KR20100062597A - A printed circuit board comprising a burried-pattern and a method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A printed circuit board and a manufacturing method thereof are provided to remove the fault of a PCB due to plating deviation. CONSTITUTION: A via(310) electrically conducts a circuit pattern(710) formed on an insulator(100) and the up/down surface of the insulator. The via is composed of an electroless plated layer formed in the inner wall of a via hole and an electrolytic plated layer. A plugging ink(500) charges the inside of the via hole.

Description

매립패턴을 갖는 인쇄회로기판 및 그 제조방법{A PRINTED CIRCUIT BOARD COMPRISING A BURRIED-PATTERN AND A METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}A printed circuit board having a buried pattern and a manufacturing method thereof {A PRINTED CIRCUIT BOARD COMPRISING A BURRIED-PATTERN AND A METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이고, 보다 상세하게는 비아홀에 먼저 비아를 형성하고 이후에 순차적으로 회로패턴을 형성하기 때문에 안정적으로 절연재 내부에 매립된 미세한 피치의 회로패턴을 형성할 수 있는 인쇄회로기판의 구조 및 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed circuit board having a buried pattern and a method of manufacturing the same, and more particularly, because a via pattern is formed first in a via hole and subsequently a circuit pattern is sequentially formed. The present invention relates to a structure and a manufacturing method of a printed circuit board capable of forming a pattern.

전자 산업의 발달에 따라 전자부품의 고기능화, 소형화에 대한 요구가 급증하고 있다. 이러한 추세에 대응하고자 인쇄회로기판 또한 회로 패턴의 고밀도화가 요구되고 있으며, 이에 다양한 미세 회로 패턴 구현 공법이 고안, 제시되어 적용되고 있다.With the development of the electronic industry, the demand for high functionalization and miniaturization of electronic components is increasing rapidly. In order to cope with such a trend, printed circuit boards are also required to have higher density of circuit patterns, and various fine circuit pattern implementation methods have been devised, presented, and applied.

본 발명은 이러한 미세 회로 패턴(fine circuit pattern) 구현 방법들 중에서 회로패턴이 절연층 내부로 매립되어 회로 패턴의 고밀도화를 구현하는 보다 안정적인 구조 및 제조방법에 관하여 기술하고자 한다.The present invention is to describe a more stable structure and manufacturing method for implementing a high density of the circuit pattern by embedding the circuit pattern in the insulating layer of the fine circuit pattern (implementation method).

도 1은 종래기술에 따라 인쇄회로기판을 제조하는 방법을 도시하는 도면이다. 1 is a view showing a method for manufacturing a printed circuit board according to the prior art.

먼저, 도 1a에 도시된 바와 같이, 절연층(1)의 양면에 동박(3)이 적층된 양면동박적층판이 제공되면 도 1b에 도시된 바와 같이, CNC 드릴 등을 이용하여 비아홀(5)을 가공한다. 이후 도 1c에 도시된 바와 같이, 비아홀(5) 내벽에 도금층(7)을 형성하고, 도 1d에 도시된 바와 같이, 비아홀(5) 내부에 플러깅 잉크(9)를 충전한 다음, 도 1e에 도시된 바와 같이, 돌출된 플러깅 잉크(9)를 제거한다. 이후, 에칭 레지스트(미도시)를 적층하고 패터닝한 후 노출된 도금층(7) 및 동박(3)을 제거하여 도 1f에 도시된 바와 같은 양면인쇄회로기판을 제조할 수 있다.First, as shown in FIG. 1A, when a double-sided copper clad laminate in which copper foils 3 are laminated on both sides of the insulating layer 1 is provided, as shown in FIG. 1B, the via hole 5 may be formed using a CNC drill or the like. Processing. Thereafter, as shown in FIG. 1C, the plating layer 7 is formed on the inner wall of the via hole 5, and as shown in FIG. 1D, the plugging ink 9 is filled in the via hole 5, and then, in FIG. 1E. As shown, the protruding plugging ink 9 is removed. Thereafter, an etching resist (not shown) may be laminated and patterned, and then the exposed plating layer 7 and copper foil 3 may be removed to manufacture a double-sided printed circuit board as shown in FIG. 1F.

이후, 도 1g에 도시된 바와 같이, 추가 빌드업층을 형성하기 위해 양면인쇄회로기판의 상부 및 하부에 추가 절연층(11)을 적층하고, 도 1h에 도시된 바와 같이, 하부 회로층을 노출하는 블라인드 비아홀(13)을 가공한다. 다음, 도 1i에 도시된 바와 같이, 추가 절연층(11)의 표면 및 블라인드 비아홀(13) 내벽에 무전해 도금층(15)을 형성하고, 도 1j에 도시된 바와 같이, 도금레지스트층(17)을 적층하고 패터닝한다. 이후 도 1k에 도시된 바와 같이, 무전해 도금층(15)을 인입선으로한 전해도금을 수행하여 도금 레지스트층(17)에 형성된 개구부에 회로패턴(21) 및 비아(19)를 형성하고, 도 1l에 도시된 바와 같이, 잔류한 도금 레지스트층(17)을 제거하고, 도 1m에 도시된 바와 같이, 플레쉬 에칭을 통해 노출된 무전해 도금층(15)을 제거함으로써 4층 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.Thereafter, as illustrated in FIG. 1G, an additional insulating layer 11 is stacked on and under the double-sided printed circuit board to form an additional build-up layer, and as shown in FIG. 1H, exposing the lower circuit layer. The blind via hole 13 is machined. Next, as shown in FIG. 1I, an electroless plating layer 15 is formed on the surface of the additional insulating layer 11 and the inner wall of the blind via hole 13, and as shown in FIG. 1J, the plating resist layer 17 is formed. Are stacked and patterned. Thereafter, as shown in FIG. 1K, the circuit pattern 21 and the vias 19 are formed in the openings formed in the plating resist layer 17 by performing electroplating using the electroless plating layer 15 as a lead wire, and FIG. 1L. As shown in FIG. 1, a four-layer printed circuit board may be manufactured by removing the remaining plating resist layer 17 and removing the electroless plating layer 15 exposed through flash etching, as shown in FIG. 1M. have.

상술한 4층 인쇄회로기판의 제조공정에서 초기 양면인쇄회로기판의 회로층을 형성할 때에는 서브트렉티브(subtractive) 공법으로 회로패턴을 형성하는 공정을 서술하였고, 추가 빌드업층은 종래의 SAP(Semi Additive Process) 방식으로 회로층 을 형성하는 공정을 서술하였다.When forming the circuit layer of the initial double-sided printed circuit board in the manufacturing process of the four-layer printed circuit board described above, a process of forming a circuit pattern by a subtractive method has been described, and the additional build-up layer is a conventional SAP (Semi). The process of forming a circuit layer in an additive process has been described.

그러나, 반도체용 기판 등 인쇄회로기판이 미세 회로화 되면서 더 이상 서브트렉티브 공법으로 미세 회로를 형성할 수 없게 되었다. 미세 회로 형성공정으로 개발된 SAP 공법도 이제 거의 한계에 다다르고 있어서 더욱 미세한 회로를 형성하기 위한 대안 공정으로 trench 공법이 유력하게 떠오르고 있다.However, as printed circuit boards such as semiconductor substrates have become fine circuits, it is no longer possible to form fine circuits by the subtractive method. The SAP method developed as a microcircuit forming process is also nearing its limit, and the trench method is emerging as an alternative process for forming a finer circuit.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 창출된 것으로서, 회로패턴이 절연층 내부로 매립되어 미세회로의 구현이 가능한 인쇄회로기판의 제조방법 및 구조를 제안한다.The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, and proposes a method and a structure of a printed circuit board in which a circuit pattern is embedded in an insulating layer to realize a fine circuit.

본 발명에 따른 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법은, (A) 절연재를 제공하고, 상기 절연재에 비아홀 및 회로패턴 형성용 음각패턴을 형성하는 단계; (B) 상기 비아홀의 내벽에 상기 절연재의 상하면을 전기적으로 도통하는 비아를 형성하고, 상기 비아홀 내부에 플러깅 잉크를 충전하는 단계; 및 (C) 상기 음각패턴에 도전성 금속을 충전하여 회로패턴을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 단계는 순차적으로 진행되는 것을 특징으로 한다.In accordance with another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board having a buried pattern, the method comprising: (A) providing an insulating material, and forming an intaglio pattern for forming a via hole and a circuit pattern in the insulating material; (B) forming a via on the inner wall of the via hole to electrically connect the upper and lower surfaces of the insulating material, and filling plugging ink into the via hole; And (C) filling the intaglio pattern with a conductive metal to form a circuit pattern, wherein the steps are performed sequentially.

본 발명의 바람직한 한 특징으로서, 상기 (A) 단계는, (ⅰ) 절연재를 제공하고 상기 절연재를 관통하는 비아홀을 형성하는 단계; 및 (ⅱ) 레이저를 이용하여 상기 절연재의 외층에 회로패턴 형성용 음각패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것에 있다.As a preferred feature of the invention, the step (A) comprises the steps of: (i) providing an insulating material and forming a via hole penetrating the insulating material; And (ii) forming an intaglio pattern for forming a circuit pattern on an outer layer of the insulating material by using a laser.

본 발명의 바람직한 다른 특징으로서, 상기 (B) 단계는, (ⅰ) 상기 비아홀의 내벽 및 상기 절연재의 외층에 무전해 도금 및 전해도금을 수행하여 제1 금속층을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 비아홀의 내부에 플러깅 잉크를 충전하는 단계; 및 (ⅲ) 상기 절연재의 외층이 노출되도록 상기 절연재 상부에 형성된 상기 제1 금속층을 제거하는 단계;를 포함하는 것에 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the step (B) may include: (i) forming a first metal layer by performing electroless plating and electroplating on the inner wall of the via hole and the outer layer of the insulating material; (Ii) filling a plugging ink into the via hole; And (iii) removing the first metal layer formed on the insulating material so that the outer layer of the insulating material is exposed.

본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 (C) 단계는, (ⅰ) 상기 음각패턴을 포함하는 상기 절연재의 외층에 무전해 도금 및 전해 도금을 수행하여 제2 금속층을 형성하는 단계; 및 (ⅱ) 상기 절연재의 외층이 노출되도록 상기 제2 금속층을 두께방향으로 일부를 제거하는 단계;를 포함하는 것에 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the step (C) may include: (i) forming a second metal layer by performing electroless plating and electrolytic plating on an outer layer of the insulating material including the intaglio pattern; And (ii) removing a portion of the second metal layer in a thickness direction so that an outer layer of the insulating material is exposed.

본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 (ⅱ) 단계 이후에, 상기 절연재 외부로 돌출된 상기 플러깅 잉크를 제거하는 단계를 더 포함하는 것에 있다.In another preferred aspect of the present invention, after the step (ii), the method further includes the step of removing the plugging ink protruding out of the insulating material.

본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 (ⅲ) 단계는, 물리적 연마공정, 화학적 에칭공정, 또는 물리적 연마공정과 화학적 에칭공정의 조합에 의해 수행되는 것에 있다.As another preferable feature of the present invention, the step (iii) is performed by a physical polishing process, a chemical etching process, or a combination of a physical polishing process and a chemical etching process.

본 발명의 바람직한 또 다른 특징으로서, 상기 (ⅱ) 단계는, 물리적 연마공정, 화학적 에칭공정, 또는 물리적 연마공정과 화학적 에칭공정의 조합에 의해 수행되는 것에 있다.As another preferable feature of the present invention, the step (ii) is performed by a physical polishing process, a chemical etching process, or a combination of a physical polishing process and a chemical etching process.

본 발명에 따른 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판은, 절연재의 상에 형성된 회로패턴 및 절연재의 상하면을 전기적으로 도통하는 비아를 포함하는 인쇄회로기판에 있어서, 상기 비아는 상기 절연재를 관통하는 비아홀 내벽에 형성된 무전해 도금층과 전해 도금층으로 이루어지고, 상기 비아홀 내부를 충전하는 플러깅 잉크를 더 포함하며, 상기 절연재의 두께방향 중심선을 기준으로한 상기 회로패턴의 노출면의 높이는 상기 절연재의 표면 높이와 동일하거나 또는 낮은 것을 특징으로 한 다.In a printed circuit board having a buried pattern according to the present invention, a printed circuit board including a circuit pattern formed on an insulating material and vias electrically connecting upper and lower surfaces of the insulating material, wherein the vias are formed on an inner wall of the via hole penetrating the insulating material. It is formed of an electroless plating layer and an electrolytic plating layer, and further comprises a plugging ink filling the inside of the via hole, the height of the exposed surface of the circuit pattern based on the thickness center line of the insulating material is the same as the surface height of the insulating material or Or low.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.The features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Prior to that, terms and words used in the present specification and claims should not be construed in a conventional and dictionary sense, and the inventor may properly define the concept of the term in order to best explain its invention It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

본 발명에 따른 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판은, 회로패턴 및 비아가 절연층 내부로 매립된 형태이기 때문에 회로패턴의 언더컷 발생이 없고 미세한 피치의 회로패턴을 가진다.Since the printed circuit board having the buried pattern according to the present invention has a form in which the circuit pattern and the via are embedded in the insulating layer, there is no undercut of the circuit pattern and the circuit pattern has a fine pitch.

본 발명에 따른 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법에 따르면, 비아홀 및 음각패턴을 갖는 절연재에 먼저 비아를 형성하고 이후에 순차적으로 회로패턴을 형성함으로써 도금편차에 의해 발생하는 인쇄회로기판의 불량문제를 해결할 수 있다.According to the method of manufacturing a printed circuit board having a buried pattern according to the present invention, a defect is generated in a printed circuit board caused by plating deviation by first forming a via in an insulating material having a via hole and an intaglio pattern, and then sequentially forming a circuit pattern. You can solve the problem.

이하, 본 발명에 따른 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판 및 그 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 첨부된 도면의 전체에 걸쳐, 동일하거나 대응하는 구성요소는 동일한 도면부호로 지칭되며, 중 복되는 설명은 생략한다. 본 명세서에서, 상부, 하부 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 상기 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, a preferred embodiment of a printed circuit board having a buried pattern and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Throughout the accompanying drawings, the same or corresponding components are referred to by the same reference numerals, and redundant descriptions are omitted. In this specification, terms such as top and bottom are used to distinguish one component from another component, and a component is not limited by the terms.

도 2 내지 도 11은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법을 공정순서대로 도시하는 도면이다.2 to 11 are diagrams showing a manufacturing method of a printed circuit board having a buried pattern according to a preferred embodiment of the present invention in the order of process.

먼저, 도 2에 도시된 바와 같이, 인쇄회로기판을 제조하기 위한 절연재(100)가 제공된다. 절연재(100)는 인쇄회로기판 제조에 일반적으로 사용되는 절연소재로 이루어지며, 예를 들면 에폭시계 수지로 이루어지는 프리프레그가 될 수 있다. 또는 본 실시예의 절연재(100)는 양면동박적층판의 동박을 제거한 코어에 절연층을 추가 형성한 것이 될 수 있다.First, as shown in FIG. 2, an insulating material 100 for manufacturing a printed circuit board is provided. The insulating material 100 is made of an insulating material generally used for manufacturing a printed circuit board, and may be, for example, a prepreg made of an epoxy resin. Alternatively, the insulating material 100 of the present embodiment may be one in which an insulating layer is additionally formed on the core from which the copper foil of the double-sided copper clad laminate is removed.

다음, 절연재(100)에 비아홀(110) 및 회로패턴 형성용 음각패턴(130)을 형성하는 단계이다.Next, the via hole 110 and the intaglio pattern 130 for forming a circuit pattern are formed in the insulating material 100.

도 3에 도시된 바와 같이, 절연재(100)를 관통하는 비아홀(110)을 형성한다. 절연재(100)를 관통하는 비아홀(110)을 가공하는 방식은 YAG 레이저, CO2 레이저 등의 레이저 드릴을 이용한 방법과 CNC 드릴 등의 기계 드릴을 이용하는 방식이 사용될 수 있다. 본 실시예에서는 CNC 드릴을 이용하여 절연재(100)를 관통하는 비아홀(110)을 형성한다.As shown in FIG. 3, a via hole 110 penetrating the insulating material 100 is formed. As a method of processing the via hole 110 penetrating the insulating material 100, a method using a laser drill such as a YAG laser, a CO2 laser, or a mechanical drill such as a CNC drill may be used. In the present embodiment, a via hole 110 penetrating the insulating material 100 is formed by using a CNC drill.

이후, 도 4에 도시된 바와 같이, 절연재(100)의 외층에 회로패턴(710; 도 11참조) 형성용 음각패턴(130)을 형성한다. 추후 형성될 회로패턴(710)이 매립될 음 각패턴(130)을 절연재(100)에 형성하는 방식이 다수 공지되어 있으며, 예를 들면 레이저 드릴을 이용한 방식과 임프린팅 방식이 있다. 본 실시예에서는 레이저 드릴을 이용하여 추후 공정에서 회로패턴(710)이 형성될 음각패턴(130)을 절연재(100)의 외층에 형성한다. 이때, 필수적인 것은 아니지만, 추후 형성될 비아와 접하는 회로패턴을 형성하기 위해 비아홀(110)과 접하는 음각패턴(113)을 형성하는 것이 바람직하다.Subsequently, as shown in FIG. 4, an intaglio pattern 130 for forming a circuit pattern 710 (see FIG. 11) is formed on an outer layer of the insulating material 100. A number of methods for forming the intaglio pattern 130 on which the circuit pattern 710 to be formed later is buried in the insulating material 100 are known, and there are, for example, a method using a laser drill and an imprinting method. In the present exemplary embodiment, the intaglio pattern 130 on which the circuit pattern 710 is to be formed in a later process is formed on the outer layer of the insulating material 100 using a laser drill. At this time, although not essential, it is preferable to form the intaglio pattern 113 in contact with the via hole 110 in order to form a circuit pattern in contact with the via to be formed later.

다음, 비아홀(110)의 내벽에 절연재의 상하면을 전기적으로 도통하는 비아(310)를 형성하고, 상기 비아홀(110) 내부에 플러깅 잉크(500)을 충전하는 단계이다.Next, a via 310 is formed on the inner wall of the via hole 110 to electrically connect the upper and lower surfaces of the insulating material, and the plugging ink 500 is filled in the via hole 110.

도 5에 도시된 바와 같이, 비아홀(110)의 내벽 및 상기 절연재(100)의 외층에 무전해 도금 및 전해도금을 수행하여 비아홀(110) 내벽에 제1 금속층(300)을 형성한다. 무전해 도금은 전해도금을 수행하기 위한 전처리 공정으로서 비아홀(110)의 내벽에 전해도금이 수행될 수 있도록 무전해 도금층을 형성한다. 이후 무전해 도금층을 인입선으로 전해도금을 수행함으로써 비아홀(110) 내벽에 제1 금속층(300)을 형성할 수 있다. As shown in FIG. 5, the first metal layer 300 is formed on the inner wall of the via hole 110 by performing electroless plating and electroplating on the inner wall of the via hole 110 and the outer layer of the insulating material 100. Electroless plating is a pretreatment process for performing electroplating to form an electroless plating layer so that electroplating may be performed on the inner wall of the via hole 110. Thereafter, the first metal layer 300 may be formed on the inner wall of the via hole 110 by electroplating the electroless plating layer with the lead wire.

이후, 도 6에 도시된 바와 같이, 비아홀(110)의 내부에 플러깅 잉크(500)를 충전한다. 플러깅 잉크(500)(Plugging ink)는 절연성 잉크 재질의 플러깅 잉크를 사용하는 것이 일반적이나, 전도성 금속 분말이 함유된 도전성 페이스트를 사용하는 것도 가능하다.Thereafter, as shown in FIG. 6, the plugging ink 500 is filled in the via hole 110. Plugging ink 500 (Plugging ink) is generally used to use a plugging ink of insulating ink material, it is also possible to use a conductive paste containing a conductive metal powder.

이후, 도 7에 도시된 바와 같이, 절연재(100) 외부로 돌출된 플러깅 잉 크(500)를 제거한다. 본 공정은 플러깅 잉크(500)가 절연재(100) 외부로 돌출된 경우에만 수행되는 선택적인 공정이며, 연마용 브러쉬 또는 버프(Buff)를 사용한 연마공정으로 절연재(100) 외부로 돌출된 플러깅 잉크(500)를 제거하여 평탄화한다.Thereafter, as shown in FIG. 7, the plugging ink 500 protruding out of the insulating material 100 is removed. This process is an optional process performed only when the plugging ink 500 protrudes out of the insulating material 100, and the plugging ink protruding out of the insulating material 100 by a polishing process using an abrasive brush or a buff ( 500) is removed and planarized.

이후, 도 8에 도시된 바와 같이, 절연재(100)의 외층이 노출되도록 절연재(100) 상부에 형성된 제1 금속층(300)을 제거한다. 상술한 공정에서 연마용 브러쉬 또는 버프를 사용한 물리적 연마공정으로 돌출한 플러깅 잉크(500)를 제거할 때 플러깅 잉크(500)와 제1 금속층(300)을 함께 제거할 수 있다.Thereafter, as shown in FIG. 8, the first metal layer 300 formed on the insulating material 100 is removed to expose the outer layer of the insulating material 100. When the plugging ink 500 protruding by the physical polishing process using the polishing brush or the buff in the above-described process, the plugging ink 500 and the first metal layer 300 may be removed together.

또는, 플러깅 잉크(500)의 물리적 연마공정 이후에 화학적 에칭공정을 수행하여 절연재(100) 상부에 형성된 제1 금속층(300)을 제거하는 것도 가능하고, 물리적 연마공정으로 제1 금속층(300)의 두께 일부를 제거하고 나머지 제1 금속층(300)은 화학적 에칭공정으로 제거하는 것도 가능하다. 이때, 절연재(100)에 형성된 음각패턴(130)에는 일부 제1 금속층(300)이 남아있게 될 수 있는데 이는 본 발명을 실시하는데 아무런 장애가 되지 않는다. Alternatively, after the physical polishing process of the plugging ink 500, a chemical etching process may be performed to remove the first metal layer 300 formed on the insulating material 100. The physical polishing process may include removing the first metal layer 300. A portion of the thickness may be removed, and the remaining first metal layer 300 may be removed by a chemical etching process. In this case, the first metal layer 300 may remain in the intaglio pattern 130 formed on the insulating material 100, which does not cause any obstacle to the practice of the present invention.

상술한 공정에 의해 절연재(100)에 형성된 비아홀(110)의 내벽에 절연재(100)의 상하면을 전기적으로 도통하는 비아(310)를 형성할 수 있다. By the above-described process, the via 310 may be formed on the inner wall of the via hole 110 formed in the insulating material 100 to electrically conduct the upper and lower surfaces of the insulating material 100.

다음, 음각패턴(130)에 도전성 금속을 충전하여 회로패턴(710)을 형성하는 단계이다.Next, the conductive pattern is filled in the intaglio pattern 130 to form the circuit pattern 710.

도 9에 도시된 바와 같이, 음각패턴(130)을 포함하는 절연재(100)의 외층에 무전해 도금 및 전해 도금을 수행하여 도전성 금속으로 이루어진 제2 금속층(700)을 형성한다. 이때 절연재(100)의 외층에 형성된 음각패턴(130) 내부가 제2 금속 층(700)으로 충전되게 되며, 절연재(100) 상부에 균일한 두께의 제2 금속층(700)이 형성된다.As shown in FIG. 9, an electroless plating and an electrolytic plating are performed on the outer layer of the insulating material 100 including the intaglio pattern 130 to form a second metal layer 700 made of a conductive metal. In this case, the inside of the intaglio pattern 130 formed on the outer layer of the insulating material 100 is filled with the second metal layer 700, and a second metal layer 700 having a uniform thickness is formed on the insulating material 100.

이와 같이, 제1 금속층(300)을 제거한 이후에 다시 제2 금속층(700)을 형성하는 이유는 다음과 같다. As such, the reason for forming the second metal layer 700 again after removing the first metal layer 300 is as follows.

제1 금속층(300)은 절연재(100)에 비아홀(110)과 음각패턴(130)이 동시에 존재하는 상태에서 무전해 및 전해 도금공정을 수행하여 형성되는데, 이때 비아홀(110)은 음각패턴(130)에 비해 내부공간이 크고 깊기 때문에 제1 절연재(100)의 상부에 형성되는 제1 금속층(300)은 도금 두께의 편차를 갖게 된다. 절연재(100)에 형성된 음각패턴(130)에 금속을 충전하여 매립패턴을 형성하기 위해서는 절연재(100) 상부에 형성된 금속층의 두께가 일정할 것이 필수적으로 요구되는데 제1 금속층(300)은 이러한 요구를 충족하지 못한다. 따라서, 두께 편차가 발생한 제1 금속층(300)을 제거한 후 균일한 두께를 갖는 제2 금속층(700)을 형성하는 공정을 재차 수행하는 것이다. 제2 금속층(700)을 형성하는 도금공정 상에서 절연재(100)의 비아홀(110) 부분이 이미 플러깅 잉크(500)로 매립된 상태이기 때문에, 즉, 도금층을 형성하기에 바람직한 정도로 절연재(100) 외층에 평탄화가 이루어진 상태이기 때문에 균일한 두께의 제2 금속층(700)을 형성하는 것이 가능하다.The first metal layer 300 is formed by performing an electroless and electroplating process in a state where the via hole 110 and the intaglio pattern 130 are simultaneously present in the insulating material 100, wherein the via hole 110 is the intaglio pattern 130. Since the inner space is larger and deeper than), the first metal layer 300 formed on the first insulating material 100 has a variation in plating thickness. In order to fill the intaglio pattern 130 formed in the insulating material 100 to form a buried pattern, it is essential that the thickness of the metal layer formed on the insulating material 100 be constant, and the first metal layer 300 meets this requirement. Does not meet Therefore, the process of forming the second metal layer 700 having a uniform thickness after removing the first metal layer 300 having the thickness variation is performed again. Since the via hole 110 portion of the insulating material 100 is already filled with the plugging ink 500 in the plating process of forming the second metal layer 700, that is, the outer layer of the insulating material 100 to a desired extent to form the plating layer. Since it is in a planarization state, it is possible to form the second metal layer 700 having a uniform thickness.

다음, 절연재(100)의 외층이 노출되도록 상기 제2 무전해 도금층 및 상기 제2 무전해 도금층을 두께방향으로 일부를 제거한다. 제1 금속층(300)을 제거하는 단계와 유사하게 제2 금속층(700)을 제거하는 단계 역시 물리적 연마방식, 화학적 에 칭 방식 또는 이들 방식을 조합한 방식으로 수행될 수 있다. 본 실시예에서는 예시적으로 물리적 연마방식과 화학적 에칭방식을 조합한 방식으로 제2 금속층(700)의 일부를 두께 방향으로 제거하는 공정에 대해 서술한다.Next, a portion of the second electroless plating layer and the second electroless plating layer are removed in a thickness direction so that the outer layer of the insulating material 100 is exposed. Similar to the step of removing the first metal layer 300, the step of removing the second metal layer 700 may also be performed by a physical polishing method, a chemical etching method, or a combination thereof. In this embodiment, a process of removing a part of the second metal layer 700 in the thickness direction by way of a combination of a physical polishing method and a chemical etching method will be described.

먼저, 도 10에 도시된 바와 같이, 연마용 브러쉬 또는 버프를 사용한 물리적 연마공정으로 제2 금속층(700)의 일부를 두께방향으로 제거한다.First, as shown in FIG. 10, a part of the second metal layer 700 is removed in the thickness direction by a physical polishing process using a polishing brush or a buff.

이후, 도 11에 도시된 바와 같이, 화학적 에칭공정을 수행하여 절연재(100)의 외층이 노출되도록하며 본 공정에 의해 절연재(100) 상부에 상호 절연되는 회로패턴(710)이 형성되게 된다.Thereafter, as illustrated in FIG. 11, a chemical etching process is performed to expose an outer layer of the insulating material 100, and a circuit pattern 710 is insulated from each other on the insulating material 100 by this process.

본 실시예에서는 명료한 서술을 위해 편의상 절연재(100)의 일면에만 회로패턴(710)을 형성하는 공정을 예로 들어 설명하였지만, 본 실시예의 공정순서에 따라 절연재(100)의 하면에도 동시에 회로패턴(710)을 형성하는 것이 가능함을 이해할 수 있을 것이다.In this embodiment, for the sake of clarity, the process of forming the circuit pattern 710 on only one surface of the insulating material 100 has been described as an example for convenience. However, according to the process procedure of the present embodiment, the circuit pattern ( It will be appreciated that it is possible to form 710.

상술한 바와 같은 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법에 따르면, 비아홀(110) 및 음각패턴(130)을 갖는 절연재(100)에 먼저 비아(310)를 형성하고 이후에 회로패턴(710)을 순차적으로 형성함으로써 도금편차에 의해 발생하는 인쇄회로기판의 불량문제를 해결할 수 있다.According to the method of manufacturing a printed circuit board having a buried pattern as described above, the via 310 is first formed in the insulating material 100 having the via hole 110 and the intaglio pattern 130, and then the circuit pattern 710 is formed. By forming sequentially, the problem of the defect of the printed circuit board caused by the plating deviation can be solved.

이하, 도 11을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 구조에 대해 서술한다.Hereinafter, a structure of a printed circuit board having a buried pattern according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 11.

도 11에 나타낸 바와 같이, 본 실시예는 절연재(100)의 상에 형성된 회로패턴(710) 및 절연재(100)의 상하면을 전기적으로 도통하는 비아(310)를 포함하는 인쇄회로기판에 관한 것이고, 본 실시예에 따른 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판은 절연재(100)를 관통하는 비아홀 내벽에 형성된 무전해 도금층 및 전해 도금층으로 이루어진 비아(310) 및 비아홀 내부를 충전하는 플러깅 잉크(500)를 포함하는 구성이다.As shown in FIG. 11, the present embodiment relates to a printed circuit board including a circuit pattern 710 formed on the insulating material 100 and a via 310 electrically conducting the upper and lower surfaces of the insulating material 100. The printed circuit board having the buried pattern according to the present exemplary embodiment includes a via 310 formed of an electroless plating layer and an electrolytic plating layer formed on the inner wall of the via hole penetrating the insulating material 100, and a plugging ink 500 filling the via hole. Configuration.

이때, 절연재(100)의 두께방향 중심선을 기준으로한 회로패턴(710)의 노출면의 높이는 절연재(100)의 표면 높이와 동일하거나 또는 낮다.In this case, the height of the exposed surface of the circuit pattern 710 based on the thickness center line of the insulating material 100 is the same as or lower than the surface height of the insulating material 100.

상술한 바와 같은 본 실시예에 따른 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판은, 회로패턴 및 비아가 절연층 내부로 매립된 형태이기 때문에 회로패턴의 언더컷 발생이 없고 미세한 피치의 회로패턴을 가진다.The printed circuit board having the buried pattern according to the present embodiment as described above has a circuit pattern with a fine pitch without occurrence of undercut of the circuit pattern since the circuit pattern and the via are embedded into the insulating layer.

한편 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형을 할 수 있음은 이 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 자명하다. 따라서, 그러한 변형예 또는 수정예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 해야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, such modifications or variations will have to belong to the claims of the present invention.

도 1은 종래기술에 따라 인쇄회로기판을 제조하는 방법을 도시하는 도면이다. 1 is a view showing a method for manufacturing a printed circuit board according to the prior art.

도 2 내지 도 11은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법을 공정순서대로 도시하는 도면이다.2 to 11 are diagrams showing a manufacturing method of a printed circuit board having a buried pattern according to a preferred embodiment of the present invention in the order of process.

< 도면의 주요 부호에 대한 설명 ><Description of Major Symbols in Drawing>

100 절연재 110 비아홀100 Insulation Material 110 Via Hole

130 음각패턴 300 제1 금속층130 Engraved Pattern 300 First Metal Layer

500 플러깅 잉크 700 제2 금속층500 Plugging Ink 700 Second Metal Layer

710 회로패턴710 circuit pattern

Claims (8)

(A) 절연재를 제공하고, 상기 절연재에 비아홀 및 회로패턴 형성용 음각패턴을 형성하는 단계;(A) providing an insulating material, and forming an intaglio pattern for forming a via hole and a circuit pattern in the insulating material; (B) 상기 비아홀의 내벽에 상기 절연재의 상하면을 전기적으로 도통하는 비아를 형성하고, 상기 비아홀 내부에 플러깅 잉크를 충전하는 단계; 및(B) forming a via on the inner wall of the via hole to electrically connect the upper and lower surfaces of the insulating material, and filling plugging ink into the via hole; And (C) 상기 음각패턴에 도전성 금속을 충전하여 회로패턴을 형성하는 단계;(C) filling the intaglio pattern with a conductive metal to form a circuit pattern; 를 포함하고, 상기 단계는 순차적으로 진행되는 것을 특징으로 하는 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법.To include, wherein the step is a method of manufacturing a printed circuit board having a buried pattern, characterized in that proceeding sequentially. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 (A) 단계는,Step (A) is (ⅰ) 절연재를 제공하고 상기 절연재를 관통하는 비아홀을 형성하는 단계; 및(Iii) providing an insulating material and forming a via hole through the insulating material; And (ⅱ) 레이저를 이용하여 상기 절연재의 외층에 회로패턴 형성용 음각패턴을 형성하는 단계;(Ii) forming an intaglio pattern for forming a circuit pattern on an outer layer of the insulating material by using a laser; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법.Method of manufacturing a printed circuit board having a buried pattern comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 (B) 단계는,Step (B) is, (ⅰ) 상기 비아홀의 내벽 및 상기 절연재의 외층에 무전해 도금 및 전해도금을 수행하여 제1 금속층을 형성하는 단계;(Iv) electroless plating and electroplating the inner wall of the via hole and the outer layer of the insulating material to form a first metal layer; (ⅱ) 상기 비아홀의 내부에 플러깅 잉크를 충전하는 단계; 및(Ii) filling a plugging ink into the via hole; And (ⅲ) 상기 절연재의 외층이 노출되도록 상기 절연재 상부에 형성된 상기 제1 금속층을 제거하는 단계;(Iii) removing the first metal layer formed on the insulating material so that the outer layer of the insulating material is exposed; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법.Method of manufacturing a printed circuit board having a buried pattern comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 (C) 단계는,Step (C) is (ⅰ) 상기 음각패턴을 포함하는 상기 절연재의 외층에 무전해 도금 및 전해 도금을 수행하여 제2 금속층을 형성하는 단계; 및(Iii) forming a second metal layer by performing electroless plating and electrolytic plating on the outer layer of the insulating material including the intaglio pattern; And (ⅱ) 상기 절연재의 외층이 노출되도록 상기 제2 금속층을 두께방향으로 일부를 제거하는 단계;(Ii) removing a portion of the second metal layer in a thickness direction so that an outer layer of the insulating material is exposed; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법.Method of manufacturing a printed circuit board having a buried pattern comprising a. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 (ⅱ) 단계 이후에,After step (ii) above, 상기 절연재 외부로 돌출된 상기 플러깅 잉크를 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법.Removing the plugging ink protruding to the outside of the insulating material manufacturing method of a printed circuit board having a buried pattern characterized in that it further comprises. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 (ⅲ) 단계는, 물리적 연마공정, 화학적 에칭공정, 또는 물리적 연마공정과 화학적 에칭공정의 조합에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법.The step (iii) is performed by a physical polishing process, a chemical etching process, or a combination of a physical polishing process and a chemical etching process. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 (ⅱ) 단계는, 물리적 연마공정, 화학적 에칭공정, 또는 물리적 연마공정과 화학적 에칭공정의 조합에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판의 제조방법.The step (ii) is a manufacturing method of a printed circuit board having a buried pattern, characterized in that performed by a physical polishing process, a chemical etching process, or a combination of a physical polishing process and a chemical etching process. 절연재의 상에 형성된 회로패턴 및 절연재의 상하면을 전기적으로 도통하는 비아를 포함하는 인쇄회로기판에 있어서,A printed circuit board comprising a circuit pattern formed on an insulating material and vias electrically conducting upper and lower surfaces of the insulating material, 상기 비아는 상기 절연재를 관통하는 비아홀 내벽에 형성된 무전해 도금층과 전해 도금층으로 이루어지고, 상기 비아홀 내부를 충전하는 플러깅 잉크를 더 포함하며, 상기 절연재의 두께방향 중심선을 기준으로한 상기 회로패턴의 노출면의 높이는 상기 절연재의 표면 높이와 동일하거나 또는 낮은 것을 특징으로 하는 매립패턴을 갖는 인쇄회로기판.The via is formed of an electroless plating layer and an electrolytic plating layer formed on an inner wall of a via hole penetrating the insulating material, and further includes a plugging ink filling the inside of the via hole, and exposing the circuit pattern based on a thickness center line of the insulating material. Printed circuit board having a buried pattern, characterized in that the height of the surface is equal to or lower than the surface height of the insulating material.
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