KR20100093873A - Thin film formation apparatus - Google Patents

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KR20100093873A KR1020090012995A KR20090012995A KR20100093873A KR 20100093873 A KR20100093873 A KR 20100093873A KR 1020090012995 A KR1020090012995 A KR 1020090012995A KR 20090012995 A KR20090012995 A KR 20090012995A KR 20100093873 A KR20100093873 A KR 20100093873A
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신동주
조정민
이영우
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삼성전기주식회사
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Abstract

PURPOSE: The thin film pattern forming device isolates the sheet and mask in transfer with the antifriction roll. The fault in which pattern blots to the sheet is prevented. CONSTITUTION: The source material tooth part(110) evaporates the deposition source to the deposition zone. The sheet transfer part navigates the sheet(S) passes through the deposition zone. The mask(130) comprises the mask pattern which is formed in order to be corresponded to the thin film pattern. The mask transport unit(140) navigates mask according to the transfer path crossing with the transfer path of the sheet.

Description

박막 패턴 형성장치{THIN FILM FORMATION APPARATUS}Thin film pattern forming apparatus {THIN FILM FORMATION APPARATUS}

본 발명은 박막 패턴 형성장치에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 롤 사이에서 주행하는 시트 상에 원하는 박막 패턴을 형성하기 위한 박막 패턴 형성장치에 관한 것이다. The present invention relates to a thin film pattern forming apparatus, and more particularly, to a thin film pattern forming apparatus for forming a desired thin film pattern on a sheet traveling between rolls.

디지털 전자제품의 소형화, 다기능화에 따라, 다양한 수동 부품들도 보다 업그레이드되는 기능과 함께 경박 단소화되는 추세에 있다. As digital electronic products become smaller and more versatile, various passive components are also becoming smaller and lighter with more upgraded functions.

특히, 캐패시터는 카메라폰, DMB폰, 네비게이션과 같은 휴대용 소형 전자제품에 다량 사용되며, 초박층 및 고적층화와 함께 고용량, 고기능이 더욱 요구되며, 이러한 캐패시터에 전극 패턴을 형성시키는 방법으로는 스크린 인쇄방식이 많이 사용된다.In particular, capacitors are used in a large amount of portable small electronics such as camera phones, DMB phones, navigation, and the like, ultra-thin and high lamination, high capacity, high functionality is required, and the method of forming an electrode pattern on the capacitor is screen printing The method is used a lot.

그러나, 기존의 스크린 인쇄 방식으로는 동일 칩 사이즈 내에서 고용량을 구현하는 데 한계가 있다. 이러한 한계를 극복하고자 여러 가지 공법이 시도되고 있으며, 이러한 시도 중 하나로 롤투롤(Roll to Roll) 공정을 들 수 있다.However, the existing screen printing method has a limitation in realizing high capacity within the same chip size. Various methods have been attempted to overcome these limitations, and one such attempt is a roll to roll process.

여기서, 롤투롤 공정이란 진공 챔버 내에서 전극 패턴이 새겨진 롤형의 마스크를 이용하여 시트에 박막 전극을 성막하는 공법이다. 롤투롤 공정은 플렉서블 기 판에서 디스플레이 또는 소자를 구현하는 데 있어서도 기존의 배치 타입 공정보다 양산성이 우수하므로 적극 검토되고 있다.Here, the roll-to-roll process is a method of forming a thin film electrode on a sheet using a roll-type mask having an electrode pattern engraved in a vacuum chamber. The roll-to-roll process has been actively studied for implementing a display or device on a flexible substrate because it has better mass productivity than a conventional batch type process.

일반적으로, 이러한 롤투롤 공정은 진공 챔버의 내부에 마스크를 순환시키기 위한 다수의 이송 롤들이 장착되며, 상기 마스크의 순환 경로와 일치하는 방향으로 이송되는 다수의 시트 이송 롤들이 장착되게 된다. In general, this roll-to-roll process is equipped with a plurality of transfer rolls for circulating the mask inside the vacuum chamber, and a plurality of sheet transfer rolls which are conveyed in a direction coinciding with the circulation path of the mask.

따라서, 이러한 구조의 롤투롤 공정을 가지는 박막 패턴 형성장치는 일정 순환 경로를 따라 이송되는 마스크 및 그 마스크를 이송시키는 이송 장치 때문에 그 구조가 일정 부피를 가지게 된다. Therefore, the thin film pattern forming apparatus having the roll-to-roll process of such a structure has a certain volume because of the mask to be transferred along a certain circulation path and the conveying device to convey the mask.

이에 따라, 롤투롤 공정을 가지는 박막 패턴 형성장치를 보다 경제적인 콤팩트한 구성으로 제조하는 데 한계가 있으며, 콤팩트한 구조를 가질 수 있는 새로운 기술들이 요구된다. Accordingly, there is a limit to manufacturing a thin film pattern forming apparatus having a roll-to-roll process in a more economical compact configuration, and new technologies that can have a compact structure are required.

본 발명은 상술된 종래 기술의 문제를 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 마스크의 이송 경로 및 시트의 이송 경로가 서로 교차하는 구조를 가지므로 콤팩트한 구성이 가능하여 보다 경제적이며, 시트에 전극 패턴이 번지는 것을 방지하는 박막 패턴 형성장치를 제공하는 데 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, the purpose of which has a structure in which the transfer path of the mask and the transfer path of the sheet intersect with each other, it is possible to make a compact configuration is more economical, the electrode pattern on the sheet It is to provide a thin film pattern forming apparatus for preventing the spread.

본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치는 증착소스를 수용하며, 시트 상에 박막 패턴을 인쇄하기 위한 증착 영역을 향하여 상기 증착소스를 증발시키는 소스재치부; 상기 증착 영역을 통과하는 이송 경로를 따라 상기 시트를 진행시키는 시트 이송부; 상기 박막 패턴과 대응되도록 형성되는 마스크 패턴이 구비되며, 상기 증착소스가 상기 마스크 패턴을 통과하여 상기 시트 상에 인쇄되도록 하는 마스크; 및 상기 마스크를 상기 시트의 이송 경로와 교차하는 이송 경로를 따라 진행시키는 마스크 이송부;를 포함할 수 있다. The thin film pattern forming apparatus according to the present invention includes a source receiving unit for receiving a deposition source and evaporating the deposition source toward a deposition region for printing a thin film pattern on a sheet; A sheet conveying unit which advances the sheet along a conveying path passing through the deposition region; A mask pattern formed to correspond to the thin film pattern, the mask allowing the deposition source to be printed on the sheet through the mask pattern; And a mask transfer unit configured to move the mask along a transfer path that crosses the transfer path of the sheet.

또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치의 상기 마스크 이송부는 상기 마스크를 상기 증착 영역을 통과하도록 순환시키기 위한 복수개의 이송 롤러를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.The mask transfer part of the thin film pattern forming apparatus according to the present invention may include a plurality of transfer rollers for circulating the mask to pass through the deposition area.

또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치의 상기 마스크 이송부는 중심으로부터 둘레까지의 길이가 서로 다른 길이를 가지는 마찰 방지롤을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the mask transfer part of the thin film pattern forming apparatus according to the present invention may be characterized in that it comprises a friction preventing roll having a length different from the center to the circumference.

또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치의 상기 마스크 이송부는 타원 형상으로 형성되는 마찰 방지롤을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the mask transfer part of the thin film pattern forming apparatus according to the present invention may be characterized in that it comprises an anti-friction roll formed in an elliptic shape.

또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치의 상기 시트 이송부는 회전 시에 상기 시트를 권취시키기 위한 권출롤 및, 상기 권출롤에서 이송되는 상기 시트를 권취하기 위한 권취롤을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the sheet conveying portion of the thin film pattern forming apparatus according to the present invention may be characterized in that it comprises a take-up roll for winding the sheet during rotation, and a take-up roll for winding the sheet conveyed from the take-up roll. have.

또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치의 상기 시트 이송부는 회전 시에 상기 시트를 권출시키기 위한 권출롤, 상기 증착 영역을 통과한 상기 시트를 상기 권출롤을 향한 방향으로 진행시키는 중간롤 및, 상기 권출롤에 인접하게 형성되며 상기 중간롤에서 진행된 상기 시트를 권취시키기 위한 권취롤을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the sheet conveying portion of the thin film pattern forming apparatus according to the present invention, the unwinding roll for unwinding the sheet during rotation, the intermediate roll for advancing the sheet passing through the deposition region in the direction toward the unwinding roll, and It is formed adjacent to the take-up roll and may be characterized in that it comprises a take-up roll for winding the sheet advanced in the intermediate roll.

또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치는 상기 시트 영역에 위치하고, 상기 시트가 상기 시트 영역에서 밀착되는 성막 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the apparatus for forming a thin film pattern according to the present invention may further include a deposition plate positioned in the sheet region and in which the sheet is in close contact with the sheet region.

또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치는 상기 소스재치부로부터 상기 증착 영역을 향하는 증착소스의 진행을 선택적으로 차폐시키는 셔터를 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the thin film pattern forming apparatus according to the present invention may further include a shutter for selectively shielding the progress of the deposition source toward the deposition region from the source placement unit.

또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치의 상기 시트는 유전체 그린시트이며 상기 증착 소스는 은(Ag) 또는 니켈(Ni)인 전극 물질인 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the sheet of the thin film pattern forming apparatus according to the present invention may be a dielectric green sheet and the deposition source may be characterized in that the electrode material of silver (Ag) or nickel (Ni).

본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치는 시트가 진행되는 이송 경로와 교차하는 이송 경로를 가지도록 마스크 이송부가 형성되어 보다 콤패트한 구성을 가지므로 경제적인 이득을 얻을 수 있다.In the thin film pattern forming apparatus according to the present invention, the mask transfer part is formed to have a transfer path that crosses the transfer path through which the sheet proceeds, thereby having a more compact configuration, thereby obtaining economical benefits.

또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치는 시트 및 마스크가 서로 교차하는 방향으로 이송되며, 마찰 방지롤에 의해서 이송 시에 시트 및 마스크가 이격되므로 시트 및 마스크가 동일한 방향으로 접촉되면서 이송될 때 시트에 패턴이 번지는 불량을 방지할 수 있다.In addition, in the thin film pattern forming apparatus according to the present invention, the sheet and the mask are conveyed in a direction crossing each other, and the sheet and the mask are spaced apart during the transfer by the anti-friction roll, so that the sheet and the mask are conveyed while being contacted in the same direction. The defect that the pattern spreads to can be prevented.

본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치에 관하여 도 1 내지 도 5를 참조하여 좀 더 구체적으로 설명한다. 이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다. The thin film pattern forming apparatus according to the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 1 to 5. Hereinafter, with reference to the drawings will be described in detail a specific embodiment of the present invention.

다만, 본 발명의 사상은 제시되는 실시예에 제한되지 아니하고, 본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위 내에서 다른 구성요소를 추가, 변경, 삭제 등을 통하여, 퇴보적인 다른 발명이나 본 발명 사상의 범위 내에 포함되는 다른 실시예를 용이하게 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본원 발명 사상 범위 내에 포함된다고 할 것이다. However, the spirit of the present invention is not limited to the embodiments presented, and those skilled in the art who understand the spirit of the present invention may deteriorate other inventions or the present invention by adding, modifying, or deleting other elements within the scope of the same idea. Other embodiments that fall within the scope of the inventive concept may be readily proposed, but they will also be included within the scope of the inventive concept.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막 패턴 형성장치를 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 도 1의 박막 패턴 형성장치를 설명하기 위한 부분 사시도이다. 1 is a view for explaining a thin film pattern forming apparatus according to a first embodiment of the present invention, Figure 2 is a partial perspective view for explaining the thin film pattern forming apparatus of FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 박막 패턴 형성장치는 소스 재치부(110), 시트 이 송부(120), 마스크(130) 및 마스크 이송부(140)를 포함한다. 1 and 2, the thin film pattern forming apparatus includes a source placing unit 110, a sheet transfer unit 120, a mask 130, and a mask transfer unit 140.

본 실시예에서 박막 패턴 형성장치는 MLCC 제조 공정 또는 플렉서블 소자를 제조하기 위한 공정에 유용하게 사용될 수 있다. 이때, 시트(S)는 유전체 그린시트이며, 상기 증착 소스는 은(Ag) 또는 니켈(Ni)인 전극 물질인 것을 특징으로 할 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니며 상기 시트는 플렉서블 기판일 수 있다.In the present embodiment, the thin film pattern forming apparatus may be usefully used in an MLCC manufacturing process or a process for manufacturing a flexible device. At this time, the sheet (S) is a dielectric green sheet, the deposition source may be characterized in that the electrode material of silver (Ag) or nickel (Ni). However, the present invention is not limited thereto, and the sheet may be a flexible substrate.

소스 재치부(110)는 전자 빔과 같이 시트(S) 표면에 박막이 형성되도록 증착소스(M)를 증발시키는 수단을 포함한다. The source placing unit 110 includes a means for evaporating the deposition source M such that a thin film is formed on the surface of the sheet S, such as an electron beam.

이때, 소스 재치부(110)는 증착소스(M)가 성막 플레이트(150)를 향하여 증발되도록 하며, 증착이 완료된 후에 성막 플레이트(150)를 향하지 않도록 그 경로를 차단하기 위한 셔터(160)가 주변에 설치된다. In this case, the source mounting unit 110 allows the deposition source M to evaporate toward the deposition plate 150, and the shutter 160 for blocking the path so as not to face the deposition plate 150 after the deposition is completed is surrounded by the surroundings. Is installed on.

이러한 박막 증착은 전자빔(e-beam)을 이용한 증착에 한정되지 않으며, 열 증착, 스퍼터링, 이온빔 증착(Ion-Beam Deposition) 및 펄스 레이저 증착(Pulse Laser Deposition)으로 구성된 그룹 중에서 하나를 적용하여 박막 증착을 할 수 있다. The thin film deposition is not limited to the deposition using an electron beam (e-beam), the thin film deposition by applying one of the group consisting of thermal deposition, sputtering, ion-beam deposition and pulse laser deposition (Pulse Laser Deposition) can do.

셔터(160)는 소스 재치부(110)에 인접하도록 장착되며, 소스 재치부(110) 및 성막 플레이트(150) 사이에 위치하는 차단 막(162)을 포함한다. 이때, 차단 막(162)은 회전 축을 중심으로 회전 가능하게 형성되는 것이 바람직하다. The shutter 160 is mounted to be adjacent to the source placing unit 110, and includes a blocking layer 162 positioned between the source placing unit 110 and the deposition plate 150. At this time, the blocking film 162 is preferably formed to be rotatable about the rotation axis.

그러나, 셔터(160)는 이러한 구조에 한정되는 것은 아니며 설계자의 의도에 따라 소스 재치부에서 증발하는 증착소스(M)를 선택적으로 차단할 수 있는 다양한 구조로 설계할 수 있다.However, the shutter 160 is not limited to such a structure and may be designed in various structures capable of selectively blocking the deposition source M evaporated from the source placement unit according to the designer's intention.

도 2에서 도시된 바와 같이, 시트 이송부(120)는 좌에서 우로 시트를 이송시키게 된다. 이때, 시트 이송부(120)는 권출롤(122) 및 권취롤(124)을 포함한다. As shown in Figure 2, the sheet conveying unit 120 is to transfer the sheet from left to right. At this time, the sheet conveying part 120 includes a unwinding roll 122 and a winding roll 124.

권출롤(122)에는 박막 패턴이 증착되지 않은 시트(S)가 권취되며, 권출롤(122)과 권취롤(124)이 회전되어 시트(S)가 박막 패턴이 증착되는 증착 영역을 통과하게 된다. The unwinding roll 122 is wound with the sheet S on which the thin film pattern is not deposited, and the unwinding roll 122 and the winding roll 124 are rotated so that the sheet S passes through the deposition area where the thin film pattern is deposited. .

그리고, 박막 패턴이 증착된 시트(S)는 다시 이송되어 권취롤(124)에 순차적으로 권취되게 된다. 이때, 권출롤(122) 및 권취롤(124)은 증착 영역을 통과하도록 증착 영역의 양쪽에 각각이 위치하는 것이 바람직하다. Then, the sheet S on which the thin film pattern is deposited is transported again to be sequentially wound on the take-up roll 124. At this time, the unwinding roll 122 and the unwinding roll 124 are preferably located at both sides of the deposition area so as to pass through the deposition area.

마스크(130)는 중앙에 마스크 패턴(132)이 형성될 수 있으며, 상기 패턴은 설계자의 의도에 따라 다양하게 설정될 수 있다. 그리고, 마스크 패턴(132)은 복수개가 일정 거리 이격되도록 마련되는 것이 바람직하다. The mask 130 may be formed with a mask pattern 132 in the center, and the pattern may be variously set according to the intention of the designer. In addition, the mask patterns 132 may be provided to be spaced apart from each other by a predetermined distance.

이때, 마스크(130)는 시트(S)의 이송 경로와 교차하도록 진행되며, 마스크 이송부(140)에 의해서 상기 교차하는 방향으로 이송시킨다. 여기서, 마스크(130)는 마스크 이송부(140)의 이송 롤러를 순환하도록 형성되게 된다. At this time, the mask 130 proceeds to intersect the transfer path of the sheet S, and is transferred in the cross direction by the mask transfer part 140. Here, the mask 130 is formed to circulate the conveying roller of the mask conveying unit 140.

성막 플레이트(150)는 마스크 이송부(140) 내에 고정되도록 설치되며 마스크(130)의 성막 위치에 배치되는 것이 바람직하다. The deposition plate 150 may be installed to be fixed in the mask transfer unit 140 and disposed at the deposition position of the mask 130.

이때, 성막 플레이트(150)는 구성들을 포함하는 챔버(170) 내벽에 부착되어 고정될 수 있다. 그러나, 성막 플레이트를 고정하는 구조는 이에 한정되는 것은 아니며 설계자의 의도에 따라 다양한 고정 구조를 적용할 수 있다. In this case, the deposition plate 150 may be attached to and fixed to an inner wall of the chamber 170 including the components. However, the structure for fixing the deposition plate is not limited thereto, and various fixing structures may be applied according to the intention of the designer.

마스크 이송부(140)는 이송 경로의 양단에 위치하는 이송 롤러(142) 및 마찰 방지롤(144)을 포함하고, 이송 롤러(142) 및 마찰 방지롤(144)은 마스크(130)를 이송시키는 역할을 한다. 그러나, 마스크 이송부는 이송 롤러만 복수개 있도록 설계되는 것도 가능하다. The mask feeder 140 includes a feed roller 142 and an anti-friction roll 144 positioned at both ends of the transfer path, and the feed roller 142 and the anti-friction roll 144 serve to transfer the mask 130. Do it. However, it is also possible to design the mask transfer part so that there are only a plurality of transfer rollers.

마스크 이송부(140)는 시트(S)의 이송 경로와 수직하게 이송되도록 형성되는 것이 바람직하며, 마스크(130)의 이송 경로는 시트(S) 및 소스 재치부(110) 사이를 통과하여 시트(S)의 성막 공간을 지나가는 경로를 의미할 수 있다. The mask transfer unit 140 is preferably formed to be vertically transferred to the transfer path of the sheet S, and the transfer path of the mask 130 passes between the sheet S and the source placing unit 110 to transfer the sheet S. It may mean a path passing through the deposition space of the).

그러나, 마스크 이송부(140)는 시트(S)의 이송 경로와 반드시 수직하게 이송되는 것에 한정되지 않으며. 마스크 이송부가 시트의 이송 경로와 교차하도록 형성되는 방향이면 모두 가능하다.However, the mask conveyance unit 140 is not limited to being conveyed perpendicularly to the conveyance path of the sheet S. All may be used as long as the mask transfer portion is formed to intersect the transfer path of the sheet.

도 3 및 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막 패턴 형성장치의 구동을 설명하기 위한 A-A방향의 단면도이다. 3 and 4 are cross-sectional views in the A-A direction for explaining the driving of the thin film pattern forming apparatus according to the first embodiment of the present invention.

도 3 및 도 4를 참조하면, 앞서 설명한 바와 같이, 마스크 이송부(140)는 시트(S)와 수직한 방향으로 마스크(130)가 이송되도록 마스크(130)를 이송하고, 마스크 이송부(140)는 이송 롤러(142) 및 마찰 방지롤(144)을 포함할 수 있다. 3 and 4, as described above, the mask transfer unit 140 transfers the mask 130 to transfer the mask 130 in a direction perpendicular to the sheet S, and the mask transfer unit 140 It may include a transfer roller 142 and the anti-friction roll 144.

구체적으로 이송 롤러(142)는 단면이 원형으로 형성되며, 마스크(130)가 순환되도록 하는 하나의 회전축을 이루게 된다. Specifically, the conveying roller 142 is formed in a circular cross section, and forms a rotation axis for circulating the mask 130.

그리고, 마찰 방지롤(144)은 단면이 타원형으로 형성되며, 중심에서부터 둘레까지의 길이가 긴 반지름(b)과 짧은 반지름(a)을 가진다. In addition, the anti-friction roll 144 has an elliptical cross section, and has a long radius b and a short radius a from the center to the circumference.

따라서, 도 3에서 도시된 바와 같이, 길이가 긴 반지름(b)이 하부를 향하여 위치하면 마스크(130)와 시트(S)가 일정 간격 이격되도록 위치하게 된다. Therefore, as shown in FIG. 3, when the long radius b is located downward, the mask 130 and the sheet S are spaced apart from each other by a predetermined distance.

또한, 도 4에서 도시된 바와 같이, 마찰 방지롤(144)이 회전하여 길이가 짧은 반지름(a)이 하부를 향하도록 위치하게 되면 마스크(130)와 시트(S)가 밀착되도록 위치하므로 성막하기에 바람직한 구조가 된다.In addition, as shown in Figure 4, when the anti-friction roll 144 is rotated so that the shorter radius (a) is located to the lower side is positioned so that the mask 130 and the sheet (S) in close contact with the film formation It becomes a preferable structure to a.

이때, 마찰 방지롤은 타원형의 형상에 한정되는 것은 아니며, 설계자의 의도에 따라 마스크 이송롤은 중심으로부터 둘레까지의 길이가 서로 다른 길이를 가지는 마찰 방지롤을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.At this time, the anti-friction roll is not limited to the shape of the oval, and according to the intention of the designer, the mask feed roll may be characterized in that it comprises a anti-friction roll having a different length from the center to the circumference.

따라서, 본 실시예에 따른 박막 패턴 형성장치는 시트(S) 및 마스크(130)가 서로 교차하는 방향으로 이송되며 마찰 방지롤에 의해서 이송 시에 서로 일정 거리 이격되므로 이송 시에 시트(S) 및 마스크(130)가 접촉되는 것을 방지하여 시트(S) 및 마스크(130)가 서로 동일한 방향으로 이송될 때 시트(S) 및 마스크(130)가 접촉되면서 발생되는 패턴의 번짐 현상을 방지할 수 있다. Therefore, the thin film pattern forming apparatus according to the present embodiment is transported in the direction in which the sheet S and the mask 130 cross each other and spaced apart from each other by a friction preventing roll at a predetermined distance, so that the sheet S and By preventing the mask 130 from being in contact with each other, when the sheet S and the mask 130 are conveyed in the same direction, the pattern S, which occurs when the sheet S and the mask 130 are in contact with each other, may be prevented. .

도 3 및 도 4에서 도시된 바와 같이, 셔터(160)는 시트(S)가 성막 위치에 위치할 때에 차단 막(162)이 회전하므로 소스 재치부(110)에서 소스가 재치되는 경로를 개방하게 된다. As shown in FIGS. 3 and 4, the shutter 160 opens the path where the source is placed in the source placing unit 110 because the blocking film 162 rotates when the sheet S is positioned at the deposition position. do.

또한, 시트(S)에 성막 위치가 아닌 부분에는 셔터(160)가 소스가 재치되는 경로를 차단하도록 회전하여 소스가 재치되는 것을 방지하게 된다. 그러나, 셔터(160)에 의해서 소스가 재치되는 경로를 차단하는 방법은 이에 한정되지 않으며 설계자의 의도에 따라 다양한 셔터 구조를 적용할 수 있다. In addition, the shutter 160 is rotated to block the path where the source is placed at the portion of the sheet S which is not a deposition position, thereby preventing the source from being placed. However, a method of blocking a path on which a source is placed by the shutter 160 is not limited thereto, and various shutter structures may be applied according to a designer's intention.

시트 및 마스크를 이송시키는 경로가 일치하는 경우에 마스크를 순환시키는 경로 내에 시트를 이송시키기 위한 롤러 들이 재차 배치되어야 하므로 그 장치의 부피를 줄이는 것에 한계가 있다.When the paths for transporting the sheet and the mask coincide, there is a limit to reducing the volume of the apparatus since rollers for transporting the sheet must be arranged again in the paths for circulating the mask.

그러나, 본 실시예에 따른 박막 패턴 형성장치는 시트(S)가 시트 이송부를 따라 이송되는 방향과 마스크(130)가 마스크 이송부(140)를 따라 이송되는 방향이 서로 교차하도록 구성되는 특징을 가진다. However, the thin film pattern forming apparatus according to the present exemplary embodiment has a feature that the direction in which the sheet S is conveyed along the sheet conveying part and the direction in which the mask 130 is conveyed along the mask conveying part 140 cross each other.

따라서, 마스크 이송부(140) 및 시트 이송부(120)가 동일한 이송 경로를 따라 이송될 때 보다 적은 이송 롤러들과 구성을 필요로 하므로 보다 콤패트한 구성을 가질 수 있으며 보다 경제적인 이득을 얻을 수 있다.Therefore, since the mask conveying part 140 and the sheet conveying part 120 require less conveying rollers and a constitution when conveyed along the same conveying path, the mask conveying part 140 and the sheet conveying part 120 can have a more compact constitution and a more economical gain can be obtained. .

또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 형성장치는 시트(S) 및 마스크(130)가 서로 교차하는 방향으로 이송되며, 마찰 방지롤(144)에 의해서 이송 시에 시트(S) 및 마스크(130)가 이격되므로 시트(S) 및 마스크(130)가 동일한 방향으로 접촉되면서 이송될 때 시트(S)에 패턴이 번지는 불량을 방지할 수 있다.In addition, in the thin film pattern forming apparatus according to the present invention, the sheet S and the mask 130 are transferred in a direction crossing each other, and the sheet S and the mask 130 are transferred at the time of transfer by the anti-friction roll 144. Since the sheets S and the mask 130 are spaced apart from each other and contacted in the same direction, defects in spreading a pattern on the sheet S may be prevented.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막 패턴 형성장치를 설명하기 위한 부분 사시도이다.5 is a partial perspective view for explaining a thin film pattern forming apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 박막 패턴 형성장치는 소스 재치부(110), 시트 이송부(220), 마스크(130) 및 마스크 이송부(140)를 포함한다. 여기서, 소스 재치부, 마스크, 마스크 이송부는 제1 실시예의 구성과 동일하므로 구체적인 설명은 생략할 수 있다. Referring to FIG. 5, the thin film pattern forming apparatus includes a source placing unit 110, a sheet conveying unit 220, a mask 130, and a mask conveying unit 140. Here, since the source placing unit, the mask, and the mask transferring unit are the same as those of the first embodiment, detailed descriptions thereof may be omitted.

시트 이송부(220)는 좌에서 우로 시트를 이송시키게 된다. 이때, 시트 이송부(220)는 권출롤(222), 중간롤(224) 및 권취롤(226)을 포함한다. The sheet conveying unit 220 conveys the sheet from left to right. In this case, the sheet conveying unit 220 includes a take-up roll 222, an intermediate roll 224, and a take-up roll 226.

권출롤(222)에는 박막 패턴이 증착되지 않은 시트(S)가 권취되며, 중간롤(224)은 권출롤(222)에서 성막 공간을 지나가도록 마스크 이송부(140)을 중심으로 타측에 배치된다. 그리고, 권취롤(226)은 권출롤(222)에 인접하게 형성되며, 중간롤(224)을 지나는 시트(S)가 다시 권출롤(222)에 인접하게 위치한 권취롤(226)에 시트가 권취된다. The sheet S on which the thin film pattern is not deposited is wound on the unwinding roll 222, and the intermediate roll 224 is disposed on the other side of the unwinding roll 222 with the mask transfer part 140 passing through the film formation space. Then, the take-up roll 226 is formed adjacent to the take-up roll 222, the sheet (S) passing through the intermediate roll 224 is again wound on the take-up roll 226 positioned adjacent to the take-up roll 222 do.

따라서, 권출롤(222)에서 권출되는 시트가 중간롤(224)을 지나 권출롤(222)에 인접한 권취롤(226)에 권취되는 작업을 통해 작업이 모두 완료된다.Therefore, all the work is completed through the operation in which the sheet unwound from the unwinding roll 222 is rolled up to the unwinding roll 226 adjacent to the unwinding roll 222 past the intermediate roll 224.

그러므로, 시트(S)의 권출과 권취가 한 방향에서만 이뤄지기 때문에 작업자가 작업의 시작과 끝에 장소를 이동할 필요 없이 한 장소에서 모두 할 수 있으므로 작업이 보다 용이하다는 효과가 있다.Therefore, since the unwinding and the winding of the sheet S are made in only one direction, the work can be performed more easily since the operator can do it all in one place without having to move the place at the beginning and the end of the work.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막 패턴 형성장치를 설명하기 위한 개략적인 부분 사시도이다.1 is a schematic partial perspective view illustrating a thin film pattern forming apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 박막 패턴 형성장치를 설명하기 위한 개략적인 부분 사시도이다. FIG. 2 is a schematic partial perspective view illustrating the thin film pattern forming apparatus of FIG. 1.

도 3 및 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막 패턴 형성장치의 구동을 설명하기 위한 도 2의 A-A방향의 개략 단면도이다. 3 and 4 are schematic cross-sectional views in the A-A direction of FIG. 2 for explaining the driving of the thin film pattern forming apparatus according to the first embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막 패턴 형성장치를 설명하기 위한 개략적인 부분 사시도이다.5 is a schematic partial perspective view illustrating a thin film pattern forming apparatus according to a second embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

110.... 소스 재치부 120.... 시트 이송부110 .... source tray 120 .... sheet feeder

130.... 마스크 140.... 마스크 이송부130 ... mask 140 mask transfer

150.... 성막 플레이트 160.... 셔터150 .... Tabernacle Plate 160 .... Shutters

Claims (9)

증착소스를 수용하며, 시트 상에 박막 패턴이 인쇄되는 증착 영역을 향하여 상기 증착소스를 증발시키는 소스재치부;A source placing unit accommodating a deposition source and evaporating the deposition source toward a deposition region in which a thin film pattern is printed on a sheet; 상기 증착 영역을 통과하는 이송 경로를 따라 상기 시트를 진행시키는 시트 이송부;A sheet conveying unit which advances the sheet along a conveying path passing through the deposition region; 상기 박막 패턴과 대응되도록 형성되는 마스크 패턴이 구비되며, 상기 증착소스가 상기 마스크 패턴을 통과하여 상기 시트 상에 인쇄되도록 하는 마스크; 및A mask pattern formed to correspond to the thin film pattern, the mask allowing the deposition source to be printed on the sheet through the mask pattern; And 상기 마스크를 상기 시트의 이송 경로와 교차하는 이송 경로를 따라 진행시키는 마스크 이송부;A mask transfer part for moving the mask along a transfer path that intersects the transfer path of the sheet; 를 포함하는 박막 패턴 형성장치.Thin film pattern forming apparatus comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 마스크 이송부는,The mask transfer unit, 상기 마스크를 상기 증착 영역을 통과하도록 순환시키기 위한 복수개의 이송 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 형성장치.And a plurality of transfer rollers for circulating the mask to pass through the deposition region. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 마스크 이송부는,The mask transfer unit, 중심으로부터 둘레까지의 길이가 서로 다른 길이를 가지는 마찰 방지롤을 포 함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 형성장치.Thin film pattern forming apparatus comprising a friction preventing roll having a length different from the center to the circumference. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 마스크 이송부는,The mask transfer unit, 타원 형상으로 형성되는 마찰 방지롤을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 형성장치.Thin film pattern forming apparatus comprising an anti-friction roll formed in an elliptic shape. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 시트 이송부는,The sheet conveying unit, 회전 시에 상기 시트를 권출시키기 위한 권출롤 및, 상기 권출롤에서 이송되는 상기 시트를 권취시키기 위한 권취롤을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 형성장치.And a take-up roll for winding the sheet during rotation, and a take-up roll for winding the sheet conveyed from the take-up roll. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 시트 이송부는,The sheet conveying unit, 회전 시에 상기 시트를 권출시키기 위한 권출롤, 상기 증착 영역을 통과한 상기 시트를 상기 권출롤을 향한 방향으로 진행시키는 중간롤 및, 상기 권출롤에 인접하게 형성되며 상기 중간롤에서 진행된 상기 시트를 권취시키기 위한 권취롤을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 형성장치.An unwinding roll for unwinding the sheet during rotation, an intermediate roll for advancing the sheet passing through the deposition region in a direction toward the unwinding roll, and a sheet formed adjacent to the unwinding roll and advancing from the intermediate roll; Thin film pattern forming apparatus comprising a winding roll for winding. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 시트 영역에 위치하고, 상기 시트가 상기 시트 영역에서 밀착되도록 하는 성막 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 형성장치.The thin film pattern forming apparatus, further comprising: a deposition plate positioned in the sheet region and allowing the sheet to adhere to the sheet region. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 소스재치부로부터 상기 증착 영역을 향하는 증착소스의 진행을 선택적으로 차폐시키는 셔터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴 형성장치.And a shutter for selectively shielding the progress of the deposition source from the source placement portion toward the deposition region. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 시트는 유전체 그린시트이며 상기 증착 소스는 은(Ag) 또는 니켈(Ni)인 전극 물질인 것을 특징으로 하는 박막 패턴 형성장치.And the sheet is a dielectric green sheet and the deposition source is an electrode material of silver (Ag) or nickel (Ni).
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CN111519135A (en) * 2020-03-30 2020-08-11 维达力实业(深圳)有限公司 Shielding device and lithium supplementing equipment

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