KR20100095097A - Imprint apparatus including pressing device using pressure sensor - Google Patents

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KR20100095097A
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곽신웅
장성욱
황성재
이동일
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에이피시스템 주식회사
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Abstract

PURPOSE: An imprinting apparatus is provided to detect a real pressure pressurized to a pattern substrate in real time using a pressure device, and to accurately revise the pressure error. CONSTITUTION: An imprinting apparatus comprises the following: a supporting stand(100) supporting a substrate(10) including multiple patterns; a pattern substrate(200) including multiple pattern units on the lower side to form the patterns; and a pressure device(300) measuring the pressure applied to the pattern substrate when pressing the upper side of the pattern substrate, using multiple pressure sensors. The pressure device controls either the pressure device itself or the supporting stand by the measured pressure from the sensors.

Description

압력센서를 이용한 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치{IMPRINT APPARATUS INCLUDING PRESSING DEVICE USING PRESSURE SENSOR}Imprinting apparatus having a pressure device using a pressure sensor {IMPRINT APPARATUS INCLUDING PRESSING DEVICE USING PRESSURE SENSOR}

본 발명은 압력센서를 이용한 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가압장치를 하나 또는 다수개의 압력센서에서 측정된 가압력을 이용하여 제어할 수 있는 임프린팅 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an imprinting apparatus having a pressurization device using a pressure sensor, and more particularly, to an imprinting device capable of controlling the pressurization device using a pressing force measured by one or a plurality of pressure sensors.

미세 기술이 발전함에 따라 마이크로 또는 나노 단위의 선폭을 가지는 패턴을 이용하는 반도체, 디스플레이, 태양전지 분야에서는 직접도 및 성능의 급속한 향상이 이루어지고 있다. With the development of fine technology, in the field of semiconductors, displays, and solar cells using patterns having line widths in micro or nano units, rapid improvements in directivity and performance have been achieved.

특히, 액정표시장치(Liquid Crystal Display)와 유기 전계 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display) 등의 평판 표시 장치는 매트릭스(Matrix) 형태로 배열된 화소들을 개별적으로 제어함으로써, 우수한 화질과 구동 속도를 가지는 표시 성능을 구현한다. 이때, 평판 표시 장치들은 스위칭 소자인 박막 트랜지스터를 주로 사용한다.In particular, flat panel display devices such as a liquid crystal display and an organic light emitting display have an excellent image quality and driving speed by individually controlling pixels arranged in a matrix. Implement display performance. In this case, flat panel displays mainly use thin film transistors as switching elements.

또한, 태양전지에서는 유리 또는 금속의 기판 상에 PN 접합의 광전소자를 형성하는데 이 역시 박막형태의 수광 다이오드를 사용하게 된다.In addition, the solar cell forms a photovoltaic device of a PN junction on a glass or metal substrate, which also uses a light-receiving diode in the form of a thin film.

이러한 박막의 패턴 공정에서는, 미세한 패턴을 형성하기 위하여 다수의 포토리소그래피(photolithography) 공정을 진행한다. 포토리소그래피 공정을 살펴보면, 박막 성형 공정, 포토 레지스트 형성 공정, 마스크 제작 공정, 노광 공정, 현상 공정, 식각 공정 및 포토 레지스트 제거 공정 등 매우 많은 세부 공정을 포함하고 있어서 공정 단가와 시간이 많이 소요되고, 공정자체가 복잡한 문제점을 가지고 있다. 또한 노광시 사용되는 광은 고유의 파장과 간섭을 가지기 때문에 패턴의 선폭을 줄이는데는 그 한계가 있다. In such a thin film pattern process, a plurality of photolithography processes are performed to form a fine pattern. Looking at the photolithography process, it includes a large number of detailed processes such as thin film forming process, photoresist forming process, mask manufacturing process, exposure process, developing process, etching process and photoresist removing process, which takes a lot of process cost and time, The process itself has a complex problem. In addition, since the light used during exposure has inherent wavelength and interference, there is a limit in reducing the line width of the pattern.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 포토리소그래피 공정을 거치지 않는 다양한 방법들이 제시되고 있는데, 그 중에서도 나노 임프린팅(nano-imprinting, 이하 '임프린팅'이라 함) 방법이 가장 주목받고 있다. In order to solve this problem, various methods that do not undergo a photolithography process have been proposed, and among them, nano-imprinting (hereinafter, referred to as 'imprinting') method is attracting the most attention.

임프린팅 기술은 나노 패턴(nano parttern, 이하 '패턴부'라 함)이 형성된 몰드(패턴기판)를 기판 상의 박막에 일정한 압력으로 가압하여 패턴을 전사하는 기능을 수행한다. 따라서, 기판 상에 미세한 패턴을 간단한 공정으로 용이하게 형성할 수 있어, 대량생산이 가능하여 공정 수율이 높은 장점이 있다.Imprinting technology performs a function of transferring a pattern by pressing a mold (pattern substrate) on which a nano pattern (hereinafter referred to as a 'pattern portion') is formed to a thin film on a substrate at a constant pressure. Therefore, it is possible to easily form a fine pattern on the substrate in a simple process, it is possible to mass production has the advantage of high process yield.

이러한 임프린팅 공정의 경우에는 패턴부가 형성된 몰드를 가압하는 공정이 중요하다. 이는 가압하는 방법에 따라 기판 상의 패턴 균일성이 결정되기 때문인데, 이를 위해서 가압하는 진행방향에 따라 속도나 압력을 제어하는 방법이 제안된 바 있다.In the case of such an imprinting process, a process of pressing the mold on which the pattern portion is formed is important. This is because the pattern uniformity on the substrate is determined by the pressing method. For this purpose, a method of controlling the speed or the pressure according to the pressing direction has been proposed.

하지만, 기판을 지탱하는 지지대의 수평도, 가압장치의 수평도 및 가압장치와 지지대 간의 정렬 오차에 따라 실제 패턴기판에 가해지는 압력에는 현저한 차이 가 발생하고, 이로 인하여 기판에 형성되는 패턴의 균일도가 저하되는 문제점이 있다.However, due to the horizontality of the support supporting the substrate, the horizontality of the pressing device, and the alignment error between the pressing device and the support, there is a significant difference in the pressure applied to the actual pattern substrate, which causes the uniformity of the pattern formed on the substrate. There is a problem of deterioration.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로, 가압장치에 의해 패턴기판을 가압하는 실제 가압력을 실시간으로 측정하는 것을 목적으로 한다.The present invention is to solve the above problems of the prior art, it is an object to measure the actual pressing force to press the pattern substrate by the pressurizing device in real time.

또한, 본 발명은 측정된 가압력을 하나 또는 다수개의 영역에서 측정 할 수 있도록 하는 것을 다른 목적으로 한다.In addition, another object of the present invention is to be able to measure the measured pressing force in one or a plurality of areas.

또한, 본 발명은 측정된 가압력을 이용하여 가압장치 또는 지지대 중 어느 하나 이상을 제어 할 수 있도록 하는 것을 또 다른 목적으로 한다.In addition, another object of the present invention is to be able to control any one or more of the pressing device or the support using the measured pressing force.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 대표적인 구성은 다음과 같다.Representative configuration of the present invention for achieving the above object is as follows.

본 발명의 일 태양에 따르면, 다수개의 패턴이 형성되는 기판을 지탱하는 지지대, 상기 기판 상부에 위치하되 하부에는 상기 패턴을 형성시키는 다수개의 패턴부가 형성된 패턴기판, 및 상기 패턴기판의 상부를 가압하되 하나 또는 다수개의 압력 센서부가 위치하여 상기 패턴기판에서 가해지는 압력을 측정하는 가압장치를 포함하며, 상기 가압장치는 상기 측정된 압력에 따라 상기 가압장치 또는 상기 지지대 중 어느 하나 이상을 제어하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention, a support for supporting a substrate on which a plurality of patterns are formed, a pattern substrate positioned on the substrate, but having a plurality of pattern portions forming the pattern on the lower portion, and pressing the upper portion of the pattern substrate, And a pressurizing device for measuring the pressure applied from the patterned substrate by placing one or a plurality of pressure sensor parts, wherein the pressurizing device controls at least one of the pressurizing device or the supporter according to the measured pressure. An imprinting apparatus is provided.

이 외에도, 본 발명을 구현하기 위한 다른 장치가 더 제공된다.In addition to this, another apparatus for implementing the present invention is further provided.

본 발명에 의하면, 가압장치에 의해 패턴기판에 가압되는 실제 가압력을 실시간으로 알 수 있으므로 가압시 발생하는 압력의 오차를 정확하게 보정할 수 있다.According to the present invention, since the actual pressing force applied to the pattern substrate by the pressing device can be known in real time, it is possible to accurately correct the error of the pressure generated during the pressing.

또한, 본 발명에 의하면, 정확한 가압력으로 기판 상에 패턴을 형성할 수 있으므로 보다 균일한 패턴을 얻을 수 있다.Moreover, according to this invention, since a pattern can be formed on a board | substrate by accurate pressing force, a more uniform pattern can be obtained.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. DETAILED DESCRIPTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. The various embodiments of the invention are different but need not be mutually exclusive. For example, certain features, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is defined only by the appended claims, along with the full range of equivalents to which such claims are entitled. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several aspects, and length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발 명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the present invention.

[본 발명의 바람직한 실시예][Preferred Embodiments of the Invention]

본 명세서에 있어서, 패턴이 형성된 기판이란, 반도체 소자(예를 들면, 메모리 또는 비메모리 반도체), 평판 디스플레이(예를 들면, 액정 표시 장치 또는 유기 전계 발광 표시 장치) 및 태양전지와 같이 기판 상에 패턴이 형성되어 전기적 구동을 하는 전자소자를 총칭하는 포괄적인 의미로 이해되어야 한다.In the present specification, a substrate on which a pattern is formed refers to a substrate such as a semiconductor device (for example, a memory or a non-memory semiconductor), a flat panel display (for example, a liquid crystal display or an organic electroluminescent display), and a solar cell. It should be understood as a generic term that refers to the electronic device that the pattern is formed and electrically driven.

즉, 이하의 상세한 설명에서는 편의를 위해 일 예로, 태양전지를 중심으로 설명하지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 미세 패턴을 이용하는 기술분야에서 본 발명에 의한 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치가 동일하게 적용될 수 있음은 자명할 것이다. That is, in the following detailed description, for convenience, a solar cell will be described as an example. However, the present invention is not limited thereto, and an imprinting apparatus including the pressurizing device according to the present invention in the technical field using a fine pattern is provided. It will be apparent that the same applies.

임프린팅Imprinting 장치의 구성 Configuration of the device

도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 의한 압력센서를 이용한 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치의 가압 공정을 나타내는 간략한 도면이다.1A and 1B are simplified diagrams illustrating a pressing process of an imprinting apparatus including a pressing device using a pressure sensor according to an embodiment of the present invention.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 임프린팅 장치는 지지대(100), 패턴기판(200) 및 가압장치(300)를 포함하며 구성될 수 있다.1A and 1B, an imprinting apparatus according to an embodiment of the present invention may include a support 100, a pattern substrate 200, and a pressing device 300.

먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 지지대(100)는 박막(20)이 형성된 기판(10)을 하부에서 지탱하는 기능을 수행할 수 있다. 이때, 도시되지는 않았지만 기판(10)을 소정의 위치에 정렬하여 고정시킬 수 있는 고정수단을 지지대(100)에 더 구비할 수 있는데, 일례로, 다수개의 진공홀이 형성되어 기판(10)을 진공압력으 로 지지대(100)에 고정시킬 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. First, the support 100 according to an embodiment of the present invention may perform a function of supporting the substrate 10 on which the thin film 20 is formed. At this time, although not shown, the fixing means may be further provided on the support 100 to align and fix the substrate 10 at a predetermined position. For example, a plurality of vacuum holes are formed to form the substrate 10. It can be fixed to the support 100 by the vacuum pressure, but is not limited thereto.

또한, 이러한 지지대(100)는 상부에 위치하는 패턴기판(200)과의 정밀한 정렬을 구현하기 위해 미세위치 조절이 가능한 정렬수단(미도시)을 더 구비할 수도 있는데. 이러한 정렬수단(미도시)은 이하에서 보다 상세하게 설명되지만 가압장치(300)에서 제공되는 제어신호(이하에서 보다 설명됨)에 의해 정렬될 수 있다.In addition, the support 100 may be further provided with an alignment means (not shown) capable of fine position adjustment to implement a precise alignment with the pattern substrate 200 is located at the top. These alignment means (not shown) are described in more detail below, but may be aligned by a control signal (described below) provided by the pressurizing device 300.

한편, 박막(20)은 이후 공정에 의해 패턴(21)으로 되어 기판(10) 상에 형성되는데, 일례로, 유리기판 상에 광전소자가 형성된 태양전지일 수 있다.On the other hand, the thin film 20 is formed on the substrate 10 as a pattern 21 by a subsequent process, for example, may be a solar cell in which an optoelectronic device is formed on a glass substrate.

다음으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴기판(200)은 기판(10) 상부에 위치하되 하부에는 다수개의 패턴부(210)가 형성되어 있어서, 기판(10) 상의 박막(20)에 패턴부(210)와 대응되는 패턴(21)을 전사하는 기능을 수행할 수 있다.Next, the pattern substrate 200 according to an embodiment of the present invention is positioned above the substrate 10, but a plurality of pattern portions 210 are formed at the bottom thereof, so that the pattern on the thin film 20 on the substrate 10 is formed. The pattern 21 corresponding to the unit 210 may be transferred.

이러한 패턴기판(200)은 이동수단(미도시)에 의해 박막(20) 상에 정렬된 후 가압장치(300)에 의해 가압되어 패턴(21)을 형성하게 되는데, 패턴(21)을 경화시키기 위해 사용되는 자외선을 투과시킬 수 있는 유리기판, 투명합성 수지기판과 같은 투명한 재질인 것이 바람직하다. 또한, 패턴기판(200)의 하부에 형성되는 패턴부(210)도 일례로, 투명한 실리콘 화합물(SiOx)을 적층한 후 식각공정을 수행하여 형성할 수 있다. The pattern substrate 200 is aligned on the thin film 20 by moving means (not shown) and then pressed by the pressing device 300 to form a pattern 21. In order to cure the pattern 21 It is preferable that it is a transparent material such as a glass substrate or a transparent synthetic resin substrate that can transmit ultraviolet rays to be used. In addition, the pattern portion 210 formed under the pattern substrate 200 may be formed by, for example, laminating a transparent silicon compound (SiOx) and then performing an etching process.

다음으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 가압장치(300)는 패턴기판(200)의 상부를 가압하면서 실제 패턴기판(200)에 가해지는 압력을 측정하는 기능을 수행할 수 있다. 또한, 측정된 가압력을 이용하여 가압장치(300) 또는 지지대(100) 중 어느 하나 이상을 제어하는 기능을 수행할 수 있다.Next, the pressing device 300 according to an embodiment of the present invention may perform a function of measuring the pressure applied to the actual pattern substrate 200 while pressing the upper portion of the pattern substrate 200. In addition, it is possible to perform a function of controlling any one or more of the pressurizing device 300 or the support 100 using the measured pressing force.

이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 가압장치(300)는 가압부(310), 압력 센서부(320), 가압부 이동수단(330) 및 가압 제어 시스템(340)를 포함하며 구성될 수 있다.The pressurizing device 300 according to an embodiment of the present invention may include a pressurizing unit 310, a pressure sensor unit 320, a pressurizing unit moving unit 330, and a pressurization control system 340.

이때, 가압부(310)는 패턴기판(200)의 상부와 직접 접촉하면서 압력을 가하는 기능을 수행하는데, 도시된 바와 같이 회전하면서 대면적에 균일한 압력을 가할 수 있는 롤러 형태일 수 있으나, 패턴기판(200)의 상부를 가압할 수 있는 공지된 수단을 제한 없이 사용할 수 있다. In this case, the pressing unit 310 performs a function of applying a pressure while directly contacting the upper portion of the pattern substrate 200, it may be in the form of a roller that can apply a uniform pressure to the large area while rotating as shown, the pattern Known means capable of pressing the upper portion of the substrate 200 can be used without limitation.

한편, 압력 센서부(320)는 가압부(310)에 의해 가해지는 압력에 따라 실제로 패턴기판(200)에서 가해지는 압력을 측정할 수 있는데, 압력에 의한 전기적, 기계적 반응을 이용하여 압력을 측정하는 기능을 수행할 수 있다. Meanwhile, the pressure sensor unit 320 may actually measure the pressure applied by the pattern substrate 200 according to the pressure applied by the pressing unit 310. The pressure sensor unit 320 may measure the pressure using an electrical and mechanical reaction by the pressure. To perform the function.

보다 자세하게 설명하면, 압력 센서부(320)는 가압부(310)의 일측에 하나만 위치할 수도 있으나 가압부(310)의 양단에 각각 위치하여 다수개의 영역에서 가압력을 측정하는 것이 바람직하다. 이는 각 영역의 가압력을 서로 비교함으로써 보다 정확한 제어할 수 있기 때문이다.In more detail, only one pressure sensor unit 320 may be positioned on one side of the pressing unit 310, but it is preferable to measure the pressing force in a plurality of regions by respectively located at both ends of the pressing unit 310. This is because more accurate control can be obtained by comparing the pressing force of each region with each other.

이러한 압력 센서부(320)는 기계식 압력 센서, 전자식 압력 센서, 반도체식 압력센서와 같은 공지된 압력 측정수단을 제한 없이 사용할 수 있는데, 일례로, 압축되거나 늘어나는 변형량을 검출하여 압력을 측정할 수 있는 로드셀(load cell)을 사용할 수 있다.The pressure sensor unit 320 may use a known pressure measuring means such as a mechanical pressure sensor, an electronic pressure sensor, a semiconductor pressure sensor without limitation, for example, it can measure the pressure by detecting the amount of compression or stretching deformation A load cell can be used.

한편, 가압부 이동수단(320)은 가압부(310)을 패턴기판(200)의 일측에서 반대방향인 타측으로 수평 방향으로 이동시키는 기능을 수행할 수 있다. 따라서, 패 턴기판(200)을 전체가 아니라 순차적으로 가압하여 패턴(21) 내에 기포과 같은 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.On the other hand, the pressing unit moving means 320 may perform a function of moving the pressing unit 310 in the horizontal direction from one side of the pattern substrate 200 to the other side in the opposite direction. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of defects such as bubbles in the pattern 21 by sequentially pressing the pattern substrate 200 instead of the whole.

또한, 가압부 이동수단(320)은 가압부(310)의 압력을 조절할 수 있는 기능을 더 수행할 수 있는데, 이를 위해서 가압부(310)를 수직방향으로 제어하여 높이를 조절할 수 있다.In addition, the pressing unit moving unit 320 may further perform a function of adjusting the pressure of the pressing unit 310, for this purpose, the height can be adjusted by controlling the pressing unit 310 in the vertical direction.

한편, 가압 제어 시스템(340)은 압력 센서부(320)에 측정된 실제 가압력에 따라 가압부 이동수단(320) 또는 지지대(100)를 제어하는 기능을 수행할 수 있는데, 보다 상세한 설명은 도 2 및 도 3을 참조한 이하의 설명에서 명확하게 이해될 것이다.Meanwhile, the pressure control system 340 may perform a function of controlling the pressing unit moving unit 320 or the support 100 according to the actual pressing force measured by the pressure sensor unit 320, which will be described in more detail with reference to FIG. 2. And in the following description with reference to FIG. 3.

가압 제어 시스템Pressurization control system

이하에서는, 본 발명의 실시예에 따른 가압 제어 시스템(340)의 내부 구성 및 각 구성요소의 기능에 대하여 살펴보기로 한다.Hereinafter, the internal configuration of the pressure control system 340 and the function of each component will be described.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 제어 시스템(340)의 내부 구성을 상세하게 도시한 도면이다.2 is a view showing in detail the internal configuration of the pressure control system 340 according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 제어 시스템(340)은 제어신호 생성부(331), 데이터 저장부(332), 통신부(333) 및 제어부(334)를 포함하며 구성될 수 있다.Referring to FIG. 2, the pressure control system 340 according to an embodiment of the present invention includes a control signal generator 331, a data storage unit 332, a communication unit 333, and a controller 334. Can be.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 제어신호 생성부(331), 데이터 저장부(332), 통신부(333) 및 제어부(334)는 그 중 적어도 일부가 가압부 이동수단(330)과 통신하는 프로그램 모듈들일 수 있다. 이러한 프로그램 모듈들은, 운영 시스템, 응용 프로그램 모듈 및 기타 프로그램 모듈의 형태로, 물리적으로는 여러 가지 공지의 기억 장치 상에 저장될 수 있다. 한편, 이러한 프로그램 모듈들은 본 발명에 따라 후술할 특정 업무를 수행하거나 특정 추상 데이터 유형을 실행하는 루틴, 서브루틴, 프로그램, 오브젝트, 컴포넌트, 데이터 구조 등을 포괄하지만, 이에 제한되지는 않는다.According to an embodiment of the present invention, the control signal generator 331, the data storage unit 332, the communication unit 333 and the control unit 334 is a program in which at least some of them communicate with the pressing unit moving means 330 May be modules. Such program modules may be physically stored on a variety of known storage devices, in the form of operating systems, application modules, and other program modules. On the other hand, such program modules include, but are not limited to, routines, subroutines, programs, objects, components, data structures, etc. that perform particular tasks or execute particular abstract data types, described below, in accordance with the present invention.

먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 제어신호 생성부(331)는 압력 센서부(320)에서 측정된 패턴기판(200)에 실제 가해지는 압력을 이용하여 가압부 이동수단(320)을 제어하는 제어신호를 생성하는 기능을 수행할 수 있다.First, the control signal generator 331 according to an embodiment of the present invention controls the pressurizing unit moving unit 320 by using the pressure actually applied to the pattern substrate 200 measured by the pressure sensor unit 320. A function for generating a control signal may be performed.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 제어신호 생성부(331)는 측정된 가압력을 이용하여 지지대를 제어하는 제어신호를 생성하는 기능을 수행할 수도 있다. 물론, 상기 제어신호를 동시에 제공할 수도 있다.In addition, the control signal generator 331 according to an embodiment of the present invention may perform a function of generating a control signal for controlling the support using the measured pressing force. Of course, the control signal may be provided at the same time.

보다 자세하게 설명하면, 가압부 이동수단(320)에 의해 수직방향으로 높이가 조절되어 초기 가압력이 인가되는 가압부(310)의 가압력(A)과 압력 센서부(320)에서 측정되는 가압력(B)를 측정하여 오차를 보정하는 과정을 수행할 수 있다. 즉, 가압력(A)에 가장 가까운 가압력(B)를 얻을 수 있게 가압부 이동수단(320)과 지지대(100) 중 어느 하나 이상을 정렬(예를 들면, 높이)할 수 있다. 이러한, 압력 센서부(320)는 다수개가 구비되어 것이 바람직한데, 도 3을 참조한 이하의 설명에 의해 명확히 이해될 것이다.In more detail, the height is adjusted in the vertical direction by the pressing unit moving means 320, the pressing force (A) of the pressing unit 310 to which the initial pressing force is applied, and the pressing force (B) measured by the pressure sensor unit 320. The process of correcting the error may be performed. That is, any one or more of the pressurizing unit moving means 320 and the support 100 may be aligned (for example, height) to obtain the pressing force B closest to the pressing force A. FIG. Such a pressure sensor unit 320 is preferably provided with a plurality, it will be clearly understood by the following description with reference to FIG.

다음으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 데이터 저장부(332)는 측정된 영역마다의 압력을 저장할 수 있는 저장수단이다. Next, the data storage unit 332 according to an embodiment of the present invention is a storage means capable of storing the pressure for each measured area.

다음으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 통신부(333)는 가압부 이동수단(330), 지지대(100) 중 어느 하나 이상으로 제어신호를 전송하고, 압력 센서부(320)로부터 측정된 가압력에 관한 정보를 수신하는 기능을 수행할 수 있다. Next, the communication unit 333 according to an embodiment of the present invention transmits a control signal to any one or more of the pressing unit moving unit 330, the support 100, and the pressure applied to the measured pressure from the sensor unit 320 It can perform a function of receiving information about.

마지막으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 제어부(334)는 제어신호 생성부(331), 데이터 저장부(332) 및 통신부(333) 간의 데이터의 흐름을 제어하는 기능을 수행한다. 즉, 본 발명에 따른 제어부(334)는 외부로부터의 또는 가압 제어 시스템(300)의 각 구성요소 간의 데이터의 흐름을 제어함으로써, 제어신호 생성부(331), 데이터 저장부(332) 및 통신부(333)에서 각각 고유 기능을 수행하도록 제어한다.Finally, the controller 334 according to an embodiment of the present invention performs a function of controlling the flow of data between the control signal generator 331, the data storage 332, and the communication unit 333. That is, the control unit 334 according to the present invention controls the flow of data from the outside or between each component of the pressure control system 300, thereby controlling the control signal generator 331, data storage unit 332 and communication unit ( In step 333, each control performs a unique function.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 압력센서를 이용한 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치의 간략한 평면도이다.3 is a simplified plan view of an imprinting apparatus having a pressing device using a pressure sensor according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 패턴기판(200)의 하부에서 다수개의 패턴부(210)가 행과 열방향으로 배열될 수 있는데, 가압장치(300)은 패턴기판(200)의 일측에서부터 타측까지 이동하면서 패턴기판(200)의 상부를 가압할 수 있다. 이때, 본 발명에서는 상술된 가압 제어 시스템(340)에 의해 가압 센서부(320: 320a, 302b)에서 측정된 압력에 따라 가압부(310)와 지지대(100) 중 어느 하나 이상을 정렬할 수 있다.Referring to FIG. 3, a plurality of pattern parts 210 may be arranged in a row and column direction at a lower portion of the pattern substrate 200. The pressing device 300 moves from one side of the pattern substrate 200 to the other side. The upper portion of the pattern substrate 200 may be pressed. At this time, the present invention may align any one or more of the pressing unit 310 and the support 100 according to the pressure measured by the pressure sensor unit 320 (320a, 302b) by the above-described pressure control system 340. .

이때, 제1 가압 센서부(320a)와 제2 가압 센서부(320b)에서 각각 측정되는 가압력을 비교하면 보다 정확한 가압공정을 수행할 수 있다. 일례로, 제1 가압 센서부(320a)가 제2 가압 센서부(320b) 보다 가압력이 크면, 가압부(310)의 높이가 제2 가압 센서부(320b) 측으로 높게 형성되었거나, 제1 가압 센서부(320a)와 마주 보는 지지대(100) 측이 높게 형성되었음을 알 수 있다. 따라서, 가압부(310)와 지지대(100) 중 어느 하나 이상을 정렬할 수 있다.At this time, comparing the pressing force measured in each of the first pressure sensor unit 320a and the second pressure sensor unit 320b can perform a more accurate pressure process. For example, when the pressing force of the first pressure sensor part 320a is greater than that of the second pressure sensor part 320b, the height of the pressing part 310 is formed higher toward the second pressure sensor part 320b or the first pressure sensor. It can be seen that the side of the support 100 facing the portion 320a is formed high. Accordingly, any one or more of the pressing unit 310 and the support 100 may be aligned.

한편, 이상에서 본 발명이 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명이 상기 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형을 꾀할 수 있다.On the other hand, the present invention has been described by the specific embodiments, such as specific components and limited embodiments and drawings, which is provided only to help a more general understanding of the present invention, the present invention is limited to the above embodiments However, one of ordinary skill in the art can make various modifications and variations from this description.

따라서, 본 발명의 사상은 상기 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등하게 또는 등가적으로 변형된 모든 것들은 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Therefore, the spirit of the present invention should not be construed as being limited to the above-described embodiments, and all of the equivalents or equivalents of the claims, as well as the following claims, I will say.

도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 의한 압력센서를 이용한 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치의 가압 공정을 나타내는 간략한 도면이다.1A and 1B are simplified diagrams illustrating a pressing process of an imprinting apparatus including a pressing device using a pressure sensor according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 제어 시스템(340)의 내부 구성을 상세하게 도시한 도면이다.2 is a view showing in detail the internal configuration of the pressure control system 340 according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 압력센서를 이용한 가압 장치를 구비하는 임프린팅 장치의 간략한 평면도이다.3 is a simplified plan view of an imprinting apparatus having a pressing device using a pressure sensor according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 지지대100: support

200: 패턴기판200: pattern board

300: 가압장치300: pressurization device

310: 가압부310: pressurization

320: 가압 센서부320: pressure sensor unit

330: 가압부 이동수단330: pressing unit moving means

340: 가압 제어 시스템340: pressure control system

Claims (6)

다수개의 패턴이 형성되는 기판을 지탱하는 지지대,Support for supporting a substrate on which a plurality of patterns are formed, 상기 기판 상부에 위치하되 하부에는 상기 패턴을 형성시키는 다수개의 패턴부가 형성된 패턴기판, 및A pattern substrate positioned on the substrate, but having a plurality of pattern portions formed thereon to form the pattern; 상기 패턴기판의 상부를 가압하되 하나 또는 다수개의 압력 센서부가 위치하여 상기 패턴기판에서 가해지는 압력을 측정하는 가압장치를 포함하며,Pressurizing the upper portion of the pattern substrate, one or a plurality of pressure sensors are located to include a pressure device for measuring the pressure applied from the pattern substrate, 상기 가압장치는 상기 측정된 압력에 따라 상기 가압장치 또는 상기 지지대 중 어느 하나 이상을 제어하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.The pressing device is an imprinting device, characterized in that for controlling any one or more of the pressing device or the support in accordance with the measured pressure. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가압장치는 상기 측정된 압력에 따라 가압장치의 높이를 제어하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.The pressing device is an imprinting apparatus, characterized in that for controlling the height of the pressing device in accordance with the measured pressure. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가압장치는 상기 측정된 압력에 따라 지지대의 높이를 제어하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.The pressing device is an imprinting device, characterized in that for controlling the height of the support in accordance with the measured pressure. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가압장치는 상기 패턴기판의 상부를 가압하는 가압부,The pressing device is a pressing unit for pressing the upper portion of the pattern substrate, 상기 가압부를 수평과 수직방향으로 이동시키는 가압부 이동수단,Pressing unit moving means for moving the pressing unit in the horizontal and vertical direction, 상기 측정된 압력에 따라 상기 가압부 이동수단 또는 상기 지지대 중 어느 하나 이상을 제어하는 가압 제어 시스템Pressure control system for controlling any one or more of the pressing unit moving means or the support in accordance with the measured pressure 을 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.Imprinting apparatus comprising a. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 가압부는 롤러인 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.The pressing unit is an imprinting apparatus, characterized in that the roller. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 패턴영역에는 태양전지의 광전소자가 형성되는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.Imprinting apparatus, characterized in that the optoelectronic device of the solar cell is formed in the pattern region.
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