제조 비용을 현저히 낮출 수 있는 장점이 있다. 또한, 충전제로서 제1충전제와 제2충전제를 사용하는 경우 제2충전제의 함량은 제1충전제의 100 중량부 대비 50 내지 200 중량부인 것이 바람직한데, 제2충전제의 함량이 제1충전제의 100 중량부 대비 50 중량부 미만인 경우 방열 패드의 제조 비용이 높아 상품화에 어려움이 있고, 제2충전제의 함량이 제1충전제의 100 중량부 대비 200 중량부를 초과하는 경우 열 전도도 값이 소정의 범위(예를 들어, 5~6 W/mK)보다 낮아질 우려가 있다.In the thermally conductive composition according to the present invention, as a filler, the core is composed of copper (Cu) particles and the surface of the core is composed of silver (Ag) particles and the first filler is composed of silver (Ag) oxide film. It further comprises a second filler made of a copper (Cu) oxide film. In the case of using the first filler and the second filler as the filler, the thermal conductivity is lower than that of the first filler. However, considering that silver (Ag) is relatively expensive compared to copper (Cu), the manufacturing cost of the heat radiation pad is There is an advantage that can be significantly lowered. In addition, when using the first filler and the second filler as the filler, the content of the second filler is preferably 50 to 200 parts by weight relative to 100 parts by weight of the first filler, the content of the second filler is 100 weight of the first filler If the amount is less than 50 parts by weight, the manufacturing cost of the heat dissipation pad is high, which makes it difficult to commercialize. When the content of the second filler exceeds 200 parts by weight relative to 100 parts by weight of the first filler, the thermal conductivity value is in a predetermined range (e.g., For example, it may become lower than 5-6 W / mK).

본 발명에 따른 열 전도성 조성물의 일 구성성분으로 사용되는 경화형 결합제는 결합제와 경화제의 혼합물로서, 결합제로는 실리콘 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리이소프렌 수지, 천연고무 수지, 폴리비닐클로라이드 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리비닐리덴클로라이드 수지, 및 이들의 가소화된 수지로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상을 사용한다. 경화제는 선택된 결합제에 대응되어 사용되는데, 실리콘 수지의 경화제로는 라디칼 반응에 사용되는 디-t-부틸퍼옥시드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산, 디쿠밀퍼옥시드 등의 유기 과산화물, 부가 반응 경화제로서 오르가노폴리실록산이 알케닐기를 2개 이상 갖는 경우에 대해서는 규소 원자에 결합한 수소 원자를 1 분자 중에 2개 이상 함유하는 오르가노하이드로겐폴리실록산과 백금계 촉매로 이루어지는 것, 축합 반응 경화제로서 오르가노폴리실록산이 실란올기를 2개 이상 함유하는 경우에 대해서는 알콕시기, 아세톡시기, 케토옥심기, 프로페녹시기 등의 가수 분해성기를 2개 이상 갖는 유기 규소 화합물 등이 있고, 라디칼 반응 및(또는) 부가 반응으로 경화시킨다. 또한, 폴리우레탄 수지의 경화제로는 이소포론 디이아이소시안산(ISOPHORONE DIISOCYNATE), 폴리아마이드(Polyamide) 수지, 변성 방향족 아민수지, 산무수물, 제파민(Jeffamine) 등이 있다.The curable binder used as one component of the thermally conductive composition according to the present invention is a mixture of a binder and a hardener, and the binder is a silicone resin, a polyurethane resin, a polybutadiene resin, a polyisoprene resin, a natural rubber resin, a polyvinyl chloride resin. At least one selected from the group consisting of polyethylene resins, polypropylene resins, polyvinylidene chloride resins, and plasticized resins thereof. The curing agent is used corresponding to the selected binder. The curing agent for the silicone resin is di-t-butylperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, di In the case where the organopolysiloxane has two or more alkenyl groups as an organic peroxide such as cumyl peroxide and an addition reaction curing agent, the organohydrogenpolysiloxane containing two or more hydrogen atoms bonded to the silicon atom in one molecule and the platinum catalyst The organosilicon compound which has two or more hydrolysable groups, such as an alkoxy group, an acetoxy group, a ketooxime group, and a propenoxy group, when organopolysiloxane contains two or more silanol groups as a condensation reaction hardening | curing agent And curing by radical reaction and / or addition reaction. In addition, the curing agent of the polyurethane resin is isophorone diisocyanoic acid (ISOPHORONE DIISOCYNATE), polyamide (Polyamide) resin, modified aromatic amine resin, acid anhydride, Jeffamine (Jeffamine) and the like.

경화형 결합제는 주제로서 결합제와 부제로서 경화제를 혼합시켜 제조되는데, 결합제가 액상인 것이 바람직하다. 결합제가 액상인 경우 경화제와의 혼합이 용이하여 경화형 결합제를 쉽게 제조할 수 있고 취급이 간편하다. 경화형 결합제를 제조하는데 있어서, 경화제의 함량은 결합제와 이에 대응되는 경화제의 조합에 의 해 달라지는데, 결합제 100 중량부 대비 50 내지 150 중량부인 것이 바람직하다. 경화제의 함량이 결합제 100 중량부 대비 50 중량부 미만이면 방열 패드의 제조과정에서 경화되는 정도가 낮아 방열 패드의 품질이 저하(예를 들어, 불충분한 내부 강도)될 우려가 있고, 경화제의 함량이 결합제 100 중량부 대비 150 중량부를 초과하면 경화제의 일부가 미사용되어 초과에 따른 경화 정도가 미약할 수 있다.The curable binder is prepared by mixing the binder as a subject and the curing agent as a subsidiary agent, preferably the binder is liquid. When the binder is a liquid, it is easy to mix with the curing agent to easily prepare a curable binder and easy handling. In preparing the curable binder, the content of the curing agent varies depending on the combination of the binder and the corresponding curing agent, preferably 50 to 150 parts by weight relative to 100 parts by weight of the binder. If the content of the curing agent is less than 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder, the degree of curing in the manufacturing process of the heat radiation pad is low, so that the quality of the heat radiation pad may be degraded (for example, insufficient internal strength). If it exceeds 150 parts by weight relative to 100 parts by weight of the binder, a part of the curing agent may be unused, and thus the degree of curing may be weak.

본 발명의 방열 패드를 제조하는데 있어서, 제1충전제만을 포함하는 열 전도성 조성물을 사용하는 경우 경화형 결합제의 함량은 제1충전제의 100 중량부 대비 10 내지 40 중량부인 것이 바람직하고, 제1충전제와 제2충전제를 모두 포함하는 열 전도성 조성물을 사용하는 경우 경화형 결합제의 함량은 (제1충전제 + 제2충전제)의 100 중량부 대비 10 내지 40 중량부인 것이 바람직하다. 경화형 결합제의 함량이 제1충전제 또는 (제1충전제 + 제2충전제)의 100 중량부 대비 10 중량부 미만인 경우 충전제간의 결합이 원활하게 이루어지지 않아 방열 패드의 품질이 저하(예를 들어, 불충분한 내부 강도)될 우려가 있고, 열 전도성 조성물의 점도가 너무 높아 방열 패드 제조 과정에서 코터로 열 전도성 조성물을 이형지에 도포하는데 어려움이 발생할 수 있다. 또한, 경화형 결합제의 함량이 제1충전제 또는 (제1충전제 + 제2충전제)의 100 중량부 대비 40 중량부를 초과하는 경우 방열 패드의 열 전도도가 소정의 범위보다 낮아질 우려가 있다.In manufacturing the heat dissipation pad of the present invention, when using a thermally conductive composition containing only the first filler, the content of the curable binder is preferably 10 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the first filler, and the first filler and the agent In the case of using the thermally conductive composition including both the fillers, the content of the curable binder is preferably 10 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of (first filler + second filler). When the content of the curable binder is less than 10 parts by weight relative to 100 parts by weight of the first filler or the (first filler + second filler), the coupling between the fillers is not smoothly performed, and thus the quality of the heat radiation pad is deteriorated (for example, insufficient. Internal strength), and the viscosity of the thermally conductive composition is too high, which may cause difficulty in applying the thermally conductive composition to the release paper with a coater during the manufacturing of the heat radiation pad. In addition, when the content of the curable binder exceeds 40 parts by weight relative to 100 parts by weight of the first filler or the (first filler + second filler), the thermal conductivity of the heat radiation pad may be lower than a predetermined range.

본 발명에 따른 열 전도성 조성물은 구성성분으로서 충전제, 경화형 결합제 외에 휘발성 실리콘 오일, 및 경화반응 촉매를 더 포함한다. 휘발성 실리콘 오일은 유화제로서 열 전도성 조성물을 제조하는 과정에서 구성성분의 혼합을 원활하게 하 는 역할을 하고, 방열 패드의 제조 과정 중 경화 및 건조 단계에서 대부분이 제거된다. 경화반응 촉매는 통상적으로 공지되어 있는 것이라면 크게 제한되지 않으며, 바람직하게는 백금(Pt)을 사용한다.The thermally conductive composition according to the present invention further comprises a volatile silicone oil and a curing reaction catalyst in addition to the filler, the curable binder as a component. Volatile silicone oils act as an emulsifier to facilitate the mixing of the components in the manufacture of the thermally conductive composition, and most of them are removed during the curing and drying steps of the thermal pad. The curing reaction catalyst is not particularly limited as long as it is commonly known, and preferably platinum (Pt) is used.

본 발명의 다른 측면은 높은 열전도 효율을 가지는 방열 패드의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 방열 패드 제조방법은 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제, 결합제와 경화제의 혼합물로 이루어진 경화형 결합제, 휘발성 실리콘 오일, 및 경화반응 촉매를 혼합하여 열 전도성 조성물을 제공하는 단계; 및 코터로 상기 열 전도성 조성물을 이형지에 도포한 후 80~140℃의 온도 범위에서 경화 및 건조시키는 단계;를 포함한다. 또한, 열 전도성 조성물은 충전제로서 바람직하게는 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제와 함께 중심부가 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 제2충전제를 더 포함한다. 경화 및 건조시키는 단계를 거쳐 제조된 방열 패드를 실제로 전자제품에 적용하는 경우 이형지를 제거한 후 사용한다.Another aspect of the present invention relates to a method for manufacturing a heat radiation pad having high thermal conductivity, wherein the method for manufacturing a heat radiation pad according to the present invention is made of silver (Ag) particles at the center and a surface of a silver oxide film. Mixing a filler, a curable binder consisting of a mixture of a binder and a curing agent, a volatile silicone oil, and a curing reaction catalyst to provide a thermally conductive composition; And curing and drying at a temperature range of 80 to 140 ° C. after applying the thermally conductive composition to a release paper with a coater. In addition, the thermally conductive composition is preferably composed of silver (Ag) particles as the filler, and the core is composed of copper (Cu) particles and the surface is copper ( Cu) The second filler further comprises an oxide film. When the heat radiation pad manufactured through the curing and drying step is actually applied to electronic products, it is used after removing the release paper.

열 전도성 조성물을 이형지에 도포하는데 사용되는 코터에는 다이 코터, 콤마 코터, 블레이드 코터, 그라비아 코터 등이 있으며, 이중, 콤마 코터(comma coater)가 바람직하다. 콤마 코터(comma coater)는 높은 점도를 가진 용액 또는 페이스트를 코팅하는데 특히 유리하다.Coaters used to apply the thermally conductive composition to a release paper include die coaters, comma coaters, blade coaters, gravure coaters, and the like, of which double and comma coaters are preferred. Comma coaters are particularly advantageous for coating solutions or pastes with high viscosity.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 다만, 후술하는 실시예는 본 발명을 명확히 이해하기 위한 것일 뿐, 이에 의해 본 발명의 권리범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the embodiments to be described later are only for clearly understanding the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

*실시예 및 비교예에서 사용되는 용어의 설명* Explanation of terms used in Examples and Comparative Examples

제1충전제 : 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 충전제First filler: Filler consisting of silver (Ag) particles in the center and a silver oxide film on the surface

제2충전제 : 중심부가 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 충전제Second filler: filler consisting of copper (Cu) particles in the center and a copper (Cu) oxide film on the surface

제3충전제 : 중심부가 알루미늄(Al) 입자로 이루어지고 표면이 알루미늄(Al) 산화물 막으로 이루어진 충전제Third filler: Filler composed of aluminum (Al) particles in the center and aluminum (Al) oxide film on the surface

1. 방열 패드의 제조1. Manufacture of Heat Dissipation Pads

실시예 1.Example 1.

액상 실리콘 수지 100g에 경화제 100g을 첨가하고 혼합하여 경화형 결합제를 준비하였다. 경화형 결합제에 제1충전제(Ferro사 제품; 평균 입경 약 40 ㎛, 산화막 평균 두께 약 900 nm) 600g, 휘발성 실리콘 오일 48g, 백금 촉매 3.4g을 첨가하고 약 60분간 교반시켜 열전도성 조성물을 제조하였다. 콤마 코터로 열전도성 조성물을 이형지위에 도포하고, 120℃의 건조로에 10분간 통과시켜 경화 반응 및 건조를 진행한 후, 두께가 약 1 ㎜인 방열 패드를 제조하였다.A hardening binder was prepared by adding 100 g of a curing agent to 100 g of liquid silicone resin and mixing the mixture. To the curable binder, 600 g of a first filler (average particle size: about 40 μm, oxide average thickness: about 900 nm), 48 g of volatile silicone oil, and 3.4 g of platinum catalyst were added and stirred for about 60 minutes to prepare a thermally conductive composition. The heat conductive composition was apply | coated to a release paper with a comma coater, it passed through the drying furnace of 120 degreeC for 10 minutes, hardening reaction and drying, and the heat radiation pad which is about 1 mm in thickness was manufactured.

실시예 2.Example 2.

충전제로 제1충전제 300g과 제2충전제(Ferro사 제품; 평균 입경 약 35 ㎛, 산화막 평균 두께 약 1000 nm) 300g을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하다.It is the same as Example 1 except having used 300 g of the 1st filler and 300 g of the 2nd fillers (made by Ferro company; average particle diameter about 35 micrometers, oxide thickness about 1000 nm).

비교예 1.Comparative Example 1.

충전제로 제3충전제(Ferro사 제품; 평균 입경 약 30 ㎛, 산화막 평균 두께 약 1000 nm) 600g을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하다.It was the same as Example 1 except having used 600 g of 3rd fillers (the Ferro company make; average particle diameter about 30 micrometers, oxide film average thickness about 1000 nm).

2. 방열 패드의 열 전도도 분석2. Thermal Conductivity Analysis of the Thermal Pads

실시예 1 내지 2 및 비교예 1에서 제조한 방열 패드의 열 전도도를 ASTM E1461법에 의거하여 측정하였다. 실시예 1에서 제조한 방열 패드의 열 전도도는 6 W/mK 이고, 실시예 2에서 제조한 방열 패드의 열 전도도는 5.5 W/mK 이었다. 반면, 비교예 1에서 제조한 방열 패드의 열 전도도는 2 W/mK로 본 발명의 실시예에 비해 현저히 낮은 값을 나타내었다.The thermal conductivity of the heat radiation pads prepared in Examples 1 to 2 and Comparative Example 1 was measured based on the ASTM E1461 method. The thermal conductivity of the heat radiation pad prepared in Example 1 was 6 W / mK, and the thermal conductivity of the heat radiation pad prepared in Example 2 was 5.5 W / mK. On the other hand, the thermal conductivity of the heat radiation pad prepared in Comparative Example 1 was 2 W / mK showed a significantly lower value than the embodiment of the present invention.

Claims (13)

중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제, 및 경화형 결합제를 포함하는 열 전도성 조성물로 성형된 방열 패드.A heat dissipation pad formed of a thermally conductive composition comprising a first filler made of silver (Ag) oxide film having a central portion composed of silver (Ag) particles and an average thickness of 500 nm or more, and a curable binder. 제 1항에 있어서, 경화형 결합제의 함량은 제1충전제의 100 중량부 대비 10 내지 40 중량부인 것을 특징으로 하는 방열 패드. The heat dissipation pad according to claim 1, wherein the content of the curable binder is 10 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the first filler. 제 1항에 있어서, 상기 열 전도성 조성물은 중심부가 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 제2충전제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방열 패드.The heat radiation pad according to claim 1, wherein the thermally conductive composition further comprises a second filler made of a copper (Cu) oxide film having a central portion made of copper (Cu) particles and having an average thickness of 500 nm or more. 제 3항에 있어서, 경화형 결합제의 함량은 (제1충전제 + 제2충전제)의 100 중량부 대비 10 내지 40 중량부인 것을 특징으로 하는 방열 패드. The heat dissipation pad according to claim 3, wherein the content of the curable binder is 10 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of (the first filler + the second filler). 제 3항에 있어서, 제2충전제의 함량은 제1충전제의 100 중량부 대비 50 내지 200 중량부인 것을 특징으로 하는 방열 패드.The heat dissipation pad according to claim 3, wherein the content of the second filler is 50 to 200 parts by weight relative to 100 parts by weight of the first filler. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1충전제 또는 제2충전제는 중심부의 평균 입경이 5~200 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 방열 패드.The heat dissipation pad according to any one of claims 1 to 5, wherein the first filler or the second filler has an average particle diameter of 5 to 200 µm at the center portion. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 경화형 결합제는 실리콘 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리이소프렌 수지, 천연고무 수지, 폴리비닐클로라이드 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리비닐리덴클로라이드 수지, 및 이들의 가소화된 수지로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 결합제와 경화제의 혼합물인 것을 특징으로 하는 방열 패드.The curable binder according to any one of claims 1 to 5, wherein the curable binder is silicone resin, polyurethane resin, polybutadiene resin, polyisoprene resin, natural rubber resin, polyvinyl chloride resin, polyethylene resin, polypropylene resin, poly And a mixture of at least one binder and a curing agent selected from the group consisting of vinylidene chloride resins and plasticized resins thereof. 제8항에 있어서, 상기 경화제의 함량은 결합제 100 중량부 대비 50 내지 150 중량부인 것을 특징으로 하는 방열 패드. The heat dissipation pad according to claim 8, wherein the amount of the curing agent is 50 to 150 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 열 전도성 조성물은 휘발 성 실리콘 오일, 및 경화반응 촉매를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방열 패드.The heat dissipation pad according to any one of claims 1 to 5, wherein the thermally conductive composition further comprises a volatile silicone oil and a curing reaction catalyst. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방열 패드는 열 전도도가 5 W/mK 이상인 것을 특징으로 하는 방열 패드.The heat radiation pad according to any one of claims 1 to 5, wherein the heat radiation pad has a thermal conductivity of 5 W / mK or more. 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제, 결합제와 경화제의 혼합물로 이루어진 경화형 결합제, 휘발성 실리콘 오일, 및 경화반응 촉매를 혼합하여 열 전도성 조성물을 제공하는 단계; 및By mixing a first filler consisting of silver (Ag) oxide film having a central portion of silver (Ag) particles and an average thickness of 500 nm or more, a curable binder composed of a mixture of a binder and a curing agent, a volatile silicone oil, and a curing reaction catalyst Providing a thermally conductive composition; And 코터로 상기 열 전도성 조성물을 이형지에 도포한 후 80~140℃의 온도 범위에서 경화 및 건조시키는 단계;를 포함하는 방열 패드의 제조방법.After coating the thermally conductive composition on a release paper with a coater and curing and drying at a temperature range of 80 ~ 140 ℃; manufacturing method of a heat radiation pad comprising a. 중심부가 은(Ag) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 은(Ag) 산화물 막으로 이루어진 제1충전제, 중심부가 구리(Cu) 입자로 이루어지고 표면이 평균 두께 500 ㎚ 이상인 구리(Cu) 산화물 막으로 이루어진 제2충전제, 결합제와 경화제의 혼합물로 이루어진 경화형 결합제, 휘발성 실리콘 오일, 및 경화반응 촉매를 혼합하여 열 전도성 조성물을 제공하는 단계; 및A first filler consisting of silver (Ag) oxide film having a central portion of silver (Ag) particles and an average thickness of 500 nm or more, and a copper (Cu) having a central portion of copper (Cu) particles and a surface having an average thickness of 500 nm or more Mixing a second filler comprising an oxide film, a curable binder consisting of a mixture of a binder and a curing agent, a volatile silicone oil, and a curing reaction catalyst to provide a thermally conductive composition; And 코터로 상기 열 전도성 조성물을 이형지에 도포한 후 80~140℃의 온도 범위에서 경화 및 건조시키는 단계;를 포함하는 방열 패드의 제조방법.After coating the thermally conductive composition on a release paper with a coater and curing and drying at a temperature range of 80 ~ 140 ℃; manufacturing method of a heat radiation pad comprising a. 제 11항 또는 제 12항에 있어서, 코터는 콤마 코터인 것을 특징으로 하는 방열 패드의 제조방법.The method of claim 11 or 12, wherein the coater is a comma coater.
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