KR20100064435A - 소듐클로라이드 입자를 포함하는 각질 제거용 화장료 조성물 및 제조방법 - Google Patents
소듐클로라이드 입자를 포함하는 각질 제거용 화장료 조성물 및 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
스크럽 제재로 소듐클로라이드 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 각질 제거용 화장료 조성물 및 그 제조방법이 개시된다. 소듐클로라이드를 이용한 각질 제거용 화장료 조성물은 소듐클로라이드 68 내지 75 중량%, 정제수 7 내지 15 중량%, 계면활성제 5 내지 8 중량% 를 포함하여 이루어질 수 있고, 점증제 0.01 내지 0.1 중량%가 포함될 수 있다.
본 발명에 의하면 소듐클로라이드 입자와 계면활성제가 각질과 노폐물을 제거하며 사용후에 별도의 세정과정이 필요없이 물로 간단히 씻어낼 수 있는 각질제거 화장료 조성물을 제공할 수 있다.
Description
본 발명은 화장료 조성물 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 피부 각질 제거용 화장료 조성물과 그 제조 방법에 관한 것이다.
피부에 있어서 피부의 최외각에 존재하는 표피는 피부에 대한 다양한 자극에 대응하는 실질적인 방어기제를 가지며, 표피는 피부 내의 수분을 일정량으로 유지시켜주는 보습 작용을 가진다. 이런 작용은 표피의 최외각에 일정량의 각질층이 존재해야만 효과적으로 수행될 수 있다.
피부가 받는 자극은 다양하며, 그 예로는 강한 바람, 혹서, 혹한, 자외선 등의 자연적인 자극들과 대기오염 물질, 산성비 등과 같은 인위 환경적인 자극들이 있다. 이들 자극은 다시 물리, 화학적 자극들로 구분 지을 수도 있다. 이러한 자극들에 대해 효과적으로 방어하는 대표적인 기제가 각질에서의 방어이다. 피부의 각질은 표피 최하층에서부터 증식하여 서서히 표피 최외각으로 상승한 후, 일정 기간이 경과하면 자연적으로 표피층에서 분리되어 나가는 것이 일반적이다. 이를 피부 각화(Keratinization)라 부른다.
현대사회에서는 과도한 스트레스로 인한 호르몬의 이상과 급작스런 외부환경의 변화로 인하여 피부의 정상 방어 기제를 능가하는 대기오염물질이나 자외선 등의 영향으로 각질층의 각질이 정상적인 주기로 떨어져 나가지 못하거나 혹은 균일하지 못하게 떨어져 나감으로써 각질층이 이상 발현되기도 한다.
이상 발현된 각질층으로 인하여 피부 톤이 일정치 않게 되어 피부가 거칠고, 칙칙해 보이게 된다. 또한 색조화장을 하였을 때 불균일한 각질층 때문에 화장이 고르지 않게 보이고, 소위 말하는 들떠 보이는 듯한 화장이 이루어진다.
이러한 문제점들을 해결하기 위하여 다양한 각질 제거용 화장료들이 개발되고 있다. 각질 제거용 화장료들을 크게 구분하면 각질을 제거하는 방법에 따라 화학적 각질 제거용 화장료와 물리적 각질 제거용 화장료로 나눌 수 있다.
화학적 각질 제거 방법은 알파히드록시산(AHA ; Alpha Hydroxy Acid) 또는 베타히드록시산(BHA ; Beta Hydroxy Acid) 등 화학물질로 각질을 녹여 제거하는 것이며, 물리적 각질 제거 방법은 스크럽(scrub) 등을 제형 내에 첨가하여 화장료를 각질을 제거하고자 하는 부위에 도포 후 손이나 도구를 사용하여 문지르므로서 각질을 탈리시키는 것이다.
일반적으로 사용되는 스크럽으로는 폴리에틸렌과 같은 인공적인 스크럽과 호두 껍데기, 복숭아나 살구와 같이 씨가 존재하는 과실의 씨를 갈아서 만든 천연 스크럽이 있다. 위에서 언급한 스크럽의 경우, 제조공정 중에 그 크기 및 모양을 조절하여 다양한 종류의 스크럽을 만들 수 있는 장점이 있으나, 이러한 스크럽들이 사용 중 눈에 들어가게 되는 경우에는 스크럽의 제거가 용이치 않으며, 안구 내에서 상당한 고통과 함께 이물감을 느끼고, 제거과정 중 눈을 비비게 되었을 경우에는 안구의 심각한 손상을 가져 올 여지가 있다.
따라서 물리적 방법에 의한 각질 제거용 화장료를 개발함에 있어 각질을 제거하고자 하는 부위에 문지를 때에는 그 입자를 유지하여 각질을 효과적으로 제거하면서도 혹시 있을지 모를 안구 내 유입시 쉽게 제거할 수 있어 안구자극과 같은 자극은 없앨 수 있는 화장품을 개발하는 것이 요청된다.
본 발명은 상술한 종래의 물리적 각질 제거용 화장료의 문제점을 제거하기 위한 것으로, 물리적 각질 제거용 화장료의 특징을 가져 화학적 자극 없이 조절이 용이하고 각질을 효과적으로 제거할 수 있는 동시에, 사용 후에는 제거가 간편하고, 사용중에 화장료가 눈에 들어가는 경우에도 스크럽을 극히 용이하게 제거할 수 있어서 안구 자극과 손상의 염려를 없앨 수 있는 피부 각질 제거용 화장료 조성물과 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 피부 각질 제거용 화장료 조성물은, 스크럽 제재로 소듐클로라이드 입자를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 소듐클로라이드를 이용한 각질 제거용 화장료 조성물은 소듐클로라이드 68 내지 75 중량%, 정제수 7 내지 15 중량%, 계면활성제 5 내지 8 중량% 를 포함하여 이루어진다. 본 발명에서 사용하기에 적합한 제형을 이루기 위해서는 단순히 계면활성제의 패킹(packing), 점증제에 의한 점증, 왁스에 의한 점증이 독립적으로 이루어질 경우 제형이 잘 유지되지 않을 수 있으며, 바람직하게는 본 발명에 따른 화장료 조성물에는 별도의 점증제 0.01 내지 0.1 중량%가 포함된다.
본 발명의 소듐클로라이드로는 시중에서 판매하고 있는 일반적으로 정제된 소듐클로라이드를 사용할 수 있다. 다만 화장료 조성물에 포함된 스크럽 입자의 크기는 피부에 직접적으로 문질러 사용하기 때문에 그 입자가 피부에 사용하여도 긁힘이나 불필요한 자극이 없거나 자극이 최소화 될 수 있는 크기가 되도록 선택하며, 통상 100μm 내지 1000μm 로 한다. 입자의 크기는 대구경 입자의 원재료를 롤러에 통과시키는 압연공정 등을 통해 조절할 수 있다.
본 발명의 계면활성제는 소듐라우릴에테르설페이트(SLES), 암모늄라우릴에테르설페이트(ALES), 소듐라우릴설페이트(SLS), 암모늄라우릴설페이트(ALS), 디소듐코코암포디아세테이트, 소듐라우로일글루타메이트, 소듐미리스토일글루타메이트, 소듐스테아로일글루타메이트, 티이에이-N-아실글루타메이트, 티이에이코코일글루타메이트, 소듐라우로일사코시네이트, 야자유지방산디에탄올아미드와 같은 계면활성제 개별 물질 혹은 이들 중 2 이상을 포함하는 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택된 것일 수 있다. 이때, 본 발명에서 소듐클로라이드를 제외한 상태의 액상을 이루는 주된 성분인 정제수와 계면활성제가 서로 혼합된 상태에서 충분한 점성을 가질 수 있도록 선택되는 것이 바람직하며, 전체 화장료 조성물에서 계면활성제가 5 내지 8 중량%를 포함하도록 이루어진다.
본 발명에서 점증제는 산탄검, 로커스트콩검, 카라기난검, 셀룰로오스검, 구아검과 같은 이온 및 염에 높은 안정성을 가지는 단일 점증제나 이들 중 2이상을 포함하는 혼합물을 포함하여 이루어지는 그룹에서 선택된 것이 될 수 있다.
이외에도, 본 발명의 화장료 조성물에는 본 발명의 목적범위 내에서 스크럽 화장료에 통상적으로 사용하는 성분으로서 보습제와 제품의 상품성과 보존성의 유 지를 위한 첨가제, pH조절제, 향료, 자외선 차단제, 색소, 방부제와 같은 첨가제를 함께 사용할 수 있다.
한편, 본 발명의 화장료 조성물을 형성하기 위해서는 화장료 조성 물질 가운데 스크럽 물질인 소듐클로라이드를 제외한 잔여 조성물을 먼저 혼합하여 액상부를 형성하는 단계, 소듐클로라이드를 스크럽 상당 입자경을 가지는 분말 상으로 가공하는 단계, 액상부에 가공된 소듐클로라이드를 첨가하면서 교반하는 단계가 필요하다. 이때, 소듐클로라이드를 첨가하기 전에 액상소듐클로라이드가 용해된 수용액 중의 타 성분들의 안정성을 높이기 위한 안정화제로서 피이지(PEG)-150 펜타에리스리틸테트라스테아레이트를 액상부에 포함되도록 하는 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면 소듐클로라이드 입자와 계면활성제가 각질과 노폐물을 제거하며 사용후에 별도의 세정과정이 필요없이 물로 간단히 씻어낼 수 있는 각질제거 화장료 조성물 및 그의 제조방법을 제공할 수 있다.
또한 물에 쉽게 용해될 수 있는 소듐클로라이드를 스크럽 물질로 사용함으로써 본 발명의 화장료 조성물 사용 중에 눈에 화장료 조성물이 들어가는 경우에도 별도의 조치 없이 자연스럽게 스크럽이 눈물에 녹아나올 수 있어 안구 손상을 방지할 수 있다.
이하, 구체적인 실시예를 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 하나의 실시예에서 소듐클로라이드를 이용한 각질제거 화장료 조성물은 소듐클로라이드 68 내지 75 중량%, 정제수 7 내지 15 중량%를 포함하는 수성부와 계면활성제부 5 내지 8 중량%, 점증제 0.01 내지 0.1 중량%를 포함하여 이루어진다.
여기서, 화장료의 구성성분 중 소듐클로라이드는 시중에서 판매하는 일반적으로 정제된 소듐클로라이드를 가공하여 입자 크기를 조절한 뒤 전체에서 68 내지 75중량%의 양이 함유되도록 한다. 소듐클로라이드가 68중량% 미만일 경우에는 사용하기 편한 크림 성상의 제형이 형성이 되기 어렵고, 75중량%를 초과하는 경우에는 제형이 화장품으로 사용하기 곤란할 정도로 높은 경도를 갖게 되는 문제가 발생한다.
사용되는 스크럽 입자로서 소듐클로라이드는 피부에 직접 닿아 각질의 제거를 하기 때문에 그 입자가 균일하고 크기가 피부에 사용하였을 때 각질 제거의 효과는 가지면서 강한 자극이 생기지 않을 정도로 적당한 크기여야 하며, 통상 직경이 100μm 내지 1000μm 로 한다. 입자경이 너무 작으면 피부 각질을 박리하는 효과가 미약하게 되며, 입자경이 너무 크면 박리효과는 뛰어나도 피부 자극이 심하여 부작용이 발생하게 된다. 입자의 크기는 대구경 입자의 원재료를 롤러에 통과시키는 압연공정 등을 통해 조절할 수 있다.
본 발명의 화장료 조성물의 구성성분 중 정제수 성분은 7 내지 15중량%의 양으로 함유된다. 정제수는 단순히 제품에 직접 첨가되는 정제수 뿐만 아니라, 다른 화장품 원료에서 첨가되는 물의 양도 동시에 고려되어야 한다. 정제수의 함량이 7 중량부 미만일 경우와 15중량% 초과하는 경우에는 너무 굳어지거나 물처럼 흐르게 되어 사용에 적합한 크림 성상의 굳기를 가지는 제형의 형성이 어렵다.
상기 화장료의 구성성분 중 계면활성제는 5 내지 8 중량%의 양으로 함유되는 것을 특징으로 한다. 계면활성제는 소듐라우릴에테르설페이트(SLES), 암모늄라우릴에테르설페이트(ALES), 소듐라우릴설페이트(SLS), 암모늄라우릴설페이트(ALS), 디소듐코코암포디아세테이트, 소듐라우로일글루타메이트, 소듐미리스토일글루타메이트, 소듐스테아로일글루타메이트, 티이에이-N-아실글루타메이트, 티이에이코코일글루타메이트와 같은 계면활성제 단독이나 2 이상의 혼합물로 이루어지는 그룹에서 선택하되, 소듐클로라이드를 제거한 액상부의 점성이 사용에 적당한 정도를 이룰 수 있는 것을 선택한다. 계면활성제 성분부가 5 중량% 미만일 경우에는 제형의 액상부중 계면활성제의 비율이 낮아 계면활성제에 의한 점도의 형성이 어렵고, 8 중량%를 초과하는 경우에는 제형의 액상부에서 계면활성제의 비율이 너무 높아 점도가 높게 형성되어 스크럽제를 첨가하는 데 있어 어려움이 발생한다. 또한 화장료를 사용하였을 때 너무 많은 거품이 발생하여 화장료 본래의 목적에 부합하지 않는 문제점도 발생할 수 있다.
본 발명에서 포함될 수 있는 점증제는 0.01 내지 0.1중량부의 양으로 함유되는 것이 적당하며, 산탄검, 로커스트콩검, 카라기난검, 셀룰로오스검, 구아검과 같은 이온 및 염에 강한 점증제 단독 또는 이들 가운데 2 이상을 포함하는 혼합물로 이루어지는 그룹 중에서 선택된 것이 될 수 있다. 점증제가 0.01 중량% 미만일 경우에는 점증의 효과가 미약하여 사용감이 좋은 제형의 형성이 어렵고 0.1 중량%를 초과하는 경우에는 너무 높은 점도가 형성되어 스크럽제를 첨가하는 데 있어 어려움이 발생할 수 있다.
본 발명에서 소듐클로라이드가 이온 상태로 용해된 수용액 중에서는 다른 분산질이나 용질의 상태가 안정성을 잃고 석출, 분리되는 경향이 있으므로 분산되거나 용해된 타 성분들의 안정성을 높이기 위한 안정화제로서 피이지-150 펜타에리스리틸테트라스테아레이트가 0.1 내지 1.0 중량% 포함되는 것이 바람직하다.
본 발명의 화장료 조성물에서의 소듐클로라이드와 액상부의 상태 및 전체에 대한 소듐클로라이드 함량비인 68 내지 75중량% 수치에 대해 보다 상세히 살펴보면, 소듐클로라이드는 비중이 2가 조금 넘고, 물에 대한 용해도도 상온에서 물 100g당 36g 정도가 녹아 0.36으로 아주 높은 것은 아니며, 소듐클로라이드 입자를 제외한 본 발명 화장료 조성물의 액상부 비중은 1 내외로 소듐클로라이드의 대략 절반 정도가 된다. 소듐클로라이드의 입자를 균일한 크기의 구형이라고 가정하였을 때 이 입자들의 배열은 육방밀집구조를 형성하게 될 것이다. (육방밀집구조 이외에는 체심입방구조가 있지만 이 밀집구조의 경우는 대부분 홑원소물질에서 발견되는 입자의 구조이므로 위의 소듐클로라이드의 밀집구조에서는 제외하여도 무방하다.) 언급된 육방밀집구조의 경우 공극률은 이론적으로 26%가 되고 본 화장품 제형에서는 이 공극에 스크럽을 제외한 액상이 존재하게 된다.
이론적으로 용해되지 않은 소듐클로라이드 입자들은 비중이 상대적으로 커서 액상부에 떠있는 상태는 아니라고 보고, 소듐 클로라이드 입자가 하부에서 차례로 적층되면서 육방밀집구조를 취하고, 입자들 사이의 공극에 액상부가 채워지고, 액 상부의 액위는 경시적으로 소듐클로라이드 입자들이 결정으로 석출되지 않도록 최소한 입자 더미의 최상부를 덮을 수 있어야 한다고 볼 때, 소듐클로라이드 입자와 액상부의 중량비는 부피비와 비중비를 고려하면 대략 74:13 정도가 되고 전체중량을 100으로 하면 대략 84: 16 정도가 된다. 액상부에도 소듐클로라이드가 일부 용해되어 있다고 보면 소듐클로라이드는 85% 이상이 되어 본원 발명의 소듐클로라이드 함량비를 넘게 된다.
이상의 계산에서 물론, 액상부의 정제수의 함량에 따라 소듐클로라이드의 중량비는 차이를 가질 수 있지만, 소듐클로라이드의 용해도는 아래 표 1과 같이 온도에 따라서 크게 변화하지 않고, 소듐클로라이드의 용해도에 주된 기여를 하는 정제수의 함량비도 7 내지 15중량%로 큰 것은 아니므로 정제수의 함량이 7중량%에서 15중량%로 두 배 이상 변화해도 본 화장료 제형에서는 정제수 함유량 범위에 대해 20℃ 상온에서 약 2.5 내지 5.4 중량%가 용해되어 그 차이는 전체 소듐클로라이드에서 차지하는 비중은 크지 않다. 또한, 실제로 소듐클로라이드의 크기가 일정하지 않고 그 모양이 구형이 아니므로 일부 차이는 있을 수 있다.
| 온도 (℃) | 0 | 20 | 40 | 60 | 80 | 100 |
| 소듐클로라이드 | 35.7 | 36.0 | 36.6 | 37.3 | 38.4 | 39.1 |
이러한 오차 요인을 감안할 때에도, 본 발명에서의 소듐클로라이드 입자와 액상부의 상태는 액상부가 소듐클로라이드 입자가 쌓여있는 더미의 최상단을 충분히 덮어 잠기게 하는 상태가 된다. 따라서, 본 발명의 화장료 조성물이 사용에 적당한 굳기를 가지기 위해서는 단지 내부의 소듐 클로라이드 입자 더미를 덮을 정도만 되어서는 충분하지 않고, 유동성을 가지기 위해 일부 여분의 액상부가 필요함을 알 수 있다.
그러나, 이 여분의 액상부가 너무 많을 때에는 사용시 크림 제형의 굳기를 가지지 않고 흘러버리는 성질이 있고, 액상부와 스크럽 입자 사이의 분리현상이 심하여 사용시에 스크럽 함량이 일정하지 않은 문제가 발생함을 생각할 수 있다.
따라서, 본 발명의 소듐클로라이드 함량의 최대값은 여분의 액상부를 확보하는 역할을, 함량의 최소값은 액상부와 스크럽 입자의 분리 방지와 점도 및 굳기 유지라는 측면에서 요구된다고 볼 수 있으며, 본 발명이 화장료 조성물 사용시 스크럽 입자가 액상부와 함께 균일한 조성을 이루도록 하기 위해서는 비록 본 발명 화장료 조성물이 사용에 편리한 점도를 가지고, 크림상 제형을 가지는 경우에도 약간 흔들어 교반을 하는 동작이 바람직함을 알 수 있다.
한편, 본 발명의 화장료 조성물을 형성하기 위해서는 스크럽 물질인 소듐클로라이드를 제외한 조성물을 혼합하여 액상부를 먼저 형성하고, 적절한 크기 범위의 입자로 가공된 정제된 소듐클로라이드를 서서히 액상부에 첨가하면서 교반하는 작업이 필요하다.
본 발명의 일 실시예에 따른 소듐클로라이드를 이용한 각질제거 화장료 조성물의 제조방법은, (1) 점증제 가운데 산탄검, 로커스트콩검, 카라기난검, 셀룰로오스검, 구아검과 같은 이온 및 염에 강한 점증제 단독 또는 2이상의 혼합물로 이루어지는 그룹 중에서 선택된 점증제 0.01 내지 0.1 중량부를 정제수에 투입하여 충분히 분산시키는 점증제분산단계; (2) 진공유화조에 계면활성제 성분부 중 소듐라우릴에테르설페이트(SLES), 암모늄라우릴에테르설페이트(ALES), 소듐라우릴설페이트(SLS), 암모늄라우릴설페이트(ALS), 디소듐코코암포디아세테이트, 소듐라우로일글루타메이트, 소듐미리스토일글루타메이트, 소듐스테아로일글루타메이트, 티이에이-N-아실글루타메이트, 티이에이코코일글루타메이트와 같은 계면활성제 2 이상의 혼합물로 이루어지는 그룹 중에서 선택된 계면활성제 5 내지 8중량부를 점증제가 분산된 수상부에 투입한 후 75 내지 85℃의 온도로 유지시키면서 충분히 교반시킨 후 40 내지 45℃의 온도로 냉각시키는 1차혼합단계; (3) 상기 (2)의 1차 혼합단계 이후 소듐클로라이드 68 내지 75 중량%를 진공유화조에 투입하여 충분히 교반하는 것으로 이루어진다.
상기 (3)의 소듐클로라이드의 교반이후 상품성과 안정성을 높이고 소비자의 기호를 만족시키기 위하여 첨가제, 점도형성제, pH조절제, 향료, 자외선 차단제, 색소, 방부제와 같은 성분을 첨가하여 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서의 각 성분들의 조성비는 기본적인 이론적 고려와 함께 반복적인 실험을 통한 구해진 최적화된 값으로서, 본 발명이 이루고자 하는 목적에 최적이라고 여겨지는 조성비를 기재한 것이라 할 수 있다.
상기한 바와 같은 구성 및 성분비에 따라 혼합되어 수득된 본 발명에 따른 소듐클로라이드를 이용한 각질제거 화장료 조성물은 사용이 용이한 용기에 주입하여 사용하게 되며, 소듐클로라이드와 계면활성제, 점증제 및 첨가물이 크림 상을 이루는 굳기, 점도로 만들어진다.
이하에서 본 발명의 실시예 및 비교예들의 조성 및 특성이 비교, 기술된다.
이하의 실시예들은 본 발명을 예증하기 위한 것으로서 본 발명의 범위를 국한시키는 것으로 이해되어서는 안될 것이다.
(실시예 1)
하기 표 2에 나타낸 조성에 따라 각질제거 화장료 조성물을 제조하였으며 제조과정은 다음과 같다. 표의 A상의 물질들인 점증제로서 산탄검 0.05중량% 폴리올계 보습제로서 프로필렌글리콜 5.00중량% 및 1,3-부틸렌글리콜 2.00중량%, 안정화제로서 디소듐이디티에이(disodium EDTA) 0.05중량%를 여타 성분의 잔량에 해당하도록 계량된 정제수에 첨가하여 완전히 용해 혹은 분산시킨다.
계면활성제로서 표의 B상의 물질들인 디소듐코코암포디아세테이트 2.00중량%, 소듐미리스토일글루타메이트 3.00 중량%, 소듐라우릴에테르설페이트(28중량% 수용액) 5.00중량%, 야자유지방산디에탄올아미드 1.00중량%와 산도조절제로서 표의 C상의 씨트릭애시드(구연산) 0.20중량%, 소듐클로라이드의 존재에도 불구하고 다른 성분들이 안정된 상태에서 점도를 가지도록 하기 위한 안정화제로서 표의 D상의 피이지-150 펜타에리스리틸테트라스테아레이트 0.80중량%를 진공유화조에 투입하고 80℃의 온도로 유지시키면서 20rpm으로 15분간 교반시켰다. 이때, 기타첨가제로서 미량의 방부제와 향료가 더 투입될 수 있다.
그 후 진공유화조를 43℃로 냉각시켰다. 그 후, 분말 상의 소듐클로라이드 70.0 중량%를 첨가한 후 소듐클로라이드가 충분히 균질한 혼합물이될 수 있도록 충분히 교반한 후, 탈포하여 경도를 형성하는 크림 상의 각질제거용 화장료 조성물을 제조하였다.
(실시예2)
여타 부분은 실시예 1과 동일한 방법으로 화장료 조성물을 제조하되, 소듐클로라이드를 75중량%로 투입하고, 이에 따라 정제수 함량이 그만큼 줄어들도록 하였다.
(비교예1)
여타 부분은 실시예1과 동일한 방법으로 화장료 조성물을 제조하되, 소듐클로라이드를 80중량% 투입하고, 이에 따라 정제수 함량이 그만큼 줄어 4.5중량%가 되도록 하였다.
(비교예2)
여타 부분은 실시예1과 동일한 방법으로 화장료 조성물을 제조하된, 계면활성제의 조성 및 함량을 표와 같이 하여 함유량이 3.9중량%, 정제수 함량이 17.5 중량%가 되도록 하였다.
(비교예3)
여타 부분은 실시예1과 동일한 방법으로 화장료 조성물을 제조하되, 소듐클로라이드를 65중량% 투입하고, 이에 따라 정제수 함량이 그만큼 늘어 19.5중량%가 되도록 하였다.
| 상 | 화학식 | 실시예1 | 실시예2 | 비교예1 | 비교예2 | 비교예3 |
| A | 정제수 | To 100 | To 100 | To 100 | To 100 | To 100 |
| 산탄검 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | |
| 프로필렌글리콜 | 5.00 | 5.00 | 5.00 | 5.00 | 5.00 | |
| 1,3-부틸렌글리콜 | 2.00 | 2.00 | 2.00 | 2.00 | 2.00 | |
| 디소듐이디티에이 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | |
| B | 디소듐코코암포디아세테이트 | 2.00 | 2.00 | 2.00 | - | 2.00 |
| 소듐미리스토일글루타메이트 | 3.00 | 3.00 | 3.00 | - | 3.00 | |
| 소듐라우릴에테르설페이트(28%) | 5.00 | 5.00 | 5.00 | 5.00 | 5.00 | |
| 소듐라우로일사코시네이트 (30%) | - | - | - | 5.00 | - | |
| 야자유지방산디에탄올아미드 | 1.00 | 1.00 | 1.00 | 1.00 | 1.00 | |
| C | 씨트릭애시드 | 0.20 | 0.20 | 0.20 | 0.20 | 0.20 |
| D | 피이지-150 펜타에리스리틸테트라스테아레이트 | 0.80 | 0.80 | 0.80 | 0.80 | 0.80 |
| F | 소듐클로라이드 | 70.0 | 75.0 | 80.0 | 70.0 | 65.0 |
(실험례)
소듐클로라이드를 포함한 본 발명의 각질제거 화장료 조성물은 실시예 1, 2와 비교예 1, 2, 3에서 나타낸 함량비로 제조하였고, 제조된 조성물들을 사용이 용이한 용기에 주입하여 준비하였다.
먼저 위에서 제조한 조성물을 피부에 도포하였을 때 실시예 1과 2에서는 사용하기에 용이한 정도의 굳기(경도)를 가지며 피부에 부드럽게 도포되는 양호한 결과를 얻었다. 실시예 1에 비하여 실시예 2의 경우에는 제형의 경도가 약간 높아 도포하는 데에 약간의 힘이 필요한 특징이 있었다.
그러나 비교예 1에서처럼 소듐클로라이드를 80중량% 첨가하였을 경우 제형 자체가 교반이 어려워 화장료의 제조가 어려웠으며 시간이 지남에 따라 제형이 돌처럼 딱딱하게 굳어 사용할 수 없게 되었다.
또한, 비교예 2에서처럼 제조하였을 경우 계면활성제의 유효성분이 4 중량% 미만으로 첨가되고 정제수가 15중량%를 초과하여 첨가되어 제형이 형성되지 않고 물처럼 흐르는 성상의 조성물이 만들어져 제품을 사용할 수 없게 되었다. 뿐만 아니라 경시적으로 용해되지 않은 소듐클로라이드가 제형 내에서 가라앉게 되어 제품으로서의 상품성이 저하되는 문제점도 발생되었다.
또한, 비교예 3에서처럼 제조하였을 경우 용해되지 않은 소듐클로라이드의 공극에 비하여 액상부의 비율이 너무 높아 경시적으로 제형의 상층에 소듐클로라이드 스크럽이 존재하지 않는 분리된 것과 같은 성상으로 존재하여 제품의 상품성이 저하되는 문제점이 발생한다.
본 발명에 따라 수득되는 조성물은 경도가 있는 크림상의 화장료를 사용하기에 용이한 용기에 주입하여 스크럽 화장료 조성물로 사용하면, 즉, 각질을 제거하고자 하는 부위의 피부에 도포하여 피부 표면에서 문질러 주면, 용해되지 않은 소듐클로라이드 입자와 계면활성제가 각질과 노폐물, 삼투압에 의해 피부의 과잉수분을 제거할 수 있으며, 사용후에 별도의 세정제에 의한 세정 과정이 필요없이 물로 간단히 씻어낼 수 있는 각질제거 화장료를 제작하게 되었음을 확인할 수 있었다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
Claims (5)
- 소듐클로라이드 68 내지 75 중량%, 정제수 7 내지 15 중량%, 계면활성제 5 내지 8 중량%를 포함하여,스크럽 물질로 소듐클로라이드 입자를 가지는 것을 특징으로 하는 각질 제거용 화장료 조성물.
- 제 1 항에 있어서,점증제 0.01 내지 0.1 중량%를 더 포함하며,상기 점증제는 산탄검, 로커스트콩검, 카라기난검, 셀룰로오스검, 구아검 및 이들 가운데 2 이상의 혼합물로 이루어지는 그룹 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 각질 제거용 화장료 조성물.
- 제 1 항에 있어서,소듐클로라이드가 용해된 수용액 중의 타 성분들의 안정성을 높이기 위한 안정화제로서 피이지-150 펜타에리스리틸테트라스테아레이트가 0.1 내지 1.0 중량 % 포함되는 것을 특징으로 하는 각질 제거용 화장료 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 상기 계면활성제는소듐라우릴에테르설페이트(SLES), 암모늄라우릴에테르설페이트(ALES), 소듐 라우릴설페이트(SLS), 암모늄라우릴설페이트(ALS), 디소듐코코암포디아세테이트, 소듐라우로일글루타메이트, 소듐미리스토일글루타메이트, 소듐스테아로일글루타메이트, 티이에이-N-아실글루타메이트, 티이에이코코일글루타메이트, 소듐라우로일사코시네이트, 야자유지방산디에탄올아미드 각각과 이들 중 2 이상을 포함하는 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 각질 제거용 화장료 조성물.
- 제 1 항의 각질 제거용 화장료 조성물을 제조하는 방법에 있어서,상기 스크럽 물질인 소듐클로라이드를 제외한 잔여 조성물을 먼저 혼합하여 액상부를 형성하는 단계,상기 소듐클로라이드를 스크럽 상당 입자경을 가지는 분말 상으로 가공하는 단계,상기 액상부에 상기 가공된 소듐클로라이드를 첨가하면서 교반하는 단계를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 각질 제거용 화장료 조성물 제조 방법.
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| KR101449495B1 (ko) * | 2012-08-29 | 2014-10-15 | 주식회사코리아코스팩 | 씨오투 슈가 스크럽과 씨오투 슈가스크럽 제조방법 |
| FR3133015A1 (fr) * | 2022-02-28 | 2023-09-01 | L'oreal | composition pour le soin et/ou le nettoyage de la peau |
-
2008
- 2008-12-05 KR KR1020080122866A patent/KR20100064435A/ko not_active Ceased
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