KR20100044603A - 기판처리장치 - Google Patents

기판처리장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20100044603A
KR20100044603A KR1020080103804A KR20080103804A KR20100044603A KR 20100044603 A KR20100044603 A KR 20100044603A KR 1020080103804 A KR1020080103804 A KR 1020080103804A KR 20080103804 A KR20080103804 A KR 20080103804A KR 20100044603 A KR20100044603 A KR 20100044603A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
chamber
bar
roller
rollers
Prior art date
Application number
KR1020080103804A
Other languages
English (en)
Inventor
허현강
김형준
이병우
Original Assignee
주식회사 아이피에스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 아이피에스 filed Critical 주식회사 아이피에스
Priority to KR1020080103804A priority Critical patent/KR20100044603A/ko
Publication of KR20100044603A publication Critical patent/KR20100044603A/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G13/00Roller-ways
    • B65G13/02Roller-ways having driven rollers
    • B65G13/06Roller driving means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063Transporting devices for sheet glass
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706Mechanical details, e.g. roller, belt
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67736Loading to or unloading from a conveyor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 인라인 방식으로 기판을 처리하기 위한 시스템에 채용가능한 기판처리장치를 제공한다. 본 발명에 따른 기판처리장치는 기판이 유입되는 유입구와 유출되는 유출구가 형성되며, 기판에 대한 일정한 처리를 행할 수 있도록 내부가 진공 분위기로 형성되는 챔버, 기판이 얹어져 이송되는, 유입구로부터 유출구로 향하는 기판의 이송방향을 따라 상호 이격되어 챔버의 내부 양측에 회전가능하게 설치되며, 기판이 얹어져 이송되는 복수의 롤러, 복수의 롤러를 회전시키기 위한 롤러구동수단 및 복수의 롤러가 상승되어 있는 이송위치와 하강되어 있는 정지위치 사이에서 승강가능하게 하는 롤러승강수단을 구비한다.

Description

기판처리장치{Substrate processing apparatus}
본 발명은 반도체 특히 솔라셀을 제조하기 위한 시스템에 사용되는 기판처리장치에 관한 것으로서, 특히 일렬로 연속하게 배치된 복수의 챔버들을 순차적으로 통과하면서 제조공정이 진행되는 인라인 반도체 제조 시스템에서 채용가능한 기판처리장치에 관한 것이다.
오늘날 국제적인 환경 문제와 에너지 문제를 해결하기 위하여 세계의 각 국에서는 대체 에너지에 대한 연구 및 개발이 활발하게 진행되고 있으며, 특히 이러한 대체 에너지에 대한 관심은 최근의 국제적인 유가 급등 문제와, 화석연료의 고갈에 따라 더욱 고조되고 있다. 화석연료를 대체할 수 있는 대체에너지로서는 환경적인 측면과 무한에너지원이라는 측면에서 태양에너지가 크게 각광받고 있다.
이에 따라, 근래에는 태양광을 수광하여 이를 전기에너지로 변환시키기 위하여 태양전지(solar cell)와 같은 반도체 소자를 이용하고 있다. 태양전지는 일반적으로 PN접합다이오드 형태로서, 태양에너지에 의해 여기된 소수캐리어가 PN 접합면을 가로질러 확산되고 이로 인해 PN접합 다이오드의 양단에서 전압차가 발생함으로써 기전력이 생기게 되다.
태양전지를 제조하기 위해서는 실리콘웨이퍼 등의 기판에 P형 또는 N형 반도체층, 반사방지막, 전극 등의 박막을 증착하는 공정과, 에너지 변환효율을 개선하는데 필요한 패턴을 형성하기 위해 증착된 박막을 식각하는 공정 등 다양한 공정을 거쳐야 하며, 이러한 공정들은 해당 공정을 위해 최적의 환경으로 설계된 공정챔버의 내부에서 진행되는데, 종래의 제조 시스템은 기판의 처리와 이송과정이 유기적으로 통합되어 있지 못하기 때문에 전반적으로 생산성이 저하된다는 문제점이 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위해 인라인 방식의 제조시스템들이 많이 도입되고 있으며, 인라인 방식의 시스템에 채용되는 챔버 등 기판처리장치에 대한 개발도 가속화 되고 있다. 그러나, 종래의 인라인 제조 시스템에 채용된 기판처리장치의 경우 롤러를 이용하여 기판을 이송하는데, 롤러를 구동하기 위한 수단이 매우 복잡하게 되어 있을 뿐만 아니라, 그 구성이 복잡함에 따라 기판을 동일한 높이를 유지하면서 단순히 이송만 할 수 있을 뿐, 기판을 업다운 시키는 등 기판의 처리에 필요한 동작을 함께 수행하지 못하는 문제점이 있었다.
이에 따라, 종래의 기판처리장치 중 로드록 챔버나 프리 히팅 챔버 등 에서는 기판을 가열할 때 플레이트 히터를 사용하지 않고 램프히터(lamp heater)를 사용하였다. 플레이트 히터는 기판이 상면에 놓여진 상태에서 열전달을 하는 방식이므로, 기판을 플레이트 히터에 안착시키기 위해서는 기판을 업다운시키는 동작이 수반되어야 하는데, 종래의 기판처리장치에서는 기판을 업다운 시키는 구성이 마련되어 있지 않으므로 플레이트 히터를 사용할 수 없었다. 결국, 종래의 기판처리장 치에서는 기판의 업다운 동작이 요구되지 않는 램프히터를 이용하여 순간 가열방식을 채택하였으나, 램프히터는 오동작률이 높아 빈번한 유지보수가 필요하며 공정을 효율적으로 진행할 수 없을 뿐만 아니라, 높은 온도까지 기판을 가열시키는데 많은 한계가 있었다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 인라인 반도체 제조시스템에 사용가능하며 기판을 이송하기 위한 수단과 함께 기판을 승강시킬 수 있는 구성이 포함되어 있어 원활하고 신속한 공정이 가능하도록 구조가 개선된 기판처리장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판처리장치는 기판이 유입되는 유입구와 유출되는 유출구가 형성되며, 상기 기판에 대한 일정한 처리를 행할 수 있도록 내부가 진공 분위기로 형성되는 챔버, 상기 기판이 얹어져 이송되는, 상기 유입구로부터 유출구로 향하는 기판의 이송방향을 따라 상호 이격되어 상기 챔버의 내부 양측에 회전가능하게 설치되며, 상기 기판이 얹어져 이송되는 복수의 롤러, 상기 복수의 롤러를 회전시키기 위한 롤러구동수단 및 상기 복수의 롤러가 상승되어 있는 이송위치와 하강되어 있는 정지위치 사이에서 승강가능하게 하는 롤러승강수단을 구비하는 것에 특징이 있다.
본 발명에 따르면, 상기 롤러구동수단은 상기 챔버 내부의 일측에 배치된 복수의 롤러에 각각 동축적으로 결합된 복수의 제1기어와, 상기 각 제1기어와 치합되며 서로 이격되어 설치되는 복수의 제2기어와, 상호 이격되어 있는 상기 제2기어 사이에 각각 개재되어 상기 제2기어와 치합되는 복수의 연결기어 및 상기 제1기어, 제2기어 및 연결기어 중 어느 하나에 연결되어 회전력을 제공하는 모터를 포함하여 이루어진 것이 바람직하다.
또한 본 발명에 따르면, 상기 롤러승강수단은, 상기 챔버의 하부 양측에 서로 이격되어 설치되는 복수의 고정대와, 상기 복수의 고정대 상부에 길게 배치되어 승강가능하게 설치되는 승강바와, 일단은 상기 각 고정대와 힌지결합되고 타단은 상기 승강바에 힌지결합되며 상기 롤러가 회전가능하게 결합되어 있는 연결바를 포함하여 이루어지며, 상기 롤러는 연결바가 일방향으로 회동되어 이송위치에 배치되고, 타방향으로 회동되어 정지위치에 배치되는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에 따르면, 상기 롤러승강수단은 실린더와, 상기 실린더에 결합되어 왕복이동되는 피스톤과, 상기 기판 이송방향과 교차되는 방향으로 길게 배치되며 상기 피스톤의 왕복이동시 함께 정역회전되도록 상기 피스톤과 연결되며, 상기 피스톤의 회전력을 상기 승강바에 전달하도록 상기 승강바에 연결된 회전바를 구비하는 것이 바람직하며, 일단은 상기 피스톤에 힌지결합되며 타단은 상기 회전바에 결합되어 상기 피스톤의 왕복이동시 함께 정역회전되는 제1레버와, 일단은 상기 승강바에 형성된 장공에 끼워져 결합되며 타단은 상기 회전바에 고정되어 있는 제2레버를 구비하는 것이 더욱 바람직하다.
본 발명에 따른 기판처리장치는 기판에 대한 승강이 가능하여 반도체 공정을 보다 신속하고 효율적으로 진행할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 기판이 챔버 내에서 승강가능하여 히터 위에 지지될 수 있으므로 열전달 효율이 증대되고 공정 효율이 증대된다는 장점 이 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면 롤러를 구동시키기 위한 구성이 매우 간단하여 경제적이며, 이러한 구성을 통해 기판을 신속하게 이송가능하여 생상성이 증대될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치를 더욱 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 개략적 분리사시도이며, 도 2 및 도 3은 각각 롤러가 이송위치 및 정지위치에 배치된 상태를 설명하기 위한 것으로서 도 1에 도시된 기판처리장치의 주요 부분의 확대도이며, 도 4는 도 1의 기판처리장치에서 히터가 결합된 상태에서의 도 1의 Ⅳ-Ⅳ선 개략적 단면도이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치(100)는 챔버(10)와 복수의 롤러(52), 롤러구동수단 및 롤러승강수단을 구비한다.
챔버(10)의 내부에는 기판(s)을 처리하기 위한 공간부가 형성된다. 본 발명에서의 챔버(10)는 기판(s)에 대한 증착, 식각 등 반도체 제조공정이 이루어지는 공정챔버 또는 반도체 제조라인에서 공정챔버의 전단 또는 후단에 배치되는 로드록챔버 등 기판(s)에 대한 일정한 처리가 진행되는 모든 종류의 챔버가 그 대상이 된다. 본 실시예에서의 챔버(10)는 화학적 기상증착에 의하여 기판(s)에 박막을 증 착하기 위한 증착챔버이다.
챔버(10)의 일측벽과 타측벽에는 기판(s)이 유입될 수 있는 유입구(11)와 유출구(12)가 각각 형성되어 있으며, 이 유입구(11)와 유출구(12)에는 게이트밸브(미도시)가 각각 설치되어 유입구(11)와 유출구(12)를 개폐한다. 챔버(10)의 내측에는 기판(s)에 대한 처리가 행해지는 공간부(13)가 형성되는데, 이 공간부(13)가 진공 분위기로 형성될 수 있도록 펌프(미도시)가 공간부(13)에 연결되어 있다.
챔버(10)의 상부에는 박막증착의 재료가 되는 원료가스 및 반응가스를 기판(s)에 공급하기 위한 가스공급장치(14)가 설치된다. 가스공급장치(14)의 형태는 다양하 수 있으나, 본 실시예에서는 가스가 기판(s) 상에 균일하게 분사될 수 있도록 샤워헤드 형태의 가스공급장치(14)가 채용된다. 샤워헤드는 반도체 장비 분야에서 공지의 장치이므로 별도의 설명은 생략하기로 한다.
한편, 챔버(10)의 내부에는 기판(s)을 가열하기 위한 히터(30)가 승강가능하게 설치된다. 이 히터(30)는 히터플레이트(31)와 샤프트(32)로 이루어진다. 히터플레이트(31)에는 일정 두께의 판 형상으로 상면에 기판(s)이 지지되며, 그 내부에는 소정의 발열부재(미도시)가 장착되어 있다. 샤프트(32)는 히터플레이트(31)의 하부에 결합되며 챔버(10)의 외부로 연장되어 있다. 발명의 요지를 명확하게 하기 위하여 도시하지는 않았지만, 샤프트(32)가 챔버(10)의 외부로 돌출됨으로써 챔버(10)의 내부 공간부(13)의 진공 분위기가 해제되는 것을 방지하도록, 샤프트(32)를 둘러싸는 상부쉴드, 벨로우즈 및 실링부재가 구비되며 이들에 의하여 공간부(13)는 완전히 밀폐된다.
샤프트(32)는 챔버(10) 외부의 볼스크류(미도시)와 모터(미도시) 등 공지의 구동수단과 연결되어 히터(30)는 승강된다. 후술하겠지만, 히터(30)가 상승되면 기판(s)은 히터(30)의 상면에 지지된다. 롤러를 이용한 인라인 형태의 반도체 제조 시스템에서는 일반적으로 히터와 기판이 서로 이격되어 있어서 열전달율이 상대적으로 떨어지는 경향이 있었으나, 본 실시예에서는 히터(30)와 기판(s)이 상호 접촉된 상태에서 열전달이 이루어지므로 매우 신속하고 효율적인 공정이 가능해진다. 또한, 후술하겠지만 본 발명에서는 히터(30) 자체가 승강되지 않더라도 기판(s)을 이송하는 롤러(52)가 승강됨으로써 기판(s)을 히터의 상면에 안착시킬 수 있다.
히터 자체가 상승되지 않는다는 것은 장비의 제조에 있어 많은 이점을 제공한다. 즉, 챔버의 내부 공간부는 공정 진행시 진공을 유지하여야 하는데, 히터를 승강시키기 위해서는 상기한 바와 같이 샤프트가 챔버의 외부로 연장되어 모터 등에 연결되어야 하므로 상부쉴드 등을 이용하여 진공을 유지할 필요가 있다. 또한, 샤프트가 승강됨에 따라 위치가 변동되므로 벨로우즈 등을 이용하여 위치 변동을 가능하게 하면서도 챔버 내부 공간을 진공으로 유지할 수 있어야 한다. 이렇게 상부쉴드, 벨로우즈 등의 진공을 유지하기 위한 구성들이 장비에 추가됨으로 인하여 장비의 경제성은 현저하게 저하될 수 밖에 없다. 그러나, 본 발명의 일 실시예에서는 히터가 승강되지 않더라도 기판이 히터에 접촉 및 지지될 수 있으므로 공정의 효율성과 함께 장비의 경제성이 함께 향상되는 것이다. 한편, 본 실시예에서는 챔버(10)의 내부에 히터가 설치된 것으로 설명 및 도시하였으나, 챔버의 종류에 따라 쿨링수단 등이 설치될 수 있음을 첨언한다.
또한, 챔버(10)의 유입구(11)측과 유출구(12)측 즉, 기판(s)의 이송방향에 있어서 전단부와 후단부에는 한 쌍의 센서(41,42)가 설치된다. 이 센서(41,42)는 기판(s)의 존재 여부를 감지함으로써 기판(s)이 챔버(10)로 반입 및 반출되었는지를 확인한다. 센서(41,42)는 다양한 형태의 것이 사용될 수 있으나, 본 실시예에서는 광의 수발신을 통해 기판(s)을 확인하는 광센서가 사용된다.
이하, 복수의 롤러(52)와 롤러구동수단 및 롤러승강수단을 함께 설명한다.
챔버(10)의 하부에는 복수의 고정대(51)가 설치된다. 이 고정대(51)는 상측으로 돌출되어 형성되며, 챔버(10)의 양측에 일정 거리 이격되어 일렬로 나란하게 배치된다. 복수의 고정대(51)의 상측에는 승강바(57)가 설치된다. 승강바(57)는 복수의 고정대(51)들이 설치된 방향을 따라 길게 형성되며, 후술할 연결바(53)가 힌지됨에 따라 상하로 위치이동 가능하다.
승강바(57)와 복수의 고정대(51) 사이에는 복수의 연결바(53)가 결합된다. 보다 상세하게 설명하면, 연결바(53)의 일단(하단)은 고정대(51)에 힌지가능하게 결합되며, 연결바(53)의 타단(상단)은 승강바(57)에 힌지가능하게 결합된다. 연결바(53)와 고정대(51) 및 승강바(57) 사이에는 베어링(b)이 개재되어 연결바(53)의 회전을 원활하게 한다.
각 연결바(53)에는 베어링(b)을 매개로 롤러(52)가 회전가능하게 결합된다. 각 연결바(53)에 결합된 롤러(52)들은 기판(s)의 이송방향을 따라 서로 일정 거리 이격되어 나란하게 배치되어, 연결바(53)가 힌지됨에 따라 상하방향을 따라 이동가능하다.
복수의 롤러(52)를 회전시키기 위한 롤러구동수단은 제1기어(61)를 구비한다. 제1기어(61)는 연결바(53)를 사이에 두고 롤러(52)의 반대편에 설치된다. 제1기어(61)는 롤러(52)에 동축적으로 결합된다. 각각의 제1기어(61)의 하방에는 제2기어(62)가 배치되며, 제2기어(62)는 제1기어와 치합되어 기어결합된다. 또한, 상호 일정 거리 이격되어 있는 제2기어(62) 사이에는 연결기어(63)가 개재되며, 이 연결기어(63)는 그 양측에 배치된 제2기어(62)와 각각 치합되어 기어결합된다. 상기한 기어들의 결합에 의하여, 제1기어(61), 제2기어(62) 및 연결기어(63) 중 어느 하나가 회전되면, 모든 기어들(61,62,63)이 회전되도록 구성된다.
롤러(52)에 회전력을 제공하기 위한 모터(64)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 챔버(10)의 외측에 배치되어 제1기어(61), 제2기어(62) 및 연결기어(63) 중 어느 하나의 기어에 연결되면 되며, 본 실시예에서는 연결기어(63)에 결합된다. 유의할 점은, 롤러(52)와 연결된 제1기어(61)들은 모두 동일한 방향으로 회전된다는 것이다. 즉, 연결기어(63)가 일방향으로 회전하면, 연결기어(63)의 양측에 기어결합된 제2기어(62)들은 타방향으로 회전되며, 다시 제2기어(62)와 연결된 제1기어(61)들은 모두 일방향으로 회전함으로써, 제1기어(61)에 연결된 롤러(52)들도 모두 일방향으로 회전하게 된다.
한편, 복수의 롤러(52)를 승강시키기 위한 롤러승강수단은 위에서 설명한 고정대(51), 승강바(57) 및 연결대(53)를 포함하여, 실린더(71), 피스톤(72) 및 회전바(75)를 구비한다. 롤러승강수단은 기판(s)이 장착된 카트(90)가 얹어져 있는 롤러(52)를 승강시키기 위한 것이다. 카트프레임(91)과 기판지지대(92)로 이루어진 카트(90)는 복수의 롤러(52) 위에 얹어지는데, 카트(90)를 이송시킬 때에는, 도 3에 도시된 바와 같이, 롤러들(52)이 상승된 위치 즉, 이송위치에서 회전되지만, 기판(s)에 대한 처리가 행해질 때에는 기판(s)을 하강시켜, 도 2에 도시된 바와 같이, 히터(30)의 상면에 지지되게 하여야 하는 바 롤러들(52)이 하강된 위치 즉, 정지위치에 배치되어야 한다.
실린더(71)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 챔버(10)의 외측에 설치되며, 실린더(71)에는 왕복이동되는 피스톤(72)이 결합된다. 피스톤(72)의 단부에는 제1레버(73)가 결합된다. 제1레버(73)는 실린더(71)의 동력을 후술할 회전바(75)에 전달하기 위한 것으로서, 제1레버(73)의 일단부는 상기한 바와 같이 피스톤(72)에 결합되며, 타단부는 후술할 회전바(75)에 결합된다. 이에, 제1레버(73)는 회전바(75)를 회전중심으로 하여 회동된다. 피스톤(72)은 동일한 높이에서 직진왕복이동만 하며 제1레버(73)는 회동되어야 하므로, 본 실시예에서 제1레버(73)의 단부에는 길게 장공(미도시)이 형성되어 피스톤(72)의 단부는 이 장공에 끼워져 장공 내에서 위치이동 가능하게 되어 있다. 다만, 다른 실시예에서는 장공 대신에 상하방향으로 힌지가능한 관절을 피스톤의 단부에 설치하여 제1레버(73)의 회동을 가능하게 할 수 있다.
회전바(75)는 기판(s)의 이송방향과 수직하게 배치되어 챔버(10)의 내측에 배치된다. 회전바(75)는 제1레버(73)에 끼워져 제1레버(73)가 회동될 때 함께 회동된다. 회전바(75)의 일측에는 제2레버(74)가 결합된다. 이 제2레버(74)의 단부는 승강바(57)에 상하방향으로 형성된 장공(76)에 끼워져 장공(76) 내에서 위치이 동 가능하다. 회전바(75)의 회전에 의하여 제2레버(74)가 회전하면, 제2레버(74)는 장공(76)의 내측면을 가압하여 승강바(57)를 제2레버(74)의 회전방향을 따라 이동시킨다. 즉, 피스톤(72)이 일측 또는 타측으로 이동하면, 제1레버(73), 회전바(75) 및 제2레버(794)는 정방향 또는 역방향으로 회전하게 되고, 힌지가능한 연결바(53)에 결합되어 있는 승강바(57)는 일측으로 밀리면서 하강하거나, 타측으로 밀리면서 상승하게 된다. 상승이 완료되면, 도 3에 도시된 바와 같이, 연결바(53)에 결합된 복수의 롤러(52)들은 이송위치에 놓이게 되며, 역으로 하강이 완료되면, 도 2에 도시된 바와 같이 롤러(52)들은 정지위치에 놓이게 된다.
또한, 상기한 바와 같이, 제2레버(74)가 회전을 하면 제2레버(74)의 단부는 장공(76)의 내측면을 가압하면서 장공(76) 내에서 상하로 위치이동되는데, 이 때 마찰을 저하시키기 위하여 제2레버(74)의 단부에는 바퀴부재(미도시)가 설치될 수 있다.
이하, 상기한 구성으로 이루어진 기판처리장치(100)의 작동과 사용상태에 대하여 상세히 설명하기로 한다.
챔버(10)의 유입구(11)에 마련된 게이트밸브(미도시)가 개방되면, 기판(s)이 장착되어 있는 카트(90)가 유입구(11)를 통해 챔버(10)의 내부로 유입된다. 이 때 롤러(52)들은 도 3에 도시된 바와 같이 이송위치에 놓여 있으며, 카트(90)는 롤러(52) 위에 얹어진 상태에서 롤러(52)들의 회전에 의하여 챔버(10)의 중앙부로 유입된다.
롤러(52)를 회전시키기 위하여, 모터(64)를 작동시키면 모터(64)에 연결된 연결기어(63)가 정방향으로 회전하게 되며, 연결기어(63)와 맞물려 있는 제2기어(62)가 역방향으로 회전되고, 제2기어(62)와 맞물려 있는 제1기어(61)는 다시 정방향으로 회전함으로써, 모든 제1기어(61)는 정방향으로 회전한다. 롤러(52)는 제1기어(61)에 결합되어 있으므로, 모두 정방향으로 회전함으로써, 카트(90)를 원하는 방향으로 이송시킬 수 있다.
챔버(10)에서는 실린더(71)를 가동시켜 카트(90)를 하강시킴으로써 카트(90)가 히터(30)의 상면에 안착되게 한다. 물론, 롤러(52)가 하강하지 않고 히터(30)가 상승하여 카트(90)를 지지할 수도 있다. 히터(30) 위에서 기판(s)을 가열하는 가운데, 샤워헤드(미도시)에서는 원료가스 및 반응가스를 기판(s)에 공급하여 기판(s)에 박막을 증착한다. 증착공정이 완료되면 롤러(52)를 다시 상승시킴으로써 기판(s)이 롤러(52)에 얹어진 상태로 히터(30)로부터 분리시킨다. 롤러(52)를 구동시켜 공정이 완료된 기판(s)을 챔버(10)의 외부로 배출시킨다.
이하, 롤러(52)의 승강작용에 대하여 설명한다. 도 2에는 복수의 롤러(52)가 정지위치에 놓여져 있는 상태가 나타나 있다. 도 2의 확대도에서 살펴보면 제1기어(61)가 제2기어(62)의 정점에 놓여져 있지 않고 제2기어(62)와 연결기어(63)의 사이로 내려와 있으며, 연결바(53)도 수직하게 배치된 것이 아니라 일정 각도 회동하여 경사지게 배치되었음을 확인할 수 있다. 실린더(71)의 피스톤(72)은 당겨져 있는 상태이고, 제2레버(74)는 장공(76)의 하부로 내려와 있는 상태이다.
상기한 정지위치 상태에서 실린더(71)를 작동시켜 피스톤(72)을 밀어 내면, 피스톤(72)에 연결된 제1레버(73)가 회동됨에 따라 회전바(75)와 제2레버(74)가 함 께 회전된다. 제2레버(74)는 장공(76)의 내측면을 가압하여 승강바(57)를 제2레버(74)의 회전방향으로 가압하여 승강바(67)를 도 3의 상태와 같이 상승시킨다. 도 3을 살펴보면, 롤러(52)와 연결된 제1기어(61)는 제2기어(62)의 정점에 올라와 있고, 연결바(53)도 고정대(51)에서 힌지되어 수직하게 배치되어 있다. 결국 롤러(52)도 정지위치에서 상승하여 이송위치로 이동하게 된다.
챔버(10)에서 증착공정이 완료된 기판(s)은 유출구(12)를 통해 배출된다. 이 때에도 기판(s)이 유입될 때와 마찬가지로 복수의 롤러(52)들이 모터에 의하여 회전함으로써 기판(s)이 장착된 카트(90)를 배출시키게 된다.
본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 개략적 분리사시도이다.
도 2는 롤러가 이송위치에 배치된 상태를 설명하기 위한 것으로서 도 1에 도시된 기판처리장치의 주요 부분의 확대도이다.
도 3은 롤러가 정지위치에 배치된 상태를 설명하기 위한 것으로서 도 1에 도시된 기판처리장치의 주요 부분의 확대도이다.
도 4는 도 1의 기판처리장치에서 히터가 결합된 상태에서의 도 1의 Ⅳ-Ⅳ선 개략적 단면도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100 ... 기판처리장치 10 ... 챔버
31 ... 히터플레이트 32 ... 샤프트
51 ... 고정대 52 ... 롤러
53 ... 연결바 57 ... 승강바
61 ... 제1기어 62 ... 제2기어
63 ... 연결기어 64 ... 모터
71 ... 실린더 72 ... 피스톤
73 ... 제1레버 74 ... 제2레버
s ... 기판

Claims (8)

  1. 기판이 유입되는 유입구와 유출되는 유출구가 형성되며, 상기 기판에 대한 일정한 처리를 행할 수 있도록 내부가 진공 분위기로 형성되는 챔버;
    상기 기판이 얹어져 이송되는, 상기 유입구로부터 유출구로 향하는 기판의 이송방향을 따라 상호 이격되어 상기 챔버의 내부 양측에 회전가능하게 설치되며, 상기 기판이 얹어져 이송되는 복수의 롤러;
    상기 복수의 롤러를 회전시키기 위한 롤러구동수단; 및
    상기 복수의 롤러가 상승되어 있는 이송위치와 하강되어 있는 정지위치 사이에서 승강가능하게 하는 롤러승강수단;을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 롤러구동수단은,
    상기 챔버 내부의 일측에 배치된 복수의 롤러에 각각 동축적으로 결합된 복수의 제1기어와, 상기 각 제1기어와 치합되며 서로 이격되어 설치되는 복수의 제2기어와, 상호 이격되어 있는 상기 제2기어 사이에 각각 개재되어 상기 제2기어와 치합되는 복수의 연결기어 및 상기 제1기어, 제2기어 및 연결기어 중 어느 하나에 연결되어 회전력을 제공하는 모터를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 롤러승강수단은,
    상기 챔버의 하부 양측에 서로 이격되어 설치되는 복수의 고정대와, 상기 복수의 고정대 상부에 길게 배치되어 승강가능하게 설치되는 승강바와, 일단은 상기 각 고정대와 힌지결합되고 타단은 상기 승강바에 힌지결합되며 상기 롤러가 회전가능하게 결합되어 있는 연결바를 포함하여 이루어지며,
    상기 롤러는 연결바가 일방향으로 회동되어 이송위치에 배치되고, 타방향으로 회동되어 정지위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 롤러승강수단은,
    실린더와, 상기 실린더에 결합되어 왕복이동되는 피스톤과, 상기 기판 이송방향과 교차되는 방향으로 길게 배치되며 상기 피스톤의 왕복이동시 함께 정역회전되도록 상기 피스톤과 연결되며, 상기 피스톤의 회전력을 상기 승강바에 전달하도록 상기 승강바에 연결된 회전바를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 승강바에는 상하방향을 따라 장공이 형성되어 있으며,
    상기 롤러승강수단은, 일단은 상기 피스톤에 힌지결합되며 타단은 상기 회전 바에 결합되어 상기 피스톤의 왕복이동시 함께 정역회전되는 제1레버와, 일단은 상기 승강바의 장공에 끼워져 결합되며 타단은 상기 회전바에 고정되어 있는 제2레버를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제2레버의 일단이 상기 승강바의 장공 내에서 승강될 때 마찰을 감소시키도록, 상기 제2레버의 일단에 회전가능하게 결합되는 바퀴부재를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 인라인 반도체 제조 시스템.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 챔버에는 상기 기판을 가열하기 위한 히터가 승강가능하게 설치되며,
    상기 히터의 상승시 상기 복수의 롤러 위에 얹어진 기판이 상기 히터의 상면에 지지되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 챔버에는 상기 기판의 이송방향에서 전단부와 후단부에 각각 상기 기판의 이송 여부를 감지할 수 있는 한 쌍의 센서가 설치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
KR1020080103804A 2008-10-22 2008-10-22 기판처리장치 KR20100044603A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080103804A KR20100044603A (ko) 2008-10-22 2008-10-22 기판처리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080103804A KR20100044603A (ko) 2008-10-22 2008-10-22 기판처리장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20100044603A true KR20100044603A (ko) 2010-04-30

Family

ID=42219281

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080103804A KR20100044603A (ko) 2008-10-22 2008-10-22 기판처리장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20100044603A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101243743B1 (ko) * 2010-02-18 2013-03-13 주식회사 아바코 기판 이송 장치, 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
KR20140101048A (ko) * 2013-02-07 2014-08-19 주식회사 원익아이피에스 대상물 이송 시스템 및 이를 위한 캐리어 위치 초기화 방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101243743B1 (ko) * 2010-02-18 2013-03-13 주식회사 아바코 기판 이송 장치, 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
KR20140101048A (ko) * 2013-02-07 2014-08-19 주식회사 원익아이피에스 대상물 이송 시스템 및 이를 위한 캐리어 위치 초기화 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20100044606A (ko) 인라인 반도체 제조시스템
US20080213477A1 (en) Inline vacuum processing apparatus and method for processing substrates therein
KR20110006091A (ko) 기판처리 장치 및 방법과, 이를 포함한 인라인 처리 시스템 및 방법
CN102037555A (zh) 下一代网印系统
KR101138250B1 (ko) 솔라 셀 웨이퍼 워킹 빔 장치
US20110312189A1 (en) Substrate treating apparatus and substrate treating method
KR20110068917A (ko) 증착 장치용 컨베이어 조립체
KR101353587B1 (ko) 웨이퍼 이송장치
KR20130024808A (ko) 기판 열처리 장치
KR20110054857A (ko) 기판처리시스템 및 기판처리시스템의 언로드락모듈
KR101048297B1 (ko) 인라인 기판 처리시스템 및 공정챔버
US20140165910A1 (en) Apparatus for large-area atomic layer deposition
KR102616246B1 (ko) 처리액을 공급 및 회수하는 기판 처리 장치
KR20100044603A (ko) 기판처리장치
KR101353033B1 (ko) 박막형 태양전지 제조장치 및 이에 이용되는 버퍼 챔버
CN110093594B (zh) 一种用于大面积pecvd基片传输结构
KR20110133690A (ko) 연속 공정 수행이 가능한 플라즈마 반응장치
KR101979604B1 (ko) 기판 처리 방법
US20240165651A1 (en) Chain-type roller coating apparatus and use thereof
KR101054016B1 (ko) 태양전지 제조용 확산장치의 로더 스테이션
KR102188352B1 (ko) 기판 처리 장치
US20140110225A1 (en) Conveyor assembly with geared, removable rollers for a vapor deposition system
CN110875180A (zh) 基板处理方法及基板处理装置
KR101056486B1 (ko) 라미네이트 장치 및 이를 이용한 라미네이트 방법
KR101483824B1 (ko) 평판표시소자 제조용 화학기상증착 장치

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
WITN Withdrawal due to no request for examination