KR20100104189A - Color filter and liquid crystal display device having the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A color filter and a liquid crystal display device including the same are provided to prevent the deterioration of brightness and afterimage. CONSTITUTION: A color filter comprises a coloration layer on a substrate arranged on a thin film transistor. The coloration layer is made of color sensitive resin composite. The coloration layer includes a coloration material(a), a bonding agent resin(b), a photopolymerization compound(c), a photopolymerization initiator(d) and a solvent(e). The coloration material includes a C.I. pigment green 58 and a C.I. pigment yellow 138. The bonding agent resin includes a copolymer obtained by a copolymerization reaction.

Description

컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 장치{COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME}COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME}

본 발명은 박막 트랜지스터(TFT) 방식 컬러 액정 표시 장치의 구동용 기판 상에 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 착색층을 포함하는 컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a color filter including a colored layer formed using a colored photosensitive resin composition on a driving substrate of a thin film transistor (TFT) type color liquid crystal display device, and a liquid crystal display device having the same.

박막 트랜지스터(TFT) 기판을 사용하는 컬러 액정 표시 장치에 있어서, 종래에는 컬러 화상을 표시하기 위한 컬러 필터 기판을 박막 트랜지스터(TFT)가 배치된 구동용 기판과 별도로 제작하고, 이 컬러 필터 기판을 상기 구동용 기판과 접합하여 제조하였다. 그러나, 이러한 방식에서는 접합할 때의 위치 정밀도가 낮기 때문에 블랙 매트릭스의 폭을 크게 하지 않으면 안되고, 개구율(즉, 광을 투과하는 개구부의 비율)을 높이는 것이 곤란하다는 결점이 있었다. In a color liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT) substrate, conventionally, a color filter substrate for displaying a color image is manufactured separately from a driving substrate on which a thin film transistor (TFT) is disposed, and the color filter substrate is described above. It was manufactured by bonding to a driving substrate. However, in this system, since the positional accuracy at the time of joining is low, the width | variety of a black matrix must be enlarged and it is difficult to raise aperture ratio (namely, the ratio of the opening which permeate | transmits light).

한편, 상기 방식에 대하여 박막 트랜지스터(TFT)가 배치된 구동용 기판의 표면 상에 착색층을 직접 또는 질화 규소막 등의 보호막 위에 형성하고, 이 착색층을 형성한 기판을 스퍼터링에 의해 ITO(Indium Tin Oxide) 전극 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)을 형성한 기판과 접합시키는 방식이 개발되었다. On the other hand, with respect to the above method, a colored layer is formed directly on the surface of the driving substrate on which the thin film transistor (TFT) is arranged or on a protective film such as a silicon nitride film, and the substrate on which the colored layer is formed is sputtered by ITO (Indium). A method of bonding to a substrate on which a tin oxide electrode or an indium zinc oxide (IZO) is formed has been developed.

이러한 방식에서는 상기 구동용 기판 상에 직접 화소 또는 블랙 매트릭스를 포함한 착색층을 형성하기 때문에, 컬러 필터 기판과 상기 구동용 기판과의 접합 공정이 불필요하며, 전자의 방식과 비교하여 개구율을 매우 향상시킬 수 있어서 밝고 고정밀도의 표시 장치를 얻을 수 있는 특징이 있다. In this method, since a colored layer including a pixel or a black matrix is formed directly on the driving substrate, the bonding process between the color filter substrate and the driving substrate is unnecessary, and the aperture ratio can be greatly improved as compared with the former method. It is possible to obtain a bright and high precision display device.

또한, 이러한 방식에 의해 형성된 착색층에는, 착색층상에 배치되는 공통전극과 착색층 하측의 구동용 기판 단자를 도통시키기 위해서 건식 에칭(Dry Etching) 법에 의한 전기적 도통로(Contact Hole) 형성이 필요하며, 길이 1 내지 30㎛ 정도, 바람직하게는 5~20㎛ 이하의 사각형 관통 구멍 또는 ㄷ자형 오목부 등의 도통로를 형성한다. In addition, the colored layer formed by such a method requires the formation of an electrical hole by dry etching in order to conduct the common electrode disposed on the colored layer and the driving substrate terminal under the colored layer. And a conductive path, such as a rectangular through hole or a U-shaped recess, having a length of about 1 to 30 µm, preferably 5 to 20 µm or less.

이때, 종래의 박막트랜지스터(TFT) 방식 컬러 액정 표시 장치의 구동용 기판상에 착색층을 형성하기 위해 사용되는 착색 감방사선성 조성물을 사용시에는 건식에칭(Dry Etching) 후에 상기 건식 에칭(Dry Etching)을 실시한 전기적 도통로(Contact Hole) 주변에 안료에서 기인하는 금속(Metal) 성분에 의해 휘도가 저하되는 문제점이 발생하기 때문에, 이에 대한 해결책이 요구되고 있었다.In this case, when using a colored radiation-sensitive composition used to form a colored layer on a driving substrate of a conventional thin film transistor (TFT) type color liquid crystal display device, the dry etching is performed after dry etching. Since there is a problem that the luminance is lowered due to the metal component due to the pigment around the electrical contact hole (Contact Hole) is performed, a solution for this has been required.

본 발명의 과제는 COA(Color Filter on Array)구조의 액정 표시 장치에 있어 픽셀 전극과 능동 소자(TFT)의 전기적 도통로(Contact Hole)를 형성 시, 화학적 안정성이 우수하여 안료 성분에 의한 잔상 및 휘도 저하가 발생하지 않는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 착색층을 포함하는 컬러 필터를 제공하는데 있다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an afterimage due to a pigment component due to excellent chemical stability when forming a contact hole between a pixel electrode and an active element (TFT) in a color filter on array (COA) structure. It is providing the color filter containing the colored layer formed using the coloring photosensitive resin composition from which brightness fall does not occur.

본 발명의 또 다른 과제는 상기 컬러 필터를 구비한 액정 표시 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having the color filter.

상기한 과제를 달성하기 위해 본 발명은 박막 트랜지스터가 배치된 기판상에 C.I. 피그먼트 그린 58과 C.I. 피그먼트 옐로우 138을 포함하는 착색 재료(A), 결합제 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 및 용제(E)를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 착색층을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a C.I. Pigment Green 58 and C.I. Colored layer formed using the coloring photosensitive resin composition containing the coloring material (A) containing pigment yellow 138, binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photoinitiator (D), and a solvent (E). It provides a color filter comprising a.

본 발명의 또 다른 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 본 발명에 따른 컬러 필터가 구비된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치를 제공한다. In order to achieve another object of the present invention, the present invention provides a liquid crystal display device characterized in that the color filter according to the present invention is provided.

본 발명에 따른 컬러 필터는 착색 재료, 결합제 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 착색층을 포함하는 것으로서, 특히 착색 재료로 C.I. 피그먼트 그린 58과 C.I. 피그먼 트 옐로우 138을 조합하여 사용함에 따라 건식 에칭을 실시하여도 화학적 안정성이 우수하여 잔상 및 휘도 저하가 발생하지 않는 효과를 갖는다. 따라서 본 발명에 따른 컬러필터는 전자 공업 분야에서의 액정 표시 장치에 바람직하게 적용될 수 있다.The color filter according to the present invention comprises a colored layer formed by using a colored photosensitive resin composition containing a coloring material, a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a solvent, and in particular, C.I. Pigment Green 58 and C.I. By using Pigment Yellow 138 in combination, the chemical stability is excellent even if dry etching is performed, and thus, afterimage and luminance reduction do not occur. Therefore, the color filter according to the present invention can be preferably applied to the liquid crystal display device in the electronic industry.

이하 본 발명을 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명에 따른 컬러필터는 박막 트랜지스터가 배치된 기판상에 착색 재료(A), 결합제 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 및 용제(E)를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 착색층을 포함한다. The color filter which concerns on this invention is colored photosensitive containing a coloring material (A), binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photoinitiator (D), and a solvent (E) on the board | substrate with which the thin film transistor was arrange | positioned. The colored layer formed using the resin composition is included.

이하, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 각 성분에 대하여 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, each component contained in the coloring photosensitive resin composition of this invention is demonstrated in detail.

착색 재료(A)Coloring material (A)

상기 착색 재료(A)는 C.I. 피그먼트 그린 58과 C.I. 피그먼트 옐로우 138을 포함한다. 이와 같이 착색 재료(A)로 C.I. 피그먼트 그린 58과 C.I. 피그먼트 옐로우 138이 포함될 경우 건식 에칭을 실시하여도 화학적 안정성이 우수하여 잔상 및 휘도 저하가 발생하지 않게 된다. The coloring material (A) is C.I. Pigment Green 58 and C.I. Pigment yellow 138. Thus, as a coloring material (A), C.I. Pigment Green 58 and C.I. When Pigment Yellow 138 is included, even after dry etching, the chemical stability is excellent, and thus afterimage and luminance deterioration do not occur.

상기 착색 재료(A) 중 C.I. 피그먼트 그린 58 및 C.I. 피그먼트 옐로우 138 의 함량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 질량 분율로 5 내지 60질량% 및 0.1 내지 50 중량%인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 각각 10 내지 50질량%인 것이 좋다. 상기 착색 재료(A) 중 C.I. 피그먼트 그린 58 및 C.I. 피그먼트 옐로우 138의 함량이 상기의 기준으로 5 내지 60질량% 및 0.1 내지 50 중량%일 경우 건식 에칭(Dry Etching) 법에 의한 전기적 도통로(Contact Hole) 형성 후에도, 건식 에칭(Dry Etching) 한 주변에 잔존하는 금속(Metal)이 적어 잔상이 발생하지 않기 때문에 바람직하다.C.I. in the coloring material (A). Pigment Green 58 and C.I. The content of Pigment Yellow 138 is preferably 5 to 60% by mass and 0.1 to 50% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, based on the mass fraction of the solids in the colored photosensitive resin composition. C.I. in the coloring material (A). Pigment Green 58 and C.I. When the content of pigment yellow 138 is 5 to 60% by mass and 0.1 to 50% by weight based on the above criteria, dry etching may be performed even after the formation of the contact hole by dry etching. It is preferable because there is little metal remaining in the surroundings and thus no afterimage occurs.

상기 착색 재료(A)에는 상기 C.I. 피그먼트 그린 58 및 C.I. 피그먼트 옐로우 138 이외의 다른 안료를 사용할 수 있다. 여기서 다른 안료의 함량은 일반적으로 착색 감광성 수지 조성물의 안료 성분에 대하여 질량 분율로 50질량% 이하, 바람직하게는 40질량% 이하이다. 여기서 "다른 안료"라는 표현은 C.I. 피그먼트 그린 58 및 C.I. 피그먼트 옐로우 138 이외의 안료를 가리킨다.The coloring material (A) includes the C.I. Pigment Green 58 and C.I. Pigments other than Pigment Yellow 138 may be used. The content of the other pigment is generally 50% by mass or less, preferably 40% by mass or less, based on the mass fraction of the pigment component of the colored photosensitive resin composition. The expression "other pigments" herein refers to C.I. Pigment Green 58 and C.I. Pigment other than pigment yellow 138.

상기 착색 재료(A) 중 사용 가능한 다른 안료로서, 구체적으로는 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다. As another pigment which can be used in the said coloring material (A), the compound specifically classified as a pigment in the color index (The society of Dyers and Colourists) is mentioned, More specifically, the color index (the following) ( Although pigment of CI) number is mentioned, it is not necessarily limited to these.

C.I. 피그먼트 옐로우 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185C.I. Pigment Yellow 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 and 185

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71 C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, and 71

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 255 및 264 C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 255 and 264

C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38 C.I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38

C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6등), 21, 28, 60, 64 및 76 C.I. Pigment Blue 15 (15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), 21, 28, 60, 64, and 76

C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36 및 47C.I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36 and 47

C.I. 피그먼트 브라운 28C.I. Pigment Brown 28

C.I. 피그먼트 블랙 1 및 7 등 C.I. Pigment Black 1 & 7 etc

이들 착색 재료(A)는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. These coloring materials (A) can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

이때 본 발명의 컬러필터에는 상기 착색 재료(A)로 C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 242 또는 C.I. 피그먼트 레드 177로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 것이 포함될 수 있다. At this time, the color filter of the present invention as the coloring material (A) C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 242 or C.I. Pigment Red 177 may be formed using a colored photosensitive resin composition containing at least one selected from the group consisting of.

상기 착색 재료 중 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 242 또는 C.I. 피그먼트 레드 177로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 함량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량 분율로 5 내지 60질량%, 바람직하게는 10 내지 50질량%이다. 상기 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 242 또는 C.I. 피그먼트 레드 177로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 함량이 상기 기준으로 상기 범위 내로 함유될 경우 적색 화소 형성시 건식 에칭(Dry Etching) 법에 의한 전기적 도통로(Contact Hole) 형성 후에도, 건식 에칭(Dry Etching) 한 주변에 잔존하는 금속(Metal)이 적어 잔상이 발생하지 않기 때문에 바람직하다. 상기 착색 재료(A)의 함량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량 분율로 5 내지 60질량%, 바람직하게는 10 내지 50질량%이다. 상기 범위 내로 착색 재료(A)가 함유될 경우 충분한 컬러 농도를 확보할 수 있으며, 양호한 패턴 형성이 가능해지기 때문에, 착색 재료(A)는 상기 범위 내로 함유되는 것이 바람직하다.Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 242 or C.I. The at least one content selected from the group consisting of Pigment Red 177 is 5 to 60% by mass, preferably 10 to 50% by mass, based on the mass fraction of the solids in the colored photosensitive resin composition. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 242 or C.I. When at least one content selected from the group consisting of Pigment Red 177 is contained within the above range on the basis of the above reference, dry etching may be performed even after the formation of a contact hole by a dry etching method when forming red pixels. Dry Etching) It is preferable because there is less metal remaining in the vicinity, so that no afterimage occurs. The content of the coloring material (A) is 5 to 60% by mass, preferably 10 to 50% by mass, based on the mass fraction with respect to the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the coloring material (A) is contained within the above range, a sufficient color density can be ensured, and since a good pattern can be formed, the coloring material (A) is preferably contained within the above range.

본 발명에서 착색 감광성 조성물 중의 고형분이란, 용제를 제거한 성분의 합계를 의미한다.Solid content in a coloring photosensitive composition in this invention means the sum total of the component remove | excluding the solvent.

착색 재료가 안료인 경우에는, 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리를 수행함으로써, 안료가 용액 중에서 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다.When the coloring material is a pigment, the pigment dispersion liquid of the state in which the pigment was disperse | distributed uniformly in the solution can be obtained by containing a pigment dispersing agent and performing a dispersion process.

상기 안료 분산제로서는, 예를 들어, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성, 폴리에스테르계 및 폴리아민계, 폴리아크릴계 등의 계면활성제를 사용할 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the pigment dispersant, for example, cationic, anionic, nonionic, amphoteric, polyester-based, and polyamine-based, polyacrylic-based surfactants can be used, and these may be used alone or in combination of two or more thereof. Can be used.

안료 분산제를 사용하는 경우, 그의 사용량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 착색 재료 1질량부 당 바람직하게는 1질량부 이하이고, 보다 바람직하게는 0.05질량부 내지 0.5질량부이다. 안료 분산제의 사용량이 상기 범위에 있으면, 균일한 분산 상태의 안료가 얻어지므로, 안료 분산제는 상기 범위 내로 사용하는 것이 바람직하다.When using a pigment dispersant, the usage-amount is per 1 mass part of coloring materials in a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is 1 mass part or less, More preferably, it is 0.05 mass part-0.5 mass part. When the usage-amount of a pigment dispersant exists in the said range, since the pigment of a uniform dispersion state is obtained, it is preferable to use a pigment dispersant within the said range.

결합제 수지(B)Binder Resin (B)

상기 결합제 수지(B)는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)을 포함한 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체를 포함하는 것이 바람직하다. It is preferable that the said binder resin (B) contains the copolymer obtained by the copolymerization reaction containing the compound (B1) represented by following formula (1).

<화학식 1> <Formula 1>

Figure 112009015941913-PAT00001
Figure 112009015941913-PAT00001

상기 식에서 n은 0 또는 1이며, R1, R2는 위치에 따라 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12의 헤테로 원자를 포함하거나 포함하지 않는 지방족, 방향족 탄화수소이며, R3, R4, R5, R6는 위치에 따라 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 30의 헤테로 원자를 포함하거나 포함하지 않는 지방족, 방향족 탄화수소이며, R3, R4, R5, R6 중에서 둘이 선택되어 연결된 고리형태 또는 연결되지 않은 가지 형태이다. Wherein n is 0 or 1, R1 and R2 are each independently hydrogen or an aliphatic or aromatic hydrocarbon containing or without a hetero atom having 1 to 12 carbon atoms, and R3, R4, R5 and R6 are each And thus each independently hydrogen, an aliphatic or aromatic hydrocarbon containing or without a hetero atom having 1 to 30 carbon atoms, and two selected from R 3, R 4, R 5, and R 6 are linked or unbranched branches.

상기 헤테로 원자는 주골격에 또는 가지에 존재할 수 있으며, 카르보닐기, 에테르기, 알콜기, 아민기, 헤테로고리 등의 형태로 존재할 수 있으며 제한되지 않는다. The hetero atom may be present in the main skeleton or in a branch, and may exist in the form of a carbonyl group, an ether group, an alcohol group, an amine group, a heterocycle, and the like, and is not limited.

상기 결합제 수지(B)는 통상 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 갖고, 착색 재료의 분산매로서 작용한다. The binder resin (B) usually has reactivity and alkali solubility due to the action of light or heat and acts as a dispersion medium of the coloring material.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 결합제 수지(B)는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 중합(이는 공중합도 포함하는 개념이다)으로 얻어질 수 있는 구성 단위를 포함하는 불포화기 함유 수지이다 본 발명에 따른 일 실시형태의 상기 결합제 수지는 상기 화학식 1의 화합물(B1), 불포화 결합을 갖는 화합물(B2) 및 카르복실기와 불포화 결합을 갖는 화합물(B3)을 포함한 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체인 것이 바람직하며, 상기 얻어진 공중합체에 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(B4)을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 수지인 것이 더욱 좋다. The binder resin (B) contained in the coloring photosensitive resin composition of this invention is an unsaturated group containing resin containing the structural unit which can be obtained by superposition | polymerization (this is also a concept including copolymerization) of the compound represented by the said Formula (1) The binder resin of one embodiment according to the invention is preferably a copolymer obtained by a copolymerization reaction comprising the compound of formula 1 (B1), a compound having a unsaturated bond (B2) and a compound having a carboxyl group and an unsaturated bond (B3). It is more preferable that it is unsaturated group containing resin obtained by making the said copolymer obtained by making the compound (B4) which has an unsaturated bond and an epoxy group further react in 1 molecule.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물(B1)은 보다 구체적으로 아래의 화학식 2 내지 17의 구조식을 갖는 화합물에서 적어도 하나 선택되어 포함될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the compound (B1) of the general formula (1) may be included in at least one selected from the compound having a structural formula of the formula 2 to 17 more specifically.

Figure 112009015941913-PAT00002
Figure 112009015941913-PAT00002

본 발명에 따른 화학식 1로 표시되는 화합물(B1)은 상기 화학식 2 내지 17의 구조로 제한되지 않으며 노르보넨 골격구조를 포함하는 상기 화학식 1의 화합물의 유도체 또는 모든 유도체는 모두 본 발명에 포함된다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Compound (B1) represented by the formula (1) according to the present invention is not limited to the structure of the formula (2) to 17 and all derivatives or all derivatives of the compound of the formula (1) including the norbornene skeleton structure is included in the present invention. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

한편, 본 명세서 중에 기록된 (메타)아크릴레이트란 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 의미한다. In addition, the (meth) acrylate recorded in this specification means an acrylate and / or a methacrylate.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기의 불포화 결합을 갖는 화합물(B2)로써는 중합이 가능한 불포화 이중 결합을 갖는 화합물이라면 제한되지 않으며, 구체적인 일례로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬 에스테르 화합물, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헵틸(메타)아크릴레이트, 시클로옥틸(메타)아크릴레이트, 멘틸(메타)아크릴레이트, 시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥세닐(메타)아크릴레이트, 시클로헵테닐(메타)아크릴레이트, 시클로옥테닐(메타)아크릴레이트, 멘타디에닐(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 피나닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보닐(메타)아크릴레이트, 피네닐(메타)아크릴레이트 등의 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산에스테르 화합물, 올리고에틸렌클리콜 모노알킬(메타)아크릴레이트 등의 글리콜류의 모노포화 카르복실산에스테르 화합물, 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시(메타)아크릴레이트 등의 방향환을 갖는 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물, 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르, (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등의 시안화비닐 화합물, N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the compound (B2) having an unsaturated bond is not limited as long as it is a compound having an unsaturated double bond that can be polymerized. Specific examples thereof include methyl (meth) acrylate and ethyl (meth). Unsubstituted or substituted alkyl ester compounds of unsaturated carboxylic acids such as acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, aminoethyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate , Cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, cyclooctyl (meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate, cyclopentenyl (meth) acrylate, Cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, mentadienyl (meth) acrylate, iso Unsaturated carboxyl containing alicyclic substituents, such as carbonyl (meth) acrylate, pinanyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, and pineneyl (meth) acrylate Substituents which have aromatic rings, such as monosaturated carboxylic acid ester compound of glycols, such as an acid ester compound and oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, Aromatic vinyl compounds, such as an unsaturated carboxylic acid ester compound, styrene, (alpha) -methylstyrene, and vinyltoluene containing, carboxylic acid vinyl esters, such as vinyl acetate and a vinyl propionate, (meth) acrylonitrile, (alpha)-chloro acrylonitrile Maleimide compounds, such as vinyl cyanide compounds, N-cyclohexyl maleimide, and N-phenyl maleimide, etc. are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 카르복실기와 불포화 결합을 갖는 화합물(B3)은 중합이 가능한 불포화 이중 결합을 갖는 카르복실산 화합물이라면 제한되지 않으며, 구체적인 일례로 아크릴산, 메타크릴산 등을 들 수 있다. 아크릴산, 메타크릴산은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 또한, 이들 아크릴산이나 메타크릴산에 부가하여 그 밖의 산을 1종 이상 사용할 수도 있다. 그 밖의 산으로써는 구체적으로 크로톤산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산 등 다른 불포화 카르복실산으로부터 1종 이상 선택되는 카르복실산을 병용하는 것도 가능하다. 또한, α-(히드록시메틸)아크릴산 등의 동일 분자 중에 히드록시기 및 카르복실기를 함유하는 단량체를 병용할 수도 있다. In one embodiment of the present invention, the compound (B3) having an unsaturated bond with the carboxyl group is not limited as long as it is a carboxylic acid compound having an unsaturated double bond capable of polymerization, and specific examples thereof include acrylic acid and methacrylic acid. have. Acrylic acid and methacrylic acid can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. In addition to these acrylic acid and methacrylic acid, one or more other acids may be used. As another acid, it is also possible to specifically use together the carboxylic acid chosen from 1 type or more of other unsaturated carboxylic acids, such as crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, and fumaric acid. Moreover, you may use together the monomer containing a hydroxyl group and a carboxyl group in the same molecule, such as (alpha)-(hydroxymethyl) acrylic acid.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 본 발명에서 사용되는 (B1) 내지 (B3)을 공중합하여 얻어지는 공중합체(B1 내지 B3 이외의 단량체가 더 포함되어 공중합되는 경우에도 본 발명에 포함된다)에 있어서, (B1) 내지 (B3) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율은 상기의 공중합체를 구성하는 구성 성분의 합계 몰수에 대하여 몰 분율로 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. In one embodiment of the present invention, in the copolymer obtained by copolymerizing (B1) to (B3) used in the present invention (even when monomers other than B1 to B3 are further included and copolymerized, they are included in the present invention). , And the proportion of the constituents derived from each of (B1) to (B3) is preferably in the following ranges in mole fraction with respect to the total moles of the constituents constituting the copolymer.

(B1)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 30몰%, Structural unit derived from (B1): 2 to 30 mol%,

(B2)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 95몰%, Structural unit derived from (B2): 2 to 95 mol%,

(B3)으로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 70몰% Structural units derived from (B3): 2 to 70 mol%

즉, 상기 화학식 1의 화합물(B1), 불포화 결합을 갖는 화합물(B2) 및 카르복 실기와 불포화 결합을 갖는 화합물(B3)을 포함한 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체는, (B1) 내지 (B3) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 합계 몰수에 대하여, 상기 화학식 1의 단량체, 불포화 결합을 갖는 단량체 및 불포화 카르복실산 단량체가 각각 2 내지 30몰%, 2 내지 95몰%, 2 내지 70몰% 범위 내로 포함되는 것이 바람직하다. That is, the copolymer obtained by the copolymerization reaction containing the compound (B1) of the said General formula (1), the compound (B2) which has an unsaturated bond, and the compound (B3) which has a carboxyl group and an unsaturated bond is respectively (B1)-(B3) Regarding the total moles of constituents derived from the monomers of Formula 1, the monomer having an unsaturated bond, and the unsaturated carboxylic acid monomer are included in the range of 2 to 30 mol%, 2 to 95 mol%, and 2 to 70 mol%, respectively. It is preferable to be.

특히, 상기의 (B1) 내지 (B3) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 상기 공중합체 구성 성분의 합계 몰수에 대하여 이하의 범위인 것이 보다 바람직하다. In particular, it is more preferable that the ratio of the structural component derived from each of said (B1)-(B3) is the following ranges with respect to the total mole number of the said copolymer structural component.

(B1)로부터 유도되는 구성 단위 : 5 내지 30몰%, Structural unit derived from (B1): 5-30 mol%,

(B2)로부터 유도되는 구성 단위 : 5 내지 80몰%, Structural unit derived from (B2): 5 to 80 mol%,

(B3)으로부터 유도되는 구성 단위 : 5 내지 65몰% Structural units derived from (B3): 5-65 mol%

상기한 바와 같이 (B1) 내지 (B3) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 상기 범위에 있으면 현상성, 가용성 및 내열성의 균형이 양호하므로 바람직한 공중합체를 얻을 수 있다. As described above, when the ratio of the constituents derived from each of (B1) to (B3) is in the above range, the balance of developability, solubility and heat resistance is good, so that a preferable copolymer can be obtained.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 상기 공중합체의 제조방법의 일례로, (B1) 내지 (B3)를 공중합시켜 얻어지는 경우 이하와 같은 방법으로 공중합 시킴으로써 제조할 수 있다. In one embodiment of the present invention, as an example of the production method of the copolymer, when copolymerized (B1) to (B3) is obtained by copolymerization can be produced by copolymerizing in the following method.

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 (B1) 와 (B1) 내지 (B3)의 합계 질량에 대하여 질량 기준으로 0.5 내지 20 배량 의 용제를 함께 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한다. 그 후, 용제를 40 내지 140℃로 승온시킨 후, (B2) 및 (B3)의 소정량, (B2) 내지 및 (B3)의 합계 질량에 대하여 질량 기준으로 0 내지 20 배량의 용제, 및 아조비스이소부티로니트릴이나 t-부틸퍼옥시2-에틸헥실카보네이트 등의 중합 개시제를 (B1) 내지 (B3)의 합계 몰수에 대하여 몰 분율로0.1 내지 10몰% 첨가한 용액(실온 또는 가열하에 교반 용해)을 적하 로트로부터 0.1 내지 8시간에 걸쳐 상기의 플라스크에 적하하고, 40 내지 140℃에서 1 내지 10시간 더 교반한다. Into a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen inlet tube, 0.5 to 20 times the amount of solvent was introduced together with respect to the total mass of (B1) and (B1) to (B3) in a flask. The atmosphere is replaced with nitrogen in air. Then, after heating up a solvent at 40-140 degreeC, 0-20 times of a solvent by mass basis with respect to the predetermined amount of (B2) and (B3), and the total mass of (B2)-and (B3), and azo A solution in which a polymerization initiator such as bisisobutyronitrile or t-butylperoxy 2-ethylhexyl carbonate is added at a molar fraction of 0.1 to 10 mol% based on the total number of moles of (B1) to (B3) (stirring at room temperature or heating Dissolution) is added dropwise to the flask from 0.1 dropping lot over 0.1 to 8 hours, and further stirred at 40 to 140 ° C for 1 to 10 hours.

상기의 공정에서 중합 개시제의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있고, (B1) 내지 (B3)의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있다. 잔량은 (B4)와의 중합시 첨가할 수 있다.In the above process, part or all of the polymerization initiator may be put in the flask, or part or all of (B1) to (B3) may be put in the flask. The remaining amount can be added during polymerization with (B4).

상기의 공정에서 사용되는 용매는 통상의 라디칼 중합 반응시 사용되는 용매를 이용할 수 있으며, 구체적으로는, 테트라히드로퓨란, 디옥산, 에틸렌글리콜디메틸에틸, 디에틸렌글리콜디메틸에틸, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 초산에틸, 초산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 클로로포름, 디메틸설폭시드 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. As the solvent used in the above process, a solvent used in a normal radical polymerization reaction may be used, and specifically, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethylethyl, diethylene glycol dimethylethyl, acetone, methyl ethyl ketone, Methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ethyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methanol, ethanol, propanol, n-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether , Toluene, xylene, ethylbenzene, chloroform, dimethyl sulfoxide and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more thereof.

또한, 상기의 공정에 사용되는 중합 개시제로는 통상 사용되는 중합 개시제를 첨가할 수 있으며, 특별히 제한되지는 않는다. 구체적으로는 디이소프로필벤젠 히드로퍼옥시드, 디-t-부틸퍼옥시드, 벤조일퍼옥시드, t-부틸퍼옥시이소프로필카르보네이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 유기 과산화물; 2,2’-아조비스(이소부티로니트릴), 2,2’-아조비스(2,4-디메틸바레로니토릴), 디메틸 2,2’-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 등의 질소 화합물을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Moreover, as a polymerization initiator used for said process, the polymerization initiator normally used can be added, It does not restrict | limit in particular. Specifically, diisopropyl benzene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butyl peroxy isopropyl carbonate, t-amyl peroxy-2-ethylhexanoate, t-butyl Organic peroxides such as peroxy-2-ethylhexanoate; 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylbareronitoryl), dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate), etc. And nitrogen compounds. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

또한, 상기의 공정에서 분자량이나 분자량 분포를 제어하기 위해 α-메틸스티렌다이머나 머캅토 화합물을 연쇄 이동제로서 사용할 수도 있다. α-메틸스티렌다이머나 머캅토 화합물의 사용량은 (B1) 내지 (B3)의 합계 질량에 대하여 질량 분율로 0.005 내지 5%이다. 또한, 상기의 중합 조건은 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다. Moreover, in order to control molecular weight and molecular weight distribution in the said process, (alpha) -methylstyrene dimer and a mercapto compound can also be used as a chain transfer agent. The usage-amount of (alpha) -methylstyrene dimer and a mercapto compound is 0.005 to 5% by mass fraction with respect to the total mass of (B1)-(B3). In addition, the said polymerization conditions can also adjust an input method and reaction temperature suitably in consideration of the amount of heat generation by a manufacturing facility, superposition | polymerization, etc ..

본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 결합제 수지(B)는 상기 (B1) 내지 (B3)을 공중합하여 얻어지는 공중합체에 (B4)를 더 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 상기의 공중합체에 (B4)를 부가함으로써 결합제 수지에 광/열경화성을 부여할 수 있다. Binder resin (B) contained in the coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention can be obtained by making (B4) further react with the copolymer obtained by copolymerizing said (B1)-(B3). By adding (B4) to the copolymer, light / thermosetting property can be imparted to the binder resin.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 상기 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(B4)의 구체적 일례로서는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 글리시딜(메타)아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. In one Embodiment of this invention, As a specific example of the compound (B4) which has an unsaturated bond and an epoxy group in the said 1 molecule, glycidyl (meth) acrylate, 3, 4- epoxycyclohexyl (meth) acrylate, 3 And 4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, methylglycidyl (meth) acrylate, and the like. Among these, glycidyl (meth) acrylate is preferably used. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

상기 (B4)는 상기 공중합체 중의 (B3)로부터 유도되는 구성 성분의 몰수에 대하여 몰 분율로5 내지 80몰% 반응시키는 것이 바람직하며, 특히 10 내지 80몰%가 좋다. 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(B4)이 상기 범위 내에 있으면 충분한 광경화성이나 열경화성이 얻어져 감도와 연필 경도가 양립되고 신뢰성이 우수하기 때문에 바람직하다. It is preferable to make said (B4) react with 5 to 80 mol% in mole fraction with respect to the mole number of the component derived from (B3) in the said copolymer, Especially 10-80 mol% is good. When compound (B4) which has an unsaturated bond and an epoxy group exists in the said range, since sufficient photocurability and thermosetting are obtained, a sensitivity and pencil hardness are compatible, and it is excellent in reliability, and it is preferable.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 결합제 수지(B)는 상기의 (B1) 내지 (B3)를 공중합하여 얻어지는 공중합체와 (B4)를, 예를 들면 이하와 같은 방법으로 반응시킴으로써 제조할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the binder resin (B) can be produced by reacting a copolymer obtained by copolymerizing the above (B1) to (B3) and (B4) by, for example, the following method. .

앞서 설명한 방법에 의해 (B1) 내지 (B3)의 공중합체가 얻어지면, 플라스크내 분위기를 질소에서 공기로 치환하고, 상기 공중합체 중의 (B3)로부터 유도되는 구성 성분의 몰수에 대하여 몰 분율로 5 내지 80몰%의 (B4), 카르복실기와 에폭시기의 반응 촉매로서, 예를 들면 트리스디메틸아미노메틸페놀을 (B1) 내지 (B4)의 합계 질량에 대하여 질량 분율로 0.01 내지 5질량% 및 중합금지제로서, 예를 들면 하이드로퀴논을 (B1) 내지 (B4)의 합계 질량에 대하여 질량 분율로 0.001 내지 5질량%를 플라스크 내에 넣고 60 내지 130℃에서 1 내지 10시간 반응함으로써, 상기의 공중합체와 (B4)를 반응시킬 수 있다. 또한, 중합 조건과 마찬가지로 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다. When the copolymer of (B1) to (B3) is obtained by the method described above, the atmosphere in the flask is replaced with nitrogen to air, and the molar fraction is 5 in terms of the number of moles of the constituents derived from (B3) in the copolymer. 0.01 to 5% by mass and a polymerization inhibitor as the mass fraction of trisdimethylaminomethylphenol, for example, as a reaction catalyst of (B4) to 80 mol% of the carboxyl group and the epoxy group, based on the total mass of (B1) to (B4). For example, hydroquinone is added to 0.001 to 5% by mass in a flask at a mass fraction with respect to the total mass of (B1) to (B4), and reacted at 60 to 130 ° C for 1 to 10 hours, thereby allowing the copolymer and ( B4) can be reacted. In addition, similarly to the polymerization conditions, the charging method and the reaction temperature may be appropriately adjusted in consideration of the amount of heat generated by the production equipment, the polymerization and the like.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 결합제 수지(B)는 그의 폴리스티렌 환산의 중량평균 분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있는 것이 바람직하고, 5,000 내지 50,000의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 결합제 수지(B)의 중량평균 분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있으면 현상시에 막 감소가 생기기 어렵고, 현상시에 비화소 부분의 누락성이 양호하므로 바람직하다. In one embodiment of the present invention, the binder resin (B) preferably has a weight average molecular weight in terms of its polystyrene in the range of 3,000 to 100,000, more preferably in the range of 5,000 to 50,000. When the weight average molecular weight of binder resin (B) exists in the range of 3,000-100,000, film | membrane decrease does not occur at the time of image development, and since the missing property of a non-pixel part at the time of image development is preferable.

결합제 수지(B)의 산가는 고형분 기준으로 30 내지 300mgKOH/g의 범위가 바람직하다. 산가가 30mgKOH/g미만일 경우 알칼리수에 대한 현상성이 낮아지고 기판에 잔사를 남길 우려가 있으며, 산가가 300mgKOH/g을 초과하는 경우에는 패턴의 탈착이 일어날 가능성이 높아진다.The acid value of the binder resin (B) is preferably in the range of 30 to 300 mgKOH / g based on solid content. If the acid value is less than 30 mgKOH / g, there is a possibility that the developability to alkaline water is lowered and residues remain on the substrate, and when the acid value exceeds 300 mgKOH / g, the possibility of desorption of the pattern increases.

결합제 수지(B)의 분자량 분포 [중량평균 분자량(Mw)/ 수평균 분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0 인 것이 바람직하고, 1.8 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 분자량 분포 [중량평균 분자량(Mw)/ 수평균 분자량(Mn)]가 1.5 내지 6.0 이면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다. It is preferable that it is 1.5-6.0, and, as for the molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of binder resin (B), it is more preferable that it is 1.8-4.0. Since molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] is 1.5-6.0, since developability is excellent, it is preferable.

결합제 수지(B)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 질량 분율로, 통상 5 내지 90질량%, 바람직하게는 10 내지 70질량%의 범위이다. 결합체 수지(B)의 함유량이 상기의 기준으로 5 내지 90질량%이면 현상액에의 용해성이 충분하여 비화소 부분의 기판상에 현상 잔사가 발생하기 어렵고, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 생기기 어려워 비화소 부분의 누락성이 양호하므로 바람직하다. Content of binder resin (B) is 5-90 mass% normally with respect to solid content in colored photosensitive resin composition, Preferably it is the range of 10-70 mass%. When the content of the binder resin (B) is 5 to 90% by mass based on the above criteria, the solubility in the developing solution is sufficient, and development residues are less likely to occur on the substrate of the non-pixel portion, and the film reduction of the pixel portion of the exposed portion at the time of development is reduced. Since it is hard to produce and the omission property of a non-pixel part is favorable, it is preferable.

광중합성 화합물(C)Photopolymerizable Compound (C)

상기 광중합성 화합물(C)은 광 및 후술하는 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 단관능 단량체, 2관능 단량체, 그 밖의 다관능 단량체 등을 들 수 있다. The said photopolymerizable compound (C) is a compound which can superpose | polymerize by the action | action of light and the photoinitiator mentioned later, A monofunctional monomer, a bifunctional monomer, another polyfunctional monomer, etc. are mentioned.

상기 단관능 단량체의 구체예로는 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. Specific examples of the monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and N-vinyl py. A ralidone etc. are mentioned.

상기 2관능 단량체의 구체예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. As a specific example of the said bifunctional monomer, 1, 6- hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and triethylene glycol di (meth) acrylate And bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, and the like.

상기 그 밖의 다관능 단량체의 구체예로서는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the other polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol Tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaeryte Lithol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are mentioned.

이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다. Of these, bifunctional or higher polyfunctional monomers are preferably used.

상기 광중합성 화합물(C)은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 질량 분율로 1 내지 60질량%, 바람직하게는 5 내지 50질량%의 범위에서 사용된다. 광중합성 화합물(C)이 상기의 기준으로 1 내지 60질량%의 범위이면 화소부의 강도나 평활성이 양호하게 되기 때문에 바람직하다. The photopolymerizable compound (C) is used in a mass fraction of 1 to 60% by mass, preferably 5 to 50% by mass, based on the solid content in the colored photosensitive resin composition. If the photopolymerizable compound (C) is in the range of 1 to 60% by mass based on the above criteria, the intensity and smoothness of the pixel portion will be good, and thus it is preferable.

광중합 개시제(D)Photopolymerization Initiator (D)

상기 광중합 개시제(D)는 제한되지 않으나 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물 및 옥심 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 상기한 광중합 개시제(D)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물은 고감도이고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 막은 그 화소부의 강도나 표면 평활성이 양호해진다. Although the said photoinitiator (D) is not restrict | limited, It is preferable to use at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of a triazine type compound, an acetophenone type compound, a biimidazole type compound, and an oxime compound. The coloring photosensitive resin composition containing said photoinitiator (D) is highly sensitive, and the film | membrane formed using this composition becomes favorable the intensity | strength and surface smoothness of the pixel part.

상기 트리아진계 화합물로서는, 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. As said triazine type compound, it is 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1, 3, 5- triazine, 2, 4-bis (trichloromethyl)-, for example. 6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4- Bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2 -Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-tri Azine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloro Methyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like.

또한, 상기 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. Moreover, as said acetophenone type compound, diethoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane- 1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl ] Oligomer of propan-1-one, etc. are mentioned.

또한 상기한 아세토페논계 화합물이외에 사용가능한 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면 하기 화학식 18로 표시되는 화합물을 들 수 있다. Moreover, as an acetophenone type compound which can be used other than said acetophenone type compound, the compound represented by following formula (18) is mentioned, for example.

<화학식 18> &Lt; Formula 18 >

Figure 112009015941913-PAT00003
Figure 112009015941913-PAT00003

상기 화학식 18 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1 내지12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 벤질기 또는 탄소수 1 내지12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 나프틸기를 나타낸다. In Formula 18, R1 to R4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a phenyl group which may be substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group or carbon number which may be substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. The naphthyl group which may be substituted by the alkyl group of 1-12 is shown.

상기 화학식 18로 표시되는 화합물의 구체예로는 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1- 온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다. Specific examples of the compound represented by Formula 18 include 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one and 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethane- 1-one, 2-propyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-butyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-methyl- 2-amino (4-morpholinophenyl) propane-1-one, 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholin Nophenyl) propane-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-methyl-2-methylamino (4-morpholinophenyl) propane-1- On, 2-methyl-2-dimethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-diethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, etc. may be mentioned. have.

상기 비이미다졸 화합물로서는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 또는 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸이 바람직하게 사용된다. As said biimidazole compound, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'- tetraphenyl biimidazole, 2,2'-bis (2,3-, for example) Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimi Dazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, and a phenyl group at the 4,4', 5,5 'position is carbo The imidazole compound substituted with the alkoxy group etc. are mentioned. Among them, 2,2'bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole or 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole is preferably used.

상기 옥심 화합물로는, 0-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 또는 하기의 화학식 19 내지 21로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다. Examples of the oxime compound include 0-ethoxycarbonyl-α-oxyimino-1-phenylpropan-1-one or compounds represented by the following formulas (19) to (21).

<화학식 19><Formula 19>

Figure 112009015941913-PAT00004
Figure 112009015941913-PAT00004

<화학식 20><Formula 20>

Figure 112009015941913-PAT00005
Figure 112009015941913-PAT00005

<화학식 21><Formula 21>

Figure 112009015941913-PAT00006
Figure 112009015941913-PAT00006

또한, 본 발명의 광중합 개시제에는 본 발명의 효과를 손상하지 않는 정도이면 이 분야에서 통상 사용되고 있는 그 밖의 광중합 개시제 등을 추가로 병용할 수도 있다. Moreover, as long as it does not impair the effect of this invention, the photoinitiator of this invention can also use together another photoinitiator etc. which are normally used in this field.

상기 그 밖의 광중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 안트라센계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. As said other photoinitiator, a benzoin compound, a benzophenone type compound, a thioxanthone type compound, an anthracene type compound etc. are mentioned, for example. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 벤조인계 화합물로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. As said benzoin type compound, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. are mentioned, for example.

상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸 퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. As said benzophenone type compound, benzophenone, methyl 0- benzoyl benzoate, 4-phenylbenzo phenone, 4-benzoyl-4'- methyl diphenyl sulfide, 3,3 ', 4, 4'- tetra ( tert-butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, etc. are mentioned.

상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다. As said thioxanthone type compound, 2-isopropyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- dichloro thioxanthone, 1-chloro-4- propoxy thioxanthone, etc. are mentioned, for example. Can be mentioned.

상기 안트라센계 화합물로서는, 예를 들면 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. Examples of the anthracene-based compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, and the like. Can be mentioned.

이외에도 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산 메틸, 티타노센 화합물 등을 그 밖의 광중합 개시제로서 들 수 있다. In addition to 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone and methyl phenyloxyoxylate , A titanocene compound, etc. are mentioned as another photoinitiator.

또한, 상기 광중합 개시제(D)에는 광중합 개시 보조제(D-1)을 조합하여 사용할 수도 있다. 상기 광중합 개시제(D)에 광중합 개시 보조제(D-1)을 병용하면, 이들을 함유하는 착색 감광성 수지 조성물은 더욱 고감도가 되어 이 조성물을 사용하여 컬러 필터를 형성할 때의 생산성이 향상되므로 바람직하다.In addition, you may use combining a photoinitiator (D-1) with the said photoinitiator (D). When photopolymerization start adjuvant (D-1) is used together with the said photoinitiator (D), since the coloring photosensitive resin composition containing these becomes more sensitive and the productivity at the time of forming a color filter using this composition is preferable, it is preferable.

상기 광중합 개시 보조제(D-1)로서는 아민 화합물, 카르복실산 화합물이 바람직하게 사용된다. As said photopolymerization start adjuvant (D-1), an amine compound and a carboxylic acid compound are used preferably.

상기 광중합 개시 보조제 중 아민 화합물의 구체적인 예로서는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 : 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 들 수 있다. 아민 화합물로서는 방향족 아민 화합물이 바람직하게 사용된다. Specific examples of the amine compound in the photopolymerization start adjuvant include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (common name: Michler's ketone), 4,4'- Aromatic amine compounds, such as bis (diethylamino) benzophenone, are mentioned. As an amine compound, an aromatic amine compound is used preferably.

상기 광중합 개시 보조제 중 카르복실산 화합물의 구체적인 예로서는 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다. Specific examples of the carboxylic acid compound in the photopolymerization start adjuvant include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid and chlorophenyl And aromatic heteroacetic acids such as thioacetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine and naphthoxyacetic acid.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서 광중합 개시제(D)의 사용량은 고형분을 기준으로 결합제 수지(B) 및 광중합성 화합물(C)의 합계 질량에 대하여 질량 분율로, 0.1 내지 40질량%, 바람직하게는 1 내지 30질량%이고, 광중합 개시 보조제(D-1)의 사용량은 고형분을 기준으로 결합제 수지(B) 및 광중합성 화합물(C)의 합계 질량에 대하여 질량 분율로 0.1 내지 50질량%, 바람직하게는 1 내지 40질량%이다. 광중합 개시제(D)의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화 되어 이 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도나, 이 화소부의 표면에서의 평활성이 양호하게 되기 때문에 바람직하다. 또한, 상기 광중합 개시 보조제(D-1)의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 컬러 필터의 생산성이 향상되기 때문 에 바람직하다. The amount of the photopolymerization initiator (D) used in the colored photosensitive resin composition of the present invention is 0.1 to 40 mass%, preferably in a mass fraction, based on the total mass of the binder resin (B) and the photopolymerizable compound (C). It is 1-30 mass%, and the usage-amount of a photoinitiator adjuvant (D-1) is 0.1-50 mass% in mass fraction with respect to the total mass of binder resin (B) and a photopolymerizable compound (C) based on solid content, Preferably Is 1-40 mass%. When the usage-amount of a photoinitiator (D) exists in the said range, since the coloring photosensitive resin composition becomes high sensitivity, since the intensity | strength of the pixel part formed using this composition and the smoothness in the surface of this pixel part become favorable, it is preferable. Moreover, when the usage-amount of the said photoinitiator adjuvant (D-1) exists in the said range, since the sensitivity of a coloring photosensitive resin composition becomes higher and the productivity of the color filter formed using this composition improves, it is preferable.

용제(E)Solvent (E)

상기 용제(E)는 특별히 제한되지 않으며 착색 감광성 수지 조성물의 분야에서 사용되고 있는 각종 유기 용제를 사용할 수 있다. The said solvent (E) is not specifically limited, Various organic solvents used in the field of colored photosensitive resin composition can be used.

그의 구체적인 예로서는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트 및 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류, γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다.Specific examples thereof include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and diethylene. Diethylene glycol dialkyl ethers such as glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol Alkylene glycol alkyl ether acetates such as monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxy butyl acetate and methoxy pentyl acetate, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, methyl ethyl ketone, Ketones such as cetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-meth Ester, such as methyl oxypropionate, Cyclic ester, such as (gamma) -butyrolactone, etc. are mentioned.

상기의 용제(E) 중, 도포성, 건조성면에서 바람직하게는 상기 용제 중에서 비점이 100 내지 200℃인 유기 용제를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 알킬렌글리 콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산에틸이나, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등을 들 수 있다. 이들 용제(E)는 각각 단독으로 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Among the solvents (E), organic solvents having a boiling point of 100 to 200 ° C in the solvents are preferable from the viewpoint of applicability and drying properties, and more preferably alkyleneglycol alkylalkyl acetates, ketones, 3 Esters such as ethyl ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; and more preferably propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone and ethyl 3-ethoxypropionate. And methyl 3-methoxypropionate. These solvents (E) can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 중의 용제(E)의 함유량은 그것을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물 전체량에 대하여 질량 분율로 통상 60 내지 90질량%, 바람직하게는 70 내지 85질량%이다. 용제(E)의 함유량이 상기의 기준으로 60 내지 90질량%의 범위이면 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지기 때문에 바람직하다. Content of the solvent (E) in the coloring photosensitive resin composition of this invention is 60-90 mass% normally with a mass fraction with respect to the coloring photosensitive resin composition whole quantity containing it, Preferably it is 70-85 mass%. When the content of the solvent (E) is in the range of 60 to 90% by mass based on the above criteria, it is applied with a coating device such as a roll coater, spin coater, slit and spin coater, slit coater (sometimes referred to as die coater), inkjet, or the like. Since applicability | paintability becomes favorable at the time, it is preferable.

첨가제(F)Additive (F)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는 필요에 따라 충진제, 다른 고분자 화합물, 경화제, 안료 분산제. 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제(F)를 병용 하는 것도 가능하다. The coloring photosensitive resin composition of this invention is a filler, another high molecular compound, a hardening | curing agent, and a pigment dispersant as needed. It is also possible to use additives (F) such as adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers and anti-agglomerates in combination.

상기 충진제의 구체적인 예는 유리, 실리카, 알루미나 등이 예시된다. Specific examples of the filler include glass, silica, alumina and the like.

상기 다른 고분자 화합물로서는 구체적으로 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다. Specific examples of the other polymer compound include curable resins such as epoxy resins and maleimide resins, thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ethers, polyfluoroalkyl acrylates, polyesters, polyurethanes, and the like. Can be.

상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 경화제로서는 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. The said hardening | curing agent is used in order to raise core hardening and mechanical strength, An epoxy compound, an oxetane compound, etc. are mentioned as a hardening | curing agent.

상기 경화제에서 에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다. Examples of the epoxy compound in the curing agent include bisphenol A epoxy resins, hydrogenated bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, hydrogenated bisphenol F epoxy resins, noblock type epoxy resins and other aromatic epoxy resins and alicyclic compounds. Epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidylamine resins, or brominated derivatives of such epoxy resins, aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than epoxy resins and their brominated derivatives, butadiene (co) polymer epoxides, Isoprene (co) polymer epoxide, glycidyl (meth) acrylate (co) polymer, triglycidyl isocyanurate and the like.

상기 경화제에서 옥세탄 화합물로서는, 예를 들면, 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다. Examples of the oxetane compound in the curing agent include carbonate bis oxetane, xylene bis oxetane, adipate bis oxetane, terephthalate bis oxetane and cyclohexane dicarboxylic acid bis oxetane. .

상기 경화제에서 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 포함할 수 있다. 경화 보조 화합물로서는, 예를 들면 다가 카르본산 무수물류를 들 수 있다. The curing agent may include a curing aid compound capable of ring-opening polymerization of the epoxy group of the epoxy compound and the oxetane skeleton of the oxetane compound with the curing agent. As a hardening auxiliary compound, polyhydric carboxylic anhydrides are mentioned, for example.

상기 다가 카르본산 무수물류로서, 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 그 에폭시 수지 경화제로서는, 예를 들면, 상품명(아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품 명(MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다. 상기 경화제는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다. As said polyhydric carboxylic anhydride, what is marketed as an epoxy resin hardener can be used. As this epoxy resin hardening | curing agent, a brand name (Adekahadona EH-700) (made by Adeka Industries Co., Ltd.), a brand name (Rikaditdo HH) (made by Nippon Ewha Co., Ltd.), a brand name (MH-700) are mentioned, for example. (Manufactured by Nippon Ewha Co., Ltd.). The said hardening | curing agent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 안료 분산제로서는 시판되는 계면 활성제를 이용할 수 있고, 예를 들면 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 등의 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 상기의 계면 활성제로서, 예를 들면 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄지방산에스테르류, 지방산변성폴리에스테르류, 3급아민변성폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다. Commercially available surfactants can be used as the pigment dispersant, and examples thereof include surfactants such as silicone, fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic and amphoteric. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. As said surfactant, For example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyethylene glycol diester, sorbitan fatty acid ester, fatty acid modified polyester, tertiary amine modified polyurethane, Polyethyleneimines and the like, and other trade names include KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), POLYFLOW (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EFTOP (manufactured by Tochem Products), Mega MEGAFAC (made by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.), Florad (made by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi guard, Suflon (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Sol SLSPERSE (made by Genka Corporation), EFKA (made by EFKA Chemicals), PB 821 (made by Ajinomoto Co., Ltd.), etc. are mentioned.

상기 밀착 촉진제로서, 예를 들면 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프 로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. As the adhesion promoter, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2 -(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptoprofil Trimethoxysilane, 3-isocyanate propyl trimethoxysilane, 3-isocyanate propyl triethoxysilane, etc. are mentioned.

이들 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량 분율로, 통상 0.01 내지 10질량%, 바람직하게는 0.05 내지 2질량%를 포함한다. These adhesion promoters can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively. It is 0.01-10 mass% normally with respect to solid content in colored photosensitive resin composition, Preferably it contains 0.05-2 mass%.

상기 산화 방지제로서는 구체적으로 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. Specific examples of the antioxidant include 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, and the like.

상기 자외선 흡수제로서는 구체적으로 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole, alkoxybenzophenone and the like.

응집 방지제로서는 구체적으로 폴리아크릴산나트륨 등을 들 수 있다. Specific examples of the aggregation inhibitor include sodium polyacrylate.

상술한 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 예를 들면 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다. 착색 재료(A)를 미리 용제(E)와 혼합하여 착색 재료의 평균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제가 사용되고, 또한 결합제 수지(B)의 일부 또는 전부가 배합되는 경우도 있다. 얻어진 분산액(이하, 밀 베이스라고 하는 경우도 있음)에 결합제 수지(B)의 나머지, 광중합성 화합물(C) 및 광중합 개시제(D), 필요에 따라 사용되는 그 밖의 성분, 필요에 따라 추가의 용제를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 목적하는 착색 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있다. 그러나 본 발명이 이러한 방법을 한정하는 것은 아니다. The coloring photosensitive resin composition of this invention mentioned above can be manufactured, for example by the following methods. The coloring material (A) is previously mixed with the solvent (E) and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the coloring material is about 0.2 µm or less. Under the present circumstances, a pigment dispersant is used as needed and one part or all part of binder resin (B) may be mix | blended. The remainder of binder resin (B), the photopolymerizable compound (C) and the photoinitiator (D), the other components used as needed, and the additional solvent as needed in the obtained dispersion liquid (henceforth a mill base). It can further add so that it may become a predetermined density | concentration, and can obtain the target coloring photosensitive resin composition. However, the present invention does not limit this method.

본 발명에 따른 컬러필터는 상술한 조성을 갖는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 착색층을 포함한다.본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 착색층을 포함하는 컬러 필터의 제조 공정을 도 1를 사용하여 하기에 설명한다.The color filter according to the present invention includes a colored layer prepared by using the colored photosensitive resin composition having the above-described composition. FIG. 1 shows a manufacturing process of the color filter including the colored layer using the colored photosensitive resin composition of the present invention. It demonstrates using below.

본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 COA(Color Filter on Array)방식에 의한 컬러 필터를 제조하는 경우에는, SiNx(보호층)도막이 형성된 TFT층 기판에 직접 적색, 녹색, 청색의 각 픽셀 패턴을 상기 SiNx 도막 위에 형성한다.(도 1a)When manufacturing a color filter by COA (Color Filter on Array) method using the coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention, each pixel pattern of red, green, and blue is directly formed in the TFT layer substrate in which the SiNx (protective layer) coating film was formed. Is formed on the SiNx coating film (FIG. 1A).

TFT층과 전극(IZO층)과의 전기적 도통로를 형성하기 위한 공정으로, SiNx(보호층)도막의 제거를 위해 상기 마스크를 이용해 포지티브 감광성 수지막을 패터닝한다.(도 1b)In the process for forming an electrically conductive path between the TFT layer and the electrode (IZO layer), the positive photosensitive resin film is patterned using the mask to remove the SiNx (protective layer) coating film (FIG. 1B).

상기 포지티브 감광성 수지막의 하부면(전기적 도통로)에 위치한 SiNx(보호층)을 건식 식각(드라이에칭)을 하여 전기적 도통로를 형성한다.(도 1c)An electrically conductive path is formed by dry etching (dry etching) the SiNx (protective layer) located on the lower surface (electrically conductive path) of the positive photosensitive resin film (FIG. 1C).

상기와 같이 컬러 필터 제조시 건식 에칭을 실시하여도 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 특정 안료를 포함함에 따라 화학적 안정성이 우수하여 안료 성분에 의한 잔상 및 휘도 저하가 발생하지 않는다. Even when dry etching is performed in the manufacture of the color filter as described above, the colored photosensitive resin composition according to the present invention is excellent in chemical stability as it contains a specific pigment, and thus no afterimage and luminance decrease due to the pigment component are generated.

도 1c의 픽셀 패턴위에 잔존한 포지티브 감광성 수지막을 제거하기 위해 스트리퍼 현상액을 사용해 포지티브 감광성 수지막 층을 제거한다.(도 1d)In order to remove the positive photosensitive resin film remaining on the pixel pattern of Fig. 1C, the positive photosensitive resin film layer is removed using a stripper developer (Fig. 1D).

TFT층과의 공통전극(IZO층)으로 사용하게 될 IZO층을 증착한다.(도 1e)An IZO layer to be used as a common electrode (IZO layer) with a TFT layer is deposited (FIG. 1E).

공통전극(IZO층)층을 형성하기 위하여 IZO층 상부에 포지티브 감광성 수지막을 형성한다.(도 1f)In order to form a common electrode (IZO layer) layer, a positive photosensitive resin film is formed on the IZO layer (FIG. 1F).

형성된 포지티브 감광성 수지막의 노광부분(IZO층이 노출된 부분)을 습식 식각(웨트 에칭)에 의하여 제거한다.(도 1g)The exposed portion (the portion where the IZO layer is exposed) of the formed positive photosensitive resin film is removed by wet etching (wet etching) (FIG. 1G).

도 1g의 공통전극(IZO층)층 위에 잔존한 포지티브 PR을 제거하기 위해 스트리퍼 현상액을 사용해 포지티브 감광성 수지막을 제거한다.(도 1h)In order to remove the positive PR remaining on the common electrode (IZO layer) layer of FIG. 1G, the positive photosensitive resin film is removed using a stripper developer (FIG. 1H).

상기한 바와 같이 제조된 컬러 필터는 평활성이 우수하며, 특히, 안료에서 기인하는 잔상 및 휘도 저하가 발생하지 않게 된다. 따라서 상기 컬러 필터를 액정 표시 장치에 적용할 경우 우수한 품질의 액정 표시 장치를 높은 수율로 제조할 수 있다.The color filter manufactured as described above is excellent in smoothness, and in particular, the afterimage and the luminance decrease due to the pigment do not occur. Therefore, when the color filter is applied to the liquid crystal display, an excellent quality liquid crystal display may be manufactured in high yield.

이하에서는, 본 발명을 실시예에 기초하여 더욱 상세하게 설명하지만, 하기에 개시되는 본 발명의 실시 형태는 어디까지 예시로써, 본 발명의 범위는 이것들의 실시 형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허청구 범위에 표시되었고, 더욱이 특허청구 범위 기록과 균등한 의미 및 범위 내에의 모든 변경을 함유하고 있다. 아울러 이하의 실시예, 비교예에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 착색 감광성 수지 조성물에 대한 질량% 또는 질량부를 의미한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, embodiment of this invention disclosed below is an illustration to the last, and the scope of the present invention is not limited to these embodiment. The scope of the invention is indicated in the appended claims, and moreover contains all modifications within the meaning and range equivalent to those of the claims. In addition, "%" and "part" which show content in a following example and a comparative example mean the mass% or mass part with respect to a coloring photosensitive resin composition unless there is particular notice.

<결합제 수지 합성예><Binder Resin Synthesis Example>

<합성예 1: 수지(B-1)>Synthesis Example 1 Resin (B-1)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 90g, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 90g 및 2-노르보넨 22.0g(0.2몰, 20몰%)을 혼합하여 도입하고, 플라스크내 분위기 를 공기에서 질소로 한 후, 80℃로 승온 후 벤질메타크릴레이트 52.9g(0.3몰, 30몰%), 메타크릴산 45.0g(0.5몰, 50몰%) 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 136g을 포함하는 혼합물에 터트부티르퍼록시2-에틸헥실카보네이트 3.2g 을 첨가한 용액을 적하 로트로부터 2시간에 걸쳐 플라스크에 적하하여 100℃에서 5시간 더 교반을 계속하였다. 이어서, 플라스크 내 분위기를 질소에서 공기로 하고, 글리시딜메타크릴레이트 30g(0.2몰(본 반응에 사용한 메타크릴산의 카르복실기에 대하여 40몰%)), 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.9g 및 하이드로퀴논 0.145g을 플라스크 내에 투입하여 110℃에서 6시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 100㎎KOH/g인 수지 B-1를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균 분자량은 31,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다. Into a flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen inlet tube, 90 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 90 g of propylene glycol monomethyl ether, and 22.0 g of 2-norbornene (0.2 mol, 20 mol%) were mixed. The atmosphere in the flask was introduced into nitrogen from air, and after heating up to 80 ° C., 52.9 g (0.3 mol, 30 mol%) of benzyl methacrylate, 45.0 g (0.5 mol, 50 mol%) of methacrylic acid and propylene glycol To the mixture containing 136 g of monomethyl ether acetate, a solution obtained by adding 3.2 g of tert-butyroxy-ethylhexyl carbonate was added dropwise to the flask over 2 hours from the dropping lot, and the stirring was continued at 100 ° C. for 5 hours. Subsequently, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, and 30 g of glycidyl methacrylate (0.2 mol (40 mol% based on the carboxyl group of methacrylic acid used in this reaction)), 0.9 g of trisdimethylaminomethylphenol, and hydroquinone 0.145 g was thrown into the flask, and reaction was continued at 110 degreeC for 6 hours, and resin B-1 whose solid acid value is 100 mgKOH / g was obtained. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 31,000, and molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

이때, 상기의 결합제 수지의 중량평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)의 측정은 HLC-8120GPC(도소㈜ 제조) 장치를 사용하였으며, 칼럼은 TSK-GELG4000HXL와 TSK-GELG2000HXL를 직렬 접속하여 사용하였고, 칼럼 온도는 40℃, 이동상 용매는 테트라히드로퓨란, 유속은 1.0㎖/분, 주입량은 50㎕, 검출기 RI를 사용하였으며, 측정 시료 농도는 0.6질량%(용매=테트라히드로퓨란), 교정용 표준 물질은 TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500(도소㈜ 제조)을 사용하였다At this time, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the binder resin were measured using an HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation) apparatus, and the column was used by serially connecting TSK-GELG4000HXL and TSK-GELG2000HXL. The column temperature was 40 ° C, the mobile phase solvent was tetrahydrofuran, the flow rate was 1.0 ml / min, the injection amount was 50 µl, and the detector RI was used, and the measurement sample concentration was 0.6 mass% (solvent = tetrahydrofuran), for calibration. TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by Tosoh Corporation) was used as a standard material.

<합성예 2: 수지(B-2)>Synthesis Example 2: Resin (B-2)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌 글리콜 모노 메틸에테르 아세테이트 90g, 프로필렌 글리콜 모노 메틸에테르 90g 도입하고, 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후, 80℃로 승온 후 벤질 메타크릴레이트 88.1g(0.5몰), 메타크릴산 45.0g(0.5몰) 및 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 아세테이트 136g을 포함하는 혼합물에 터트부티르퍼록시 2-에틸헥실카보네이트 3.2g 을 첨가한 용액을 적하 로트로부터 2시간에 걸쳐 플라스크에 적하하여 100℃에서 9시간 더 교반을 계속하였다, 고형분 산가가 96㎎KOH/g인 수지 B-2를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균 분자량은 22,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다. 90 g of propylene glycol mono methyl ether acetate and 90 g of propylene glycol mono methyl ether were introduced into a flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen inlet tube, and the atmosphere in the flask was nitrogen in air. A solution in which 3.2 g of terbutyrryloxy 2-ethylhexyl carbonate was added to a mixture containing 88.1 g (0.5 mol) of benzyl methacrylate, 45.0 g (0.5 mol) of methacrylic acid, and 136 g of propylene glycol mono methyl ether acetate. Was added dropwise to the flask over 2 hours from the dropping lot, and further stirring was continued at 100 ° C for 9 hours to obtain a resin B-2 having a solid acid value of 96 mgKOH / g. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 22,000, and molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

이때, 상기의 결합제 수지의 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)의 측정은 합성예 1과 동일한 조건으로 실시하여 측정하였다.At this time, the measurement of the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the binder resin was carried out under the same conditions as in Synthesis Example 1.

<착색 감광성 수지 조성물 제조예 1 내지 5 및 비교 제조예 1 내지 7><Coloring Photosensitive Resin Compositions Preparation Examples 1 to 5 and Comparative Preparation Examples 1 to 7>

하기 표 1 및 표 2에 기재된 각 성분 중, 미리 착색 재료(A)인 안료, 기타 첨가제인 안료 분산제 및 용제(E)인 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 일부를 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 후 비드 밀을 분리하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 잔량을 포함하는 나머지 성분을 더 첨가하고 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 얻었다. Among the components shown in Tables 1 and 2 below, a pigment as the coloring material (A), a pigment dispersant as other additives and a part of the propylene glycol monomethyl ether acetate as the solvent (E) are mixed beforehand, and the pigment is After sufficient dispersion, the bead mill was separated, and the remaining components including the remaining amount of propylene glycol monomethyl ether acetate were further added and mixed to obtain a colored photosensitive resin composition.

  제조예Production Example 비교 제조예Comparative Production Example 1One 22 33 1One 22 33 44 55 착색 재료(A)Coloring material (A) C.I. 피그먼트 그린 58C.I. Pigment Green 58 2.982.98 2.482.48 1.981.98 - - - - - - 0.500.50 -- C.I. 피그먼트 그린 36C.I. Pigment Green 36 - - - - - - 3.48 3.48 2.98 2.98 2.98 2.98 2.98 2.98 1.981.98 C.I. 피그먼트 옐로우 138C.I. Pigment Yellow 138 0.500.50 1.001.00 1.501.50 -- - - 0.50.5 -- 1.501.50 C.I. 피그먼트 옐로우 150C.I. Pigment Yellow 150 -- -- - - - - 0.50.5 - - - - - - 결합제 수지(B)Binder Resin (B) B-1B-1 6.526.52 6.526.52 6.526.52 6.526.52 6.526.52 6.526.52 6.526.52 -- B-2B-2 -- -- -- -- -- -- -- 6.526.52 광중합성
화합물(C)
Photopolymerizable
Compound (C)
  4.35 4.35
광중합
개시제(D)
Photopolymerization
Initiator (D)
개시제(D1)Initiator (D1) 1.96 1.96
개시제(D2)Initiator (D2) 0.330.33 용제(E)Solvent (E)   80.4680.46 첨가제(F)Additive (F) 첨가제(F1)Additive (F1) 1.491.49 첨가제(F2)Additive (F2) 0.100.10

  제조예Production Example 비교 제조예Comparative Production Example 44 55 66 77 착색 재료(A)Coloring material (A) C.I. 피그먼트 레드 254C.I. Pigment Red 254 -- 1.201.20 1.201.20 - - C.I. 피그먼트 레드 242C.I. Pigment Red 242 1.201.20 - - -- 1.201.20 C.I. 피그먼트 레드 177C.I. Pigment Red 177 1.781.78 1.781.78 1.781.78 1.781.78 C.I. 피그먼트 옐로우 138C.I. Pigment Yellow 138 0.500.50 0.500.50 -- - - C.I. 피그먼트 옐로우 150C.I. Pigment Yellow 150 - - -- 0.50.5 0.50.5 결합제 수지(B)Binder Resin (B) 6.52 6.52 광중합성
화합물(C)
Photopolymerizable
Compound (C)
  4.35 4.35
광중합
개시제(D)
Photopolymerization
Initiator (D)
개시제(D1)Initiator (D1) 1.96 1.96
개시제(D2)Initiator (D2) 0.330.33 용제(E)Solvent (E)   80.4680.46 첨가제(F)Additive (F) 첨가제(F1)Additive (F1) 1.491.49 첨가제(F2)Additive (F2) 0.100.10

광중합성 화합물(C) : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 닛본 카야꾸 ㈜ 제조)Photopolymerizable compound (C): dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

개시제(D1) : 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(Irgacure 369; Ciba Specialty Chemical 사 제조)Initiator (D1): 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (Irgacure 369; manufactured by Ciba Specialty Chemical)

개시제(D2) : 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논(EAB-F; 호도가야 카가쿠㈜제조)Initiator (D2): 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone (EAB-F; manufactured by Hodogaya Kagaku Co., Ltd.)

용제(E) : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트Solvent (E): propylene glycol monomethyl ether acetate

첨가제(F1) : 안료 분산제(아크릴계)Additive (F1): Pigment Dispersant (Acrylic)

첨가제(F2) : 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란Additive (F2): 3-methacryloxypropyl trimethoxysilane

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

상기 제조예 1에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 아래와 같이 유리기판 상에 착색층을 제조하였다. Using the colored photosensitive resin composition prepared in Preparation Example 1 to prepare a colored layer on a glass substrate as follows.

25㎠의 유리 기판(코닝사 제조, #1737)을 중성 세제, 물 및 알코올로 차례로 세정하고 나서 건조하였다. 이 유리 기판상에 ITO전극을 두께 0.150㎛로 증착했다. 상기 기판상에 착색 감광성 수지 조성물을 100mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 노광하여 현상 공정을 생략했을 때의 후 소성 후의 막 두께가 3.0±0.5㎛가 되도록 스핀 코팅하고, 이어서 크린 오븐 중, 100℃에서 3분간 예비 건조하였다. 냉각 후, 이 착색 감광성 수지 조성물을 도포한 기판과 석영 유리제 포토마스크(노광부가 30mm*30mm)의 간격을 100㎛로 하고, 우시오 덴끼㈜제의 초고압 수은 램프(상품명 USH-250D)를 이용하여 대기 분위기하에 100mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 광조사 하였다. 그 후, 비 이온계 계면 활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.06%를 포함하는 수계 현상액에 상기 도막을 26℃에서 소정 시간 담가두어 현상한 뒤, 수세 후 200℃의 가열 오븐에서 30분 동안 가열하여 착색층을 형성했다. 상기 방법을 통해 만들어진 착색 기판을 SF6 gas를 이용하여 동일 조건으로 건식에칭(Dry etching)을 실시하여 도막의 30% 정도를 에칭(Etching) 한다.A 25 cm 2 glass substrate (# 1737, manufactured by Corning) was washed sequentially with a neutral detergent, water, and alcohol, and then dried. An ITO electrode was deposited on the glass substrate at a thickness of 0.150 mu m. When the coloring photosensitive resin composition was exposed on the said board | substrate at 100 mJ / cm <2> exposure amount (365 nm), spin coating was carried out so that the film thickness after post-firing might be 3.0 +/- 0.5 micrometer when the image development process was skipped, and then in a clean oven, 100 Predrying was carried out for 3 minutes at ℃. After cooling, the substrate was coated with the colored photosensitive resin composition, and the interval between the quartz glass photomask (exposure section 30mm * 30mm) was set to 100 µm, and the atmosphere was made by using an ultra-high pressure mercury lamp (trade name USH-250D) manufactured by Ushio Denki Co., Ltd. In the atmosphere, light irradiation was performed at an exposure dose (365 nm) of 100 mJ / cm 2. Thereafter, the coating film was immersed in a water-based developer containing 0.12% of nonionic surfactant and 0.06% of potassium hydroxide at 26 ° C. for a predetermined time, and then washed with water in a 200 ° C. heating oven for 30 minutes after washing with a colored layer. Formed. The colored substrate made through the above method is subjected to dry etching under the same conditions using SF6 gas to etch about 30% of the coating film.

<실시예 2, 3, 비교예 1 내지 5><Examples 2 and 3, Comparative Examples 1 to 5>

기판상에 상기 제조예 1에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 사용하는 대신 각각 제조예 2, 3, 비교예 1 내지 5에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다. The same method as in Example 1 except for using the colored photosensitive resin composition prepared in Preparation Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 to 5, respectively, instead of using the colored photosensitive resin composition prepared in Preparation Example 1 on the substrate. Was carried out.

<실시예 4><Example 4>

기판상에 상기 제조예 1에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물과 상기 제조예 4에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 각각 녹색 및 적색 픽셀 패턴을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다. In the same manner as in Example 1, except that the green and red pixel patterns were formed on the substrate using the colored photosensitive resin composition prepared in Preparation Example 1 and the colored photosensitive resin composition prepared in Preparation Example 4, respectively. Was carried out.

<실시예 5> <Example 5>

기판상에 상기 제조예 1에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물과 상기 제조예 5에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 각각 녹색 및 적색 픽셀 패턴을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다. In the same manner as in Example 1, except that the green and red pixel patterns were formed on the substrate using the colored photosensitive resin composition prepared in Preparation Example 1 and the colored photosensitive resin composition prepared in Preparation Example 5, respectively. Was carried out.

<비교예 6>Comparative Example 6

기판상에 상기 비교 제조예 1에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물과 상기 비교 제조예 6에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 각각 녹색 및 적색 픽셀 패턴을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.Same as Example 1 except that the green and red pixel patterns were formed on the substrate using the colored photosensitive resin composition prepared in Comparative Preparation Example 1 and the colored photosensitive resin composition prepared in Comparative Preparation Example 6, respectively. It was carried out by the method.

<비교예 7>&Lt; Comparative Example 7 &

기판상에 상기 비교 제조예 1에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물과 상기 비교 제조예 7에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 각각 녹색 및 적색 픽셀 패턴을 형성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.Same as Example 1 except that the green and red pixel patterns were formed on the substrate using the colored photosensitive resin composition prepared in Comparative Preparation Example 1 and the colored photosensitive resin composition prepared in Comparative Preparation Example 7, respectively. It was carried out by the method.

<실험예>Experimental Example

1. ICP-MS 평가1. ICP-MS Evaluation

① 상기 방법으로 제작된 시편 위에 테플론 링(Teflon ring) 설치 후, 테플론 링(Teflon ring) 안에 NMP 0.5mL 적하 실시하였다.① After the installation of the Teflon ring (Teflon ring) on the specimen produced by the above method, NMP 0.5mL was added dropwise into the Teflon ring.

② 상온에서 15min간 방치하였다.② left at room temperature for 15min.

③ 냉각 후 DIW 로 NMP 세정 및 20배 희석 후, ICP-MS 측정하고 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.③ After cooling NMP washed with DIW and diluting 20 times, ICP-MS was measured and the results are shown in Table 3 below.

이때, 상기와 같은 방법으로 분석시 검출되는 Metal 함량에 대한 평가 기준은 하기와 같다.At this time, the evaluation criteria for the metal content detected in the analysis as described above are as follows.

각 Metal 원소당 검토 Metal 함량이 100ppb 이하일 때 O, 100ppb 초과일 때 X 이다. O for each metal element under 100ppb, X for over 100ppb.

Cu(ppb)Cu (ppb) Ni(ppb)Ni (ppb) Zn(ppb)Zn (ppb) 평가결과Evaluation results 실시예 1Example 1 < 20<20 < 20<20 7070 OO 실시예 2Example 2 < 20<20 < 20<20 6262 OO 실시예 3Example 3 < 20<20 < 20<20 6060 OO 실시예 4Example 4 < 20<20 < 20<20 < 20<20 OO 실시예 5Example 5 < 20<20 < 20<20 < 20<20 OO 비교예 1Comparative Example 1 130130 < 20<20 < 20<20 XX 비교예 2Comparative Example 2 125125 5454 < 20<20 XX 비교예 3Comparative Example 3 135135 < 20<20 < 20<20 XX 비교예 4Comparative Example 4 129129 3939 < 20<20 XX 비교예 5Comparative Example 5 123123 < 20<20 < 20<20 XX 비교예 6Comparative Example 6 < 20<20 105105 < 20<20 XX 비교예 7Comparative Example 7 < 20<20 110110 < 20<20 XX

2. 내광성 및 Outgas 평가2. Light resistance and Outgas evaluation

2-1. 내광성 평가2-1. Light resistance evaluation

① 상기 방법으로 제작된 시편을 CCFL Back light 하에서 240시간 방치하였다.① The specimen prepared by the above method was left for 240 hours under CCFL back light.

② 방치 전후의 색차 ΔEab 를 확인하고 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.상기와 같은 방법으로 분석시 내광성에 대한 평가 기준은 하기와 같다.② Check the color difference ΔEab before and after standing and the results are shown in Table 4. The evaluation criteria for light resistance when analyzed by the above method is as follows.

ΔEab 값이 2.0 미만일때 O, 2.0 이상일때 X 이다. O when ΔEab value is less than 2.0, X when 2.0 or more.

2-2. Outgas 평가2-2. Outgas rating

① 아웃가스의 측정은 Py-GC/FID을 통해 230℃에서 30분 열분해하여 포집된 화합물을 분석하였으며, 그 결과는 하기 표 4에 나타내었다. ① Outgas was analyzed by pyrolysis at 230 ° C. for 30 minutes through Py-GC / FID, and the results were shown in Table 4 below.

상기와 같은 방법으로 분석시 Outgas 대한 평가 기준은 하기와 같다.The evaluation criteria for Outgas when analyzed in the above manner is as follows.

비교예 5의 값을 100%로 기준하여 백분율로 구하였다. 백분율이 45% 이하일 경우는 O, 백분율이 45% 초과일 경우는 X이다. The value of Comparative Example 5 was obtained as a percentage based on 100%. O if the percentage is less than 45%, X if the percentage is greater than 45%.

ΔEabΔEab OutgasOutgas 평가결과Evaluation results 실시예 1Example 1 0.820.82 41%41% OO 실시예 2Example 2 0.950.95 40%40% OO 실시예 3Example 3 0.750.75 45%45% OO 실시예 4Example 4 1.221.22 41%41% OO 실시예 5Example 5 1.201.20 41%41% OO 비교예 1Comparative Example 1 2.902.90 45%45% XX 비교예 2Comparative Example 2 2.932.93 51%51% XX 비교예 3Comparative Example 3 2.802.80 48%48% XX 비교예 4Comparative Example 4 3.003.00 55%55% XX 비교예 5Comparative Example 5 2.952.95 100%100% XX 비교예 6Comparative Example 6 2.572.57 58%58% XX 비교예 7Comparative Example 7 2.652.65 55%55% XX

상기 표 3 및 표 4에서 보는 바와 같이 본 발명에 따른 안료를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 착색층을 형성한 실시예의 경우 비교예에 비하여 화학적 안정성이 우수하여 픽셀 전극과 능동 소자(TFT)의 전기적 도통로(Contact Hole)를 형성 시 안료 성분에서 기인되는 메탈 성분이 100ppb이하로 적게 발생됨을 확인할 수 있으며, 그에 따러 잔상 및 휘도 저하가 발생하지 않는 효과를 나타냄을 확인할 수 있다. As shown in Table 3 and Table 4, in the case where the colored layer is formed using the colored photosensitive resin composition including the pigment according to the present invention, the chemical stability is superior to that of the comparative example, thereby providing a pixel electrode and an active element (TFT). When forming the contact hole (Contact Hole) of the metal component due to the pigment component can be confirmed that less than 100ppb is generated, accordingly, it can be seen that the afterimage and brightness reduction does not occur.

도 1은 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 박막트랜지스터(TFT) 방식 컬러 액정 표시 장치의 구동용 기판 상에 착색층을 형성하는 공정도이다.1 is a process chart of forming a colored layer on a driving substrate of a thin film transistor (TFT) type color liquid crystal display device using the colored photosensitive resin composition of the present invention.

<도면 부호의 간단한 설명>&Lt; Brief Description of Drawings &

ⓐ: R/G/B 의 픽셀 패턴 ⓑ:SiNx <보호층>Ⓐ: pixel pattern of R / G / B ⓑ: SiNx <protective layer>

ⓒ: TFT 층 ⓓ:유리기판 Ⓒ: TFT layer ⓓ: Glass substrate

ⓔ: 포지티브 PR ⓕ: IZO층(공통전극)Ⓔ: Positive PR ⓕ: IZO layer (common electrode)

Claims (6)

박막 트랜지스터가 배치된 기판상에 C.I. 피그먼트 그린 58과 C.I. 피그먼트 옐로우 138을 포함하는 착색 재료(A), 결합제 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 착색층을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.C.I. on the substrate on which the thin film transistor is disposed. Pigment Green 58 and C.I. The colored layer formed using the coloring photosensitive resin composition containing the coloring material (A) containing pigment yellow 138, binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photoinitiator (D), and a solvent (E). Color filter, characterized in that it comprises. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 착색층이 상기 착색 재료(A)로 C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 242, 또는 C.I. 피그먼트 레드 177를 적어도 하나 이상 포함하는 착색 감광성 수지 조성물로 이루어진 것을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.The colored layer is formed of C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 242, or C.I. A color filter further comprising a pigmented photosensitive resin composition comprising at least one of pigment red 177. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 착색 재료(A) 중 C.I. 피그먼트 그린 58 및 C.I. 피그먼트 옐로우 138의의 함량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 각각 질량 분율로 5 내지 60질량% 및 0.1 내지 50 중량%인 것을 특징으로 하는 컬러 필터.C.I. in the coloring material (A). Pigment Green 58 and C.I. The content of pigment yellow 138 is 5 to 60 mass% and 0.1 to 50 weight% in mass fractions with respect to the solid content in a coloring photosensitive resin composition, respectively. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 결합제 수지(B)는 하기의 (B1)과 (B2) 및 (B3) 화합물을 포함한 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체에 하기의 (B4)를 더 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 수지인 것을 특징으로 하는 컬러 필터:The said binder resin (B) is an unsaturated group containing resin obtained by making the following (B4) further react with the copolymer obtained by the copolymerization reaction containing the following (B1), (B2), and (B3) compound. filter: (B1): 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, (B1): a compound represented by the following formula (1), <화학식 1><Formula 1>
Figure 112009015941913-PAT00007
Figure 112009015941913-PAT00007
(상기 식에서 n은 0 또는 1이며,R1, R2는 위치에 따라 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12의 헤테로 원자를 포함하거나 포함하지 않는 지방족, 방향족 탄화수소이며, R3, R4, R5, R6는 위치에 따라 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 30의 헤테로 원자를 포함하거나 포함하지 않는 지방족, 방향족 탄화수소이며, R3, R4, R5, R6 중에서 둘이 선택되어 연결된 고리형태 또는 연결되지 않은 가지 형태이다.)(Wherein n is 0 or 1, R 1 and R 2 are each independently hydrogen or an aliphatic or aromatic hydrocarbon containing or without a hetero atom having 1 to 12 carbon atoms, and R 3, R 4, R 5, and R 6 are positions) Are each independently hydrogen, an aliphatic or aromatic hydrocarbon containing or without a hetero atom having 1 to 30 carbon atoms, and two of R 3, R 4, R 5, and R 6 are selected to be linked or unbranched.) (B2): (B1) 및 (B3)과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물,(B2): a compound having an unsaturated bond copolymerizable with (B1) and (B3), (B3): 카르복실기와 불포화 결합을 갖는 화합물(B3): a compound having a carboxyl group and an unsaturated bond (B4): 1 분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물.(B4): A compound having an unsaturated bond and an epoxy group in one molecule.
제4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 결합제 수지(B)는 (B1) 내지 (B3) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 상기 공중합체 구성 성분의 합계 몰수에 대하여 몰 분율로 (B1)으로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 30몰%,In the binder resin (B), the proportion of the constituents derived from each of (B1) to (B3) is 2 to 30 mol% , (B2)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 95몰%,Structural unit derived from (B2): 2 to 95 mol%, (B3)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 70몰%범위이고, Structural unit derived from (B3): in the range of 2 to 70 mole%, (B3)로부터 유도되는 구성 성분에 대하여 (B4)를 5 내지 80몰% 반응시키는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.The color filter characterized by reacting (B4) with 5-80 mol% with respect to the component derived from (B3). 제 5항의 컬러 필터가 구비된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.A liquid crystal display device comprising the color filter of claim 5.
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