KR20100066233A - Fringe field switching mode liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A fringe field switching mode liquid crystal display device and a manufacturing method thereof are provided to prevent light leakage in right/left viewing angles. CONSTITUTION: A reflecting structure(300) is formed using a material of a data line(150) in an electrically independent form on a gate line(120). The reflecting structure includes an area divided into two around the gate line. In an upper plate corresponding to a pixel area, a light shielding layer(205) is formed. A transparent pixel electrode(170) is separated from a transparent common electrode(110) with an inter-layer insulating layer.

Description

에프에프에스 모드 액정표시장치 및 그 제조방법{FRINGE FIELD SWITCHING MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}F s mode liquid crystal display device and manufacturing method therefor {FRINGE FIELD SWITCHING MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

본 발명은 투과형 에프에프에스(FFS) 모드 액정표시장치에서 비개구부 영역에 있는 반사판과 데이터 라인, 반사판과 TFT 사이의 오픈 영역의 빛샘을 차단하는 발명에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an invention for blocking light leakage in an open region between a reflecting plate and a data line in a non-opening region, and a reflecting plate and a TFT in a transmissive type FPS mode liquid crystal display.

일반적으로 액정표시장치는 액정구동용 박막 트랜지스터(TFT)가 형성된 어레이기판(하부기판)과, 칼라필터(Color Filter) 및 차광막(Black Matrix)이 형성된 상부기판 및, 두 기판사이에 봉입된 액정으로 이루어진다. 박막 트랜지스터가 형성된 어레이기판은 데이터 라인 및 게이트 라인등과 같은 금속전극이 형성된 부분과 금속전극이 형성되지 않은 개구부로 크게 나누어지고, 백라이트에서 나온 빛은 금속전극부분을 통과하지 못하고 개구부만을 통과한다.In general, a liquid crystal display device includes an array substrate (lower substrate) on which a liquid crystal driving thin film transistor (TFT) is formed, an upper substrate on which a color filter and a black matrix are formed, and liquid crystal encapsulated between two substrates. Is done. The array substrate on which the thin film transistor is formed is largely divided into portions in which metal electrodes such as data lines and gate lines are formed and openings in which metal electrodes are not formed, and light from the backlight does not pass through the openings of the metal electrodes.

도 1은 일반적인 액정표시장치에 있어서, 하나의 화소영역에 대한 평면구조를 도시한 것이다. 도 1을 참조하면, 어레이기판상에 게이트 라인(11)과 데이터 라인(12)이 서로 교차되어 배열되고, 이들 게이트 라인(11)과 데이터 라인(12)에 의해 한정되는 화소영역에는 화소전극(13)이 형성되며, 게이트 라인(11)과 데이터 라 인(12)이 교차하는 부분에 화소전극(13)과 연결되는 박막 트랜지스터(14)가 형성된다. 액정표시장치는 상부기판에 형성된 차광막(15)에 의해 개구부, 즉 화소전극(13)을 제외한 부분이 도 2와 같이 차단되게 된다. 1 illustrates a planar structure of one pixel area in a general liquid crystal display device. Referring to FIG. 1, a gate electrode 11 and a data line 12 are arranged to intersect with each other on an array substrate, and a pixel electrode is formed in a pixel region defined by the gate line 11 and the data line 12. 13 is formed, and a thin film transistor 14 connected to the pixel electrode 13 is formed at a portion where the gate line 11 and the data line 12 cross each other. In the liquid crystal display device, an opening, that is, a portion except the pixel electrode 13 is blocked by the light blocking film 15 formed on the upper substrate as shown in FIG. 2.

도 3은 액정표시장치의 한 화소에 대한 단면구조를 도시한 것이다. 차광막(15)을 상부기판(20)에 형성하는 경우, 도 3에 도시된 바와 같이 하부기판(10)과 상부기판(20)간의 합착 마진을 고려함과 더불어, 주변 화소간의 빛샘 등을 고려하여 차광막에 의해 가려져야 되는 어레이라인보다 넓게 형성하여야 한다. 왜냐하면, 합착 마진을 확보하지 않으면 두 기판간의 합착시 틀어짐이 발생되는 경우 차광막이 금속라인을 완전히 가려주지 못하게 되기 때문이다. 3 illustrates a cross-sectional structure of one pixel of the liquid crystal display. When the light shielding film 15 is formed on the upper substrate 20, as shown in FIG. 3, the light shielding film is considered in consideration of a bonding margin between the lower substrate 10 and the upper substrate 20, and light leakage between peripheral pixels. It should be formed wider than the array line to be covered by. This is because, if the bonding margin is not secured, when the bonding occurs between the two substrates, the light shielding film may not completely cover the metal line.

한편, 에프에프에스 모드(Fringe Field Switching Mode; FFS 모드) 액정표시장치는 아이피에스 모드(In-Plane Switching Mode; IPS 모드) 액정표시장치의 낮은 개구율 및 투과율을 개선시키기 위하여 제안된 것이다.Meanwhile, the FFS mode liquid crystal display is proposed to improve the low aperture ratio and transmittance of the In-Plane Switching Mode (IPS mode) liquid crystal display.

이러한 FFS 모드 액정표시장치는 공통전극과 화소전극을 투명한 전도체로 형성하여, IPS 모드 액정표시장치에 비해 개구율 및 투과율을 높인다. 아울러, 공통전극과 화소전극 사이의 간격을 상/하부 유리기판들 간의 간격보다 좁게 형성하는 것에 의하여 공통전극과 화소전극 사이에서 프린지 필드가 형성되도록 함으로써, 전극들 상부에 존재하는 액정 분자들까지도 모두 동작되도록 하여 보다 향상된 투과율을 얻는다. FFS 모드 액정표시장치에 대한 종래 기술은 예를 들어, 본 출원인에 의하여 출원되고 등록된 미국특허번호 제6256081호, 제6226118호 등에 개시되어 있다.In the FFS mode liquid crystal display, the common electrode and the pixel electrode are formed of a transparent conductor, thereby increasing the aperture ratio and the transmittance compared with the IPS mode liquid crystal display. In addition, the fringe field is formed between the common electrode and the pixel electrode by forming the gap between the common electrode and the pixel electrode smaller than the gap between the upper and lower glass substrates, so that all liquid crystal molecules on the electrodes are also present. Operation to obtain improved transmittance. Prior arts for FFS mode liquid crystal displays are disclosed, for example, in US Pat. Nos. 6,608,1,6226118 and the like, filed and registered by the present applicant.

이와 같은 종래 기술의 FFS 모드 액정표시장치는 투명 화소전극과 투명 공통전극 및 박막 트랜지스터(TFT)로 구성된 다수의 화소를 포함한 하부기판과, 이에 대응하여 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 컬러필터 패턴이 교대로 배열되어 이루어진 컬러필터(Color Filter) 및 차광막(Black Matrix)으로 이루어진 상부기판으로 구성되어 있다. 여기서, 투명 화소전극은 투명 공통전극과 전계를 발생시켜 하부기판과 상부기판 사이에 개재된 액정으로 광투과율을 제어하도록 하고 있다.The conventional FFS mode liquid crystal display device includes a lower substrate including a plurality of pixels including a transparent pixel electrode, a transparent common electrode, and a thin film transistor (TFT), corresponding to red (R), green (G), and blue ( The upper filter substrate includes a color filter and a black matrix formed by alternately arranging the color filter patterns of B). The transparent pixel electrode generates a transparent common electrode and an electric field to control light transmittance with a liquid crystal interposed between the lower substrate and the upper substrate.

한편, 통상적으로 액정표시장치(LCD)는 백라이트를 이용하는 투과형 액정표시장치와 자연광을 광원으로 이용하는 반사형 액정표시장치의 두 종류로 분류할 수 있다. 투과형 액정표시장치는 백라이트를 광원으로 이용하므로 어두운 주변환경에서도 밝은 화상을 구현할 수 있지만 백라이트 사용에 의해 소비전력이 높고 실외에서는 가독성이 나쁘다는 단점이 있으며, 반사형 액정표시장치는 백라이트를 사용하지 않고 주변환경의 자연광을 이용하기 때문에 소비전력은 작고 실외에서는 사용이 가능하지만 주변환경이 어두울 때에는 사용이 불가능하다는 단점이 있다.On the other hand, a liquid crystal display (LCD) can be generally classified into two types: a transmissive liquid crystal display using a backlight and a reflective liquid crystal display using natural light as a light source. The transmissive liquid crystal display uses a backlight as a light source, so a bright image can be realized even in a dark environment. However, the use of the backlight has high power consumption and poor readability in the outdoors. The reflective liquid crystal display does not use a backlight. Because it uses the natural light of the surrounding environment, the power consumption is small and can be used outdoors, but the disadvantage is that it is impossible to use when the surrounding environment is dark.

이와 같은 종래의 투과형 및 반사형 액정표시장치의 문제점을 해결하기 위하여 본 출원인에 의해 발표된 논문 "A Novel Outdoor Readability of Portable TFT-LCD with AFFS"(K. H. Lee et. al., SID 06, 2006, p1079)에 실내 및 실외에서의 가독성을 모두 향상시킨 투과형 FFS 모드 액정표시장치인 AFFS(Advanced FFS) 모드 액정표시장치가 제안되었다.The paper "A Novel Outdoor Readability of Portable TFT-LCD with AFFS" published by the present applicant to solve the problems of the conventional transmissive and reflective liquid crystal display device (KH Lee et. Al., SID 06, 2006, p1079), an AFFS (Advanced FFS) mode liquid crystal display which is a transmissive FFS mode liquid crystal display having improved readability both indoors and outdoors has been proposed.

이러한 개선된 FFS 모드 액정표시장치에서는, 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 부분을 제외하고는 차광막이 형성되어 있지 않다. 게이트 라인과 데이터 라인의 상부에 차광막이 형성되어 있으면, 개구율을 감소시키게 되는 문제점이 있기 때문이다. 예를 들어, 본 출원인에 의해 출원된 출원번호 10-2007-0112655 및 10-2007-0009158 등에서는 데이터 라인과 게이트 라인의 상부에 차광막을 형성하는 대신, 전기적으로 독립된 형태로 반사판을 형성하는 기술 등에 대해 개시하고 있다. In such an improved FFS mode liquid crystal display, no light shielding film is formed except a portion where a gate line and a data line cross each other. This is because when the light shielding film is formed on the gate line and the data line, the aperture ratio is reduced. For example, in Application Nos. 10-2007-0112655 and 10-2007-0009158 filed by the present applicant, instead of forming a light shielding film on the data line and the gate line, a technique of forming a reflector in an electrically independent form, etc. Is disclosed.

그런데 이러한 구조의 액정표시장치에서는 반사판과 차광막이 복합적인 빛샘 방지 역할을 해야 하므로, 반사판과 차광막은 합착 마진 이상 오버랩 되도록 한다. 이때, 이러한 구조의 액정표시장치는 실외에서의 시인성을 최대화하기 위해 반사영역을 최대한 확장하되 종래의 개구율과 상관이 없는 영역, 즉, 비개구영역에 반사영역을 확보하고 반사판과 차광막 간의 오버랩 영역을 합착 마진 내에서 최소화하는 것이 화면 품위를 높일 수 있는 설계이다. However, in the liquid crystal display device having such a structure, the reflective plate and the light shielding film should play a role of preventing light leakage, so that the reflective plate and the light shielding film overlap with each other more than the bonding margin. In this case, the liquid crystal display having such a structure expands the reflection area as much as possible in order to maximize visibility in the outdoors, but secures the reflection area in a region that is not related to the conventional aperture ratio, that is, the non-opening area, and provides an overlap area between the reflection plate and the light shielding film. Minimizing within the bonding margin is a design that can enhance the screen quality.

그러나, 반사영역 확보를 위해 합착 마진 내에 들어오는 화소설계를 하여도, 패널의 형태와 크기에 따라 패널 지압시 차광막과 반사판 사이의 오버랩 영역이 변화하게 된다. 패널이 와이드 형태이며 대형 사이즈일수록 패널 지압시 차광막과 반사판의 오버랩 영역이 감소한다. 이렇게 오버랩 영역이 감소될수록, 좌우 시야각에서 패널의 빛샘 얼룩이 발생하게 된다. However, even when the pixel design within the bonding margin is secured to secure the reflective region, the overlap region between the light shielding film and the reflecting plate is changed during panel pressure according to the shape and size of the panel. The wider the panel and the larger the size, the smaller the overlap area between the light blocking film and the reflector plate during panel pressure. As the overlap area is reduced, light leakage of the panel occurs at the left and right viewing angles.

도 4는 패널 지압 전 및 지압 후의 기판의 틀어짐을 설명하기 위한 단면도이다. 도 4a에서 볼 수 있는 바와 같이, 패널 지압 전에는 차광막(15)과 반사판(17)과의 틀어짐이 발생하지 않았으므로 빛샘 현상이 발생하지 않는다. 그러나 도 4b에 서 볼 수 있는 바와 같이, 패널 지압 후에는 차광막(15)과 반사판(17)의 틀어짐이 발생하므로 좌우 시야각에서 비개구영역의 빛샘을 관찰할 수 있다. 4 is a cross-sectional view for explaining the misalignment of a substrate before and after panel pressure. As can be seen in FIG. 4A, the light leakage phenomenon does not occur because the light shielding film 15 and the reflecting plate 17 are not distorted before the panel pressure. However, as can be seen in FIG. 4B, after panel acupressure is distorted, the light blocking film 15 and the reflecting plate 17 are distorted, and thus light leakage of the non-opening region can be observed at the left and right viewing angles.

도 5는 종래의 액정표시장치에서 패널 지압후 틀어짐이 발생한 것을 측정한 사진이다. 도 5에서 볼 수 있는 것과 같이, 차광막의 단부로부터 반사판의 중앙까지의 거리가 패널 지압 전(a)에는 8.050286㎛(노란선) 이었으나, 패널 지압후(b)에는 12.26710㎛(노란선)이 됨을 확인할 수 있다. 즉, 패널 지압후(b)에 차광막과 반사판의 배치가 약 4㎛ 정도(L) 틀어졌음을 알 수 있다.5 is a photograph measuring that distortion occurs after panel pressure in a conventional liquid crystal display. As can be seen in FIG. 5, the distance from the end of the light shielding film to the center of the reflector was 8.050286 μm (yellow line) before panel acupressure, but 12.26710 μm (yellow line) after panel acupressure (b). You can check it. That is, it can be seen that after the panel acupressure (b), the arrangement of the light shielding film and the reflecting plate is about 4 μm (L).

본 발명은 상기한 점을 감안하여 발명된 것으로, 제조 공정을 크게 변화시키지 않고 비교적 단순한 공정 변화를 통해 패널 지압시 좌우 시야각에서 빛샘 발생을 억제하여 화면 품위를 향상시킬 수 있도록 한 FFS 모드 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention has been invented in view of the above, and is an FFS mode liquid crystal display device that can improve screen quality by suppressing light leakage at left and right viewing angles during panel pressure without changing the manufacturing process significantly. And its manufacturing method.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일측면은, 하부기판, 상부기판 및 상기 기판들 사이에 삽입된 액정층을 포함하고, 상기 하부기판에는 상호 교차하는 방향으로 형성되는 게이트 라인과 데이터 라인들에 의해 각 화소영역이 규정되고 상기 게이트 라인과 상기 데이터 라인의 교차부에는 스위칭 소자가 배치되어 있는 FFS 모드 액정표시장치에 있어서,상기 게이트 라인 상부에 상기 데이터 라인의 물질을 이용하여 전기적으로 독립된 형태로 형성되고, 상기 게이트 라인을 기준으로 2개의 영역으로 분리된 영역을 구비하는 반사 구조물, 상기 게이트 라인에 대응되는 영역이 제거되어 상기 상부기판에 형성된 차광막, 상기 액정층에 전계를 인가하여 광 투과량을 조절하기 위해 상기 화소영역에 투명 공통전극의 상부에 절연층을 사이에 두고 이격 배치되는 투명 화소전극을 구비하되, 상기 투명 화소전극은 그 말단이 상기 게이트 라인까지 돌출되어 상기 차광막과 상기 반사 구조물 사이에 개재되고, 상기 투명 화소전극은 상기 반사 구조물의 말단까지 연장되되 인접 화소영역의 투명 화소전극과 전기적으로 분리되는 액정표시장치를 제공한다. One aspect of the present invention for achieving the above object includes a lower substrate, an upper substrate and a liquid crystal layer interposed between the substrates, the lower substrate in the gate line and the data lines formed in the direction crossing each other In the FFS mode liquid crystal display device in which each pixel region is defined and a switching element is disposed at an intersection portion of the gate line and the data line, the FFS mode liquid crystal display device has an electrically independent form using a material of the data line on the gate line. A reflective structure having a region separated into two regions based on the gate line, a region corresponding to the gate line is removed, and a light transmission film formed on the upper substrate, and an electric field is applied to the liquid crystal layer to reduce light transmission. In order to control, the pixel area is spaced apart with an insulating layer on top of the transparent common electrode. And a transparent pixel electrode protruding from the end of the transparent pixel electrode to the gate line and interposed between the light blocking film and the reflective structure, wherein the transparent pixel electrode extends to an end of the reflective structure, A liquid crystal display device electrically separated from a transparent pixel electrode is provided.

이때 돌출된 투명 화소전극은 상기 반사 구조물의 말단까지 연장되는 2개의 돌출부를 갖되, 상기 투명 화소전극의 각 돌출부의 측면 일 단부는 상기 차광막 말단과 상기 반사 구조물 말단 사이에 위치하고, 측면 타 단부는 상기 반사 구조물 말단과 상기 데이터 라인 사이에 위치하는 것이 바람직하다. 공통전극과 화소전극은 ITO로 형성한다. In this case, the protruding transparent pixel electrode has two protrusions extending to the end of the reflective structure, one end of each side of each protrusion of the transparent pixel electrode is located between the end of the light shielding film and the end of the reflective structure, the other end of the side It is preferably located between the end of the reflective structure and the data line. The common electrode and the pixel electrode are made of ITO.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면은, 하부기판, 상부기판 및 상기 기판들 사이에 삽입되는 액정층을 포함하고 상기 하부기판에는 상호 교차하는 방향으로 형성되는 게이트 라인과 데이터 라인들에 의해 각 화소영역이 규정되고 상기 라인들의 교차부에는 스위칭 소자가 배치되어 있는 FFS 모드 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 상기 하부기판 상에 게이트 라인, 게이트 절연막, 데이터 라인, 투명 공통전극, 절연층 및 투명 화소전극을 차례로 형성하는 단계를 포함하되, 상기 데이터 라인을 형성하는 단계에서는, 상기 게이트 라인 상부에 상기 데이터 라인의 물질을 이용하여 전기적으로 독립된 반사 구조물을 형성하며, 상기 투명 화소전극을 형성하는 단계에서는, 상기 화소영역에 상기 투명 공통전극의 상부에 상기 절연층을 사이에 두고 이격 배치되도록 형성하고, 상기 상부기판 상에 차광막, 칼라필터, 오버코트를 차례로 형성하는 단계를 포함하되, 상기 차광막을 형성하는 단계에서는, 상기 게이트 라인에 대응되는 영역의 차광막을 제거하여 형성되고, 상기 투명 화소전극은 그 말단이 상기 게이트 라인까지 돌출되어 상기 차광막과 상기 반사 구조물 사이에 개재되고, 상기 투명 화소전극은 상기 반사 구조물의 말단까지 연장되되 인접 화소영역의 투명 화소전극과 전기적으로 분리되는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다. Another aspect of the present invention for achieving the above object is, by a gate line and a data line including a lower substrate, an upper substrate and a liquid crystal layer interposed between the substrates and formed in a direction crossing each other on the lower substrate; A method for manufacturing a FFS mode liquid crystal display device in which each pixel region is defined and a switching element is disposed at an intersection of the lines, the method comprising: a gate line, a gate insulating film, a data line, a transparent common electrode, an insulating layer, And forming the transparent pixel electrodes in sequence, wherein in the forming of the data line, an electrically independent reflective structure is formed on the gate line by using a material of the data line, and the transparent pixel electrode is formed. In the step, the insulating layer is interposed between the transparent common electrode and the pixel region. And forming a light shielding film, a color filter, and an overcoat in sequence on the upper substrate, wherein the forming the light shielding film is formed by removing the light shielding film in a region corresponding to the gate line. The transparent pixel electrode is protruded to the gate line and interposed between the light blocking layer and the reflective structure, and the transparent pixel electrode extends to the end of the reflective structure and is electrically separated from the transparent pixel electrode of an adjacent pixel region. A method of manufacturing a liquid crystal display device is provided.

이때 돌출된 투명 화소전극은 상기 반사 구조물의 말단까지 연장되는 2개의 돌출부를 갖되, 상기 투명 화소전극의 각 돌출부의 측면 일 단부는 상기 차광막 말단과 상기 반사 구조물 말단 사이에 위치하고, 측면 타 단부는 상기 반사 구조물 말단과 상기 데이터 라인 사이에 위치하는 것이 바람직하다. 공통전극과 화소전극은 ITO로 형성한다. In this case, the protruding transparent pixel electrode has two protrusions extending to the end of the reflective structure, one end of each side of each protrusion of the transparent pixel electrode is located between the end of the light shielding film and the end of the reflective structure, the other end of the side It is preferably located between the end of the reflective structure and the data line. The common electrode and the pixel electrode are made of ITO.

상기한 바와 같이 본 발명에 의하면, 액정표시장치에서 차광막과 반사 구조물 사이에 돌출 화소전극을 형성함으로써, 비개구 영역의 수직 필드를 수평 필드로 전환시켜 좌우측 시야각에서 빛샘 발생을 방지할 수 있다. As described above, according to the present invention, by forming the protruding pixel electrode between the light blocking film and the reflective structure in the liquid crystal display device, it is possible to prevent the generation of light leakage at the left and right viewing angles by converting the vertical field of the non-opening region into a horizontal field.

따라서, 제조 공정을 크게 변화시키지 않고 비교적 단순한 공정 변화를 통해패널의 수율을 증가시키고 화소품위를 향상시킬 수 있는 효과가 있다. Therefore, there is an effect that can increase the yield of the panel and improve the pixel quality through a relatively simple process change without significantly changing the manufacturing process.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention, and may be modified in various forms, and the scope of the present invention is limited to the embodiments described below. It doesn't happen.

본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 하부 기판, 상부 기판, 및 하부 기판과 상부 기판 사이에 삽입된 액정층을 포함하고, 하부 기판에는 액정층에 전압을 인가하기 위하여 상호 교차하는 방향으로 형성되는 전극들에 의해 각 화소 영역이 규정되어 있다. 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 하부 기판에 형성된 화소 영역의 평면도이다. 도 7a 내지 도 7c는 각각 도 6의 선 I-I', II-II', 및 III-III'을 절취한 단면도이다.The liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention includes a lower substrate, an upper substrate, and a liquid crystal layer interposed between the lower substrate and the upper substrate, and the lower substrate is formed in a direction crossing each other to apply a voltage to the liquid crystal layer. Each pixel region is defined by the electrodes. 6 is a plan view of a pixel area formed on a lower substrate of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. 7A to 7C are cross-sectional views taken along the lines II ′, II-II ′, and III-III ′ of FIG. 6, respectively.

도 6, 도 7a 내지 도 7c를 참조하면, 본 실시예의 FFS 모드 액정표시장치는 하부 기판(100) 상에 게이트 라인(120)과 데이터 라인(150)이 교차하도록 배열되고, 게이트 라인(120)과 데이터 라인(150)의 교차부에는 스위칭 소자인 박막트랜지스터(TFT)가 배치되어 있다. 게이트 라인(120)과 데이터 라인(150)에 의해 규정된 단위 화소 영역 내에는 투명 공통전극(110)과 게이트 라인(120)과 소정 각도를 이루는 다수개의 슬릿을 구비한 투명 화소전극(170)이 층간절연층(160)을 사이에 두고 투명 공통전극(110)과 이격되어 배치된다. 도 6에서는 투명 공통전극(110)을 플레이트 형상으로 제조한 경우를 예로 들어 도시하고 있으나 투명 공통전극(110)도 다수의 슬릿을 구비하는 형상으로 구성하는 것도 가능하다. 게이트 라인(120)과 활성층(140)의 사이에는 게이트 절연막(130)이 구비되어 있다.6 and 7A to 7C, the FFS mode liquid crystal display according to the present exemplary embodiment is arranged such that the gate line 120 and the data line 150 intersect on the lower substrate 100 and the gate line 120 crosses the gate line 120. A thin film transistor (TFT), which is a switching element, is disposed at the intersection of the data line 150 and the data line 150. In the unit pixel region defined by the gate line 120 and the data line 150, the transparent pixel electrode 170 having a plurality of slits formed at a predetermined angle with the transparent common electrode 110 and the gate line 120 is formed. The interlayer insulating layer 160 is disposed to be spaced apart from the transparent common electrode 110. 6 illustrates a case where the transparent common electrode 110 is manufactured in a plate shape as an example, but the transparent common electrode 110 may also be configured to have a plurality of slits. The gate insulating layer 130 is provided between the gate line 120 and the active layer 140.

한편, 게이트 라인(120)과 이격된 화소 가장자리 부분에는 게이트 라인(120)과 평행하게 공통버스라인(122)이 배열되어 있으며, 이러한 공통버스라인(122)은 투명 공통전극(110)과 전기적으로 연결되어 투명 공통전극(110)에 지속적으로 공통신호를 인가한다.On the other hand, the common bus line 122 is arranged parallel to the gate line 120 at the pixel edge portion spaced apart from the gate line 120, and the common bus line 122 is electrically connected to the transparent common electrode 110. It is connected to continuously apply a common signal to the transparent common electrode (110).

하부 기판(100) 상부에는 소정 거리 이격되어 상부 기판(200)이 형성되어 있고, 상부 기판(200)에는 차광막(205), 컬러필터(미도시) 및 오버코트(220)를 구비 하여 하부 기판(100)과 다수개의 액정분자를 포함하는 액정층(미도시)을 사이에 두고 서로 합착된다.An upper substrate 200 is formed on the lower substrate 100 by a predetermined distance, and the lower substrate 100 includes a light blocking film 205, a color filter (not shown), and an overcoat 220. ) And a liquid crystal layer (not shown) including a plurality of liquid crystal molecules are interposed therebetween.

도 7c에 도시된 바와 같이, 내부 반사율을 향상시킴으로써 야외 가독성을 향상시키기 위한 방식으로 게이트 라인(120)의 상부 영역에 차광막을 제거하고 반사 구조물(300)을 형성한다. 반사 구조물(300)은 게이트 라인(120)을 덮는 구조로 형성된다. 반사 구조물(300)은 데이터 라인(150)의 물질을 이용하여 전기적으로 독립된 형태로 제조한다. 바람직하게는, 활성층의 물질을 이용하여 반사 구조물(300)에 굴곡 형상을 형성한다. 도 6에는 도시의 편의상 도면 하단의 게이트 라인에만 반사 구조물이 도시되어 있으나, 액정표시장치의 모든 게이트 라인에 반사 구조물이 형성됨은 자명하다. As shown in FIG. 7C, the light blocking film is removed and the reflective structure 300 is formed in the upper region of the gate line 120 in a manner to improve outdoor readability by improving internal reflectance. The reflective structure 300 is formed to cover the gate line 120. The reflective structure 300 is manufactured in an electrically independent form using the material of the data line 150. Preferably, a curved shape is formed in the reflective structure 300 using the material of the active layer. In FIG. 6, the reflective structure is shown only in the gate line at the bottom of the drawing for convenience of illustration, but it is apparent that the reflective structure is formed on all the gate lines of the liquid crystal display.

반사 구조물(300)의 굴곡 형상은 활성층 물질을 이용하여 원, 타원 등의 복수개의 분리된 폐곡선 형상의 패턴들을 형성하여 활성층 패턴들(145)을 만들고, 그 상부에 형성되는 반사 구조물(300)의 데이터 라인의 패턴(155)이 굴곡 있는 형상을 가지게 되어 굴곡 형상에 의해 내부 반사를 증가시킬 수 있게 된다. 따라서, 게이트 라인(120)의 상부에 차광막을 형성하지 않고 반사 구조물(300)인 데이터 라인 패턴(155)이 굴곡부를 가지도록 함으로써 실외 가독성이 획기적으로 향상될 수 있게 된다.The curved shape of the reflective structure 300 forms active layer patterns 145 by forming a plurality of separated closed curve patterns, such as circles and ellipses, using the active layer material, to form the active layer patterns 145. The pattern 155 of the data line has a curved shape to increase the internal reflection by the curved shape. Accordingly, outdoor readability may be significantly improved by allowing the data line pattern 155, which is the reflective structure 300, to have a bent portion without forming a light blocking film on the gate line 120.

구체적으로, 반사 구조물(300)은 전기적으로 독립적으로 형성되며, 게이트 라인(120)을 기준으로 분리된 2개의 영역으로 형성된다. 게이트 라인(120)은 불투명한 금속으로 구성가능하므로, 반사 구조물(300)은 이를 기준으로 게이트 라 인(120)을 노출시키면서 분리된 영역으로 형성하는 것이 가능하다. 한편, 스위칭 소자의 상부에 형성된 차광막(205)은 반사구조물(300)을 일정 영역 덮는 방식으로 구현함으로써 공정 마진을 확보한다. In detail, the reflective structure 300 is formed independently of each other, and is formed of two regions separated by the gate line 120. Since the gate line 120 may be made of an opaque metal, the reflective structure 300 may be formed as a separated region while exposing the gate line 120 based on the gate line 120. On the other hand, the light shielding film 205 formed on the switching element is implemented in such a manner as to cover the reflective structure 300 in a predetermined area to secure a process margin.

이하, 도 6, 도 7a 내지 도 7c를 참조하여 본 실시예에 의한 액정표시장치의 제조방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 6 and 7A to 7C.

먼저, 하부 기판(100) 상에 투명 도전층을 증착하고 이를 패터닝하여 투명 공통 전극(110)을 형성한다. 또한, 투명 공통 전극(110) 상부에 불투명 금속을 증착한 후, 패터닝을 통해 투명 공통 전극(110) 일측에 게이트 라인(120)을 형성하고, 투명 공통 전극(110)의 일부 영역을 덮는 구조로 공통 버스라인(122)을 형성한다(도 7b 참조). First, a transparent conductive layer is deposited on the lower substrate 100 and patterned to form a transparent common electrode 110. In addition, after the opaque metal is deposited on the transparent common electrode 110, the gate line 120 is formed on one side of the transparent common electrode 110 through patterning, and the structure covers a portion of the transparent common electrode 110. A common bus line 122 is formed (see FIG. 7B).

다음으로, 패터닝된 투명 공통전극(110)과, 게이트 라인(120) 및 공통버스 라인(122)이 형성된 하부기판(100) 전면 상에 게이트 절연막(130)을 증착한 후, 게이트 라인(120)의 상부 게이트 절연막(130) 상에 a-Si층과, n+ a-Si층을 연속 증착한 후 패터닝을 통해 활성층(140)을 형성한다.Next, the gate insulating layer 130 is deposited on the entire surface of the lower substrate 100 on which the patterned transparent common electrode 110, the gate line 120, and the common bus line 122 are formed. The active layer 140 is formed by patterning the a-Si layer and the n + a-Si layer on the upper gate insulating layer 130.

또한, 활성층(140)이 패터닝 된 하부기판 전면상에 금속층을 증착한 후 패터닝을 통해 데이터 라인(150), 소스-드레인 전극(152), 반사 구조물(300)을 형성하고, 데이터 라인(150)과 소스-드레인 전극(152)이 형성된 하부기판(100) 상에 층간절연층(160)을 증착한다. In addition, after the metal layer is deposited on the entire surface of the lower substrate on which the active layer 140 is patterned, the data line 150, the source-drain electrode 152, and the reflective structure 300 are formed through patterning, and the data line 150 is formed. The interlayer insulating layer 160 is deposited on the lower substrate 100 on which the source and drain electrodes 152 are formed.

다음으로, 소스-드레인 전극(152)의 일부분이 노출되도록 콘택홀(CN)을 형성한 후 층간절연층(160) 상에 투명 도전층을 증착한다. 이때, 투명 도전층을 패터 닝하여, 콘택홀(CN)을 통해 소스-드레인 전극(152)과 투명 화소 전극(170)을 연결하고, 슬릿 형태의 투명 화소전극(170)을 형성한다. 투명 공통전극(110)과 투명 화소 전극(170)은 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 도전층으로 형성한다. Next, after forming the contact hole CN to expose a portion of the source-drain electrode 152, a transparent conductive layer is deposited on the interlayer insulating layer 160. In this case, the transparent conductive layer is patterned to connect the source-drain electrode 152 and the transparent pixel electrode 170 through the contact hole CN to form a transparent pixel electrode 170 having a slit shape. The transparent common electrode 110 and the transparent pixel electrode 170 are formed of a transparent conductive layer such as indium tin oxide (ITO).

한편, 화소 영역과 대응되는 상부 기판(200)에는 차광막(205)이 형성되는데, 본 실시예에 의하면 TFT와 대응되는 상부기판(200)에만 차광막이 구비되어 있다. Meanwhile, the light blocking film 205 is formed on the upper substrate 200 corresponding to the pixel region. According to the present embodiment, only the upper substrate 200 corresponding to the TFT is provided with the light blocking film.

이하 도 8 및 도 9를 이용하여 본 발명의 실시예에 대해 더욱 상세하게 설명한다. 도 8은 도 6에 도시된 액정표시장치의 화소 영역에서 차광막과 반사구조물 부분을 확대한 평면도이다. 도 9는 도 8의 선 Ⅴ-Ⅴ'을 절취한 단면도로서, 설명의 편의를 위해 차광막(205), 반사구조물(300) 및 화소전극(170)만을 나타내었다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is an enlarged plan view of a portion of a light blocking film and a reflective structure in a pixel area of the liquid crystal display illustrated in FIG. 6. FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line VV ′ of FIG. 8, and illustrates only the light blocking film 205, the reflective structure 300, and the pixel electrode 170 for convenience of description.

본 발명에서는 FFS 모드 액정표시장치에 있어서 차광막과 반사 구조물의 오버랩 영역에서 빛샘을 방지하기 위해 화소전극을 이용하여 강제로 수평필드를 형성한다. 이러한 방법을 이용하면 기존 반사판 영역은 감소 없이 그대로 유지할 수 있으며, 외부 시인성도 그대로 유지가 가능하다. In the present invention, in the FFS mode liquid crystal display, horizontal fields are forcibly formed by using pixel electrodes in order to prevent light leakage in an overlapping area between the light blocking film and the reflective structure. Using this method, the existing reflector area can be maintained without reduction, and external visibility can be maintained.

도 8을 참조하면, 투명 화소전극(170)의 말단이 게이트 라인(120)까지 돌출된다. 그런데, 반사구조물(300)은 바람직하게는 게이트 라인(120)을 기준으로 2개의 영역으로 분리된 영역을 구비하므로, 돌출된 투명 화소전극(170)은 반사 구조물(300)의 말단까지 연장되는 것이 바람직하다. 하지만 돌출된 투명 화소전극(170)은 인접 화소영역의 돌출된 투명 화소전극과 전기적으로 분리되어야 한다. 도 8에 도시된 바와 같이, 돌출된 투명 화소전극(170)은 2개의 돌출된 부분을 갖는 것이 바람직하다. Referring to FIG. 8, an end of the transparent pixel electrode 170 protrudes to the gate line 120. However, since the reflective structure 300 preferably includes a region separated into two regions based on the gate line 120, the protruding transparent pixel electrode 170 extends to the end of the reflective structure 300. desirable. However, the protruding transparent pixel electrode 170 should be electrically separated from the protruding transparent pixel electrode of the adjacent pixel region. As shown in FIG. 8, the protruding transparent pixel electrode 170 preferably has two protruding portions.

아울러 도 9를 참조하면, 돌출된 투명 화소전극(170)은 차광막(205)과 반사 구조물(300) 사이에 개재되며, 돌출된 투명 화소전극(170)의 측면 일 단부는 차광막(205) 말단과 반사 구조물(300) 말단 사이에 위치하고, 돌출된 투명 화소전극(170)의 측면 타 단부는 반사 구조물(300) 말단과 데이터 라인(150) 사이에 위치한다. 이러한 돌출된 투명 화소전극(170)은 액정표시장치의 전체 화소영역에 걸쳐 차광막(205)과 반사 구조물(300) 사이에 개재되어 기판 틀어짐 시 빛샘 현상을 방지하게 된다. 9, the protruding transparent pixel electrode 170 is interposed between the light blocking film 205 and the reflective structure 300, and one end of the side surface of the protruding transparent pixel electrode 170 is formed at an end of the light blocking film 205. The other end portion of the protruding transparent pixel electrode 170 may be disposed between the ends of the reflective structure 300, and may be positioned between the end of the reflective structure 300 and the data line 150. The protruding transparent pixel electrode 170 is interposed between the light blocking film 205 and the reflective structure 300 over the entire pixel area of the liquid crystal display to prevent light leakage when the substrate is twisted.

이러한 돌출된 화소전극(170)은 해당 영역의 수직 필드를 수평 필드로 전환하는 역할을 한다. 도 10a에서 보듯이, 종래 기술에 의한 액정표시장치에서는 돌출된 화소전극이 없는 경우 게이트 라인과 공통 라인간의 전위형성으로 수평 필드보다 수직 필드가 강해진다. 그런데 수평 러빙을 하는 FFS 모드 액정표시장치에서는 수평 필드 발생시 빛샘이 발생하는 구조이므로, 비개구 영역은 차광막 또는 반사 구조물로 반드시 차단시켜야 하는 것이다. The protruding pixel electrode 170 converts the vertical field of the corresponding area into a horizontal field. As shown in FIG. 10A, in the liquid crystal display according to the related art, when there is no protruding pixel electrode, the vertical field is stronger than the horizontal field due to the potential formation between the gate line and the common line. However, in the FFS mode LCD having horizontal rubbing, since light leakage occurs when the horizontal field is generated, the non-opening area must be blocked by a light blocking film or a reflective structure.

도 8에서 돌출 화소전극(170)은 화소전극의 말단이 연장된 형태로서 화소전극의 신호가 인가된다. 화소의 L0 상태(어떤 의미인지 한글로 풀어 설명해 주세요)에서 돌출 화소전극(170)과 데이터 라인(150)간은 서로 전위차가 있기 때문에 항상 필드가 존재하며, 이는 수평 필드를 강하게 만들어 준다. 돌출 화소전극(170)을 차광막(205)과 반사 구조물(300) 사이에 형성하여도 여전히 수직 필드는 존재하지만, 기존의 돌출 화소전극이 없는 경우를 대비하면 수직 필드가 약해지는 결과를 얻을 수 있다. 돌출 화소전극이 없어도 반사 구조물과 데이터 라인간의 수평 필드가 존재할 수 있지만, 반사 구조물은 인위적인 신호가 존재하지 않는 플로팅 전극이므로 이에 의해 형성되는 필드는 약하다고 볼 수 있다. In FIG. 8, the protruding pixel electrode 170 has an extended end of the pixel electrode, and a signal of the pixel electrode is applied thereto. In the L0 state of the pixel (please explain what it means in Korean), there is always a field between the protruding pixel electrode 170 and the data line 150 so that there is always a field, which makes the horizontal field strong. Even when the protruding pixel electrode 170 is formed between the light blocking film 205 and the reflective structure 300, the vertical field still exists, but the vertical field may be weakened in contrast to the case where there is no existing protruding pixel electrode. . Although there may be a horizontal field between the reflective structure and the data line without the protruding pixel electrode, the field formed by the reflective structure is weak because the reflective structure is a floating electrode without an artificial signal.

도 10a 및 도 10b는 돌출 화소전극(170)에 의한 필드 변화를 설명하기 위한 도면이다. 도 10a는 화소의 L0에서 종래 FFS 모드 액정표시장치 화소구조의 액정방향자 시뮬레이션이다. 이를 참조하면, 화살표로 나타낸 바와 같이 비개구 영역에서 액정방향자들은 게이트 라인(120)과 공통 라인(122), 화소전극(170)간에 수직 필드가 형성됨을 알 수 있다. 데이터 라인(150)과의 수평 필드가 존재하기는 하지만 수직 필드가 더 강하다. 10A and 10B are diagrams for describing field changes caused by the protruding pixel electrode 170. 10A is a liquid crystal director simulation of a pixel structure of a conventional FFS mode liquid crystal display at L0 of a pixel. Referring to this, as shown by the arrow, in the non-opening region, the liquid crystal directors can see that a vertical field is formed between the gate line 120, the common line 122, and the pixel electrode 170. Although there is a horizontal field with the data line 150, the vertical field is stronger.

도 10b는 화소의 L0에서 본 발명에 의한 FFS 모드 액정표시장치 화소구조의 액정방향자 시뮬레이션이다. 화살표로 나타낸 바와 같이 돌출 화소전극(170)이 배치된 곳 주위로 게이트 라인(120)에 대해서 수직 필드가 수평 필드로 전환되었음을 알 수 있다. 또한 기존 데이터 라인(150) 주변의 강한 수직 필드도 그 세기가 감소되었음을 알 수 있다. 10B is a liquid crystal director simulation of the pixel structure of the FFS mode liquid crystal display device according to the present invention at L0 of the pixel. As indicated by the arrow, it can be seen that the vertical field has been converted to the horizontal field with respect to the gate line 120 around the protruding pixel electrode 170. In addition, it can be seen that the strength of the strong vertical field around the existing data line 150 is reduced.

도 11a 및 도 11b는 액정표시장치 화소에 대한 광학 시뮬레이션 결과를 나타낸 도면이다. 도 11a에 도시된 바와 같이 종래의 FFS 모드 액정표시장치에서는 패널 지압시 틀어짐이 발생할 경우 좌우측 시야각에서 빛샘이 발생할 수 있음을 보여주고 있다. 반면에 도 11b에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 FFS 모드 액정표시장치에서는 반사 구조물(300)과 차광막(205) 사이에 돌출 화소전극(170)이 배치되었으므로, 반사 구조물(300) 주위의 빛샘 발생이 현저히 감소되었음을 알 수 있다. 따라서 패널 지압 후 틀어짐이 발생한다고 하여도 좌우측 시야각에서 빛샘 현상은 방지될 수있다. 11A and 11B illustrate optical simulation results of pixels of a liquid crystal display. As shown in FIG. 11A, in the conventional FFS mode liquid crystal display, light leakage may occur at left and right viewing angles when distortion occurs during panel pressure. On the other hand, as shown in FIG. 11B, in the FFS mode LCD according to the present invention, since the protruding pixel electrode 170 is disposed between the reflective structure 300 and the light blocking film 205, light leakage around the reflective structure 300 is caused. It can be seen that the occurrence is significantly reduced. Therefore, even if distortion occurs after panel pressure, light leakage can be prevented at the left and right viewing angles.

도 1은 일반적인 액정표시장치에서 하나의 화소영역을 설명하기 위한 평면도이다. 1 is a plan view illustrating one pixel area in a general liquid crystal display device.

도 2는 일반적인 액정표시장치에서 상부기판에 형성된 차광막을 설명하기 위한 평면도이다. 2 is a plan view illustrating a light shielding film formed on an upper substrate in a general liquid crystal display device.

도 3은 일반적인 액정표시장치의 한 화소에 대한 단면구조를 도시한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view illustrating a cross-sectional structure of one pixel of a general liquid crystal display device.

도 4a 및 도 4b는 종래의 액정표시장치에서 패널 지압 전 및 지압 후의 기판의 틀어짐을 설명하기 위한 단면도이다.4A and 4B are cross-sectional views illustrating the distortion of a substrate before and after panel pressure in a conventional liquid crystal display.

도 5는 종래의 액정표시장치에서 패널 지압후 틀어짐이 발생한 것을 측정한 사진이다.5 is a photograph measuring that distortion occurs after panel pressure in a conventional liquid crystal display.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 하부 기판에 형성된 화소 영역의 평면도이다. 6 is a plan view of a pixel area formed on a lower substrate of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 7a 내지 도 7c는 각각 도 6의 선 I-I', II-II', 및 III-III'을 절취한 단면도이다.7A to 7C are cross-sectional views taken along the lines II ′, II-II ′, and III-III ′ of FIG. 6, respectively.

도 8은 도 6에 도시된 액정표시장치의 화소 영역에서 차광막과 반사구조물 부분을 확대한 평면도이다. FIG. 8 is an enlarged plan view of a portion of a light blocking film and a reflective structure in a pixel area of the liquid crystal display illustrated in FIG. 6.

도 9는 도 8의 선 Ⅴ-Ⅴ'을 절취한 단면도이다. FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line VV ′ of FIG. 8.

도 10a 및 도 10b는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에서 돌출 화소전극에 의한 필드 변화를 설명하기 위한 도면이다. 10A and 10B are views for explaining field changes caused by the protruding pixel electrodes in the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention.

도 11a 및 도 11b는 액정표시장치 화소에 대한 광학 시뮬레이션 결과를 나타낸 도면이다.11A and 11B illustrate optical simulation results of pixels of a liquid crystal display.

Claims (6)

하부기판, 상부기판 및 상기 기판들 사이에 삽입된 액정층을 포함하고, 상기 하부기판에는 상호 교차하는 방향으로 형성되는 게이트 라인과 데이터 라인들에 의해 각 화소영역이 규정되고 상기 게이트 라인과 상기 데이터 라인의 교차부에는 스위칭 소자가 배치되어 있는 FFS 모드 액정표시장치에 있어서,A lower substrate, an upper substrate, and a liquid crystal layer interposed between the substrates, wherein each pixel region is defined by gate lines and data lines formed in an intersecting direction on the lower substrate, and the gate lines and the data. In the FFS mode liquid crystal display device in which a switching element is arranged at the intersection of the lines, 상기 게이트 라인 상부에 상기 데이터 라인의 물질을 이용하여 전기적으로 독립된 형태로 형성되고, 상기 게이트 라인을 기준으로 2개의 영역으로 분리된 영역을 구비하는 반사 구조물;A reflective structure formed on the gate line in an electrically independent form using a material of the data line, and having a region separated into two regions based on the gate line; 상기 게이트 라인에 대응되는 영역이 제거되어 상기 상부기판에 형성된 차광막;A light blocking film formed on the upper substrate by removing a region corresponding to the gate line; 상기 액정층에 전계를 인가하여 광 투과량을 조절하기 위해 상기 화소영역에 투명 공통전극의 상부에 절연층을 사이에 두고 이격 배치되는 투명 화소전극을 구비하되, In order to control the amount of light transmission by applying an electric field to the liquid crystal layer, the pixel region includes a transparent pixel electrode spaced apart from each other with an insulating layer interposed therebetween, 상기 투명 화소전극은 그 말단이 상기 게이트 라인까지 돌출되어 상기 차광막과 상기 반사 구조물 사이에 개재되고, 상기 투명 화소전극은 상기 반사 구조물의 말단까지 연장되되 인접 화소영역의 투명 화소전극과 전기적으로 분리되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The transparent pixel electrode is protruded to the gate line and interposed between the light blocking layer and the reflective structure, and the transparent pixel electrode extends to the end of the reflective structure and is electrically separated from the transparent pixel electrode of an adjacent pixel region. Liquid crystal display device characterized in that. 제1항에 있어서,  The method of claim 1, 상기 돌출된 투명 화소전극은 상기 반사 구조물의 말단까지 연장되는 2개의 돌출부를 갖되, The protruding transparent pixel electrode has two protrusions extending to the end of the reflective structure, 상기 투명 화소전극의 각 돌출부의 측면 일 단부는 상기 차광막 말단과 상기 반사 구조물 말단 사이에 위치하고, 측면 타 단부는 상기 반사 구조물 말단과 상기 데이터 라인 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And one end portion of each side of each of the protrusions of the transparent pixel electrode is disposed between the end of the light blocking layer and the end portion of the reflective structure, and the other end portion thereof is positioned between the end of the reflective structure and the data line. 제1항에 있어서, 공통전극과 화소전극은 ITO로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the common electrode and the pixel electrode are formed of ITO. 하부기판, 상부기판 및 상기 기판들 사이에 삽입되는 액정층을 포함하고 상기 하부기판에는 상호 교차하는 방향으로 형성되는 게이트 라인과 데이터 라인들에 의해 각 화소영역이 규정되고 상기 라인들의 교차부에는 스위칭 소자가 배치되어 있는 FFS 모드 액정표시장치의 제조방법에 있어서,Each pixel region is defined by gate lines and data lines including a lower substrate, an upper substrate, and a liquid crystal layer interposed between the substrates, and the lower substrate has a gate line and data lines intersecting with each other. In the manufacturing method of the FFS mode liquid crystal display device in which an element is arrange | positioned, 상기 하부기판 상에 게이트 라인, 게이트 절연막, 데이터 라인, 투명 공통전극, 절연층 및 투명 화소전극을 차례로 형성하는 단계를 포함하되,And sequentially forming a gate line, a gate insulating film, a data line, a transparent common electrode, an insulating layer, and a transparent pixel electrode on the lower substrate. 상기 데이터 라인을 형성하는 단계에서는, 상기 게이트 라인 상부에 상기 데이터 라인의 물질을 이용하여 전기적으로 독립된 반사 구조물을 형성하며, In the forming of the data line, an electrically independent reflective structure is formed on the gate line by using a material of the data line. 상기 투명 화소전극을 형성하는 단계에서는, 상기 화소영역에 상기 투명 공통전극의 상부에 상기 절연층을 사이에 두고 이격 배치되도록 형성하고, In the forming of the transparent pixel electrode, the pixel area is formed to be spaced apart from each other with the insulating layer interposed therebetween, 상기 상부기판 상에 차광막, 칼라필터, 오버코트를 차례로 형성하는 단계를 포함하되,Including forming a light shielding film, a color filter, and an overcoat in sequence on the upper substrate, 상기 차광막을 형성하는 단계에서는, 상기 게이트 라인에 대응되는 영역의 차광막을 제거하여 형성되고, In the forming of the light blocking film, the light blocking film in a region corresponding to the gate line is removed and formed. 상기 투명 화소전극은 그 말단이 상기 게이트 라인까지 돌출되어 상기 차광막과 상기 반사 구조물 사이에 개재되고, 상기 투명 화소전극은 상기 반사 구조물의 말단까지 연장되되 인접 화소영역의 투명 화소전극과 전기적으로 분리되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The transparent pixel electrode is protruded to the gate line and interposed between the light blocking layer and the reflective structure, and the transparent pixel electrode extends to the end of the reflective structure and is electrically separated from the transparent pixel electrode of an adjacent pixel region. Method of manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that. 제4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 돌출된 투명 화소전극은 상기 반사 구조물의 말단까지 연장되는 2개의 돌출부를 갖되, The protruding transparent pixel electrode has two protrusions extending to the end of the reflective structure, 상기 투명 화소전극의 각 돌출부의 측면 일 단부는 상기 차광막 말단과 상기 반사 구조물 말단 사이에 위치하고, 측면 타 단부는 상기 반사 구조물 말단과 상기 데이터 라인 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.One end side of each of the protrusions of the transparent pixel electrode is positioned between the end of the light blocking film and the end of the reflective structure, the other end side is located between the end of the reflective structure and the data line. . 제4항에 있어서, 공통전극과 화소전극은 ITO로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The method of claim 4, wherein the common electrode and the pixel electrode are formed of ITO.
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