KR20100115475A - Wafer distributing apparatus for having double stage and method of distributing the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A wafer distributing device with a double stage and a method for distributing a wafer using the same are provided to supply a dumping module with a dumping interval changed according to a space between carriers. CONSTITUTION: A wafer distributing device with a double stage includes an external casing(10), first and second stages(21,22), first to third moving members(51,52,53), and a dumping module. The first and second stages are installed on both sides of the external casing in parallel. The first and second moving members are installed behind the first and second stages. The third moving member receives a ball nut of the first and second moving members and moves between the first and second moving members. The dumping module is fixed to the upper side of the third moving member and dumps the wafer.

Description

더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치와 이를 이용한 웨이퍼 분배방법{Wafer distributing apparatus for having double stage and method of distributing the same}Wafer distributing apparatus for having double stage and method of distributing the same}

본 발명은 더블 스테이지(Double stage)를 통하여 웨이퍼의 두께에 따른 캐리어(carrier)가 P.P 캐리어(이펙터 간격이 6.3mm)인 덤핑모듈(dumping module)을 제공하며, 동시에 엔드이펙터(end effector)의 간격을 10mm로 하는 FOSB로 간격이 가변되는 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치와 이를 이용한 웨이퍼 분배방법에 관한 것이다. The present invention provides a dumping module in which a carrier according to the thickness of a wafer is a PP carrier (6.3 mm of effector spacing) through a double stage, and at the same time an end effector spacing. The present invention relates to a wafer dispensing apparatus having a double stage having a variable space at a FOSB of 10 mm, and a wafer distributing method using the same.

더블 포트의 웨이퍼 분배방식으로 알려진 종래 공개특허 10-2007-0028525호의 웨이퍼 분배장치는 The wafer dispensing apparatus of the prior art Patent Publication No. 10-2007-0028525 known as a double port wafer distribution method

웨이퍼 오염의 최소화를 높이기 위해서는 웨이퍼가 오염에 노출되는 시간을 최소화하기 위하여 표준화된 프론트 개방 통일 포드(front opening unified pods, FOUPs)를 이용하는 것이 있다. 주변 환경(가령, 클린 룸)에 대한 웨이퍼의 노출을 최소화하는 다른 접근으로는 전체 카세트 또는 웨이퍼의 FOUP를 수용할 수 있는 대용량 로드락 챔버(가령 25개의 웨이퍼)를 사용하는 것이 있다. 그러나, 대용량 로 드락 챔버(load lockchamber)는 복잡하고 보다 큰 부피를 차지하는 엘리베이터 기구를 필요로 하는 것을 포함하여 다수의 문제를 야기한다.To minimize wafer contamination, use standardized front opening unified pods (FOUPs) to minimize the time the wafer is exposed to contamination. Another approach to minimizing the exposure of the wafer to the surrounding environment (eg, clean room) is to use a large load lock chamber (eg, 25 wafers) that can accommodate the entire cassette or FOUP of the wafer. However, large load lockchambers cause a number of problems, including the need for complicated and larger volume elevator mechanisms.

이것을 개선하기 위하여 제 1포트 및 제 2포트를 갖는 제 1로드락 챔버를 포함하고, 제 1축은 제 1포트에 수직이며 제2축은 제 2포트에 수직인 로드락 시스템이 제공된다. To improve this, there is provided a load lock system comprising a first load lock chamber having a first port and a second port, the first axis being perpendicular to the first port and the second axis being perpendicular to the second port.

한편, 종래에 등록특허 10-0827676로 알려진 분배장치는 첨부 도면 도 1a,도 1b에서 도시하는 바와 같이 외부로부터 웨이퍼를 이송하는 EFEM(Equipment Front End Module);진공과 대기압으로 압력을 변화시키며, 상기 EFEM으로부터 웨이퍼를 이송하는 로드락 모듈; 및 상기 로드락 모듈로부터 웨이퍼를 이송받아 소정의 공정을 진행하는 프로세스 모듈을 구비하고, 상기 EFEM과 상기 로드락 모듈 간의 웨이퍼 이송은 대기압에서 진행되고, 상기 로드락 모듈과 프로세스 모듈 간의 웨이퍼 이송은 진공에서 진행되데, 상기 로드락 모듈은 수평면에서 직선운동 및 회전운동을 통하여 상기 EFEM과 상기 프로세스 모듈 간에 웨이퍼를 이송하는 로봇부;상기 로봇부가 상기 EFEM으로부터 상기 프로세스 모듈로 웨이퍼를 이송할 때 상기 로봇부로부터 웨이퍼가 안착되면서 업(up)하여 웨이퍼를 상기 로봇부로부터 이격시키는 로우어 슬롯(lower slot);상기 로봇부가 상기 프로세스 모듈로부터 상기 EFEM으로 웨이퍼를 이송할 때 상기 로봇부로부터 웨이퍼가 안착되면서 업(up)하여 웨이퍼를 상기 로봇부로부터 이격시키는 어퍼 슬롯(upper slot)을 구비하고,상기 로봇부, 로우어 슬롯, 어퍼 슬롯 각각은 다른 높이에 위치하고 있으며, 외부의 제어부에 의해 각각의 동작이 제어되는 웨이퍼 이송장치이다.On the other hand, the distribution device known in the prior art Patent Registration 10-0827676 is an EFEM (Equipment Front End Module) for transferring the wafer from the outside as shown in the accompanying drawings, Figure 1a, Figure 1b; A load lock module for transferring wafers from the EFEM; And a process module for receiving a wafer from the load lock module and performing a predetermined process, wherein the wafer transfer between the EFEM and the load lock module is performed at atmospheric pressure, and the wafer transfer between the load lock module and the process module is vacuum. The load lock module is a robot unit for transferring a wafer between the EFEM and the process module through a linear motion and a rotational movement in a horizontal plane; the robot unit when the robot transfers the wafer from the EFEM to the process module A lower slot that spaces the wafer away from the robot unit while the wafer is seated from the robot unit; and a wafer is seated from the robot unit when the robot unit transfers the wafer from the process module to the EFEM. (up) an upper slot that separates the wafer from the robot portion and a robot unit, a lower slot, and an upper slot, each of which is positioned at a different height, and is controlled by an external control unit.

이것은 일종의 로봇암과 같은 관절구조를 갖고 그 기단부에 엔드이펙터를 장치한 것으로, 로봇암의 이동궤적을 구현할 공간을 필요로 하며, 한 장의 웨이퍼 이송에는 탁월하지만 다수 웨이퍼를 동시에 분배하거나 1장,2장..등으로 웨이퍼를 선택하여 다른 포트로 분해 이송하기 위한 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치로는 부적당하였다.It has a joint structure like a robot arm and has an end effector at its proximal end. It requires space to realize the movement trajectory of the robot arm. It was unsuitable for a wafer dispensing apparatus having a stage for selecting and transferring wafers to other ports for example.

본 발명은 웨이퍼의 낱장 분배가 가능한 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치를 제공하는 데에 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a wafer dispensing apparatus having a double stage capable of dispensing a sheet of wafer.

아울러 PP캐리어에서 FOSB로 웨이퍼를 분배하기 위하여 가변하는 경우, 혹은 PP캐리어를 타측 스테이지의 포트로 옮겨 담는 경우등 다양한 사이즈의 웨이퍼 이송포트(캐리어라고도 함)내의 웨이퍼를 1매 ,2매,3매...12매,24매 등의 필요한 맷수로 다른 스테이지의 포트로 옮겨 담는 웨이퍼 분배장치와 이를 이용한 웨이퍼 분배방법를 제공하는 데에 그 목적이 있다.In addition, one, two, or three wafers in various sizes of wafer transfer ports (also called carriers), such as those that vary in order to distribute wafers from the PP carrier to the FOSB, or move the PP carrier to ports on the other stage. It is an object of the present invention to provide a wafer dispensing apparatus and a wafer dispensing method using the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치에 있어서,In the wafer dispensing apparatus having a double stage of the present invention for achieving the above object,

받침대와, 상기 받침대 위에 양측에 나란하게 설치되는 제1, 제2스테이지와,상기 제1,제2스테이지의 후방에 설치되며, 각각 구동모터와, 이 구동모터들의 구동축에 설치되는 볼스크류들과, 이 볼스크류들에 나사맞춤되는 볼너트 및 엘엠가이드 들로서 이동가능하게 설치되는 제1, 제2 이동부재와, 상기 제1,제2이동부재의 볼너트를 수용하여 전,후진 이동가능하게 상기 제1,제2이동부재 사이에 설치됨과 아울러 독립적으로 좌,우 방향 이동가능하도록 구동모터, 이 구동모터의 구동축에 설치되는 볼스크류, 이 볼스크류에 나사맞춤되는 볼너트 및 엘엠가이드들로서 이동가능하게 설치되는 제3 이동부재와,상기 제3이동부재의 상방에 고정되며 웨이퍼의 덤핑을 수행하는 웨이퍼 분배 모듈을 포함하는 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치로서 달성된다.A pedestal, first and second stages installed side by side on both sides of the pedestal, and installed at the rear of the first and second stages, respectively, with a drive motor and ball screws installed on the drive shafts of the drive motors; The first and second moving members are installed to be movable as ball nuts and LM guides screwed to the ball screws, and the ball nuts of the first and second moving members are accommodated to move forward and backward. The drive motor is installed between the first and second moving members and is independently movable to the left and right directions, and is movable as a ball screw installed on the drive shaft of the drive motor, a ball nut screwed to the ball screw, and an EL guide. It is achieved as a wafer dispensing apparatus having a double stage including a third moving member which is installed so as to be installed, and a wafer dispensing module fixed above the third moving member and performing a dumping of the wafer.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 상기 덤핑모듈은,The dumping module of the wafer distribution device having a double stage of the present invention for achieving the above object,

상부,측면 및 하부를 형성하는 케이싱과, 상기 케이싱의 상,하부사이에 회동가능하게 고정된 중심 회동축(스크류바); 소정의 동력에 의하여 회전력을 가지며, 상,하단에 베어링을 통하여 지지되는 회동축; 상기 회동축과 나사맞춤되도록 볼너트로 연결되어 승,하강이 이루어지는 승강플레이트; 상기 회동축이 중심을 관통하고, 상기 승강플레이트의 승,하강력에 따라 승,하강되도록 상기 승강플레이트로 부터 차례로 소정간격위치 함과 아울러 걸림턱부를 형성하여 천공된 걸림공을 형성한 제1,제2,제3....제n번째 플레이트; 상기 승강플레이트, 제1,제2,제3....제n번째 플레이트들을 승,하강되도록 안내하는 가이드바; 상기 승강플레이트의 승,하강에 의하여 제1,제2,제3...제n플레이트가 차례로 승하강되도록 상기 승강플레이트로 부터 제1플레이트 사이에 코일스프링을 개재시켜 고정되는 고정부재; 상기 승강플레이트들의 측면에서 수평 연결되는 엔드 이펙터들; 및 상기 제1,제2,제3...제n플레이트중 위에 위치하는 플레이트의 상승시 걸림턱부에 걸리도록 헤드부를 형성하고, 그 하단은 제1,제2,제3....제n플레이트중 아래에 위치하는 플레이트에 고정되어 2개씩의 플레이트들 사이에 걸쳐 연결되는 순차적 연결부재를 포함한다.A casing forming an upper portion, a side portion, and a lower portion, and a center pivot shaft (screw bar) fixedly rotatable between upper and lower portions of the casing; A rotating shaft having a rotational force by a predetermined power and supported by bearings at upper and lower ends thereof; An elevating plate connected to a ball nut so as to be screwed with the pivot shaft, the elevating plate configured to move up and down; The rotation shaft penetrates the center and is positioned in predetermined intervals from the lifting plate in order to move up and down according to the lifting and lowering force of the lifting plate, and a locking jaw is formed to form a locking hole. Second, third ... nth plate; A guide bar for guiding the elevating plate, the first, second, and third ... nth plates to move up and down; A fixing member fixed to the first plate by a coil spring between the first plate and the first plate so that the first, second, third, ..., n-th plates are raised and lowered in turn by the lifting and lowering of the lifting plate; End effectors horizontally connected at sides of the elevating plates; And a head part to be caught by a latching jaw when the plate positioned above the first, second, third ... n-plate is raised, and the lower end thereof is formed of the first, second, third ... It includes a sequential connecting member is fixed to the plate located below the n plate is connected between the two plates each.

본 발명은 웨이퍼의 두께에 따른 캐리어가 200미리 PP 캐리어(이펙터 간격이 6.3mm)인 덤핑모듈을 제공하며, 동시에 엔드이펙터의 간격을 10미리로 하는 200mmFOSB로 간격이 가변되는 덤핑 모듈을 제공하게 된다.The present invention provides a dumping module whose carrier is 200mm PP carrier (effector spacing is 6.3mm) according to the thickness of the wafer, and at the same time provides a dumping module having a variable spacing of 200mmFOSB having an end effector spacing of 10mm. .

즉, 본 발명은 6.3미리에서 6.3미리로 1:1 덤핑하는 경우와, 10미리에서 10미리로 1:1덤핑할 경우와, 6.3 미리에서 10미리로 캐리어의 간격에 따라 덤핑간격이 가변되는 덤핑모듈을 제공하는 효과를 갖는다.That is, in the present invention, when dumping 1: 1 from 6.3mm to 6.3mm, when dumping 1: 1 from 10mm to 10mm, and dumping intervals varying depending on the carrier spacing from 6.3mm to 10mm Has the effect of providing modules.

첨부 도면중 도 2a,2b는 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 외관을 보인 사시도와 일부를 개방한 사시도이고, 도 3은 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 이송부를 발췌한 요부사시도이다. 2A and 2B are a perspective view showing an external appearance of a wafer dispensing apparatus having a double stage of the present invention and an open perspective view, and FIG. 3 is an essential part perspective view taken from a transfer part of the wafer dispensing apparatus having a double stage of the present invention. .

이 도면들에 따르는 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치는 크게 외부 케이싱(10)과, 더블 스테이지(20)와, 매핑부(30)와, 덤핑모듈(40)과, 이송부(50)로 이루어진다.The wafer dispensing apparatus having a double stage of the present invention according to these drawings is composed of an outer casing 10, a double stage 20, a mapping unit 30, a dumping module 40, and a conveying unit 50. .

먼저, 외부 케이싱(10)은 소정의 프레임들(11)과, 이 프레임(11)에 부착된 커버부재(12)들로 이루어진다. First, the outer casing 10 is composed of predetermined frames 11 and cover members 12 attached to the frame 11.

더블 스테이지(20)는 외부 케이싱(10)의 전방에 설치되어 양측으로 나란하게 설치되는 제1, 제2스테이지(21)(22)로 분리된다.The double stage 20 is separated into first and second stages 21 and 22 that are installed in front of the outer casing 10 and are installed side by side on both sides.

매핑부(30)는 전방의 더블 스테이지(20)와,후방의 이송부(50)위에 설치된 덤핑모듈(40)사이의 도어내측에 각각 설치된다.The mapping unit 30 is installed inside the door between the front double stage 20 and the dumping module 40 installed on the rear transfer unit 50.

덤핑모듈(40)은 다수의 웨이퍼를 덤핑하기 위한 다수 웨이퍼 동시 덤핑구조로서 케이싱내에 회동축, 승강플레이트,다수 플레이트,고정부재, 연결부재들이 조립 구성되어 소정의 높이로 승하강되는 독립적인 장치를 구성하는 것으로 구체적인 구성과 작동은 후술한다.The dumping module 40 is a multi-wafer simultaneous dumping structure for dumping a plurality of wafers, and an independent apparatus in which a rotating shaft, a lifting plate, a plurality of plates, a fixing member, and a connecting member are assembled and lowered to a predetermined height is assembled in the casing. Specific configuration and operation will be described later.

이송부(50)은 제1, 제2 이동부재(51)(52)와, 상기 덤핑모듈(40)이 탑재되는 제3 이동부재(53)로 이루어지며 구체적인 구성 및 작동은 후술한다.The transfer part 50 is composed of first and second moving members 51 and 52 and a third moving member 53 on which the dumping module 40 is mounted, and its specific configuration and operation will be described later.

첨부 도면중 도 4a,도 4b,도 4c는 본 발명 덤핑모듈의 일부를 생략한 발췌사시도이고, 도 4d는 본 발명 덤핑모듈의 일부 생략한 요부 발췌 사시도이고, 도 4e는 본 발명 덤핑모듈의 요부 확대 단면도이다.4A, 4B, and 4C of the accompanying drawings are excerpts perspective views omitting a part of the present dumping module, and FIG. 4D is a perspective view of an excerpt of a part of the present dumping module, and FIG. 4E is a main part of the present dumping module. It is an enlarged cross section.

상기 도면들에 따르는 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 덤핑모듈(40)은,The dumping module 40 of the wafer dispensing apparatus having the double stage of the present invention according to the drawings,

상부,하부 및 측면부를 커버하는 케이싱(41)과, 상기 케이싱(41)의 상,하부사이에 베어링(432)을 설치하여 회동가능하게 고정되며, 측면부의 구동모터,벨트,풀리들(도시생략함)로서 회전력이 전달되는 회동축(43)과, 후술하는 승강플레이트(44)와 다수 플레이트들(45)의 승,하강시 이를 안내하도록 플레이트들(44)(45)의 중간 소정위치에 다수 수직 설치된 가이드바(46)와, 상기 승강플레이트(44)로 부터 맨위의 플레이트(45) 사이에 코일스프링(472)을 개재시켜 소정 간격의 승강 탄력을 발생하도록 고정되는 고정부재(47)와, 상기 플레이트들(44)(45)의 측면에서 수평 연결되어 웨이퍼를 덤핑하는 다수의 엔드 이펙터들(48)과, 상기 플레이트들(45)사이에서 2개씩의 플레이트(45)들 사이사이에 걸쳐 연결되어 상기 승강플레이트(44)와 제1 플레이트(45)사이에서 소정 간격의 승강탄력이 발생하면 순차적으로 간격을 좁히거나 넓히도록 작동하는 연결부재(49)를 형성하여서 된다.A casing 41 covering the upper, lower and side portions, and a bearing 432 between the upper and lower portions of the casing 41 are rotatably fixed, and the driving motor, the belt, and the pulleys of the side portion are omitted. A plurality of pivot shafts 43 to which rotational force is transmitted, and a plurality of plates 44 and 45 to guide the lifting shaft 44 and the plurality of plates 45 to be moved up and down, which will be described later. A fixing member 47 fixed between the guide bar 46 installed vertically and the lifting plate 44 and the coil spring 472 interposed between the lifting plate 44 to generate lifting elasticity of a predetermined interval; A plurality of end effectors 48 which are horizontally connected at the sides of the plates 44 and 45 to dump the wafer and between two plates 45 between the plates 45 And a predetermined interval between the lifting plate 44 and the first plate 45 When the elevating elasticity is generated by forming a connecting member 49 that operates to sequentially narrow or widen the interval.

특히, 상기 승강플레이트(44)는 상기 회동축(43)과 나사맞춤되도록 볼너트(442)로 연결되어 초기 회동축(43)으로 부터 회전력을 받아 승,하강이 이루어지는 구조이다.In particular, the lifting plate 44 is connected to the ball shaft 442 so as to be screwed with the rotation shaft 43 is a structure that is lifted, lowered by receiving a rotational force from the initial rotation shaft (43).

상기 다수의 플레이트(45)들은 상기 회동축(43)이 중심을 관통하고, 상기 승강플레이트(44)의 승,하강력에 따라 승,하강되도록 상기 승강플레이트(44)로 부터 차례로 소정간격위치 함과 아울러 걸림턱부(451)를 형성하여 천공된 걸림공(452)을 형성한 제1,제2,제3....제n개의 다수 플레이트들(45)로 이루어진다.The plurality of plates 45 are sequentially spaced from the elevating plate 44 such that the pivot shaft 43 penetrates a center thereof and ascends and descends according to the elevating and descending force of the elevating plate 44. And the first, second, third, ..., n-th plurality of plates 45 forming the locking jaw portion 451 to form the perforated locking holes 452.

상기 가이드바(46)은 승강플레이트(44)와, 다수 플레이트들(45)을 승,하강하도록 안내하며, 소정 위치에서 관통공을 형성하여서 된다.The guide bar 46 guides the lifting plate 44 and the plurality of plates 45 to move up and down, and forms a through hole at a predetermined position.

상기 고정부재(47)은 승강플레이트(44)의 승,하강에 의하여 제1,제2,제3...제n플레이트(45)가 차례로 승하강되도록 상기 승강플레이트(44)로 부터 제1플레이트(45) 사이에 코일스프링(472)을 개재시켜 고정된다.The fixing member 47 is firstly moved from the elevating plate 44 such that the first, second, third, ... n-th plates 45 are raised and lowered in order by raising and lowering the elevating plate 44. The coil spring 472 is interposed between the plates 45 to fix it.

상기 순차적 연결부재(49)는 상기 제1,제2,제3...제n플레이트중 위에 위치하는 플레이트(45)의 상승시 걸림턱부(451)에 걸리도록 헤드부(492)를 형성하고, 그 하단은 제1,제2,제3....제n플레이트들(45)중 아래에 위치하는 플레이트들(45)에 고 정되어 2개씩의 플레이트(45)들이 사이사이에 걸쳐 연결되므로서 제1플레이트(45)가 제2플레이트(45)를 소정 간격을 상승시키거나 하강시키는 순차적인 승하강 연결기능을 갖는다.The sequential connecting member 49 forms a head portion 492 to be caught by the catching jaw portion 451 when the plate 45 positioned above the first, second, third, ... n-th plate is raised. The lower end is fixed to the plates 45 positioned below one of the first, second, third, ... n-th plates 45 so that two plates 45 are connected therebetween. Therefore, the first plate 45 has a sequential lifting connection function of raising or lowering the second plate 45 by a predetermined interval.

이와 같이 이루어진 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 덤핑모듈의 작용은 아래와 같다.The operation of the dumping module of the wafer distribution device having the double stage of the present invention made as described above is as follows.

본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치는 소정의 제어회로를 통하여 이송부(50)와 덤핑모듈(40)의 구동모터를 구동함으로 시작된다. The wafer dispensing apparatus having the double stage of the present invention starts by driving the drive motor of the transfer section 50 and the dumping module 40 through a predetermined control circuit.

아울러 PP캐리어에서 FOSB로 웨이퍼를 분배하기 위하여 가변하는 경우, 혹은 PP캐리어를 타측 스테이지의 포트로 옮겨 담는 경우등 다양한 사이즈의 웨이퍼 이송포트(캐리어라고도 함)내의 웨이퍼를 1매 ,2매,3매...12매,24매 등의 필요한 맷수로 다른 스테이지의 포트로 옮겨 담게 되는 것으로 그동안 이송암(arm)을 주로 적용하여 왔으나, 이송궤적을 보장하는 공간의 확보상의 문제와 다수 웨이퍼의 동시 이송의 문제를 만족시키지 못하던 점을 개선하는 것이다.In addition, one, two, or three wafers in various sizes of wafer transfer ports (also called carriers), such as those that vary in order to distribute wafers from the PP carrier to the FOSB, or move the PP carrier to ports on the other stage. The transfer arm is mainly applied to the ports of different stages in the required number of sheets, such as 12 or 24 sheets, but the transfer arm has been mainly applied. It is to improve the problem that did not satisfy the problem.

즉, 회동축(43)이 제1방향 회전하면 승강플레이트(44)의 볼너트(442)로 맞물린 상태로 승강플레이트(44)는 하강된다. 승강플레이트(44)의 하강으로 스프링(472)이 직하방의 제1플레이트(45)를 탄압하여 그 간격(a)을 좁혀 하강되며, 이러한 제1플레이트(44)의 하강은 직하방의 제2,제3...제n플레이(45)를 차례로 눌러 미세한 시간차를 두고 하강이 거의 동시에 이루어진다. 이것은 전체 플레이트(45)의 전체 하강상태를 얻게 되지만 상기 승강플레이트(44)의 하강력에 따라서는 제1플레이트만 혹은 제1,제2플레이트만, 혹은 n개의 플레이트(45)를 순차적으로 혹은 동시에 하강시킬 수 있다. 이것은 스크류바인 회동축(43)의 회전시간에 따라 승강플레이트(44)의 하강거리가 결정되므로 회동축(43)의 회전시간을 조정함에 따라 선택적으로 1개,2개,3개...n개의 플레이트(45) 하강이 가능하게 되는 것이다.That is, when the rotation shaft 43 rotates in the first direction, the lifting plate 44 is lowered while being engaged with the ball nut 442 of the lifting plate 44. The spring 472 suppresses the first plate 45 directly below by the lowering of the elevating plate 44 to narrow the gap a, and the lowering of the first plate 44 is lowered. 3. Pressing the n-th play (45) in sequence, the descent is made almost simultaneously with a slight time difference. This results in an overall lowered state of the entire plate 45, but depending on the lowering force of the elevating plate 44, only the first plate, only the first and second plates, or the n plates 45 are sequentially or simultaneously. Can be lowered. This is because the descending distance of the elevating plate 44 is determined according to the rotation time of the screwvine rotating shaft 43, and optionally, one, two, three ... n Two plates 45 can be lowered.

즉, 4군데에 고정된 연결부재(49)를 하강시킴과 동시에 제1,제3플레이트(45)사이에 위치하고 상기 연결부재(49)가 관통되어 자유로운 승하강이 가능한 제2플레이트(45)를 눌러 같이 하강된다. 이때 하강의 속도는 가이드바(46)과의 미끄럼 정도에 따라 빠르거나 느리게 된다. 이러한 제1,제2플레이트(45)의 하강과 아울러 제3플레이트(45) 역시 제4플레이트와의 사이에 연결부재(49)로서 연결되어 있으므로 차례로 제n번째플레이트까지 작동이 이루어진다. That is, while lowering the connecting member 49 fixed in four places and at the same time between the first and third plates 45, the connecting member 49 penetrates the second plate 45 which can be freely raised and lowered Press down to descend. At this time, the speed of descending is fast or slow depending on the degree of sliding with the guide bar 46. In addition to the lowering of the first and second plates 45, the third plate 45 is also connected to the fourth plate as the connecting member 49, so that the operation to the nth plate is performed in turn.

하강된 플레이트(45)들의 상승은 회동축(43)의 제2방향(반대방향)회전으로 하강된 승강플레이트(44)에 의하여 탄성적으로 눌려진 제1플레이트(45)가 먼저 원복되면서,제2...제n플레이트(45)들이 차례로 상승하게 된다.As the lift of the lowered plate 45 is first retracted by the first plate 45 elastically pressed by the lifting plate 44 lowered in the second direction (counter direction) rotation of the pivot shaft 43, the second ... the n-th plates 45 are raised in sequence.

즉, 회동축(43)이 제2방향 회전하면 이에 맞물린 볼너트(442)일체의 승강플레이트(44)가 상승하게 되며, 승강플레이트(44)의 상승으로 스프링(472)에 의하여 탄압되어 있던 하방의 제1플레이트(45)가 스프링(472)탄력으로 원위치로 소정 간격 상승하게 되고, 이 제1플레이트(45)에는 이 플레이트(45)의 상승시 걸림턱부(451)에 연결부재(49)의 헤드부(492)가 걸려 그 하단의 다른 제2플레이트(45)를 끌고 동반 상승하게 되고, 이어서 제2플레이트(45)는 다시 직하방의 플레이트(45)를 끌고 상승하고, 그 다음 플레이트들도 같은 방식으로 --플레이트들(45)끼리 2개씩의 플레이트(45)들이 사이사이에 걸쳐 연결되므로서 제1플레이트(45)가 제2플레이트(45) 를, 제2플레이트(45)가 제3플레이트를, 제3플레이트가 제4플레이트를--각각 소정 간격 상승시켜 거의 동시에 다수 플레이트들(45)의 상승이 이루어지게 된다.That is, when the rotation shaft 43 rotates in the second direction, the lifting plate 44 of the whole ball nut 442 engaged with the rotation shaft 43 is raised, and the downward movement of the lifting shaft 44 is suppressed by the spring 472 due to the lifting of the lifting plate 44. The first plate 45 of the spring 472 is resilient to the original position by a predetermined interval, the first plate 45 of the connecting member 49 to the engaging jaw portion 451 when the plate 45 is raised. The head 492 is caught and pulls up another second plate 45 at the bottom thereof, and then the second plate 45 again raises and pulls up and down the plate 45 directly, and then the plates are the same. In this manner, the plates 45 are connected to each other between the plates 45 so that the first plate 45 is the second plate 45 and the second plate 45 is the third plate. The third plate raises the fourth plate--each a predetermined interval, so that at the same time multiple plates ( 45) is made to rise.

이것은 후술하는 바와 같이 다수 플레이트들(45)의 연결부(452)에 연결된 엔드이펙터들(48)이 포트내 웨이퍼들을 싣거나 탑재된 웨이퍼를 내려놓는 작용인 것이다.This is a function of the end effectors 48 connected to the connection portion 452 of the plurality of plates 45 to load the wafers in the port or to lower the mounted wafers, as described below.

첨부 도면중 도 5a 내지 도 5d는 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 매핑작동을 설명한다.5A to 5D of the accompanying drawings illustrate the mapping operation of the wafer dispensing apparatus having the double stage of the present invention.

본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 매핑부(30)는 도 5a 내지도 5d에서 도시하는 바에 따라 설명하면 크게 프레임(310)과, 매핑패널(320)과, 구동부(330)로 이루어진다.The mapping unit 30 of the wafer dispensing apparatus having the double stage according to the present invention includes a frame 310, a mapping panel 320, and a driving unit 330 as illustrated in FIGS. 5A to 5D.

프레임(310)은 도어홀더측에 고정되고 상단 양측에 가이드바(312)를 마련하고, 후방에 모터(314)와, 이 모터(314)에 의하여 회전하는 피니언기어(316)를 구비하여서 된다.The frame 310 is provided with a guide bar 312 fixed to the door holder side and on both sides of the upper end, and provided with a motor 314 and a pinion gear 316 rotated by the motor 314 at the rear.

아울러 이러한 프레임(310)의 후방에는 매핑패널(320)의 전,후 이동위치를 검출하는 리미트 센서(부호생략)를 그 저부에 구비하며, 브라켓(311)으로 모터(314)를 지지하여서 된다. 매핑패널(320)은 상기 가이드바(312)에 관통되는 안내공(322)을 네 모퉁이에 형성하여 상기 프레임(310)의 상단에 직각방향으로 전,후진 이동가능하게 설치됨과 동시에 그 저면에 랙기어(324)를 마련하여서 된다.In addition, the rear of the frame 310 is provided with a limit sensor (not shown) for detecting the front and rear movement positions of the mapping panel 320 at the bottom thereof, and the motor 314 is supported by the bracket 311. The mapping panel 320 has guide holes 322 penetrating through the guide bar 312 at four corners, so that the mapping panel 320 can be moved forward and backward in a direction perpendicular to the top of the frame 310, and at the same time, a rack on the bottom thereof. The gear 324 may be provided.

상기 매핑패널(320)은 전방 양측에 송,수신수단(330)을 더 구비하여 적재 웨이퍼들에 근접하여 그 적재상태를 매핑하게 된다. The mapping panel 320 further includes transmitting and receiving means 330 on both front sides of the mapping panel 320 to map the loaded state in proximity to the stacked wafers.

본 발명의 매핑직동은 전원 신호에 따라 모터(314)의 구동으로 피니언기어(316)를 어느 한 방향 회동시키면 이에 맞물림과 동시에 수평 이동가능하게 매핑패널(320)의 저부에 설치된 기어(324)로서 소정의 전,후진 이동이 이루어진다.The mapping linear of the present invention is a gear 324 installed at the bottom of the mapping panel 320 so that the pinion gear 316 rotates in one direction by driving the motor 314 in response to a power signal, and at the same time, is engaged with it. A predetermined forward and backward movement is made.

즉, 도면상 반시계방향으로 피니언기어(16)이 회전하면 매핑패널이 후진하고, 시계방향으로 회전하면 매핑패널(320)이 전진 작동한다.That is, when the pinion gear 16 rotates counterclockwise in the drawing, the mapping panel moves backward, and when the pinion gear 16 rotates clockwise, the mapping panel 320 moves forward.

이러한 전진작동거리 및 후진 작동거리는 기설치된 위치검출용 리미트센서들에 의하여 그 위치가 검출되어 제어된다.The forward and backward operating distances are detected by the position detection limit sensors installed in the position and controlled.

아울러 매핑패널(320)의 전단부에 위치한 송,수신수단(330)을 통하여 웨이퍼의 원형주연부의 위치이탈 상태가 검출되고, 그 수평상태를 검출함에 따라 기울어짐 여부를 검출하게 되는 등 매핑작동을 하게 된다.In addition, through the transmitting and receiving means 330 located at the front end of the mapping panel 320, the positional deviation of the circular peripheral portion of the wafer is detected, and the mapping operation such as detecting whether the tilted in accordance with the horizontal state is detected. Done.

한편, 매핑패널(320)의 상,하작동을 위한 구동부(340)는 도 5a에서 도시하는 바와 같이 스크류바(341)에 볼너트(도시생략)로 나사맞춤되고 엘엠가이드(342)로 상,하이동가능하게 슬라이더(343)를 설치하고, 스크류바(341)의 상,하단에는 베어링(부호생략)으로 받쳐지게하고, 하단측에 풀리(346)와 벨트(347) 및 구동모터(345)로 회전력이 전달되게 하여서 된다.On the other hand, the driving unit 340 for the up and down operation of the mapping panel 320 is screwed with a ball nut (not shown) to the screw bar 341, as shown in Figure 5a and the upper, The slider 343 is installed to be movable, and the upper and lower ends of the screw bar 341 are supported by bearings (not shown), and the pulley 346 and the belt 347 and the driving motor 345 are provided at the lower end. The rotational force is to be transmitted.

따라서 슬라이더(343)에 프레임(310)이 설치되고, 이 프레임(310)내측으로 독립적으로 전,후진 가능하게 매핑패널(320)이 설치되어 웨이퍼의 위치에 따른 매핑작동이 이루어지게 된다. Accordingly, the frame 310 is installed on the slider 343, and the mapping panel 320 is installed in the frame 310 so as to be able to move forward and backward independently, thereby performing a mapping operation according to the position of the wafer.

한편, 본 발명의 덤핑모듈(40)의 작동과 동시에 전,후진이 이루어지는 이송부(50)를 설명한다.On the other hand, it will be described with the transfer unit 50, the forward and backward at the same time the operation of the dumping module 40 of the present invention.

즉, 첨부 도면중 도 6a 내지 6e에서 도시하는 바와 같이 이송부(50)는 상기 제1,제2스테이지(21)(22)의 후방에 설치되며, 각각 구동모터(511)와, 이 구동모터(511)의 구동축에 설치되는 스크류바(512)와, 이 스크류바(512)에 나사맞춤되는 볼너트(513) 및 엘엠가이드(514)로서 이동가능하게 설치되는 제1이동부재(51)와, 단지 엘엠가이드(524)만 형성된 제2 이동부재(52)로 양측에 나란하게 설치하여서 되며, 이 제1이동부재(51)의 볼너트(513)와 엘엠가이드(514) 및 제2이동부재(52)의 엘엠가이드(524)에는 각각 슬라이더(도면부호 생략)를 수용하여 전,후진 이동가능하게 하며, 이 제1,제2이동부재(51)(52) 사이에 가로방향으로 설치되는 제3이동부재(53)는 상기 슬라이더위에 가로 설치되며, 제3 이동부재(53)는 독립적으로 구동모터(531), 볼스크류(532), 볼너트(533) 및 엘엠가이드(534)를 설치하여 좌,우측으로 이동가능하게 된다.That is, as shown in FIGS. 6A to 6E of the accompanying drawings, the transfer unit 50 is installed at the rear of the first and second stages 21 and 22, respectively, and the driving motor 511 and the driving motor ( A screw bar 512 mounted to the drive shaft of the 511, a first nut member movably installed as the ball nut 513 and the L guide 514 screwed to the screw bar 512, Only the second guide member 524 formed with only the LM guide 524 is installed side by side on both sides, the ball nut 513 and the LM guide 514 and the second moving member (1) of the first moving member (51) Each of the LM guide 524 of 52 has a slider (not shown) so as to move forward and backward, respectively, and a third installed horizontally between the first and second moving members 51 and 52. The moving member 53 is horizontally installed on the slider, and the third moving member 53 independently drives the drive motor 531, the ball screw 532, the ball nut 533, and the LM guide 534. It can be moved to the left and right by installing.

특히, 이러한 좌,우 이동시 같은 구동모터의 회동력으로 내부 덤핑모듈(40)의 회동축(43)을 회전시켜 좌,우이동과 동시에 덤핑모듈(40)의 승하강작동이 이루어진다. In particular, when the left and right movement, the lifting shaft 43 of the internal dumping module 40 is rotated by the rotational force of the same driving motor, and the lifting and lowering operation of the dumping module 40 is performed simultaneously with the left and right movement.

이때의 승강작동은 덤핑모듈(40)의 엔드이펙터(48)들이 소정 높이로 승강됨과 동시에 좌,우이동하므로서 마치 순차적으로 승하강이 이루어지는 것 같은 엔드 이펙터의 작동을 연출할 수 있다.The lifting operation at this time can produce an operation of the end effector as if the end effectors 48 of the dumping module 40 are moved up and down at a predetermined height and move left and right at the same time.

본 발명의 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 웨이퍼를 분배하는 방법은,Method for distributing a wafer of a wafer dispensing apparatus having a double stage of the present invention,

(a) 상기 제1,제2스테이지위에 서로 다른 갯수로 분배될 웨이퍼가 내장된 제1포트와 제2포트가 적재량별 2개 포트가 더블 스테지이 위에 준비되는 단계와; (a) preparing a first port and a second port on which the wafers to be distributed in different numbers on the first and second stages are prepared;

(b) 소정의 제어신호로서 제1스테이지위에 놓인 포트의 웨이퍼의 정상유무를 매핑부(30)가 매핑하는 단계와;(b) mapping, by the mapping unit 30, whether the wafer of the port placed on the first stage is normal as a predetermined control signal;

(c) 적재간격을 넓히거나 같은 맷수로 적재하거나 여러장의 웨이퍼를 한정된 장수로 분배하기 위하여 매핑된 웨이퍼의 간격에 맞게 다수 혹은 한정된 장수로 엔드이펙터의 간격을 넓히거나 좁히면서 제1포트 내부로 전진하여 웨이퍼를 덤핑하는 단계와;(c) Advancing into the first port while widening or narrowing the end effector with multiple or limited lengths to fit the gaps of the mapped wafers in order to widen the stacking intervals, load the same number of sheets or distribute multiple wafers with a limited number of sheets. Dumping the wafer;

(d) 덤핑모듈(40)의 다수 엔드이펙터로서 제1포트내 웨이퍼를 덤핑한 상태에서 후진하는 단계와; (d) retracting the wafer in the first port as a plurality of end effectors of the dumping module 40;

(e) 후진된 웨이퍼를 탑재한 덤핑모듈(40)을 제2스테이지위의 제2포트에 분배하기 위하여 적재간격을 넓히거나 여러장의 웨이퍼를 한정된 장수로 분배하기 위하여 제1,제2 이동부재사이에 걸쳐 탑재된 제3이동부재를 측면 이동시켜 제3이동부재 일체의 덤핑모듈을 좌측으로 이동함과 아울러 덤핑모듈의 독립적인 작동으로 각 웨이퍼의 덤핑 간격을 상기 제어장치로 부터의 신호에 따른 웨이퍼의 간격을 넓히는 단계와;(e) Between the first and second moving members to widen the stacking interval for distributing the dumping module 40 carrying the reversed wafer to the second port on the second stage or to distribute the plurality of wafers with a limited number of sheets. By moving the third moving member mounted on the side to move the dumping module of the third moving member integral to the left side and the independent operation of the dumping module, the dumping interval of each wafer according to the signal from the controller Widening the spacing;

(f) 좌측 이동되고 웨이퍼간 간격이 소정의 신호로 조정된 덤핑모듈을 제2스테이지위의 포트내에 안착시키기 위하여 덤핑된 웨이퍼의 간격과 위치를 매핑하는 매핑단계와: (f) a mapping step of mapping the gaps and positions of the dumped wafers to seat the dumping modules shifted left and the wafer-to-wafer spacing adjusted to predetermined signals in the ports on the second stage;

(g) 매핑된 웨이퍼를 제2스테이지위의 포트에 최종 적재하는 단계와; 및 (g) final loading the mapped wafer into a port on a second stage; And

(h) 전진된 덤핑모듈을 원위치로 후진하여 준비하도록 상기 (b)단계로 대기 하는 단계로 이루어진다.(h) the step of waiting for the step (b) to prepare the advanced dumping module back to the original position.

도 1a와 도 1b는 종래 알려진 웨이퍼 분배장치의 일예를 나타낸다.1A and 1B show an example of a conventionally known wafer dispensing apparatus.

도 2a,2b,2c는 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 외관을 보인 사시도와 일부를 개방한 사시도이고, 2A, 2B, and 2C are perspective views showing an external appearance of a wafer dispensing apparatus having a double stage according to the present invention and an open perspective view thereof;

도 3은 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 이송부를 발췌한 요부사시도이고,3 is an essential part perspective view taken from a transfer part of a wafer dispensing apparatus having a double stage of the present invention;

도 4a,도 4b,도 4c는 본 발명 덤핑모듈의 일부를 생략한 발췌사시도이고, 4a, 4b, 4c is an excerpt perspective view omitting a part of the dumping module of the present invention,

도 4d는 본 발명 덤핑모듈의 일부 생략한 요부 발췌 사시도이고, Figure 4d is a perspective view of a part omitted omission of the dumping module of the present invention,

도 4e는 본 발명 덤핑모듈의 요부 확대 단면도이고,Figure 4e is an enlarged cross-sectional view of the main portion of the dumping module of the present invention,

도 5a 내지 도 5d는 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 매핑작동을 설명하는 도면들이고,5A to 5D are diagrams for explaining the mapping operation of the wafer dispensing apparatus having the double stage of the present invention;

도 6a 내지 6e는 본 발명 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치의 그 분배작동을 설명하는 작동설명도이다.6A to 6E are operation explanatory diagrams explaining the dispensing operation of the wafer dispensing apparatus having the double stage of the present invention.

Claims (4)

더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치에 있어서,In a wafer dispensing apparatus having a double stage, 외부 케이싱(10);Outer casing 10; 상기 외부 케이싱(10)위에 양측으로 나란하게 설치되는 제1, 제2스테이지(21)(22);First and second stages 21 and 22 installed side by side on both sides of the outer casing 10; 상기 제1,제2스테이지(21)(22)의 후방에 설치되며, 각각 구동모터와, 이 구동모터들의 구동축에 설치되는 볼스크류들과, 이 볼스크류들에 나사맞춤되는 볼너트 및 엘엠가이드들로서 이동가능하게 설치되는 제1, 제2 이동부재(51)(52);It is installed at the rear of the first and second stages 21 and 22, respectively, a drive motor, ball screws installed on the drive shafts of the drive motors, ball nuts and L guides screwed to the ball screws. First and second moving members 51 and 52 that are movably installed as one another; 상기 제1,제2이동부재의 볼너트를 수용하여 전,후진 이동가능하게 상기 제1,제2이동부재 사이에 설치됨과 아울러 독립적으로 좌,우 방향 이동가능하도록 구동모터와, 이 구동모터의 구동축에 설치되는 볼스크류와, 이 볼스크류에 나사맞춤되는 볼너트 및 엘엠가이드들로서 이동가능하게 설치되는 제3 이동부재(53);The drive motor is installed between the first and second moving members so as to receive the ball nuts of the first and second moving members so as to be movable forward and backward, and independently move left and right. A ball screw installed on the drive shaft, and a third movable member 53 movably installed as ball nuts and LM guides screwed to the ball screws; 상기 제3이동부재(53)의 상방에 고정되며 웨이퍼의 덤핑을 수행하는 웨이퍼 덤핑모듈(40)을 포함하는 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치.And a wafer dumping module (40) fixed above the third moving member (53) and including a dumping module (40) for dumping the wafer. 제1항에 있어서, 상기 덤핑모듈(40)은,The method of claim 1, wherein the dumping module 40, 상부,측면 및 하부를 형성하는 케이싱(41)의 상,하부사이에 회동가능하게 고정되며,스크류바로 이루어진 회동축(43);A rotating shaft 43 that is rotatably fixed between upper and lower portions of the casing 41 forming upper, side, and lower portions, and comprising a screw bar; 상기 회동축(43)과 나사맞춤되도록 볼너트(442)로 연결되어 승,하강이 이루 어지는 승강플레이트(44);A lifting plate 44 connected to the ball nut 442 so as to be screwed with the rotational shaft 43 and rising and falling; 상기 회동축(43)이 중심을 관통하고, 상기 승강플레이트(44)의 승,하강력에 따라 승,하강되도록 상기 승강플레이트(44)로 부터 차례로 소정간격위치 함과 아울러 걸림턱부(422)를 형성하여 천공된 걸림공(42)을 형성한 다수의 플레이트(45); The pivot shaft 43 penetrates a center thereof, and is positioned in a predetermined interval from the lifting plate 44 so as to move up and down according to the lifting and lowering force of the lifting plate 44 and the locking jaw portion 422. A plurality of plates 45 formed to form perforated engaging holes 42; 상기 승강플레이트(44),다수 플레이트(45)들을 승,하강되도록 안내하는 가이드바(46);A guide bar 46 for guiding the lifting plate 44 and the plurality of plates 45 to move up and down; 상기 승강플레이트(44)의 승,하강에 의하여 플레이트(45)들이 차례로 승하강되도록 상기 승강플레이트(44)의 직하방의 플레이트(45) 사이에 코일스프링(472)을 개재시켜 고정되는 고정부재(47);Fixing member 47 fixed through the coil spring 472 between the plate 45 directly below the elevating plate 44 so that the plate 45 is raised and lowered in sequence by the elevating plate 44, ); 상기 다수 플레이트(45)들의 측면에서 수평 연결되는 엔드 이펙터(48)들; 및 End effectors (48) horizontally connected at the sides of the plurality of plates (45); And 상기 다수플레이트(45)중 복수의 플레이트중 위의 플레이트(45)의 승강시 걸림턱부(422)에 헤드부(492)가 걸리거나 그대로 하강되도록 관통시켜 아래의 플레이트(45)에 그 하단부를 고정시키는 연결방식으로 다수의 플레이트(45)들을 차례로 2개씩 상,하로 승강 연결시켜 다수의 플레이트(45) 전부가 승강플레이트(44)의 하강 탄력으로 플레이트(45)전부가 동반 하강됨과 아울러 승강플레이트(45)의 상승으로 탄력이 해제되면 플레이트(45)전부가 차례로 상승되도록 하는 연결부재(49)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치.The lower end of the lower plate 45 is fixed by passing through the head portion 492 to be caught or lowered as it is when the lifting jaw portion 422 of the upper plate 45 of the plurality of plates 45 is raised or lowered. Lifting connection of the plurality of plates 45 by two in the up and down in turn by the connection method to the whole of the plurality of plates 45 are lowered along with the lowering elasticity of the lifting plate 44 as well as the lifting plate ( 45 is a wafer dispensing apparatus having a double stage, characterized in that made of a connecting member (49) to raise the whole plate (45) in turn when the elasticity is released by the rise. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 도어홀더측에 고정되고 상단 양측에 가이드바(312)를 마련하고, 후방에 모 터(314)와, 이 모터에 의하여 회전하는 피니언기어(316)를 구비한 프레임(310)과,상기 가이드바(312)에 관통되는 안내공(322)을 네 모퉁이에 형성하여 상기 프레임(310)의 상단에 직각방향으로 전,후진 이동가능하게 설치됨과 동시에 그 저면에 랙기어(324)를 마련한 평판형 매핑패널(320)과, 상기 매핑패널(320)은 전방 양측에 송,수신수단(330)과, 상기 프레임(310)의 후방에는 매핑패널(320)의 전,후 이동위치를 검출하는 리미트 센서(340)로 이루어져 모터(314)의 구동으로 매핑패널(320)이 전,후진 이동하는 매핑장치(330)를 더 포함하는 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배장치.The guide bar is fixed to the door holder side and provided with guide bars 312 on both sides of the upper side, and has a motor 314 at the rear and a pinion gear 316 rotated by the motor, and the guide bar. A guide hole 322 penetrating through the 312 is formed in four corners to be installed to move forward and backward in a direction perpendicular to the top of the frame 310, and a flat gear mapping having a rack gear 324 formed on the bottom thereof. The panel 320, the mapping panel 320 is a limit sensor for detecting the front and rear moving position of the mapping panel 320 in the front, both sides of the transmission and reception means 330, and the rear of the frame 310 ( 340 is a wafer distribution device having a double stage further comprises a mapping device 330, the mapping panel 320 is moved forward and backward by the driving of the motor 314. 제1항에 기재된 더블 스테이지를 갖는 웨이퍼 분배하는 장치를 이용하여 웨이퍼를 분배하는 방법에 있어서,In the method of distributing a wafer using a wafer dispensing apparatus having a double stage according to claim 1, (a) 상기 제1,제2스테이지위에 서로 다른 갯수로 분배될 웨이퍼가 내장된 제1포트와 제2포트가 적재량별 2개 포트가 더블 스테지이 위에 준비되는 단계; (a) preparing a first port and a second port having a wafer to be distributed in different numbers on the first and second stages; (b) 소정의 제어신호로서 제1스테이지위에 놓인 포트의 웨이퍼의 정상유무를 매핑부(30)가 매핑하는 단계;(b) mapping, by the mapping unit 30, whether the wafer of the port placed on the first stage is normal as a predetermined control signal; (c) 적재간격을 넓히거나 같은 맷수로 적재하거나 여러장의 웨이퍼를 한정된 장수로 분배하기 위하여 매핑된 웨이퍼의 간격에 맞게 다수 혹은 한정된 장수로 엔드이펙터의 간격을 넓히거나 좁히면서 제1포트 내부로 전진하여 웨이퍼를 덤핑하는 단계;(c) Advancing into the first port while widening or narrowing the end effector with multiple or limited lengths to fit the gaps of the mapped wafers in order to widen the stacking intervals, load the same number of sheets or distribute multiple wafers with a limited number of sheets. Dumping the wafers; (d) 덤핑모듈(40)의 다수 엔드이펙터로서 제1포트내 웨이퍼를 덤핑한 상태에 서 후진하는 단계; (d) retracting the wafer in the first port as a plurality of end effectors of the dumping module 40; (e) 후진된 웨이퍼를 탑재한 덤핑모듈(40)을 제2스테이지위의 제2포트에 분배하기 위하여 적재간격을 넓히거나 여러장의 웨이퍼를 한정된 장수로 분배하기 위하여 제1,제2 이동부재사이에 걸쳐 탑재된 제3이동부재를 측면 이동시켜 제3이동부재 일체의 덤핑모듈을 좌측으로 이동함과 아울러 덤핑모듈의 독립적인 작동으로 각 웨이퍼의 덤핑 간격을 상기 제어장치로 부터의 신호에 따른 웨이퍼의 간격을 넓히는 단계;(e) Between the first and second moving members to widen the stacking interval for distributing the dumping module 40 carrying the reversed wafer to the second port on the second stage or to distribute the plurality of wafers with a limited number of sheets. By moving the third moving member mounted on the side to move the dumping module of the third moving member integral to the left side and the independent operation of the dumping module, the dumping interval of each wafer according to the signal from the controller Widening the gap; (f) 좌측 이동되고 웨이퍼간 간격이 소정의 신호로 조정된 덤핑모듈을 제2스테이지위의 포트내에 안착시키기 위하여 덤핑된 웨이퍼의 간격과 위치를 매핑하는 매핑단계: (f) a mapping step of mapping the gaps and positions of the dumped wafers to seat the dumping modules shifted left and the wafer-to-wafer spacing adjusted to predetermined signals in the ports on the second stage; (g) 매핑된 웨이퍼를 제2스테이지위의 포트에 최종 적재하는 단계; 및(g) final loading the mapped wafer into a port on a second stage; And (h) 전진된 덤핑모듈을 원위치로 후진하여 준비하는 단계를 포함하는 웨이퍼를 분배하는 방법.(h) a method of dispensing a wafer comprising the step of preparing the advanced dumping module back to its original position.
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