KR20100042796A - Method for manufacturing display apparatus - Google Patents

Method for manufacturing display apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR20100042796A
KR20100042796A KR1020080101944A KR20080101944A KR20100042796A KR 20100042796 A KR20100042796 A KR 20100042796A KR 1020080101944 A KR1020080101944 A KR 1020080101944A KR 20080101944 A KR20080101944 A KR 20080101944A KR 20100042796 A KR20100042796 A KR 20100042796A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pattern
cmp
chemical mechanical
manufacturing
mechanical polishing
Prior art date
Application number
KR1020080101944A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김혜민
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to KR1020080101944A priority Critical patent/KR20100042796A/en
Publication of KR20100042796A publication Critical patent/KR20100042796A/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133357—Planarisation layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing a display apparatus is provided to reduce a coffee ring effect generated by a pattern by planarizing a surface of the pattern by CMP(chemical mechanical polishing) process. CONSTITUTION: Ink solution is sprayed by using an ink-jet(10). Heat is applied to area which ink solution is sprayed by a heat treatment process. A pattern is formed by evaporation of a dispersion solvent of the ink solution(20). A surface of the pattern is planarized by using CMP(chemical mechanical polishing) process(30). Particles are inhaled by CMP process(40).

Description

디스플레이 장치의 제조 방법{Method for manufacturing display apparatus}Method for manufacturing display apparatus

본 발명은 디스플레이 장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a display device.

OLED, LCD, PDP 등과 같은 디스플레이 장치에 있어 서로의 기술적 장점 격차가 많이 좁혀져 비용 절감이 최고의 관심사가 되고 있다. 상기와 같은 디스플레이 장치 제조 원가를 절감하기 위해서는, 저렴한 재료를 사용하거나 공정비용을 줄이는 방법이 있다. 이를 위해, 디스플레이 장치 제조 비용 절감을 가져오는 신기술을 개발하기 위해 다양한 방법으로 개발을 시도하고 있다.In the display devices such as OLED, LCD, PDP, etc., the gap between the technical advantages of each other is narrowed, and cost reduction is a top concern. In order to reduce the manufacturing cost of the display device as described above, there is a method of using inexpensive materials or reducing the process cost. To this end, it is attempting to develop in various ways to develop a new technology that can reduce the display device manufacturing cost.

잉크젯 프린팅 기술은 디스플레이 제조에서 대면적 제조에 보다 용이할 뿐 아니라 공정수를 획기적으로 줄일 수 있고 재료효율이 90% 가까이 되는 등 기존 공정대비 비용을 크게 줄일 수 있는 장점을 지니고 있다.Inkjet printing technology is not only easier for large-area manufacturing in display manufacturing, but also has the advantage of significantly reducing costs compared to existing processes, such as drastically reducing the number of processes and nearing 90% of material efficiency.

본 발명은 디스플레이 영상의 열화없이 제조 비용을 감소시킬 수 있는 디스플레이 장치의 제조 방법을 제공한다.The present invention provides a method of manufacturing a display device that can reduce the manufacturing cost without deterioration of the display image.

본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법은, 잉크젯을 이용해 잉크 액을 분사한 후, 상기 잉크 액의 분산 용매를 증발시켜 패턴을 형성하는 단계; 및 화학 기계적 연마(CMP, Chemical Mechanical Polish) 공정을 이용하여, 상기 패턴의 표면을 평탄화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a display apparatus, comprising: spraying an ink liquid using an ink jet, and then evaporating a dispersion solvent of the ink liquid to form a pattern; And planarizing the surface of the pattern by using a chemical mechanical polishing (CMP) process.

본 발명에 따르면, 잉크 젯 프린팅 방식에 의해 형성된 패턴의 표면을 화학 기계적 연마 공정에 의해 평탄화함으로써, 패턴에서 발생하는 커피 링 현상(coffee ring effect)를 감소시킬 수 있으며, 그로 인해 표면이 얼룩진 형태를 가지게 됨에 따른 디스플레이 영상의 열화를 개선할 수 있다.According to the present invention, by flattening the surface of the pattern formed by the ink jet printing method by a chemical mechanical polishing process, it is possible to reduce the coffee ring effect occurring in the pattern, thereby resulting in a stained surface It is possible to improve the deterioration of the display image as it has.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법에 관하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법을 흐름도로 도시한 것으로, 도 1에 도시된 패턴 형성 방법은 OLED, LCD, PDP 등과 같은 다양한 디스플레이 장치에 전극이나 특정 기능 층 등의 패턴을 형성하기 위해 이용될 수 있다.1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a display device according to the present invention. The pattern forming method illustrated in FIG. 1 is used to form a pattern such as an electrode or a specific functional layer on various display devices such as an OLED, an LCD, and a PDP. Can be used for

먼저, 잉크젯(ink-jet)을 이용하여 잉크액을 분사한다(10 단계). 상기 잉크액은 상기 패턴의 기능을 수행하기 위한 물질, 예를 들어 형성하고자 하는 패턴이 전극인 경우 전극재인 은(Ag)과 바인더, 솔벤트 및 분산 용매 등을 포함할 수 있다.First, the ink liquid is injected using an ink-jet (step 10). The ink solution may include a material for performing the function of the pattern, for example, silver (Ag) as an electrode material, a binder, a solvent, a dispersion solvent, and the like when the pattern to be formed is an electrode.

상기 잉크액이 분사된 영역에 열처리 공정을 통해 열을 가하여 상기 잉크액 의 분산 용매 등을 증발시켜 상기 기능 물질, 예를 들어 형성하고자 하는 패턴이 전극인 경우 전극재인 은(Ag)을 남겨 패턴을 형성한다(20 단계).Heat is applied to the area where the ink liquid is injected through heat treatment to evaporate the dispersion solvent of the ink liquid to form the functional material, for example, when the pattern is an electrode, leaving silver (Ag) as an electrode material to form a pattern. Form (step 20).

그 후, 화학 기계적 연마(CMP, Chemical Mechanical Polish) 공정을 이용하여 상기 패턴의 표면을 평탄화한다(30 단계).Thereafter, the surface of the pattern is planarized by using a chemical mechanical polish (CMP) process (step 30).

흡입 장치를 이용하여 상기 화학 기계적 연마(CMP) 공정에 의해 발생한 입자들을 흡입한다.A suction device is used to suck particles generated by the chemical mechanical polishing (CMP) process.

상기와 같은 잉크젯 프린팅 방식을 이용한 패턴 형성, 화학 기계적 연마(CMP) 공정을 이용한 패턴 표면의 평탄화 및 흡입 공정은 디스플레이 장치에 잉크젯 프린팅 방식으로 형성 가능한 모든 패턴들에 적용 가능하다.The pattern formation using the inkjet printing method, the planarization of the surface of the pattern using the chemical mechanical polishing (CMP) process, and the suction process may be applied to all patterns that can be formed by the inkjet printing method on the display device.

이하에서는 도 2 내지 도 8을 참조하여, 본 발명에 따른 일실시예로서 액정 표시 장치(LCD, Lyquid Crystal Display)의 제조 방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display (LCD) as an embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 8.

도 2는 액정 표시 장치의 구조에 대한 일실시예를 단면도로 도시한 것이다.2 is a cross-sectional view of an embodiment of a structure of a liquid crystal display.

액정표시장치는 서로 대향하여 합착된 박막 트랜지스터 어레이 기판 및 컬러 필터 기판과, 두 기판 사이에서 셀갭을 일정하게 유지시키기 위한 스페이서와, 그 셀갭에 채워진 액정을 구비한다.The liquid crystal display includes a thin film transistor array substrate and a color filter substrate bonded to each other, a spacer for maintaining a constant cell gap between the two substrates, and a liquid crystal filled in the cell gap.

상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은 기판(125) 위에 게이트 절연막을 사이에 두고 교차하게 형성된 게이트 라인 및 데이터 라인과, 그 교차부마다 형성된 박막 트랜지스터와, 그 교차 구조로 마련된 화소 영역에 형성된 화소 전극과, 게이트 라인과 화소 전극의 중첩부에 형성된 스토리지 캐패시터를 구비한다. 게이트 신호를 공급하는 게이트 라인과 데이터 신호를 공급하는 데이터 라인은 교차 구조로 형 성되어 화소 영역을 정의한다.The thin film transistor array substrate may include a gate line and a data line intersecting a gate insulating layer on the substrate 125, a thin film transistor formed at each intersection thereof, a pixel electrode formed in a pixel region having a cross structure, and a gate. A storage capacitor formed at an overlapping portion of the line and the pixel electrode is provided. The gate line for supplying the gate signal and the data line for supplying the data signal are formed in an intersecting structure to define the pixel area.

상기 박막 트랜지스터는 게이트 라인의 게이트 신호에 응답하여 데이터 라인의 화소 신호가 화소 전극(114)에 충전되어 유지되게 한다. 이를 위하여, 박막 트랜지스터는 도 4에 도시된 바와 같이, 게이트 라인에 접속된 게이트 전극(108), 데이터 라인(104)에 접속된 소스 전극(110), 화소 전극(114)에 접속된 드레인 전극(112)을 구비한다.The thin film transistor keeps the pixel signal of the data line charged and held in response to the gate signal of the gate line. For this purpose, as shown in FIG. 4, the thin film transistor includes a gate electrode 108 connected to a gate line, a source electrode 110 connected to a data line 104, and a drain electrode connected to a pixel electrode 114. 112).

또한, 박막 트랜지스터는 게이트 전극(108)과 게이트 절연막(127)을 사이에 두고 중첩되면서 소스 전극(110)과 드레인 전극(112) 사이에 채널(111)을 형성하는 활성층(121)을 더 구비한다. 이러한 활성층(121) 위에는 데이터 라인(104), 소스 전극(110), 드레인 전극(112)과 오믹 접촉을 위한 오믹 접촉층(123)이 더 형성된다.In addition, the thin film transistor further includes an active layer 121 that overlaps with the gate electrode 108 and the gate insulating layer 127 therebetween to form a channel 111 between the source electrode 110 and the drain electrode 112. . An ohmic contact layer 123 for ohmic contact with the data line 104, the source electrode 110, and the drain electrode 112 is further formed on the active layer 121.

화소 전극(114)은 보호막(129)을 관통하는 접촉홀(113)을 통해 박막 트랜지스터의 드레인 전극(112)과 접속된다. 이에 따라, 박막 트랜지스터를 통해 화소 신호가 공급된 화소 전극(114)과 기준 전압이 공급된 공통 전극(미도시) 사이에는 전계가 형성된다. 이러한 전계에 의해 박막 트랜지스터 어레이 기판과 칼라 필터 어레이 기판 사이의 액정 분자들이 유전 이방성에 의해 회전하게 된다. 그리고, 액정 분자들의 회전 정도에 따라 화소영역을 투과하는 광 투과율이 달라지게 됨으로써 계조를 구현하게 된다.The pixel electrode 114 is connected to the drain electrode 112 of the thin film transistor through the contact hole 113 passing through the passivation layer 129. Accordingly, an electric field is formed between the pixel electrode 114 supplied with the pixel signal through the thin film transistor and the common electrode (not shown) supplied with the reference voltage. This electric field causes the liquid crystal molecules between the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate to rotate by dielectric anisotropy. In addition, the light transmittance passing through the pixel region is changed according to the degree of rotation of the liquid crystal molecules, thereby achieving gray scale.

도 3 내지 도 8은 본 발명에 따른 제조 방법에 따라 도 2에 도시된 액정 표시 장치를 제조하는 방법에 대한 일실시예를 단계적으로 설명하기 위한 단면도들로 서, 본 발명의 일실시예로 활성층(121)을 잉크젯 프린팅 방식으로 형성하는 것을 예로 든 것이다.3 to 8 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the liquid crystal display shown in FIG. 2 step by step according to the manufacturing method according to the present invention, the active layer as an embodiment of the present invention An example of forming the 121 by an inkjet printing method is given.

우선, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 마스크를 이용한 공정을 통해, 하부 기판(125) 상에 게이트 전극(108)이 형성된다. 도 4에 도시된 바와 같이, 게이트 전극(108) 위로 게이트 절연막(127)이 도포된다. 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 게이트 절연막(127)은, 상기 활성층(121)이 형성되는 공간이 볼록하게 돌출되어 있는 몰드(200)에 의해 눌려지게 된다. 상기 몰드(200)는 탄성이 큰 고무재료 예컨대, 폴리디메틸실록세인(Polydimethylsiloxane, PDMS), 폴리우레탄(Polyurethane), 크로스 링크드 노볼락 수지(Cross-linked Novolac resin) 등으로 제작될 수 있다.First, as shown in FIG. 3, the gate electrode 108 is formed on the lower substrate 125 through a process using a first mask. As shown in FIG. 4, a gate insulating layer 127 is applied over the gate electrode 108. As illustrated in FIG. 5, the gate insulating layer 127 is pressed by the mold 200 in which the space in which the active layer 121 is formed protrudes convexly. The mold 200 may be made of a highly elastic rubber material such as polydimethylsiloxane (PDMS), polyurethane, cross-linked Novolac resin, or the like.

도 6에 도시된 바와 같이, 상기 몰드(200)에 의해 움푹 파여진 형상으로 패터닝된 공간으로는 잉크 젯(300)을 이용해 분산용매(131)와 활성층 물질(132)이 섞여있는 용액(130)을 주입한다. 상기 활성층 물질(132)로는 Si, znO, InSe, CdS, CdSe 등이 이용될 수 있으며, 분산 용매로(131)는 알코올, 글리세롤, 물, NMP, Toluene 등의 비극성용매가 이용될 수 있다.As shown in FIG. 6, a solution 130 in which the dispersion solvent 131 and the active layer material 132 are mixed using the ink jet 300 is formed as a space patterned by the mold 200. Inject Si, znO, InSe, CdS, CdSe, etc. may be used as the active layer material 132, and a nonpolar solvent such as alcohol, glycerol, water, NMP, or toluene may be used as the dispersion solvent.

도 7에 도시된 바와 같이, 분산용매(131)와 섞여있는 활성층 물질(132)이 주입된 상기 하부기판(125) 은 열처리 장치를 통해 가열되어 지며, 가열에 의해 상기 분산용매(131)는 기화하고 상기 활성층 물질(132)만이 남게 된다.As shown in FIG. 7, the lower substrate 125 into which the active layer material 132 mixed with the dispersion solvent 131 is injected is heated through a heat treatment apparatus, and the dispersion solvent 131 is vaporized by heating. And only the active layer material 132 remains.

도 8에 도시된 바와 같이, 상기 활성층 물질(132)들은 상호 인력에 의해 응집되어 활성층(121)을 형성한다. 즉, 활성층(121)을 잉크젯 프린팅 방식에 의해 형성함에 따라, 박막 증착 공정, 세정 공정, 포토리쏘그래피 공정, 식각 공정, 포토 레지스트 박리 공정, 검사 공정 등과 같은 많은 공정이 생략될 수 있다. 또한, 나노 사이즈의 활성층 물질을 분산용매에 분산시켜 활성층(121)을 형성함으로써, 활성층(121) 전체의 표면적이 넓어져 전자이동도가 증가하게 된다는 특징이 있다.As shown in FIG. 8, the active layer materials 132 aggregate by mutual attraction to form the active layer 121. That is, as the active layer 121 is formed by the inkjet printing method, many processes such as a thin film deposition process, a cleaning process, a photolithography process, an etching process, a photoresist stripping process, an inspection process, and the like may be omitted. In addition, since the active layer 121 is formed by dispersing a nano-sized active layer material in a dispersion solvent, the surface area of the entire active layer 121 is increased to increase electron mobility.

도 3 내지 도 8에서는, 액정 표시 장치의 활성층(121)을 잉크젯 프린팅 방식으로 형성하는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이는 본 발명에 따른 일실시예에 불과하므로 도 2에 도시된 액정 표시 장치의 다른 층들, 예를 들어 전극들, 오믹 접촉층, 보호막 또는 도시되지 않은 배향막, 스페이서 등의 형성을 위해 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법이 적용될 수 있다. 또한, 상기 액정 표시 장치뿐 아니라 PDP, OLED 등과 같은 다른 디스플레이 장치의 패턴 형성에 적용될 수도 있다. 3 to 8 illustrate an example in which the active layer 121 of the liquid crystal display is formed by an inkjet printing method. However, since the active layer 121 of the liquid crystal display is only an embodiment, the other layers of the liquid crystal display shown in FIG. For example, a method of manufacturing a display device according to the present invention may be applied to form electrodes, an ohmic contact layer, a protective film or an alignment film (not shown), a spacer, and the like. In addition, the present invention may be applied to pattern formation of not only the liquid crystal display but also other display devices such as PDP and OLED.

도 9a 및 도 9b는 잉크 젯 방식에 의해 형성된 패턴의 형상에 대한 실시예들을 도시한 것이다.9A and 9B illustrate embodiments of a shape of a pattern formed by an ink jet method.

도 9a 및 도 9b에 도시된 바와 같이, 잉크젯 프린팅 방식에 의해 형성된 패턴의 경우, 잉크액 분사후 열처리시 분사된 잉크액의 가장 자리 부분에서 증발이 더욱 빨리 일어나 잉크액이 바깥 쪽으로 이동하거나 그 반대의 경우에 패턴의 표면이 평탄하지 않은 커피 링 현상(coffee ring effect)가 발생할 수 있다.As shown in Figs. 9A and 9B, in the case of the pattern formed by the inkjet printing method, evaporation occurs more quickly at the edge of the ejected ink liquid during the heat treatment after the ink liquid ejection so that the ink liquid moves outward or vice versa. In this case, a coffee ring effect may occur in which the surface of the pattern is uneven.

도시된 바와 같이 형성된 패턴에서 커피 링 현상이 발생하면, 스캔 얼룩(scan mura)가 일어나 표면이 얼룩진 형태를 띄게되어 디스플레이를 구현할 경우 디스플레이되는 영상의 화질이 열화될 수 있다.When the coffee ring phenomenon occurs in the pattern formed as shown, scan mura occurs and the surface is smeared, and when the display is implemented, the image quality of the displayed image may be deteriorated.

따라서 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법은 잉크젯 프린팅 방식 에 의해 형성된 패턴의 표면을 화학 기계적 연마(CMP) 공정을 이용하여 평탄화하는 것이 바람직하다.Therefore, in the method of manufacturing the display device according to the present invention, it is preferable to planarize the surface of the pattern formed by the inkjet printing method using a chemical mechanical polishing (CMP) process.

도 10은 잉크젯 방식에 의해 형성된 패턴의 표면을 평탄화하는 화학 기계적 연마(CMP) 장치의 구성에 대한 일실시예를 사시도로 도시한 것이다.FIG. 10 is a perspective view showing an embodiment of the configuration of a chemical mechanical polishing (CMP) apparatus for planarizing the surface of a pattern formed by the inkjet method.

화학 기계적 연마(CMP)란 단차를 가진 웨이퍼 표면을 폴리싱 패드 위에 밀착시킨 후 연마제와 화학물질이 포함된 슬러리(Slurry)를 웨이퍼와 폴리싱 패드 사이에 주입시켜 웨이퍼의 표면을 평탄화시키는 방식이다.Chemical mechanical polishing (CMP) is a method in which a wafer surface having a step is brought into close contact with a polishing pad, and then a slurry containing an abrasive and a chemical is injected between the wafer and the polishing pad to planarize the surface of the wafer.

도 10에 도시된 바와 같이, 화학 기계적 연마(CMP)는 폴리싱헤드(Polishing Head)(200)가 웨이퍼(Wafer)(210)를 픽업한 상태에서 물리적/기계적인 힘을 가하여 폴리싱을 행하게 된다. 동시에, 화학적 연마를 위해 별도의 슬러리 공급장치(미도시)를 통해 슬러리를 공급받게 되며, 펌프 등의 구동수단에 의해 공급된 슬러리는 슬러리노즐(220)을 통하여 상기 웨이퍼(210)와 폴리싱헤드(200) 사이로 주입되어 웨이퍼(210)의 표면을 평탄화시키게 된다As shown in FIG. 10, chemical mechanical polishing (CMP) is performed by applying a physical / mechanical force while the polishing head 200 picks up the wafer 210. At the same time, the slurry is supplied through a separate slurry supply device (not shown) for chemical polishing, and the slurry supplied by a driving means such as a pump is supplied to the wafer 210 and the polishing head through the slurry nozzle 220. It is injected between the 200 to planarize the surface of the wafer 210

상기한 바와 같이, 화학 기계적 연마(CMP) 공정을 이용하여 형성된 패턴의 표면을 평탄화함에 의해, 표면 처리를 위해 사용된 용매의 회수, 정제, 재상용을 위한 별도의 공정 또는 설비가 불필요하다.As mentioned above, by planarizing the surface of a pattern formed using a chemical mechanical polishing (CMP) process, no separate process or equipment is required for the recovery, purification and recycling of the solvent used for the surface treatment.

다만, 화학 기계적 연마(CMP) 공정에 의해 작은 입자들이 발생할 수 있으며, 이는 디스플레이 장치의 오동작을 일으킬 수 있다. 따라서 상기 발생한 입자들을 흡입하는 과정이 추가될 수 있다. 상기와 같은 흡입 과정에 의해, 별도의 세정 공정이 불필요하며, 세정 공정에서 발생할 수 있는 기판 및 물질의 솔벤트 데미 지(solvent damage) 또는 수분 투과 현상을 방지할 수 있다.However, small particles may be generated by a chemical mechanical polishing (CMP) process, which may cause a malfunction of the display device. Therefore, the process of inhaling the generated particles can be added. By the suction process as described above, a separate cleaning process is unnecessary, and solvent damage or moisture permeation of the substrate and the material that may occur in the cleaning process may be prevented.

도 11은 화학 기계적 연마(CMP)에 의해 발생한 입자들을 흡입하는 장치의 구성에 대한 일실시예를 도시한 것이다.FIG. 11 shows one embodiment of the configuration of a device for sucking particles generated by chemical mechanical polishing (CMP).

도 11에 도시된 바와 같이, 흡입 장치(300)가 기판(320) 상에 잉크젯 프린팅 방식으로 패턴(310)이 형성된 후 화학 기계적 연마(CMP) 공정에 따른 평탄화 작업에 의해 발생하는 입자들(300)을 흡입할 수 있다.As illustrated in FIG. 11, the particles 300 generated by the planarization operation according to the chemical mechanical polishing (CMP) process after the suction device 300 is formed with the pattern 310 on the substrate 320 by inkjet printing. ) Can be inhaled.

또한, 이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안될 것이다.In addition, although the preferred embodiment of the present invention has been shown and described above, the present invention is not limited to the specific embodiments described above, but the technical field to which the invention belongs without departing from the spirit of the invention claimed in the claims. Of course, various modifications can be made by those skilled in the art, and these modifications should not be individually understood from the technical spirit or the prospect of the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법을 나타내는 흐름도이다.1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a display device according to the present invention.

도 2는 액정 표시 장치의 구조에 대한 일실시예를 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of a structure of a liquid crystal display.

도 3 내지 도 8은 본 발명에 따른 제조 방법에 따라 도 2에 도시된 액정 표시 장치를 제조하는 방법에 대한 일실시예를 나타내는 단면도들이다.3 to 8 are cross-sectional views illustrating an example of a method of manufacturing the liquid crystal display shown in FIG. 2 according to the manufacturing method according to the present invention.

도 9a 및 도 9b는 잉크 젯 방식에 의해 형성된 패턴의 형상에 대한 실시예들을 나타내는 도면들이다.9A and 9B are diagrams illustrating embodiments of shapes of patterns formed by an ink jet method.

도 10은 잉크젯 방식에 의해 형성된 패턴의 표면을 평탄화하는 화학 기계적 연마(CMP) 장치의 구성에 대한 일실시예를 나타내는 사시도이다.FIG. 10 is a perspective view showing an embodiment of a configuration of a chemical mechanical polishing (CMP) apparatus for planarizing the surface of a pattern formed by an inkjet method. FIG.

도 11은 화학 기계적 연마(CMP)에 의해 발생한 입자들을 흡입하는 장치의 구성에 대한 일실시예를 나타내는 도면이다.FIG. 11 is a diagram showing an embodiment of the configuration of an apparatus for sucking up particles generated by chemical mechanical polishing (CMP).

Claims (3)

디스플레이 장치의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the display device, 잉크젯을 이용해 잉크 액을 분사한 후, 상기 잉크 액의 분산 용매를 증발시켜 패턴을 형성하는 단계; 및Spraying the ink liquid using an inkjet, and then evaporating a dispersion solvent of the ink liquid to form a pattern; And 화학 기계적 연마(CMP, Chemical Mechanical Polish) 공정을 이용하여, 상기 패턴의 표면을 평탄화하는 단계를 포함하는 디스플레이 장치 제조 방법.And planarizing the surface of the pattern using a chemical mechanical polishing (CMP) process. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 화학 기계적 연마에 의해 발생한 입자들을 흡입하는 단계를 더 포함하는 디스플레이 장치의 제조 방법.And sucking the particles generated by the chemical mechanical polishing. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 패턴은 액정 표시 장치의 전극, 배향막, 활성층 및 스페이서 중 적어도 어느 하나인 디스플레이 장치의 제조 방법.And the pattern is at least one of an electrode, an alignment layer, an active layer, and a spacer of the liquid crystal display device.
KR1020080101944A 2008-10-17 2008-10-17 Method for manufacturing display apparatus KR20100042796A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080101944A KR20100042796A (en) 2008-10-17 2008-10-17 Method for manufacturing display apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080101944A KR20100042796A (en) 2008-10-17 2008-10-17 Method for manufacturing display apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20100042796A true KR20100042796A (en) 2010-04-27

Family

ID=42218051

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080101944A KR20100042796A (en) 2008-10-17 2008-10-17 Method for manufacturing display apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20100042796A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108001062A (en) * 2017-12-05 2018-05-08 华南理工大学 It is a kind of to repair the excessive method of large area high uniformity inkjet printing film surface fluctuating

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108001062A (en) * 2017-12-05 2018-05-08 华南理工大学 It is a kind of to repair the excessive method of large area high uniformity inkjet printing film surface fluctuating

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1876243B (en) Chemical solution application apparatus and chemical solution application method
US7522253B2 (en) Method of forming a liquid crystal layer using an ink jet system
US7219976B2 (en) Wiping device, droplet discharge device, electro-optical device, method for manufacturing an electro-optical device, and electronic equipment
TWI266101B (en) Film forming method, film forming device, liquid crystal arrangement method, liquid crystal arrangement device, liquid crystal device, liquid crystal device production method and electronic equipment
US7202931B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same comprising a plurality of seal patterns between a plurality of supporting patterns and a plurality of compensating patterns disposed below and aligned with the plurality of supporting patterns
CN104834118B (en) Method and apparatus for manufacturing liquid crystal display device
KR20110122321A (en) Apparatus and method of fabricating thin film pattern
KR101039450B1 (en) Liquid Crystal Display Panel And Fabricating Method And Apparatus Thereof
KR20100042796A (en) Method for manufacturing display apparatus
KR100922797B1 (en) Apparatus and method for forming pattern
TWI316875B (en) Functional droplet coating apparatus,display,and electronic device
JP4111195B2 (en) Device, manufacturing method thereof, electro-optical device, manufacturing method thereof, and electronic apparatus
US7448396B2 (en) Apparatus and method of removing particles
KR101308449B1 (en) alignment layer printing equipment and method for forming alignment layer by using the said
KR101366983B1 (en) Method for fabricating a liquid crystal display
KR20070070512A (en) Color filter printing device of liquid crystal display and method for forming color filter
JP2005316276A (en) Manufacturing method and apparatus of liquid crystal display device, liquid crystal display device and electronic device
KR100962499B1 (en) Liquid crystal display panel and fabrication apparatus and method thereof
JP2008093739A (en) Substrate polishing device and substrate polishing method using the same
JP4755132B2 (en) Liquid crystal display element, manufacturing apparatus and manufacturing method thereof
KR20060000120A (en) Apparatus and method for cleaning nozzle
KR101184063B1 (en) Apparatus For Fabricating Liquid Crystal Display Panel
KR100789451B1 (en) Apparatus for cleaning substrate and method thereof
KR101366987B1 (en) Method for manufacturing color filter substrate
KR101800158B1 (en) Roll Printing Apparatus and Method for forming pattern on substrate and Method for manufacturing Liquid Crystal Display Device using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application