KR20100076016A - Resin composition - Google Patents

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Abstract

Disclosed is a resin composition which is excellent in solvent resistance, flexibility (bendability), low warping property, and electrical insulation. This resin composition is useful as an overcoating agent for flexible printed wiring boards. Specifically disclosed is a resin composition for overcoats of flexible printed wiring boards, which contains a polyurethane resin having an epoxy group and a urethane structure, and an epoxy curing agent.

Description

수지 조성물 {Resin composition}Resin composition

본 발명은, 플렉시블 프린트 기판의 전자 회로 표면을 보호하는 오버코트제로서 유용한 수지 조성물, 당해 수지 조성물의 경화물로 표면이 보호된 플렉시블 프린트 배선판, 및 당해 플렉시블 프린트 배선판을 내장하는 전자 기기에 관한 것이다.
This invention relates to the resin composition useful as an overcoat agent which protects the electronic circuit surface of a flexible printed circuit board, the flexible printed wiring board whose surface was protected by the hardened | cured material of the said resin composition, and the electronic apparatus which incorporates the said flexible printed wiring board.

TCP(Tape Carrier Package)이나 COF(Chip On Flexible 또는 Film) 등에 이용되고 있는 플렉시블 프린트 배선판(FPC)은, 일반적으로, 폴리에스테르 테레프탈레이트나 폴리이미드의 필름의 한면 또는 양면에, 회로 형성된 도체층(도체 회로층)을 갖는 기판과, 당해 기판의 표면을 보호하는 표면 보호막으로 주로 구성된다. FPC용의 절연 보호막으로서는, 일반적으로, 폴리이미드 필름을 금형에 의해 원하는 형상으로 구멍을 뚫은 것에 접착제층을 설치한 커버레이 필름을 기판에 붙이는 방법이나, 바니쉬상의 수지 조성물(오버코트제)을 스크린 인쇄에 의해 원하는 패턴으로 인쇄하고, 이것을 경화시키는 방법이 알려져 있다. 커버레이 필름을 사용하는 방법은 작업성이나 비용면에서 불리해지기 때문에, 오버코트제를 스크린 인쇄로 피막하는 방법이 주류가 되고 있다. 플렉시블 프린트 배선판용의 오버코트제로서는, 예를 들면, 일본 특허공보 제(평)5-75032호에 에폭시 수지, 이미다졸 화합물 및 장쇄 2염기산 무수물로 이루어지는 조성물이 개시되어 있다.
Flexible printed wiring boards (FPCs) used in TCP (Tape Carrier Package), COF (Chip On Flexible or Film), etc., generally have a conductor layer formed on one or both surfaces of a film of polyester terephthalate or polyimide. And a surface protective film protecting the surface of the substrate. As an insulating protective film for FPC, generally, the method of sticking the coverlay film which provided the adhesive bond layer to the board | substrate which made the polyimide film perforate the desired shape with a metal mold | die, and the varnish-like resin composition (made by the overcoat) screen printing The method of printing in a desired pattern and hardening this is known. Since the method of using a coverlay film becomes disadvantageous in terms of workability and cost, the method of coating an overcoat agent by screen printing becomes the mainstream. As an overcoat agent for flexible printed wiring boards, the composition which consists of an epoxy resin, an imidazole compound, and a long chain dibasic acid anhydride is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 5-75032, for example.

플렉시블 프린트 배선판용의 오버코트제에는, 내용제성, 유연성(절곡성), 저휘어짐성 및 전기 절연성과 같은 성능을 동시에 만족시키는 재료가 요구된다. 따라서, 본 발명은, 이러한 특성이 우수한, 플렉시블 프린트 배선판의 오버코트제로서 유용한 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
The overcoat agent for flexible printed wiring boards requires a material which simultaneously satisfies performances such as solvent resistance, flexibility (flexibility), low warpage, and electrical insulation. Therefore, an object of this invention is to provide the resin composition useful as an overcoat agent of a flexible printed wiring board which is excellent in such a characteristic.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지, 및 에폭시 경화제를 함유하는 수지 조성물이, 상기의 특성이 우수하고, 플렉시블 프린트 배선판의 오버코트용으로서 우수한 수지 조성물이 되는 것을 밝혀내고, 본 발명을 완성시켰다. 즉, 본 발명은 이하의 내용을 포함하는 것이다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, the resin composition containing the epoxy resin and the polyurethane resin which has an urethane structure, and an epoxy hardening | curing agent is excellent in the said characteristic, and excellent for the overcoat of a flexible printed wiring board. It turned out to be a resin composition, and completed this invention. That is, this invention includes the following content.

[1] (A) 에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지, 및 (B) 에폭시 경화제를 함유하는 플렉시블 프린트 배선판의 오버코트용 수지 조성물.[1] A resin composition for overcoat of a flexible printed wiring board containing (A) an epoxy group having a epoxy group and a urethane structure, and (B) an epoxy curing agent.

[2] 상기 항목 [1]에 있어서, 폴리우레탄 수지가, 폴리카보네이트 구조, 폴리디엔 구조, 폴리에스테르 구조 및 폴리에테르 구조로부터 선택되는 1종 이상의 구조를 추가로 갖는, 수지 조성물.[2] The resin composition according to the item [1], wherein the polyurethane resin further has at least one structure selected from a polycarbonate structure, a polydiene structure, a polyester structure, and a polyether structure.

[3] 상기 항목 [1]에 있어서, 폴리우레탄 수지가, 폴리카보네이트 구조 및/또는 폴리디엔 구조를 추가로 갖는, 수지 조성물.[3] The resin composition according to the item [1], wherein the polyurethane resin further has a polycarbonate structure and / or a polydiene structure.

[4] 상기 항목 [1]에 있어서, 폴리우레탄 수지가, 폴리카보네이트 구조를 추가로 갖는, 수지 조성물.[4] The resin composition according to the item [1], wherein the polyurethane resin further has a polycarbonate structure.

[5] 상기 항목 [1] 내지 [4] 중의 어느 한 항목에 있어서, 폴리우레탄 수지가, (a) 분자내에 2 이상의 하이드록실기를 갖는 폴리올 화합물, (b) 분자내에 1 이상의 하이드록실기와 1 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (c) 분자내에 2 이상의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜서 수득되는 폴리우레탄 수지인, 수지 조성물.[5] The polyol compound according to any one of the above items [1] to [4], wherein the polyurethane resin is (a) a polyol compound having two or more hydroxyl groups in the molecule, and (b) one or more hydroxyl groups in the molecule. A resin composition, which is a polyurethane resin obtained by reacting an epoxy compound having at least one epoxy group and (c) a polyisocyanate compound having at least two isocyanate groups in a molecule.

[6] 상기 항목 [5]에 있어서, 폴리올 화합물이, 폴리카보네이트 폴리올, 폴리디엔 폴리올, 폴리에스테르 폴리올 및 폴리에테르 폴리올로부터 선택되는 1종 이상의 폴리올 화합물인, 수지 조성물.[6] The resin composition according to the above [5], wherein the polyol compound is at least one polyol compound selected from polycarbonate polyols, polydiene polyols, polyester polyols, and polyether polyols.

[7] 상기 항목 [5]에 있어서, 폴리올 화합물이 폴리카보네이트 폴리올 및/또는 폴리디엔 폴리올인, 수지 조성물.[7] The resin composition according to the above [5], wherein the polyol compound is a polycarbonate polyol and / or a polydiene polyol.

[8] 상기 항목 [5]에 있어서, 폴리올 화합물이 폴리카보네이트 폴리올인, 수지 조성물.[8] The resin composition according to the above [5], wherein the polyol compound is a polycarbonate polyol.

[9] 상기 항목 [1] 내지 [8] 중의 어느 한 항목에 있어서, (B) 에폭시 경화제가 산 무수물 화합물인, 수지 조성물.[9] The resin composition according to any one of the above items [1] to [8], wherein (B) the epoxy curing agent is an acid anhydride compound.

[10] 상기 항목 [1] 내지 [8] 중의 어느 한 항목에 있어서, (B) 에폭시 경화제가 4염기산 2무수물인, 수지 조성물.[10] The resin composition according to any one of the above items [1] to [8], wherein (B) the epoxy curing agent is a tetrabasic dianhydride.

[11] 상기 항목 [1] 내지 [10] 중의 어느 한 항목에 있어서, (C) 옥사졸린 화합물을 추가로 함유하는, 수지 조성물.[11] The resin composition according to any one of the above items [1] to [10], further comprising (C) an oxazoline compound.

[12] 상기 항목 [11]에 있어서, (C) 옥사졸린 화합물이 비스옥사졸린 화합물인, 수지 조성물.[12] The resin composition according to the item [11], wherein the (C) oxazoline compound is a bisoxazoline compound.

[13] 상기 항목 [1] 내지 [12] 중의 어느 한 항목에 있어서, 수지 조성물이 페이스트상의 수지 조성물인, 수지 조성물.[13] The resin composition according to any one of the above items [1] to [12], wherein the resin composition is a pasty resin composition.

[14] 상기 항목 [1] 내지 [13] 중의 어느 한 항목에 있어서, 경화 촉진제를 추가로 함유하는, 수지 조성물.[14] The resin composition according to any one of the above items [1] to [13], further containing a curing accelerator.

[15] 상기 항목 [1] 내지 [14] 중의 어느 한 항목에 따르는 수지 조성물의 경화물로 표면이 보호된 플렉시블 프린트 배선판.[15] A flexible printed wiring board whose surface is protected by a cured product of the resin composition according to any one of items [1] to [14].

[16] 상기 항목 [15]에 따르는 플렉시블 프린트 배선판을 내장하는 전자 기기.[16] An electronic device containing the flexible printed wiring board according to item [15].

[17] (A) 에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지, (B) 에폭시 경화제, 및 (C) 옥사졸린 화합물을 함유하는 수지 조성물.[17] A resin composition containing (A) a polyurethane resin having an epoxy group and a urethane structure, (B) an epoxy curing agent, and (C) an oxazoline compound.

[18] 상기 항목 [17]에 있어서, 폴리우레탄 수지가, 폴리카보네이트 구조 및/또는 폴리디엔 구조를 추가로 갖는, 수지 조성물.[18] The resin composition according to the above [17], wherein the polyurethane resin further has a polycarbonate structure and / or a polydiene structure.

[19] 상기 항목 [17]에 있어서, 폴리우레탄 수지가, 폴리카보네이트 구조를 추가로 갖는, 수지 조성물.[19] The resin composition according to the above [17], wherein the polyurethane resin further has a polycarbonate structure.

[20] 상기 항목 [17] 내지 [19] 중의 어느 한 항목에 있어서, 폴리우레탄 수지가, (a) 분자내에 2 이상의 하이드록실기를 갖는 폴리올 화합물, (b) 분자내에 1 이상의 하이드록실기와 1 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (c) 분자내에 2 이상의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜서 수득되는 폴리우레탄 수지인, 수지 조성물.[20] The polyurethane resin according to any one of the above items [17] to [19], wherein the polyurethane resin is (a) a polyol compound having two or more hydroxyl groups in the molecule, and (b) one or more hydroxyl groups in the molecule. A resin composition, which is a polyurethane resin obtained by reacting an epoxy compound having at least one epoxy group and (c) a polyisocyanate compound having at least two isocyanate groups in a molecule.

[21] 상기 항목 [20]에 있어서, 폴리올 화합물이 폴리카보네이트 폴리올 및/또는 폴리디엔 폴리올인, 수지 조성물.[21] The resin composition according to the above [20], wherein the polyol compound is a polycarbonate polyol and / or a polydiene polyol.

[22] 상기 항목 [20]에 있어서, 폴리올 화합물이 폴리카보네이트 폴리올인, 수지 조성물.[22] The resin composition according to the above [20], wherein the polyol compound is a polycarbonate polyol.

[23] 상기 항목 [17] 내지 [22] 중의 어느 한 항목에 있어서, 에폭시 경화제가 산 무수물 화합물인, 수지 조성물.[23] The resin composition according to any one of items [17] to [22], wherein the epoxy curing agent is an acid anhydride compound.

[24] 상기 항목 [17] 내지 [22] 중의 어느 한 항목에 있어서, 에폭시 경화제가 4염기산 2무수물인, 수지 조성물.[24] The resin composition according to any one of items [17] to [22], wherein the epoxy curing agent is a tetrabasic acid dianhydride.

[25] 상기 항목 [17] 내지 [24] 중의 어느 한 항목에 있어서, 옥사졸린 화합물이 비스옥사졸린 화합물인, 수지 조성물.[25] The resin composition according to any one of items [17] to [24], wherein the oxazoline compound is a bisoxazoline compound.

[26] 상기 항목 [17] 내지 [25] 중의 어느 한 항목에 있어서, 수지 조성물이 페이스트상의 수지 조성물인, 수지 조성물.
[26] The resin composition according to any one of items [17] to [25], wherein the resin composition is a paste-like resin composition.

본 발명의 수지 조성물은, 내용제성, 유연성(절곡성), 저휘어짐성 및 전기 절연성이 우수하고, 플렉시블 프린트 배선판의 오버코트용으로서 우수한 수지 조성물이 된다.
The resin composition of this invention is excellent in solvent resistance, flexibility (flexibility), low curvature, and electrical insulation, and becomes a resin composition excellent for the overcoat of a flexible printed wiring board.

본 발명에 있어서의 성분(A)의 「에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지」는, 본 발명의 효과를 충분히 발휘하는 관점에서, 폴리카보네이트 구조, 폴리디엔 구조, 폴리에스테르 구조 또는 폴리에테르 구조를 추가로 갖는 것이 바람직하다. 이들 구조 중, 폴리카보네이트 구조, 폴리부타디엔 구조가 바람직하고, 폴리카보네이트 구조가 특히 바람직하다. 에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지의 1분자 중에, 이들의 2종 이상의 구조가 동시에 포함되어 있어도 양호하다. "Polyurethane resin which has an epoxy group and a urethane structure" of component (A) in this invention is a polycarbonate structure, a polydiene structure, a polyester structure, or a polyether structure from a viewpoint of fully exhibiting the effect of this invention. It is preferable to have further. Among these structures, polycarbonate structures and polybutadiene structures are preferable, and polycarbonate structures are particularly preferable. In 1 molecule of the polyurethane resin which has an epoxy group and a urethane structure, these 2 or more types of structures may be contained simultaneously.

「에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지」는, 바람직하게는, 예를 들면, (a) 분자내에 2 이상의 하이드록실기를 갖는 폴리올 화합물, (b) 분자내에 1 이상의 하이드록실기와 1 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (c) 분자내에 2 이상의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜서 수득할 수 있다. "Polyurethane resin having an epoxy group and a urethane structure" is preferably a polyol compound having two or more hydroxyl groups in (a) a molecule, and (b) one or more hydroxyl groups and one or more epoxy groups in a molecule. It can be obtained by reacting an epoxy compound having a compound and (c) a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in a molecule.

원료 (a)의 분자내에 2 이상의 하이드록실기를 갖는 폴리올 화합물로서는, 폴리카보네이트 폴리올, 폴리디엔 폴리올, 폴리에스테르 폴리올 및 폴리에테르 폴리올 등을 들 수 있다.As a polyol compound which has two or more hydroxyl groups in the molecule | numerator of raw material (a), a polycarbonate polyol, a polydiene polyol, polyester polyol, a polyether polyol, etc. are mentioned.

폴리에스테르 폴리올로서는, 폴리에틸렌아지페이트 폴리올, 폴리부틸렌아지페이트 폴리올 등의 아지페이트계 폴리올, 테레프탈산계 폴리올, 폴리카프로락톤 폴리올 등을 들 수 있다. 폴리올 화합물은 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다. Examples of the polyester polyols include azate-based polyols such as polyethylene azate polyols and polybutylene azate polyols, terephthalic acid-based polyols, and polycaprolactone polyols. You may use a polyol compound in combination of 2 or more type.

폴리에테르 폴리올로서는, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리테트라메틸렌에테르글리콜, 폴리비닐에테르 폴리올 등을 들 수 있다. 폴리비닐에테르 폴리올로서는, TOE-2000H(쿄와핫코케미칼 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the polyether polyol include polypropylene glycol, polytetramethylene ether glycol, polyvinyl ether polyol, and the like. As a polyvinyl ether polyol, TOE-2000H (made by Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd.) etc. is mentioned.

폴리디엔 폴리올로서는, 폴리부타디엔 폴리올, 폴리이소프렌 폴리올 등을 들 수 있다. 폴리디엔 폴리올은 수소화 폴리부타디엔 폴리올, 수소화 폴리이소프렌 폴리올 등의 수소화 폴리디엔 폴리올을 사용해도 좋다. 폴리부타디엔 폴리올로서는, 1,4-결합을 주로 갖는 하이드록실기 말단 액상 폴리부타디엔 Poly bd R-45HT, R-15HT[참조: 이상 이데미쓰코산 가부시키가이샤 제조], 하이드록실기 말단 폴리부타디엔 수소화물 폴리텔H, 폴리텔HA[참조: 이상 미쓰비시가가쿠 가부시키가이샤 제조], 1,2-결합을 주로 갖는 말단 하이드록실기화 폴리부타디엔 G-1000, G-2000, G-3000[참조: 이상 니혼소다 가부시키가이샤 제조], 상기 1,2-결합을 주로 갖는 말단 하이드록실기화 폴리부타디엔 수지의 수소화물 GI-1000, GI-2000, GI-3000[참조: 이상 니혼소다 가부시키가이샤 제조] 등을 들 수 있다. 폴리이소프렌 폴리올로서는, 하이드록실기 말단 액상 이소프렌 Poly ip, 에폴[참조: 이상 이데미쓰코산 가부시키가이샤 제조] 등을 들 수 있다. As a polydiene polyol, a polybutadiene polyol, a polyisoprene polyol, etc. are mentioned. As a polydiene polyol, you may use hydrogenated polydiene polyol, such as a hydrogenated polybutadiene polyol and a hydrogenated polyisoprene polyol. As a polybutadiene polyol, hydroxyl group terminal liquid polybutadiene Polybd R-45HT which mainly has a 1, 4- bond, R-15HT (refer to the above-mentioned Idemitsukosan Co., Ltd. product), hydroxyl group terminal polybutadiene hydride Polytel H, polytel HA (see above, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), terminal hydroxylated polybutadiene having mainly 1,2-bonds G-1000, G-2000, G-3000. Nippon Soda Co., Ltd.], hydrides GI-1000, GI-2000, and GI-3000 of terminal hydroxylated polybutadiene resins mainly having the above 1,2-bonds (refer to the above Nihon Soda Co., Ltd.) Etc. can be mentioned. Examples of the polyisoprene polyols include hydroxyl group terminal liquid isoprene Poly ip and epole (see above; manufactured by Idemitsuko Co., Ltd.).

폴리카보네이트 폴리올로서는, 직쇄상 지방족 디올, 지환식 디올, 글리세린 등의 폴리올 중에서 1종 또는 2종 이상의 디올 유래의 반복 단위를 포함하는 폴리카보네이트 폴리올을 들 수 있다. 직쇄상 지방족 디올로서는, 1,6-헥산디올, 1,5-펜탄디올, 1,4-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,9-노난디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올 등을 들 수 있다. 지환식 디올로서는, 1,4-사이클로헥산디메탄올을 들 수 있다. As a polycarbonate polyol, the polycarbonate polyol containing the repeating unit derived from 1 type, or 2 or more types of diols among polyols, such as linear aliphatic diol, alicyclic diol, and glycerin, is mentioned. Examples of linear aliphatic diols include 1,6-hexanediol, 1,5-pentanediol, 1,4-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1, 8-octanediol, etc. are mentioned. As an alicyclic diol, 1, 4- cyclohexane dimethanol is mentioned.

이들 폴리올 중, 내수성, 내열성 및 유연성의 관점에서, 폴리부타디엔 폴리올 및 폴리카보네이트 폴리올이 바람직하고, 특히 폴리카보네이트 폴리올이 바람직하다. 폴리부타디엔 폴리올로서는, 특히 폴리부타디엔 디올이 바람직하고, 폴리카보네이트 폴리올로서는, 특히 폴리카보네이트디올이 바람직하다.Among these polyols, polybutadiene polyols and polycarbonate polyols are preferable, and polycarbonate polyols are preferable in view of water resistance, heat resistance and flexibility. As the polybutadiene polyol, polybutadiene diol is particularly preferable, and as the polycarbonate polyol, polycarbonate diol is particularly preferable.

폴리올의 수 평균 분자량은 400 내지 5,000이 바람직하다. 수 평균 분자량이 400 미만인 경우, 수지 조성물의 경화물의 유연성이 저하되는 경향이 있으며, 5,000을 초과하는 경우, 폴리우레탄 수지의 용제에 대한 용해성이 저하되는 경향이 있다. The number average molecular weight of the polyol is preferably 400 to 5,000. When the number average molecular weight is less than 400, the flexibility of the cured product of the resin composition tends to be lowered. When the number average molecular weight exceeds 5,000, the solubility of the polyurethane resin in the solvent tends to be lowered.

원료 (b)의 분자내에 1 이상의 하이드록실기와 1 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물로서는, 분자내에 1 이상의 하이드록실기와, 글리시딜 에테르 구조, 글리시딜 에스테르 구조, 글리시딜 아민 구조, 지환식 에폭시 구조, 옥실란 환 구조로부터 선택되는 1 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물을 들 수 있다. 시판되고 있는 것으로서는, 분자내에 1 이상의 하이드록실기와 1 이상의 글리시딜에테르 구조를 갖는 에폭시 화합물로서, 에피코트 1001, 에포코트 1004(재팬에폭시레진 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있고, 또 분자내에 1 이상의 하이드록실기와 1 이상의 옥실란 환 구조를 갖는 에폭시 화합물로서, 하이드록실기 말단 에폭시화 폴리부타디엔 PB-3600(다이셀가가쿠고교 가부시키가이샤 제조)을 들 수 있다. Examples of the epoxy compound having at least one hydroxyl group and at least one epoxy group in the molecule of the starting material (b) include at least one hydroxyl group in the molecule, a glycidyl ether structure, a glycidyl ester structure, a glycidyl amine structure, and an alicyclic ring. The epoxy compound which has one or more epoxy groups chosen from a formula epoxy structure and an oxirane ring structure is mentioned. As what is marketed, the epoxy compound which has a 1 or more hydroxyl group and 1 or more glycidyl ether structure in a molecule | numerator, Epicoat 1001, Epocoat 1004 (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), etc. are mentioned, As an epoxy compound which has 1 or more hydroxyl group and 1 or more oxirane ring structure in a molecule | numerator, hydroxyl group terminal epoxidized polybutadiene PB-3600 (made by Daicel Chemical Co., Ltd.) is mentioned.

(b) 분자내에 1 이상의 하이드록실기와 1 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물은, (d) 분자내에 2 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물과 (e) 분자내에 에폭시기와 반응하는 1 이상의 활성 수소기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써도 수득할 수 있다. (b) An epoxy compound having at least one hydroxyl group and at least one epoxy group in a molecule includes (d) an epoxy compound having at least two epoxy groups in a molecule and (e) a compound having at least one active hydrogen group reacting with an epoxy group in a molecule. It can also be obtained by making it react.

원료 (d)의 분자내에 2 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물로서는, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 수첨 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수첨 비스페놀 F형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 디사이클로펜타디엔형 에폭시 수지, 알킬페놀노볼락형 에폭시 수지, 비페놀형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 페놀과 페놀성 하이드록실기를 갖는 방향족 알데히드와의 축합물의 에폭시화물, 트리글리시딜이소시아누레이트, 지환식 에폭시 수지, 글리시딜아민 수지, 글리시딜에스테르 수지, 지방족 디올의 디글리시딜에테르, 지환식 디올의 디글리시딜에테르 등의 에폭시 수지를 들 수 있다. 이들 에폭시 화합물은 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다. Examples of the epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule of the raw material (d) include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, hydrogenated bisphenol A type epoxy resins, hydrogenated bisphenol F type epoxy resins, and phenol nos. Volac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, alkylphenol novolac type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, aromatic aldehyde having phenol and phenolic hydroxyl group Epoxide of condensate with, triglycidyl isocyanurate, alicyclic epoxy resin, glycidylamine resin, glycidyl ester resin, diglycidyl ether of aliphatic diol, diglycidyl ether of alicyclic diol Epoxy resins, such as these, are mentioned. You may use these epoxy compounds in combination of 2 or more type.

원료 (e)의 분자내에 에폭시기와 반응하는 1 이상의 활성 수소기를 갖는 화합물로서는, 페놀성 하이드록실기를 1 이상 갖는 화합물, 카복실기를 1 이상 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 활성 수소기를 3 이상 갖는 경우, 에폭시 화합물과의 반응 중에 겔화될 가능성이 있기 때문에, 화합물(e)로서는, 1 또는 2개의 활성 수소기를 갖는 것이 바람직하다. 활성 수소기를 1개 갖는 화합물로서는, 페놀 화합물, 티오페놀 화합물, 카복실산 화합물 등을 들 수 있다. 활성 수소기를 2개 갖는 화합물로서는, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 비페놀, 하이드로퀴논, 아지프산, 세바스산, 도데칸2산, 8,12-에이코사디엔2산, 에이코사2산 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다. As a compound which has one or more active hydrogen groups which react with an epoxy group in the molecule | numerator of raw material (e), the compound which has one or more phenolic hydroxyl groups, the compound which has one or more carboxyl groups, etc. are mentioned. When it has three or more active hydrogen groups, since it may gelatinize during reaction with an epoxy compound, as compound (e), what has one or two active hydrogen groups is preferable. As a compound which has one active hydrogen group, a phenol compound, a thiophenol compound, a carboxylic acid compound, etc. are mentioned. Examples of the compound having two active hydrogen groups include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, biphenol, hydroquinone, azipic acid, sebacic acid, dodecane diacid, 8,12-eicosadiene diacid and eicosadiic acid. Etc. can be mentioned. You may use these compounds in combination of 2 or more type.

원료 (d)와 (e)는 반응 온도 80 내지 180℃에서 통상 1 내지 8시간의 범위에서 반응시킬 수 있다. 반응에는 필요에 따라서 유기 용매를 가해도 되며, 또한 필요에 따라 촉매를 가해도 된다. 촉매로서는, 질소계 화합물, 인계 화합물 등을 들 수 있다. Raw material (d) and (e) can be made to react in the range of 1 to 8 hours normally at reaction temperature of 80-180 degreeC. An organic solvent may be added to reaction as needed, and a catalyst may be added as needed. Examples of the catalyst include nitrogen compounds, phosphorus compounds and the like.

원료 (c)의 분자내에 2 이상의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 2,4-톨루엔 디이소시아네이트, 2,6-톨루엔 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 디페닐메탄 디이소시아네이트, 디사이클로헥실메탄 디이소시아네이트, 나프탈렌 디이소시아네이트, 크실리렌 디이소시아네이트, 수첨 크실리렌 디이소시아네이트, 테트라메틸렌크실리렌 디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 노보넨 디이소시아네이트를 들 수 있다. 이들 폴리이소시아네이트 화합물은 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다.As a polyisocyanate compound which has two or more isocyanate groups in the molecule | numerator of raw material (c), 2, 4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, di And cyclohexyl methane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, xylene diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, tetramethylene xylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, norbornene diisocyanate. You may use these polyisocyanate compounds in combination of 2 or more type.

원료 (a), (b) 및 (c)의 반응 조건으로서는, 예를 들면, 유기 용매 중, 반응 온도 15 내지 120℃, 반응 시간 통상 1 내지 8시간의 범위에서 반응시킬 수 있다. 또한, 필요에 따라 촉매를 가하여 반응을 실시해도 양호하다.As reaction conditions of a raw material (a), (b), and (c), it can react in the range of reaction temperature of 15-120 degreeC and reaction time normally 1 to 8 hours, for example in an organic solvent. Moreover, you may react by adding a catalyst as needed.

원료 (a), (b) 및 (c)의 반응 비율은, 원료 (a)의 하이드록실기의 수를 Xa, 원료 (b)의 하이드록실기의 수를 Xb, 원료 (c)의 이소시아네이트기의 수를 Y라고 하면, (Xa+Xb)/Y의 값이 1 내지 3이 되는 범위가 바람직하고, 또한 1.01 내지 2가 되는 범위가 보다 바람직하다. 이 비율이 1.0 미만인 경우, 이소시아네이트기가 과잉 상태로 반응을 하게 되어 분자량의 제어가 어렵고, 3을 초과하는 경우는 분자량을 높게 하는 것이 곤란해지는 경향이 있다. The reaction ratios of the raw materials (a), (b) and (c) are the numbers of the hydroxyl groups of the raw material (a) as Xa and the number of the hydroxyl groups of the raw material (b) as Xb and the isocyanate groups of the raw material (c). When the number of is Y, the range in which the value of (Xa + Xb) / Y becomes 1 to 3 is preferable, and the range that becomes 1.01 to 2 is more preferable. When this ratio is less than 1.0, an isocyanate group will react in excess, and it will become difficult to control molecular weight, and when it exceeds 3, it will become difficult to make molecular weight high.

또한, 원료 (a)와 원료 (b)는, 중량비로 (a):(b)=90:10 내지 10:90의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 또한 90:10 내지 30:70의 범위에서 사용하는 것이 보다 바람직하다. 원료 (a)의 중량비가 90:10보다도 큰 경우, 경화된 도막의 내열성이 저하되는 경향이 있으며, 원료 (b)의 중량비가 10:90보다도 큰 경우, 유연성이 불충분해지는 경향이 있다. In addition, it is preferable to use the raw material (a) and the raw material (b) in the range of (a) :( b) = 90: 10-10: 90 by weight ratio, and also in the range of 90: 10-30: 70. It is more preferable to use. When the weight ratio of the raw material (a) is larger than 90:10, the heat resistance of the cured coating film tends to be lowered, and when the weight ratio of the raw material (b) is larger than 10:90, the flexibility tends to be insufficient.

반응에 사용되는 유기 용매로서는, 예를 들면, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디에틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디에틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 테트라메틸 우레아 등의 질소 함유 화합물계 용매, 디메틸설폭사이드, 디에틸설폭사이드 등의 황 함유 화합물계 용매, γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르 화합물계 용매, 사이클로헥산온 등의 케톤계 용매, 디글라임, 트리글라임 등의 에테르계 용매, 카르비톨 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트 등 에스테르계 용매 등의 극성 용매를 들 수 있다. 이들 용매는 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다. 또한, 필요에 따라 방향족 탄화수소 등의 비극성 용매를 적절히 혼합하여 사용할 수도 있다.As an organic solvent used for reaction, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N-methyl-, for example Nitrogen-containing compound solvents such as 2-pyrrolidone and tetramethyl urea, sulfur-containing compound solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, cyclic ester compound solvents such as γ-butyrolactone, cyclohexanone and the like And ether solvents such as ketone solvents, diglyme, and triglyme; ester solvents such as carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate. You may use these solvent in mixture of 2 or more type. Moreover, you may use it, mixing suitably nonpolar solvents, such as an aromatic hydrocarbon, as needed.

반응은 필요에 따라서 촉매를 가하여 실시해도 좋고, 촉매로서는, 테트라메날부탄디아민, 벤질디메틸아민, 트리에탄올아민, 트리에틸아민, N,N-디메틸피페리딘, α-메틸벤질디메틸아민, N-메틸모르폴린, 트리에틸렌디아민 등의 3급 아민이나, 디부틸주석 라우레이트, 디메틸주석 디클로라이드, 나프텐산코발트, 나프텐산아연 등의 유기 금속 촉매 등을 들 수 있다.The reaction may be carried out by adding a catalyst as necessary. Examples of the catalyst include tetramenalbutanediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, triethylamine, N, N-dimethylpiperidine, α-methylbenzyldimethylamine, and N-methyl. Tertiary amines such as morpholine and triethylenediamine, and organic metal catalysts such as dibutyltin laurate, dimethyltin dichloride, cobalt naphthenate and zinc naphthenate.

본 발명에 있어서의 성분(A)의 수 평균 분자량은 500 내지 100,000이 바람직하다. 보다 바람직하게는 2,000 내지 50,000이다. 본 발명에 있어서 수 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정한 폴리스티렌 환산의 값이다. GPC법에 의한 수 평균 분자량은, 구체적으로는, 측정 장치로서 쇼와덴코 가부시키가이샤 제조의 GPC-101을, 칼럼으로서 쇼와덴코 가부시키가이샤 제조의 Shodex KF-800RH/LF-804을, 이동상으로서 테트라하이드로푸란을 사용하고, 칼럼 온도 40℃에서 측정하고, 표준 폴리스티렌의 검량선을 사용하여 산출할 수 있다. 성분(A)의 수 평균 분자량이 500 미만인 경우에는 경화된 도막의 유연성이 불충분해지는 경향이 있고, 100,000을 초과하면 성분(A)의 점도가 높아져 버려 취급이 곤란해지는 경향이 있다. As for the number average molecular weight of component (A) in this invention, 500-100,000 are preferable. More preferably, it is 2,000-50,000. In this invention, a number average molecular weight is the value of polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography (GPC). As for the number average molecular weight by GPC method, Mobile phase uses GPC-101 by Showa Denko Corporation as a measuring apparatus, and Shodex KF-800RH / LF-804 by Showa Denko Corporation as a column. Tetrahydrofuran is used as the measurement, measured at a column temperature of 40 ° C., and can be calculated using a calibration curve of standard polystyrene. When the number average molecular weight of component (A) is less than 500, there exists a tendency for the softness of the cured coating film to become inadequate, and when it exceeds 100,000, the viscosity of component (A) will become high and handling will become difficult.

본 발명에 있어서의 성분(A)의 에폭시 당량은 500 내지 25,000이 바람직하다. 보다 바람직하게는 500 내지 10,000이다. 성분(A)의 에폭시 당량이 500 미만인 경우에는 경화 도막의 유연성이 손상되는 경우가 있으며, 25,000을 초과하면 가교 반응이 불충분해지는 경향이 있다. 본 발명에 있어서 에폭시 당량은 JIS K7236에 따라서 측정한 값이다. As for the epoxy equivalent of the component (A) in this invention, 500-25,000 are preferable. More preferably, it is 500-10,000. When the epoxy equivalent of component (A) is less than 500, the softness of a cured coating film may be impaired, and when it exceeds 25,000, it exists in the tendency for a crosslinking reaction to become inadequate. In this invention, an epoxy equivalent is the value measured according to JISK7236.

본 발명에 있어서의 성분(B)인 에폭시 경화제는 에폭시기를 가교 또는 중합하는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 이미다졸 화합물 등의 음이온 중합 촉매, 디시안디아미드, 구아나민 유도체, 멜라민 유도체, 다염기산 하이드라지드 화합물, 지방족 아민 화합물, 방향족 아민 화합물, 폴리티올 화합물, 산 무수물 화합물, 페놀노볼락 등의 다관능 페놀 화합물, 트리페닐포스포늄헥사플루오로안티모네이트 등의 양이온 중합 촉매 등을 들 수 있다.The epoxy curing agent which is the component (B) in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound that crosslinks or polymerizes an epoxy group. Specifically, anionic polymerization catalysts such as imidazole compounds, dicyandiamide, guanamine derivatives, melamine derivatives, polybasic acid hydrazide compounds, aliphatic amine compounds, aromatic amine compounds, polythiol compounds, acid anhydride compounds, phenol novolacs, and the like And cationic polymerization catalysts such as polyfunctional phenol compounds and triphenylphosphonium hexafluoroantimonate.

이들 에폭시 경화제 중에서, 반응성의 관점에서 산 무수물 화합물이 바람직하다. 산 무수물 화합물로서는, 무수 프탈산, 테트라하이드로 무수 프탈산, 헥사하이드로 무수 프탈산, 메틸테트라하이드로 무수 프탈산, 메틸헥사하이드로 무수 프탈산, 메틸나딕산 무수물, 수소화메틸나딕산 무수물, 트리알킬테트라하이드로 무수 프탈산, 도데세닐 무수 석신산, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카복실산 무수물, 무수 트리메리트산, 무수 피로메리트산, 벤조페논테트라카복실산 2무수물, 비페닐테트라카복실산 2무수물, 나프탈렌테트라카복실산 2무수물, 옥시디프탈산 2무수물, 3,3'-4,4'-디페닐설폰테트라카복실산 2무수물, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-C]푸란-1,3-디온, 에틸렌 글리콜비스(안하이드로트리메리테이트), 스티렌과 말레산이 공중합한 스티렌ㆍ말레산 수지 등의 중합체형의 산 무수물 등을 들 수 있다. 이러한 산 무수물 중, 3차원 가교 반응의 용이함, 및 반응성의 관점에서, 산 무수물기가 1분자에 2관능 이상인 산 무수물이 바람직하고, 특히 4염기산 2무수물이 바람직하다. Among these epoxy curing agents, acid anhydride compounds are preferred from the viewpoint of reactivity. As the acid anhydride compound, phthalic anhydride, tetrahydro phthalic anhydride, hexahydro phthalic anhydride, methyltetrahydro phthalic anhydride, methylhexahydro phthalic anhydride, methylnadic acid anhydride, hydrogenated methylnadic acid anhydride, trialkyltetrahydro phthalic anhydride, dodecenyl Succinic anhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzo Phenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, naphthalene tetracarboxylic dianhydride, oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3'-4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 1,3,3a, 4 , 5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-C] furan-1,3-dione, ethylene glycolbis (anhydro Trimellitate), styrene-maleic acid copolymerized with styrene and maleic acid Polymeric acid anhydrides, such as resin, etc. are mentioned. Among these acid anhydrides, acid anhydrides having an acid anhydride group of two or more functional groups in one molecule are preferable from the viewpoint of ease of three-dimensional crosslinking reaction and reactivity, and tetrabasic dianhydride is particularly preferable.

본 발명에 있어서의 성분(B)인 에폭시 경화제로서, 에폭시와 반응하는 활성 수소기를 갖고, 하이드록실기와 통상 반응하지 않는 경화제를 사용하는 경우는, 성분(A)의 에폭시기의 수(WEP)와, 에폭시기와 반응하는 활성 수소기의 수의 비가 1:0.2 내지 1:2가 되도록 사용하는 것이 바람직하다. 에폭시기 수에 대한 활성 수소기 수의 비율이 0.2 미만 또는 2.0을 초과하는 경우는, 가교 반응이 불충분해지는 경향이 있다. 여기에서, 「하이드록실기와 통상 반응하지 않는다」란, 수지 조성물을 경화시킬 때의 경화 온도(예를 들면 80 내지 200℃) 이하의 온도에서는 하이드록실기와의 반응이 일어나지 않는 것을 의미한다. 에폭시기와 반응하는 활성기를 갖고, 하이드록실기와 통상 반응하지 않는 에폭시 경화제로서는, 디시안디아미드, 구아나민 유도체, 다염기산 하이드라지드 화합물, 지방족 아민 화합물, 방향족 아민 화합물, 및 페놀노볼락 등의 페놀 화합물 등을 들 수 있다. As an epoxy curing agent which is the component (B) in this invention, when using the hardening agent which has an active hydrogen group which reacts with an epoxy, and does not react normally with a hydroxyl group, the number of epoxy groups of a component (A) (W EP ) And the ratio of the number of active hydrogen groups reacting with the epoxy group is preferably 1: 0.2 to 1: 2. When the ratio of the number of active hydrogen groups to the number of epoxy groups is less than 0.2 or exceeds 2.0, the crosslinking reaction tends to be insufficient. Here, "it does not react normally with a hydroxyl group" means that reaction with a hydroxyl group does not occur at the temperature below the curing temperature (for example, 80-200 degreeC) at the time of hardening a resin composition. As an epoxy hardening | curing agent which has an active group which reacts with an epoxy group, and does not normally react with a hydroxyl group, Phenol compounds, such as a dicyandiamide, a guanamine derivative, a polybasic acid hydrazide compound, an aliphatic amine compound, an aromatic amine compound, and a phenol novolak Etc. can be mentioned.

본 발명의 「에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지」는, 상기와 같이, 바람직하게는 (a) 분자내에 2 이상의 하이드록실기를 갖는 폴리올 화합물, (b) 분자내에 1 이상의 하이드록실기와 1 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (c) 분자내에 2 이상의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜 수득할 수 있다. As described above, the "polyurethane resin having an epoxy group and a urethane structure" of the present invention is preferably (a) a polyol compound having two or more hydroxyl groups in the molecule, and (b) one or more hydroxyl groups in the molecule. It can obtain by making the epoxy compound which has the above epoxy group, and (c) polyisocyanate compound which has 2 or more isocyanate groups in a molecule | numerator react.

또한, 상기와 같이, 원료 (a)의 하이드록실기의 수를 Xa, 원료 (b)의 하이드록실기의 수를 Xb, 원료 (c)의 이소시아네이트기의 수를 Y로 하면, (Xa+Xb)/Y의 값이 1 내지 3이 되는 범위가 바람직하지만, 이 경우, 당해 폴리우레탄 수지는 하이드록실기를 갖는 것으로 생각된다. As described above, when the number of hydroxyl groups of the raw material (a) is Xa and the number of hydroxyl groups of the raw material (b) is Xb and the number of isocyanate groups of the raw material (c) is Y, then (Xa + Xb Although the range whose value of) / Y becomes 1-3 is preferable, in this case, it is thought that the said polyurethane resin has a hydroxyl group.

원료 (a) 성분의 분자량을 Ma, 하이드록실기 당량을 Za, 원료 (b) 성분의 분자량을 Mb, 하이드록실기 당량을 Zb, 원료 (c)의 분자량을 Mc, 이소시아네이트기 당량을 Zc로 하면, 각 성분의 1분자당의 관능기 수는 다음 식으로 산출할 수 있다. 여기서 원료 (a)의 하이드록실기의 1분자당의 관능기 수를 Na, 원료 (b)의 하이드록실기의 1분자당의 관능기 수를 Nb, 원료 (c)의 이소시아네이트기의 1분자당의 관능기 수를 Nc라고 한다. When the molecular weight of the raw material (a) component is Ma, the hydroxyl group equivalent is Za, the molecular weight of the raw material (b) component is Mb, the hydroxyl group equivalent is Zb, the molecular weight of the raw material (c) is Mc, and the isocyanate group equivalent is Zc. The number of functional groups per molecule of each component can be calculated by the following equation. Here, the number of functional groups per molecule of the hydroxyl group of the raw material (a) is Na, the number of functional groups per molecule of the hydroxyl group of the raw material (b) is Nb, and the number of functional groups per molecule of the isocyanate group of the raw material (c) is Nc. It is called.

Na = Ma/ZaNa = Ma / Za

Nb = Mb/ZbNb = Mb / Zb

Nc = Mc/Zc Nc = Mc / Zc

또한 원료 (a), 원료 (b) 및 원료 (c)을 a:b:c의 몰 비로 반응시킨 수지의 하이드록실기 당량의 이론값을 하기 식에 의해 산출할 수 있다.Moreover, the theoretical value of the hydroxyl group equivalent of resin which made the raw material (a), the raw material (b), and the raw material (c) react with the molar ratio of a: b: c can be computed by a following formula.

(Ma×a + Mb×b + Mc×c)/(Na×a + Nb×b - Nc×c)(Ma × a + Mb × b + Mc × c) / (Na × a + Nb × b-Nc × c)

본 발명의 「에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지」가 상기와 같은, 원료의 반응 비율로부터 이론적으로 하이드록실기를 갖는 형태가 되는 경우, 가교 반응을 촉진시키는 관점에서, 에폭시 경화제로서는 특히 에폭시기 및 하이드록실기와 반응하는 산 무수물 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. When the "polyurethane resin having an epoxy group and a urethane structure" of the present invention is in a form having a hydroxyl group theoretically from the reaction ratio of the raw material as described above, from the viewpoint of promoting the crosslinking reaction, particularly as an epoxy curing agent, an epoxy group and Preference is given to using acid anhydride compounds which react with hydroxyl groups.

산 무수물 화합물의 배합량은, 상기의 계산식에서 도출되는 하이드록실기에 의해 바람직한 양을 조정할 수 있고, 하이드록실기의 수(WOH)와 에폭시기의 수(WEP)의 합계에 대해, 산 무수물기의 수가 0.1 내지 2.0의 비가 되도록 하여 사용하는 것이 바람직하다. 하이드록실기와 에폭시기의 수의 합계에 대해 산 무수물기의 수의 비가 0.1 미만 또는 2.0을 초과하면 가교 반응에 있어서의 효과가 충분히 수득되지 않는 경향이 있다. 여기에서, 산 무수물기와 하이드록실기는 1:1의 당량비로 반응하고, 마찬가지로 산 무수물기와 에폭시기는 1:1의 당량비로 반응하는 것으로 한다. The compounding quantity of an acid anhydride compound can adjust a preferable quantity with the hydroxyl group derived by said calculation formula, and, with respect to the sum total of the number of hydroxyl groups (W OH ) and the number of epoxy groups (W EP ), an acid anhydride group It is preferable to use so that the number of may be 0.1 to 2.0. When the ratio of the number of acid anhydride groups to the sum of the number of hydroxyl groups and epoxy groups is less than 0.1 or more than 2.0, the effect in the crosslinking reaction tends not to be sufficiently obtained. Here, it is assumed that the acid anhydride group and the hydroxyl group react in an equivalent ratio of 1: 1, and likewise the acid anhydride group and the epoxy group react in an equivalent ratio of 1: 1.

이와 같이, 본 발명에 있어서는, 「에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지」가 하이드록실기를 갖는 형태에 있어서, 에폭시 경화제로서 산 무수물 화합물(특히 4염기산 무수물)을 사용하는 계가, 가교 반응을 촉진시키고, 내용제성 등을 향상시키는 관점에서 바람직하다. 이 경우, 당해 우레탄 수지의 하이드록실기 당량은 250 내지 50,000이 바람직하고, 또한 1,000 내지 25,000이 바람직하다. 하이드록실기 당량이 250 미만인 경우에는 도막의 유연성이 손상되는 경향이 있으며, 50,000을 초과하면 산 무수물 화합물과의 반응성 저하에 의해 가교 반응에 있어서의 효과가 불충분해지는 경향이 있다.As described above, in the present invention, in a form in which the "polyurethane resin having an epoxy group and a urethane structure" has a hydroxyl group, a system using an acid anhydride compound (particularly tetrabasic anhydride) as an epoxy curing agent is used for crosslinking reaction. It is preferable from a viewpoint of promoting and improving solvent resistance. In this case, the hydroxyl group equivalent of the urethane resin is preferably 250 to 50,000, and more preferably 1,000 to 25,000. When the hydroxyl group equivalent is less than 250, the flexibility of the coating film tends to be impaired. When the hydroxyl group equivalent exceeds 50,000, the effect in the crosslinking reaction is insufficient due to the decrease in reactivity with the acid anhydride compound.

본 발명의 수지 조성물은, 절연 신뢰성을 더욱 향상시킬 목적으로, 또한 성분(C)의 옥사졸린 화합물을 포함하고 있어도 양호하다. 옥사졸린 화합물로서는, 2-에틸-2-옥사졸린, 2-프로필-2-옥사졸린, 2-부틸-2-옥사졸린, 2-옥틸-2-옥사졸린, 2-사이클로헥실-2-옥사졸린, 2-알릴-2-옥사졸린, 2-페닐-2-옥사졸린, 라우릴아미노에틸옥사졸린, 디라우릴아미노에틸옥사졸린, 라우릴옥시에틸옥사졸린, 2,2'-비스(2-옥사졸린), 2,2'-에틸렌비스(2-옥사졸린), 2,2'-테트라메틸렌비스(2-옥사졸린), 2,2'-(1,3-페닐렌)비스(2-옥사졸린), 2,2'-(1,4-페닐렌)비스(2-옥사졸린) 등을 들 수 있다. 또한, 이러한 옥사졸린 화합물을 단량체 단위로서 포함하는 폴리옥사졸린 화합물, 스티렌ㆍ2-이소프로페닐-2-옥사졸린 공중합체 등 중합체 중에 옥사졸린 골격을 포함하는 화합물 등도 들 수 있다. 이러한 옥사졸린 화합물 중, 가교 반응이 가능해진다는 관점에서 옥사졸린 골격을 2개 이상 갖는 옥사졸린 화합물이 바람직하고, 게다가 반응성이라는 관점에서 비스옥사졸린 화합물이 바람직하다. 이들 중에서 특히 2,2'-(1,3-페닐렌)비스(2-옥사졸린)(이하, 1,3-PBO라고 약칭한다)이 바람직하다. 옥사졸린 화합물의 배합량은 산 무수물기에 대한 옥사졸린기의 비가 0.05 내지 3.0이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.1 내지 2.0이다. 0.05 몰 당량 미만이면 옥사졸린 화합물을 첨가한 효과가 작고, 3.0을 초과하면, 오히려 절연 신뢰성이 저하되어 버리는 경우가 있다. The resin composition of this invention may contain the oxazoline compound of component (C) for the purpose of further improving insulation reliability. As the oxazoline compound, 2-ethyl-2-oxazoline, 2-propyl-2-oxazoline, 2-butyl-2-oxazoline, 2-octyl-2-oxazoline, 2-cyclohexyl-2-oxazoline , 2-allyl-2-oxazoline, 2-phenyl-2-oxazoline, laurylaminoethyloxazoline, dilaurylaminoethyloxazoline, lauryloxyethyloxazoline, 2,2'-bis (2-oxa Sleepy), 2,2'-ethylenebis (2-oxazoline), 2,2'-tetramethylenebis (2-oxazoline), 2,2 '-(1,3-phenylene) bis (2-oxa Sleepy), 2,2 '-(1,4-phenylene) bis (2-oxazoline), etc. are mentioned. Moreover, the compound which contains an oxazoline frame | skeleton in a polymer, such as a polyoxazoline compound which contains such an oxazoline compound as a monomeric unit, a styrene- 2-isopropenyl 2-oxazoline copolymer, etc. are mentioned. Among these oxazoline compounds, an oxazoline compound having two or more oxazoline skeletons is preferable from the viewpoint of crosslinking reaction, and a bisoxazoline compound is preferable from the viewpoint of reactivity. Among them, 2,2 '-(1,3-phenylene) bis (2-oxazoline) (hereinafter abbreviated as 1,3-PBO) is particularly preferable. As for the compounding quantity of an oxazoline compound, the ratio of the oxazoline group with respect to an acid anhydride group is preferably 0.05-3.0. More preferably, it is 0.1-2.0. If it is less than 0.05 molar equivalent, the effect which added the oxazoline compound is small, and when it exceeds 3.0, insulation reliability may fall rather.

본 발명의 수지 조성물은 필요에 따라, 에폭시 경화제의 경화 반응을 촉진시키는 경화 촉진제를 병용해도 된다. 경화 촉진제로서는, 트리페닐포스핀, 포스포늄보레이트 화합물, 테트라페닐포스포늄 테트라페닐보레이트, n-부틸포스포늄 테트라페닐보레이트, 1,8-디아자비사이클로-[5.4.0]-7-운데센(DBU), DBU의 2-에틸헥산산염, 옥틸산아연, 옥틸산주석 등의 금속염, 페닐디메틸 우레아, 톨루엔비스디메틸 우레아, 메틸렌디페닐디메틸 우레아 등의 우레아 화합물 등을 들 수 있다. The resin composition of this invention may use together the hardening accelerator which accelerates the hardening reaction of an epoxy hardening | curing agent as needed. Examples of the curing accelerator include triphenylphosphine, phosphonium borate compounds, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, n-butylphosphonium tetraphenylborate, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene ( DBU), metal salts, such as 2-ethylhexanoate of zinc, octylic acid zinc, and octylic acid tin, urea compounds, such as phenyldimethyl urea, toluenebisdimethyl urea, and methylenediphenyldimethyl urea, etc. are mentioned.

본 발명의 수지 조성물에는, 본 발명의 효과가 발휘되는 범위에서 각종 수지 첨가제를 배합할 수 있다. 수지 첨가제로서는, 실리카, 알루미나, 황산바륨, 활석, 점토, 운모 분말, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화마그네슘, 질화붕소, 붕산알루미늄, 티탄산바륨, 티탄산스트론튬, 티탄산칼슘, 티탄산마그네슘, 티탄산비스무스, 산화티탄, 지르콘산바륨, 지르콘산칼슘 등의 무기 충전재, 아크릴 고무 입자, 폴리아미드 미립자, 실리콘 입자 등의 유기 충전재, 실란계 커플링제, 티타네이트계 커플링제, 알루미늄계 커플링제 등의 커플링제, 실리콘계 소포제, 불소계 소포제, 아크릴 중합물계 소포제 등의 소포제, 산화티탄, 산화아연 등의 무기 안료, 프탈로시아닌ㆍ블루, 프탈로시아닌ㆍ그린, 아이오딘ㆍ그린, 디스아조 옐로, 카본블랙 등의 유기 안료, 유기 염료 등의 착색제, 힌다드페놀계 화합물, 인계 화합물, 유황계 화합물, 하이드라지드계 화합물 등의 산화방지제, 벤조트리아졸계 화합물, 힌다드아민계 화합물 등의 자외선 흡수제, 인계 화합물, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 등의 난연제, 레벨링제, 틱소성 부여제, 2,4,6-트리머캅토-s-트리아졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸 등의 밀착 향상제 등을 들 수 있다. Various resin additives can be mix | blended with the resin composition of this invention in the range in which the effect of this invention is exhibited. As the resin additive, silica, alumina, barium sulfate, talc, clay, mica powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate Inorganic fillers such as bismuth titanate, titanium oxide, barium zirconate, calcium zirconate, organic rubbers such as acrylic rubber particles, polyamide fine particles and silicon particles, silane coupling agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, and the like. Defoamers such as coupling agents, silicone defoamers, fluorine defoamers, acrylic polymer defoamers, inorganic pigments such as titanium oxide and zinc oxide, organic compounds such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow and carbon black. Coloring agents such as pigments and organic dyes, hindered phenol compounds, phosphorus compounds, sulfur compounds, UV light absorbers such as antioxidants such as drazide compounds, benzotriazole compounds, hindered amine compounds, flame retardants such as phosphorus compounds, aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, leveling agents, thixotropic agents, 2,4,6- Adhesion promoters such as trimercapto-s-triazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, and the like.

본 발명의 수지 조성물은 (A) 에폭시기 함유 우레탄 수지 및 (B) 에폭시 경화제를 포함하는 배합 성분을 플래네터리 믹서, 3개 롤, 비즈밀 등을 사용하여 용해 또는 분산시킴으로써 조제할 수 있다. 조제에 있어서, 필요에 따라 점도 조정을 위한 유기 용제를 사용해도 좋다. 점도 조정을 위해 사용하는 유기 용제는 상기한 반응에 사용되는 유기 용매와 같은 것을 사용할 수 있다. 플렉시블 프린트 배선판의 오버코트용으로서 사용하는 경우는, 통상, 페이스트상의 수지 조성물로서 조제된다. The resin composition of this invention can be prepared by melt | dissolving or disperse | distributing the compounding component containing (A) epoxy group containing urethane resin and (B) epoxy hardening | curing agent using a planetary mixer, three rolls, a bead mill, etc. In preparation, you may use the organic solvent for viscosity adjustment as needed. The organic solvent used for viscosity adjustment can use the same thing as the organic solvent used for said reaction. When using for overcoat of a flexible printed wiring board, it is normally prepared as a paste-like resin composition.

본 발명의 페이스트상의 수지 조성물을 플렉시블 프린트 배선판의 소정 부분에 도포하고, 도포면을 건조시킴으로써, 전체 표면 또는 일부 표면이 본 발명의 수지 조성물로 보호된 플렉시블 프린트 배선판을 수득할 수 있다. 건조 조건은 사용하는 페이스트상 수지 조성물의 종류에 따라, 당업자가 적당히 용이하게 설정할 수 있지만, 통상 100 내지 200℃에서, 1 내지 120분 정도 건조시킨다. 형성되는 표면보호막의 두께도 특별히 한정되지 않지만, 통상 5 내지 100㎛이다. 본 발명의 수지 조성물에 의해 표면이 보호되는 플렉시블 프린트 배선판에 특별히 한정은 없으며, TAB(Tape Automated Bonding)용 플렉시블 프린트 배선판, COF용 플렉시블 프린트 배선판, 다층 플렉시블 프린트 배선판, 도전성 페이스트 인쇄 플렉시블 프린트 배선판 등의 각종 플렉시블 프린트 배선판을 사용할 수 있지만, 본 발명의 수지 조성물은, 특히 TAB용 플렉시블 프린트 배선판, COF용 플렉시블 프린트 배선판의 오버코트용으로서 적합하게 사용할 수 있다. By apply | coating the paste-form resin composition of this invention to the predetermined part of a flexible printed wiring board and drying an application | coating surface, the flexible printed wiring board in which the whole surface or one part surface was protected by the resin composition of this invention can be obtained. Drying conditions can be suitably easily set by a person skilled in the art according to the kind of paste resin composition to be used, Usually, it is made to dry at 100-200 degreeC for about 1 to 120 minutes. Although the thickness of the surface protection film formed is not specifically limited, either, Usually, it is 5-100 micrometers. There is no restriction | limiting in particular in the flexible printed wiring board whose surface is protected by the resin composition of this invention, Flexible printed wiring board for TAB (Tape Automated Bonding), Flexible printed wiring board for COF, Multilayer flexible printed wiring board, Flexible paste printed flexible printed wiring board, etc. Although various flexible printed wiring boards can be used, the resin composition of this invention can be used suitably especially for overcoat of a flexible printed wiring board for TAB, and a flexible printed wiring board for COF.

본 발명의 수지 조성물로 표면이 보호된 플렉시블 프린트 배선판은 각종 전자 기기에 내장되는 형태로 사용할 수 있다. 예를 들면, 휴대전화, 디지털 카메라, 비디오 카메라, 게임 기기, PC, 프린터, 하드디스크 드라이브, 플라즈마 텔레비전, 액정 텔레비전, 액정 디스플레이, 카 네비게이션 시스템, 복사기, 팩스, AV 기기, 계측 기기, 의료 기기 등의 각종 전자 기기의 내부 배선으로서 적합하게 사용된다. The flexible printed wiring board whose surface was protected by the resin composition of this invention can be used in the form incorporated in various electronic devices. For example, mobile phones, digital cameras, video cameras, game equipment, PCs, printers, hard disk drives, plasma televisions, liquid crystal televisions, liquid crystal displays, car navigation systems, copiers, fax machines, AV equipment, measuring equipment, medical equipment, etc. It is suitably used as internal wiring of various electronic devices.

이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것이 아니다. 실시예 중, 부는 질량부를 의미한다. 또한, 합성예 1의 하이드록실기 함유 에폭시 수지 및 합성예 2 내지 6의 에폭시기 함유 우레탄 수지의 하이드록실기 당량을 계산에 의해 구하였다. 합성예 1에 관해서는, 에폭시 수지(HP-7200)와 반응시키는 비스페놀 A의 페놀성 하이드록실기와 등몰의 하이드록실기가 생성되는 것으로 하고, 합성예 2 내지 6에서 사용하고 있는 에피코트 1001에 관해서는, 에폭시기는 1분자 중에 2개로 하고, 당해 전제와 에폭시 당량의 실측값으로부터 분자량은 에폭시 당량의 2배라고 생각하여, 다음 식으로부터 1분자 중의 하이드록실기의 수를 구하였다.Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to this. In an example, a part means a mass part. In addition, the hydroxyl group equivalent of the hydroxyl group containing epoxy resin of the synthesis example 1, and the epoxy group containing urethane resin of the synthesis examples 2-6 was calculated | required by calculation. Regarding Synthesis Example 1, the phenolic hydroxyl group of bisphenol A to react with epoxy resin (HP-7200) and equimolar hydroxyl group are produced, and to Epicoat 1001 used in Synthesis Examples 2 to 6 Regarding this, two epoxy groups were used in one molecule, and the molecular weight was considered to be twice the epoxy equivalent from the actual value of the premise and the epoxy equivalent, and the number of hydroxyl groups in one molecule was obtained from the following equation.

1분자 중의 하이드록실기의 수 = (분자량 - 57)/(228 + 58)) - 1Number of hydroxyl groups in 1 molecule = (molecular weight-57) / (228 + 58))-1

여기에서, 「57」은 글리시딜에테르기의 분자량, 「228」은 비스페놀 A의 분자량, 「58」은 글리시딜에테르 구조와 비스페놀 A의 페놀기가 반응했을 때에 생성되는 2급 하이드록실기 구조를 갖는 화합물의 분자량이다.
Here, "57" is the molecular weight of the glycidyl ether group, "228" is the molecular weight of bisphenol A, "58" is the secondary hydroxyl group structure produced when the glycidyl ether structure and the phenol group of bisphenol A react. The molecular weight of the compound having

<합성예 1> 하이드록실기 함유 에폭시 수지(E-1)의 합성 <Synthesis example 1> Synthesis of hydroxyl group-containing epoxy resin (E-1)

교반 장치, 온도계, 콘덴서를 구비한 500ml 플라스크에 디사이클로펜타디엔형 에폭시 수지 HP-7200(다이니폰잉크가가쿠고교 가부시키가이샤 제조, 에폭시 당량 260) 291.4g, 비스페놀 A(미쓰이가가쿠 가부시키가이샤 제조) 55.6g, 용제로서 에틸디글리콜 아세테이트 150.0g을 주입하고, 질소 기류하에 70℃로 가열하여 균일한 용액을 수득하였다. 여기에 트리페닐포스핀 2.9g을 가한 후, 120℃로 승온시키고, 그대로 5시간 동안 반응을 실시하여, 하이드록실기 함유 에폭시 수지 E-1을 수득하였다. 291.4 g of dicyclopentadiene type epoxy resin HP-7200 (made by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd., epoxy equivalent 260) in 500 ml flask equipped with a stirring apparatus, a thermometer, and a condenser, bisphenol A (Mitsui Chemical Co., Ltd.) Preparation) 55.6 g, 150.0 g of ethyl diglycol acetate was injected as a solvent, and it heated at 70 degreeC under nitrogen stream, and obtained the uniform solution. After adding 2.9 g of triphenylphosphine to it, it heated up at 120 degreeC and reacted for 5 hours as it was, and obtained hydroxyl group containing epoxy resin E-1.

하이드록실기 함유 에폭시 수지 E-1의 성상:Properties of the hydroxyl group-containing epoxy resin E-1:

점도 74Paㆍs (25℃, E형 점도계)Viscosity 74 Pa.s (25 ° C, E-type viscometer)

고형분 70%70% solids

수 평균 분자량 1,700 (GPC, 폴리스티렌 환산)Number average molecular weight 1,700 (GPC, polystyrene equivalent)

에폭시 당량 538Epoxy equivalent 538

하이드록실기 당량 711
Hydroxyl group equivalents 711

<합성예 2> 에폭시기 함유 우레탄 수지(EU-1)의 합성 Synthesis Example 2 Synthesis of Epoxy Group-Containing Urethane Resin (EU-1)

교반 장치, 온도계, 콘덴서를 구비한 500ml 플라스크에 폴리카보네이트디올 T-6001(아사히가세이케미칼 가부시키가이샤 제조, 하이드록실기 값 115mgKOH/g) 185.5g, <합성예 1>에 나타낸 하이드록실기 함유 에폭시 수지 E-1을 188.8g, γ-부티로락톤 90.0g을 주입하고, 질소 기류하에 실온에서 교반하면서 2,4-트릴렌 디이소시아네이트 32.3g, 디부틸주석디라우레이트의 이프졸 #150(이데미츠코산 가부시키가이샤 제조)의 1% 용액 3.5g을 가하고, 품온(혼합물의 온도)을 80℃로 승온시키고 3시간 동안 반응시켰다. 적외 분광 분석에 의해 이소시아네이트기에 기초하는 흡수가 소실된 것을 확인하고 반응을 종료하여 에폭시기 함유 우레탄 수지 EU-1을 수득하였다. 185.5 g of polycarbonate diol T-6001 (made by Asahi Chemical Co., Ltd., hydroxyl value 115 mgKOH / g) in the 500 ml flask provided with the stirring apparatus, the thermometer, and the condenser, and the hydroxyl group shown in <synthesis example 1>. 188.8 g of epoxy resin E-1 and 90.0 g of γ-butyrolactone were injected, and 32.3 g of 2,4-trilene diisocyanate and ifsol # 150 of dibutyltin dilaurate were stirred at room temperature under a stream of nitrogen ( 3.5 g of a 1% solution of Idemitsukosan Co., Ltd.) was added, and the temperature of the product (temperature of the mixture) was raised to 80 ° C and allowed to react for 3 hours. Infrared spectroscopy confirmed that the absorption based on the isocyanate group was lost, and the reaction was terminated to obtain an epoxy group-containing urethane resin EU-1.

에폭시기 함유 우레탄 수지 EU-1의 성상Properties of Epoxy Group-containing Urethane Resin EU-1

점도 107Paㆍs (25℃, E형 점도계)Viscosity 107 Pa · s (25 ° C, E-type viscometer)

고형분 70%70% solids

수 평균 분자량 4,100 (GPC, 폴리스티렌 환산)Number average molecular weight 4,100 (GPC, polystyrene equivalent)

에폭시 당량 1,411Epoxy equivalent 1,411

하이드록실기 당량 1,476
Hydroxyl group equivalents 1,476

<합성예 3> 에폭시기 함유 우레탄 수지(EU-2)의 합성 Synthesis Example 3 Synthesis of Epoxy Group-Containing Urethane Resin (EU-2)

교반 장치, 온도계, 콘덴서를 구비한 500ml 플라스크에 폴리카보네이트디올 T-6001(아사히가세이케미칼 가부시키가이샤 제조, 하이드록실기 값 115mgKOH/g) 134.5g, 하이드록실기 함유 에폭시 수지로서 에피코트 1001(재팬에폭시레진 가부시키가이샤 제조, 에폭시 당량 475) 41.9g, γ-부티로락톤 88.0g, 디부틸주석디라우레이트의 이프졸 #150(이데미츠코산 가부시키가이샤 제조)의 1% 용액 2.1g을 주입하고, 질소 기류하에 실온에서 교반하면서 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트 33.7g을 품온이 80℃를 초과하지 않도록 조금씩 가하였다. 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트의 전량을 가한 후, 품온을 80℃까지 승온시키고 1시간 동안 반응시켰다. 적외 분광 분석에 의해 이소시아네이트기에 기초하는 흡수가 소실된 것을 확인하고 반응을 종료시켜 에폭시기 함유 우레탄 수지 EU-2을 수득하였다. Polycarbonate diol T-6001 (manufactured by Asahi Chemical Co., Ltd., 115 mgKOH / g of hydroxyl group value 115 mgKOH / g) in a 500 ml flask equipped with a stirring device, a thermometer, and a condenser, epicoat 1001 (as a hydroxyl group-containing epoxy resin) Japan Epoxy Resin Co., Ltd., 41.9 g of epoxy equivalent 475), γ-butyrolactone 88.0 g, and 2.1 g of 1% solution of Ipsol # 150 (manufactured by Idemitsukosan Co., Ltd.) of dibutyltin dilaurate are injected. And 33.7 g of 4,4'- diphenylmethane diisocyanate was added little by little so that product temperature might not exceed 80 degreeC, stirring at room temperature under nitrogen stream. After adding the whole amount of 4,4'- diphenylmethane diisocyanate, the product temperature was heated up to 80 degreeC and made to react for 1 hour. Infrared spectroscopy confirmed that absorption based on the isocyanate group was lost, and the reaction was terminated to obtain an epoxy group-containing urethane resin EU-2.

에폭시기 함유 우레탄 수지 EU-2의 성상 Properties of Epoxy Group-containing Urethane Resin EU-2

점도 239Paㆍs (25℃, E형 점도계) Viscosity 239 Pa.s (25 ° C, E-type viscometer)

고형분 70%70% solids

수 평균 분자량 5,326 (GPC, 폴리스티렌 환산)Number average molecular weight 5,326 (GPC, polystyrene equivalent)

에폭시 당량 2,199Epoxy equivalent 2,199

하이드록실기 당량 2,085
Hydroxyl group equivalent 2,085

<합성예 4> 에폭시기 함유 우레탄 수지(EU-3)의 합성 Synthesis Example 4 Synthesis of Epoxy Group-Containing Urethane Resin (EU-3)

교반 장치, 온도계, 콘덴서를 구비한 500ml 플라스크에 폴리카보네이트디올 UM-CARB90(1/3)(우베코산 가부시키가이샤 제조, 디올 성분이 1,4-사이클로헥산디메탄올/1,6-헥산디올 = 1/3으로 포함되는 공중합 카보네이트디올, 하이드록실기 값 126mgKOH/g) 114.2g, 하이드록실기 함유 에폭시 수지로서 에피코트 1001(재팬에폭시레진 가부시키가이샤 제조, 에폭시 당량 475) 58.0g, γ-부티로락톤 198.0g을 주입하고, 질소 기류하에 실온에서 교반하면서 2,4-트릴렌 디이소시아네이트 27.8g, 디부틸주석디라우레이트의 이프졸 #150(이데미츠코산 가부시키가이샤 제조)의 1% 용액 2.0g을 가하고, 품온을 80℃로 승온시키고 3시간 동안 반응시켰다. 적외 분광 분석에 의해 이소시아네이트기에 기초하는 흡수가 소실된 것을 확인하고 반응을 종료시키고 에폭시기 함유 우레탄 수지 EU-3을 수득하였다.Polycarbonate diol UM-CARB90 (1/3) (manufactured by Ubeko Co., Ltd., diol component of 1,4-cyclohexanedimethanol / 1,6-hexanediol) in a 500 ml flask equipped with a stirring device, a thermometer, and a condenser. Copolymer carbonate diol contained in 1/3, hydroxyl group value 126mgKOH / g) 114.2g, 58.0 g of epicoat 1001 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent 475) as a hydroxyl group containing epoxy resin, gamma-buty 18.0 ml of 2,4-trilene diisocyanate, ifsol # 150 (manufactured by Idemitsukosan Co., Ltd.) of 2,4-trilene diisocyanate and dibutyltin dilaurate while injecting 198.0 g of rockactone and stirring at room temperature under a stream of nitrogen. g was added, the product temperature was raised to 80 ° C. and reacted for 3 hours. Infrared spectroscopy confirmed that the absorption based on the isocyanate group was lost, and the reaction was terminated to obtain an epoxy group-containing urethane resin EU-3.

에폭시기 함유 우레탄 수지 EU-3의 성상 Properties of Epoxy Group-Containing Urethane Resin EU-3

점도 65Paㆍs (25℃, E형 점도계) Viscosity 65 Pa.s (25 ° C, E-type viscometer)

고형분 50% 50% solids

수 평균 분자량 8,034 (GPC, 폴리스티렌 환산)Number average molecular weight 8,034 (GPC, polystyrene equivalent)

에폭시 당량 1,443Epoxy Equivalent 1,443

하이드록실기 당량 2,928
Hydroxyl group equivalents 2,928

<합성예 5> 에폭시기 함유 우레탄 수지(EU-4)의 합성Synthesis Example 5 Synthesis of Epoxy Group-Containing Urethane Resin (EU-4)

교반 장치, 온도계, 콘덴서를 구비한 500ml 플라스크에 폴리카보네이트디올 UM-CARB90(1/1)(우베코산 가부시키가이샤 제조, 디올 성분이 1,4-사이클로헥산디메탄올/1,6-헥산디올 = 1/1로 포함되는 공중합 카보네이트디올, 하이드록실기 값 124mgKOH/g) 170.1g, 및 폴리부타디엔 디올 G-1000(니혼소다 가부시키가이샤 제조, 하이드록실기 값 72mgKOH/g) 15.3g, 하이드록실기 함유 에폭시 수지로서 에피코트 1001(재팬에폭시레진 가부시키가이샤 제조, 에폭시 당량 475) 58.0g, 에틸디글리콜아세테이트 117.2g을 주입하고, 질소 기류하ㆍBR>A 실온에서 교반하면서 2,4-트릴렌 디이소시아네이트 34.5g, 디부틸주석디라우레이트의 이프졸 #150(이데미츠코산 가부시키가이샤 제조)의 1% 용액 2.8g을 가하고, 품온을 80℃로 승온시키고 3시간 동안 반응시켰다. 적외 분광 분석에 의해 이소시아네이트기에 기초하는 흡수가 소실된 것을 확인하고 반응을 종료시키고 에폭시기 함유 우레탄 수지 EU-4를 수득하였다. Polycarbonate diol UM-CARB90 (1/1) (manufactured by Ubeko Co., Ltd., diol component of 1,4-cyclohexanedimethanol / 1,6-hexanediol) in a 500 ml flask equipped with a stirring device, a thermometer, and a condenser. Copolymer carbonate diol, hydroxyl group value 124mgKOH / g) 170.1g, and polybutadiene diol G-1000 (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., hydroxyl value 72mgKOH / g) 15.3g, hydroxyl group contained in 1/1 As the containing epoxy resin, 58.0 g of Epicoat 1001 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd., Epoxy equivalent 475) and 117.2 g of ethyl diglycol acetate were charged, and 2,4-trilene was stirred at room temperature under a nitrogen stream. 34.5 g of diisocyanate and 2.8 g of 1% solution of IFZOL # 150 (manufactured by Idemitsukosan Co., Ltd.) of dibutyltin dilaurate were added, and the temperature of the product was raised to 80 ° C and allowed to react for 3 hours. Infrared spectroscopy confirmed that the absorption based on the isocyanate group was lost, the reaction was terminated, and an epoxy group-containing urethane resin EU-4 was obtained.

에폭시기 함유 우레탄 수지 EU-4의 성상Properties of Epoxy Group-containing Urethane Resin EU-4

점도 267Paㆍs (25℃, E형 점도계)Viscosity 267 Pa.s (25 ° C, E-type viscometer)

고형분 70%70% solids

수 평균 분자량 7,723 (GPC, 폴리스티렌 환산)Number average molecular weight 7,723 (GPC, polystyrene equivalent)

에폭시 당량 2,028Epoxy equivalent 2,028

하이드록실기 당량 2,139
Hydroxyl group equivalents 2,139

<합성예 6> 에폭시기를 함유하지 않는 우레탄 수지(U-1)의 합성 <Synthesis example 6> Synthesis of urethane resin (U-1) containing no epoxy group

교반 장치, 온도계, 콘덴서를 구비한 500ml 플라스크에 폴리카보네이트디올 T-6001(아사히가세이케미칼 가부시키가이샤 제조, 하이드록실기 값 115mgKOH/g) 329.1g, γ-부티로락톤 121.7g을 주입하고, 질소 기류하에 실온에서 교반하면서 2,4-트릴렌 디이소시아네이트 45.9g, 디부틸주석디라우레이트의 이프졸 #150(이데미츠코산 가부시키가이샤 제조)의 1% 용액 3.3g을 가하고, 품온을 80℃로 승온시키고 3시간 동안 반응시켰다. 적외 분광 분석에 의해 이소시아네이트기에 기초하는 흡수가 소실된 것을 확인하고 반응을 종료시켜 에폭시기 함유 우레탄 수지 U-1을 수득하였다. Into a 500 ml flask equipped with a stirring device, a thermometer, and a condenser, 329.1 g of polycarbonate diol T-6001 (manufactured by Asahi Chemical Co., Ltd., hydroxyl value 115 mgKOH / g) and 121.7 g of γ-butyrolactone were injected. 45.9 g of 2,4-trilene diisocyanate and 3.3 g of 1% solution of Ipsol # 150 (manufactured by Idemitsukosan Co., Ltd.) of dibutyltin dilaurate were added while stirring at room temperature under a nitrogen stream, and the temperature was 80 ° C. It was heated up and reacted for 3 hours. Infrared spectroscopy confirmed that absorption based on the isocyanate group was lost, and the reaction was terminated to obtain an epoxy group-containing urethane resin U-1.

에폭시기를 함유하지 않는 우레탄 수지 U-1의 성상Properties of Urethane Resin U-1 without Epoxy Group

점도 185Paㆍs (25℃, E형 점도계)Viscosity 185 Pa.s (25 ° C, E-type viscometer)

고형분 75%75% solids

수 평균 분자량 8,600 (GPC, 폴리스티렌 환산)Number average molecular weight 8,600 (GPC, polystyrene equivalent)

하이드록실기 당량 2,541
Hydroxyl Group Equivalent 2,541

실시예 1Example 1

합성예 2에서 수득된 에폭시기 함유 우레탄 수지 용액(EU-1)을 고형분 환산으로 40.0g, 4염기산 2무수물로서, B-4400(다이니폰잉크가가쿠고교 가부시키가이샤 제조, 산 무수물 당량 132) 2.91g, 트리페닐포스핀(쥰세가가쿠 가부시키가이샤 제조) 0.21g, 무기 충전제로서 친수성 흄드 실리카 A-380(니혼에어로질 가부시키가이샤 제조) 0.8g을 혼합하고, 3개 롤 밀로 혼련을 실시한 후, γ-부티로락톤을 가하여 점도를 약 20 내지 40Paㆍs로 조정하고, 열경화성 수지 조성물을 조제하였다.
The epoxy group-containing urethane resin solution (EU-1) obtained in Synthesis Example 2 was converted into solids as 40.0 g, tetrabasic acid anhydride, and B-4400 (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., acid anhydride equivalent 132) 2.91 g, triphenylphosphine (manufactured by Junsegawa Chemical Co., Ltd.) 0.21 g, and 0.8 g of hydrophilic fumed silica A-380 (manufactured by Nippon Aerosol Co., Ltd.) as an inorganic filler were mixed and kneaded with three roll mills. Then, gamma -butyrolactone was added, the viscosity was adjusted to about 20-40 Pa.s, and the thermosetting resin composition was prepared.

실시예 2Example 2

비스옥사졸린 화합물로서 새롭게 1,3-PBO(미쿠니세야쿠고교 가부시키가이샤 제조, 옥사졸린기 당량 108)을 3.44g 가하고, B-4400을 3.64g, 트리페닐포스핀을 0.24g으로 하는 것 이외에는, 실시예 1과 같이 하여 열경화성 수지 조성물을 조제하였다.
As a bisoxazoline compound, 3.44g of 1,3-PBO (made by Mikuni Seyaku Kogyo Co., Ltd., oxazoline group equivalent 108) is newly added, except 3.64g of B-4400 and 0.24g of triphenylphosphine. In the same manner as in Example 1, a thermosetting resin composition was prepared.

실시예 3Example 3

합성예 3에서 수득된 에폭시기 함유 우레탄 수지 용액(EU-2)을 고형분 환산으로 40.0g, 1,3-PBO를 2.22g, B-4400을 2.26g, 트리페닐포스핀을 0.22g으로 하는 것 이외에는, 실시예 2와 같이 하여 열경화성 수지 조성물을 조제하였다.
The epoxy group-containing urethane resin solution (EU-2) obtained in Synthesis Example 3 was converted to 40.0 g in terms of solid content, except that 2.22 g for 1,3-PBO, 2.26 g for B-4400, and 0.22 g for triphenylphosphine. In the same manner as in Example 2, a thermosetting resin composition was prepared.

실시예 4Example 4

합성예 4에서 수득된 에폭시기 함유 우레탄 수지 용액(EU-3)을 고형분 환산으로 40.0g, 1,3-PBO를 2.07g, B-4400을 2.70g, 트리페닐포스핀을 0.23g으로 하는 것 이외에는, 실시예 2와 같이 하여 열경화성 수지 조성물을 조제하였다.
The epoxy group-containing urethane resin solution (EU-3) obtained in Synthesis Example 4 was converted to 40.0 g in terms of solid content, except that 2.07 g for 1,3-PBO, 2.70 g for B-4400, and 0.23 g for triphenylphosphine. In the same manner as in Example 2, a thermosetting resin composition was prepared.

실시예 5Example 5

합성예 5에서 수득된 에폭시기 함유 우레탄 수지 용액(EU-4)을 고형분 환산으로 40.0g, 1,3-PBO를 3.24g, B-4400을 2.64g, 트리페닐포스핀을 0.23g으로 하는 것 이외에는, 실시예 2와 같이 하여 열경화성 수지 조성물을 조제하였다.
The epoxy group-containing urethane resin solution (EU-4) obtained in Synthesis Example 5 was converted to 40.0 g in terms of solid content, except that 3.24 g for 1,3-PBO, 2.64 g for B-4400, and 0.23 g for triphenylphosphine. In the same manner as in Example 2, a thermosetting resin composition was prepared.

<참고예 1>&Lt; Reference Example 1 &

합성예 6에서 수득된 에폭시기를 함유하지 않는 우레탄 수지 용액(U-1)을 고형분 환산으로 45.8g, 새롭게 에폭시 수지로서 HP-7200(다이니폰잉크가가쿠고교 가부시키가이샤 제조, 에폭시 당량 260)을 4.18g, B-4400을 2.13g, 트리페닐포스핀을 0.22g, A-380을 1.00g으로 하는 것 이외에는, 실시예 1과 같이 하여 열경화성 수지 조성물을 조제하였다.
45.8g of solid-state urethane resin solution (U-1) obtained in the synthesis example 6 was converted into solid content, and HP-7200 (made by Dainippon Ink & Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 260) was newly added as an epoxy resin. A thermosetting resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 4.18 g, 2.13 g of B-4400, 0.22 g of triphenylphosphine, and 1.00 g of A-380 were prepared.

<참고예 2>Reference Example 2

합성예 6에서 수득된 에폭시기를 함유하지 않는 우레탄 수지 용액(U-1)을 고형분 환산으로 35.0g, HP-7200을 15.0g, B-4400을 7.62g, 트리페닐포스핀을 0.29g로 하는 것 이외에는, 참고예 1과 같이 하여 열경화성 수지 조성물을 조제하였다. The urethane resin solution (U-1) which does not contain the epoxy group obtained by the synthesis example 6 is 35.0g in terms of solid content, 15.0g for HP-7200, 7.62g for B-4400, and 0.29g for triphenylphosphine. A thermosetting resin composition was prepared in the same manner as in Reference Example 1 except for the above.

<참고예 3>Reference Example 3

비스옥사졸린 화합물로서 새롭게 1,3-PBO를 1.99g 가하고, B-4400을 9.24g, 트리페닐포스핀을 0.31g로 하는 것 이외에는, 참고예 2와 같이 하여 열경화성 수지 조성물을 조제하였다.
A thermosetting resin composition was prepared in the same manner as in Reference Example 2 except that 1.99 g of 1,3-PBO was newly added as a bisoxazolin compound, 9.24 g of B-4400 and 0.31 g of triphenylphosphine.

<<플렉시블 프린트 기판의 전자 회로 표면을 보호하는 오버코트제로서의 평가>><< evaluation as an overcoat agent which protects the electronic circuit surface of a flexible printed circuit board >>

<내용제성 평가><Evaluation of solvent resistance>

실시예 및 참고예에서 조제한 열경화성 수지 조성물을 50㎛ 두께 폴리이미드 필름(유피렉스 50S: 우베코산 가부시키가이샤 제조)에 200메쉬 판을 사용하여 스크린 인쇄하고, 120℃에서 1시간, 또한 150℃에서 2시간 동안 경화시켰다. 경화면을, 아세톤을 스며들게 한 면봉을 사용하여 400 내지 500g의 힘으로 문질러 이상이 없는 것을 ○, 인쇄면에 흠집이 나고 색 누락이 나타나는 것을 △, 인쇄면이 녹아서 기재가 노출되는 것을 ×로 하였다. 결과를 표 1에 기재한다.
The thermosetting resin composition prepared in the Examples and Reference Examples was screen printed using a 200 mesh plate on a 50 μm thick polyimide film (Yuprex 50S: manufactured by Ubekosan Co., Ltd.), at 120 ° C. for 1 hour, and also at 150 ° C. Curing for 2 hours. The hardened surface was rubbed with a force of 400 to 500 g using a cotton swab impregnated with acetone, and the surface was scratched and the color was missing, and the surface was melted and exposed to the substrate. . The results are shown in Table 1.

<절곡성 평가><Flexibility Evaluation>

실시예 및 참고예에서 조제한 열경화성 수지 조성물을 50㎛ 두께 폴리이미드 필름(유피렉스 50S: 우베코산 가부시키가이샤 제조)에 200메쉬 판을 사용하여 스크린 인쇄하고, 120℃에서 1시간, 또한 150℃에서 2시간 동안 경화시켰다. 폴리이미드 필름의 인쇄면을 외측으로 하여 180도로 접어 구부렸다. 경화막에 백화가 일어나지 않는 것을 ○, 경화막에 백화 또는 균열이 관찰된 것을 ×로 하였다. 결과를 표 1에 기재한다.
The thermosetting resin composition prepared in the Examples and Reference Examples was screen printed using a 200 mesh plate on a 50 μm thick polyimide film (Yuprex 50S: manufactured by Ubekosan Co., Ltd.), at 120 ° C. for 1 hour, and also at 150 ° C. Curing for 2 hours. The printed surface of the polyimide film was folded outward with 180 degrees. (Circle) and that which whitening or a crack were observed in the cured film were made into x that the whitening does not arise in a cured film. The results are shown in Table 1.

<휘어짐 평가><Warping evaluation>

실시예 및 참고예에서 조제한 열경화성 수지 조성물을 50㎛ 두께 폴리이미드 필름(유피렉스 50S: 우베코산 가부시키가이샤 제조)에 200메쉬, 10cm×10cm 크기의 판을 사용하여 스크린 인쇄하고, 120℃에서 1시간 동안 경화시킨 후, 5cm×5cm 크기로 4장 잘라 내었다. 이들을 또한 150℃에서 2시간 추가 경화한 것을 시험편으로 하였다. 경화에 의해 시험편은, 인쇄면이 오목해지는 형태로 휘어짐을 일으켰다. 4장의 시험편을 평활한 유리판 위에 인쇄면을 위로 해 두고, 각각의 시험편에서 가장 휘어짐이 큰 정점 1개소의 위치에서의 유리판으로부터의 떠오름의 크기를 측정하고, 4장의 평균치를 산출하였다. 결과를 표 1에 기재한다.
The thermosetting resin composition prepared in Examples and Reference Examples was screen printed on a 50 μm-thick polyimide film (Yuprex 50S manufactured by Ubekosan Co., Ltd.) using 200 mesh and a plate of 10 cm × 10 cm size, and then subjected to screen printing at 120 ° C. After curing for 4 hours, 4 pieces were cut out to a size of 5 cm x 5 cm. Furthermore, these were further hardened | cured at 150 degreeC for 2 hours as a test piece. The hardening caused the test piece to bend in the form in which the printing surface was concave. The four test pieces were placed on the smooth glass plate with the printing surface facing up, and the magnitude of the rise from the glass plate at the position of the one of the largest bends in each test piece was measured, and the average value of the four pieces was calculated. The results are shown in Table 1.

<전기 절연 신뢰성의 평가><Evaluation of Electrical Insulation Reliability>

실시예 및 참고예에서 조제한 열경화성 수지 조성물을, 30㎛ 피치의 빗형 전극 패턴이 형성된 폴리이미드 기재에 200메쉬 판을 사용하고, 두께 37.5㎛의 폴리이미드 필름 위에 L/S = 15/15㎛, 회로 두께 8㎛의 빗형 전극 패턴이 형성된 폴리이미드 기판에, 빗형 전극 패턴의 전면을 덮도록 스크린 인쇄하고, 120℃에서 1시간, 또한 150℃에서 2시간 동안 경화시켰다. 여기에 60V의 전압을 인가하면서, 120℃, 상대 습도 85%의 분위기에 방치하였다. 이온 마이그레이션이나 절연 저항치의 저하(106Ω 이하까지)가 관찰될 때까지의 보지 시간을 측정하고, 이것을 HAST(Highly Accelerated temperature and humidity Stress Test) 내구 시간이라고 하였다. 결과를 표 1에 기재한다. The thermosetting resin composition prepared in the Examples and Reference Examples was used on a polyimide substrate having a comb-shaped electrode pattern with a 30 μm pitch, using a 200 mesh plate, and L / S = 15/15 μm on a polyimide film having a thickness of 37.5 μm. The polyimide substrate with the comb-shaped electrode pattern having a thickness of 8 µm was screen printed so as to cover the entire surface of the comb-shaped electrode pattern, and cured at 120 ° C for 1 hour and at 150 ° C for 2 hours. It was left to stand in 120 degreeC and the atmosphere of 85% of a relative humidity, applying a voltage of 60V here. The holding time until ionic migration or lowering of the insulation resistance value (up to 10 6 Ω or less) was observed, and this was referred to as the HAST (Highly Accelerated temperature and humidity Stress Test) endurance time. The results are shown in Table 1.

Figure pct00001
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표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 실시 형태 중, (A) 에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지 및 (B) 에폭시 경화제를 함유하는 플렉시블 프린트 배선판의 오버코트용 수지 조성물은, 비교예 1 내지 3에 비해, 프린트 배선 기판의 휘어짐을 대폭 저감시켰다. (C) 옥사졸린 화합물을 추가로 함유하는 실시예 2 내지 5는, 휘어짐을 보다 한층 더 저감시키는 동시에 전기 절연 신뢰성도 우수한 것을 나타내었다. 이와 같이, 본 발명의 열경화성 수지 조성물은 내용제성, 절곡성이 우수하며 휘어짐성과 전기 절연 신뢰성의 양립이 달성되고 있다.As can be seen from Table 1, in the embodiment of the present invention, the resin composition for overcoat of the flexible printed wiring board containing (A) an epoxy group and a polyurethane resin having a urethane structure and (B) an epoxy curing agent is Comparative Example 1 Compared with the 3 to 3, the warpage of the printed wiring board was greatly reduced. (C) Examples 2-5 ”which further contain an oxazoline compound showed the further curvature at the same time, and were excellent also in electrical insulation reliability. Thus, the thermosetting resin composition of this invention is excellent in solvent resistance and bendability, and both the bending property and the electrical insulation reliability are achieved.

본 출원은, 일본에서 출원된 특원 2007-271600호를 기초로 하고 있고, 그 내용을 본 명세서에 모두 포함하는 것이다.This application is based on Japanese Patent Application No. 2007-271600 filed in Japan, and includes all its contents in this specification.

Claims (16)

(A) 에폭시기와 우레탄 구조를 갖는 폴리우레탄 수지 및 (B) 에폭시 경화제를 함유하는 플렉시블 프린트 배선판의 오버코트용 수지 조성물.The resin composition for overcoat of the flexible printed wiring board containing the polyurethane resin which has (A) epoxy group and urethane structure, and (B) epoxy hardening | curing agent. 제1항에 있어서, 폴리우레탄 수지가 폴리카보네이트 구조, 폴리디엔 구조, 폴리에스테르 구조 및 폴리에테르 구조로부터 선택되는 1종 이상의 구조를 추가로 갖는, 수지 조성물.The resin composition according to claim 1, wherein the polyurethane resin further has at least one structure selected from polycarbonate structures, polydiene structures, polyester structures, and polyether structures. 제1항에 있어서, 폴리우레탄 수지가 폴리카보네이트 구조 및/또는 폴리디엔 구조를 추가로 갖는, 수지 조성물.The resin composition of Claim 1 in which a polyurethane resin further has a polycarbonate structure and / or a polydiene structure. 제1항에 있어서, 폴리우레탄 수지가 폴리카보네이트 구조를 추가로 갖는, 수지 조성물.The resin composition of Claim 1 in which a polyurethane resin further has a polycarbonate structure. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 폴리우레탄 수지가, (a) 분자내에 2 이상의 하이드록실기를 갖는 폴리올 화합물, (b) 분자내에 1 이상의 하이드록실기와 1 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (c) 분자내에 2 이상의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜 수득되는 폴리우레탄 수지인, 수지 조성물.The polyurethane resin according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyurethane resin has (a) a polyol compound having two or more hydroxyl groups in the molecule, and (b) one or more hydroxyl groups and one or more epoxy groups in the molecule. A resin composition, which is a polyurethane resin obtained by reacting an epoxy compound and (c) a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in a molecule. 제5항에 있어서, 폴리올 화합물이, 폴리카보네이트 폴리올, 폴리디엔 폴리올, 폴리에스테르 폴리올 및 폴리에테르 폴리올로부터 선택되는 1종 이상의 폴리올 화합물인, 수지 조성물.The resin composition according to claim 5, wherein the polyol compound is at least one polyol compound selected from polycarbonate polyols, polydiene polyols, polyester polyols, and polyether polyols. 제5항에 있어서, 폴리올 화합물이 폴리카보네이트 폴리올 및/또는 폴리디엔 폴리올인, 수지 조성물.The resin composition of Claim 5 whose polyol compound is a polycarbonate polyol and / or a polydiene polyol. 제5항에 있어서, 폴리올 화합물이 폴리카보네이트 폴리올인, 수지 조성물.The resin composition of Claim 5 whose polyol compound is a polycarbonate polyol. 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 있어서, (B) 에폭시 경화제가 산 무수물 화합물인, 수지 조성물.The resin composition as described in any one of Claims 1-8 whose (B) epoxy hardening | curing agent is an acid anhydride compound. 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 있어서, (B) 에폭시 경화제가 4염기산 2무수물인, 수지 조성물.(B) The resin composition of any one of Claims 1-8 whose epoxy hardening | curing agent is tetrabasic dianhydride. 제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 있어서, (C) 옥사졸린 화합물을 추가로 함유하는, 수지 조성물.The resin composition according to any one of claims 1 to 10, further comprising (C) an oxazoline compound. 제11항에 있어서, (C) 옥사졸린 화합물이 비스옥사졸린 화합물인, 수지 조성물.The resin composition of Claim 11 whose (C) oxazoline compound is a bisoxazoline compound. 제1항 내지 제12항 중의 어느 한 항에 있어서, 수지 조성물이 페이스트상의 수지 조성물인, 수지 조성물.The resin composition according to any one of claims 1 to 12, wherein the resin composition is a pasty resin composition. 제1항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 있어서, 경화 촉진제를 추가로 함유하는, 수지 조성물.The resin composition according to any one of claims 1 to 13, further comprising a curing accelerator. 제1항 내지 제14항 중의 어느 한 항에 따르는 수지 조성물의 경화물로 표면이 보호된 플렉시블 프린트 배선판.The flexible printed wiring board whose surface was protected by the hardened | cured material of the resin composition of any one of Claims 1-14. 제15항에 따르는 플렉시블 프린트 배선판을 내장하는 전자 기기.
An electronic device containing the flexible printed wiring board according to claim 15.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130119365A (en) * 2012-04-23 2013-10-31 아지노모토 가부시키가이샤 Resin composition

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101317259B1 (en) * 2009-07-06 2013-10-14 쇼와 덴코 가부시키가이샤 Thermosetting composition for protective film for wiring board
JP5547456B2 (en) * 2009-11-10 2014-07-16 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー One-pack type epoxy resin composition and bonding method using the same
EP2997099B1 (en) * 2013-05-31 2020-10-14 ELANTAS PDG Inc. Formulated polyurethane resin compositions for flood coating electronic circuit assemblies
JP6911286B2 (en) * 2016-06-20 2021-07-28 Dic株式会社 Polycarbonate modified epoxy resin and adhesive
US20210095066A1 (en) * 2018-02-20 2021-04-01 Dic Corporation Curable composition and fiber reinforced composite material
CN114127152B (en) * 2019-08-06 2024-05-31 Dic株式会社 Curable composition, cured product, fiber-reinforced composite material, and molded article
US20220325133A1 (en) * 2019-08-30 2022-10-13 Transitions Optical, Ltd. Photochromic Composition with Polyol and Poly(anhydride)

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3079605B2 (en) * 1991-02-28 2000-08-21 ジェイエスアール株式会社 Composition for forming conductive elastomer
JPH06100806A (en) * 1992-09-21 1994-04-12 Kansai Paint Co Ltd Electrodeposition coating composition
CN1087758C (en) * 1997-05-11 2002-07-17 化学工业部海洋涂料研究所 Cavitation erosion preventing paint
JPH1161037A (en) * 1997-08-14 1999-03-05 Ajinomoto Co Inc Resin composition for flexible circuit overcoat
JPH1171551A (en) * 1997-08-29 1999-03-16 Ajinomoto Co Inc Resin composition for flexible circuit overcoating
JP3962940B2 (en) * 1998-10-15 2007-08-22 味の素株式会社 Resin composition for flexible circuit overcoat
US20020061970A1 (en) * 2000-09-14 2002-05-23 Hidenori Sawada Resin composition for coating material
JP2006137943A (en) 2004-10-15 2006-06-01 Ajinomoto Co Inc Resin composition
CN101151292B (en) * 2005-03-28 2010-09-29 宇部兴产株式会社 Polyimide resin and curable resin composition
KR20080038238A (en) * 2005-08-24 2008-05-02 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Polyester polyol and polyurethane resin
JP4864399B2 (en) * 2005-09-21 2012-02-01 昭和電工株式会社 Resin composition for overcoat

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130119365A (en) * 2012-04-23 2013-10-31 아지노모토 가부시키가이샤 Resin composition

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