KR20100105489A - 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 - Google Patents

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마르틴 호우케스
노르베르트 에르빈 테렌조 얀센
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에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
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Abstract

위치설정 장치는 제 1 대상물 및 제 2 대상물; 상기 제 1 대상물 및 상기 제 2 대상물을 서로에 대해 위치설정하도록 구성되는 위치설정 시스템; 및 상기 제 1 대상물 및 상기 제 2 대상물에 연결되는 유연한 이송 라인을 포함하며, 상기 유연한 이송 라인은 동적 전달 함수에 의해 표현될 수 있도록 상기 유연한 이송 라인을 따라 변하는 강성을 가지며, 상기 동적 전달 함수는 상기 위치설정 시스템의 폐쇄-루프 전달 함수에 맞도록 이루어진다.

Description

리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법{LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD}
본 발명은 제 1 대상물 및 제 2 대상물이 제공되는 위치설정 장치(positioning apparatus) 및 이러한 위치설정 장치를 포함하는 리소그래피 장치에 관한 것이다.
제 1 대상물 및 제 2 대상물을 포함하는 위치설정 장치는 리소그래피 장치들에서 알려져 있으며, 제 1 대상물은 장행정 모듈의 일부이고, 제 2 대상물은 단행정 모듈의 일부이다. 장행정 및 단행정 개념의 조합의 연동 개념은 리소그래피 장치에 대해 잘 알려진 기계 레이아웃이다. 이에 의하여, 장행정 모듈은 제한된 정확성을 가지고 장행정에 걸친 움직임을 책임지고, 단행정 모듈은 보다 높은 위치 정확성을 가지고 보다 짧은 행정에 걸쳐 움직일 수 있다. 그 다음, 단행정 모듈은, 예를 들어 전기, 유체들, 진공 어플리케이션들(vaccum application) 등의 이송을 위한 유연한(flexible) 이송 라인을 통해 장행정 모듈과 연결된다. 특정한 예시로 단행정에 유연한 이송 라인을 통해 물이 제공되는 것이 있다.
알려진 위치설정 장치에서, 유연한 이송 라인의 강성, 댐핑(damping) 및 질량 특성들은 제 1 대상물과 제 2 대상물 사이의 정적 교란력(static disturbance force) 및 동적 교란력(dynamic disturbance force)으로서 작용한다. 유연한 이송 라인의 질량체가 너무 작은 강성으로 연결되는 경우, 유연한 이송 라인의 작은 고유주파수(natural frequency)가 유연한 이송 라인의 자유 이동 질량(free moving mass)으로 인해 바람직하지 않은 교란력들을 야기할 수 있다. 유연한 이송 라인의 강성을 증가시켜 유연한 이송 라인의 고유주파수를 증가시키면 대상물들 간의 직접적인 커플링을 일으킬 수 있다. 동적 교란 효과들은 제 1 대상물 및 제 2 대상물의 위치 오차들을 초래할 수 있다. 따라서 결과적으로, 이러한 위치 오차들은 리소그래피 장치의 오버레이 오차들 및/또는 바람직하지 않은 이미징(imaging) 문제들을 초래할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태는 유연한 이송 라인의 동적 교란력들을 저감시키는 것이다.
따라서, 본 발명의 일 실시예는 한편으로는 상대적으로 작은 상호 강성을 갖는 유연한 이송 라인과, 다른 한편으로는 큰 내부 강성의 유연한 이송 라인 간의 정교한 균형을 달성하여 유연한 이송 라인의 상대적으로 작은 주파수의(low frequent) 동적 거동을 방지하는 것이 바람직하다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에서, 유연한 이송 라인에는 위치설정 시스템의 폐쇄 루프 전달 함수에 대해 최적화된 유연한 이송 라인의 동적 전달 함수를 달성하는 유연한 이송 라인에서의 위치의 함수로서 강성(stiffness)이 제공된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유연한 이송 라인의 최적화의 효과는, 위치설정 시스템의 폐쇄 루프 전달 함수의 지식에 기반하여 한편으로는 상호 강성 요건들과 다른 한편으로는 유연한 이송 라인의 동적 거동 간의 균형이 얻어질 수 있다는 것이다.
바람직한 실시예에서, 유연한 이송 라인에는 유연한 이송 라인(FTL)이 제 1 힌지(HNG1)를 갖도록 유연한 이송 라인에서의 위치의 함수로서 강성이 제공된다. 이러한 실시예는 제 1 대상물과 제 2 대상물 간에 상대적으로 작은 상호 강성이 생성되는 유리한 효과를 갖는다.
추가 실시예에서, 유연한 이송 라인은 실질적으로 직선형이고 차원적으로 안정적인 제 1 부분 및 실질적으로 직선형이고 차원적으로 안정적인 제 2 부분을 더 포함할 수 있으며, 상기 제 1 부분 및 상기 제 2 부분은 제 1 힌지를 통해 연결되어 두 부분이 힌지 주위에서 서로에 대해 피봇될 수 있다. 이러한 실시예는 유연한 이송 라인의 큰 내부 강성이 유연한 이송 라인의 상대적으로 작은 주파수의 동적 거동을 방지하는 유리한 효과를 갖는다.
이하 대응되는 참조부호들이 대응되는 부분들을 나타내는 개략적인 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시예들이 예시의 방법으로 설명될 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치의 개략도;
도 2는 유연한 이송 라인이 더 구비되는 제 1 대상물 및 제 2 대상물이 제공되는 위치설정 장치의 평면도;
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 장행정 모듈 및 단행정 모듈을 포함하는 위치설정 장치의 개략도;
도 4는 제어기 세트-포인트(controller set-point)가 조합 피드-포워드 및 피드백 제어 시스템(combined feed-forward and feedback control system)으로 도입되는 표준 제어 다이어그램;
도 5는 PID-제어기 및 지정 제어기(specified controller) 대역폭에 의해 제어되는 자유 이동 질량으로부터의 프로세스 감응 전달 함수의 일 예시를 나타낸 도;
도 6은 도 3에 도시된 바와 같은 실시예의 확대된 개략도;
도 7은 도 6의 추가 개략도;
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 유연한 이송 라인의 일 예시를 나타낸 도;
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 2 개의 대상물에 커플링되는 유연한 이송 라인의 개략도;
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 2 개의 대상물에 커플링되는 유연한 이송 라인의 개략도;
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 2 개의 대상물에 커플링되는 유연한 이송 라인의 개략도;
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른, 제 1 힌지가 중립 위치를 가져 피봇 각도가 실질적으로 90°인, 2 개의 대상물에 커플링되는 유연한 이송 라인의 개략도;
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 2 개의 대상물에 커플링되는 유연한 이송 라인의 개략도;
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 2 개의 대상물에 커플링되는 유연한 이송 라인의 개략도이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 개략적으로 도시한다. 상기 장치는 방사선 빔(B)(예를 들어, UV 방사선 또는 EUV 방사선)을 컨디셔닝(condition)하도록 구성된 조명 시스템(일루미네이터)(IL); 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 지지하도록 구성되고, 소정 파라미터들에 따라 패터닝 디바이스를 정확히 위치시키도록 구성된 제 1 위치설정기(PM)에 연결된 패터닝 디바이스 지지부 또는 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT); 기판(예를 들어, 레지스트-코팅된 웨이퍼)(W)을 유지하도록 구성되고, 소정 파라미터들에 따라 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제 2 위치설정기(PW)에 연결된 기판 테이블(예를 들어, 웨이퍼 테이블)(WT); 및 기판(W)의 (예를 들어, 1 이상의 다이를 포함하는) 타겟부(C) 상으로 패터닝 디바이스(MA)에 의해 방사선 빔(B)에 부여된 패턴을 투영하도록 구성된 투영 시스템(예를 들어, 굴절 투영 렌즈 시스템)(PS)을 포함한다.
조명 시스템은 방사선을 지향, 성형, 또는 제어하기 위하여, 굴절, 반사, 자기, 전자기, 정전기 또는 다른 타입의 광학 구성요소들, 또는 여하한의 그 조합과 같은 다양한 타입들의 광학 구성요소들을 포함할 수 있다.
패터닝 디바이스 지지부는 패터닝 디바이스의 방위, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예를 들어 패터닝 디바이스가 진공 환경에서 유지되는지의 여부와 같은 다른 조건들에 의존하는 방식으로 패터닝 디바이스를 유지한다. 패터닝 디바이스 지지부는 패터닝 디바이스를 유지하기 위해 기계적, 진공, 정전기, 또는 다른 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 패터닝 디바이스 지지부는, 예를 들어 필요에 따라 고정되거나 이동가능할 수 있는 프레임 또는 테이블일 수 있다. 패터닝 디바이스 지지부는, 패터닝 디바이스가 예를 들어 투영 시스템에 대해 원하는 위치에 있을 것을 보장할 수 있다. 본 명세서의 "레티클" 또는 "마스크"라는 용어의 어떠한 사용도 "패터닝 디바이스"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "패터닝 디바이스"라는 용어는, 기판의 타겟부에 패턴을 생성하기 위해서, 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하는데 사용될 수 있는 여하한의 디바이스를 언급하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사선 빔에 부여된 패턴은, 예를 들어 상기 패턴이 위상-시프팅 피처(phase-shifting feature)들 또는 소위 어시스트 피처(assist feature)들을 포함하는 경우, 기판의 타겟부 내의 원하는 패턴과 정확히 일치하지 않을 수도 있다는 것을 유의하여야 한다. 일반적으로, 방사선 빔에 부여된 패턴은 집적 회로와 같이 타겟부에 생성될 디바이스 내의 특정 기능 층에 해당할 것이다.
패터닝 디바이스는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝 디바이스들의 예로는 마스크, 프로그래밍가능한 거울 어레이 및 프로그래밍가능한 LCD 패널들을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리(binary)형, 교번 위상-시프트형 및 감쇠 위상-시프트형과 같은 마스크 타입뿐만 아니라, 다양한 하이브리드(hybrid) 마스크 타입들을 포함한다. 프로그래밍가능한 거울 어레이의 일 예시는 작은 거울들의 매트릭스 구성을 채택하며, 그 각각은 입사하는 방사선 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 기울어질 수 있다. 기울어진 거울들은 거울 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 패턴을 부여한다.
본 명세서에서 사용되는 "투영 시스템"이라는 용어는, 사용되는 노광 방사선에 대하여, 또는 침지 액체의 사용 또는 진공의 사용과 같은 다른 인자들에 대하여 적절하다면, 굴절, 반사, 카타디옵트릭(catadioptric), 자기, 전자기 및 정전기 광학 시스템, 또는 여하한의 그 조합을 포함하는 여하한 타입의 투영 시스템을 포괄하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 한다. 본 명세서의 "투영 렌즈"라는 용어의 어떠한 사용도 "투영 시스템"이라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.
본 명세서에 도시된 바와 같이, 상기 장치는 (예를 들어, 투과 마스크를 채택하는) 투과형으로 구성된다. 대안적으로, 상기 장치는 (예를 들어, 상술된 바와 같은 타입의 프로그래밍가능한 거울 어레이를 채택하거나 또는 반사 마스크를 채택하는) 반사형으로 구성될 수 있다.
리소그래피 장치는 2 개(듀얼 스테이지) 이상의 기판 테이블(및/또는 2 이상의 마스크 테이블)을 갖는 형태로 구성될 수 있다. 이러한 "다수 스테이지" 기계에서는 추가 테이블들이 병행하여 사용될 수 있으며, 또는 1 이상의 테이블이 노광에 사용되고 있는 동안 1 이상의 다른 테이블에서는 준비작업 단계가 수행될 수 있다.
리소그래피 장치는 또한, 투영시스템과 기판 사이의 공간을 채우기 위하여 기판의 적어도 일 부분이, 비교적 높은 굴절률을 갖는 액체, 예를 들어 물로 덮일 수 있는 타입으로 이루어질 수 있다. 또한, 침지 액체는 리소그래피 장치의 다른 공간들, 예를 들어 마스크와 투영시스템 사이에 적용될 수도 있다. 당업계에서는 투영시스템들의 개구수를 증가시키기 위한 침지 기술들이 잘 알려져 있다. 본 명세서에서 사용되는 "침지"라는 용어는 기판과 같은 구조체가 액체 내에 잠겨야 한다는 것을 의미하기 보다, 노광 동안 투영시스템과 기판 사이에 액체가 배치되면 된다는 것을 의미한다.
도 1을 참조하면, 일루미네이터(IL)는 방사선 소스(SO)로부터 방사선 빔을 수용한다. 예를 들어, 상기 소스가 엑시머 레이저(excimer laser)인 경우, 상기 소스 및 리소그래피 장치는 별도의 개체일 수 있다. 이러한 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 일부분을 형성하는 것으로 간주되지 않으며, 상기 방사선 빔은 예를 들어 적절한 지향 거울 및/또는 빔 익스팬더(beam expander)를 포함하는 빔 전달 시스템(BD)의 도움으로, 소스(SO)로부터 일루미네이터(IL)로 통과된다. 다른 경우, 예를 들어 상기 소스가 수은 램프인 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 통합부일 수 있다. 상기 소스(SO) 및 일루미네이터(IL)는, 필요에 따라 빔 전달 시스템(BD)과 함께 방사선 시스템이라고도 칭해질 수 있다.
상기 일루미네이터(IL)는 방사선 빔의 각도 세기 분포를 조정하는 조정기(AD)를 포함할 수 있다. 일반적으로, 일루미네이터의 퓨필 평면 내의 세기 분포의 적어도 외반경 및/또는 내반경 크기(통상적으로, 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 일루미네이터(IL)는 인티그레이터(IN) 및 콘덴서(CO)와 같이, 다양한 다른 구성요소들을 포함할 수도 있다. 일루미네이터는 방사선 빔의 단면에 원하는 균일성(uniformity) 및 세기 분포를 갖기 위해, 방사선 빔을 컨디셔닝하는데 사용될 수 있다.
상기 방사선 빔(B)은 패터닝 디바이스 지지부(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 상에 유지되어 있는 패터닝 디바이스[예를 들어, 마스크(MA)] 상에 입사되며, 패터닝 디바이스에 의해 패터닝된다. 상기 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 가로질렀으면, 상기 방사선 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하여 기판(W)의 타겟부(C) 상에 상기 빔을 포커스한다. 제 2 위치설정기(PW) 및 위치 센서(IF)(예를 들어, 간섭계 디바이스, 리니어 인코더 또는 용량성 센서)의 도움으로, 기판 테이블(WT)은 예를 들어 방사선 빔(B)의 경로 내에 상이한 타겟부(C)들을 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제 1 위치설정기(PM) 및 (도 1에 명확히 도시되지 않은) 또 다른 위치 센서는, 예를 들어 마스크 라이브러리(mask library)로부터의 기계적인 회수 후에, 또는 스캔하는 동안, 방사선 빔(B)의 경로에 대해 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 정확히 위치시키는데 사용될 수 있다. 일반적으로, 패터닝 디바이스 지지부(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)의 이동은 장-행정 모듈(long-stroke module: 개략 위치설정) 및 단-행정 모듈(short-stroke module: 미세 위치설정)의 도움으로 실현될 수 있으며, 이는 제 1 위치설정기(PM)의 일부분을 형성한다. 이와 유사하게, 기판 테이블(WT)의 이동은 장-행정 모듈 및 단-행정 모듈을 이용하여 실현될 수 있으며, 이는 제 2 위치설정기(PW)의 일부분을 형성한다. (스캐너와는 대조적으로) 스테퍼의 경우, 패터닝 디바이스 지지부(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)은 단-행정 액추에이터에만 연결되거나 고정될 수 있다. 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA) 및 기판(W)은 패터닝 디바이스 정렬 마크들(M1 및 M2) 및 기판 정렬 마크들(P1 및 P2)을 이용하여 정렬될 수 있다. 비록, 예시된 기판 정렬 마크들이 지정된(dedicated) 타겟부들을 차지하고 있지만, 그들은 타겟부들 사이의 공간들 내에 위치될 수도 있다[이들은 스크라이브-레인 정렬 마크(scribe-lane alignment mark)들로 알려져 있다]. 이와 유사하게, 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA) 상에 1 이상의 다이가 제공되는 상황들에서, 패터닝 디바이스 정렬 마크들은 다이들 사이에 위치될 수 있다.
도시된 장치는 다음 모드들 중 적어도 1 이상에서 사용될 수 있다:
1. 스텝 모드에서, 패터닝 디바이스 지지부(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WT)은 기본적으로 정지 상태로 유지되는 한편, 방사선 빔에 부여되는 전체 패턴은 한번에 타겟부(C) 상에 투영된다[즉, 단일 정적 노광(single static exposure)]. 그 후, 기판 테이블(WT)은 상이한 타겟부(C)가 노광될 수 있도록 X 및/또는 Y 방향으로 시프트된다. 스텝 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 정적 노광시에 이미징되는 타겟부(C)의 크기를 제한한다.
2. 스캔 모드에서, 패터닝 디바이스 지지부(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WT)은 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안에 동기적으로 스캐닝된다[즉, 단일 동적 노광(single dynamic exposure)]. 패터닝 디바이스 지지부(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)에 대한 기판 테이블(WT)의 속도 및 방향은 투영 시스템(PS)의 확대(축소) 및 이미지 반전 특성에 의하여 결정될 수 있다. 스캔 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 동적 노광시 타겟부의 (스캐닝 되지 않는 방향으로의) 폭을 제한하는 반면, 스캐닝 동작의 길이는 타겟부의 (스캐닝 방향으로의) 높이를 결정한다.
3. 또 다른 모드에서, 패터닝 디바이스 지지부(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)은 프로그래밍가능한 패터닝 디바이스를 유지하여 기본적으로 정지된 상태로 유지되며, 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안 기판 테이블(WT)이 이동되거나 스캐닝된다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스화된 방사선 소스(pulsed radiation source)가 채택되며, 프로그래밍가능한 패터닝 디바이스는 기판 테이블(WT)이 각각 이동한 후, 또는 스캔 중에 계속되는 방사선 펄스 사이사이에 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 앞서 언급된 바와 같은 타입의 프로그래밍가능한 거울 어레이와 같은 프로그래밍가능한 패터닝 디바이스를 이용하는 마스크없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.
또한, 상술된 사용 모드들의 조합 및/또는 변형, 또는 완전히 다른 사용 모드들이 채택될 수도 있다.
도 2는 제 1 대상물(OBJ1) 및 제 2 대상물(OBJ2)이 제공되는 위치설정 장치(APP)의 평면도이다. 위치설정 장치(APP)는 리소그래피 장치에 대상물들을 위치설정하는데 이용될 수 있다. 위치설정 장치(APP)에는 제 1 대상물(OBJ1)에 대해 제 2 대상물(OBJ2)을 위치설정하도록 구성되는 위치설정 시스템(POS)가 제공되며, 또한 대상물들을 연결하는 유연한 이송 라인(FLT)이 제공된다. 예를 들어, 유연한 이송 라인(FLT)은 매체를 이송하도록 구성 및 배치되거나, 제 1 대상물(OBJ1)과 제 2 대상물(OBJ2) 사이에서 전기를 전달하도록 제공되는 와이어이지만, 또한 매체를 이송하기 위한 유연한 이송 라인(FLT) 및/또는 전기를 이송하기 위한 유연한 이송 라인(FLT)이 존재할 수도 있다. 본 발명의 일 실시예에서, 위치설정 장치는, 제 1 대상물(OBJ1)이 제한된 정확성을 가지고 장 행정에 걸친 움직임을 책임지는 장행정 모듈에 대응되고, 제 2 대상물(OBJ2)이 보다 높은 위치 정확성을 가지고 보다 짧은 행정에 걸쳐 움직일 수 있는 단행정 모듈 대상물에 대응되는 2 개의 스테이지 개념으로 이루어진다.
도 3은 위치설정 장치(APP)가 장행정 모듈(LS) 및 단행정 모듈(SS)로 이루어지는 본 발명의 이러한 일 실시예의 개략도이다. 각각의 모듈은 정지된 부분 및 이동가능한 부분으로 나누어질 수 있으며, 각각의 모듈은 정지된 부분에 대해 모듈의 이동가능한 부분을 이동시키기 위한 모터(도시 안됨)를 포함한다. 장행정 모듈(LSM)의 이동가능한 부분은 장행정 모듈(LSS)의 정지된 부분에 대해 적어도 한 방향으로 이동가능하다. 단행정 모듈(SSM)의 이동가능한 부분은 단행정 모듈(SSS)의 정지된 부분에 대해 적어도 한 방향으로 이동가능하다. 단행정 모듈(SSS)의 정지된 부분은 장행정 모듈(LSM)의 이동가능한 부분에 부착된다. 본 발명의 이 실시예에서, 제 1 대상물(OBJ1)은 (도 3에서 빗금친 부분으로 나타낸) 단행정 모듈(SSS)의 정지된 부분을 포함하는 장행정 모듈(LSM)의 이동가능한 부분으로 이루어지고, 제 2 대상물(OBJ2)은 단행정 모듈(SSM)의 이동가능한 부분에 대응된다.
도 4는 제어기 세트-포인트(SETP)가 조합된 피드포워드(FF) 및 피드백(FB) 제어 시스템 내로 도입되는 표준 제어 다이어그램을 도시하고 있다. 피드백 제어 루프는 제어기(FB) 및 피지컬 플랜트(physical plant: PLT)에 의하여 형성된다. 피지컬 플랜트(PLT)는 적합한 측정 시스템에 의해 제공되는 바와 같이 스테이지의 액추에이터 구동 신호(ADS)로부터 위치 측정 신호(PMS)로의 전달 함수를 나타낸다. 제어기 세트-포인트(SETP)로 인한 피지컬 플랜트(PLT) 상에 작용하는 액추에이터 힘들 외에, 피지컬 플랜트(PLT)의 실제 위치는 또한 외부 교란력(FDIST)을 야기하는 외부 교란 소스(DIST)에 의하여 영향을 받을 수 있다[그 효과는 피드백 제어 루프에 의해 보정됨]. 교란력(FDIST)의 선험적 지식이 존재하기 때문에, 피드백 루프에 의해 약간의 지연이 야기될 수 있다. 결과적으로, 이러한 종류의 교란은 본질적으로 피지컬 플랜트(PLT)의 위치 정확도에 영향을 미친다. 이러한 외부 교란력(FDIST)으로 인한 위치 측정 신호(PMS)의 감도(sesitivity)는 당 업계에서 프로세스 감도 전달 함수(process sensitivity transfer function: HPS)로 알려진 전달 함수로 표현될 수 있다. 주파수 종속 전달 함수(frequency dependent transfer function)는 다음의 수학식 1로 표현될 수 있다.
Figure pat00001
도 5는 대략 300[Hz]의 선택된 대역폭(BW)을 갖는 PID-제어기에 의하여 제어되는 20[kg]의 자유 이동 질량으로부터의 통상적인 프로세스 감도 전달 함수(HPS)의 보드 다이어그램의 일 예시를 나타내고 있다. 다이어그램의 위쪽 부분은 헤르쯔(Hz)의 주파수(FRQ)의 함수로서 프로세스 감도의 데시벨(dB)의 전달 함수의 크기(MAG)를 나타내며, 다이어그램의 아래쪽 부분은 주파수(FRQ)의 함수로서 프로세스 감도의 도(Deg)의 전달 함수의 위상(PHA)을 나타내고 있다. 특히 본 예시에서는 피드백-제어기 내에 적분 작업이 포함되기 때문에, 대역폭(BW) 아래에서 피드백 제어기(FB)는 교란력(DIST)의 효과들을 특정 범위까지 억제할 수 있다. 피드백 제어기(FB) 내에 적분 작업이 포함되지 않는 경우, 프로세스 감도는 최대 피드백 제어기(FB)의 대역폭까지 피드백 제어기(FB)의 비례 이득에 대해 실질적으로 반비례할 수 있다. 대역폭 위에서, 피드백 제어기(FB)는 프로세스 감도(HPS)의 전달 함수에 더 이상 영향을 줄 수 없으며, 도 5에 나타난 바와 같이 자유 이동 질량의 잘 알려진-2 슬로프를 대역폭(BW) 위에서 볼 수 있게 된다. 이 전달 함수로부터, 위치 측정 신호(POS)는 작은 주파수의 교란력과 비교하여 근 주파수의 교란력(DIST)에 대해 덜 민감하다는 결론을 내릴 수 있다. 보다 더 일반적으로 말해서, 위치 측정 신호(PMS) 상의 외부 교란력(FDIST)의 효과는 외부 교란력(FDIST)의 주파수 및 진폭에 종속적이다. 유연한 이송 라인(FLT)에 대한 이러한 교란력들 및 수반되는 요건들의 몇몇 예시들은 다음과 같이 기술될 수 있다.
- 예를 들어, 충분한 이송을 가능하게 하고 유동 소음을 최소화하기 위해 대상물들[(OBJ1)과 (OBJ2)] 사이에서 전달되는 매체의 압력 강하가 적어야 한다. 그러므로, 큰 직경을 갖는 유연한 이송 라인(FLT)를 이용하는 것이 바람직하다. 하지만, 직경은 증가시키는 한편, 얇은 벽 두께를 이용하는 것은 유연한 이송 라인(FLT)의 질량 증가를 유도한다.
- 대상물들[(OBJ1)과 (OBJ2)]에 부착되는 자유 진동 질량은 서보 오차들과 관련하여 작고 높은 주파수(small and high frequent)를 갖는 것이 바람직하다. 그러므로, 적은 질량 및 큰 강성을 갖는 유연한 이송 라인(FLT)를 이용하는 것이 바람직하다.
- 예를 들어, 대상물들의 왜곡들을 감소시키기 위하여 대상물들[(OBJ1)과 (OBJ2)] 간의 강성은 작아야 한다. 그러므로, 작은 강성을 갖는 유연한 이송 라인(FLT)을 이용하는 것이 바람직하다.
- 특정 응용례들(예를 들어, 높은-진공)에 대하여, 유연한 이송 라인(FLT)의 재료는 고 순도, 비-아웃개싱(non-outgassing), 저 확산의 것이 바람직하다. 그러므로, 본래 단단한 재료로부터의 유연한 이송 라인(FLT)을 이용하는 것이 바람직하다.
위치설정 장치가 2 개의 스테이지 개념으로 이루어지며, 제 1 대상물(OBJ1)은 제한된 정확성을 가지고 긴 행정에 걸친 움직임을 책임지는 장행정 모듈(LS)과 대응되고 제 2 대상물(OBJ2)은 보다 높은 위치 정확성을 가지고 보다 짧은 행정에 걸쳐 움직일 수 있는 단행정 모듈(SS)과 대응되는 본 발명에 따른 일 실시예에서, 유연한 이송 라인은 모듈들 간의 직접적인 연결을 형성한다. 유연한 이송 라인(FLT)의 강성으로 인하여, 장행정 모듈(LS)과 단행정 모듈(SS) 간의 상대적인 움직임은 모듈들 상에서 교란력을 야기하는 유연한 이송 라인(FLT)의 특정한 변형을 초래한다. 낮은 주파수의 교란력들에 대해, 상기 힘은 모듈들 간의 상호 변위와 곱해지는(multiplied) 유연한 이송 라인(FLT)의 정강성(static stiffness)과 실질적으로 대응된다.
도 6은 빗금친 부분으로 도시되어 있고 단행정의 정지된 부분(SSS)을 포함하는 장행정의 이동가능한 부분(LSM)에 의하여 형성되는 제 1 대상물(OBJ1)과 단행정의 이동가능한 부분(SSM)에 대응되는 제 2 대상물(OBJ2) 사이에 유연한 이송 라인(FLT)이 연결되는 본 발명에 따른 일 실시예의 확대 개략도를 나타내고 있다. 도 6에서, 유연한 이송 라인(FLT)은 크로스-컷(CC)에 의하여 유연한 이송 라인의 제 1 부분(FLT')과 유연한 이송 라인의 제 2 부분(FLT")으로 가상으로 나누어진다. 제 1 대상물(OBJ1) 및 제 2 대상물(OBJ2)의 물리적 거동은 각각 유연한 이송 라인(FLT)의 각각의 제 1 부분(FLT') 및 제 2 부분(FLT")의 동적 거동에 영향을 받는다.
도 7은 크로스-컷(CC)에 의하여 분리되는 유연한 이송 라인의 제 1 부분(FLT') 및 유연한 이송 라인의 제 2 부분(FLT")을 포함하는, 제 1 대상물(OBJ1) 및 제 2 대상물(OBJ2)의 개략도를 나타내고 있다. 부분들은 각각 (m), (k) 및 (d)로 나타내는 질량, 강성 및 댐핑 같은 특정한 동적 특성들을 얻는다. 이러한 실시예에서 유연한 이송 라인(FLT)의 위치를 제어하도록 구성된 능동적 제어 기구 또는 제어기는 존재하지 않는다. 예를 들어 가속 또는 감속 세트-포인트를 완료한 후에, 유연한 이송 라인(FLT)에 대응되는 기생(parasitic) 동적 시스템이 모든 에너지가 소산될 때까지 댐핑된 진동을 수행한다. 이러한 댐핑된 진동은 제 1 대상물(OBJ1) 및 제 2 대상물(OBJ2) 둘 모두 상에 외부 교란력(FDIST)을 야기하며, 따라서 도 4에 상술된 바와 같이 대상물들의 동적 성능에 영향을 미친다.
일 예시로서, 강성 계수(k)를 갖는 유연한 이송 라인(FLT") 제 2 부분의 기생 동역학(parasitic dynamics)으로 인한 제 2 대상물(OBJ2) 상의 실질적인 정적 교란력에 있어, 이러한 교란력은 수학식 2에 따라 결정될 수 있다[여기서, 제 2 대상물(OBJ2)과 유연한 이송 라인(FLT")의 제 2 부분 간의 상호 변위는 ε이라 지칭됨].
Figure pat00002
일 예시로서, 제 2 대상물(OBJ2) 상의 실질적인 동적 교란력의 경우에, 제 2 대상물(OBJ2)과 유연한 이송 라인(FLT") 제 2 부분 간의 상호 변위와 제 2 대상물(OBJ2)의 가속도 사이의 관계는 수학식 3에 따라 계산될 수 있다.
Figure pat00003
여기서, ω0는 유연한 이송 라인(FLT")의 제 2 부분의 고유주파수를 지칭하고, 'a'는 제 2 대상물(OBJ2)의 가속도를 지칭하며, ξ은 댐퍼의 백분율 크리티컬 댐핑(percentage critical damping)(d)을 지칭한다. 수학식 3을 수학식 2에 대입하면, 예를 들어 제 2 대상물(OBJ2)의 가속 또는 감속으로 인해 제 2 대상물(OBJ2) 상에 작용하는 외부 교란력(FDIST)의 진폭 및 주파수에 대한 식이 얻어진다.
Figure pat00004
도 4에 도시된 바와 같이, 피드-포워드 제어 신호(FF) 또한 제어 목적을 위해 피지컬 시스템(PLT)에 적용될 수 있다. 업계에서 알 수 있듯이, 필요한 피드-포워드 신호와 실제 피드-포워드 신호(FF) 간의 특정한 미스매치는 불가피하며, 예를 들어 피지컬 시스템(PLT)에서의 변화들, 조정된(tuned) 파라미터들의 부정확성 및 물리적 특징들의 비선형성에 의하여 야기될 수 있다. 이는, 도 7에 따른 질량-스프링-댐퍼 시스템(mass-spring-damper system)으로 표현되는 유연한 이송 라인(FLT) 동역학의 여기(excitation)를 야기하는, 피지컬 시스템(PLT)의 응답에 있어 최악의-경우를 초래할 수 있다. 이러한 질량-스프링-댐퍼 시스템에 의하여 야기되는 외부 교란력(FDIST)은 수학식 4에 나타나 있다.
상술된 실시예에 따른 제 2 대상물(OBJ2)과 같은 실질적인 자유 이동 질량 상에 임의의 힘을 가하면, 자유 이동 질량 'm'의 변위와 자유 이동 질량 상에 가해지는 힘 간의 동적 전달 함수는 수학식 5에 따라 표현될 수 있다.
Figure pat00005
교란력이 존재하는 경우 교란력(FDIST)의 주파수를 ωe로 대체하여 수학식 5를 재구성한 후에, 이러한 자유 이동 질량의 주파수 종속 변위 'x'는 수학식 6에 따라 표현될 수 있다.
또한, 수학식 4를 수학식 6에 대입하면 수학식 7이 얻어지는데, 이는 본 발명의 일 실시예에 따른 제 2 대상물(OBJ2)과 같은 자유 이동 질량에 적용되는 특정 가속도 'a'로 인한 변위 'x'를 나타낸다.
Figure pat00007
수학식 7로부터, 기술된 교란력들(FDIST)의 원인과 관련하여, 제 2 대상물(OBJ2)의 작은 변위는 작은 상호 강성, 작은 가속 및/또는 감속 레벨들, 제 2 대상물(OBJ2)의 큰 질량 및 유연한 이송 라인(FLT)과 같은 동적 시스템의 큰 고유주파수의 조합을 요하는 것이 바람직하다는 결론을 내릴 수 있다. 수학식 7은 당 업계에서 2차 세트-포인트 프로파일로서 알려진 스텝 응답으로서 가속 프로파일이 적용되는 경우를 위해 유도되었으나, 3차 또는 4차 프로파일들 같은 훨씬 더 나아간 가속 세트-포인트는 수학식 7에 나타낸 것 같은 모순적 요건들을 해결할 수 없다. 현재의 개발상황들은 보다 가벼운 스테이지들, 증가된 감속 및 가속 레벨들 및 보다 높게 요구되는 정확성들을 경향으로 하며, 이는 제 2 대상물(OBJ2)의 변위가 감소하는 대신 증가되게 하여 바람직하지 않다. 상술된 분석에 의하면, 한편으로는 상대적으로 작은 상호 강성을 갖는 유연한 이송 라인(FLT)과, 다른 한편으로는 높은 내부 강성의 유연한 이송 라인 간의 세밀한 균형을 달성하여 유연한 이송 라인(FLT)의 상대적으로 낮은 주파수의 동적 거동을 방지하는 것이 바람직하다는 결론을 내릴 수 있다. 그러므로, 유연한 이송 라인에는 유연한 이송 라인(FLT)에서의 위치의 함수로서 강성이 제공되어, 위치설정 시스템(POS)의 폐쇄-루프 전달 함수에 맞는 유연한 이송 라인(FLT)의 동적 전달 함수(DTF)를 얻는다. 지금까지 유연한 이송 라인(FLT)은 한 덩어리의(a lumped) 질량 단일 자유도(DOF) 동적 시스템으로 나타내었으나, 실제에 있어 유연한 이송 라인(FLT)은 이러한 DOF 각각의 대상물들 상에 기생 동적 힘들로서 작용할 수 있는 주파수 종속적 컴플렉스 모드 형상들(frequency dependent complex mode shapes)을 포함하는 유연한 부분이다.
도 8a는 본 발명의 일 실시예에 따른 유연한 이송 라인(FLT)의 측면도이며, 유연한 이송 라인(FLT)이 실질적으로 불규칙한 외경을 가질 수도 있음을 나타내고 있다. 도 8b는 도 8a에 도시된 바와 같은 라인 A-A에 따른 유연한 이송 라인(FLT)의 단면도를 나타내고 있다. 상기 단면도는, 유연한 이송 라인(FLT)이 [l=0; l=L] 사이의 범위에서 유연한 이송 라인(FLT)의 전체 길이에 걸쳐 제 1 재료(MAT1)와 함께 구성 및 배치되며, [l=l0; l=l1] 사이의 범위에서 베이스 재료의 최상부 상에 소정 두께를 갖는 제 2 재료(MAT2)가 더 제공될 수 있음을 나타내고 있다. 일 예시로서, 유연한 이송 라인(FLT)에는 [l=l2; l=l3] 사이의 범위에서 베이스 재료의 최상부 상에 소정 두께를 갖는 제 3 재료(MAT3)가 제공될 수도 있다. 도 8c는, 제 1 재료(MAT1)를 이용하는 [l=0; l=1], [l=l1; l=l2] 및 [l=l3; l=L] 사이의 범위들에서는 유연한 이송 라인(FLT)의 강성이 C1과 같고, 각각 제 2 재료(MAT2) 및 제 3 재료(MAT3)를 이용하는 [l=l0; l=l1] 및 [l=l2; l=l3] 사이의 범위에서는 유연한 이송 라인(FLT)의 강성이 각각 C2 및 C3와 같은, 유연한 이송 라인(FLT)에서의 위치의 함수로서 강성의 일 예시를 나타내고 있다. 당업자라면 동일하거나 상이한 재료의 보다 많은 층들을 조합함으로써 소정의 강성이 제공될 수도 있지만, 또한 제 1 재료(MAT1), 제 2 재료(MAT2) 및 제 3 재료(MAT3)가 같은 재료로 이루어지고 재료의 두께를 변화시켜 상이한 강성이 구성될 수 있도록 할 수도 있음을 이해할 것이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 유연한 이송 라인을 나타내고 있다. 도 9에서, 유연한 이송 라인에서의 위치의 함수인 강성은 유연한 이송 라인(FLT)이 제 1 힌지(HNG1)를 갖도록 이루어진다. 이 실시예에서, 제 1 대상물(OBJ1)과 제 2 대상물(OBJ2) 간의 상호 강성은 감소되는 한편, 유연한 이송 라인의 동적 거동은 거의 영향을 받지 않는다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 유연한 이송 라인을 나타내고 있다. 도 10에서, 유연한 이송 라인(FLT)에서의 위치의 함수인 강성은 유연한 이송 라인(FLT)이 실질적으로 직선형이고 차원적으로 안정적인 제 1 부분(FLT1) 및 실질적으로 직선형이고 차원적으로 안정적인 제 2 부분(FLT2)를 포함하고, 이들 부분들이 제 1 힌지(HNG1) 주위에서 서로에 대해 피봇될 수 있도록 상기 제 1 힌지(HNG1)와 연결되게 되어 있다. 힌지는 다루기에 자유롭고 피봇 각도 주위를 제외하고 모든 방향으로 실질적으로 단단한 것이 바람직하다. 이러한 실시예에서, 제 1 대상물(OBJ1) 및 제 2 대상물(OBJ2)은 작은 상호 강성으로 커플링되는 한편, 유연한 이송 라인 제 1 부분(FLT1) 및 유연한 이송 라인 제 2 부분(FLT2)의 내부 강성은 증가된다. 유연한 이송 라인 제 1 부분(FLT1) 및 유연한 이송 라인 제 2 부분(FLT2)의 증가된 내부 강성으로 인해 상기 부분들의 고유주파수가 증가되며, 이는 적어도 제 2 대상물(OBJ2)의 보다 나은 동적 성능을 유도하여 이미징 및 오버레이 성능을 향상시킬 수 있다.
도 11은 제 1 힌지(HNG1)가 부분들 사이에 피봇 각도를 가지며, 피봇 각도(α)가 0 내지 360°의 범위를 갖는, 본 발명의 또 다른 실시예를 나타내고 있다. 이러한 실시예에서, 제 1 힌지(HNG1)는 유연한 이송 라인의 제 1 부분(FLT1) 및 유연한 이송 라인(FLT2)의 제 2 부분이 실질적으로 직선형이고 차원적으로 안정적이긴 하지만 나타낸 바와 같은 범위를 갖는 피봇 각도(α) 주위에서 제 2 대상물(OBJ2)로 하여금 제 1 대상물(OBJ1)에 대해 움직이도록 한다.
도 12는 제 1 힌지(HNG1)는 중립 위치를 가지고, 피봇 각도는 실질적으로 90°이며, 유연한 이송 라인(FLT)은 실질적으로 내부 응력이 없는 본 발명의 일 실시예를 나타내고 있다. 이러한 중립 위치는 사전형성된 유연한 이송 라인을 이용함으로써 얻어질 수 있다. 일 예시로서, 제 1 대상물(OBJ1) 및 제 2 대상물(OBJ2) 움직임의 최대 범위가 수평 xy-평면 내에 있을 수 있다. 이 실시예는 대상물들 간의 상대적으로 작은 상호 강성으로 인해 제 1 대상물(OBJ1)의 수평방향 움직임이 유연한 이송 라인(FLT)을 통한 제 2 대상물(OBJ2) 상으로의 교란력을 덜 야기하는 한편, 유연한 이송 라인(FLT)의 큰 내부 강성이 유연한 이송 라인(FLT)의 상대적으로 낮은 주파수의 동적 거동을 방지하는 장점을 갖는다.
도 13은 유연한 이송 라인에서의 위치의 함수인 강성이, 유연한 이송 라인(FLT)이 각각의 제 1 대상물(OBJ1) 및 제 2 대상물(OBJ2) 부근에 배치되는 제 2 힌지(HNG2) 및 제 3 힌지(HNG3)를 각각 구비하도록 되어 있는 본 발명의 추가 실시예를 나타내고 있다. 이러한 실시예의 장점은, 대상물들 간에 훨씬 더 감소된 상호 강성을 유도하는 한편, 유연한 이송 라인 제 1 부분(FLT1) 및 유연한 이송 라인 제 2 부분(FLT2)의 내부 강성이 실질적으로 같은 레벨로 유지되도록 한다. 유연한 이송 라인(FLT)의 추가 실시예는 이송 방향으로 저감된 비틀림 강성을 갖는, 실질적으로 직선형이며 차원적으로 안정적인 부분들을 포함할 수 있다. 이러한 저감된 비틀림 강성은 유연한 이송 라인(FLT)의 제 1 부분(FLT1) 및/또는 제 2 부분(FLT2)의 외경부에 노치들을 커팅함으로써 구성 및 배치될 수 있다. 이러한 실시예에서는, 상호 강성과 다른 한편으로 큰 내부 강성 간에 휠씬 더 나은 균형이 달성되어 유연한 이송 라인(FLT)의 상대적으로 낮은 주파수의 동적 거동을 방지할 수 있다.
도 14는 제 1 대상물(OBJ1)에 부착되는 유연한 이송 라인(FLT1)의 제 1 부분에, 제 1 힌지(HNG1) 부근에서 실질적으로 만곡되고 차원적으로 안정적인 부분(FLT1)이 제공되는 본 발명의 일 실시예를 나타내고 있다. 이 실시예는 유연한 이송 라인(FLT)의 보다 큰 질량부가 제 1 대상물(OBJ1)에 부착되기 때문에[상기 대상물은 제 2 대상물(OBJ2)과 비교하여 저감된 동적 성능 요건들을 가짐] 추가적인 장점을 갖는다. 이 실시예로부터의 실질적으로 만곡되고 차원적으로 안정적인 부분(FLT1)의 추가적인 장점은, 매체가 예를 들어 제 1 대상물(OBJ1)로부터 제 2 대상물(OBJ2)로 유동할 때, 가령 수평방향(예를 들어, y-방향)으로부터 가령 수직방향(예를 들어, z-방향)으로 냉각 매체의 이송 방향이 변하는 경우 임펄스 변동들에 의해 야기되는 정적 교란력이 저감된다는 점이다. 피지컬 플랜트(PLT)에 의하여 보상될 필요가 있는 교란력(FDIST)은 액추에이터 시스템에서의 열 발생을 유도하며, 결과적으로 액추에이터 시스템을 사전정의된 레벨로 유지하기 위해 소정 양의 냉각 매체를 필요로 한다. 결과적으로, 저감된 교란력은 열을 덜 발생시키며, 따라서 냉각 매체를 덜 필요로 한다.
본 명세서에서는, IC 제조에 있어서 리소그래피 장치의 특정 사용예에 대하여 언급되지만, 본 명세서에 서술된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리용 안내 및 검출 패턴, 평판 디스플레이(flat-panel display), 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드 등의 제조와 같이 다른 적용예들을 가질 수도 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용예와 관련하여, 본 명세서의 "웨이퍼" 또는 "다이"라는 용어의 어떠한 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟부"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수도 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은 노광 전후에, 예를 들어 트랙(전형적으로, 기판에 레지스트 층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 툴), 메트롤로지 툴 및/또는 검사 툴에서 처리될 수 있다. 적용가능하다면, 이러한 기판 처리 툴과 다른 기판 처리 툴에 본 명세서의 기재 내용이 적용될 수 있다. 또한, 예를 들어 다층 IC를 생성하기 위하여 기판이 한번 이상 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 이미 여러 번 처리된 층들을 포함한 기판을 칭할 수도 있다.
이상, 광학 리소그래피와 관련하여 본 발명의 실시예들의 특정 사용예를 언급하였지만, 본 발명은 다른 적용예들, 예를 들어 임프린트 리소그래피에 사용될 수 있으며, 본 명세서가 허용한다면 광학 리소그래피로 제한되지 않는다는 것을 이해할 것이다. 임프린트 리소그래피에서, 패터닝 디바이스 내의 토포그래피(topography)는 기판 상에 생성된 패턴을 정의한다. 패터닝 디바이스의 토포그래피는 전자기 방사선, 열, 압력 또는 그 조합을 인가함으로써 레지스트가 경화되는 기판에 공급된 레지스트 층으로 가압될 수 있다. 패터닝 디바이스는 레지스트가 경화된 후에 그 안에 패턴을 남기는 레지스트로부터 이동된다.
본 명세서에서 사용된 "방사선" 및 "빔"이라는 용어는 (예를 들어, 365, 355 248, 193, 157 또는 126 nm, 또는 그 정도의 파장을 갖는) 자외(UV)방사선 및 (예를 들어, 5 내지 20 nm 범위 내의 파장을 갖는) 극자외(EUV)방사선뿐만 아니라, 이온 빔 또는 전자 빔과 같은 입자 빔을 포함하는 모든 형태의 전자기 방사선을 포괄한다.
본 명세서가 허용하는 "렌즈"라는 용어는, 굴절, 반사, 자기, 전자기 및 정전기 광학 구성요소들을 포함하는 다양한 형태의 광학 구성요소들 중 어느 하나 또는 그 조합으로 언급될 수 있다.
이상, 본 발명의 특정 실시예가 설명되었지만 본 발명은 설명된 것과 다르게 실시될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 예를 들어, 본 발명은 앞서 개시된 바와 같은 방법을 구현하는 기계-판독가능한 명령어의 1 이상의 시퀀스를 포함하는 컴퓨터 프로그램, 또는 이러한 컴퓨터 프로그램이 저장되어 있는 데이터 저장 매체(예를 들어, 반도체 메모리, 자기 또는 광학 디스크)의 형태를 취할 수 있다.
상기 서술내용은 예시를 위한 것이지, 제한하려는 것이 아니다. 따라서, 당업자라면 아래에 설명되는 청구항들의 범위를 벗어나지 않고 서술된 본 발명에 대한 변형예가 행해질 수도 있음을 이해할 것이다.

Claims (11)

  1. 위치설정 장치(positioning apparatus)에 있어서,
    제 1 대상물 및 제 2 대상물;
    상기 제 1 대상물 및 상기 제 2 대상물을 서로에 대해 위치설정하도록 구성되는 위치설정 시스템; 및
    상기 제 1 대상물 및 상기 제 2 대상물에 연결되는 유연한 이송 라인(flexible transportation line)을 포함하며,
    상기 유연한 이송 라인은 동적 전달 함수(dynamic transfer function)에 의해 표현될 수 있도록 상기 유연한 이송 라인을 따라 변하는 강성(stiffness)을 가지며,
    상기 동적 전달 함수는 상기 위치설정 시스템의 폐쇄-루프 전달 함수에 맞도록 이루어지는 위치설정 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 유연한 이송 라인은 제 1 힌지를 갖는 위치설정 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 유연한 이송 라인은 실질적으로 직선형이고 차원적으로 안정적인 제 1 부분 및 실질적으로 직선형이고 차원적으로 안정적인 제 2 부분을 포함하며,
    상기 제 1 부분 및 상기 제 2 부분은 상기 제 1 힌지 주위에서 서로에 대해 피봇될 수 있도록 상기 제 1 힌지를 통해 연결되는 위치설정 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 힌지는 상기 제 1 부분 및 상기 제 2 부분 사이에 피봇 각도를 가지며,
    상기 피봇 각도는 0 내지 360°사이의 범위를 갖는 위치설정 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 1 힌지는 중립 위치(neutral position)를 가지며, 상기 피봇 각도는 실질적으로 90°인 위치설정 장치.
  6. 제 3 항에 있어서,
    상기 유연한 이송 라인은 상기 제 1 대상물 및 상기 제 2 대상물 부근에 각각 배치되는 제 2 힌지 및 제 3 힌지를 갖는 위치설정 장치.
  7. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 대상물에 부착되는 상기 유연한 이송 라인의 제 1 부분에는 상기 제 1 힌지 부근에 실질적으로 만곡되고 차원적으로 안정적인 부분이 제공되는 위치설정 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 유연한 이송 라인은 매체를 이송하도록 구성 및 배치되는 호스 및/또는 상기 위치설정 장치의 상기 제 1 대상물과 상기 제 2 대상물 간에 전기 또는 광학 정보를 전달하도록 구성되는 와이어인 위치설정 장치.
  9. 리소그래피 장치에 있어서,
    패터닝 디바이스를 지지하도록 구성되는 패터닝 디바이스 지지부 - 상기 패터닝 디바이스는 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하여 패터닝된 방사선 빔을 형성할 수 있음 - ;
    기판을 유지하도록 구성되는 기판테이블;
    상기 패터닝된 방사선 빔을 상기 기판의 타겟부 상으로 투영하도록 구성되는 투영시스템; 및
    위치설정 장치를 포함하고,
    상기 위치설정 장치는,
    제 1 대상물 및 제 2 대상물;
    상기 제 1 대상물 및 상기 제 2 대상물을 서로에 대해 위치설정하도록 구성되는 위치설정 시스템; 및
    상기 제 1 대상물 및 상기 제 2 대상물에 연결되는 유연한 이송 라인을 포함하며,
    상기 유연한 이송 라인은 동적 전달 함수에 의해 표현될 수 있도록 상기 유연한 이송 라인을 따라 변하는 강성을 가지고,
    상기 동적 전달 함수는 상기 위치설정 시스템의 폐쇄-루프 전달 함수에 맞도록 이루어지며,
    상기 제 1 대상물은 장행정 모듈의 이동가능한 부분이고 상기 제 2 대상물은 단행정 모듈의 이동가능한 부분인 리소그래피 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 장행정 모듈의 이동가능한 부분에 부착되는 상기 유연한 이송 라인의 제 1 부분은 상기 이동가능한 부분의 제 1 이동 방향과 실질적으로 평행하게 배향되는 리소그래피 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 1 이동 방향은 스캔 방향인 리소그래피 장치.
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