KR20100067618A - Circuit pattern inspection device and circuit pattern inspection method thereof - Google Patents
Circuit pattern inspection device and circuit pattern inspection method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR20100067618A KR20100067618A KR1020090121474A KR20090121474A KR20100067618A KR 20100067618 A KR20100067618 A KR 20100067618A KR 1020090121474 A KR1020090121474 A KR 1020090121474A KR 20090121474 A KR20090121474 A KR 20090121474A KR 20100067618 A KR20100067618 A KR 20100067618A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- test signal
- signal
- conductive pattern
- inspection
- test
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 병렬로 형성된 회로 패턴에 발생한 단락 불량 위치를 검출하는 회로 패턴 검사 장치 및 그 회로 패턴 검사 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit pattern inspection apparatus for detecting a short circuit defective position occurring in a circuit pattern formed in parallel and a circuit pattern inspection method thereof.
일반적으로, 액정 표시 장치의 액정 기판에는, 예를 들어 다수의 매트릭스 형상으로 배치된 화소에 대해, 화상 신호나 제어 신호의 교환을 행하기 위한 동일한 미세한 선 폭으로 직선으로 평행하게 배열된 도전 패턴이 형성되어 있다. 제조 공정에 있어서는, 이들의 도전 패턴에 대해, 단락이나 단선의 불량 검사를 행하고 있다. 이 검사는 도전 패턴의 선 폭이 미세하고 개수가 많으므로, 통상, 직접적인 육안 검사가 아니라, 우선 도통 체크 등의 전기적 검사를 행하고 있다.In general, a liquid crystal substrate of a liquid crystal display device has conductive patterns arranged in parallel in a straight line with the same fine line width for exchanging image signals or control signals, for example, for pixels arranged in a plurality of matrix shapes. Formed. In the manufacturing process, the defect inspection of a short circuit and a disconnection is performed about these electrically conductive patterns. Since this inspection has a fine line width and a large number of conductive patterns, electrical inspection such as conduction check is first performed instead of direct visual inspection.
이 전기적 검사의 방법으로서는, 예를 들어, 특허 문헌 1에는 도전 패턴의 양단부에 금속으로 이루어지는 프로브를 접촉시켜, 일단부측의 프로브로부터 도전 패턴에 검사 신호를 인가하고, 타단부측의 프로브로부터 그 검사 신호를 검출함으로써, 도전 패턴의 도통 테스트 등을 행하는 접촉식 검사 방법(핀 콘택트 방식)이 제안되어 있다. 검사 신호의 인가는 프로브의 선단을 전체 도전 패턴의 단자에 접 촉시켜, 도전 패턴에 순차적으로 전류를 흘림으로써 행해진다. 이 전기적 검사에 있어서는, 검사 대상의 도전 패턴으로부터 검사 신호가 검출되지 않은 경우에는 단선 불량이 있다고 판단되고, 검사 대상의 도전 패턴과 인접하는 도전 패턴으로부터 검사 신호가 검출된 경우에는 단락 불량이 있다고 판단된다.As a method of this electrical inspection, Patent Document 1, for example, contacts probes made of metal to both ends of the conductive pattern, applies a test signal to the conductive pattern from the probe at one end side, and inspects the probe from the probe at the other end side. By detecting a signal, a contact inspection method (pin contact method) for conducting a conduction test of a conductive pattern or the like has been proposed. The application of the test signal is performed by contacting the tip of the probe to the terminals of the entire conductive pattern and sequentially passing a current through the conductive pattern. In this electrical inspection, it is determined that there is a disconnection failure when no inspection signal is detected from the conductive pattern of the inspection object, and that a short circuit failure is determined when the inspection signal is detected from a conductive pattern adjacent to the conductive pattern of the inspection object. do.
그 전기적 검사를 행한 후, 불량이 검출된 도전 패턴에 대해, 패턴 상을 따르도록 센서를 이동하여 전기적 검사를 행하거나, 광학 현미경 등을 사용하여 육안 검사를 행하여, 도전 패턴 상의 불량 위치를 특정하고 있다.After conducting the electrical inspection, the conductive pattern in which the defect is detected is subjected to electrical inspection by moving the sensor along the pattern image, or visually inspected by using an optical microscope to specify a defective position on the conductive pattern. have.
[특허 문헌 1] 일본 특허 출원 공개 소62-269075호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-open No. 62-269075
[특허 문헌 2] 일본 특허 출원 공개 제2005-24518호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-24518
전술한 전기적 검사에 있어서, 도전 패턴 상의 불량 위치를 특정하는 경우, 그들 도전 패턴에 프로브를 접촉 또는 비접촉으로 이동시켜, 검출 신호의 변화로부터 단락 또는 단선되어 있는 위치를 검출하고 있다. 또한, 육안에 의해 불량 위치를 특정하는 경우에는, 불량이 있다고 하여 검출된 도전 패턴 상방을 따라서, 카메라를 이동시키면서 촬상하여 모니터에 표시하고, 검사자가 판단하고 있다.In the above-described electrical inspection, when a defective position on the conductive pattern is specified, the probe is moved in contact or non-contact with these conductive patterns to detect a short circuit or disconnection from the change in the detection signal. In addition, in the case of specifying the defective position by visual observation, the image is taken while moving the camera and displayed on the monitor along the conductive pattern detected as defective, and the inspector judges.
종래부터 사용되고 있던 도전 패턴에 접촉시킨 프로브로 이동시키면서 검출 신호의 변화를 검출하는 방법은, 도전 패턴의 미세화가 진행되는 것에 수반하여 접촉한 프로브의 이동에 의한 패턴으로의 손상이 우려되므로, 비접촉으로 검출하는 방법이 바람직하다. 이 비접촉으로 검사 위치를 검사하는 기술로서는, 예를 들어 특허 문헌 2에 있어서, 1주파수의 1개의 교류 검사 신호, 또는 다른 주파수의 2개의 교류 검사 신호를 사용하여 패턴 상방을 이동시켜, 단락 및 단선의 검사를 행하는 검사 기술이 개시되어 있다. 이 검사 기술에 있어서는, 패턴을 따라서 센서를 이동하여, 패턴의 단락 개소의 상방에 센서가 위치했을 때에, 최대의 전압치가 검출된다(특허 문헌 2에 있어서의 도 10 참조). 한편, 패턴의 단선 개소의 상방에 이동하는 센서가 위치했을 때에, 검출 신호의 반전이 검출된다(특허 문헌 2에 있어서의 도 11 참조).The method of detecting a change in the detection signal while moving to a probe in contact with a conductive pattern that has been used in the prior art is concerned that damage to the pattern due to movement of the probe which is in contact with the miniaturization of the conductive pattern is likely to occur. The method of detection is preferred. As a technique for inspecting the inspection position in a non-contact manner, for example,
이와 같은 구성에 있어서는, 2개의 다른 주파수의 검사 신호를 사용하는 경우, 각각에 발진 회로를 설치할 필요가 있어, 검출에 있어서도 검출 신호를 분리하 기 위해 2개의 필터를 사용해야만 한다.In such a configuration, when using two different frequency test signals, an oscillation circuit must be provided for each, and two filters must be used to separate the detection signals even in the detection.
따라서 본 발명은, 간이한 구성으로, 단락되어 있는 2개의 도전 패턴에 파형이 상반되는 1개의 주파수의 검사 신호를 인가하여, 도전 패턴 상의 단락 위치를 검출하는 회로 패턴 검사 장치 및 그 회로 패턴 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, this invention is a circuit pattern test | inspection apparatus and its circuit pattern test | inspection method which detect the short-circuit position on a conductive pattern by applying the test signal of one frequency whose waveform is opposite to two electrically conductive patterns shorted by the simple structure. The purpose is to provide.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 기판 상에 열 형상으로 형성된 복수의 도전 패턴 중, 인접하는 2개의 도전 패턴에 대해, 동일한 주파수이고 동일한 파형의 교류 신호이고, 위상이 서로 180도 어긋나 있는 제1 검사 신호와 제2 검사 신호를 각각에 인가하는 검사 신호 인가부와, 상기 도전 패턴의 각각에 이격하여 비접촉으로 용량 결합하여, 상기 제1 검사 신호 및 상기 제2 검사 신호를 검출하는 센서부와, 상기 센서부를 상기 도전 패턴과 일정 거리를 이격한 상태로 상기 도전 패턴의 연장 설치 방향을 따라서 이동시키는 센서 이동부와, 상기 센서부가 이동하면서 검출한 상기 제1 검사 신호 및 상기 제2 검사 신호의 반전 신호를 가산하여 검출 신호로서 출력하는 검출부와, 상기 검출부에 의해 검출된 검출 신호의 감소에 의해 미리 정한 임계치 이하로 된 상기 도전 패턴의 위치를, 인접하는 2개의 도전 패턴의 단락 불량 위치라고 판단하는 판단부를 구비하는 회로 패턴 검사 장치를 제공한다.SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention relates to a plurality of conductive patterns formed in a columnar shape on a substrate, wherein two adjacent conductive patterns are alternating current signals having the same frequency and the same waveform, and having 180 degrees out of phase with each other. A test signal applying unit for applying a first test signal and a second test signal to each sensor, and a sensor unit for capacitively coupling non-contact by spaced apart from each of the conductive patterns to detect the first test signal and the second test signal; A sensor moving part for moving the sensor part along the extending installation direction of the conductive pattern while being spaced apart from the conductive pattern by a predetermined distance, and the first test signal and the second test signal detected while the sensor part moves. A detection unit that adds an inverted signal and outputs it as a detection signal; and a threshold value less than or equal to a predetermined value by a decrease in the detection signal detected by the detection unit The circuit pattern inspection apparatus provided with the determination part which determines the position of the said conductive pattern which is made into the short circuit defective position of two adjacent conductive patterns is provided.
또한, 기판 상에 열 형상으로 형성된 복수의 도전 패턴 중, 인접하는 2개의 도전 패턴에 대해, 동일한 주파수이고 동일한 파형의 교류 신호이고, 위상이 서로 180도 어긋나 있는 제1 검사 신호와 제2 검사 신호를 각각에 인가하여, 상기 2개의 도전 패턴을 전반한 제1, 제2 검사 신호를 검출하고, 검출된 어느 한쪽의 검사 신호로 이루어지는 검출 신호, 또는 한쪽의 검사 신호의 위상을 반전하고, 다른 쪽의 검사 신호와 가산한 검사 신호의 값이 미리 결정된 임계치 이하로 된 검사 위치를 상기 2개의 도전 패턴에 있어서의 단락 불량 위치라고 판단하는 회로 패턴 검사 방법을 제공한다.Moreover, the 1st test signal and the 2nd test signal which are the AC signal of the same frequency and the same waveform, and the phase shift | deviated 180 degree with respect to two adjacent conductive patterns among the some conductive pattern formed in the column shape on the board | substrate. Are applied to each of the two conductive patterns to detect the first and second inspection signals propagated through the two conductive patterns, and the phase of one of the detected detection signals or one of the inspection signals is inverted, and the other Provided is a circuit pattern inspection method for determining an inspection position at which an inspection signal and an inspection signal added together is equal to or less than a predetermined threshold value as a short-circuit failure position in the two conductive patterns.
본 발명에 따르면, 간이한 구성으로, 단락되어 있는 2개의 도전 패턴에 파형이 상반되는 1개의 주파수의 검사 신호를 인가하여, 도전 패턴 상의 단락 위치를 검출하는 회로 패턴 검사 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a circuit pattern inspection apparatus which detects a short circuit position on a conductive pattern by applying a test signal of one frequency having opposite waveforms to two conductive patterns shorted in a simple configuration.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 대해 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail with reference to drawings.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 회로 패턴 검사 장치의 개념적인 구성을 도시하는 블록 구성예를 도시하는 도면이다. 본 실시 형태는 프로브가 도전 패턴에 접촉하여 검사 신호를 인가하고, 센서가 비접촉으로 검사 신호를 검출하는 구성이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the example of block structure which shows the conceptual structure of the circuit pattern inspection apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. In this embodiment, the probe contacts the conductive pattern to apply a test signal, and the sensor detects the test signal in a non-contact manner.
이 회로 패턴 검사 장치(1)는 기판 상에 열 형상으로 형성된 복수의 도전 패턴(2)에 교류의 검사 신호를 인가하는 검사 신호 인가부(3)와, 도전 패턴(2)으로부터 용량 결합에 의해 비접촉으로 검사 신호를 검출하는 센서부(4)와, 센서부(4)가 검출한 검사 신호에 신호 처리를 실시하여 검출 신호로서 출력하는 검출부(5)와, 센서부(4)를 3차원(기판면이 되는 XY면과, 높이 조정의 Z축 방향)으로 이동 가능한 센서 이동부(6)와, 전체 구성부의 제어와 검출 신호의 처리를 행하는 제어부(7)와, 검출 결과나 사용자 지시 등을 표시하는 표시부(8)와, 사용자의 지시 등을 입력하는 키보드나 터치 패널 등으로 이루어지는 입력부(9)로 구성된다.This circuit pattern inspection apparatus 1 is provided by capacitive coupling from an inspection
본 실시 형태에서 검사 대상이 되는 도전 패턴은 기판(예를 들어, 실리콘 기판이나 글래스 기판 등) 상에 선형, 예를 들어 직선을 이루고 또한 동일한 선 폭으로 등간격으로 병렬 배열된다. 또한, 후술하는 센서부가 도전 패턴을 따라서 트레이스 이동할 수 있는 이동 기구를 구비하고 있으면, 도 1에 도시한 바와 같은 직선의 도전 패턴으로 한정하지 않아도 좋다.In the present embodiment, the conductive patterns to be inspected are arranged linearly, for example, straight lines on the substrate (e.g., silicon substrate, glass substrate, etc.) and arranged in parallel at equal intervals with the same line width. In addition, if the sensor part mentioned later is equipped with the movement mechanism which can trace-trace along a conductive pattern, it does not need to be limited to the linear conductive pattern as shown in FIG.
검사 신호 인가부(3)는 미리 정한 주파수와 진폭을 갖는 교류의 검사 신호(제1 검사 신호 S1)를 생성하는 검사 신호 생성부(18)와, 검사 신호 S1의 위상을 180도 어긋난, 즉 위상을 반전한 제2 검사 신호 S2를 생성하는 위상 시프트부(19)와, 검사 신호를 인가하기 위한 금속으로 이루어지는 2개의 프로브(23, 24)로 구성된다. 이들 프로브(23, 24)는 검사 대상의 도전 패턴(2)과 그것에 인접하는 도전 패턴(2)에 인가할 수 있도록 나란히 배치되어 있다.The test
검사 신호 인가부(3)는 생성한 제1 검사 신호 S1을 후술하는 프로브(23)로부터 검사 대상이 되는, 예를 들어 도전 패턴(2a)으로 인가하고, 동시에, 위상 시프트부(19)에 의해 위상을 어긋나게 한 제2 검사 신호 S2를 후술하는 프로브(24)로부터 검사 대상이 되는 도전 패턴(2a)에 인접하는 도전 패턴(2b)으로 인가한다. 이들 제1 검사 신호 S1과 제2 검사 신호 S2는 동일한 주파수(진폭)이고 동일한 파형 의 신호이고, 제2 검사 신호 S2는 제1 검사 신호 S1에 대해, 위상이 180도(위상이 반전되어 있음) 어긋난 검사 신호이다.The inspection
센서부(4)는 도전 패턴(2)의 선 폭과 대략 동일한 폭을 갖는 평판 직사각 형상의 센서 전극(21, 22)이 지지 베이스에 도전 패턴의 간격과 동일한 거리를 두고 설치되어 있다. 이들 센서 전극(21, 22)은, 검사 시에는 모두 도전 패턴과 미리 정한 거리를 이격하여 근접 대향하도록 배치된다. 센서 전극(21, 22)은 검사 대상의 도전 패턴으로부터 검사 신호를 검출할 수 있고, 또한 인접하는 도전 패턴으로부터 검사 신호를 검출하지 않으면, 형상, 크기 등은 특별히 한정할 필요는 없다.The sensor part 4 is provided with the plate-shaped rectangular-
센서 이동부(6)는 센서부(4)를 도전 패턴(2)을 따라서 이동시키는 이동 기구이다. 그 구성은 도시하고 있지 않지만, 예를 들어 도전 패턴(2)의 연신 방향(Y방향)을 따른 가이드 부재와, 센서부(4)를 지지하여 가이드 부재에 미끄럼 이동 가능하게 설치된 가동부와, 가동부를 벨트나 와이어로 견인하여 미끄럼 이동시키는 모터 등의 구동원에 의해 구성된다. 구동원으로서는, 가이드 부재에 직접 리니어 모터를 설치하여, 가동부와 구동원을 일체화시킨 구성이라도 좋다. 또한, 센서 이동부(6)는 도시하고 있지 않지만 도전 패턴(2)의 열을 가로지르는 방향(X방향)으로 연신하는 가이드 부재 및 가동부도 구비하고 있고, 센서부(4)를 Y방향으로 이동시켜, 단선 및 단락의 불량을 검출하는 것도 가능하다. 즉, X방향 및 Y방향으로 직교하는 2개의 가이드 부재가 설치되어, 센서부(4)는 기판 전체면 상을 2차원으로 이동할 수 있다. 또한, 센서부(4)에는 거리 측정용 센서가 탑재되어, 검출한 거리 데이터에 따라서, 센서 이동부(6)는 이동하는 센서부(4)의 높이[도전 패턴(2)과 센 서 전극(21, 22)의 거리]가 일정해지도록 높이 조정을 행한다.The
또한, 센서 이동부(6)는 검출 개소를 촬상하는 촬상 소자 및 촬상 광학계로 이루어지는 촬상 기구를 탑재하여 사용자가 목시할 수 있도록 해도 좋다.In addition, the
검출부(5)는 센서 전극(21, 22)에 의해 각각에 검출된 역위상의 검사 신호를 가산하여 증폭하는 증폭 회로(11)와, 증폭된 검사 신호로부터 노이즈 성분을 포함하는 불필요한 신호 성분을 제거하는 밴드패스 필터(12)와, 필터 통과한 검사 신호를 정류화하여 평활한 전류 전압 성분으로 이루어지는 검출 신호(아날로그 신호)를 출력하는 정류 회로(13)로 구성된다. 또한, 센서 전극(21, 22)에 의해 검출된 검사 신호의 값이 작고, 그들의 가산치가 더욱 작은 값으로 되는 경우에는, 검출된 각 검사 신호를 그대로 증폭하여, 필터 처리를 행한 후에 가산하여, 가산치의 정류를 행해도 좋다. 또한, 검사 환경이나 검사 대상물에 의해 리플 성분이 많은 검사 신호였던 경우에는, 정류 회로의 출력측에 별도로 평활 회로를 삽입해도 좋다.The
검출부(5)에 의한 검출 신호는 제어부(7)로 송출된다. 제어부(7)는 검출 신호를 디지털 신호화 처리하는 A/D 변환부(14)와, CPU에 의한 연산 처리 기능 및 제어 기능을 갖는 처리부(15)와, 연산 처리된 검출 신호에 대해, 미리 결정된 조건으로 판단하여 불량 위치(단락 위치)를 결정하는 판단부(16)로 구성된다.The detection signal by the
또한, 본 실시 형태에서는 이미 단락 불량이 발견된 도전 패턴에 대한 단락 개소의 위치를 검출하는 것에 대해 설명하고 있지만, 회로 패턴 검사 장치(1)는 최초의 도전 패턴의 불량(단락 및 단선)의 유무 검출을 행하는 기능은 갖고 있다. 이는, 센서부를 사용하여 도전 패턴의 열을 가로지르도록 이동하면서, 프로브로부 터 대상이 되는 도전 패턴에 검사 신호를 인가하여, 그 검사 신호를 검출하고, 그 검출 신호의 유무 및 검출 신호값의 변화의 정도에 따라서, 도전 패턴의 불량의 유무를 판단한다.In addition, although this embodiment demonstrated the detection of the position of the short circuit location with respect to the conductive pattern in which the short circuit defect was already discovered, the circuit pattern inspection apparatus 1 has the presence or absence of the defect (short circuit and disconnection) of the first conductive pattern. It has a function of detecting. This applies a test signal to the target conductive pattern from the probe while moving across the column of the conductive pattern using the sensor unit, detects the test signal, and checks whether or not the detection signal is present and the detected signal value. In accordance with the degree of change, it is determined whether the conductive pattern is defective.
다음에, 도 2의 (a) 내지 (c)를 참조하여, 본 실시 형태에 있어서의 도전 패턴의 불량 위치(단락 위치)를 결정하는 원리에 대해 설명한다. 도 2의 (a)는 도전 패턴(2)과 센서부(4)의 위치 관계를 모식적으로 도시하는 도면이고, 도 2의 (b)는 도 2의 (a)를 등가 회로로서 도시하는 도면이고, 도 2의 (c)는 도전 패턴 상의 센서 위치와 센서 출력 전압의 이론상의 관계를 나타내는 도면이다. 도 2의 (d)는 도전 패턴 상의 센서 위치와 센서 출력 전압의 실측에 의한 관계를 나타내는 도면이다.Next, with reference to FIG.2 (a)-(c), the principle to determine the defective position (short position) of the conductive pattern in this embodiment is demonstrated. FIG. 2A is a diagram schematically showing the positional relationship between the
여기서, 검사 대상의 도전 패턴(2a)으로 하고, 위치 P2에서 단락되어 있는 인접하고 있는 도전 패턴(2b)으로 한다. 도전 패턴(2a)에는 교류 검사 신호 S1이 프로브(23)로부터 인가되고, 도전 패턴(2b)에는 교류 검사 신호 S2가 프로브(24)로부터 인가된다. 교류 검사 신호 S1과 교류 검사 신호 S2는, 전술한 바와 같이 동일한 주파수이고 동일한 파형의 신호이고, 위상이 180도(진폭이 반전되어 있음) 어긋나 있다.Here, the
도전 패턴(2a)의 저항 성분 R1과 도전 패턴(2b)의 저항 성분 R2는 대략 동일한 저항치라고 하면, 각각의 도전 패턴에 흐르는 전류 I1과 전류 I2는 정부가 반전된 동일한 전류치(절대치)의 전류이므로, 센서 출력은 위치 P1로부터 위치 P2를 향함에 따라서 감소하고, 위치 P2에 있어서, I1 + I2 =0으로 된다. 실제의 검출에 있어서는, 어느 한쪽, 예를 들어 I2의 센서 출력의 위상을 반전시켜, 2개의 센서 신호를 동일 위상으로 한 후, 가산한 값을 검출 결과로서 얻는다.When the resistance component R1 of the
이는, 위치 P1에 있어서는, 도전 패턴(2a, 2b)은 모두 위치 P2를 경유한 역방향의 전류가 유입되지만 인가된 검사 신호 S1, S2에 의한 전류치의 쪽이 크기 때문에, 센서 전극(21, 22)에 출력으로서 각각에 검출된다. 그러나, 위치 P2를 향해 센서부(4)가 이동함에 따라서, 검출되는 센서 출력은 함께 감소하여, 위치 P2에 있어서, 검출되는 센서 출력은, 이론적으로는 이하의 식으로 구해지는 바와 같이, 흐르는 전류는 I = 0(A), 즉 출력 전압 0(V)으로 된다.This is because, at the position P1, the currents in the reverse direction via the position P2 flow in both of the
[수학식 1][Equation 1]
단락 개소 이후의 위치 P3을 향해 이동해도, 서로의 검사 신호의 전류가 서로 상쇄되고 있으므로, 센서 전극(21, 22)으로부터 대부분 검사 신호가 검출되지 않게 된다. 단, 실제의 측정 결과에 따르면, 외부로부터의 노이즈 등의 영향에 의해, 0으로는 되지 않고, 어느 극소한 값으로 일정해지는 경우가 있다.Even if it moves toward the position P3 after a short-circuit point, since the electric current of mutual test signals cancels each other, most test signals are not detected from the
판단부(16)는 연산 처리된 검출 신호에 대해, 미리 결정된 조건으로 판단하 여, 불량 위치(단락 위치)를 결정한다. 그 조건으로서, 예를 들어 검출치가 임의로 정한 설정치와 비교하여, 검출치가 미리 정한 임계치 이하로 된 위치를, 단락 개소라고 판단한다. 이 판단 결과를 표시부(8)에 표시한다. 도 2의 (c)에 있어서는, 대략 0V를 단락 위치라고 판단하고 있다. 실제로는, 도 2의 (d)에 도시한 바와 같이, 센서 출력의 급준하게 감소하여, 미리 설정한 임계치 이하로 된 위치를 단락 위치라고 판단하고 있다.The
이상과 같이, 본 실시 형태는 검사 대상이 되는 도전 패턴과, 그 도전 패턴에 땜납 브리지 등에서 단락하고 있는 도전 패턴에 대해, 동일한 주파수이고 동일한 파형을 갖고, 위상이 180도 어긋난(반전한) 2개의 검사 신호를 각각에 인가하고, 도전 패턴 상방을 비접촉으로 센서부를 이동시켜 검사 신호를 각각에 검출한다. 검출된 검사 신호는 단락된 개소에 접근함에 따라서, 서로 상쇄되어, 그 검출치는 급준하게 감소하여, 상황에 따라서는 대략 0으로 된다. 이 검출치의 변화가 발생한 개소를 단락 위치라고 판단할 수 있다. 또한, 검사 신호의 파형은 정현파뿐만 아니라, 구형파(펄스파)라도 좋고, 위상의 정부가 반전되어, 가산하면 대략 0으로 되는 파형이면, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 주파수에 있어서도, 상용 주파수 등의 취급하기 쉬운 것이 적합하고, 또한 그 주파수에 적용되는 저비용의 부품이 있으면 보다 바람직하다.As described above, the present embodiment has two conductive patterns that are the inspection target and two conductive patterns that have the same frequency and the same waveform and are 180 degrees out of phase (inverted) with respect to the conductive pattern that is short-circuited by the solder bridge or the like. An inspection signal is applied to each, and the inspection portion is detected by moving the sensor portion above the conductive pattern in a non-contact manner. The detected test signals cancel each other as they approach the shorted point, and the detected values decrease sharply, and become approximately 0 depending on the situation. The location where the change of the detected value has occurred can be determined as the short circuit position. The waveform of the test signal may be not only a sine wave but also a square wave (pulse wave), and the waveform is not particularly limited as long as the phase of the phase is inverted and added to approximately zero. Moreover, also in frequency, what is easy to handle, such as a commercial frequency, is suitable, and it is more preferable if there exists a low cost component applicable to the frequency.
도 3은 제2 실시 형태에 관한 회로 패턴 검사 장치의 개념적인 구성을 도시하는 블록 구성예를 도시하는 도면이다.3 is a diagram illustrating a block configuration example showing a conceptual configuration of a circuit pattern inspection device according to a second embodiment.
본 실시 형태는, 전술한 제1 실시 형태에 있어서의 도전 패턴으로부터 검사 신호를 비접촉으로 검출하는 것에 추가하여, 인가측의 프로브가, 도전 패턴과는 비접촉으로 검사 신호를 인가하는 구성이다. 이것 이외의 구성은 전술한 제1 실시 형태와 동등하고, 도 1에 도시한 구성 부재의 참조 부호와 동일한 참조 번호를 부여하여, 그 상세한 설명은 생략한다. 또한, 본 실시 형태에 있어서도, 도전 패턴의 불량 검사를 행한 후, 단락 불량이 발견된 도전 패턴에 대한 단락 개소의 위치를 검출하는 것에 대해 설명하지만, 최초의 불량 검출(단락 및 단선)을 행하는 기능은 갖고 있는 것으로 한다.In this embodiment, in addition to detecting a test signal from a conductive pattern in the above-described first embodiment in a non-contact manner, the probe on the application side applies a test signal in a non-contact manner with the conductive pattern. The configuration other than this is the same as that of 1st Embodiment mentioned above, attaches | subjects the same code | symbol as the code | symbol of the structural member shown in FIG. 1, and the detailed description is abbreviate | omitted. Moreover, also in this embodiment, after performing the defect inspection of a conductive pattern, detecting the position of the short circuit location with respect to the conductive pattern in which the short circuit defect was found is demonstrated, but the function which performs the first defect detection (short circuit and disconnection) is performed. Shall have.
본 실시 형태의 회로 패턴 검사 장치(1)는 기판 상에 형성된 복수의 도전 패턴(2)에 비접촉으로, 교류의 검사 신호를 용량 결합에 의해 인가하는 검사 신호 인가부(31)와, 센서부(4)와, 검출부(5)와, 센서 이동부(34)와, 제어부(7)와, 표시부(8)와, 입력부(9)로 구성된다.The circuit pattern inspection device 1 of the present embodiment includes a test
본 실시 형태에 있어서는, 검사 신호 인가부(31)와 센서 이동부(34)가 전술한 제1 실시 형태와 상이하다.In the present embodiment, the test
검사 신호 인가부(31)는 교류의 검사 신호(제1 검사 신호 S1)를 생성하는 검사 신호 생성부(18)와, 검사 신호 S1의 위상이 반전된 제2 검사 신호 S2를 생성하는 위상 시프트부(19)와, 이들 검사 신호를 검사 대상의 도전 패턴(2)에 비접촉으로 인가하는 인가 전극부(31)로 구성된다.The test
인가 전극부(31)에는 도전 패턴의 단부 또는 그 단부에 설치된 전극 패드의 폭과 동등 또는 그 이하의 폭을 갖는 인가 전극(32, 33)이 도전 패턴(2)의 배치 간격과 동일한 간격을 두고 배치된다. 인가 전극(32, 33)은 크기 이외는 센서 전 극(21, 22)과 동등한 구성이다.In the
센서 이동부(34)는 전술한 센서 이동부(3)와 마찬가지로, 가이드 부재와 가동부와 구동원을 사용하여 3차원적으로 이동 가능하게 구성되어, 인가 전극부(31)와 센서부(4)를 동기시켜, 도전 패턴을 가로지르는 방향(X방향)에서 균일한 높이를 유지하면서 이동시키는 것과, 도전 패턴(2) 상방에서 인가 전극부(31)를 고정하고, 또한 센서부(4)를 동일한 도전 패턴(2)에 따른 상방을 균일한 높이를 유지하면서 이동시킬 수 있도록 구성되어 있다.Like the
이상과 같이 구성된 회로 패턴 검사 장치는 전술한 제1 실시 형태와 동등한 효과를 발휘하고, 또한 인가 전극부(31)를 사용하여 도전 패턴(2)에 비접촉으로 검사 신호를 인가하기 때문에, 도전 패턴으로의 프로브 접촉에 의한 손상을 경감시킬 수 있다. 또한, 이동 기구에 의해 인가 전극부(31)와 센서부(4)를 모두 비접촉으로 이동시키기 때문에, 검사 신호를 인가하기 위한 인가 전극을 최소 2개의 전극으로 실현할 수 있다. 따라서, 도전 패턴의 수와 동등 수를 필요로 하는 프로브에 대해 간이한 구성으로 되고, 예를 들어 대형의 액정 표시 화면용 액정 기판이 검사 대상이면, 장치 비용도 낮게 할 수 있다. 또한, 도전 패턴의 배열 상태(배치 간격)가 다른 경우라도 처리부의 프로그램을 변경하는 것만으로 용이하게 대응할 수 있다.The circuit pattern inspection apparatus configured as described above has the same effect as that of the first embodiment described above, and also applies the inspection signal to the
도 1은 제1 실시 형태에 관한 회로 패턴 검사 장치의 개념적인 구성을 도시하는 블록 구성예를 도시하는 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the example of block structure which shows the conceptual structure of the circuit pattern inspection apparatus which concerns on 1st Embodiment.
도 2의 (a) 내지 (d)는 도전 패턴의 불량 위치를 결정하는 원리에 대해 설명하기 위한 도면.2A to 2D are diagrams for explaining the principle of determining a defective position of a conductive pattern.
도 3은 제2 실시 형태에 관한 회로 패턴 검사 장치의 개념적인 구성을 도시하는 블록 구성예를 도시하는 도면.FIG. 3 is a diagram showing a block configuration example showing a conceptual configuration of a circuit pattern inspection device according to a second embodiment. FIG.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
1 : 회로 패턴 검사 장치1: circuit pattern inspection device
2, 2a, 2b : 도전 패턴2, 2a, 2b: conductive pattern
3, 31 : 검사 신호 인가부3, 31: inspection signal applying unit
4 : 센서부4 sensor unit
5 : 검출부5: detection unit
6, 34 : 센서 이동부6, 34: sensor moving part
7 : 제어부7: control unit
8 : 표시부8: display unit
9 : 입력부9: input unit
11 : 증폭 회로11: amplification circuit
12 : 밴드패스 필터12: bandpass filter
13 : 정류 회로13: rectifier circuit
14 : A/D 변환부14: A / D converter
15 : 처리부15 processing unit
16 : 판단부16: judgment unit
18 : 검사 신호 생성부18: test signal generator
19 : 위상 시프트부19: phase shift unit
21, 22 : 센서 전극21, 22: sensor electrode
23, 24 : 프로브23, 24: probe
31 : 인가 전극부31: applied electrode portion
32, 33 : 인가 전극32, 33: applied electrode
Claims (4)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2008-316073 | 2008-12-11 | ||
JP2008316073A JP5387818B2 (en) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | Circuit pattern inspection device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100067618A true KR20100067618A (en) | 2010-06-21 |
KR101633514B1 KR101633514B1 (en) | 2016-06-24 |
Family
ID=42349634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090121474A KR101633514B1 (en) | 2008-12-11 | 2009-12-09 | Circuit pattern inspection device and circuit pattern inspection method thereof |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5387818B2 (en) |
KR (1) | KR101633514B1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101407031B1 (en) * | 2013-05-16 | 2014-06-12 | 삼성전기주식회사 | Apparatus and method for inspecting substrate |
CN104714147A (en) * | 2015-03-20 | 2015-06-17 | 广东小天才科技有限公司 | Conductive film detection method and system |
US11143711B2 (en) | 2019-01-16 | 2021-10-12 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Apparatus and method for detecting wiring short in substrate |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5305111B2 (en) | 2011-01-21 | 2013-10-02 | オー・エイチ・ティー株式会社 | Circuit pattern inspection device |
JP5432213B2 (en) * | 2011-05-20 | 2014-03-05 | 株式会社ユニオンアロー・テクノロジー | Pattern inspection device |
JP6069884B2 (en) * | 2012-05-08 | 2017-02-01 | 日本電産リード株式会社 | Insulation inspection method and insulation inspection apparatus |
JP5844327B2 (en) * | 2013-09-19 | 2016-01-13 | 中国電力株式会社 | Ground fault location search device and ground fault location search method |
JP6014950B1 (en) * | 2015-12-22 | 2016-10-26 | オー・エイチ・ティー株式会社 | Conductor pattern inspection device |
JP6014951B1 (en) * | 2015-12-22 | 2016-10-26 | オー・エイチ・ティー株式会社 | Conductor pattern inspection device |
JP2018169338A (en) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | 大日本印刷株式会社 | Inspection device, method for inspection, and program for inspection device |
CN117153714B (en) * | 2023-10-31 | 2024-04-02 | 宁波尚进自动化科技有限公司 | Method, system, equipment and medium for detecting welding bonding |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62269075A (en) * | 1986-05-19 | 1987-11-21 | Kaneko Denki Seisakusho:Kk | Apparatus for inspecting printed circuit board |
JP2005024518A (en) * | 2003-07-04 | 2005-01-27 | Tokyo Cathode Laboratory Co Ltd | Conductive pattern inspection device |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06160898A (en) * | 1992-11-17 | 1994-06-07 | Fujitsu Ltd | Inspection method for liquid crystal display panel |
JP2007127552A (en) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Tokyo Cathode Laboratory Co Ltd | Conductive pattern inspection device |
KR100799161B1 (en) * | 2006-07-20 | 2008-01-29 | 마이크로 인스펙션 주식회사 | Non-contact type single side probe and inspection apparatus and method for open/short test of pattern electrodes used thereof |
-
2008
- 2008-12-11 JP JP2008316073A patent/JP5387818B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-12-09 KR KR1020090121474A patent/KR101633514B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62269075A (en) * | 1986-05-19 | 1987-11-21 | Kaneko Denki Seisakusho:Kk | Apparatus for inspecting printed circuit board |
JP2005024518A (en) * | 2003-07-04 | 2005-01-27 | Tokyo Cathode Laboratory Co Ltd | Conductive pattern inspection device |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101407031B1 (en) * | 2013-05-16 | 2014-06-12 | 삼성전기주식회사 | Apparatus and method for inspecting substrate |
CN104714147A (en) * | 2015-03-20 | 2015-06-17 | 广东小天才科技有限公司 | Conductive film detection method and system |
CN104714147B (en) * | 2015-03-20 | 2017-12-01 | 广东小天才科技有限公司 | Conductive film detection method and system |
US11143711B2 (en) | 2019-01-16 | 2021-10-12 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Apparatus and method for detecting wiring short in substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5387818B2 (en) | 2014-01-15 |
KR101633514B1 (en) | 2016-06-24 |
JP2010139377A (en) | 2010-06-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20100067618A (en) | Circuit pattern inspection device and circuit pattern inspection method thereof | |
KR100799161B1 (en) | Non-contact type single side probe and inspection apparatus and method for open/short test of pattern electrodes used thereof | |
EP1600807B1 (en) | Apparatus and method of detecting breakdown of conducting wires | |
TWI401452B (en) | Circuit pattern inspection device and inspection method | |
KR101101848B1 (en) | Touch panel inspection apparatus | |
KR100599499B1 (en) | Substrate inspection apparatus and method | |
KR20150111865A (en) | Resistance measuring apparatus, substrate test apparatus, test method and method of maintaining jig for test | |
TWI474012B (en) | Detecting device of conductive pattern and detecting method | |
KR20100028275A (en) | Apparatus and method for inspecting electrode lines of falt panel display | |
CN101107537A (en) | Inspection device, inspection method, and inspection device sensor | |
KR101175384B1 (en) | Circuit pattern inspection device, method thereof and computer readable recording medium storing program therein | |
TWI427302B (en) | Circuit pattern inspection device | |
KR101296460B1 (en) | Substrate inspection apparatus and substrate inspection method | |
WO2004057350A1 (en) | Circuit pattern inspection instrument and pattern inspecting method | |
KR20080098088A (en) | Non-contact type single side probe and inspection apparatus and method for open/short test of pattern electrodes used thereof | |
KR101264765B1 (en) | Conductive pattern inspection device | |
JP2001296326A (en) | Method and apparatus for inspection of defect | |
JP4676218B2 (en) | Circuit wiring inspection method and circuit wiring inspection apparatus | |
JP2013217841A (en) | Conductive pattern inspection device | |
JP2005337979A (en) | Electrostatic capacity measuring method, circuit board inspection method, electrostatic capacity measuring instrument, and circuit board inspection device | |
KR20070027095A (en) | Apparatus for inspecting disconnectionn of lines in a non-contact manner and inspecting method thereof | |
JPH10206481A (en) | Substrate inspection equipment | |
JP2004144759A (en) | Inspection device and inspection method | |
JP2011064607A (en) | Magnetic detection sensor | |
JP2004144760A (en) | Inspection device and inspection method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190402 Year of fee payment: 4 |