KR20100095098A - Imprint apparatus including pressing device capable of controlling by patten area - Google Patents

Imprint apparatus including pressing device capable of controlling by patten area Download PDF

Info

Publication number
KR20100095098A
KR20100095098A KR1020090014210A KR20090014210A KR20100095098A KR 20100095098 A KR20100095098 A KR 20100095098A KR 1020090014210 A KR1020090014210 A KR 1020090014210A KR 20090014210 A KR20090014210 A KR 20090014210A KR 20100095098 A KR20100095098 A KR 20100095098A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pattern
pressing
substrate
present
region
Prior art date
Application number
KR1020090014210A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101061183B1 (en
Inventor
곽신웅
장성욱
황성재
이동일
Original Assignee
에이피시스템 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에이피시스템 주식회사 filed Critical 에이피시스템 주식회사
Priority to KR1020090014210A priority Critical patent/KR101061183B1/en
Publication of KR20100095098A publication Critical patent/KR20100095098A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101061183B1 publication Critical patent/KR101061183B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B29C59/022—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing characterised by the disposition or the configuration, e.g. dimensions, of the embossments or the shaping tools therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE: An imprinting apparatus including a pressurizing unit is provided to minimize a pressurized area by controlling pressurizing force according to the patterned region and the non-patterned region of a substrate. CONSTITUTION: A substrate(10) includes a patterned region and a non-patterned region. A supporting stand(100) supports the substrate. A patterning substrate(200) includes a plurality of patterning parts(210) which faces to the non-patterned region. A pressurizing unit(300) controls pressurizing force which pressurizes the upper side of the patterning substrate according to the patterned region and the non-patterned region.

Description

패턴영역에 따라 제어할 수 있는 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치{IMPRINT APPARATUS INCLUDING PRESSING DEVICE CAPABLE OF CONTROLLING BY PATTEN AREA}Imprinting apparatus having a pressurizing device that can be controlled according to the pattern area {IMPRINT APPARATUS INCLUDING PRESSING DEVICE CAPABLE OF CONTROLLING BY PATTEN AREA}

본 발명은 패턴영역에 따라 제어할 수 있는 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 상의 패턴영역과 비패턴영역을 구분하여 가압을 제어할 수 있는 가압 장치와 이를 구비하는 임프린팅 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an imprinting apparatus having a pressing device that can be controlled according to a pattern region, and more particularly, to a pressing apparatus capable of controlling pressing by dividing a pattern region and a non-pattern region on a substrate. It relates to an imprinting device.

미세 기술이 발전함에 따라 마이크로 또는 나노 단위의 선폭을 가지는 패턴을 이용하는 반도체, 디스플레이, 태양전지 분야에서는 직접도 및 성능의 급속한 향상이 이루어지고 있다. With the development of fine technology, in the field of semiconductors, displays, and solar cells using patterns having line widths in micro or nano units, rapid improvements in directivity and performance have been achieved.

특히, 액정표시장치(Liquid Crystal Display)와 유기 전계 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display) 등의 평판 표시 장치는 매트릭스(Matrix) 형태로 배열된 화소들을 개별적으로 제어함으로써, 우수한 화질과 구동 속도를 가지는 표시 성능을 구현한다. 이때, 평판 표시 장치들은 스위칭 소자인 박막 트랜지스터를 주로 사용한다.In particular, flat panel display devices such as a liquid crystal display and an organic light emitting display have an excellent image quality and driving speed by individually controlling pixels arranged in a matrix. Implement display performance. In this case, flat panel displays mainly use thin film transistors as switching elements.

또한, 태양전지에서는 유리 또는 금속의 기판 상에 PN 접합의 광전소자를 형성하는데 이 역시 박막형태의 수광 다이오드를 사용하게 된다.In addition, the solar cell forms a photovoltaic device of a PN junction on a glass or metal substrate, which also uses a light-receiving diode in the form of a thin film.

이러한 박막의 패턴 공정에서는, 미세한 패턴을 형성하기 위하여 다수의 포토리소그래피(photolithography) 공정을 진행한다. 포토리소그래피 공정을 살펴보면, 박막 성형 공정, 포토 레지스트 형성 공정, 마스크 제작 공정, 노광 공정, 현상 공정, 식각 공정 및 포토 레지스트 제거 공정 등 매우 많은 세부 공정을 포함하고 있어서 공정 단가와 시간이 많이 소요되고, 공정자체가 복잡한 문제점을 가지고 있다. 또한 노광시 사용되는 광은 고유의 파장과 간섭을 가지기 때문에 패턴의 선폭을 줄이는데는 그 한계가 있다. In such a thin film pattern process, a plurality of photolithography processes are performed to form a fine pattern. Looking at the photolithography process, it includes a large number of detailed processes such as thin film forming process, photoresist forming process, mask manufacturing process, exposure process, developing process, etching process and photoresist removing process, which takes a lot of process cost and time, The process itself has a complex problem. In addition, since the light used during exposure has inherent wavelength and interference, there is a limit in reducing the line width of the pattern.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 포토리소그래피 공정을 거치지 않는 다양한 방법들이 제시되고 있는데, 그 중에서도 나노 임프린팅(nano-imprinting, 이하 '임프린팅'이라 함) 방법이 가장 주목받고 있다. In order to solve this problem, various methods that do not undergo a photolithography process have been proposed, and among them, nano-imprinting (hereinafter, referred to as 'imprinting') method is attracting the most attention.

임프린팅 기술은 나노 패턴(nano parttern, 이하 '패턴부'라 함)이 형성된 몰드(패턴기판)를 기판 상의 박막에 일정한 압력으로 가압하여 패턴을 전사하는 기능을 수행한다. 따라서, 기판 상에 미세한 패턴을 간단한 공정으로 용이하게 형성할 수 있어, 대량생산이 가능하여 공정 수율이 높은 장점이 있다. Imprinting technology performs a function of transferring a pattern by pressing a mold (pattern substrate) on which a nano pattern (hereinafter referred to as a 'pattern portion') is formed to a thin film on a substrate at a constant pressure. Therefore, it is possible to easily form a fine pattern on the substrate in a simple process, it is possible to mass production has the advantage of high process yield.

이러한 임프린팅 공정의 경우에는 패턴부가 형성된 몰드를 가압하는 공정이 중요하다. 이는 가압하는 방법에 따라 기판 상의 패턴 균일성이 결정되기 때문인데, 이를 위해서 가압하는 진행방향에 따라 속도나 압력을 제어하는 방법이 제안된 바 있다.In the case of such an imprinting process, a process of pressing the mold on which the pattern portion is formed is important. This is because the pattern uniformity on the substrate is determined by the pressing method. For this purpose, a method of controlling the speed or the pressure according to the pressing direction has been proposed.

하지만, 이러한 경우 패턴이 형성되지 않는 영역까지 불필요하게 가압하게 되어 패턴의 균일성이 저하되고 공정 시간이 증가하는 문제점이 있다.However, in this case, there is a problem in that the pressure is unnecessarily pressed to the region where the pattern is not formed, thereby decreasing the uniformity of the pattern and increasing the processing time.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로, 기판의 패턴영역과 비패턴영역에 따라 가해지는 압력을 제어할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.The present invention is to solve the above problems of the prior art, an object of the present invention to control the pressure applied according to the pattern region and the non-pattern region of the substrate.

또한, 본 발명은 패턴영역과 비패턴영역에 따라 가압 속도를 제어할 수 있도록 하는 것을 다른 목적으로 한다.In addition, another object of the present invention is to be able to control the pressing speed according to the pattern region and the non-pattern region.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 대표적인 구성은 다음과 같다.Representative configuration of the present invention for achieving the above object is as follows.

본 발명의 일 태양에 따르면, 패턴이 형성되는 다수개의 패턴영역과 상기 패턴이 형성되는 않는 다수개의 비패턴영역을 포함하는 기판을 지탱하는 지지대, 상기 기판 상부에 위치하되 하부에는 상기 비패턴영역과 마주보는 다수개의 패턴부가 형성된 패턴기판, 및 상기 패턴영역과 상기 비패턴영역에 따라 상기 패턴기판의 상부를 가압하는 가압력을 제어하는 가압장치를 포함하는 임프린팅 장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention, a support for supporting a substrate including a plurality of pattern regions in which a pattern is formed and a plurality of non-pattern regions in which the pattern is not formed; There is provided an imprinting apparatus including a pattern substrate having a plurality of pattern portions facing each other, and a pressing device for controlling a pressing force for pressing an upper portion of the pattern substrate according to the pattern region and the non-pattern region.

이 외에도, 본 발명을 구현하기 위한 다른 장치가 더 제공된다.In addition to this, another apparatus for implementing the present invention is further provided.

본 발명에 의하면, 기판의 패턴영역과 비패턴영역에 따라 가압력을 제어할 수 있으므로, 가압 면적을 최소화할 수 있다.According to the present invention, since the pressing force can be controlled according to the pattern region and the non-pattern region of the substrate, the pressing area can be minimized.

또한, 본 발명에 의하면, 기판의 패턴영역과 비패턴영역에 따라 가압 속도를 제어할 수 있으므로, 가압 고정의 택트 타임(Tact Time)을 단축할 수 있다.In addition, according to the present invention, since the pressing speed can be controlled in accordance with the pattern region and the non-pattern region of the substrate, it is possible to shorten the tact time of pressing fixing.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. DETAILED DESCRIPTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. The various embodiments of the invention are different but need not be mutually exclusive. For example, certain features, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is defined only by the appended claims, along with the full range of equivalents to which such claims are entitled. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several aspects, and length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the present invention.

[본 발명의 바람직한 실시예][Preferred Embodiments of the Invention]

본 명세서에 있어서, 패턴영역과 비패턴영역을 포함하는 기판이란, 반도체 소자(예를 들면, 메모리 또는 비메모리 반도체), 평판 디스플레이(예를 들면, 액정 표시 장치 또는 유기 전계 발광 표시 장치) 및 태양전지와 같이 기판 상에 패턴이 형성되어 전기적인 구동을 하는 전자소자를 총칭하는 포괄적인 의미로 이해되어야 한다.In the present specification, a substrate including a pattern region and a non-pattern region includes a semiconductor element (for example, a memory or a non-memory semiconductor), a flat panel display (for example, a liquid crystal display or an organic electroluminescent display), and an aspect. A pattern is formed on a substrate such as a battery and should be understood as a generic term for an electronic device that is electrically driven.

즉, 이하의 상세한 설명에서는 편의를 위해 일 예로, 태양전지를 중심으로 설명하지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 미세 패턴을 이용하는 기술분야에서 본 발명에 의한 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치가 동일하게 적용될 수 있음은 자명할 것이다. That is, in the following detailed description, for convenience, a solar cell will be described as an example. However, the present invention is not limited thereto, and an imprinting apparatus including the pressurizing device according to the present invention in the technical field using a fine pattern is provided. It will be apparent that the same applies.

임프린팅Imprinting 장치의 구성 Configuration of the device

도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 의한 패턴영역에 따라 제어할 수 있는 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치의 가압 공정을 나타내는 간략한 도면이다.1A and 1B are simplified views illustrating a pressing process of an imprinting apparatus having a pressing device that can be controlled according to a pattern region according to an embodiment of the present invention.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 가압 장치는 지지대(100), 패턴기판(200) 및 가압장치(300)을 포함하며 구성될 수 있다.1A and 1B, the pressing device according to an embodiment of the present invention may include a support 100, a pattern substrate 200, and a pressing device 300.

먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 지지대(100)는 박막(20)이 형성된 기판(10)을 하부에서 지탱하는 기능을 수행할 수 있다. 이때, 도시되지는 않았지만 기판(10)을 소정의 위치에 정렬하여 고정시킬 수 있는 고정수단을 지지대(100)에 더 구비할 수 있는데, 일례로, 다수개의 진공홀이 형성되어 기판(10)을 진공압력으로 지지대(100)에 고정시킬 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이러한 지지대(100)는 상부에 위치하는 패턴기판(200)과의 정밀한 정렬을 구현하기 위해 미세위치 조절이 가능한 정렬수단을 더 구비할 수도 있다. First, the support 100 according to an embodiment of the present invention may perform a function of supporting the substrate 10 on which the thin film 20 is formed. At this time, although not shown, the fixing means may be further provided on the support 100 to align and fix the substrate 10 at a predetermined position. For example, a plurality of vacuum holes are formed to form the substrate 10. It may be fixed to the support 100 by the vacuum pressure, but is not limited thereto. In addition, the support 100 may be further provided with an alignment means capable of fine position adjustment to implement a precise alignment with the pattern substrate 200 located on the upper side.

이때, 박막(20)이 형성되는 기판(10)은 패턴(21)이 형성된 다수개의 패턴영역과 패턴(21)이 형성되지 않은 비패턴영역을 포함하는데 이후 패턴기판(200)이 가압되는 공정에 의해 형성될 수 있다. 이러한 패턴영역과 비패턴영역을 포함하는 기판(10)은 일례로, 유리기판 상에 광전소자가 형성된 태양전지일 수 있다.In this case, the substrate 10 on which the thin film 20 is formed includes a plurality of pattern regions in which the pattern 21 is formed and a non-pattern region in which the pattern 21 is not formed, and then the pattern substrate 200 is pressed. It can be formed by. The substrate 10 including the pattern region and the non-pattern region may be, for example, a solar cell in which an optoelectronic device is formed on a glass substrate.

다음으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴기판(200)은 기판(10) 상부에 위치하되 하부에는 비패턴영역과 마주보는 다수개의 패턴부(210)가 형성되어 있어서, 기판(10) 상의 박막(20)에 패턴부(210)와 대응되는 패턴(21)을 전사하는 기능을 수행할 수 있다.Next, the pattern substrate 200 according to an embodiment of the present invention is positioned on the substrate 10, but a plurality of pattern portions 210 facing the non-pattern area are formed on the substrate 10, and thus, on the substrate 10. The thin film 20 may perform a function of transferring the pattern 21 corresponding to the pattern portion 210.

이러한 패턴기판(200)은 이동수단(미도시)에 의해 박막(20) 상에 정렬된 후 가압장치(300)에 의해 가압되어 패턴(21)을 형성하게 되는데, 패턴(21)을 경화시키기 위해 사용되는 자외선을 투과시킬 수 있는 유리기판, 투명합성 수지기판과 같은 투명한 재질인 것이 바람직하다. 또한, 패턴기판(200)의 하부에 형성되는 패턴부(210)도 일례로, 투명한 실리콘 화합물(SiOx)을 적층한 후 식각공정을 수행하여 형성할 수 있다. The pattern substrate 200 is aligned on the thin film 20 by moving means (not shown) and then pressed by the pressing device 300 to form a pattern 21. In order to cure the pattern 21 It is preferable that it is a transparent material such as a glass substrate or a transparent synthetic resin substrate that can transmit ultraviolet rays to be used. In addition, the pattern portion 210 formed under the pattern substrate 200 may be formed by, for example, laminating a transparent silicon compound (SiOx) and then performing an etching process.

다음으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 가압장치(300)는 패턴기판(200)의 상부를 패턴영역과 비패턴영역에 따라 가압하여 기판(10) 상에 일정한 패턴(21)을 형성할 수 있다.Next, the pressing device 300 according to an embodiment of the present invention can form a predetermined pattern 21 on the substrate 10 by pressing the upper portion of the pattern substrate 200 according to the pattern area and the non-pattern area. have.

이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 가압장치(300)는 가압부(310), 가압부 이동수단(320), 가압 제어 시스템(330)를 포함하며 구성될 수 있다.The pressing device 300 according to an embodiment of the present invention may be configured to include a pressing unit 310, the pressing unit moving unit 320, the pressure control system 330.

이때, 가압부(310)는 패턴기판(200)의 상부와 직접 접촉하면서 압력을 가하 는 기능을 수행하는데, 도시된 바와 같이 회전하면서 대면적에 균일한 압력을 가할 수 있는 롤러 형태일 수 있으나, 패턴기판(200)의 상부를 가압할 수 있는 공지된 수단을 제한 없이 사용할 수 있다. In this case, the pressing unit 310 performs a function of applying pressure while directly contacting the upper portion of the pattern substrate 200, but may be in the form of a roller capable of applying a uniform pressure to a large area while rotating as shown. Known means capable of pressing the upper portion of the pattern substrate 200 can be used without limitation.

한편, 가압부 이동수단(320)은 가압부(310)을 패턴기판(200)의 일측에서 반대방향인 타측으로 수평 방향으로 이동시키는 기능을 수행할 수 있다. 따라서, 패턴기판(200)을 전체가 아니라 순차적으로 가압하여 패턴(21) 내에 기포과 같은 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다. On the other hand, the pressing unit moving means 320 may perform a function of moving the pressing unit 310 in the horizontal direction from one side of the pattern substrate 200 to the other side in the opposite direction. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of defects such as bubbles in the pattern 21 by sequentially pressing the pattern substrate 200 instead of the whole.

또한, 가압부 이동수단(320)은 가압부(310)의 압력을 조절할 수 있는 기능을 더 수행할 수 있는데, 이를 위해서 가압부(310)를 수직방향으로 제어하여 높이를 조절할 수 있다.In addition, the pressing unit moving unit 320 may further perform a function of adjusting the pressure of the pressing unit 310, for this purpose, the height can be adjusted by controlling the pressing unit 310 in the vertical direction.

한편, 가압 제어 시스템(330)은 패턴영역과 비패턴영역에 따라 가압부(310)의 압력과 속도를 조절할 수 있는 기능을 수행하는데, 보다 상세한 설명은 도 2 및 도 3을 참조한 이하의 설명에서 명확하게 이해될 것이다.On the other hand, the pressure control system 330 performs a function to adjust the pressure and speed of the pressing unit 310 according to the pattern area and the non-pattern area, for a more detailed description in the following description with reference to FIGS. Will be clearly understood.

가압 제어 시스템Pressurization control system

이하에서는, 본 발명의 실시예에 따른 가압 제어 시스템(330)의 내부 구성 및 각 구성요소의 기능에 대하여 살펴보기로 한다.Hereinafter, the internal structure of the pressure control system 330 according to an embodiment of the present invention and the function of each component will be described.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 제어 시스템(330)의 내부 구성을 상세하게 도시한 도면이다.2 is a view showing in detail the internal configuration of the pressure control system 330 according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 제어 시스템(330)은 영상 검출부(331), 제어신호 생성부(332), 데이터 저장부(333), 통신부(334) 및 제어 부(335)를 포함하며 구성될 수 있다.Referring to FIG. 2, the pressure control system 330 according to an embodiment of the present invention may include an image detector 331, a control signal generator 332, a data storage 333, a communication unit 334, and a controller ( 335 and can be configured.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 영상 검출부(331), 제어신호 생성부(332), 데이터 저장부(333), 통신부(334) 및 제어부(335)는 그 중 적어도 일부가 가압부 이동수단(320)과 통신하는 프로그램 모듈들일 수 있다. 이러한 프로그램 모듈들은, 운영 시스템, 응용 프로그램 모듈 및 기타 프로그램 모듈의 형태로, 물리적으로는 여러 가지 공지의 기억 장치 상에 저장될 수 있다. 한편, 이러한 프로그램 모듈들은 본 발명에 따라 후술할 특정 업무를 수행하거나 특정 추상 데이터 유형을 실행하는 루틴, 서브루틴, 프로그램, 오브젝트, 컴포넌트, 데이터 구조 등을 포괄하지만, 이에 제한되지는 않는다.According to an embodiment of the present invention, the image detector 331, the control signal generator 332, the data storage unit 333, the communication unit 334 and the control unit 335 is at least a portion of the pressing unit moving means ( Program modules in communication with 320. Such program modules may be physically stored on a variety of known storage devices, in the form of operating systems, application modules, and other program modules. On the other hand, such program modules include, but are not limited to, routines, subroutines, programs, objects, components, data structures, etc. that perform particular tasks or execute particular abstract data types, described below, in accordance with the present invention.

먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 영상 검출부(331)는 기판(10) 상에 패턴(21)이 형성된 패턴영역을 검출할 수 있는 기능을 수행할 수 있다.First, the image detector 331 according to an embodiment of the present invention may perform a function of detecting a pattern region in which the pattern 21 is formed on the substrate 10.

보다 자세하게 설명하면, 영상 검출부(331)는 기판(10) 상의 영상정보를 취득하고 이를 분석하여 패턴영역과 비패턴영역을 분리하여 추출할 수 있는데, 영상정보를 취득하기 위해서는 광을 수집하여 전기적인 신호로 변환하는 CCD(Charge Coupled Device) 센서 또는 CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor) 센서를 포함하는 공지된 디지털 카메라 장치를 사용할 수 있다. 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 광 정보를 전기적인 정보로 변환할 수 있는 장치라면 제한 없이 본 발명의 일 실시예에 따른 영상 검출부(331)에서 영상 취득 수단으로 사용할 수 있다.In more detail, the image detection unit 331 may obtain image information on the substrate 10 and analyze the extracted information to separate and extract the pattern region and the non-pattern region. A known digital camera device including a Charge Coupled Device (CCD) sensor or a Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS) sensor for converting into a signal can be used. The present invention is not limited thereto, and any device capable of converting optical information into electrical information can be used as an image acquisition means in the image detector 331 according to an embodiment of the present invention without limitation.

또한, 획득된 영상정보에서 패턴영역을 추출하기 위하여 패턴의 색상 값이나 조도 값을 산출하는 방식을 이용할 수 있다. 이렇게 특정 패턴의 이미지로부터 정보를 인식하는 패턴 인식 방법은 이미 공지된 기술이므로 본 발명에서는 이에 대한 상세한 설명을 생략하기로 한다.In addition, a method of calculating a color value or illuminance value of a pattern may be used to extract a pattern region from the acquired image information. Since a pattern recognition method for recognizing information from an image of a specific pattern is already known, a detailed description thereof will be omitted in the present invention.

다음으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 제어신호 생성부(332)는 영상 검출부(331)에서 추출된 패턴영역과 비패턴영역에 관한 정보를 이용하여 가압부 이동수단(320)을 제어할 수 있는 제어신호를 생성하는 기능을 수행할 수 있다. 따라서, 패턴영역에서는 가압부(310)의 높이를 낮게 하여 일정한 압력으로 가압을 수행하고, 비패턴영역에서는 가압부(310)의 높이를 높게 하여 가압을 수행하지 않을 수 있다.Next, the control signal generator 332 according to an embodiment of the present invention can control the pressing unit moving means 320 by using information about the pattern region and the non-pattern region extracted from the image detector 331. A function of generating a control signal can be performed. Therefore, in the pattern region, the pressing unit 310 may be made low to pressurize at a constant pressure, and in the non-patterning region, pressurizing may not be performed by raising the height of the pressing unit 310.

이와 동시에, 비패턴영역에서는 가압부(310)의 수평 이동속도(가압 속도)를 패턴영역 보다 증가시켜 가압 고정의 택트 타임(Tact Time)을 단축할 수 있다.At the same time, in the non-pattern region, the horizontal movement speed (pressing speed) of the pressing unit 310 may be increased than that of the pattern region, thereby shortening the tact time of the pressing fixing.

또한, 제어신호 생성부(332)는 사용자에 의해 데이터 저장부(333)에 저장된(설정된) 상기 영역(패턴영역, 비패턴영역)에 관한 정보에 따라 가압부 이동수단(320)을 제어할 수도 있다.In addition, the control signal generator 332 may control the pressurizing unit moving means 320 according to the information about the area (pattern area, non-pattern area) stored (set) in the data storage unit 333 by the user. have.

다음으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 데이터 저장부(333)는 사용자에 의해 패턴영역과 비패턴영역에 관한 정보를 미리 저장할 수 있는 저장수단이다. 따라서, 영상 검출부(331)의 수행과정 없이도 정해진 정보에 따라 제어신호 생성부(332)에서 제어신호를 생성하여 가압을 제어할 수도 있다.Next, the data storage unit 333 according to an embodiment of the present invention is a storage unit capable of storing in advance information about the pattern area and the non-pattern area by the user. Therefore, the control signal generator 332 may control the pressurization by generating the control signal according to the predetermined information without performing the process of performing the image detector 331.

다음으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 통신부(334)는 가압부 이동수단(320)으로 제어신호를 전송하고, 사용자 단말장치(미도시)로부터 사용자가 입력한 영역 정보를 수신하는 기능을 수행할 수 있다. Next, the communication unit 334 according to an embodiment of the present invention transmits a control signal to the pressing unit moving unit 320 and performs a function of receiving area information input by a user from a user terminal device (not shown). can do.

마지막으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 제어부(335)는 영상 검출부(331), 제어신호 생성부(332), 데이터 저장부(333) 및 통신부(334) 간의 데이터의 흐름을 제어하는 기능을 수행한다. 즉, 본 발명에 따른 제어부(335)는 외부로부터의 또는 가압 제어 시스템(300)의 각 구성요소 간의 데이터의 흐름을 제어함으로써, 영상 검출부(331), 제어신호 생성부(332), 데이터 저장부(333) 및 통신부(334)에서 각각 고유 기능을 수행하도록 제어한다.Finally, the control unit 335 according to an embodiment of the present invention provides a function of controlling the flow of data between the image detector 331, the control signal generator 332, the data storage unit 333, and the communication unit 334. To perform. That is, the control unit 335 according to the present invention controls the flow of data from the outside or between each component of the pressure control system 300, so that the image detector 331, the control signal generator 332, the data storage unit The control unit 333 and the communication unit 334 perform the unique functions, respectively.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴기판(200)의 평면도이다.3 is a plan view of a pattern substrate 200 according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 패턴기판(200)의 하부에서 다수개의 패턴부(210)가 행과 열방향으로 배열될 수 있는데, 가압장치(300)은 패턴기판(200)의 일측에서부터 타측까지 이동하면서 패턴기판(200)의 상부를 가압할 수 있다. 이때, 본 발명에서는 상술된 가압 제어 시스템(330)에 의해 패턴영역(P)에서만 가압하고 비패턴영역(P )에서는 가압하지 않음으로써, 가압공정 시간을 감소시킬 수 있으며 기판(10)에 형성되는 패턴(21)의 균일성을 개선할 수 있다. Referring to FIG. 3, a plurality of pattern parts 210 may be arranged in a row and column direction at a lower portion of the pattern substrate 200. The pressing device 300 moves from one side of the pattern substrate 200 to the other side. The upper portion of the pattern substrate 200 may be pressed. At this time, in the present invention, by pressing the pressure control system 330 described above only in the pattern region (P) and not in the non-pattern region (P), it is possible to reduce the pressing process time is formed on the substrate 10 The uniformity of the pattern 21 can be improved.

한편, 이상에서 본 발명이 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명이 상기 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형을 꾀할 수 있다.On the other hand, the present invention has been described by the specific embodiments, such as specific components and limited embodiments and drawings, which is provided only to help a more general understanding of the present invention, the present invention is limited to the above embodiments However, one of ordinary skill in the art can make various modifications and variations from this description.

따라서, 본 발명의 사상은 상기 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등하게 또는 등가적으로 변형된 모든 것들은 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Accordingly, the spirit of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, and all of the equivalents or equivalents of the claims, as well as the appended claims, fall within the scope of the spirit of the present invention. I will say.

도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 의한 패턴영역에 따라 제어할 수 있는 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치의 가압 공정을 나타내는 간략한 도면이다.1A and 1B are simplified views illustrating a pressing process of an imprinting apparatus having a pressing device that can be controlled according to a pattern region according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 제어 시스템(330)의 내부 구성을 상세하게 도시한 도면이다.2 is a view showing in detail the internal configuration of the pressure control system 330 according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴기판(200)의 평면도이다.3 is a plan view of a pattern substrate 200 according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 지지대100: support

200: 패턴기판200: pattern board

300: 가압장치300: pressurization device

310: 가압부310: pressurization

320: 가압부 이동수단320: pressurizing unit moving means

330: 가압 제어 시스템330: pressure control system

Claims (7)

패턴이 형성되는 다수개의 패턴영역과 상기 패턴이 형성되는 않는 다수개의 비패턴영역을 포함하는 기판을 지탱하는 지지대,A support for supporting a substrate including a plurality of pattern regions in which a pattern is formed and a plurality of non-pattern regions in which the pattern is not formed; 상기 기판 상부에 위치하되 하부에는 상기 비패턴영역과 마주보는 다수개의 패턴부가 형성된 패턴기판, 및A pattern substrate positioned on the substrate, but having a plurality of pattern portions facing the non-pattern area, 상기 패턴영역과 상기 비패턴영역에 따라 상기 패턴기판의 상부를 가압하는 가압력을 제어하는 가압장치Pressing device for controlling the pressing force for pressing the upper portion of the pattern substrate in accordance with the pattern area and the non-pattern area 를 포함하는 임프린팅 장치.Imprinting apparatus comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가압장치는 패턴영역에서만 가압하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.The pressing device is an imprinting apparatus, characterized in that the pressing only in the pattern region. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가압장치는 상기 패턴기판의 상부를 가압하는 가압부,The pressing device is a pressing unit for pressing the upper portion of the pattern substrate, 상기 가압부를 수평과 수직방향으로 이동시키는 가압부 이동수단,Pressing unit moving means for moving the pressing unit in the horizontal and vertical direction, 검출된 상기 패턴영역과 상기 비패턴영역에 따라 상기 가압부 이동수단을 제어하거나 설정된 상기 영역에 관한 정보에 따라 상기 가압부 이동수단을 제어하는 가압 제어 시스템A pressurization control system for controlling the pressurizing unit moving means in accordance with the detected pattern region and the non-patterned region or controlling the pressurizing unit moving means in accordance with information about the set region. 을 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.Imprinting apparatus comprising a. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 가압부는 롤러인 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.The pressing unit is an imprinting apparatus, characterized in that the roller. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 가압부 이동수단은 상기 수직방향인 높이에 따라 가압력을 제어하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.The pressing unit moving means is an imprinting apparatus, characterized in that for controlling the pressing force in accordance with the height in the vertical direction. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 가압부 이동수단은 상기 비패턴영역에서의 수평이동 속도가 상기 패턴영역에서의 수평이동 속도 보다 빠른 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.The pressing unit moving means is an imprinting apparatus, characterized in that the horizontal moving speed in the non-pattern area is faster than the horizontal moving speed in the pattern area. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 패턴영역에는 태양전지의 광전소자가 형성되는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.Imprinting apparatus, characterized in that the optoelectronic device of the solar cell is formed in the pattern region.
KR1020090014210A 2009-02-20 2009-02-20 Imprinting apparatus having a pressing device that can be controlled according to the pattern area KR101061183B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090014210A KR101061183B1 (en) 2009-02-20 2009-02-20 Imprinting apparatus having a pressing device that can be controlled according to the pattern area

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090014210A KR101061183B1 (en) 2009-02-20 2009-02-20 Imprinting apparatus having a pressing device that can be controlled according to the pattern area

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100095098A true KR20100095098A (en) 2010-08-30
KR101061183B1 KR101061183B1 (en) 2011-08-31

Family

ID=42758887

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090014210A KR101061183B1 (en) 2009-02-20 2009-02-20 Imprinting apparatus having a pressing device that can be controlled according to the pattern area

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101061183B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101695389B1 (en) * 2015-09-18 2017-01-12 (주) 나인테크 The imprinting apparatus

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190038976A (en) 2017-10-02 2019-04-10 삼성전자주식회사 Imprint apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101695389B1 (en) * 2015-09-18 2017-01-12 (주) 나인테크 The imprinting apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR101061183B1 (en) 2011-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20210167134A1 (en) Photosensitive touch substrate, fabrication method thereof and display apparatus
CN100451838C (en) Aligning system and aligning method
US7916396B2 (en) Lens master devices, lens structures, imaging devices, and methods and apparatuses of making the same
US11398590B2 (en) Detection substrate, preparation method thereof, detection device and detection method
CN108346606B (en) Microchip transfer device and microchip transfer system
US10144156B2 (en) Imprint apparatus, imprint method, and method for producing device
US20100127412A1 (en) Method and apparatus for fabricating lens masters
EP2735905B1 (en) Double-surface manufacturing method and exposure apparatus
KR20100095097A (en) Imprint apparatus including pressing device using pressure sensor
WO2013156086A1 (en) Adaptive pattern generation
KR101061183B1 (en) Imprinting apparatus having a pressing device that can be controlled according to the pattern area
US20100123260A1 (en) Stamp with mask pattern for discrete lens replication
CN110059562A (en) Display device and electronic device
CN103246177A (en) Continuous mask-free photoetching method for flexible panel and device for method
KR101084620B1 (en) Proximity exposure apparatus, method of delivering a mask thereof and method of manufacturing a panel substrate
US20220045247A1 (en) Optoelectronic modules including an optical emitter and optical receiver
KR20110025037A (en) Fabricating method and structure of a wafer level module
CN111312865A (en) Method and device for full-automatic intelligent positioning, transferring and arranging LED chips
JP2013195531A (en) Proximity exposure apparatus, alignment method of proximity exposure apparatus, and method of manufacturing display panel substrate
WO2020234850A1 (en) An alignment process for the transfer setup
CN110095890A (en) Cleaning device and cleaning method
JP2011003605A (en) Proximity aligner, alignment method for proximity aligner, and manufacturing method for display panel board
US10423072B2 (en) Exposure apparatus and method
WO2011018820A1 (en) Method for manufacturing optical matrix device
CN108267881B (en) LCD production process method for reducing rainbow phenomenon

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150826

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160608

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee