KR20100072742A - 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 각 APL에 따른 역감마값을 산출하고 이에 근거한 서브필드 매핑 테이블을 적용함으로써 APL 단계마다 역감마 곡선이 왜곡되는 현상을 방지하고 특히, 저계조 영역에서의 화질을 개선할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법은 기준 APL과 특정 APL의 총 서스테인 펄스 개수의 비율을 산출하는 단계와, 상기 산출된 비율을 상기 특정 APL의 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수에 곱하여 조정된 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수값을 산출하는 단계와, 상기 특정 입력계조의 역감마값을 비교값으로 하여 상기 조정된 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수값에 대하여 서브필드 매핑을 진행하는 단계 및 상기 서브필드 매핑을 통해 산출된 서브필드 매핑값과 일치하는 서브필드 매핑값을 서브필드 매핑 테이블 상에서 추적하고, 일치하는 서브필드 매핑값의 실계조를 보정된 역감마값의 정수부로 확정하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
역감마, APL, 서스테인펄스
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 각 APL에 따른 역감마값을 산출하고 이에 근거한 서브필드 매핑 테이블을 적용함으로써 저계조 영역에서의 화질을 개선할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(PDP : Plasma Display Panel)은 가스 방전에 의해 발생되는 자외선이 형광체를 여기시킬 때 형광체로부터 발생하는 가시광선을 이용하여 화상을 표시하는 장치이다. 이러한 PDP는 통상, 상부기판과 하부기판이 봉합된 구조를 가지며 상부기판에는 도 1에 도시한 바와 같이 스캔 전극(Y1∼Yn) 및 서스테인 전극(Z)이 구비되고 하부기판에는 어드레스 전극(X1∼Xm)이 구비된다. 또한, 스캔 전극과 서스테인 전극이 교차되는 부위에는 방전셀(1)들이 구비된다.
이와 같은 PDP는 화상의 계조(gray scale)를 구현하기 위해 하나의 프레임을 발광횟수가 다른 여러 개의 서브필드(subfield)로 나누어 시분할 구동하는 방식을 택하고 있다. 각 서브필드는 방전을 균일하게 일으키기 위한 리셋 기간, 방전셀을 선택하기 위한 어드레스 기간 및 방전횟수에 따라 계조를 구현하는 서스테인 기간으로 나뉘어진다. 예를 들어, 256계조로 화상을 표시하고자 하는 경우에 1/60초에 해당하는 프레임 기간(16.67ms)은 8개의 서브필드로 나뉘어지게 된다. 아울러, 8개의 서브필드(SF1, SF2, .., SF8) 각각은 도 2에 도시한 바와 같이 리셋 기간, 어드레스 기간 및 서스테인 기간으로 다시 나뉘어진다. 여기서, 각 서브필드의 리셋 기간 및 어드레스 기간은 각 서브필드마다 동일한 반면, 서스테인 기간 및 그 방전횟수는 서스테인 펄스의 수에 비례하여 각 서브필드에서 2n(n=0,1,2,3,4,5,6,7)의 비율로 증가된다. 이와 같이, 각 서브필드에서 서스테인 기간이 달라지게 되므로 화상의 계조를 구현할 수 있게 된다.
한편, 소비전력을 줄이기 위해 일반적으로 도 3과 같은 평균화상레벨(Average Picture Level, 이하 'APL'이라 칭함) 곡선을 사용하고 있다. APL 곡선에 있어서, 서스테인 펄스의 개수는 APL이 감소할수록 증가한다. 즉, 전력이 최대(휘도 최고, APL 최저, 표시면적 최소)로 갈수록 서스테인 펄스의 개수는 증가한다. 이와는 반대로, APL이 증가할수록 즉, 전력이 최저(휘도 최저, APL 최대, 표시면적 최대)로 갈수록 서스테인 펄스의 개수는 감소한다. 이와 같은 방법으로, PDP의 상대적으로 많은 부분에 화상이 표시되는 경우 하나의 방전셀에 인가되는 서스테인 펄스의 개수를 감소시키고, 상대적으로 작은 부분에 화상이 표시되는 경우에 는 하나의 방전셀에 인가되는 서스테인 펄스의 개수를 증가시킴으로써 화면상에 표시되는 화상의 절대 휘도의 감소를 방지함과 함께 전력소모를 줄일 수 있게 된다.
또한, APL이 변함에 따라 전체 서스테인 펄스의 개수가 변하게 되며 이에, 각 서브필드별 서스테인 펄스의 개수 역시 변하게 된다. 이 때, 각 서스테인 펄스의 개수는 정수의 값만 가질 수 있음에 따라, APL이 감소하여 전체 서스테인 펄스의 개수가 증가하더라도 각 서브필드별 서스테인 펄스의 개수는 연속적으로 증가되는 것이 아니라 특정 APL 레벨이 될 때 증가한다. 이러한 APL의 방법을 이용하여 화상을 구현하는 PDP에서는 APL 단계에 대하여 동일한 감마(Gamma)값을 사용함으로써 APL 단계마다 감마 곡선이 왜곡되는 현상이 발생한다.
예를 들면, <표 1>을 참고하여 APL 103 단계와 APL 102 단계를 비교하면, 전체 서스테인 펄스의 개수는 10개의 차이가 있지만 제 1 서브필드(SF1)의 서스테인 펄스의 개수는 같고 제 2 서브필드(SF2)의 서스테인 펄스의 개수는 다르다. 이에 따라, APL 103 단계를 사용하는 화면과 APL 102 단계를 사용하는 화면에 있어서 0계조에서부터 SF1만으로 밝기를 표현하는 계조까지는 밝기가 동일하나 SF2를 사용하는 계조에서는 밝기에 차이가 나게 된다. 휘도 곡선을 보면 0계조에서 20계조까지는 APL 103 단계와 APL 102 단계의 휘도가 동일하나 21계조에서는 APL 102 단계의 휘도가 103 단계의 휘도보다 밝게 나타난다. 이러한 이유로, APL 변화에 따라서 부드럽게 증감하지 않고 특정 APL 단계를 지날 때 계조가 증감하는 것을 확인할 수 있다. 즉, 저계조 영역에서는 밝기가 변하지 않는 계조 구간이 발생하고, 특정 APL 단계에서 밝기가 밝아지는 현상이 생겨 시청시 피로감을 유발하게 된다. 만약, SF1 의 서스테인 펄스의 개수가 1에서 2로 변한다면 그 APL 단계에서는 SF!만으로 방전하는 계조는 밝기가 2배로 밝아지게 된다. 이에 따라, APL 단계마다 감마 테이블(gamma table)을 다르게 하여 적용할 수는 있지만, APL 단계마다 감마 테이블을 다르게 적용한다면 방대한 크기의 메모리를 요구하게 되는 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 각 APL에 따른 역감마값을 산출하고 이에 근거한 서브필드 매핑 테이블을 적용함으로써 모든 계조영역에서의 화질을 개선할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법은 기준 APL과 특정 APL의 총 서스테인 펄스 개수의 비율을 산출하는 단계와, 상기 산출된 비율을 상기 특정 APL의 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수에 곱하여 조정된 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수값을 산출하는 단계와, 서브필드 매핑 비교값을 비교값으로 하여 상기 조정된 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수값에 대하여 서브필드 매핑을 진행하는 단계 및 상기 서브필드 매핑을 통해 산출된 서브필드 매핑값과 일치하는 서브필드 매핑값을 서브필드 매핑 테이블 상에서 추적하고, 일치하는 서브필드 매핑값의 실계조를 보정된 역감마값의 정수부로 확정하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 서브필드 매핑을 진행하는 단계는, 상기 서브필드 매핑 비교값 중 최초의 서브필드 매핑 비교값은 입력계조의 역감마 값이 되고, 상기 서브필드 매핑 비교값과 상기 조정된 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수값을 최상위 서브필드(조정 된 서스테인 펄스 개수값이 가장 큰 서브필드)부터 하위 서브필드들로 순차적으로 비교하여, 특정 서브필드에서 해당 서브필드 매핑 비교값이 해당 서브필드의 상기 조정된 서스테인 펄스 개수값보다 작은 경우, 해당 서브필드의 매핑값은 0이 되며, 다음 서브필드에서도 동일한 매핑 비교값을 비교값으로 하고, 특정 서브필드에서 해당 서브필드 매핑 비교값이 해당 서브필드의 상기 조정된 서스테인 펄스 개수값보다 큰 경우, 해당 서브필드의 매핑값은 1이 되며, 해당 서브필드 매핑 비교값에서 해당 서브필드의 조정된 서스테인 펄스 개수값을 뺀 수치가 다음 서브필드에서 해당 서브필드의 상기 조정된 서스테인 펄스 개수값과 비교되는 서브필드 매핑 비교값이 될 수 있다.
또한, 최하위 서브필드(제 1 서브필드)에서 상기 서브필드 매핑 비교값이 조정된 서스테인 펄스 개수값보다 큰 경우, 상기 서브필드 매핑 비교값에서 상기 조정된 서스테인 펄스 개수값을 뺀 값이 상기 보정된 역감마값의 소수부를 구성할 수 있다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법은 다음과 같은 효과가 있다.
APL의 증감에 따른 총 서스테인 펄스 개수의 증감분이 각 서브필드에 고르게 배분되며, 이를 통해 모든 계조가 비교적 균일하게 밝아지거나 어두워지도록 할 수 있다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 상세히 설명하기로 한다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 구현하기 위한 구동회로의 블록 구성도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 설명하기 위한 순서도이다.
먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 구현하기 위한 구동회로를 설명하면 다음과 같다. 도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동회로는 신호수신부(101), 프레임 버퍼부(102), 역감마 계산부(103), APL 계산부(104), 역감마 보정부(105) 및 하프토닝(half-toning)부(106)를 포함하여 이루어진다.
상기 신호수신부(101)는 PDP의 비디오 보드(video board)를 통해 입력되는 디지털 영상 데이터 즉, R, G, B 데이터를 수신하는 역할을 하며, 상기 역감마 계산부(103)는 상기 신호수신부(101)를 통해 입력되는 R, G, B 데이터에 대한 역감마값을 아래의 <수학식 1>을 이용하여 계산하는 역할을 한다.
상기 프레임 버퍼부(102)는 상기 신호수신부(101)로부터 입력되는 디지털 영상 데이터를 임시로 저장하는 역할을 수행하는데, 이는 입력 영상의 APL값을 미리 알기 위한 것으로, 처음 입력되는 영상은 상기 프레임 버퍼부(102)로의 저장 과정을 거치면서 한 프레임이 지연(delay)되고, 이와 동시에 해당 입력 영상의 APL값이 후술하는 상기 APL계산부(104)에 의해 계산된다. 그 후 상기 프레임 버퍼부(102)에 입력된 영상 데이터를 다음 프레임에서 읽어 들여 미리 계산된 APL값에 따라 역감마값을 보정할 수 있게 된다. 또한, 상기 APL 계산부(104)는 아래의 <수학식 2> 및 <수학식 3>을 이용하여 APL을 계산하는 역할을 한다.
<수학식 1>
(여기서, Input은 각각의 R, G, B 데이터, SFM Level은 서브필드 매핑 레벨, 2.2는 gamma value)
<수학식 2>
(여기서, Gamma value는 2.2)
<수학식 3>
한편, 상기 역감마 보정부(105)는 특정 APL에 대한 역감마값을 보정하는 역할을 하는 것으로서, 구체적으로 특정 APL의 총 서스테인 펄스의 개수(Tsus)와 기준 APL의 총 서스테인 펄스의 개수(Ref.-Tsus) 사이의 비율(ratio)을 산출하고 해당 비 율을 상기 특정 APL의 각 서브필드별 서스테인 펄스의 개수에 곱한 다음, 산출된 각 서브필드별 서스테인 펄스의 개수를 상기 역감마 계산부(103)에 의해 계산된 역감마값과 비교하여 서브필드 매핑값을 계산하며, 이 때 산출된 서브필드 매핑값을 서브필드 매핑 테이블 상에서 추적하여 보정된 역감마값을 산출하는 역할을 한다. 상기 역감마 보정부(105)의 역할은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법에 상응하는 것으로서 이에 대한 상세한 설명은 후술하기로 한다.
마지막으로, 상기 하프토닝부(106)는 상기 역감마 보정부(105)에 의해 산출된 보정된 역감마값 중 소수 부분을 오차 확산 또는 디더링(dithering) 중 어느 하나의 방법으로 하프토닝하는 역할을 한다.
이상, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 구현하기 위한 구동회로를 살펴보았다. 이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 본격적으로 살펴보기로 한다.
전술한 바와 같이 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법은 특정 APL에 대한 역감마값을 보정하는 것을 핵심 특징으로 하며, 세부적으로 각각의 APL에 대한 역감마값을 보정하고 이를 바탕으로 해당 APL의 각 서브필드별 서스테인 펄스의 개수를 보정함으로써 실제 밝기에 근접한 화상을 구현하는 것을 특징으로 한다.
기준 APL과 특정 APL의 총 서스테인 펄스 개수의 비율 산출
이를 구현하기 위해, 먼저 도 5에 도시한 바와 같이 기준 APL을 설정하고(S501), 상기 기준 APL과 보정하고자 하는 특정 APL 사이의 총 서스테인 펄스 개수의 비율을 산출한다(S502). 상기 기준 APL은 복수의 APL 중 어느 하나가 될 수 있으며 일 예로, 최대 APL을 기준 APL로 설정할 수 있다. APL에 따른 총 서스테인 펄스 개수 및 각 서브필드별(SF1, SF2, SF3, SF4, SF5, SF6, SF7, SF8) 서스테인 펄스 개수는 아래의 <표 1>과 같이 나타낼 수 있으며, 아래의 <표 1>은 128단계(단계 0∼단계 127)의 APL을 갖는 APL 테이블이다. 아래의 <표 1>에서, 최대 APL은 단계 127이며, 이 때의 총 서스테인 펄스 개수(Ref.-Tsus)는 255개이다.
<표 1> APL 테이블
한편, 보정하고자 하는 특정 APL이 단계 115라면 이 때의 총 서스테인 펄스 개수(Tsus)는 311개이며, 상기 기준 APL과 특정 APL의 총 서스테인 펄스 개수의 비율(ratio)은 0.82(Ref.-Tsus/Tsus = 255/311)가 된다(아래의 수학식 4 참조).
<수학식 4>
Ratio = Ref.-Tsus/Tsus
(여기서, Ref.-Tsus는 기준 APL의 총 서스테인 펄스 개수, Tsus는 특정 APL의 총 서스테인 펄스 개수)
각 서브필드별 서스테인 개수값 조정
이와 같이, 기준 APL과 특정 APL 사이의 총 서스테인 펄스 개수의 비율이 산출된 상태에서, 상기 산출된 비율(Ref.-Tsus/Tsus)을 상기 특정 APL의 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수에 곱하여 특정 APL의 조정된 각 서브필드별 서스테인 개수를 산출한다(S503). 아래의 <표 2>는 특정 APL(단계 115)의 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수 및 이에 상기 비율을 곱한 값을 나타낸 것이다.
<표 2>
APL | SF1 | SF2 | SF3 | SF4 | SF5 | SF6 | SF7 | SF8 | Tsus |
단계 115 | 1 | 2 | 4 | 9 | 19 | 39 | 79 | 158 | 311 |
(단계 115) x 0.82 |
0.82 | 1.64 | 3.28 | 7.38 | 15.58 | 31.98 | 64.77 | 129.55 | 255 |
서브필드 매핑 및 역감마값 보정
그런 다음, 산출된 특정 APL의 조정된 각 서브필드별 서스테인 개수를 특정 입력계조에 상응하는 역감마값과 비교하여 각 서브필드에 대한 가중치 부여 작업 즉, 서브필드 매핑 작업을 진행한다(S504). 예를 들어, 입력계조가 40인 경우 그에 대한 역감마값은 4.332가 되며(표 3 참조), 이 때의 역감마값과 상기 산출된 특정 APL의 조정된 각 서브필드별 서스테인 개수가 비교되며 이를 통해 각 서브필드에 대한 가중치 부여 작업이 진행된다.
<표 3> 입력계조별 역감마값
입력계조 | 역감마값 |
0 | 0 |
1 | 0.001 |
2 | 0.006 |
3 | 0.015 |
4 | 0.027 |
5 | 0.045 |
6 | 0.067 |
7 | 0.094 |
· · · |
· · · |
40 | 4.332 |
41 | 4.574 |
· · · |
· · · |
250 | 244.129 |
251 | 246.283 |
252 | 248.447 |
253 | 250.621 |
254 | 252.805 |
255 | 255 |
구체적으로, 서브필드 매핑 작업은 서브필드 매핑 비교값이 상기 조정된 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수값보다 크면 매핑값이 1이고 작으면 0이 된다. 이 때, 최초의 서브필드 매핑 비교값은 입력계조의 역감마 값이 되고, 상기 서브필드 매핑 비교값과 상기 조정된 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수값을 최상위 서브필드(조정된 서스테인 펄스 개수값이 가장 큰 서브필드)부터 하위 서브필드들로 순차적으로 비교하여 특정 서브필드에서 해당 서브필드 매핑 비교값이 조정된 서스테인 펄스 개수값보다 작은 경우, 해당 서브필드의 매핑값은 0이며, 다음 서브필드에서도 동일한 서브필드 매핑 비교값 비교값으로 하고, 특정 서브필드에서 해당 서브필 드 매핑 비교값이 조정된 서스테인 펄스 개수값보다 큰 경우, 해당 서브필드의 매핑값은 1이며, 해당 서브필드 매핑 비교값에서 조정된 서스테인 펄스 개수값을 뺀 수치가 다음 서브필드에서 조정된 서스테인 펄스 개수값과 비교되는 서브필드 매핑 비교값이 된다.
아래의 <표 4>를 참고하면, 최상위 서브필드인 SF8부터 매핑작업을 진행하는데, SF8의 조정된 서스테인 펄스 개수값(129.55)이 최초의 서브필드 매핑 비교값인 입력계조의 역감마값(4.33)보다 크기 때문에 SF8의 매핑값은 0이 된다. 다음 서프필드인 SF7에서는 이전 서브필드인 SF8의 서브필드 매핑 비교값인 4.33이 다시 비교값이 되고, SF7의 조정된 서스테인 펄스 개수값(64.77)이 상기 비교값보다 크므로 매핑값이 0이 된다. 이러한 방법으로 매핑 작업을 순차적으로 진행하면, SF8에서 SF4까지 각 서브필드의 조정된 서스테인 펄스 개수값(129.55=SF8, 64.77=SF7, 31.98=SF6, 15.58=SF5, 7.38=SF4)이 서브필드 매핑 비교값인 입력계조의 역감마값(4.33)보다 크기 때문에 SF8∼SF4의 매핑값은 0이 된다. 이어, SF3에서 입력계조의 역감마값(4.33)인 서브필드 매핑 비교값인이 조정된 서스테인 펄스 개수값(3.28)보다 크므로 SF3의 매핑값은 1이 되며, 이 때 서브필드 매핑 비교값(4.33)에서 조정된 서스테인 펄스 개수값(3.28)을 뺀 수치(1.05=4.33-3.28)가 다음 서브필드 즉, SF2에서의 서브필드 매핑 비교값이 된다. SF2에서, 서브필드 매핑 비교값(1.05)이 조정된 서스테인 펄스 개수값(1.64)보다 작으므로 매핑값은 0이 되며, 비교값 1.05는 다음의 SF1에서의 서브필드 매핑 비교값으로 작용한다.
마지막으로, SF1에서, 서브필드 매핑 비교값인(1.05)이 조정된 서스테인 펄 스 개수값(0.82)보다 크므로 SF1의 매핑값은 1이 되며, 서브필드 매핑 비교값(1.05)에서 조정된 서스테인 펄스 개수값(0.82)을 뺀 수치(0.23=1.05-0.82)는 보정된 역감마값의 소수를 의미하게 되는데 이에 대한 설명은 후술하기로 한다.
<표 4> 서브필드 매핑 작업
SF1 | SF2 | SF3 | SF4 | SF5 | SF6 | SF7 | SF8 | |
조정된 서스테인 펄스 개수값 | 0.82 | 1.64 | 3.28 | 7.38 | 15.58 | 31.98 | 64.77 | 129.55 |
서브필드 매핑 비교값 | 1.05 | 1.05 | 4.33 | 4.33 | 4.33 | 4.33 | 4.33 | 4.33 |
서브필드 매핑값 | 1 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
한편, 상술한 각 서브필드별 매핑값 추출 작업 즉, 서브필드 매핑 작업을 통해 상기 특정 APL의 조정된 서스테인 펄스 개수값에 대한 서브필드 전체의 매핑값(1 0 1 0 0 0 0 0)이 상기 <표 4>에 나타낸 바와 같이 도출되었는데, 상기 도출된 서브필드 매핑값을 서브필드 매핑 테이블(아래의 <표 5> 참조)에서 추적하면(S505), 해당 도출된 서브필드 매핑값이 실계조 단계 5의 각 서브필드별 가중치(1 0 1 0 0 0 0 0)임을 알 수 있다(S506).
<표 5> 서브필드 매핑 테이블
SF1 | SF2 | SF3 | SF4 | SF5 | SF6 | SF7 | SF8 | |
실계조\가중치 | 1 | 2 | 4 | 8 | 16 | 32 | 64 | 128 |
0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
1 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
2 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
3 | 1 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
4 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
5 | 1 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
6 | 0 | 1 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
7 | 1 | 1 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
8 | 0 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 |
9 | 1 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 |
10 | 0 | 1 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 |
· · · |
· · · |
|||||||
40 | 0 | 0 | 0 | 1 | 0 | 1 | 0 | 0 |
41 | 1 | 0 | 0 | 1 | 0 | 1 | 0 | 0 |
· · · |
· · · |
|||||||
252 | 0 | 0 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 |
253 | 1 | 0 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 |
254 | 0 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 |
255 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 |
상기 도출된 서브필드 매핑값과 동일한 가중치를 갖는 실계조 단계 5는 특정 APL(단계 115)에서의 입력계조 40의 역감마값 즉, 보정된 역감마값의 정수부(5)가 되며, 상기 서브필드 매핑 작업을 통해 얻어진 소수부(0.23)는 보정된 역감마값의 소수부가 된다(S507). 즉, APL 단계 115에서 입력계조 40의 역감마값은 4.33에서 5.23으로 보정된다. 여기서, 상기 서브필드 매핑 작업을 통해 얻어진 소수부는 상기 하프토닝부(105)를 통해 오차 확산 또는 디더링(dithering) 중 어느 하나의 방법으로 하프토닝된다.
이상의 방법을 통해 산출된 보정된 역감마값은 실제 밝기에 근접함을 다음을 통해 확인할 수 있다. 구체적으로, APL 단계 115에서 입력계조 40의 역감마값(4.33)은 기준 APL과 특정 APL(단계 115)의 총 서스테인 펄스 비율인 1.22(311/255)배만큼 밝아져야 하는데(5.28=4.33 * 1.22), 상기의 방법을 통해 산출된 보정된 역감마값은 5.23임에 따라, 이론적 실제 밝기에 근접함을 확인할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법에 따르면, APL 증감에 따른 총 서스테인 펄스 개수의 증감분이 모든 계조에 걸쳐 고르게 분배됨에 따라 APL이 변하더라도 전계조에 걸쳐 일정 비율로 휘도가 변하게 되어 화질의 신뢰성을 향상시킬 수 있게 된다. 도 6과 도 7은 각각 종래 기술에 따른 휘도 곡선과 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 적용한 휘도 곡선을 나타낸 것인데, 종래 기술의 경우 APL이 단계 127, 103, 102로 변하게 될 때 특정 계조에서 휘도값이 급격하게 변화됨을 알 수 있는데, 본 발명의 경우 도 7에 도시한 바와 같이 APL이 변하더라도 모든 계조에 걸쳐 휘도값이 고르게 증감됨을 확인할 수 있다.
이와 함께, 종래기술의 경우 APL이 변하게 되면 실제 패널에 표시되는 휘도 감마 곡선이 조금씩 달라지는데도(도 8 참조), 본 발명의 경우 도 9에서 도시한 바와 같이 APL이 변하더라도 거의 동일한 휘도 감마 곡선을 나타낸다. 여기서, 상기 휘도 감마 곡선이라 함은, 특정 APL 단계에서 각 계조별 휘도 값을 그 APL 단계에서의 최대 계조의 휘도 값으로 나누고 255를 곱한 곡선, 즉 특정 APL 단계에서의 실제 밝기로 표현 되는 감마 곡선을 일컫는다.
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구성도.
도 2는 플라즈마 디스플레이 패널의 화상을 구현하는 원리를 나타낸 참고도.
도 3은 APL 곡선을 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 구현하기 위한 구동회로의 블록 구성도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 설명하기 위한 순서도.
도 6은 종래 기술에 따른 휘도 곡선을 나타낸 참고도.
도 7은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 적용한 휘도 곡선을 나타낸 참고도.
도 8은 종래 기술에 따른 휘도 감마 곡선을 나타낸 참고도.
도 9는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법을 적용한 휘도 감마 곡선을 나타낸 참고도.
Claims (6)
- 기준 APL과 특정 APL의 총 서스테인 펄스 개수의 비율을 산출하는 단계;상기 산출된 비율을 상기 특정 APL의 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수에 곱하여 조정된 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수값을 산출하는 단계;서브필드 매핑 비교값을 비교값으로 하여 상기 조정된 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수값에 대하여 서브필드 매핑을 진행하는 단계; 및상기 서브필드 매핑을 통해 산출된 서브필드 매핑값과 일치하는 서브필드 매핑값을 서브필드 매핑 테이블 상에서 추적하고, 일치하는 서브필드 매핑값의 실계조를 보정된 역감마값의 정수부로 확정하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 서브필드 매핑을 진행하는 단계는,상기 서브필드 매핑 비교값 중 최초의 서브필드 매핑 비교값은 입력계조의 역감마 값이 되고, 상기 서브필드 매핑 비교값과 상기 조정된 각 서브필드별 서스테인 펄스 개수값을 최상위 서브필드(조정된 서스테인 펄스 개수값이 가장 큰 서브필드)부터 하위 서브필드들로 순차적으로 비교하여, 특정 서브필드에서 해당 서브필드 매핑 비교값이 해당 서브필드의 상기 조정된 서스테인 펄스 개수값보다 작은 경우, 해당 서브필드의 매핑값은 0이 되며, 다음 서브필드에서도 동일한 매핑 비교 값을 비교값으로 하고, 특정 서브필드에서 해당 서브필드 매핑 비교값이 해당 서브필드의 상기 조정된 서스테인 펄스 개수값보다 큰 경우, 해당 서브필드의 매핑값은 1이 되며, 해당 서브필드 매핑 비교값에서 해당 서브필드의 조정된 서스테인 펄스 개수값을 뺀 수치가 다음 서브필드에서 해당 서브필드의 상기 조정된 서스테인 펄스 개수값과 비교되는 서브필드 매핑 비교값이 되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법.
- 제 2 항에 있어서, 최하위 서브필드(제 1 서브필드)에서 상기 서브필드 매핑 비교값이 조정된 서스테인 펄스 개수값보다 큰 경우, 상기 서브필드 매핑 비교값에서 상기 조정된 서스테인 펄스 개수값을 뺀 값이 상기 보정된 역감마값의 소수부를 구성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법.
- 제 3 항에 있어서, 상기 소수부를 하프토닝하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기준 APL은 복수의 APL 단계 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법.
- 제 5 항에 있어서, 상기 기준 APL은 복수의 APL 단계 중 최고 단계의 APL인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 역감마 보정방법.
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