KR20100054727A - Hardening resin composition - Google Patents

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KR20100054727A
KR20100054727A KR1020090108412A KR20090108412A KR20100054727A KR 20100054727 A KR20100054727 A KR 20100054727A KR 1020090108412 A KR1020090108412 A KR 1020090108412A KR 20090108412 A KR20090108412 A KR 20090108412A KR 20100054727 A KR20100054727 A KR 20100054727A
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KR1020090108412A
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가즈오 다케베
기범 백
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스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
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Abstract

PURPOSE: A curable resin composition is provided to apply the composition to a display device for forming a coating layer or a pattern, and to improve the transmissivity of the coating layer and the pattern using a printing method. CONSTITUTION: A curable resin composition(2) contains a binder resin, a polymerizable compound, and a solvent. The content rate of the solvent is 20~60mass% for the total amount of the composition. The binder resin is a copolymer formed by polymerizing a compound selected from the group consisting of carboxylic acid and unsaturated carboxylic anhydride, and a monomer with a cyclic ether structure and the carbon number of 2~4. The boiling point of the solvent is over 200 deg C.

Description

경화성 수지 조성물{HARDENING RESIN COMPOSITION}Curable Resin Composition {HARDENING RESIN COMPOSITION}

본 발명은 경화성 수지 조성물, 도포막, 패턴 및 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a curable resin composition, a coating film, a pattern, and a display device.

액정 표시 장치나 터치 패널 등, 표시 장치를 구성하는 컬러 필터와 어레이 기판 사이에는 감광성 수지를 사용한 포토리소그래피로 스페이서 (포토 스페이서) 를 형성하는 것이 제안되어 있다. 이 방법에 의하면, 임의의 장소에 스페이서를 형성할 수 있다. 포토리소그래피에 사용되는 조성물로는 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 함유하는 감광성 수지 조성물이 알려져 있다 (특허 문헌 1).It is proposed to form a spacer (photo spacer) by photolithography using photosensitive resin between a color filter constituting a display device such as a liquid crystal display device or a touch panel and an array substrate. According to this method, a spacer can be formed in arbitrary places. As a composition used for photolithography, the photosensitive resin composition containing binder resin, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a solvent is known (patent document 1).

그러나, 이와 같은 포토리소그래피는 막제조, 노광, 현상 등의 공정을 거쳐 스페이서의 패턴이 형성되기 때문에, 공정이 길고 또한 복잡하며, 또 대규모 제조 설비가 필요해진다.However, in such photolithography, since the pattern of the spacer is formed through a process such as film production, exposure, development, etc., the process is long, complicated, and a large-scale manufacturing facility is required.

포토리소그래피 이외의 방법으로서 잉크젯 인쇄법, 플렉소 인쇄법 등의 인쇄법에 의해 경화성 수지 조성물을 함유하여 이루어지는 액상 잉크를 피인쇄 기재 상의 특정 위치에 도포하여, 패턴을 형성하는 방법이 알려져 있다 (특허 문헌 2).As a method other than photolithography, a method of forming a pattern by applying a liquid ink containing a curable resin composition to a specific position on a printed substrate by a printing method such as an inkjet printing method or a flexographic printing method is known (patent) Document 2).

특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 2006-171160호Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-171160

특허 문헌 2 : 일본 공개특허공보 2008-158284호Patent Document 2: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-158284

그러나, 특허 문헌 1 에 기재된 감광성 수지 조성물은 함유되는 용제의 양이 전체 조성물에 대해 60 질량% 이상이고, 특허 문헌 2 에 기재된 경화성 수지 조성물은 함유되는 용제의 양이 전체 조성물에 대해 80 질량% 이상이고, 인쇄 후에 용매를 제거하기 위한 건조에 장시간이 필요하거나, 인쇄 후 또는 건조 중에 형상이 변화되는 경우가 있기 때문에, 인쇄법에 사용하는 것은 반드시 용이하지 않았다.However, the amount of the solvent contained in the photosensitive resin composition of patent document 1 is 60 mass% or more with respect to the whole composition, and the amount of the solvent contained in the curable resin composition described in patent document 2 is 80 mass% or more with respect to the whole composition. It is not always easy to use it for the printing method, because a long time is required for drying to remove the solvent after printing, or the shape may change after printing or during drying.

본 발명의 과제는 인쇄법에 의해 높은 투과율의 도포막 또는 패턴을 형성할 수 있는 경화성 수지 조성물을 제공하는 것에 있다.An object of the present invention is to provide a curable resin composition capable of forming a coating film or a pattern having a high transmittance by a printing method.

본 발명자는 상기 과제를 해결할 수 있는 경화성 수지 조성물을 알아내기 위해서 검토한 결과, 함유되는 용제의 양을 전체 조성물에 대해 20 질량% 이상 60 질량% 미만으로 함으로써, 인쇄법에 의해 높은 투과율의 도포막 또는 패턴을 형성 할 수 있는 경화성 수지 조성물이 얻어지는 것을 알아내어, 본 발명에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of examining in order to find out the curable resin composition which can solve the said subject, the coating film of the high transmittance | permeability by printing method is made by making the quantity of the solvent contained 20 mass% or more and less than 60 mass% with respect to the whole composition. Or it discovered that the curable resin composition which can form a pattern was obtained, and reached this invention.

즉, 본 발명은 이하의 [1] ∼ [16] 을 제공하는 것이다.That is, this invention provides the following [1]-[16].

[1] 바인더 수지 (A), 중합성 화합물 (B) 및 용제 (D) 를 함유하고,[1] containing a binder resin (A), a polymerizable compound (B) and a solvent (D),

바인더 수지 (A), 중합성 화합물 (B) 및 용제 (D) 의 합계량에 대한 용제 (D) 의 양이 20 질량% 이상 60 질량% 미만인 경화성 수지 조성물.Curable resin composition whose amount of solvent (D) with respect to the total amount of binder resin (A), a polymeric compound (B), and a solvent (D) is 20 mass% or more and less than 60 mass%.

[2] 바인더 수지 (A), 중합성 화합물 (B) 및 용제 (D) 의 합계량에 대한 용 제 (D) 의 양이 25 질량% 이상 50 질량% 이하인 상기 [1] 에 기재된 경화성 수지 조성물.[2] The curable resin composition according to the above [1], wherein the amount of the solvent (D) to the total amount of the binder resin (A), the polymerizable compound (B), and the solvent (D) is 25% by mass to 50% by mass.

[3] 바인더 수지 (A) 가 적어도 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 (A-a) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물과, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르를 갖는 단량체 (A-c) 를 중합하여 이루어지는 공중합체인 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 경화성 수지 조성물.[3] a monomer (Ac) having at least one compound selected from the group consisting of at least an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic anhydride (Aa) and a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms Curable resin composition as described in said [1] or [2] which is a copolymer formed by superposing | polymerizing.

[4] 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르를 갖는 단량체 (A-c) 가 에폭시기를 갖는 단량체인 상기 [3] 에 기재된 경화성 수지 조성물.[4] The curable resin composition according to the above [3], wherein the monomer (A-c) having a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms is a monomer having an epoxy group.

[5] 에폭시기를 갖는 단량체가 지방족 다고리형 에폭시기를 갖는 단량체인 상기 [4] 에 기재된 경화성 수지 조성물.[5] The curable resin composition according to the above [4], wherein the monomer having an epoxy group is a monomer having an aliphatic polycyclic epoxy group.

[6] 지방족 다고리형 에폭시기를 갖는 단량체가 식 (I) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물인 상기 [5] 에 기재된 경화성 수지 조성물.[6] The curable resin composition according to the above [5], wherein the monomer having an aliphatic polycyclic epoxy group is at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by formula (I) and a compound represented by formula (II).

Figure 112009069166810-PAT00001
Figure 112009069166810-PAT00001

[식 (I) 및 식 (Ⅱ) 중, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다. 그 알킬기에 함유되는 수소 원자는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.[In formula (I) and formula (II), R <1> and R <2> represents a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group each independently. The hydrogen atom contained in this alkyl group may be substituted by the hydroxy group.

X1 및 X2 는 각각 독립적으로 단결합 또는 헤테로 원자를 함유해도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기를 나타낸다]X 1 and X 2 each independently represent a C 1-6 alkylene group which may contain a single bond or a hetero atom;

[7] 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물 (A-a) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물이 지방족 불포화 카르복실산 및 지방족 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물인 상기 [3] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 경화성 수지 조성물.[7] at least one compound selected from the group consisting of aliphatic unsaturated carboxylic acids and aliphatic unsaturated carboxylic anhydrides, at least one compound selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic anhydrides (Aa) Curable resin composition in any one of said [3]-[6] which is a compound.

[8] 식 (I) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물이 식 (I') 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ') 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물인 상기 [6] 에 기재된 경화성 수지 조성물.[8] a group consisting of a compound represented by formula (I ') and at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by formula (I) and a compound represented by formula (II) Curable resin composition as described in said [6] which is at least 1 sort (s) of compound chosen from.

Figure 112009069166810-PAT00002
Figure 112009069166810-PAT00002

[식 (I') 및 식 (Ⅱ') 중, R1' 및 R2' 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다. 그 알킬기에 함유되는 수소 원자는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다]In formula (I ') and formula (II'), R <1>'and R <2>' respectively independently represent a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group. The hydrogen atom contained in this alkyl group may be substituted by the hydroxy group]

[9] 용제 (D) 가 비점이 200 ℃ 이상이고, 에스테르계 용제, 에테르계 용제 및 알코올계 용제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 용제를 함유하는 용제인 상기 [1] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 경화성 수지 조성물.[9] The solvent [D], wherein the solvent (D) is a solvent having a boiling point of 200 ° C. or more and containing at least one solvent selected from the group consisting of ester solvents, ether solvents, and alcohol solvents. Curable resin composition in any one of.

[10] 추가로 중합 개시제 (C) 를 함유하는 상기 [1] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 경화성 수지 조성물.[10] The curable resin composition according to any one of the above [1] to [9], further containing a polymerization initiator (C).

[11] 중합 개시제 (C) 가 비이미다졸계 화합물, 아세토페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물 및 옥심계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물을 함유하는 중합 개시제인 상기 [10] 에 기재된 경화성 수지 조성물.[11] a polymerization initiator wherein the polymerization initiator (C) contains at least one compound selected from the group consisting of a biimidazole compound, an acetophenone compound, a triazine compound, an acylphosphine oxide compound and an oxime compound Curable resin composition as described in said [10].

[12] 도포막 또는 패턴을 형성하기 위한, 상기 [1] ∼ [11] 중 어느 하나에 기재된 경화성 수지 조성물의 사용.[12] Use of the curable resin composition according to any one of the above [1] to [11] for forming a coating film or a pattern.

[13] 상기 [1] ∼ [11] 중 어느 하나에 기재된 경화성 수지 조성물을 사용하여 형성되는 도포막 또는 패턴.[13] A coating film or pattern formed by using the curable resin composition according to any one of the above [1] to [11].

[14] 상기 [13] 에 기재된 도포막 또는 패턴을 함유하는 표시 장치.[14] A display device containing the coating film or pattern according to the above [13].

[15] 상기 [1] ∼ [11] 중 어느 하나에 기재된 경화성 수지 조성물을 인쇄법을 사용하여 기재 상에 도포하고 건조시키고 가열하여 도포막 또는 패턴을 얻는 공정을 갖는 도포막 또는 패턴의 제조 방법.[15] A method for producing a coating film or pattern, which has a step of applying the curable resin composition according to any one of the above [1] to [11] onto a substrate using a printing method, drying and heating to obtain a coating film or pattern. .

[16] 상기 [1] ∼ [11] 중 어느 하나에 기재된 경화성 수지 조성물을 인쇄법을 사용하여 기재 상에 도포하고 건조시키고 노광 처리하고, 추가로 필요에 따라 가열하여, 도포막 또는 패턴을 얻는 공정을 갖는 도포막 또는 패턴의 제조 방법.[16] The curable resin composition according to any one of the above [1] to [11] is coated on a substrate using a printing method, dried, and subjected to exposure treatment, and further heated as necessary to obtain a coating film or a pattern. The manufacturing method of the coating film or pattern which has a process.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 인쇄법에 의해 높은 투과율의 도포막 또는 패턴을 형성할 수 있다.Curable resin composition of this invention can form the coating film or pattern of high transmittance | permeability by the printing method.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 바인더 수지 (A), 중합성 화합물 (B) 및 용제 (D) 를 함유하고, 바인더 수지 (A), 중합성 화합물 (B) 및 용제 (D) 의 합계량에 대한 용제 (D) 의 양이 20 질량% 이상 60 질량% 미만인 것이다.Curable resin composition of this invention contains binder resin (A), a polymeric compound (B), and a solvent (D), and is a solvent with respect to the total amount of binder resin (A), a polymeric compound (B), and a solvent (D). The amount of (D) is 20 mass% or more and less than 60 mass%.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 사용되는 바인더 수지 (A) 로는, 바인더 수지 (A1) 이나 바인더 수지 (A2) 가 예시된다. 바인더 수지 (A1) 은 산성기를 가지고, 바인더 수지 (A2) 는 산성기를 가지며, 광 및 열 중 적어도 어느 일방의 작용에 의한 반응성을 나타낸다.As binder resin (A) used for curable resin composition of this invention, binder resin (A1) and binder resin (A2) are illustrated. Binder resin (A1) has an acidic group, binder resin (A2) has an acidic group, and shows the reactivity by the action of at least one of light and heat.

바인더 수지가 산성기를 가지면 바인더 수지의 Tg 및 기계 특성이 높아지는 경향이 있어 바람직하다. 또, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르 구조기를 갖는 단량체 (A-c) 를 공중합체 성분으로서 함유하는 경우에는 경화성이 높아져, 내약품성 및 내열성이 높아지는 경향이 있어 바람직하다.If the binder resin has an acidic group, the Tg and the mechanical properties of the binder resin tend to be high, which is preferable. Moreover, when it contains as a copolymer component the monomer (A-c) which has a C2-C4 cyclic ether structural group, it is preferable because it has a tendency for hardenability to become high and chemical resistance and heat resistance become high.

바인더 수지 (A1) 로는, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 (A-a) (이하 「(A-a)」라고 하는 경우가 있다) 와, (A-a) 와 공중합 가능한 단량체 (A-b) (단, (A-a) 를 제외한다) (이하 「(A-b)」라고 경우가 있다) 의 공중합체 등이 예시된다.As binder resin (A1), it is copolymerizable with at least 1 sort (Aa) (Hereinafter, it may be called "(Aa)") chosen from the group which consists of unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic anhydride, and (Aa). The copolymer etc. of a monomer (Ab) (except (Aa)) (hereinafter may be called "(Ab)") are illustrated.

(A-a) 로는, 예를 들어, 지방족 불포화 카르복실산 및/또는 지방족 불포화 카르복실산 무수물 등을 들 수 있고, 구체적으로는 예를 들어,As (A-a), an aliphatic unsaturated carboxylic acid and / or an aliphatic unsaturated carboxylic anhydride etc. are mentioned, for example, Specifically,

아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산 등의 불포화 모노 카르복실산류 ; Unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid;

말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산 등의 불포화 디카르복실산류 ; Unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid and itaconic acid;

및 상기 불포화 디카르복실산류의 무수물 ; And anhydrides of the above unsaturated dicarboxylic acids;

숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 등의 2 가 이상의 다가 카르복실산의 불포화 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르류 ; Unsaturated mono [(meth) acryloyloxyalkyl of bivalent or more polyvalent carboxylic acids, such as monosuccinate mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and phthalate mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] ] Esters;

Figure 112009069166810-PAT00003
-(히드록시메틸)아크릴산 등의, 동일 분자 중에 히드록시기 및 카르복시 기를 함유하는 불포화 아크릴레이트류 등을 들 수 있다.
Figure 112009069166810-PAT00003
Unsaturated acrylate containing a hydroxyl group and a carboxy group in the same molecule, such as-(hydroxymethyl) acrylic acid, etc. are mentioned.

이들 중, 아크릴산, 메타크릴산 또는 무수 말레산 등이, 공중합 반응성이 양호하고, 공중합체의 Tg 및 기계 특성이 높고, 택성이 없다는 점에서 바람직하게 사용된다. 이들은 단독으로 또는 조합하여 사용된다.Among these, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, and the like are preferably used in terms of good copolymerization reactivity, high Tg and mechanical properties of the copolymer, and no tackiness. These are used alone or in combination.

(A-b) 로는, As (A-b),

메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, tert-부틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산알킬에스테르류 ; (Meth) acrylic acid alkyl esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate and tert-butyl (meth) acrylate;

시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메트)아크릴레이트 (당해 기술 분야에서는, 관용명으로서 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트라고 불린다), 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 이소보로닐(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산 고리형 알킬 에스테르류 ; Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl (meth) acrylate (in the art, dicyclopentanyl as conventional name) (Meth) acrylic-acid cyclic alkyl esters, such as (meth) acrylate), dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate, and isoboroyl (meth) acrylate;

시클로헥실아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일아크릴레이트 (당해 기술 분야에서 관용명으로서 디시클로펜타닐아크릴레이트라고 불린다), 디시클로펜타옥시에틸아크릴레이트, 이소보로닐아크릴레이트 등의 아크릴산 고리형 알킬에스테르류 ; Cyclohexyl acrylate, 2-methylcyclohexyl acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl acrylate (also known in the art as dicyclopentanyl acrylate), dicyclopentaoxy Acrylic acid cyclic alkyl esters such as ethyl acrylate and isoboroyl acrylate;

페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산아릴에스테르류 ; (Meth) acrylic acid aryl esters, such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate;

페닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트 등의 아크릴산 아릴에스테르류 ; Acrylic acid aryl esters such as phenyl acrylate and benzyl acrylate;

말레산디에틸, 푸마르산디에틸, 이타콘산디에틸 등의 디카르복실산디에스테르 ; Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate and diethyl itaconate;

2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트 등의 히드록시알킬에스테르류 ; Hydroxyalkyl esters such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate;

비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-히드록시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-히드록시메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-(2'-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-메톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-에톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디히드록시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(히드록시메틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디 (2'-히드록시에틸)비시클로[2 2.1]헵토-2-엔, 5,6-디메톡시비시클로[2.2.1]헵토-2- 엔, 5,6-디에톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-히드록시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-히드록시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-히드록시메틸-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-6-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-6-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 무수물 (하이믹산 무수물), 5-tert-부톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-시클로헥실옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(tert-부톡시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(시클로헥실옥시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등의 비시클로 불포화 화합물류 ; Bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-hydroxybi Cyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-carboxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-hydroxymethylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5- (2 '-Hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-methoxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-ethoxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene , 5,6-dihydroxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5,6-di (hydroxymethyl) Bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5,6-di (2'-hydroxyethyl) bicyclo [2 2.1] hepto-2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2.2.1 ] Hepto-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-hydroxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-hydrate Hydroxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-carboxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-carboxy-5-methylbicyclo [2.2. 1] hepto-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-carboxy-6-methylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-carboxy-6-ethylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene , 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene anhydride (hymic acid anhydride), 5-tert-butoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-cyclo Hexyloxycarbonylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-phenoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5,6-di (tert-butoxycarbonyl) bicyclo Bicyclo unsaturated compounds, such as [2.2.1] hepto-2-ene and 5, 6- di (cyclohexyloxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene;

N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-숙신이미딜-3-말레이미드벤조에이트, N-숙신이미딜-4-말레이미드부틸레이트, N-숙신이미딜- 6-말레이미드카프로에이트, N-숙신이미딜-3-말레이미드프로피오네이트, N-(9-아크리디닐)말레이미드 등의 디카르보닐이미드 유도체류 ; N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimidebenzoate, N-succinimidyl-4-maleimide butyrate, N-succinimidyl Dicarbonylimide derivatives such as 6-maleimide caproate, N-succinimidyl-3-maleimide propionate and N- (9-acridinyl) maleimide;

스티렌,

Figure 112009069166810-PAT00004
-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화비닐, 염화비닐리덴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 아세트산비닐, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등을 들 수 있다. Styrene,
Figure 112009069166810-PAT00004
-Methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, p-methoxystyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, vinyl acetate, 1 , 3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, and the like.

이들 중, 스티렌, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, 비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등이 공중합 반응성 및 알칼리 용해성 면에서 바 람직하다.Among them, styrene, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene and the like are preferable in terms of copolymerization reactivity and alkali solubility.

(A-a) 및 (A-b) 는 단독으로 또는 조합하여 사용된다.(A-a) and (A-b) are used alone or in combination.

또한, 본 명세서에 있어서 (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 의미한다.In addition, in this specification, (meth) acrylate means an acrylate and / or a methacrylate.

(A-a) 및 (A-b) 을 공중합시켜 얻어지는 공중합체에 있어서는, 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 상기 공중합체를 구성하는 구성 성분의 합계 몰 수를 100 몰% 로 했을 때에 몰 분율로, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다.In the copolymer obtained by copolymerizing (Aa) and (Ab), when the ratio of the constituent component derived from each makes the total mole number of the constituent component which comprises the said copolymer into 100 mol%, it is a mole fraction below. It is preferable to be in a range.

(A-a) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 2 ∼ 40 몰% Structural units derived from (A-a); 2-40 mol%

(A-b) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 60 ∼ 98 몰%Structural units derived from (A-b); 60 to 98 mol%

또, 상기 구성 성분의 비율이 이하의 범위이면 보다 바람직하다.Moreover, it is more preferable if the ratio of the said structural component is the following ranges.

(A-a) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 5 ∼ 35 몰% Structural units derived from (A-a); 5 to 35 mol%

(A-b) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 65 ∼ 95 몰%Structural units derived from (A-b); 65 to 95 mol%

상기 구성 비율이 상기 범위에 있으면, 보존 안정성 및 내용제성이 양호해지는 경향이 있다.When the said composition ratio exists in the said range, there exists a tendency for storage stability and solvent resistance to become favorable.

바인더 수지 (A1) 는, 예를 들어 문헌 「고분자 합성의 실험법」 (오오츠 타카유키 저 발행소 (주) 화학동인 제 1 판 제 1 쇄 1972년 3월 1일 발행) 에 기재된 방법 및 당해 문헌에 기재된 인용 문헌을 참고로 하여 제조할 수 있다.The binder resin (A1) is described in, for example, the method described in the document "Experimental Method of Polymer Synthesis" (first edition, March 1, 1972, first edition of Otsu Takayuki Kogyo Co., Ltd.). It can manufacture with reference to the cited document.

구체적으로는, 공중합체를 구성하는 단위 (A-a) 및 (A-b) 의 소정량, 중합 개시제 및 용제를 반응 용기 내에 주입하고, 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 산소 비존재하에서 교반, 가열, 보온함으로써 중합체가 얻어진다. 또한, 얻어진 공중합체는 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 또는 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법에 의해 고체 (분체) 로서 취출한 것을 사용해도 된다.Specifically, a predetermined amount of the units (Aa) and (Ab) constituting the copolymer, a polymerization initiator, and a solvent are injected into the reaction vessel, and oxygen is substituted with nitrogen to stir, heat, and keep warm in the absence of oxygen. A polymer is obtained. In addition, the obtained copolymer may use the solution after reaction as it is, the solution which concentrated or diluted may be used, and what was taken out as solid (powder) by methods, such as reprecipitation, may be used.

바인더 수지 (A1) 의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 3,000 ∼ 100,000, 보다 바람직하게는 5,000 ∼ 50,000 이다. 산성기를 갖는 수지 (A1) 의 중량 평균 분자량이 상기 범위에 있으면, 도포성이 양호해지는 경향이 있고, 또 바인더 수지의 Tg 및 기계 특성이 높아지는 경향이 있으며, 택성이 없어지는 경향에 있어 바람직하다.The weight average molecular weight of polystyrene conversion of binder resin (A1) becomes like this. Preferably it is 3,000-100,000, More preferably, it is 5,000-50,000. When the weight average molecular weight of resin (A1) which has an acidic group exists in the said range, applicability | paintability tends to become favorable, Tg and mechanical property of binder resin tend to become high, and it is preferable in the tendency for tackiness to disappear.

바인더 수지 (A1) 의 분자량 분포 [중량 평균 분자량 (Mw)/수평균 분자량 (Mn)] 은 바람직하게는 1.1 ∼ 6.0 이고, 보다 바람직하게는 1.2 ∼ 4.0 이다. 분자량 분포가 상기 범위에 있으면, 도포성이 우수한 경향이 있기 때문에 바람직하다. The molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of binder resin (A1) becomes like this. Preferably it is 1.1-6.0, More preferably, it is 1.2-4.0. If molecular weight distribution exists in the said range, since it exists in the tendency for applicability | paintability excellent, it is preferable.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 사용할 수 있는 바인더 수지 (A1) 의 함유량은 경화성 수지 조성물 중의 고형분에 대해 질량 분율로 바람직하게는 5 ∼ 90 질량%, 보다 바람직하게는 10 ∼ 70 질량% 이다. 바인더 수지 (A1) 의 함유량이 상기 범위에 있으면, 인쇄성이 양호한 경향이 있어 바람직하다.Content of binder resin (A1) which can be used for curable resin composition of this invention is a mass fraction with respect to solid content in curable resin composition, Preferably it is 5-90 mass%, More preferably, it is 10-70 mass%. When content of binder resin (A1) exists in the said range, there exists a tendency for favorable printability and it is preferable.

산성기를 가지고, 광 및 열 중 적어도 일방의 작용에 의한 반응성을 보이는 바인더 수지 (A2) 로는, (A2-1) ∼ (A2-3) 이 예시된다. As binder resin (A2) which has an acidic group and shows reactivity by the action of at least one of light and heat, (A2-1)-(A2-3) is illustrated.

바인더 수지 (A2-1) 은 (A-a) 와, (A-b) 와, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르 구조를 갖는 단량체 (A-c) (이하 「(A-c)」라고 경우가 있다) 의 공중합체이다.Binder resin (A2-1) is a copolymer of (A-a), (A-b), and the monomer (A-c) (Hereinafter, it may be called "(A-c)") which has a C2-C4 cyclic ether structure.

바인더 수지 (A2-2) 는 (A-a) 와 (A-b) 의 공중합체에 있어서, (A-a) 에서 유래하는 카르복시기의 일부를, (A-c) 에서 유래하는 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르 구조와 반응시킴으로써 얻어지는 공중합체이다.In the copolymer of (Aa) and (Ab), the binder resin (A2-2) is made by reacting a part of the carboxyl group derived from (Aa) with a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms derived from (Ac). It is a copolymer obtained.

바인더 수지 (A2-3) 은 (A-a) 와 (A-c) 의 공중합체이다.Binder resin (A2-3) is a copolymer of (A-a) and (A-c).

(A-c) 는 예를 들어 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르 구조 (예를 들어, 옥시란 구조, 옥세탄 구조 및 테트라히드로푸란 구조로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 구조를 갖는 중합성 화합물을 말한다. 당해 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르 구조를 갖는 단량체 (A-c) 는 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르 구조로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 구조를 가지고, 또한 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르 구조로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 구조를 가지고, 또한 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하다.(Ac) is a polymerizable compound having at least one structure selected from the group consisting of, for example, a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms (for example, an oxirane structure, an oxetane structure, and a tetrahydrofuran structure). The monomer (Ac) having a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms has at least one structure selected from the group consisting of cyclic ether structures having 2 to 4 carbon atoms, and also has a carbon-carbon unsaturated bond. It is preferable that it is a compound, it is a compound which has at least 1 sort (s) of structure chosen from the group which consists of a C2-C4 cyclic ether structure, and has acryloyl group or a methacryloyl group.

(A-c) 로는, 예를 들어, 에폭시기를 갖는 단량체, 옥세타닐기를 갖는 단량체, 테트라히드로푸릴기를 갖는 단량체 등을 들 수 있다.As (A-c), the monomer which has an epoxy group, the monomer which has an oxetanyl group, the monomer which has tetrahydrofuryl group, etc. are mentioned, for example.

상기 에폭시기를 갖는 단량체란, 예를 들어, 지방족 에폭시기 및 지환식 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 갖는 중합성 화합물을 말한다. 당해 에폭시기를 갖는 단량체는 지방족 에폭시기 및 지환식 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 가지고, 또한 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 지방족 에폭시기 및 지환식 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 구조를 가지고, 또한 아크릴로일기 또 는 메타크릴로일기를 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하다.The monomer which has the said epoxy group means the polymeric compound which has at least 1 sort (s) of group chosen from the group which consists of an aliphatic epoxy group and an alicyclic epoxy group, for example. The monomer having the epoxy group is a compound having at least one group selected from the group consisting of aliphatic epoxy groups and alicyclic epoxy groups, and also having a carbon-carbon unsaturated bond, and selected from the group consisting of aliphatic epoxy groups and alicyclic epoxy groups. It is more preferable that it is a compound which has at least 1 type of structure, and has acryloyl group or a methacryloyl group.

여기서, 지방족 에폭시기란, 단고리의 옥실라닐기를 말하고, 지환식 에폭시기란, 지환식 탄화수소의 고리와 옥시란 고리가 축합된 구조를 가지는 기를 말한다.Herein, the aliphatic epoxy group refers to a monocyclic oxylanyl group, and the alicyclic epoxy group refers to a group having a structure in which an alicyclic hydrocarbon ring and an oxirane ring are condensed.

상기 에폭시기를 갖는 단량체 중, 지방족 에폭시기를 갖는 화합물로는, 구체적으로는 글리시딜(메트)아크릴레이트, β-메틸글리시딜(메트)아크릴레이트, β-에틸글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜비닐에테르, 일본 공개특허공보 평7-248625호에 기재된 하기의 식으로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.As a compound which has an aliphatic epoxy group among the monomer which has the said epoxy group, specifically, glycidyl (meth) acrylate, (beta) -methyl glycidyl (meth) acrylate, (beta) -ethylglycidyl (meth) acrylate , Glycidyl vinyl ether, and the compound represented by the following formula described in JP-A-7-248625.

Figure 112009069166810-PAT00005
Figure 112009069166810-PAT00005

(식 중, R11 ∼ R13 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1 ∼ 10 의 알킬기이고, m 은 1 ∼ 5 의 정수이다.)(In formula, R <11> -R <13> is a hydrogen atom or a C1-C10 alkyl group each independently, and m is an integer of 1-5.)

상기 식으로 나타내는 화합물로는, 예를 들어, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르,

Figure 112009069166810-PAT00006
-메틸-o-비닐벤질글리시딜에테르,
Figure 112009069166810-PAT00007
-메틸-m-비닐벤질글리시딜에테르,
Figure 112009069166810-PAT00008
-메틸-p-비닐벤질글리시딜에테르, 2,3-디글리시딜옥시메틸스티렌, 2,4-디글리시딜옥시메틸스티렌, 2,5-디글리시딜옥시메틸스티렌, 2,6-디글리시딜옥시메틸스티렌, 2,3,4-트리글리시딜옥시메틸스티렌, 2,3,5-트리글리시딜옥시메틸스티렌, 2,3,6-트리글리시딜옥시메틸스티렌, 3,4,5-트리글리시딜옥시메틸스티렌, 2,4,6-트리글리시딜옥시메틸스티렌 등을 들 수 있다.As a compound represented by the said formula, For example, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinyl benzyl glycidyl ether,
Figure 112009069166810-PAT00006
-Methyl-o-vinylbenzylglycidyl ether,
Figure 112009069166810-PAT00007
Methyl-m-vinylbenzylglycidyl ether,
Figure 112009069166810-PAT00008
-Methyl-p-vinylbenzylglycidyl ether, 2,3-diglycidyloxymethylstyrene, 2,4-diglycidyloxymethylstyrene, 2,5-diglycidyloxymethylstyrene, 2, 6-diglycidyloxymethylstyrene, 2,3,4-triglycidyloxymethylstyrene, 2,3,5-triglycidyloxymethylstyrene, 2,3,6-triglycidyloxymethylstyrene, 3 , 4,5-triglycidyloxymethyl styrene, 2,4,6-triglycidyloxymethyl styrene, and the like.

상기 에폭시기를 갖는 단량체 중, 지환식 에폭시기를 갖는 단량체로는, 예를 들어, 지방족 단고리형 에폭시기를 갖는 단량체, 지방족 다고리형 에폭시기를 갖는 단량체 등을 들 수 있다.As a monomer which has an alicyclic epoxy group, the monomer which has an aliphatic monocyclic epoxy group, the monomer which has an aliphatic polycyclic epoxy group, etc. are mentioned among the monomer which has the said epoxy group.

상기 지방족 단고리형 에폭시기를 갖는 단량체란, 단고리의 지환식 탄화수소의 고리와 옥시란 고리가 축합된 구조를 갖는 중합성 화합물을 말한다. 당해 지방족 단고리형 에폭시기를 갖는 단량체는 단고리의 지환식 탄화수소의 고리와 옥시란 고리가 축합된 구조를 가지고, 또한 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 단고리의 지환식 탄화수소의 고리와 옥시란 고리가 축합된 구조를 가지고, 또한 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하다.The monomer which has the said aliphatic monocyclic epoxy group means the polymeric compound which has a structure which the ring and the oxirane ring of the monocyclic alicyclic hydrocarbon condensed. It is preferable that the monomer which has the said aliphatic monocyclic epoxy group is a compound which the ring and oxirane ring of the monocyclic alicyclic hydrocarbon condensed, and also has a carbon-carbon unsaturated bond, and the ring and oxy of the monocyclic alicyclic hydrocarbon It is more preferable that it is a compound which has a structure which a column ring condensed, and has acryloyl group or a methacryloyl group.

당해 단고리의 지환식 탄화수소의 고리로는, 예를 들어, 시클로부탄 고리, 시클로펜탄 고리, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄소수가 4 ∼ 6 인 고리가 바람직하다.As a ring of the alicyclic hydrocarbon of the said monocyclic ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring etc. are mentioned, for example, A C4-C6 ring is especially preferable.

당해 지방족 단고리형 에폭시기를 갖는 단량체로는, 구체적으로는 비닐시클로헥센모노옥사이드 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산 (예를 들어, 세로키사이드2000 ; Specific examples of the monomer having an aliphatic monocyclic epoxy group include vinylcyclohexene monooxide 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane (eg, serotoside 2000;

다이셀 화학 공업 (주) 제조), 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트 (예를 들어, 사이크로마A400 ; 다이셀 화학 공업 (주) 제조), 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타아크릴레이트 (예를 들어, 사이크로마M100 ; 다이셀 화학 공업 (주) 제조) 등을 들 수 있다.Daicel Chemical Industry Co., Ltd.), 3, 4- epoxycyclohexyl methyl acrylate (for example, cycloma A400; Daicel Chemical Industry Co., Ltd. product), 3, 4- epoxycyclohexyl methyl methacrylate (For example, cyclochrom M100; Daicel Chemical Industry Co., Ltd. product) etc. are mentioned.

상기 지방족 다고리형 에폭시기를 갖는 단량체란, 다고리의 지환식 탄화수소의 고리와 옥시란 고리가 축합된 구조를 갖는 중합성 화합물을 말한다. 당해 다고리의 지환식 탄화수소의 고리와 옥시란 고리가 축합된 구조를 갖는 단량체는 다고리의 지환식 탄화수소의 고리와 옥시란 고리가 축합된 구조를 가지고, 또한 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 다고리의 지환식 탄화수소의 고리와 옥시란 고리가 축합된 구조를 가지고, 또한 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하다. The monomer which has the said aliphatic polycyclic epoxy group means the polymeric compound which has a structure which the ring and the oxirane ring of the polycyclic alicyclic hydrocarbon condensed. The monomer having a structure in which the ring and the oxirane ring of the polycyclic alicyclic hydrocarbon are condensed has a structure in which the ring and the oxirane ring of the polycyclic alicyclic hydrocarbon are condensed, and is a compound having a carbon-carbon unsaturated bond. It is preferable that it is a compound which has a structure which the ring of the polycyclic alicyclic hydrocarbon and the oxirane ring condensed, and has acryloyl group or methacryloyl group.

당해 다고리의 지환식 탄화수소의 고리로는, 예를 들어, 디시클로펜탄 고리, 트리시클로데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소노르보르난 고리, 비시클로옥탄 고리, 비시클로노난 고리, 비시클로운데칸 고리, 트리시클로운데칸 고리, 비시클로도데칸 고리, 트리시클로도데칸 고리 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄소수가 8 내지 12 의 화합물이 바람직하다.As a ring of the alicyclic hydrocarbon of the said polycyclic ring, a dicyclopentane ring, a tricyclodecane ring, a norbornane ring, an isononorbornane ring, a bicyclooctane ring, a bicyclononane ring, a bicycloound And a cyclo ring, a tricyclo undecane ring, a bicyclo dodecane ring, a tricyclo dodecane ring, etc. are mentioned, Especially, a C8-C12 compound is preferable.

상기 지방족 다고리형 에폭시기를 갖는 단량체로는, 예를 들어, 식 (I) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물 등을 들 수 있다.As a monomer which has the said aliphatic polycyclic epoxy group, at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of a compound represented by Formula (I) and a compound represented by Formula (II), etc. are mentioned, for example.

Figure 112009069166810-PAT00009
Figure 112009069166810-PAT00009

식 (I) 및 식 (Ⅱ) 에 있어서, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 수소 원자 또 는 히드록시로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.In Formula (I) and Formula (II), R <1> and R <2> respectively independently represents the C1-C4 alkyl group which may be substituted by the hydrogen atom or hydroxy.

X1 및 X2 는 각각 독립적으로 단결합 또는 헤테로 원자를 함유해도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기를 나타낸다.X 1 and X 2 each independently represent a C 1-6 alkylene group which may contain a single bond or a hetero atom.

R1 및 R2 로는, 구체적으로는 수소 원자 ; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등의 알킬기 ; As R 1 and R 2 , specifically, a hydrogen atom; Alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group;

히드록시메틸기, 1-히드록시에틸기, 2-히드록시에틸기, 1-히드록시-n-프로필기, 2-히드록시-n-프로필기, 3-히드록시-n-프로필기, 1-히드록시-이소프로필기, 2-히드록시-이소프로필기, 1-히드록시-n-부틸기, 2-히드록시-n-부틸기, 3-히드록시-n-부틸기, 4-히드록시-n-부틸기 등의 히드록시기 함유 알킬기를 들 수 있다. 그 중에서도, 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 히드록시메틸기, 1-히드록시에틸기, 2-히드록시에틸기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기를 들 수 있다.Hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxy-n-propyl group, 2-hydroxy-n-propyl group, 3-hydroxy-n-propyl group, 1-hydroxy -Isopropyl group, 2-hydroxy-isopropyl group, 1-hydroxy-n-butyl group, 2-hydroxy-n-butyl group, 3-hydroxy-n-butyl group, 4-hydroxy-n And hydroxyl group-containing alkyl groups such as -butyl group. Especially, Preferably a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, and 2-hydroxyethyl group are mentioned, More preferably, a hydrogen atom and a methyl group are mentioned.

X1 및 X2 로는, 구체적으로는 단결합 ; 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기 등의 알킬렌기 ;As X 1 and X 2 , specifically, a single bond; Alkylene groups such as methylene group, ethylene group and propylene group;

옥시메틸렌기, 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기, 티오메틸렌기, 티오에틸렌기, 티오프로필렌기, 아미노메틸렌기, 아미노에틸렌기, 아미노프로필렌기 등의 헤테로 원자 함유 알킬렌기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 바람직하게는 단결합, 메틸렌기, 에틸렌기, 옥시메틸렌기, 옥시에틸렌기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 단결합, 옥시에틸렌기를 들 수 있다.Hetero atom containing alkylene groups, such as an oxymethylene group, an oxyethylene group, an oxypropylene group, a thiomethylene group, a thioethylene group, a thiopropylene group, an aminomethylene group, an aminoethylene group, an aminopropylene group, etc. are mentioned. Especially, Preferably, a single bond, a methylene group, ethylene group, an oxymethylene group, and an oxyethylene group are mentioned, More preferably, a single bond and an oxyethylene group are mentioned.

식 (I) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물로는, 하기의 식 (I') 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ') 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물인 것이 바람직하다.As at least 1 type of compound chosen from the group which consists of a compound represented by Formula (I) and a compound represented by Formula (II), it consists of a compound represented by following formula (I ') and a compound represented by Formula (II'). It is preferable that it is at least 1 type of compound chosen from the group.

Figure 112009069166810-PAT00010
Figure 112009069166810-PAT00010

식 (I') 및 식 (Ⅱ') 에 있어서, R1' 및 R2' 는 각각 상기 R1 및 R2 와 동일한 의미이다.In formula (I ') and formula (II'), R <1>'and R <2>' are synonymous with said R <1> and R <2> , respectively.

식 (I) 로 나타내는 화합물로는, 구체적으로는 예를 들어, 식 (I-1) ∼ 식 (I-15) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 식 (I-1), 식 (I-3), 식 (I-5), 식 (I-7), 식 (I-9), 식 (I-11) ∼ 식 (I-15) 를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 식 (I-1), 식 (I-7), 식 (I-9), 식 (I-15) 를 들 수 있다.Specifically as a compound represented by Formula (I), the compound etc. which are represented by Formula (I-1)-Formula (I-15) are mentioned, Preferably, it is Formula (I-1), a formula (I-3), formula (I-5), formula (I-7), formula (I-9), formula (I-11) to formula (I-15), and more preferably a formula (I-1), formula (I-7), formula (I-9), and formula (I-15) are mentioned.

Figure 112009069166810-PAT00011
Figure 112009069166810-PAT00011

식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로는, 구체적으로는, 예를 들어 식 (Ⅱ-1) ∼ 식 (Ⅱ-15) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 식 (Ⅱ-1), 식 (Ⅱ-3), 식 (Ⅱ-5), 식 (Ⅱ-7), 식 (Ⅱ-9), 식 (Ⅱ-11) ∼ 식 (Ⅱ-15) 를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 식 (Ⅱ-1), 식 (Ⅱ-7), 식 (Ⅱ-9), 식 (Ⅱ-15) 를 들 수 있다.As a compound represented by Formula (II), specifically, the compound etc. which are represented by Formula (II-1)-Formula (II-15) are mentioned, Preferably, it is Formula (II-1), a formula (II-3), formula (II-5), formula (II-7), formula (II-9), formula (II-11) to formula (II-15), and more preferably a formula (II-1), formula (II-7), formula (II-9), and formula (II-15).

Figure 112009069166810-PAT00012
Figure 112009069166810-PAT00012

식 (I) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물은 각각 단독으로 사용할 수 있고, 임의의 비율로 혼합할 수 있다. 혼합하는 경우, 그 혼합 비율은 몰 비로, 바람직하게는 식 (I) : 식 (Ⅱ) 에서 5 : 95 ∼ 95 : 5, 보다 바람직하게는 10 : 90 ∼ 90 : 10, 더욱 바람직하게는 20 : 80 ∼ 80 : 20 이다.At least 1 type of compound chosen from the group which consists of a compound represented by Formula (I) and a compound represented by Formula (II) can be used independently, respectively, and can be mixed in arbitrary ratios. In the case of mixing, the mixing ratio is in a molar ratio, preferably from 5:95 to 95: 5 in the formula (I): formula (II), more preferably from 10:90 to 90:10, still more preferably from 20: It is 80-80: 20.

상기 옥세타닐기를 갖는 단량체란, 예를 들어, 지방족 옥세타닐기 및 지환식 옥세타닐기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 갖는 중합성 화합물을 말한다. 당해 옥세타닐기를 갖는 단량체는 지방족 옥세타닐기 및 지환식 옥세타닐기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 가지고, 또한 불포화 결합을 갖는 화합물인 것이 바람직하다. The monomer which has the said oxetanyl group means the polymeric compound which has at least 1 sort (s) of group chosen from the group which consists of an aliphatic oxetanyl group and an alicyclic oxetanyl group, for example. It is preferable that the monomer which has the said oxetanyl group is a compound which has at least 1 sort (s) of group chosen from the group which consists of an aliphatic oxetanyl group and an alicyclic oxetanyl group, and has an unsaturated bond.

당해 옥세타닐기를 갖는 단량체로는, 구체적으로는 3-메틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄 또는 3-에틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄 등을 들 수 있다.Specifically as a monomer which has the said oxetanyl group, 3-methyl-3- methacryloxy methyl oxetane, 3-methyl-3- acryloxy methyl oxetane, 3-ethyl-3- methacryloxy methyl oxetane , 3-ethyl-3-acryloxymethyl oxetane, 3-methyl-3-methacryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyl oxetane, 3-ethyl-3-methacryloxyethyl oxetane Or 3-ethyl-3-acryloxyethyl oxetane.

이들은 단독으로 또는 조합하여 사용된다.These are used alone or in combination.

상기 테트라히드로푸릴기를 갖는 단량체란, 예를 들어, 지방족 테트라히드로푸릴기 및 지환식 테트라히드로푸릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 갖는 중합성 화합물을 말한다. 당해 테트라히드로푸릴기를 갖는 단량체는 지방족 테트라히드로푸릴기 및 지환식 테트라히드로푸릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 가지고, 또한 불포화 결합을 갖는 화합물인 것이 바람직하다.The monomer which has the said tetrahydrofuryl group means the polymeric compound which has at least 1 sort (s) of group chosen from the group which consists of an aliphatic tetrahydrofuryl group and an alicyclic tetrahydrofuryl group, for example. It is preferable that the monomer which has the said tetrahydrofuryl group is a compound which has at least 1 sort (s) of group chosen from the group which consists of aliphatic tetrahydrofuryl group and alicyclic tetrahydrofuryl group, and has an unsaturated bond.

당해 테트라히드로푸릴기를 갖는 단량체로는, 구체적으로는, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴메타크릴레이트 등을 들 수 있다. As a monomer which has the said tetrahydrofuryl group, tetrahydrofurfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, etc. are mentioned specifically ,.

이들은 단독으로 또는 조합하여 사용된다.These are used alone or in combination.

바인더 수지 (A2-1) 에 있어서, 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 바인더 수지 (A2-1) 를 구성하는 구성 성분의 합계 몰 수에 대해 몰 분율로, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. In binder resin (A2-1), it is preferable that the ratio of the structural component guide | induced from each exists in the following ranges with a mole fraction with respect to the total mole number of the structural component which comprises binder resin (A2-1).

(A-a) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 2 ∼ 40 몰% Structural units derived from (A-a); 2-40 mol%

(A-b) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 1 ∼ 65 몰% Structural units derived from (A-b); 1 to 65 mol%

(A-c) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 2 ∼ 95 몰% Structural units derived from (A-c); 2 to 95 mol%

또, 상기 구성 성분의 비율이 이하의 범위이면 보다 바람직하다.Moreover, it is more preferable if the ratio of the said structural component is the following ranges.

(A-a) 로부터 유도된다 구계 단위 ; 5 ∼ 35 몰% Derived from (A-a); 5 to 35 mol%

(A-b) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 1 ∼ 60 몰% Structural units derived from (A-b); 1 to 60 mol%

(A-c) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 5 ∼ 80 몰% Structural units derived from (A-c); 5 to 80 mol%

상기 구성 비율이 상기 범위에 있으면 보존 안정성, 내용제성, 내열성 및 기계 강도가 양호해지는 경향이 있다.When the said composition ratio exists in the said range, storage stability, solvent resistance, heat resistance, and mechanical strength tend to become favorable.

바인더 수지 (A2-1) 는 예를 들어 문헌 「고분자 합성의 실험법」 (오오츠 타카유키 저 발행소 (주) 화학동인 제 1 판 제 1 쇄 1972년 3월 1일 발행) 에 기재된 방법 및 당해 문헌에 기재된 인용 문헌을 참고로 하여 제조할 수 있다.The binder resin (A2-1) is described in, for example, the method described in the document "Experimental method of polymer synthesis" (first edition March 1, 1972, first edition of Oka Takayuki Kogyo Co., Ltd.) It may be prepared with reference to the cited documents described.

구체적으로는, 공중합체를 구성하는 단위 (A-a), (A-b) 및 (A-c) 을 유도하는 화합물의 소정량, 중합 개시제 및 용제를 반응 용기 내에 주입하고, 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 산소 비존재하에서 교반, 가열, 보온함으로써, 중합체가 얻어진다. 또한, 얻어진 공중합체는 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 또는 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법에 의해 고체 (분체) 로서 취출한 것을 사용해도 된다.Specifically, a predetermined amount of a compound, a polymerization initiator, and a solvent, which induce units (Aa), (Ab) and (Ac) constituting the copolymer, are injected into the reaction vessel, and oxygen is replaced by nitrogen to reduce the oxygen ratio. The polymer is obtained by stirring, heating, and keeping warm in presence. In addition, the obtained copolymer may use the solution after reaction as it is, the solution which concentrated or diluted may be used, and what was taken out as solid (powder) by methods, such as reprecipitation, may be used.

바인더 수지 (A2-2) 를 제조하는 데에 있어서, 먼저 (A-a) 및 (A-b) 를 공중합시켜 공중합체를 제조한다. 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 상기 공중합체를 구성하는 구성 성분의 합계 몰 수에 대해 몰 분율로, 이하의 범위에 있 는 것이 바람직하다.In manufacturing binder resin (A2-2), a copolymer is manufactured by copolymerizing (A-a) and (A-b) first. It is preferable that the ratio of the component derived from each is in the following ranges in mole fraction with respect to the total mole number of the component which comprises the said copolymer.

(A-a) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 5 ∼ 50 몰% Structural units derived from (A-a); 5-50 mol%

(A-b) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 50 ∼ 95 몰% Structural units derived from (A-b); 50 to 95 mol%

또, 상기 구성 성분의 비율이 이하의 범위이면 보다 바람직하다.Moreover, it is more preferable if the ratio of the said structural component is the following ranges.

(A-a) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 10 ∼ 45 몰% Structural units derived from (A-a); 10 to 45 mol%

(A-b) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 55 ∼ 90 몰% Structural units derived from (A-b); 55 to 90 mol%

다음으로, 광이나 열의 작용에 의한 반응성을 갖게 하기 위해서, (A-a) 및 (A-b) 을 공중합시켜 얻어지는 공중합체에서 유래하는 (A-a) 의 카르복실산 및 카르복실산 무수물의 일부를, (A-c) 에서 유래하는 에폭시기 또는 옥세타닐기와 반응시킨다.Next, in order to give reactivity by the action of light or heat, a part of the carboxylic acid and carboxylic anhydride of (Aa) derived from the copolymer obtained by copolymerizing (Aa) and (Ab) is (Ac) It reacts with the epoxy group or oxetanyl group derived from

(A-c) 의 몰 수는 (A-a) 의 몰 수에 대해 5 ∼ 80 몰% 이고, 바람직하게는 10 ∼ 75 몰% 이고, 보다 바람직하게는 15 ∼ 70 몰% 이다.The molar number of (A-c) is 5-80 mol% with respect to the mole number of (A-a), Preferably it is 10-75 mol%, More preferably, it is 15-70 mol%.

구성 비율이 상기 범위에 있으면 보존 안정성, 내용제성, 내열성, 기계 강도 및 감도 (이른바 광 경화성) 의 밸런스가 양호해지는 경향이 있다.When the composition ratio is in the above range, the balance of storage stability, solvent resistance, heat resistance, mechanical strength, and sensitivity (so-called photocurability) tends to be good.

바인더 수지 (A2-2) 는 2 단계의 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 예를 들어 문헌 「고분자 합성의 실험법」 (오오츠 타카유키 저 발행소 (주) 화학동인 제 1 판 제 1 쇄 1972년 3월 1일 발행) 에 기재된 방법이나, 일본 공개특허공보 2001-89533호에 기재된 방법을 참고로 하여 제조할 수 있다. Binder resin (A2-2) can be manufactured through a two-step process. For example, the method described in the document "Experimental method of polymer synthesis" (Otsu Takayuki Kogyo Co., Ltd. first edition first edition March 1, 1972) and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-89533 It may be prepared by reference to the method.

구체적으로, 먼저 제 1 단계의 공정에 대해 서술한다. (A-a) 및 (A-b) 를 공중합시켜 얻어지는 공중합체 (즉, 바인더 수지) 를 구성하는 단위 (A-a) 및 (A-b) 를 유도하는 화합물의 소정량, 중합 개시제 및 용제를 반응 용기 내에 주입하고, 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 산소 비존재하에서 교반, 가열, 보온함으로써 바인더 수지가 얻어진다. 또한, 얻어진 수지는 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 또는 희석된 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법에 의해 고체 (분체) 로서 취출한 것을 사용해도 된다. 상기 수지의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 3,000 ∼ 100,000, 보다 바람직하게는 5,000 ∼ 50,000 이다. 수지의 중량 평균 분자량이 상기 범위에 있으면, 도포성이 양호해지는 경향이 있어 바람직하다.Specifically, first, the process of the first step will be described. A predetermined amount, a polymerization initiator and a solvent of a compound inducing units (Aa) and (Ab) constituting a copolymer (i.e., binder resin) obtained by copolymerizing (Aa) and (Ab) are injected into a reaction vessel, and nitrogen By substituting oxygen by the above, binder resin is obtained by stirring, heating, and keeping warm in the absence of oxygen. In addition, the obtained resin may use the solution after reaction as it is, the solution concentrated or diluted may be used, and what was taken out as solid (powder) by methods, such as reprecipitation, may be used. The weight average molecular weight of polystyrene conversion of the said resin becomes like this. Preferably it is 3,000-100,000, More preferably, it is 5,000-50,000. When the weight average molecular weight of resin exists in the said range, applicability | paintability tends to become favorable and it is preferable.

상기 수지의 분자량 분포 [중량 평균 분자량 (Mw)/수평균 분자량 (Mn)] 은 바람직하게는 1.1 ∼ 6.0 이고, 보다 바람직하게는 1.2 ∼ 4.0 이다. 분자량 분포가 상기 범위에 있으면, 도포성이 우수한 경향이 있기 때문에 바람직하다.The molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of the said resin becomes like this. Preferably it is 1.1-6.0, More preferably, it is 1.2-4.0. If molecular weight distribution exists in the said range, since it exists in the tendency for applicability | paintability excellent, it is preferable.

다음으로, 제 2 단계의 공정에 대해 서술한다. 계속해서, 플라스크 내 분위기를 질소로부터 공기로 치환하고, 구성 성분 (A-a) 의 몰 수에 대해 5 ∼ 80 몰% 의 구성 성분 (A-c), 카르복시기와 에폭시기 또는 옥세타닐기의 반응 촉매로서, 예를 들어 트리스디메틸아미노메틸페놀을 모노머 (A-a) ∼ (A-c) 의 합계량에 대해 질량 기준으로 0.001 ∼ 5%, 및 중합 금지제로서 예를 들어 하이드로퀴논을 모노머 (A-a) ∼ (A-c) 의 합계량에 대해 질량 기준으로 0.001 ∼ 5 % 를 플라스크 내에 넣고, 60 ∼ 130 ℃ 에서, 1 ∼ 10 시간 반응을 계속함으로써, 상기 수지와 구성 성분 (A-c) 을 반응시킬 수 있다. 또한, 중합 조건과 동일하게 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여, 주입 방법이나 반응 온도를 적절히 조 정할 수 있다.Next, the process of a 2nd step is described. Subsequently, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and as a reaction catalyst of 5 to 80 mol% of the component (Ac), carboxyl group, epoxy group or oxetanyl group with respect to the mole number of the component (Aa), For example, trisdimethylaminomethylphenol is 0.001-5% by mass with respect to the total amount of monomers (Aa)-(Ac), and hydroquinone is used as a polymerization inhibitor, for example with respect to the total amount of monomers (Aa)-(Ac). The said resin and a structural component (Ac) can be made to react by putting 0.001 to 5% by mass in a flask and continuing reaction for 1 to 10 hours at 60-130 degreeC. In addition, in the same manner as the polymerization conditions, the injection method and the reaction temperature can be appropriately adjusted in consideration of the amount of heat generated by the production facility, polymerization, and the like.

바인더 수지 (A2-3) 에 있어서, 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 바인더 수지 (A2-3) 를 구성하는 구성 성분의 합계 몰 수에 대해 몰 분율로, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다.In binder resin (A2-3), it is preferable that the ratio of the structural component guide | induced from each exists in the following ranges with a mole fraction with respect to the total mole number of the structural component which comprises binder resin (A2-3).

(A-a) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 5 ∼ 95 몰%Structural units derived from (A-a); 5 to 95 mol%

(A-c) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 5 ∼ 95 몰% Structural units derived from (A-c); 5 to 95 mol%

또, 상기 구성 성분의 비율이 이하의 범위이면 보다 바람직하다.Moreover, it is more preferable if the ratio of the said structural component is the following ranges.

(A-a) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 10 ∼ 90 몰% Structural units derived from (A-a); 10 to 90 mol%

(A-c) 로부터 유도되는 구성 단위 ; 10 ∼ 90 몰% Structural units derived from (A-c); 10 to 90 mol%

상기 구성 비율이 상기 범위에 있으면 보존 안정성, 내용제성, 내열성 및 기계 강도가 양호해지는 경향이 있다.When the said composition ratio exists in the said range, storage stability, solvent resistance, heat resistance, and mechanical strength tend to become favorable.

바인더 수지 (A2-3) 는 예를 들어 문헌 「고분자 합성의 실험법」 (오오츠 타카유키 저 발행소 (주) 화학동인 제 1 판 제 1 쇄 1972년 3월 1일 발행) 에 기재된 방법 및 당해 문헌에 기재된 인용 문헌을 참고로 하여 제조할 수 있다.The binder resin (A2-3) is described in, for example, the method described in the document "Experimental Method for Polymer Synthesis" (first edition, March 1, 1972, first edition of Oka Takayuki Kogyo Co., Ltd.) It may be prepared with reference to the cited documents described.

구체적으로는, 공중합체를 구성하는 단위 (A-a) 및 (A-c) 를 유도하는 화합물의 소정량, 중합 개시제 및 용제를 반응 용기 내에 주입하고, 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 산소 비존재하에서 교반, 가열, 보온함으로써 중합체가 얻어진다. 또한, 얻어진 공중합체는 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 또는 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법에 의해 고체 (분체) 로서 취출한 것을 사용해도 된다.Specifically, a predetermined amount, a polymerization initiator, and a solvent of a compound for inducing units (Aa) and (Ac) constituting the copolymer are injected into the reaction vessel, and the oxygen is replaced with nitrogen, thereby stirring in the absence of oxygen, A polymer is obtained by heating and keeping warm. In addition, the obtained copolymer may use the solution after reaction as it is, the solution which concentrated or diluted may be used, and what was taken out as solid (powder) by methods, such as reprecipitation, may be used.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 함유되는 중합성 화합물 (B) 로는, 단관능 모노머 2 관능 모노머 또는 그 이외에 3 관능 이상의 다관능 모노머 등을 들 수 있다.As a polymeric compound (B) contained in curable resin composition of this invention, a monofunctional monomer bifunctional monomer or the other trifunctional or more than trifunctional polyfunctional monomer etc. are mentioned.

단관능 모노머의 구체예로는, 노닐페닐카르비톨(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 2-(2-에톡시에톡시)에틸(메트)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 카프로락톤(메트)아크릴레이트, 에톡시화노닐페놀(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 노닐페놀(메트)아크릴레이트 또는 N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.As a specific example of a monofunctional monomer, nonyl phenylcarbitol (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl carbitol (meth) acrylate, 2-hydroxy Oxyethyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate , Caprolactone (meth) acrylate, ethoxylated nonylphenol (meth) acrylate, propoxylated nonylphenol (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, and the like.

또 2 관능 모노머의 구체예로는, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 비스페놀 A 의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 에톡시화 비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 에톡시화 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 또는 3-메틸펜탄디올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Moreover, as a specific example of a bifunctional monomer, 1, 3- butanediol di (meth) acrylate, 1, 3- butanediol (meth) acrylate, 1, 6- hexanediol di (meth) acrylate, and ethylene glycol di ( Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol diacrylate Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated neopentylglycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentylglycol di (meth) acrylate or 3-methylpentanediol di (meth) acrylate etc. are mentioned.

그 밖의 3 관능 이상의 다관능 모노머의 구체예로는, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에 틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물, 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산무수물 카프로락톤 변성 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물, 또는 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산무수물 등을 들 수 있다.Specific examples of other trifunctional or higher polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tree (meth ) Acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, tripentaerythritolpenta (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritolhepta ( Meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and reactants of acid anhydride, dipentaery Reactant of rititol penta (meth) acrylate with acid anhydride, tripentaerythritolhepta (meth) acrylate and acid anhydride caprolactone modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, caprolactone modified pentaerythritol tri (meth) acrylic Latex, caprolactone modified tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, caprolactone modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate Caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol penta (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol Hexa (meth) acrylate, caprolactone modified tripentaerythritolhepta (meth) acrylate, Reaction of caprolactone-modified tripentaerythritol octa (meth) acrylate, caprolactone-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate and acid anhydride, reactant of caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate and acid anhydride Or caprolactone-modified tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, an acid anhydride, and the like.

또한, 본 명세서에 있어서, 카프로락톤 변성이란, (메트)아크릴레이트 화합물의 알코올 유래 부위와 (메트)아크릴로일옥시기 사이에, 카프로락톤의 개환체 또는, 개환 중합체가 도입되는 것을 의미한다.In addition, in this specification, a caprolactone modification means that the ring-opening body of a caprolactone or a ring-opening polymer is introduce | transduced between the alcohol origin site | part of a (meth) acrylate compound, and a (meth) acryloyloxy group.

특히 2 관능 이상의 다관능 모노머가 바람직하게 사용된다. 이들 중합성 화합물 (B) 는 단독으로 또는 2 종 이상 병용하여 사용할 수 있다.In particular, a bifunctional or more than polyfunctional monomer is used preferably. These polymeric compounds (B) can be used individually or in combination of 2 or more types.

중합성 화합물 (B) 의 함유량은 바인더 수지 (A) 및 중합성 화합물 (B) 의 합계량에 대해 질량 분율로 바람직하게는 1 ∼ 70 질량%, 보다 바람직하게는 5 ∼ 60 질량% 이다. 중합성 화합물 (B) 의 함유량이 상기 범위에 있으면, 감도, 도포막 및 패턴의 강도, 평활성, 신뢰성 및 기계 강도가 양호해지는 경향이 있어 바람직하다.The content of the polymerizable compound (B) is preferably 1 to 70% by mass, more preferably 5 to 60% by mass, based on the mass fraction with respect to the total amount of the binder resin (A) and the polymerizable compound (B). When content of a polymeric compound (B) exists in the said range, since there exists a tendency for the sensitivity, the smoothness, reliability, and mechanical strength of a sensitivity, a coating film, and a pattern to become favorable, it is preferable.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 함유되는 중합 개시제 (C) 로는, 광 또는 열의 작용에 의해 중합을 개시하는 화합물이고, 비이미다졸계 화합물, 아세토페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물 또는 옥심계 화합물이 바람직하고, 비이미다졸계 화합물이 감도가 우수하기 때문에 특히 바람직하다.As a polymerization initiator (C) contained in curable resin composition of this invention, it is a compound which starts superposition | polymerization by action of light or a heat, A biimidazole type compound, an acetophenone type compound, a triazine type compound, an acylphosphine oxide type compound Or an oxime type compound is preferable and a biimidazole type compound is especially preferable because it is excellent in sensitivity.

상기 비이미다졸 화합물로는, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5' -테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 (예를 들어 일본 공개특허공보 평6-75372호, 일본 공개특허공보 평6-75373호 등 참조), 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)- 4,4',5,5'-테트라(디알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸 (예를 들어 일본 특허공보 소48-38403호, 일본 공개특허공보 소62-174204호 등 참조), 4,4'5,5'- 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 (예를 들어 일본 공개특허공보 평7-10913호 등 참조) 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸을 들 수 있다.Examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl ) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole (see, for example, JP-A-6-75372, JP-A-6-75373, etc.), 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl ) Biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (dialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-38403, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-174204, etc.), 4,4' And imidazole compounds in which the phenyl group in the 5,5'-position is substituted with a carboalkoxy group (see, for example, JP-A-7-10913, etc.), and the like, and preferably 2,2'- Bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'- Traphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl ) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole.

상기 아세토페논계 화합물로는, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]-페닐}-2-메틸-프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(2-메틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(3-메틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(4-메틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(2-에틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(2-프로필벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(2-부틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(2,3-디메틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(2,4-디메틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(2-클로로벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노 페닐)-부타논, 2-(2-브로모벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(3-클로로벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(4-클로로벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(3-브로모벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(4-브로모벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(2-메톡시벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(3-메톡시벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(4-메톡시벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(2-메틸-4-메톡시벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(2-메틸-4-브로모벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-(2-브로모-4-메톡시벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다.As said acetophenone type compound, diethoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxy Ethoxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2- Methyl-propan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) -propan-1-one, 2-benzyl-2- Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2- (2-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- ( 3-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (4-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)- Butanone, 2- (2-ethylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-propylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4- Morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-butylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2,3- Methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2,4-dimethylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)- Butanone, 2- (2-chlorobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholino phenyl) -butanone, 2- (2-bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4 -Morpholinophenyl) -butanone, 2- (3-chlorobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (4-chlorobenzyl) -2-dimethyl Amino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (3-bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (4- Bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)- Butanone, 2- (3-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (4-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- ( 4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-methyl-4-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-meth -4-bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-bromo-4-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- ( And oligomers of 4-morpholinophenyl) -butanone and 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one.

상기 트리아진계 화합물로는, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. Examples of the triazine-based compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis ( Trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl ) Ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, etc. are mentioned.

상기 아실포스핀옥사이드계 개시제로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥 사이드 등을 들 수 있다.2,4,6-trimethylbenzoyl diphenyl phosphine oxide etc. are mentioned as said acylphosphine oxide type initiator.

상기 옥심 화합물로는 O-에톡시카르보닐-

Figure 112009069166810-PAT00013
-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 식 (Ⅳ) 로 나타내는 화합물, 식 (V) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.As said oxime compound, O-ethoxycarbonyl-
Figure 112009069166810-PAT00013
-Oxyimino-1-phenylpropan-1-one, the compound represented by Formula (IV), the compound represented by Formula (V), etc. are mentioned.

Figure 112009069166810-PAT00014
Figure 112009069166810-PAT00014

본 발명의 효과를 손상시키지 않을 정도이면, 광중합 개시제 등을 추가로 병용할 수 있고, 당해 광중합 개시제로는, 예를 들어 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물 또는 티옥산톤계 화합물 등을 들 수 있다.As long as it does not impair the effect of this invention, a photoinitiator etc. can be used together further, and a benzoin type compound, a benzophenone type compound, a thioxanthone type compound, etc. are mentioned as said photoinitiator, for example.

보다 구체적으로는 이하와 같은 화합물을 들 수 있고, 이들을 각각 단독으로, 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.More specifically, the following compounds are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 벤조인계 화합물로는, 예를 들어 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 또는 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.As said benzoin type compound, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. are mentioned, for example.

상기 벤조페논계 화합물로는, 예를 들어 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 또는 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.As said benzophenone type compound, for example, benzophenone, methyl o-benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'- methyl diphenyl sulfide, 3,3 ', 4,4'- tetra ( tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, etc. are mentioned.

상기 티옥산톤계 화합물로는, 예를 들어 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤 또는 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다.As said thioxanthone type compound, 2-isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- dichloro thioxanthone, or 1-chloro-, for example 4-propoxy city oxanthone etc. are mentioned.

그 이외에도 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄파퀴논, 페닐글리옥실산메틸 또는 티타노센 화합물 등이 광중합 개시제로서 예시된다.In addition to this, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compound and the like are exemplified as photopolymerization initiators.

또, 연쇄 이동을 일으킬 수 있는 기를 갖는 광중합 개시제로서 일본 공표특허공보 2002-544205호에 기재되어 있는 광중합 개시제를 사용할 수 있다.Moreover, the photoinitiator described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-544205 can be used as a photoinitiator which has group which can cause chain transfer.

상기 연쇄 이동을 일으킬 수 있는 기를 갖는 광중합 개시제로는, 예를 들어 하기 식 (5) ∼ 하기 식 (10) 의 광중합 개시제를 들 수 있다.As a photoinitiator which has the group which can produce the said chain transfer, the photoinitiator of following formula (5)-following formula (10) is mentioned, for example.

Figure 112009069166810-PAT00015
Figure 112009069166810-PAT00015

또, 광 및/또는 열 카티온 중합 개시제를 사용할 수 있다. 광 및/또는 열 카티온 중합 개시제는 오늄 카티온과 루이스산 유래의 아니온으로 구성되어 있는 것도 사용할 수 있다.Moreover, a light and / or thermal cationic polymerization initiator can be used. An optical and / or thermal cationic polymerization initiator can also use what is comprised from onium cation and an anion derived from Lewis acid.

상기 오늄 카티온의 구체예로는, 디페닐요오드늄, 비스(p-톨릴)요오드늄, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄, 비스(p-옥틸페닐)요오드늄, 비스(p-옥타데실페닐)요 오드늄, 비스(p-옥틸옥시페닐)요오드늄, 비스(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄, 페닐(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄, 트리페닐술포늄, 트리스(p-톨릴)술포늄, 트리스(p-이소프로필페닐)술포늄, 트리스(2,6-디메틸페닐)술포늄, 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄, 트리스(p-시아노페닐)술포늄, 트리스(p-클로로페닐)술포늄, 디메틸(메톡시)술포늄, 디메틸(에톡시)술포늄, 디메틸(프로폭시)술포늄, 디메틸(부톡시)술포늄, 디메틸(옥틸옥시)술포늄, 디메틸(옥타데칸옥시)술포늄, 디메틸(이소프로폭시)술포늄, 디메틸(tert-부톡시)술포늄, 디메틸(시클로펜틸옥시)술포늄, 디메틸(시클로헥실옥시)술포늄, 디메틸(플루오로메톡시)술포늄, 디메틸(2-클로로에톡시)술포늄, 디메틸(3-브로모프로폭시)술포늄, 디메틸(4-시아노부톡시)술포늄, 디메틸(8-니트로옥틸옥시)술포늄, 디메틸(18-트리플루오로메틸옥타데칸옥시)술포늄, 디메틸(2-히드록시이소프로폭시)술포늄, 또는 디메틸(트리스(트리클로로메틸)메틸)술포늄 등을 들 수 있다.As a specific example of the said onium cation, diphenyl iodonium, bis (p-tolyl) iodonium, bis (p-tert- butylphenyl) iodonium, bis (p-octylphenyl) iodonium, bis (p- Octadecylphenyl) iodonium, bis (p-octyloxyphenyl) iodonium, bis (p-octadecyloxyphenyl) iodonium, phenyl (p-octadecyloxyphenyl) iodonium, (p-tolyl) (p Isopropylphenyl) iodonium, triphenylsulfonium, tris (p-tolyl) sulfonium, tris (p-isopropylphenyl) sulfonium, tris (2,6-dimethylphenyl) sulfonium, tris (p-tert Butylphenyl) sulfonium, tris (p-cyanophenyl) sulfonium, tris (p-chlorophenyl) sulfonium, dimethyl (methoxy) sulfonium, dimethyl (ethoxy) sulfonium, dimethyl (propoxy) sulphate Phonium, dimethyl (butoxy) sulfonium, dimethyl (octyloxy) sulfonium, dimethyl (octadecanoxy) sulfonium, dimethyl (isopropoxy) sulfonium, dimethyl (tert-butoxy) sulfonium, dimethyl (cyclopentyl Oxy) sulfonium, dimethyl (sicle Hexyloxy) sulfonium, dimethyl (fluoromethoxy) sulfonium, dimethyl (2-chloroethoxy) sulfonium, dimethyl (3-bromopropoxy) sulfonium, dimethyl (4-cyanobutoxy) sulfonium, Dimethyl (8-nitrooctyloxy) sulfonium, dimethyl (18-trifluoromethyloctadecaneoxy) sulfonium, dimethyl (2-hydroxyisopropoxy) sulfonium, or dimethyl (tris (trichloromethyl) methyl) Sulfonium and the like.

바람직한 오늄 카티온으로는, 비스(p-톨릴)요오드늄, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄, 트리페닐술포늄 또는 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄 등을 들 수 있다.Preferred onium cations include bis (p-tolyl) iodium, (p-tolyl) (p-isopropylphenyl) iodium, bis (p-tert-butylphenyl) iodium, triphenylsulfonium or tris ( p-tert-butylphenyl) sulfonium etc. are mentioned.

상기 루이스산 유래의 아니온의 구체예로는 헥사플루오로포스페이트, 헥사플루오로아르세네이트, 헥사플루오로안티모네이트 또는 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있다. 바람직한 루이스산 유래의 아니온으로는 헥사플루오로안티모네이트 또는 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 들 수 있다.Specific examples of the anion derived from Lewis acid include hexafluorophosphate, hexafluoroarsenate, hexafluoroantimonate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and the like. Preferred anions derived from Lewis acids include hexafluoroantimonate or tetrakis (pentafluorophenyl) borate.

상기 오늄 카티온 및 루이스산 유래의 아니온은 임의로 조합할 수 있다.The onium cation and an anion derived from Lewis acid can be arbitrarily combined.

카티온 중합 개시제의 구체예로는, 디페닐요오드늄헥사플루오로포스페이트, 비스(p-톨릴)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 비스(p-옥틸페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 비스(p-옥타데실페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 비스(p-옥틸옥시페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 비스(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 페닐(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 메틸나프틸요오드늄헥사플루오로포스페이트, 에틸나프틸요오드늄헥사플루오로포스페이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로포스페이트, 트리스(p-톨릴)술포늄헥사플루오로포스페이트, 트리스(p-이소프로필페닐)술포늄헥사플루오로포스페이트, 트리스(2,6-디메틸페닐)술포늄헥사플루오로포스페이트, 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄헥사플루오로포스페이트, 트리스(p-시아노페닐)술포늄헥사플루오로포스페이트, 트리스(p-클로로페닐)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸나프틸술포늄헥사플루오로포스페이트, 디에틸나프틸술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(메톡시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(에톡시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(프로폭시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(부톡시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(옥틸옥시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(옥타데칸옥시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(이소프로폭시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(tert-부톡시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(시클로펜틸옥시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(시클로헥실옥시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(플루오로메톡시)술포늄헥사플루오로포스페이 트, 디메틸(2-클로로에톡시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(3-브로모프로폭시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(4-시아노부톡시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(8-니트로옥틸옥시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(18-트리플루오로메틸옥타데칸옥시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(2-히드록시이소프로폭시)술포늄헥사플루오로포스페이트, 디메틸(트리스(트리클로로메틸)메틸)술포늄헥사플루오로포스페이트 ; As a specific example of a cationic polymerization initiator, diphenyl iodonium hexafluoro phosphate, bis (p-tolyl) iodonium hexafluoro phosphate, bis (p-tert- butylphenyl) iodonium hexafluoro phosphate, bis ( p-octylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, bis (p-octadecylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, bis (p-octyloxyphenyl) iodonium hexafluorophosphate, bis (p-octadecyloxyphenyl Iodide hexafluorophosphate, phenyl (p-octadecyloxyphenyl) iodonium hexafluorophosphate, (p-tolyl) (p-isopropylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, methylnaphthyl iodonium hexafluoro Lophosphate, ethylnaphthyl iodonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, tris (p-tolyl) sulfonium hexafluorophosphate, tris (p-isopropylphenyl) sulfonium hexaple Orophosphate, tris (2,6-dimethylphenyl) sulfonium hexafluorophosphate, tris (p-tert-butylphenyl) sulfonium hexafluorophosphate, tris (p-cyanophenyl) sulfonium hexafluorophosphate, Tris (p-chlorophenyl) sulfonium hexafluorophosphate, dimethylnaphthylsulfonium hexafluorophosphate, diethylnaphthylsulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (methoxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (ethoxy) Sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (propoxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (butoxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (octyloxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (octadecaneoxy) sulphate Phosphorous hexafluorophosphate, dimethyl (isopropoxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (tert-butoxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (cyclo Pentyloxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (cyclohexyloxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (fluoromethoxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (2-chloroethoxy) sulfonium hexa Fluorophosphate, dimethyl (3-bromopropoxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (4-cyanobutoxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (8-nitrooctyloxy) sulfonium hexafluorophosphate, Dimethyl (18-trifluoromethyloctadecaneoxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (2-hydroxyisopropoxy) sulfonium hexafluorophosphate, dimethyl (tris (trichloromethyl) methyl) sulfonium hexafluoro Low phosphate;

디페닐요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 비스(p-톨릴)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 비스(p-옥틸페닐)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 비스(p-옥타데실페닐)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 비스(p-옥틸옥시페닐)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 비스(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 페닐(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 메틸나프틸요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 에틸나프틸요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로아르세네이트, 트리스(p-톨릴)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 트리스(p-이소프로필페닐)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 트리스(2,6-디메틸페닐)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 트리스(p-시아노페닐)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 트리스(p-클로로페닐)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸나프틸술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디에틸나프틸술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(메톡시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(에 톡시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(프로폭시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(부톡시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(옥틸옥시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(옥타데칸옥시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(이소프로폭시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(tert-부톡시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(시클로펜틸옥시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(시클로헥실옥시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(플루오로메톡시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(2-클로로에톡시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(3-브로모프로폭시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(4-시아노부톡시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(8-니트로옥틸옥시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(18-트리플루오로메틸옥타데칸옥시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(2-히드록시이소프로폭시)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 디메틸(트리스(트리클로로메틸)메틸)술포늄헥사플루오로아르세네이트 ; Diphenyl iodonium hexafluoroarsenate, bis (p-tolyl) iodonium hexafluoroarsenate, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium hexafluoroarsenate, bis (p-octylphenyl Iodide hexafluoroarsenate, bis (p-octadecylphenyl) iodine hexafluoroarsenate, bis (p-octyloxyphenyl) iodonium hexafluoroarsenate, bis (p-octadecyl Oxyphenyl) iodonium hexafluoroarsenate, phenyl (p-octadecyloxyphenyl) iodonium hexafluoroarsenate, (p-tolyl) (p-isopropylphenyl) iodonium hexafluoroarsenate , Methylnaphthyl iodonium hexafluoroarsenate, ethylnaphthyl iodonium hexafluoroarsenate, triphenylsulfonium hexafluoroarsenate, tris (p-tolyl) sulfonium hexafluoroarsenate Tris (p-isopropylphenyl) sulfonium hexafluoro Recetate, tris (2,6-dimethylphenyl) sulfonium hexafluoroarsenate, tris (p-tert-butylphenyl) sulfonium hexafluoroarsenate, tris (p-cyanophenyl) sulfonium hexa Fluoroarsenate, tris (p-chlorophenyl) sulfoniumhexafluoroarsenate, dimethylnaphthylsulfonium hexafluoroarsenate, diethylnaphthylsulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (methoxy) Sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (ethoxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (propoxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (butoxy) sulfonium hexafluoroarsenate , Dimethyl (octyloxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (octadecaneoxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (isopropoxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (tert-part Methoxy) sulfonium hexafluoro Recetate, dimethyl (cyclopentyloxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (cyclohexyloxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (fluoromethoxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (2-chloroethoxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (3-bromopropoxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (4-cyanobutoxy) sulfonium hexafluoroarsenate , Dimethyl (8-nitrooctyloxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (18-trifluoromethyloctadecaneoxy) sulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl (2-hydroxyisopropoxy) sulphate Phonium hexafluoroarsenate, dimethyl (tris (trichloromethyl) methyl) sulfonium hexafluoroarsenate;

디페닐요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 비스(p-톨릴)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 비스(p-옥틸페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 비스(p-옥타데실페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 비스(p-옥틸옥시페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 비스(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 페닐(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 메틸나프틸요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 에틸나프틸요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리스(p-톨릴)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리스(p-이소프로필페닐)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리스(2,6-디메틸페닐)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리스(p-시아노페닐)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리스(p-클로로페닐)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸나프틸술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디에틸나프틸술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(메톡시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(에톡시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(프로폭시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(부톡시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(옥틸옥시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(옥타데칸옥시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(이소프로폭시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(tert-부톡시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(시클로펜틸옥시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(시클로헥실옥시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(플루오로메톡시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(2-클로로에톡시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(3-브로모프로폭시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(4-시아노부톡시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(8-니트로옥틸옥시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(18-트리플루오로메틸옥타데칸옥시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(2-히드록시이소프로폭시)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디메틸(트리스(트리클로로메틸)메틸)술포늄헥사플루오로안티모네이트 ; Diphenyliodonium hexafluoroantimonate, bis (p-tolyl) iodonium hexafluoroantimonate, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, bis (p-octylphenyl Iodide hexafluoroantimonate, bis (p-octadecylphenyl) iodine hexafluoroantimonate, bis (p-octyloxyphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, bis (p-octadecyl Oxyphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, phenyl (p-octadecyloxyphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, (p-tolyl) (p-isopropylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate , Methylnaphthyl iodonium hexafluoroantimonate, ethylnaphthyl iodonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, tris (p-tolyl) sulfonium hexafluoroantimonate Tris (p-isopropylphenyl) sulfonium hexafluoro Antimonate, tris (2,6-dimethylphenyl) sulfoniumhexafluoroantimonate, tris (p-tert-butylphenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, tris (p-cyanophenyl) sulfonium Hexafluoroantimonate, tris (p-chlorophenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethylnaphthylsulfonium hexafluoroantimonate, diethylnaphthylsulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (methoxy Sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (ethoxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (propoxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (butoxy) sulfonium hexafluoroantimo Nate, dimethyl (octyloxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (octadecaneoxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (isopropoxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (tert- Butoxy) sulfonium hexafluoro Timonate, dimethyl (cyclopentyloxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (cyclohexyloxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (fluoromethoxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (2-Chloroethoxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (3-bromopropoxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (4-cyanobutoxy) sulfonium hexafluoroantimonate , Dimethyl (8-nitrooctyloxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (18-trifluoromethyloctadecaneoxy) sulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl (2-hydroxyisopropoxy) sulphate Phonium hexafluoro antimonate, dimethyl (tris (trichloromethyl) methyl) sulfonium hexafluoro antimonate;

디페닐요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 비스(p-톨릴)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄테트라키 스(펜타플루오로페닐)보레이트, 비스(p-옥틸페닐)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 비스(p-옥타데실페닐)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 비스(p-옥틸옥시페닐)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 비스(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 페닐(p-옥타데실옥시페닐)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 메틸나프틸요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 에틸나프틸요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리페닐술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리스(p-톨릴)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리스(p-이소프로필페닐)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리스(2,6-디메틸페닐)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리스(p-시아노페닐)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리스(p-클로로페닐)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸나프틸술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디에틸나프틸술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(메톡시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(에톡시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(프로폭시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(부톡시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(옥틸옥시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(옥타데칸옥시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(이소프로폭시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메 틸(tert-부톡시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(시클로펜틸옥시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(시클로헥실옥시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(플루오로메톡시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(2-클로로에톡시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(3-브로모프로폭시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(4-시아노부톡시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(8-니트로옥틸옥시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(18-트리플루오로메틸옥타데칸옥시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(2-히드록시이소프로폭시)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디메틸(트리스(트리클로로메틸)메틸)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있고, 바람직하게는 비스(p-톨릴)요오드늄헥사플루오로포스페이트, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로포스페이트, 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄헥사플루오로포스페이트, 비스(p-톨릴)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄헥사플루오로아르세네이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로아르세네이트, 트리스(p-t-부틸페닐)술포늄헥사플루오로아르세네이트, 비스(p-톨릴)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄헥사플루오 로안티모네이트, 비스(p-톨릴)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄, 트리페닐술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 비스(p-톨릴)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄헥사플루오로안티모네이트, 비스(p-톨릴)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, (p-톨릴)(p-이소프로필페닐)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리페닐술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 또는 트리스(p-tert-부틸페닐)술포늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있다.Diphenyl iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (p-tolyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium tetrakis (pentafluoro Phenyl) borate, bis (p-octylphenyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (p-octadecylphenyl) iodium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (p-octyloxyphenyl Iodide tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (p-octadecyloxyphenyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, phenyl (p-octadecyloxyphenyl) iodonium tetrakis (pentafluoro Lophenyl) borate, (p-tolyl) (p-isopropylphenyl) iodium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, methylnaphthyl iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, ethylnaphthyl iodonium tetra Kiss (pentafluorophenyl) borate, Triphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tris (p-tolyl) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tris (p-isopropylphenyl) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) Borate, tris (2,6-dimethylphenyl) sulfoniumtetrakis (pentafluorophenyl) borate, tris (p-tert-butylphenyl) sulfoniumtetrakis (pentafluorophenyl) borate, tris (p-cyano Phenyl) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tris (p-chlorophenyl) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethylnaphthylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, diethylnaph Tyl sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (methoxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (ethoxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (propoxy Sulfonium Tet Lakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (butoxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (octyloxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (octadecaneoxy) sulfide Phosphonate tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (isopropoxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (tert-butoxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (Cyclopentyloxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (cyclohexyloxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (fluoromethoxy) sulfonium tetrakis (pentafluoro Phenyl) borate, dimethyl (2-chloroethoxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (3-bromopropoxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (4-sia furnace Methoxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (8-nitrooctyloxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (18-trifluoromethyloctadecaneoxy) sulfonium tetrakis (Pentafluorophenyl) borate, dimethyl (2-hydroxyisopropoxy) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyl (tris (trichloromethyl) methyl) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) Borate, etc., Preferably, bis (p-tolyl) iodonium hexafluoro phosphate, (p-tolyl) (p-isopropylphenyl) iodonium hexafluoro phosphate, bis (p-tert- butylphenyl) is mentioned. Iodinium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, tris (p-tert-butylphenyl) sulfonium hexafluorophosphate, bis (p-tolyl) iodonium hexafluoroarsenate, (p -Tolyl) (p-isopropylphenyl Iodonium hexafluoroarsenate, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium hexafluoroarsenate, triphenylsulfonium hexafluoroarsenate, tris (pt-butylphenyl) sulfonium hexafluoro Loarsenate, bis (p-tolyl) iodonium hexafluoroantimonate, (p-tolyl) (p-isopropylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, bis (p-tert-butylphenyl) Iodonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, tris (p-tert-butylphenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, bis (p-tolyl) iodium tetrakis (pentafluoro Lophenyl) borate, (p-tolyl) (p-isopropylphenyl) iodium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (p-tert-butylphenyl) iodium, triphenylsulfonium tetrakis (pentafluoro Lophenyl) borate, tris (p-tert-butylphenyl) sulfoniumtetrakis (pentafluor Phenyl) borate etc. are mentioned, More preferably, bis (p-tolyl) iodonium hexafluoro antimonate, (p-tolyl) (p-isopropylphenyl) iodonium hexafluoro antimonate, bis is mentioned. (p-tert-butylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, tris (p-tert-butylphenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, bis (p- Tolyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, (p-tolyl) (p-isopropylphenyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium tetra Kiss (pentafluorophenyl) borate, triphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tris (p-tert-butylphenyl) sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, etc. are mentioned.

또, 본 발명의 효과를 손상시키지 않을 정도로, 중합 개시제 (C) 에 중합 개시 보조제 (C-1) 를 조합하여 사용할 수도 있고, 중합 개시 보조제를 복수의 조합으로 사용할 수도 있다.Moreover, the polymerization start adjuvant (C-1) can also be used in combination with a polymerization initiator (C), and a polymerization start adjuvant can also be used in multiple combination so that the effect of this invention may not be impaired.

중합 개시 보조제 (C-1) 로는 아민 화합물, 카르복실산 화합물, 다관능 티올 화합물, 식 (Ⅲ) 로 나타내는 화합물, 식 (A-1) 또는 식 (A-2) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.As a polymerization start adjuvant (C-1), an amine compound, a carboxylic acid compound, a polyfunctional thiol compound, the compound represented by Formula (III), the compound represented by Formula (A-1) or Formula (A-2), etc. are mentioned. have.

상기 아민 화합물로는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올 아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논 (통칭 ; 미힐러케톤) 또는 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 들 수 있다.Examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanol amine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylaminobenzoic acid. 2-ethylhexyl, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone) or 4,4'-bis (diethylamino Aromatic amine compounds, such as benzophenone, are mentioned.

상기 카르복실산 화합물로는 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신 또는 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다.Examples of the carboxylic acid compound include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid and dichlorophenyl And aromatic heteroacetic acids such as thioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine or naphthoxyacetic acid.

상기 다관능 티올 화합물은 분자 내에 2 개 이상의 술파닐기를 갖는 화합물이다. 그 중에서도, 2 개 이상의 지방족 탄화수소기의 탄소 원자와 결합하는 술파닐기를 2 개 이상 갖는 화합물이 본 발명의 경화성 수지 조성물의 감도가 높아지기 때문에 보다 바람직하다. The polyfunctional thiol compound is a compound having two or more sulfanyl groups in a molecule. Especially, the compound which has two or more sulfanyl groups couple | bonded with the carbon atom of two or more aliphatic hydrocarbon group is more preferable, since the sensitivity of the curable resin composition of this invention becomes high.

다관능 티올 화합물로는, 구체적으로는 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스히드록시에틸트리스티오프 로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트) 또는 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄 등을 들 수 있다.Specific examples of the polyfunctional thiol compound include hexanedithiol, decandithiol, 1,4-dimethylmercaptobenzene, butanediolbisthiopropionate, butanediolbisthioglycolate, ethylene glycol bisthioglycolate, trimethylolpropane Tristhioglycolate, butanediolbisthiopropionate, trimethylolpropanetristiopionopionate, trimethylolpropanetristhioglycolate, pentaerythritol tetrakistiopionopionate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, trishydride Oxyethyltristioff lopionate, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutylate), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, and the like.

다관능 티올 화합물의 함유량은 중합 개시제 (C) 에 대해 질량 분율로 바람직하게는 0.5 ∼ 20 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 15 질량% 이다. 다관능 티올 화합물의 함유량이 상기 범위에 있으면, 감도가 높아지는 경향이 있어 바람직하다.Content of a polyfunctional thiol compound is 0.5-20 mass% in mass fraction with respect to a polymerization initiator (C), More preferably, it is 1-15 mass%. When content of a polyfunctional thiol compound exists in the said range, since there exists a tendency for a sensitivity to become high, it is preferable.

중합 개시 보조제 (C-1) 로서 하기 식 (Ⅲ) 로 나타내는 화합물을 사용할 수도 있다.As a polymerization start adjuvant (C-1), the compound represented by following formula (III) can also be used.

Figure 112009069166810-PAT00016
Figure 112009069166810-PAT00016

식 (Ⅲ) 중, X 로 나타내는 점선은 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 12 의 방향 고리를 나타낸다. In Formula (III), the dotted line represented by X represents an aromatic ring having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.

Y 는 산소 원자, 황 원자를 나타낸다. Y represents an oxygen atom and a sulfur atom.

R21 은 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다. R 21 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

R22 는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 아릴기를 나타낸다.R <22> represents the C1-C12 alkyl group which may be substituted by the halogen atom, or the aryl group which may be substituted by the halogen atom.

할로겐 원자로는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc. are mentioned.

탄소수 6 ∼ 12 의 방향 고리로는 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 등을 들 수 있 다.Examples of the aromatic ring having 6 to 12 carbon atoms include a benzene ring and a naphthalene ring.

할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 12 의 방향 고리로는, 벤젠 고리, 메틸벤젠 고리, 디메틸벤젠 고리, 에틸벤젠 고리, 프로필벤젠 고리, 부틸벤젠 고리, 펜틸벤젠 고리, 헥실벤젠 고리, 시클로헥실벤젠 고리, 클로로벤젠 고리, 디클로로벤젠 고리, 브로모벤젠 고리, 디브로모벤젠 고리, 페닐벤젠 고리, 클로로페닐벤젠 고리, 브로모페닐벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 클로로나프탈렌 고리, 브로모나프탈렌 고리 등을 들 수 있다.As a C6-C12 aromatic ring which may be substituted by the halogen atom, a benzene ring, a methylbenzene ring, a dimethylbenzene ring, an ethylbenzene ring, a propylbenzene ring, a butylbenzene ring, a pentylbenzene ring, a hexylbenzene ring, cyclohexylbenzene Ring, chlorobenzene ring, dichlorobenzene ring, bromobenzene ring, dibromobenzene ring, phenylbenzene ring, chlorophenylbenzene ring, bromophenylbenzene ring, naphthalene ring, chloronaphthalene ring, bromonaphthalene ring and the like Can be.

탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 1-메틸-n-프로필기, 2-메틸-n-프로필기, tert-부틸기, n-펜틸기, 1-메틸-n-부틸기, 2-메틸-n-부틸기, 3-메틸-n-부틸기, 1,1-디메틸-n-프로필기, 1,2-디메틸-n-프로필기, 2,2-디메틸-n-프로필기, n-헥실기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, 1-methyl-n-propyl group, 2-methyl-n-propyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 1-methyl-n-butyl group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl-n-propyl group, 1,2-dimethyl-n -Propyl group, 2,2-dimethyl-n-propyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, etc. are mentioned.

할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 1-메틸-n-프로필기, 2-메틸-n-프로필기, tert-부틸기, n-펜틸기, 1-메틸-n-부틸기, 2-메틸-n-부틸기, 3-메틸-n-부틸기, 1,1-디메틸-n-프로필기, 1,2-디메틸-n-프로필기, 2,2-디메틸-n-프로필기, n-헥실기, 시클로헥실기, 1-클로로-n-부틸기, 2-클로로-n-부틸기, 3-클로로-n-부틸기 등을 들 수 있다.As a C1-C12 alkyl group which may be substituted by the halogen atom, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, 1-methyl-n-propyl group, 2-methyl-n-propyl group , tert-butyl group, n-pentyl group, 1-methyl-n-butyl group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl-n-propyl group, 1 , 2-dimethyl-n-propyl group, 2,2-dimethyl-n-propyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, 1-chloro-n-butyl group, 2-chloro-n-butyl group, 3- A chloro-n-butyl group etc. are mentioned.

할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 아릴기로는, 페닐기, 클로로페닐기, 디클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 클로로브로모페닐기, 비페닐기, 클로로비페닐기, 디클로로비페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 나프틸기, 클로 로나프틸기, 디클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디브로모나프틸기 등을 들 수 있다.As an aryl group which may be substituted by the halogen atom, a phenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, dibromophenyl group, chlorobromophenyl group, biphenyl group, chlorobiphenyl group, dichlorobiphenyl group, bromophenyl group, dibromo A phenyl group, a naphthyl group, a chloro naphthyl group, a dichloronaphthyl group, a bromonaphthyl group, a dibromonaphthyl group, etc. are mentioned.

식 (Ⅲ) 으로 나타내는 화합물로서 구체적으로는,Specifically as a compound represented by Formula (III),

2-벤조일메틸렌-3-메틸-벤조티아졸린,2-benzoylmethylene-3-methyl-benzothiazoline,

2-벤조일메틸렌-3-메틸-나프토[2,1-d]티아졸린,2-benzoylmethylene-3-methyl-naphtho [2,1-d] thiazoline,

2-벤조일메틸렌-3-메틸-나프토[1,2-d]티아졸린,2-benzoylmethylene-3-methyl-naphtho [1,2-d] thiazoline,

2-벤조일메틸렌-3-메틸-나프토[2,3-d]티아졸린,2-benzoylmethylene-3-methyl-naphtho [2,3-d] thiazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline,

2-(1-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-페닐벤조티아졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzothiazoline,

2-(1-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-페닐벤조티아졸린,2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzothiazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-플루오로벤조티아졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-fluorobenzothiazoline,

2-(1-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-플루오로벤조티아졸린,2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-fluorobenzothiazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-클로로벤조티아졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-chlorobenzothiazoline,

2-(1-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-클로로벤조티아졸린,2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-chlorobenzothiazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-브로모벤조티아졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-bromobenzothiazoline,

2-(1-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-브로모벤조티아졸린,2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-bromobenzothiazoline,

2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline,

2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-5-페닐벤조티아졸린,2- (4-biphenoylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzothiazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-나프토[2,1-d]티아졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-naphtho [2,1-d] thiazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-나프토[1,2-d]티아졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-naphtho [1,2-d] thiazoline,

2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-나프토[2,1-d]티아졸린,2- (4-biphenoylmethylene) -3-methyl-naphtho [2,1-d] thiazoline,

2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-나프토[1,2-d]티아졸린,2- (4-biphenoylmethylene) -3-methyl-naphtho [1,2-d] thiazoline,

2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-나프토[2,1-d]티아졸린,2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3-methyl-naphtho [2,1-d] thiazoline,

2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-나프토[1,2-d]티아졸린,2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3-methyl-naphtho [1,2-d] thiazoline,

2-벤조일메틸렌-3-메틸-나프토[2,1-d]옥사졸린,2-benzoylmethylene-3-methyl-naphtho [2,1-d] oxazoline,

2-벤조일메틸렌-3-메틸-나프토[1,2-d]옥사졸린,2-benzoylmethylene-3-methyl-naphtho [1,2-d] oxazoline,

2-벤조일메틸렌-3-메틸-나프토[2,3-d]옥사졸린,2-benzoylmethylene-3-methyl-naphtho [2,3-d] oxazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methylbenzooxazoline,

2-(1-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methylbenzooxazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-페닐벤조옥사졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzooxazoline,

2-(1-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-페닐벤조옥사졸린,2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzooxazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-플루오로벤조옥사졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-fluorobenzooxazoline,

2-(1-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-플루오로벤조옥사졸린,2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-fluorobenzooxazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-클로로벤조옥사졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-chlorobenzooxazoline,

2-(1-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-클로로벤조옥사졸린,2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-chlorobenzooxazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-브로모벤조옥사졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-bromobenzooxazoline,

2-(1-나프토일메틸렌)-3-메틸-5-브로모벤조옥사졸린,2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-bromobenzooxazoline,

2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methylbenzooxazoline,

2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-5-페닐벤조옥사졸린,2- (4-biphenoylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzooxazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-나프토[2,1-d]옥사졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-naphtho [2,1-d] oxazoline,

2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸-나프토[1,2-d]옥사졸린,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-naphtho [1,2-d] oxazoline,

2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-나프토[2,1-d]옥사졸린,2- (4-biphenoylmethylene) -3-methyl-naphtho [2,1-d] oxazoline,

2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-나프토[1,2-d]옥사졸린,2- (4-biphenoylmethylene) -3-methyl-naphtho [1,2-d] oxazoline,

2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-나프토[2,1-d]옥사졸린, 2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3-methyl-naphtho [2,1-d] oxazoline,

2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-나프토[1,2-d]옥사졸린 등을 들 수 있다.2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3-methyl-naphtho [1,2-d] oxazoline, etc. are mentioned.

그 중에서도, 식 (Ⅲ-1) 로 나타내는 2-(2-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 식 (Ⅲ-2) 로 나타내는 2-벤조일메틸렌-3-메틸-나프토[1,2-d]티아졸린 및 식 (Ⅲ-3) 으로 나타내는 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-나프토[1,2-d]티아졸린, 2-벤조일메틸렌-3-메틸-벤조티아졸린이 바람직하다.Among them, 2-benzoylmethylene-3-methyl-naphtho [1,2- (2-naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline represented by formula (III-1) and formula (III-2) 2-d] thiazoline and 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methyl-naphtho [1,2-d] thiazoline represented by formula (III-3), 2-benzoylmethylene-3-methyl- Benzothiazoline is preferred.

Figure 112009069166810-PAT00017
Figure 112009069166810-PAT00017

중합 개시 보조제 (C-1) 로서 식 (A-1) 및 식 (A-2) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 나타내는 화합물을 사용할 수도 있다.As a polymerization start adjuvant (C-1), the compound represented by at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a formula (A-1) and a formula (A-2) can also be used.

Figure 112009069166810-PAT00018
Figure 112009069166810-PAT00018

[식 (A-1) 및 식 (A-2) 중, 고리 X31 및 고리 X32 는 각각 독립적으로 탄소수 6 ∼ 12 의 방향 고리를 나타낸다. Y31 및 Y32 는 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다. R31 및 R32 는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.Of the formula (A-1) and formula (A-2), ring 31 and ring X X 32 represents an aromatic ring having 6 to 12 independently of each other. Y 31 and Y 32 represent an oxygen atom or a sulfur atom. R <31> and R <32> represents a C1-C12 alkyl group or a C6-C12 aryl group.

그 방향 고리, 그 알킬기 또는 아릴기에 함유되는 탄소 원자는 산소 원자, 질소 원자, 황 원자 또는 할로겐 원자로 치환되어도 된다.]The carbon atom contained in the aromatic ring, the alkyl group or the aryl group may be substituted with an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a halogen atom.]

할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc. are mentioned.

탄소수 6 ∼ 12 의 방향 고리로는, 벤젠 고리, 메틸벤젠 고리, 디메틸벤젠 고리, 에틸벤젠 고리, 프로필벤젠 고리, 부틸벤젠 고리, 펜틸벤젠 고리, 헥실벤젠 고리, 시클로헥실벤젠 고리, 클로로벤젠 고리, 디클로로벤젠 고리, 브로모벤젠 고리, 디브로모벤젠 고리, 페닐벤젠 고리, 클로로페닐벤젠 고리, 브로모페닐벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 클로로나프탈렌 고리, 브로모나프탈렌 고리, 페난트렌 고리, 크리센 고리, 플루오란텐 고리, 벤조[a]피렌 고리, 벤조[e]피렌 고리, 페릴렌 고리 및 그들의 유도체 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic ring having 6 to 12 carbon atoms include benzene ring, methylbenzene ring, dimethylbenzene ring, ethylbenzene ring, propylbenzene ring, butylbenzene ring, pentylbenzene ring, hexylbenzene ring, cyclohexylbenzene ring, chlorobenzene ring, Dichlorobenzene ring, bromobenzene ring, dibromobenzene ring, phenylbenzene ring, chlorophenylbenzene ring, bromophenylbenzene ring, naphthalene ring, chloronaphthalene ring, bromonaphthalene ring, phenanthrene ring, chrysene ring, Fluoranthene ring, benzo [a] pyrene ring, benzo [e] pyrene ring, perylene ring, derivatives thereof and the like.

탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 1-메틸-n-프로필기, 2-메틸-n-프로필기, tert-부틸기, n-펜틸기, 1-메틸-n-부틸기, 2-메틸-n-부틸기, 3-메틸-n-부틸기, 1,1-디메틸-n-프로필기, 1,2-디메틸-n-프로필기, 2,2-디메틸-n-프로필기, n-헥실기, 시클로헥실기, 1-클로로-n-부틸기, 2-클로로-n-부틸기, 3-클로로-n-부틸기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, 1-methyl-n-propyl group, 2-methyl-n-propyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 1-methyl-n-butyl group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl-n-propyl group, 1,2-dimethyl-n -Propyl group, 2,2-dimethyl-n-propyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, 1-chloro-n-butyl group, 2-chloro-n-butyl group, 3-chloro-n-butyl group Etc. can be mentioned.

탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로는, 페닐기, 클로로페닐기, 디클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 클로로브로모페닐기, 히드록시페닐기, 알콕시페닐기, 비페닐기, 클로로비페닐기, 디클로로비페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 나프틸기, 클로로나프틸기, 디클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디브로모나프틸기, 히드록시나프틸기 등을 들 수 있다.Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, dibromophenyl group, chlorobromophenyl group, hydroxyphenyl group, alkoxyphenyl group, biphenyl group, chlorobiphenyl group, dichlorobiphenyl group and bromine A phenyl group, a dibromo phenyl group, a naphthyl group, a chloro naphthyl group, a dichloro naphthyl group, a bromonaphthyl group, a dibromonaphthyl group, a hydroxy naphthyl group, etc. are mentioned.

식 (A-1) 또는 식 (A-2) 로 나타내는 화합물로서 구체적으로는,As a compound represented by a formula (A-1) or a formula (A-2), specifically,

디메톡시나프탈렌, 디에톡시나프탈렌, 디프로폭시나프탈렌, 디이소프로폭시나프탈렌, 디부톡시나프탈렌 등의 디알콕시나프탈렌류 Dialkoxynaphthalenes such as dimethoxynaphthalene, diethoxynaphthalene, dipropoxynaphthalene, diisopropoxynaphthalene and dibutoxynaphthalene

디메톡시안트라센, 디에톡시안트라센, 디프로폭시안트라센, 디이소프로폭시안트라센, 디부톡시안트라센, 디펜타옥시안트라센, 디헥사옥시안트라센, 메톡시에톡시안트라센, 메톡시프로폭시안트라센, 메톡시이소프로폭시안트라센, 메톡시부톡시안트라센, 에톡시프로폭시안트라센, 에톡시이소프로폭시안트라센, 에톡시부톡시안트라센, 프로폭시이소프로폭시안트라센, 프로폭시부톡시안트라센, 이소프로폭시부톡시안트라센 등의 디알콕시안트라센류 Dimethoxy anthracene, diethoxy anthracene, dipropoxy canthracene, diisopropoxy canthracene, dibutoxy anthracene, dipentaoxy anthracene, dihexaoxy anthracene, methoxyethoxy anthracene, methoxy propoxy canthracene, methoxy isopropoxy Dialkoxy such as anthracene, methoxybutoxy anthracene, ethoxy propoxycanthracene, ethoxy isopropoxythracene, ethoxy butoxy anthracene, propoxy isopropoxythracene, propoxy butoxy anthracene, isopropoxy butoxy anthracene Anthracene

디메톡시나프타센, 디에톡시나프타센, 디프로폭시나프타센, 디이소프로폭시나프타센, 디부톡시나프타센 등의 디알콕시나프타센류 등을 들 수 있고, 그것에 한정된 것은 아니다.The dialkoxy naphthacene, such as dimethoxy naphthacene, diethoxy naphthacene, dipropoxy naphthacene, diisopropoxy naphthacene, dibutoxy naphthacene, etc. are mentioned, It is not limited to this.

중합 개시제 (C) 의 함유량은 바인더 수지 (A) 및 중합성 화합물 (B) 의 합계량에 대해 질량 분율로 바람직하게는 0.1 ∼ 40 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 30 질량% 이다. The content of the polymerization initiator (C) is preferably 0.1 to 40% by mass, more preferably 1 to 30% by mass, based on the mass fraction with respect to the total amount of the binder resin (A) and the polymerizable compound (B).

또, 중합 개시 보조제 (C-1) 의 함유량은 상기와 동일한 기준으로 바람직하게는 0.01 ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 40 질량% 이다.Moreover, content of a polymerization start adjuvant (C-1) becomes like this. Preferably it is 0.01-50 mass%, More preferably, it is 0.1-40 mass%.

식 (A-1) 및 식 (A-2) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 나타내는 화합물의 함유량은 중합 개시 보조제 (C-1) 의 함유량에 대해, 바람직하게는 50 ∼ 100 %, 보다 바람직하게는 60 ∼ 100 %, 더욱 바람직하게는 65 ∼ 100 % 이다. 식 (A-1) 및 식 (A-2) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 나타내는 화합물의 함유량이 상기 범위에 있으면, 이것을 함유하는 경화성 수지 조성물을 사용하여 도포막을 형성했을 때에, 도포막의 투명성이 양호해져서 바람직하다.Content of the compound represented by at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a formula (A-1) and a formula (A-2) becomes like this. Preferably it is 50 to 100% with respect to content of a polymerization start adjuvant (C-1), and Preferably it is 60 to 100%, More preferably, it is 65 to 100%. When content of the compound represented by at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a formula (A-1) and a formula (A-2) exists in the said range, when a coating film is formed using curable resin composition containing this, of a coating film Transparency becomes favorable and is preferable.

중합 개시제 (C) 의 합계량이 상기 범위에 있으면, 경화성 수지 조성물이 고감도가 되고, 상기 경화성 수지 조성물을 사용하여 형성한 도포막이나 패턴의 강도나, 상기 도포막이나 패턴의 표면에 있어서의 평활성이 양호해지는 경향이 있어 바람직하다. 상기에 추가하여, 중합 개시 보조제 (C-1) 의 양이 상기 범위에 있으면, 얻어지는 경화성 수지 조성물의 감도가 더욱 높아지고, 상기 경화성 수지 조 성물을 사용하여 형성하는 패턴의 생산성이 향상되는 경향이 있어 바람직하다.When the total amount of the polymerization initiator (C) is in the above range, the curable resin composition becomes highly sensitive, and the strength of the coating film or pattern formed by using the curable resin composition and the smoothness on the surface of the coating film or pattern are It is preferable because it tends to be good. In addition to the above, when the amount of the polymerization initiation assistant (C-1) is in the above range, the sensitivity of the curable resin composition obtained is further increased, and the productivity of the pattern formed by using the curable resin composition tends to be improved. desirable.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 용제 (D) 를 함유한다. 상기 용제 (D) 로는, 경화성 수지 조성물의 분야에서 사용되고 있는 각종 유기 용제를 들 수 있고, 그 구체예로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 및 에틸렌글리콜모노부틸에테르와 같은 에틸렌글리콜모노알킬에테르류 ; Curable resin composition of this invention contains a solvent (D). Examples of the solvent (D) include various organic solvents used in the field of the curable resin composition, and specific examples thereof include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl. Ethylene glycol monoalkyl ethers such as ether;

디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류 ;Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether;

메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류 ; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, and ethylene glycol monoethyl ether acetate;

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류 ; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate;

프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르류 ; Propylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, and propylene glycol monobutyl ether;

프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜에틸메틸에테르, 프로필렌글리콜디프로필에테르프로필렌글리콜프로필메틸에테르, 프로필렌글리콜에틸프로필에테르 등의 프로필렌글리콜디알킬에테르류Propylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol ethyl methyl ether, propylene glycol dipropyl ether propylene glycol propyl methyl ether and propylene glycol ethyl propyl ether

프로필렌글리콜메틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜프로필에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜부틸에테르프로피오네이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르프로피오네이트류 ; Propylene glycol alkyl ether propionates such as propylene glycol methyl ether propionate, propylene glycol ethyl ether propionate, propylene glycol propyl ether propionate and propylene glycol butyl ether propionate;

메톡시부틸알코올, 에톡시부틸알코올, 프로폭시부틸알코올, 부톡시부틸알코올 등의 부틸디올모노알킬에테르류 ; Butyl diol monoalkyl ethers such as methoxy butyl alcohol, ethoxy butyl alcohol, propoxy butyl alcohol and butoxy butyl alcohol;

메톡시부틸아세테이트, 에톡시부틸아세테이트, 프로폭시부틸아세테이트, 부톡시부틸아세테이트 등의 부탄디올모노알킬에테르아세테이트류 ; Butanediol monoalkyl ether acetates, such as a methoxy butyl acetate, an ethoxy butyl acetate, a propoxy butyl acetate, butoxy butyl acetate;

메톡시부틸프로피오네이트, 에톡시부틸프로피오네이트, 프로폭시부틸프로피오네이트, 부톡시부틸프로피오네이트 등의 부탄디올모노알킬에테르프로피오네이트류 ; Butanediol monoalkyl ether propionate, such as a methoxy butyl propionate, an ethoxy butyl propionate, a propoxy butyl propionate, butoxy butyl propionate;

디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸에틸에테르 등의 디프로필렌글리콜디알킬에테르류 ;Dipropylene glycol dialkyl ethers such as dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, and dipropylene glycol methyl ethyl ether;

벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류 ;Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene;

메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류 ; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone;

에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류 ; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin;

아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 2-히드록시프로피온산에틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산메틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산에 틸, 히드록시아세트산메틸, 히드록시아세트산에틸, 히드록시아세트산부틸, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산프로필, 락트산부틸, 3-히드록시프로피온산메틸, 3-히드록시프로피온산에틸, 3-히드록시프로피온산프로필, 3-히드록시프로피온산부틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산프로필, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 에톡시아세트산프로필, 에톡시아세트산부틸, 프로폭시아세트산메틸, 프로폭시아세트산에틸, 프로폭시아세트산프로필, 프로폭시아세트산부틸, 부톡시아세트산메틸, 부톡시아세트산에틸, 부톡시아세트산프로필, 부톡시아세트산부틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산부틸, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산부틸, 2-부톡시프로피온산메틸, 2-부톡시프로피온산에틸, 2-부톡시프로피온산프로필, 2-부톡시프로피온산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산부틸, 3-프로폭시프로피온산메틸, 3-프로폭시프로피온산에틸, 3-프로폭시프로피온산프로필, 3-프로폭시프로피온산부틸, 3-부톡시프로피온산메틸, 3-부톡시프로피온산에틸, 3-부톡시프로피온산프로필, 3-부톡시프로피온산부틸 등의 에스테르류 ; Methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl 2-hydroxypropionate, methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl hydroxyacetic acid, hydroxyacetic acid Ethyl, butyl hydroxy acetate, methyl lactate, ethyl lactate, propyl lactate, butyl lactate, 3-hydroxypropionate methyl, 3-hydroxypropionate ethyl, 3-hydroxypropionate propyl, 3-hydroxypropionate butyl, 2-hydroxy Methyl oxy-3-methyl butyrate, methyl methoxy acetate, ethyl methoxy acetate, methoxy acetate propyl, butyl acetate, ethoxy acetate methyl, ethoxy acetate, ethoxy acetate propyl, butyl ethoxy acetate, pro Methyl acetate, ethyl propoxy acetate, propyl acetate, propoxy acetate, butyl acetate, methyl butoxy acetate, ethyl butoxy acetate, Propyl acetate, butyl butoxy acetate, methyl 2-methoxypropionate, 2-methoxy ethylpropionate, propyl 2-methoxypropionate, butyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate Propyl 2-ethoxypropionate, butyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-butoxypropionate, ethyl 2-butoxypropionate, propyl 2-butoxypropionate, butyl 2-butoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, 3-methoxy ethylpropionate, 3-methoxy propylpropionate, 3-methoxy propylpropionate, 3-ethoxy propylpropionate, 3-ethoxy propylpropionate, 3-ethoxy propylpropionate, 3-ethoxy propylpropionate, 3 Methyl propoxypropionate, 3-propoxy propionate, 3-propoxypropionate, butyl 3-propoxypropionate, methyl 3-butoxypropionate, ethyl 3-butoxypropionate, 3-butoxypropionic acid Esters such as ropil, 3-butoxy-propionic acid butyl;

테트라히드로푸란, 피란 등의 고리형 에테르기류 ;Cyclic ether groups such as tetrahydrofuran and pyran;

γ-부티로락톤 등의 고리형 에스테르류 등을 들 수 있다.Cyclic ester, such as (gamma) -butyrolactone, etc. are mentioned.

상기 용제 중에서도 도포성, 인쇄성, 용해성, 건조성 면에서, 비점이 200 ℃ 이상, 바람직하게는 200 ∼ 300 ℃ 인 에스테르계 용제, 에테르계 용제 및 알코올계 용제가 바람직하다.Among the above solvents, in view of applicability, printability, solubility and dryness, ester solvents, ether solvents and alcohol solvents having a boiling point of 200 ° C or higher, preferably 200 to 300 ° C are preferable.

에스테르계 용제란, 에스테르 결합을 가지고, 히드록시기를 갖지 않는 유기 용제를 말한다.An ester solvent means the organic solvent which has an ester bond and does not have a hydroxyl group.

에스테르계 용제의 구체예로는, 예를 들어 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 (비점 217 ℃), 디에틸렌글리콜모노프로필에테르아세테이트 (232 ℃), 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 (비점 247 ℃), 글리세린트리아세테이트 (비점 260 ℃) 를 들 수 있고, 바람직하게는 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 (비점 247 ℃), 글리세린트리아세테이트 (비점 260 ℃) 를 들 수 있다. As a specific example of an ester solvent, it is diethylene glycol monoethyl ether acetate (boiling point 217 degreeC), diethylene glycol monopropyl ether acetate (232 degreeC), diethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point 247 degreeC), Glycerin triacetate (boiling point of 260 degreeC) is mentioned, Preferably, diethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point of 247 degreeC) and glycerine triacetate (boiling point of 260 degreeC) are mentioned.

에테르계 용제란 에테르 결합을 가지고, 에스테르 결합 및 히드록시기를 갖지 않는 유기 용제를 말한다.An ether solvent means an organic solvent which has an ether bond and does not have an ester bond and a hydroxyl group.

상기 에테르계 용제의 구체예로는, 예를 들어 디에틸렌글리콜부틸메틸에테르 (비점 212 ℃), 트리프로필렌글리콜디메틸에테르 (비점 215 ℃), 트리에틸렌글리콜디메틸에테르 (비점 216 ℃), 디에틸렌글리콜디부틸에테르 (비점 256 ℃), 트리에틸렌글리콜부틸메틸에테르 (비점 261 ℃), 테트라에틸렌글리콜디메틸에테르 (비점 275 ℃) 를 들 수 있고, 바람직하게는 디에틸렌글리콜디부틸에테르 (비점 256 ℃), 트리에틸렌글리콜부틸메틸에테르 (비점 261 ℃) 를 들 수 있다.As a specific example of the said ether solvent, it is a diethylene glycol butyl methyl ether (boiling point 212 degreeC), tripropylene glycol dimethyl ether (boiling point 215 degreeC), triethylene glycol dimethyl ether (boiling point 216 degreeC), diethylene glycol, for example. Dibutyl ether (boiling point 256 degreeC), triethylene glycol butyl methyl ether (boiling point 261 degreeC), and tetraethylene glycol dimethyl ether (boiling point 275 degreeC) are mentioned, Preferably diethylene glycol dibutyl ether (boiling point 256 degreeC) is mentioned. And triethylene glycol butyl methyl ether (boiling point 261 ° C.).

알코올계 용제란, 히드록시기를 갖는 유기 용제를 말한다.An alcoholic solvent means the organic solvent which has a hydroxyl group.

상기 알코올계 용제의 구체예로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜모노헥실에테르 (비점 208 ℃), 에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르 (비점 229 ℃), 에틸렌글리콜모노페닐에테르 (비점 245 ℃), 에틸렌글리콜모노벤질에테르 (비점 256 ℃), 디에틸렌글리콜모노이소프로필에테르 (비점 207 ℃), 디에틸렌글리콜모노이소부틸에테르 (비점 220 ℃), 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 (비점 230 ℃), 디에틸렌글리콜모노펜틸에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르 (비점 259 ℃), 디에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르 (272 ℃), 디에틸렌글리콜모노페닐에테르 (비점 283 ℃), 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르 (비점 249 ℃), 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르 (비점 271 ℃), 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르 (비점 295 ℃), 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 (비점 242 ℃), 디프로필렌글리콜모노프로필에테르 (비점 212 ℃), 디프로필렌글리콜모노부틸에테르 (비점 231 ℃), 프로필렌글리콜모노페닐에테르 (비점 243 ℃) 를 들 수 있고, 바람직하게는 에틸렌글리콜모노페닐에테르 (비점 245 ℃), 에틸렌글리콜모노벤질에테르 (비점 256 ℃), 디에틸렌글리콜모노펜틸에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르 (비점 259 ℃), 프로필렌글리콜모노페닐에테르 (비점 243 ℃) 를 들 수 있다.As an example of the said alcohol solvent, For example, ethylene glycol monohexyl ether (boiling point 208 degreeC), ethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether (boiling point 229 degreeC), ethylene glycol monophenyl ether (boiling point 245 degreeC), Ethylene glycol monobenzyl ether (boiling point 256 ° C), diethylene glycol monoisopropyl ether (boiling point 207 ° C), diethylene glycol monoisobutyl ether (boiling point 220 ° C), diethylene glycol monobutyl ether (boiling point 230 ° C), di Ethylene glycol monopentyl ether, diethylene glycol monohexyl ether (boiling point 259 ° C), diethylene glycol mono2-ethylhexyl ether (272 ° C), diethylene glycol monophenyl ether (boiling point 283 ° C), triethylene glycol monomethyl ether (Boiling point 249 ° C), triethylene glycol monobutyl ether (boiling point 271 ° C), polyethylene glycol monomethyl ether (boiling point 295 ° C), tripropylene glycol monomethyl ether (boiling point 242 ° C), dipropyl Len glycol monopropyl ether (boiling point 212 degreeC), dipropylene glycol monobutyl ether (boiling point 231 degreeC), and propylene glycol monophenyl ether (boiling point 243 degreeC) are mentioned, Preferably ethylene glycol monophenyl ether (boiling point 245 degreeC) is mentioned. ), Ethylene glycol monobenzyl ether (boiling point 256 ° C.), diethylene glycol monopentyl ether, diethylene glycol monohexyl ether (boiling point 259 ° C.), and propylene glycol monophenyl ether (boiling point 243 ° C.).

이들의 용제 (D) 는 각각 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 혼합하여 사용해도 된다.These solvents (D) may be used independently, respectively and may be used in mixture of 2 or more types.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서, 바인더 수지 (A), 중합성 화합물 (B) 및 용제 (D) 의 합계량에 대한 용제 (D) 의 양은 예를 들어 질량 분율로 20 질량% 이상 60 질량% 미만, 바람직하게는 20 질량% 이상 50 질량% 미만, 더욱 바람직하게는 25 질량% 이상 50 질량% 이하이다. 용제 (D) 의 함유량이 20 질 량% 미만인 경우, 경화성 조성물의 점도가 지나치게 높아지기 때문에, 인쇄법에 있어서의 전사성이 열등하게 된다. 한편, 80 질량% 이상이 되면 경화성 조성물의 점도가 지나치게 낮아지기 때문에, 오목판에 경화성 조성물이 잘 남기 때문에, 인쇄법에 적용하기 곤란해진다.In curable resin composition of this invention, the quantity of the solvent (D) with respect to the total amount of binder resin (A), a polymeric compound (B), and a solvent (D) is 20 mass% or more and less than 60 mass% by mass fraction, for example. Preferably they are 20 mass% or more and less than 50 mass%, More preferably, they are 25 mass% or more and 50 mass% or less. When content of a solvent (D) is less than 20 mass%, since the viscosity of a curable composition becomes high too much, the transferability in the printing method will become inferior. On the other hand, when it becomes 80 mass% or more, since the viscosity of a curable composition becomes too low, since a curable composition remains well in a recessed plate, it becomes difficult to apply to a printing method.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 안료 및 염료 등의 착색제를 실질적으로 함유하지 않는다. 즉, 본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서, 조성물 전체에 대한 착색제의 함량은 예를 들어 질량 분율로 1 질량% 미만, 바람직하게는 0.5 질량% 미만이다. Curable resin composition of this invention does not contain coloring agents, such as a pigment and dye, substantially. That is, in the curable resin composition of this invention, content of the coloring agent with respect to the whole composition is less than 1 mass%, Preferably it is less than 0.5 mass% by mass fraction, for example.

예를 들어, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 당해 분야에서 사용되는 이하의 착색제를 실질적으로 함유하지 않는다.For example, the curable resin composition of this invention does not contain the following coloring agents substantially used in the field | area.

컬러 인덱스 (The Society of Dyers and Colourists 출판) 에서 피그먼트 (Pigment) 로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는,Compounds classified as Pigments in the Color Index (published by The Society of Dyers and Colourists), specifically,

C.I. 피그먼트 옐로우 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214 등의 황색 안료 ; C.I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139 Yellow pigments such as, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, and 214;

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73 등의 오렌지색 안료 ;C.I. Pigment oranges such as pigment orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73 and the like;

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265 등의 적색 안료 ; C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265, etc. ;

C.I. 피그먼트 블루 15, 15:3, 15:4, 15:6, 60 등의 청색 안료 ;C.I. Blue pigments such as Pigment Blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6 and 60;

C.I. 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38 등의 바이올렛색 안료 ;C.I. Violet pigments such as pigment violet 1, 19, 23, 29, 32, 36 and 38;

C.I. 피그먼트 그린 7, 36 등의 녹색 안료 ; C.I. Green pigments such as pigment green 7, 36;

C.I. 피그먼트 브라운 23, 25 등의 브라운색 안료 ;C.I. Brown pigments such as pigment brown 23 and 25;

C.I. 피그먼트 블랙 1, 7 등의 흑색 안료.C.I. Black pigments, such as pigment black 1 and 7.

본 발명의 경화성 수지 조성물에는, 필요에 따라 충전제, 다른 고분자 화합물, 레벨링제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 응집 방지재, 연쇄 이동제 등의 첨가제를 병용할 수도 있다. The curable resin composition of this invention can also use together additives, such as a filler, another high molecular compound, a leveling agent, an adhesion promoter, antioxidant, a ultraviolet absorber, a light stabilizer, an aggregation inhibitor, a chain transfer agent, as needed.

충전제로서 구체적으로는 유리, 실리카, 알루미나 등을 들 수 있다.Specific examples of the filler include glass, silica, alumina, and the like.

다른 고분자 화합물로서 구체적으로는 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지나 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of other high molecular compounds include curable resins such as epoxy resins and maleimide resins, and thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ethers, polyfluoroalkyl acrylates, polyesters, and polyurethanes. Can be.

레벨링제로는, 시판된 계면활성제를 사용할 수 있고, 예를 들어 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 카티온계, 아니온계, 노니온계, 양쪽성 등의 계면활성제 등을 들 수 있고, 각각 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 상기 계면활성제로는, 예를 들어 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄 지방산 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3 급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이외에, 상품명으로 KP (신에츠 화학 공업 (주) 제조), 폴리플로우 (쿄에이샤 화학 (주) 제조), 에프톱 (미쓰비시 마테리알 전자 화성 (주)), 메가팩 (DIC (주) 제조 ), 후로라드 (스미토모 3M (주) 제조), 아사히가드 (아사히 글래스리 (주) 제조), 사프론 (AGC 세이미 케미칼 (주) 제조), 솔스퍼스 (제네카 (주) 제조), EFKA (CIBA 사 제조), 아지스파 PB821 (아지노모토 (주) 제조) 등을 들 수 있다.As the leveling agent, commercially available surfactants can be used, and for example, surfactants such as silicone, fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic, amphoteric, etc. may be used. You may use in combination of 2 or more type. As said surfactant, For example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyethylene glycol diester, sorbitan fatty acid ester, fatty acid modified polyester, tertiary amine modified polyurethane, In addition to polyethyleneimines, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polyflow (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-Top (Mitsubishi Material Electronic Chemicals Co., Ltd.), Megapack (DIC ( Manufacture), Furard (manufactured by Sumitomo 3M), Asahi Guard (manufactured by Asahi Glass Lee, Inc.), Saffron (manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), Solsperth (manufactured by Geneca Co., Ltd.) And EFKA (manufactured by CIBA), Ajispa PB821 (manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.), and the like.

밀착 촉진제로는, 실란계 화합물이 바람직하고, 구체적으로는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.As an adhesion promoter, a silane type compound is preferable, Specifically, a vinyl trimethoxysilane, a vinyl triethoxysilane, a vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3- Aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxy Propylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltri Methoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. are mentioned.

산화 방지제로서 구체적으로는 2-tert-부틸-6-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페닐아크릴레이트, 2-[1-(2-히드록시-3,5-디-tert-펜틸페닐)에틸]-4,6-디-tert-펜틸페닐아크릴레이트, 6-[3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-tert-부틸디벤즈[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀, 3,9-비스[2-{3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(2-tert-부틸-5-메틸페놀), 2,2'-티오비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 디라우릴3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴3,3'-티오디프로피오네이트, 펜타에리트리틸테트라키스(3-라우릴티오프로피오네이트), 1,3,5-트리스(3,5-디 -tert-부틸-4-히드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 3,3',3'',5,5',5''-헥사-tert-부틸-a,a',a''-(메시틸렌-2,4,6-트리일)트리-p-크레졸, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다.Specific examples of antioxidants include 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenylacrylate, 2- [1- (2-hydroxy-3 , 5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenylacrylate, 6- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenz [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine, 3,9-bis [2- {3- (3-tert-butyl -4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10- tetraoxaspiro [5.5] undecane, 2,2'-methylenebis (6- tert-butyl-4-methylphenol), 4,4'-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 4,4'-thiobis (2-tert-butyl-5-methylphenol ), 2,2'-thiobis (6-tert-butyl-4-methylphenol), dilauryl 3,3'- thiodipropionate, dimyristyl 3,3'- thiodipropionate, dis Tearyl 3,3'- thiodipropionate, pentaerythryl tetrakis (3-laurylthiopropionate), 1,3,5-tris (3,5-di-tert-part -4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 3,3 ', 3' ', 5,5', 5 '' -Hexa-tert-butyl-a, a ', a' '-(mesitylene-2,4,6-triyl) tri-p-cresol, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di- tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, and the like.

자외선 흡수제로서 구체적으로는, 2-(2-히드록시-5-tert-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 옥틸-3-[3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트, 2-[4-[(2-히드록시-3-도데실옥시프로필)옥시]-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[4-[(2-히드록시-3-(2'-에틸)헥실)옥시]-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-부틸옥시페닐)-6-(2,4-비스-부틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-[1-옥틸옥시카르보닐에톡시]페닐)-4,6-비스(4-페닐페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀, 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸 또는 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다.Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (2-hydroxy-5-tert-butylphenyl) -2H-benzotriazole and octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5- Chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate, 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6 -Bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3- (2'-ethyl) hexyl) oxy] -2-hydroxyphenyl ] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy-4-butyloxyphenyl) -6- (2,4- Bis-butyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2-hydroxy-4- [1-octyloxycarbonylethoxy] phenyl) -4,6-bis (4-phenylphenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- (2H-benzotriazole- 2-yl) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5 -Methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenone, etc. are mentioned.

광 안정제로서 구체적으로는, 숙신산과 (4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-일)에탄올로 이루어지는 고분자, N,N',N'',N'''-테트라키스(4,6-비스(부틸-(N-메틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)아미노)트리아진-2-일)-4,7-디아자데칸-1,10-디아민, 데칸디오익크애시드와 비스(2,2,6,6-테트라메틸-1-(옥틸옥시)-4-피페리디닐)에스테르와 1,1-디메틸에틸히드로퍼옥사이드의 반응물, 비스(1,2,2,6,6-펜 타메틸-4-피페리디닐)-[[3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐]메틸]부틸말로네이트, 2,4-비스[N-부틸-N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)아미노]-6-(2-히드록시에틸아민)-1,3,5-트리아진, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐)세바케이트 또는 메틸(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐)세바케이트 등을 들 수 있다.Specifically as a light stabilizer, a polymer consisting of succinic acid and (4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) ethanol, N, N ', N' ', N' ' '-Tetrakis (4,6-bis (butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino) triazin-2-yl) -4,7- Diazadecane-1,10-diamine, decandioic acid and bis (2,2,6,6-tetramethyl-1- (octyloxy) -4-piperidinyl) ester and 1,1-dimethylethylhydro Reactant of peroxide, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl)-[[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] Methyl] butylmalonate, 2,4-bis [N-butyl-N- (1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino] -6- ( 2-hydroxyethylamine) -1,3,5-triazine, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate or methyl (1,2,2,6 , 6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate and the like.

응집 방지재로는, 폴리아크릴산나트륨 등을 들 수 있다. Examples of the aggregation prevention material include sodium polyacrylate.

또, 연쇄 이동제로는 도데실메르캅탄, 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐 등을 들 수 있다.Moreover, dodecyl mercaptan, 2, 4- diphenyl-4-methyl-1- pentene etc. are mentioned as a chain transfer agent.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 건조성이 낮고, 용매 휘발에 의한 건조 이물질이 발생되기 어렵고, 고 (高) 고형분이라도 보존 안정성이 양호하기 때문에, 특히 인쇄법에 적당하다.Since curable resin composition of this invention is low in dryness, it is hard to produce the dry foreign material by volatilization of a solvent, and it is especially suitable for the printing method, because storage stability is good even in high solid content.

상기 인쇄법으로는, 당해 분야에서 이미 알려진 인쇄법, 예를 들어, 잉크젯 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 스크린 인쇄법 등에 적용할 수 있다.The printing method may be applied to a printing method known in the art, for example, an inkjet printing method, a flexographic printing method, a gravure printing method, an offset printing method, a screen printing method, or the like.

또, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 광로 길이가 1 ㎝ 인 석영 셀에 충전하고, 분광 광도계를 사용하여 측정 파장 400 ∼ 700 ㎚ 의 조건 하에서 투과율을 측정하면, 평균 투과율이 70 % 이상이고, 바람직하게는 75 % 이상이다. 이로써, 투명한 패턴이나 도포막을 형성할 수 있다.Moreover, when curable resin composition of this invention is filled into the quartz cell whose optical path length is 1 cm, and transmittance | permeability is measured on the conditions of 400-700 nm of measurement wavelengths using a spectrophotometer, average transmittance is 70% or more, Preferably it is Is 75% or more. Thereby, a transparent pattern and a coating film can be formed.

본 발명의 경화성 수지 조성물의 경화 조건은 조성물의 각 성분의 종류, 함유량 등에 따라 적절히 선택되는데, 통상적으로 자외선 등을 사용한 광 경화, 오븐 등을 사용한 가열 경화이다.Although the hardening conditions of curable resin composition of this invention are suitably selected according to the kind, content, etc. of each component of a composition, it is the heat hardening using the photocuring using an ultraviolet-ray etc., an oven, etc. normally.

또, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 가열 경화 (예를 들어, 150 ∼ 250 ℃, 0.1 ∼ 3 시간) 후의 3 ㎛ 두께의 도포막에 대해, 분광 광도계를 사용하여, 측정 파장 400 ∼ 700 ㎚ 의 조건 하에서 투과율을 측정하면, 투과율이 90 % 이상이고, 바람직하게는 95 % 이상이다. 이로써, 투명한 패턴이나 도포막을 형성할 수 있다.Moreover, the curable resin composition of this invention uses the spectrophotometer with respect to the coating film of 3 micrometer thickness after heat-hardening (for example, 150-250 degreeC, 0.1 to 3 hours), The conditions of measurement wavelength 400-700 nm. When the transmittance is measured under, the transmittance is 90% or more, and preferably 95% or more. Thereby, a transparent pattern and a coating film can be formed.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 예를 들어 이하와 같이 하여, 유리 기판이나 필름 기판, 컬러 필터나 구동 회로를 형성한 기재 상에 인쇄법에 의해 도포하고, 광 경화나 가열 경화를 실시하여, 도포막이나 패턴을 형성할 수 있다.The curable resin composition of this invention is apply | coated by the printing method on the base material which formed the glass substrate, the film substrate, the color filter, or the drive circuit as follows, for example, photocuring or heat-hardening, and a coating film Or you can form a pattern.

먼저, 이 경화성 수지 조성물을 기판 (통상적으로는 유리) 또는 이미 형성된 경화성 수지 조성물의 고형분으로 이루어지는 층 상에 인쇄법에 의해 도포하고, 도포된 경화성 수지 조성물층으로부터 프리 베이크함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하고, 평활한 미경화 도포막 (패턴을 포함) 을 얻는다. 이 때의 미경화 도포막의 두께는 대략 1 ∼ 6 ㎛ 이다. 이와 같이 하여 얻어진 미경화 도포막에, 수은등이나 발광 다이오드로부터 발생되는 자외선을 조사해도 된다.First, this curable resin composition is apply | coated by the printing method on the board | substrate (usually glass) or the layer which consists of solid content of the curable resin composition already formed, and prebaked from the apply | coated curable resin composition layer, volatile components, such as a solvent, are It removes and obtains a smooth uncured coating film (including a pattern). The thickness of the uncured coating film at this time is about 1-6 micrometers. The uncured coating film thus obtained may be irradiated with ultraviolet rays generated from a mercury lamp or a light emitting diode.

또, 패턴 형성에 있어서, 그 선폭은 오목판 사이즈에 의해 적절히 제어할 수 있다. Moreover, in pattern formation, the line width can be suitably controlled by the recess plate size.

또한 필요에 따라 150 ∼ 230 ℃ 에서 10 ∼ 180 분의 포스트베이크를 실시할 수도 있다.Moreover, you may perform the post-baking for 10 to 180 minutes at 150-230 degreeC as needed.

본 발명의 경화성 수지 조성물을 사용하여, 이상과 같은 각 공정을 거쳐, 기 판 상 또는 컬러 필터 기판 상에 도포막 또는 패턴을 형성할 수 있다. 이 도포막 또는 패턴은 액정 표시 장치에 사용되는 포토 스페이서나 액정 배향용 돌기, 격벽, 오버코트로서 유용하다.Using the curable resin composition of this invention, a coating film or a pattern can be formed on a board | substrate or a color filter substrate through each process as mentioned above. This coating film or pattern is useful as a photo spacer used for a liquid crystal display device, a projection for liquid crystal alignment, a partition, and an overcoat.

이렇게 하여 얻어지는 도포막이나 패턴을 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 장착시킴으로써 우수한 품질의 표시 장치를 높은 수율로 제조할 수 있다.By attaching the coating film and pattern obtained in this way to display apparatuses, such as a liquid crystal display device, a display apparatus of excellent quality can be manufactured with a high yield.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 의해 보다 상세하게 설명하는데, 본 발명이 이들의 실시예에 의해 한정되는 것이 아님은 말할 필요도 없다. 예 중, 함유량 내지 사용량을 나타내는 % 및 부는 특별히 언급이 없는 한 질량 기준이다.EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this in more detail, it cannot be overemphasized that this invention is not limited by these Examples. In the examples,% and parts representing the content to the amount used are based on mass unless otherwise specified.

[합성예 1]Synthesis Example 1

환류 냉각기, 적하 깔때기 및 교반기를 구비한 1 ℓ 플라스크 내에 질소를 0.02 ℓ/분으로 흘려 질소 분위기로 하고, 3-메톡시부틸아세테이트 305 질량부를 넣고, 교반하면서 70 ℃ 까지 가열하였다. 이어서, 메타크릴산 55 질량부, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실아크릴레이트 (식 (I-1) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ-1) 로 나타내는 화합물을, 몰 비로 50 : 50 으로 혼합) 175 질량부 및 N-시클로헥실말레이미드 70 질량부를, 3-메톡시부틸아세테이트 140 질량부에 용해시켜 용액을 조제하고, 그 용해액을 적하 펌프를 사용하여 4 시간에 걸쳐, 70 ℃ 로 보온한 플라스크 내에 적하하였다. 한편, 중합 개시제 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 45 질량부를 3-메톡시부틸아세테이트 225 질량부에 용해시킨 용액을 다른 적하 펌프를 사용하여 5 시간에 걸쳐 플라스크 내에 적하하였다. 중합 개시제 용액의 적하가 종료된 후, 4 시간, 70 ℃ 로 유지하고, 그 후 실온까지 냉각시켜 고형분 32.6 질량%, 산가 34.3 ㎎-KOH/g 의 공중합체의 수지 용액을 얻었다. 얻어진 수지 Aa 의 중량 평균 분자량 Mw 는 9,000, 분산도는 2.01 이었다. 이 수지 용액 245 질량부에, 디에틸렌글리콜n-부틸에테르아세테이트를 45 질량부 넣고, 로터리 에버포레이터를 사용하여, 감압 하 90 ℃ 에서 3-메톡시부틸아세테이트를 농축 증류 제거하고, 고형분 64.0 질량% 의 수지 Aa 의 디에틸렌글리콜n-부틸에테르아세테이트 용액을 얻었다. 산가, 중량 평균 분자량 Mw 및 분산도는 농축 전과 동등하였다.In a 1 L flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel and a stirrer, nitrogen was flowed at 0.02 L / min to a nitrogen atmosphere, and 305 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate was added thereto and heated to 70 ° C while stirring. Next, 55 parts by mass of methacrylic acid, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decyl acrylate (compound represented by formula (I-1) and compound represented by formula (II-1), mol) 175 parts by mass and 70 parts by mass of N-cyclohexylmaleimide are dissolved in 140 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate to prepare a solution, and the solution is added to the dropwise pump in 4 hours. It dripped over the flask heated over 70 degreeC over. On the other hand, a solution in which 45 parts by mass of the polymerization initiator 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was dissolved in 225 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate was added to the flask over 5 hours using another dropping pump. It dripped. After completion of the dropwise addition of the polymerization initiator solution, the mixture was maintained at 70 ° C for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain a resin solution of a copolymer having a solid content of 32.6 mass% and an acid value of 34.3 mg-KOH / g. The weight average molecular weight Mw of obtained resin Aa was 9,000, and dispersion degree was 2.01. 45 mass parts of diethylene glycol n-butyl ether acetates were put into 245 mass parts of this resin solutions, and 3-methoxybutyl acetate was concentrated and distilled off at 90 degreeC under reduced pressure using a rotary evaporator, and solid content 64.0 mass A diethylene glycol n-butyl ether acetate solution of% resin Aa was obtained. The acid value, weight average molecular weight Mw and dispersion degree were equivalent to before concentration.

Figure 112009069166810-PAT00019
Figure 112009069166810-PAT00019

[합성예 2]Synthesis Example 2

환류 냉각기, 적하 깔때기 및 교반기를 구비한 1 ℓ 플라스크 내에 질소를 0.02 ℓ/분으로 흘려 질소 분위기로 하고, 3-메톡시부틸아세테이트 305 질량부를 넣고, 교반하면서 70 ℃ 까지 가열하였다. 이어서, 메타크릴산 60 질량부, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실아크릴레이트 (식 (I-1) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ-1) 로 나타내는 화합물을, 몰 비로 50 : 50 으로 혼합) 240 질량부 및 3-메톡시부틸아세테이트 140 질량부에 용해시켜 용액을 조제하고, 그 용해액을 적하 깔때기를 사용하여 4 시간에 걸쳐, 70 ℃ 로 보온한 플라스크 내에 적하하였다. 한편, 중합 개시제 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 45 질량부를 3-메톡시부틸아세테이트 225 질량부에 용해시킨 용액을 다른 적하 깔때기를 사용하여 4 시간에 걸쳐 플라스크 내에 적하하였다. 중합 개시제 용액의 적하가 종료된 후, 4 시간, 70 ℃ 로 유지하고, 그 후 실온까지 냉각시켜 고형분 32.3 질량%, 산가 35.6 mg-KOH/g 의 공중합체의 수지 용액을 얻었다. 얻어진 수지 Ab 의 중량 평균 분자량 Mw 는 9,100, 분산도는 2.02 이었다. 이 수지 용액 245 질량부에, 디에틸렌글리콜n-부틸에테르아세테이트를 45 질량부 넣고, 로터리 에버포레이터를 사용하여, 감압 하 90 ℃ 에서 3-메톡시부틸아세테이트를 농축 증류 제거하고, 고형분 64.0 질량% 의 수지 Ab 의 디에틸렌글리콜n-부틸에테르아세테이트 용액을 얻었다. 산가 중량 평균 분자량 Mw 및 분산도는 농축 전과 동등하였다.In a 1 L flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel and a stirrer, nitrogen was flowed at 0.02 L / min to a nitrogen atmosphere, and 305 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate was added thereto and heated to 70 ° C while stirring. Next, 60 parts by mass of methacrylic acid, 3,4-epoxycitcyclo [5.2.1.0 2,6 ] decyl acrylate (compound represented by formula (I-1) and compound represented by formula (II-1) are molar) The mixture was dissolved in 240 parts by mass and 140 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate to prepare a solution. The solution was added dropwise into a flask kept at 70 ° C. over 4 hours using a dropping funnel. It was. Meanwhile, a solution in which 45 parts by mass of the polymerization initiator 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was dissolved in 225 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate was added to the flask over 4 hours using another dropping funnel. It dripped. After dripping of the polymerization initiator solution was complete | finished, it hold | maintained at 70 degreeC for 4 hours, and it cooled to room temperature after that, and obtained the resin solution of the copolymer of 32.3 mass% of solid content, and the acid value 35.6 mg-KOH / g. The weight average molecular weight Mw of obtained resin Ab was 9,100, and dispersion degree was 2.02. 45 mass parts of diethylene glycol n-butyl ether acetates were put into 245 mass parts of this resin solutions, and 3-methoxybutyl acetate was concentrated and distilled off at 90 degreeC under reduced pressure using a rotary evaporator, and solid content 64.0 mass A diethylene glycol n-butyl ether acetate solution of% resin Re was obtained. The acid value weight average molecular weight Mw and the degree of dispersion were equivalent to before concentration.

(분자량의 측정)(Measurement of molecular weight)

수지 Aa 및 Ab 의 중량 평균 분자량 (Mw) 및 수평균 분자량 (Mn) 의 측정에 대해서는 GPC 법을 사용하여 이하의 조건으로 실시하였다.About the measurement of the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of resin Aa and Ab, it carried out on condition of the following using GPC method.

장치 ; K2479 ((주) 시마즈 제작소 제조) Device ; K2479 (manufactured by Shimadzu Corporation)

칼럼 ; SHIMADZU Shim-pack GPC-80M column ; SHIMADZU Shim-pack GPC-80M

칼럼 온도 ; 40 ℃ Column temperature; 40 ℃

용매 ; THF (테트라히드로푸란)Solvent; THF (tetrahydrofuran)

유속 ; 1.0 ㎖/min Flow rate; 1.0 ml / min

검출기 ; RIDetector; RI

상기에서 얻어진 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 비를 분산도 (Mw/Mn) 로 하였다.The ratio of the weight average molecular weight and number average molecular weight of polystyrene conversion obtained above was made into dispersion degree (Mw / Mn).

[실시예 1]Example 1

합성예 1 에서 얻어진 수지 Aa 를 함유하는 수지 용액 94 부 (고형분 환산 60 부) 에, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (일본 화약 (주) 제조 KAYARAD DPHA) 40 부, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온 1 부, 디에틸렌글리콜n-부틸에테르아세테이트 34 부가 되도록 혼합하여 경화성 수지 조성물 1 을 얻었다.40 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) to 2-part (60 parts of solid content conversion) of the resin solution containing resin Aa obtained by the synthesis example 1, 2-methyl-2- morpholi 1 part of no-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one and 34 parts of diethylene glycol n-butyl ether acetates were mixed so that curable resin composition 1 was obtained.

이어서, 경화성 수지 조성물 1 로부터, 이하와 같이 하여 패턴을 형성하였다. 그 방법을 도 1 을 참조하여 설명한다.Next, the pattern was formed from curable resin composition 1 as follows. The method will be described with reference to FIG. 1.

먼저, 공급 장치 (1) 로부터, 경화성 수지 조성물 1 (2) 를 실험 인쇄기에 세팅된 오목판 (3) 상에 적하하였다 (공정 a). 적하된 경화성 수지 조성물 1 을 공급 블레이드 (4) 로 고르게 하면서, 스크레이퍼 블레이드 (5) 로 잔여의 경화성 수지 조성물 1 을 긁어냈다 (공정 b). 이어서, 전사 시트 (6) 을 외주면에 장착한 전사 동체 (7) 을 오목판 (3) 상에 전동시켜, 경화성 수지 조성물 1 을 전사 시트 (6) 면에 전사하였다 (공정 c). 이어서, 전사 시트 (6) 면의 경화성 수지 조성물 1 을 기재 (8) 면에 전사하였다 (공정 d). First, curable resin composition 1 (2) was dripped from the supply apparatus 1 on the recessed plate 3 set to the experimental printing machine (process a). The remaining curable resin composition 1 was scraped off with the scraper blade 5 while the dropped curable resin composition 1 was evenly fed with the feed blade 4 (step b). Next, the transfer body 7 having the transfer sheet 6 mounted on the outer circumferential surface was rolled onto the recess plate 3 to transfer the curable resin composition 1 to the transfer sheet 6 surface (step c). Next, the curable resin composition 1 of the transfer sheet 6 surface was transferred to the base material 8 surface (step d).

기재 (8) 에 전사 후, 100 ℃/10 분간 건조, 노광 100 mJ/㎠ (I 선), 220 ℃/20 분으로 가열 경화하여, 패턴 1 을 얻었다.After transferring to the base material 8, it dried by 100 degreeC / 10 minutes, heat-hardened by exposure 100mJ / cm <2> (I line | wire), and 220 degreeC / 20 minutes, and obtained the pattern 1.

[실시예 2][Example 2]

실시예 1 에 있어서, 노광 공정을 생략한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 경화성 수지 조성물 1 로부터 패턴 2 를 얻었다.In Example 1, except having abbreviate | omitted the exposure process, operation similar to Example 1 was performed and the pattern 2 was obtained from curable resin composition 1.

[실시예 3]Example 3

표 1 에 나타내는 조성이 되도록, 실시예 1 과 동일하게 하여, 경화성 수지 조성물 2 및 패턴 3 을 얻었다.Curable resin composition 2 and the pattern 3 were obtained like Example 1 so that it might become the composition shown in Table 1.

[실시예 4]Example 4

표 1 에 나타내는 조성이 되도록, 실시예 1 과 동일하게 하여, 경화성 수지 조성물 3 및 패턴 4 를 얻었다.Curable resin composition 3 and the pattern 4 were obtained like Example 1 so that it might become the composition shown in Table 1.

[실시예 5]Example 5

표 1 에 나타내는 조성이 되도록, 실시예 1 과 동일하게 하여, 경화성 수지 조성물 4 및 패턴 5 를 얻었다.Curable resin composition 4 and the pattern 5 were obtained like Example 1 so that it might become the composition shown in Table 1.

[비교예 1]Comparative Example 1

표 1 에 나타내는 조성이 되도록, 실시예 1 과 동일하게 하여, 경화성 수지 조성물 5 를 얻었다. 경화성 수지 조성물 5 는 실시예 1 과 동일하게 인쇄법을 사용한 경우, 오목판에 경화성 조성물이 다량으로 남았기 때문에, 패턴을 형성할 수 없었다.Curable resin composition 5 was obtained like Example 1 so that it might become a composition shown in Table 1. When curable resin composition 5 used the printing method similarly to Example 1, since a large amount of curable composition remained in the recessed plate, the pattern could not be formed.

상기와 같이 얻어진 경화성 수지 조성물 1 ∼ 5 및 패턴 1 ∼ 6 에 대해, 이하의 평가를 실시하였다. 그 결과를 표 1 에 나타낸다.The following evaluation was performed about the curable resin compositions 1-5 and patterns 1-6 obtained as mentioned above. The results are shown in Table 1.

<조성물의 평균 투과율><Average transmittance of composition>

각 경화성 수지 조성물에 대해, 자외 가시 근적외 분광 광도계 (V-650 ; 닛폰 분광 (주) 제조) (석영 셀, 광로 길이 ; 1 ㎝) 를 사용하여, 400 ∼ 700 ㎚ 에 있어서의 평균 투과율 (%) 을 측정하였다.Average transmittance (%) in 400-700 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (V-650; Nippon Spectroscopy Co., Ltd. product) (quartz cell, optical path length; 1 cm) with respect to each curable resin composition. ) Was measured.

<막의 평균 투과율><Mean Transmittance of Membrane>

각 경화성 수지 조성물을 사용하여, 경화 후의 막두께가 3 ㎛ 가 되도록, 이하와 같이 하여 경화막을 제작하였다.Using each curable resin composition, the cured film was produced as follows so that the film thickness after hardening might be set to 3 micrometers.

경화성 수지 조성물을 디에틸렌글리콜n-부틸에테르아세테이트로, 고형분 20 질량% 가 되도록 희석하였다. 스핀 도포법으로 경화 후 막두께가 3 ㎛ 가 되도록 도포하고, 100 ℃ × 10 분 프리베이크 후, 220 ℃ × 20 분으로 가열 경화하였다. The curable resin composition was diluted with diethylene glycol n-butyl ether acetate so that solid content might be 20 mass%. It applied by the spin coating method so that the film thickness might be set to 3 micrometers, and after 100 degreeC x 10 minute prebaking, it heat-hardened at 220 degreeC x 20 minutes.

얻어진 각 경화막에 대해, 현미 분광 측광 장치 (OSP-SP200 ; OLYMPUS 사 제조) 를 사용하여, 400 ∼ 700 ㎚ 에 있어서의 평균 투과율 (%) 을 측정하였다.About each obtained cured film, the average transmittance (%) in 400-700 nm was measured using the microscopic spectrophotometer (OSP-SP200; OLYMPUS company make).

투과율이 높아지는 것은 흡수가 작아지는 것을 의미한다.Higher transmittance means less absorption.

<패턴의 형상><Shape of pattern>

각 패턴의 형상을 삼차원 비접촉 표면 형상 계측 시스템 (Micromap MM527N (주) 료카 시스템 제조) 로 계측하였다.The shape of each pattern was measured by the three-dimensional non-contact surface shape measuring system (made by Micromap MM527N Ryoka System).

Figure 112009069166810-PAT00020
Figure 112009069166810-PAT00020

표 1 에 나타내는 실시예 1 ∼ 5 의 결과로부터, 소정량의 용제를 함유하는 본 발명의 경화성 수지 조성물은 인쇄법을 사용하여, 높은 투과율의 도포막 및 패턴을 형성할 수 있다는 것을 알 수 있다. 한편, 비교예 1 에서는 인쇄법을 사용할 수 없었다.From the result of Examples 1-5 shown in Table 1, it turns out that the curable resin composition of this invention containing a predetermined amount of solvent can form the coating film and pattern of high transmittance | permeability using the printing method. On the other hand, in Comparative Example 1, the printing method could not be used.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 인쇄법을 사용하여 투과율이 우수한 도포막 및 패턴을 형성할 수 있다. 따라서, 오버코트, 포토 스페이서, 절연막, 액정 배향 제어용 돌기, 착색 패턴의 막두께를 맞추기 위한 코트층 등, 표시 장치에 사용되는 도포막이나 패턴의 형성에 바람직하게 사용할 수 있다.Curable resin composition of this invention can form the coating film and pattern excellent in the transmittance | permeability using the printing method. Therefore, it can use suitably for formation of the coating film and pattern used for a display apparatus, such as an overcoat, a photo spacer, an insulating film, the processus | protrusion for liquid crystal orientation control, and the coating layer for matching the film thickness of a coloring pattern.

도 1 은 인쇄법을 사용하여, 수지 조성물로부터 패턴을 형성하는 방법을 나타낸다.1 shows a method of forming a pattern from a resin composition using a printing method.

※도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명※[Description of Reference Numerals]

1 공급 장치 1 feeder

2 수지 조성물 2 resin composition

3 오목판3 intaglio

4 공급 블레이드4 feeding blade

5 스크레이퍼 블레이드 5 scraper blade

6 전사 시트6 transfer sheet

7 전사 동체7 warrior fuselage

8 기재8 description

Claims (16)

바인더 수지 (A), 중합성 화합물 (B) 및 용제 (D) 를 함유하고,Binder resin (A), a polymeric compound (B), and a solvent (D) are contained, 바인더 수지 (A), 중합성 화합물 (B) 및 용제 (D) 의 합계량에 대한 용제 (D) 의 양이 20 질량% 이상 60 질량% 미만인 경화성 수지 조성물.Curable resin composition whose amount of solvent (D) with respect to the total amount of binder resin (A), a polymeric compound (B), and a solvent (D) is 20 mass% or more and less than 60 mass%. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 바인더 수지 (A), 중합성 화합물 (B) 및 용제 (D) 의 합계량에 대한 용제 (D) 의 양이 25 질량% 이상 50 질량% 이하인 경화성 수지 조성물.Curable resin composition whose quantity of solvent (D) with respect to the total amount of binder resin (A), a polymeric compound (B), and a solvent (D) is 25 mass% or more and 50 mass% or less. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 바인더 수지 (A) 가 적어도 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물 (A-a) 과, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르 구조를 갖는 단량체 (A-c) 를 중합하여 이루어지는 공중합체인 경화성 수지 조성물.The binder resin (A) polymerizes at least one compound (Aa) selected from the group consisting of at least unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic anhydride, and a monomer (Ac) having a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms. Curable resin composition which is a copolymer formed by making. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르 구조를 갖는 단량체 (A-c) 가 에폭시기를 갖는 단량체인 경화성 수지 조성물.Curable resin composition whose monomer (A-c) which has a C2-C4 cyclic ether structure is a monomer which has an epoxy group. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 에폭시기를 갖는 단량체가 지방족 다고리형 에폭시기를 갖는 단량체인 경화성 수지 조성물.Curable resin composition whose monomer which has an epoxy group is a monomer which has an aliphatic polycyclic epoxy group. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 지방족 다고리형 에폭시기를 갖는 단량체가 식 (I) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물인 경화성 수지 조성물.Curable resin composition whose monomer which has an aliphatic polycyclic epoxy group is at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of a compound represented by Formula (I) and a compound represented by Formula (II).
Figure 112009069166810-PAT00021
Figure 112009069166810-PAT00021
[식 (I) 및 식 (Ⅱ) 중, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다. 그 알킬기에 함유되는 수소 원자는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.[In formula (I) and formula (II), R <1> and R <2> represents a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group each independently. The hydrogen atom contained in this alkyl group may be substituted by the hydroxy group. X1 및 X2 는 각각 독립적으로 단결합 또는 헤테로 원자를 함유해도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기를 나타낸다]X 1 and X 2 each independently represent a C 1-6 alkylene group which may contain a single bond or a hetero atom;
제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 3 to 6, 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택 되는 적어도 1 종의 화합물 (A-a) 가 지방족 불포화 카르복실산 및 지방족 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물인 경화성 수지 조성물.Curable at least one compound (Aa) selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic anhydrides is at least one compound selected from the group consisting of aliphatic unsaturated carboxylic acids and aliphatic unsaturated carboxylic anhydrides Resin composition. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 식 (I) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물이 식 (I') 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ') 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물인 경화성 수지 조성물.At least one compound selected from the group consisting of a compound represented by formula (I) and a compound represented by formula (II) is selected from the group consisting of a compound represented by formula (I ') and a compound represented by formula (II') Curable resin composition which is at least 1 sort (s) of compound.
Figure 112009069166810-PAT00022
Figure 112009069166810-PAT00022
[식 (I') 및 식 (Ⅱ') 중, R1' 및 R2' 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다. 그 알킬기에 함유되는 수소 원자는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다]In formula (I ') and formula (II'), R <1>'and R <2>' respectively independently represent a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group. The hydrogen atom contained in this alkyl group may be substituted by the hydroxy group]
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,9. The method according to any one of claims 1 to 8, 용제 (D) 가 비점이 200 ℃ 이상이고, 에스테르계 용제, 에테르계 용제 및 알코올계 용제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 용제를 함유하는 용제인 경화성 수지 조성물.Curable resin composition whose solvent (D) is a solvent which has a boiling point of 200 degreeC or more and contains at least 1 sort (s) of solvent chosen from the group which consists of ester solvent, ether solvent, and alcohol solvent. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 9, 추가로 중합 개시제 (C) 를 함유하는 경화성 수지 조성물.Curable resin composition containing a polymerization initiator (C) further. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 중합 개시제 (C) 가 비이미다졸계 화합물, 아세토페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물 및 옥심계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물을 함유하는 중합 개시제인 경화성 수지 조성물.Curable resin (C) which is a polymerization initiator containing at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of a biimidazole type compound, an acetophenone type compound, a triazine type compound, an acylphosphine oxide type compound, and an oxime type compound. Composition. 도포막 또는 패턴을 형성하기 위한, 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 수지 조성물의 사용.Use of curable resin composition in any one of Claims 1-11 for forming a coating film or a pattern. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 수지 조성물을 사용하여 형성되는 도포막 또는 패턴.The coating film or pattern formed using the curable resin composition of any one of Claims 1-11. 제 13 항에 기재된 도포막 또는 패턴을 함유하는 표시 장치.The display device containing the coating film or pattern of Claim 13. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 수지 조성물을 인쇄법을 사용하여 기재 상에 도포하고 건조시키고 가열하여 도포막 또는 패턴을 얻는 공정을 갖는 도포막 또는 패턴의 제조 방법.The manufacturing method of the coating film or pattern which has the process of apply | coating curable resin composition of any one of Claims 1-11 on a base material using a printing method, drying, and heating to obtain a coating film or a pattern. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 수지 조성물을 인쇄법을 사용하여 기재 상에 도포하고 건조시키고 노광 처리하고, 추가로 필요에 따라가열하여, 도포막 또는 패턴을 얻는 공정을 갖는 도포막 또는 패턴의 제조 방법.The curable resin composition of any one of Claims 1-11 is apply | coated on a base material using a printing method, it has a process of drying, exposing, heating as needed, and obtaining a coating film or a pattern as needed. Method of producing a coating film or pattern.
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