KR20100027477A - 광도파로 마스터 및 그를 이용한 광도파로 제작 방법 - Google Patents

광도파로 마스터 및 그를 이용한 광도파로 제작 방법 Download PDF

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KR20100027477A
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이우진
황성환
임정운
노병섭
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한국광기술원
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Abstract

본 발명은 정밀 기계가공을 통해 광도파로 마스터 또는 광 경로를 변경시킬 수 있는 45°미러면이 일체형으로 구성되는 광도파로를 제작하기 위한 광도파로 마스터 및 그를 이용한 광도파로 제작 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면 기판에 패턴 제작용 툴을 이용하여 표면을 긁어내는 방식의 정밀 기계가공을 사용함으로써, 기존 광도파로 제작에 비하여 공정이 용이하며, 광도파로 제작과정에서 미러면을 일체형으로 제작함으로써 광 연결용 광도파로의 대량 생산이 가능하도록 할 수 있다.
광도파로, 광도파로 마스터, 정밀 기계가공, 미러 일체형 패턴

Description

광도파로 마스터 및 그를 이용한 광도파로 제작 방법{waveguide master and waveguide manufacture method using it}
본 발명은 정밀 기계 가공을 통해 패턴을 가공하고, 광전소자와 광도파로 또는 광도파로와 광도파로 사이에 광경로를 변경하기 위하여 광도파로의 양 끝단의 미러면을 일체형으로 제작할 수 있는 광도파로 마스터 및 그를 이용한 광도파로 제작 방법에 관한 것이다.
현재, 대용량의 광통신 및 정보기록과 정보처리의 고속화가 이루어지면서 정보 전송의 고속화 및 배선의 고밀도화가 지속적으로 요구되며, 집적 회로 기술이 점차적으로 진보함에 따라 마이크로 프로세서의 고성능화 및 메모리 칩의 대용량화가 빠른 속도로 현실화되고 있다.
그러나, 정보처리의 초고속화가 이루어지고 있음에도 전기배선을 이용한 칩 간 또는 보드 간 신호 전달은 정보 전달의 초고속화 및 배선의 고밀도화의 한계를 나타내며 이로 인해 전체적인 정보처리 시스템의 성능을 제한한다.
이에, 전기 배선에 의한 신호 전달의 한계를 극복하기 위하여 광신호를 이용한 신호 전달 방법이 많이 연구되고 있으며, 칩 간 또는 보드 간 등의 비교적 짧은 거리의 신호 전달을 위해 광전소자와 광도파로를 이용한 광 연결 및 광 회로에 대한 연구가 지속적으로 이루어지고 있다.
특히, 현재 광도파로의 연결을 위해 광도파로 끝단을 45도 각도로 연마하여 미러를 형성하여 광경로를 변경하는 방법이 널리 사용되고 있는데, 광도파로를 형성하기 위해 마스터를 제조하는 공정이 복잡하며, 광도파로 마스터에 45도 경사면을 형성하는 공정이 추가되어야 한다. 이에 따라, 광도파로의 전체적인 길이 조절이 어렵고, 연마 작업 공정의 재연성이 떨어지는 문제점이 발생하게 된다.
또한, 연마된 경사면에 거울을 삽입하기 어려우며, 삽입하더라도 진동이나 외부 환경에 의해 신뢰성 있는 광전송이 어렵게 된다.
국내 등록특허(10-0813919)를 참조하면, 상기의 문제점을 해결하기 위하여 광연결블럭을 제조하여 인쇄회로기판과 광 송수신 칩 사이에 넣어 광PCB 사이의 연결을 쉽게 한다.
하지만, 광 연결 블록은 광도파로의 크기 및 종류에 따라 다양하게 제작해야 하며 하나의 광도파로 상에 다수개의 광 연결 블록을 삽입함에 따라 삽입하는 홈의 위치를 정확하게 파악해야 하기 때문에, 광 연결 블록의 제작을 위한 공정 및 비용적 손실이 발생하는 문제가 있다.
본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 미러면 일체형 광 연결용 광도파로를 제작하여 공정 수를 감소시키고, 대량 생산이 가능하게 하는 미러 일체형 광도파로 마스터 및 그를 이용한 광도파로 제작 방법을 제공하는 데에 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 광도파로 마스터 및 그를 이용한 광도파로 제작 방법은 가공된 툴을 사용하여 연마된 마스터 본체 표면을 긁어내는 방식의 정밀 기계가공을 통해 미러면을 포함하는 패턴이 형성된 미러 일체형 광도파로 마스터를 제작하는 방법으로서 적은 공정으로 정밀한 광 연결용 광도파로를 대량 생산할 수 있다.
본 발명은 광도파로 제작 방법에 관한 것으로 일측면에 미러 일체형 패턴이 형성된 광도파로 마스터를 제작하는 단계를 포함하고, 상기 광도파로 마스터의 미러 일체형 패턴을 제 1클래드 필름에 전사하는 단계를 포함하며, 상기 제 1클래드 필름에 전사된 미러 일체형 패턴의 경사면에 미러를 코팅하는 단계를 포함한다. 그리고, 코어 용액을 상기 제 1클래드 필름에 전사된 패턴에 주입하는 단계를 포함하며, 상기 코어 용액이 주입된 제 1클래드 필름의 상부에 클래드 필름을 적층하고 경화하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은 일측면에 미러 일체형 패턴이 형성된 광도파로 마스터를 제작하는 단계를 포함하고, 상기 광도파로 마스터의 미러 일체형 패턴을 투명 몰드에 전사하고, 전사된 상기 투명 몰드에 코어 용액을 주입하는 단계를 포함하고, 상기 코어 용액이 주입된 상기 투명 몰드에 제 1클래드 필름을 부착하여 경화한 후, 상기 투명 몰드를 분리하는 단계를 포함한다. 그리고, 상기 경화된 코어 용액의 경사면에 미러를 코팅하는 단계를 포함하며, 상기 미러 코팅 후 상기 경화된 코어 용액 및 제 1클래드 필름에 클래드 용액을 코팅하고 경화하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.
그리고, 본 발명은 미러 일체형 광도파로 마스터 제작 방법에 관한 것으로 기판의 일측면을 연마하여 마스터 본체를 구성하는 단계를 포함하고, 가공용 팁이 장착된 패턴 제작용 툴을 제작하는 단계를 포함하며, 상기 마스터 본체의 일측면에 제작용 툴을 사용하여 미러 일체형 패턴을 제작하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 상기 기판은 금속계, 유리계 또는 고분자계 재질로 이루어진 것이 바람직하다.
발명에서 상기 마스터 본체는 스타박스(stravax) 기판에 니켈을 전기 도금한 것인 것이 바람직하다.
본 발명에서 상기 가공용 팁은 단결정 다이아몬드인 것이 바람직하다.
본 발명에서 상기 미러 일체형 패턴을 제작하는 단계는 양각 패턴, 음각 패 턴, 직선 패턴 및 곡선 패턴 중 선택되는 하나 이상의 패턴으로 형성하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 상기 미러 일체형 패턴은 상기 패턴 제작용 툴의 각도를 조절하여 상기 패턴의 일단에 경사면을 형성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 상기 경사면의 각도는 45°인 것이 바람직하다.
본 발명에서 상기 미러는 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 백금(Ti) 및 구리(Cu) 중 선택되는 적어도 하나 이상의 금속으로 이루어진 것이 바람직하다.
그리고, 본 발명은 미러 일체형 광도파로 마스터에 관한 것으로 일측면에 코어 삽입용 패턴이 형성되고, 상기 패턴의 양 끝단에 경사면을 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 광도파로 마스터 제작방법은 기판의 일측면을 연마하여 마스터 본체를 구성하는 단계를 포함하고, 가공용 팁이 장착된 패턴 제작용 툴을 제작하는 단계를 포함하며, 상기 마스터 본체의 일측면에 상기 패턴 제작용 툴을 사용하여 양각 또는 음각, 직선 또는 곡선의 패턴을 제작하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 상기 광도파로 마스터 제작방법에 의해 광도파로 마스터를 제작하는 단계를 포함하고, 상기 광도파로 마스터의 패턴을 제 제 1클래드 필름에 전사하는 단계를 포함한다. 그리고, 상기 제 1클래드 필름에 전사된 패턴에 코어 용액을 주입하는 단계를 포함하며, 상기 코어 용액이 주입된 제 1클래드 필름의 상부에 제 2클래드 필름을 적층하고 경화하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 상기 광도파로 마스터 제작방법에 의해 광도파로 마스터를 제작하는 단계를 포함하고, 상기 광도파로 마스터의 패턴을 투명 몰드에 전사하고, 전사된 상기 투명 몰드에 코어 용액을 주입하여 경화하는 단계를 포함한다. 그리고, 상기 경화된 코어 용액을 분리하여 제 1클래드 필름에 부착하는 단계를 포함하며, 경화된 상기 코어 용액 및 제 1클래드 필름에 클래드 용액을 코팅하고 경화하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명은 가공용 팁을 사용하여 사용자가 원하는 크기 및 형태의 광도파로 마스터를 정밀 기계 가공함으로써 적은 공정으로 용이하게 광도파로를 제작할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 광 도파로 마스터에 경사면을 형성하여 미러 일체형 광도파로 마스터를 제작할 수 있으며, 이를 사용하여 광 연결형 광도파로를 형성함에 따라 단순 공정으로 미러 일체형 광도파로를 대량 생산할 수 있는 효과가 있다.
그리고, 본 발명의 미러 일체형 광도파로는 기존 미러 제작 벙법의 단점인 재연성, 길이조절 등의 문제를 해결하며, 미러면이 광도파로 내부에 포함되기 때문에 광 PCB, 광 SOP(System On Package) 및 다층 광회로 기술 등 다양하게 응용하여 사용할 수 있다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1a 내지 도 1c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 광도파로 마스터 제조공정을 포함하는 패턴을 나타낸 도면이다.
도 1a를 참조하면, 기판(110)의 표면을 가공용 팁(122)이 부착되는 패턴 제작용 툴(120)을 사용해서 긁어내는 방식의 정밀 기계가공을 사용하여 광도파로 마스터를 제작하는 방법으로 코어 패턴의 형태도 직선 또는 곡선으로 표현할 수 있다.(도 1b 및 도 1c 참조)
기판(110), 가공용 팁(122) 및 패턴 제작용 툴(120)의 자세한 내용은 하기의 도 2a를 참조할 수 있다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 미러 일체형 광도파로 마스터 제조공정 및 경사면을 포함하는 패턴을 나타낸 도면이다.
도 2a를 참조하면, 기판(110)과 가공용 팁(122)이 부착되는 패턴 제작용 툴(120)을 사용하여 미러 일체형 광도파로 마스터(102)를 제작할 수 있다.
기판(110)은 금속계 재질, 유리계 재질 또는 고분자계 재질 등과 같이 가공성과 내구성이 좋은 재료를 사용할 수 있으며, 더욱 바람직하게 물리적 내구성이 좋은 스타박스(starvax) 기판을 사용할 수 있다.
그리고, 기판(110)에 니켈을 전기 도금하여 마스터 본체를 제작할 수 있으며, 상기 마스터 본체는 높은 평탄도와 낮은 표면 거칠기를 갖도록 경면 연마를 할 수 있다.
패턴 제작용 툴(120)은 상기 마스터 본체의 일측면에 광도파로의 코어 부분이 형성되는 패턴을 제작할 수 있으며, 패턴 제작용 툴(120)의 기울기(각도)에 의해 패턴 끝단이 일정한 기울기를 갖는 경사면(114)을 가공하여 미러 일체형 광도파로 마스터(102)를 제작할 수 있다.
이때, 경사면(114)의 각도는 광 경로를 수직하게 바꿀 수 있도록 45도의 기울기를 갖도록 제작할 수 있으며, 필요에 따라서 상기 마스터 본체의 일측면에 형성되는 패턴의 형태는 직선 또는 곡선의 형태를 자유롭게 나타낼 수 있다. (도 2b 및 도 2c참조)
가공용 팁(122)은 상기 마스터 본체에 패턴을 제작할 때, 제작하고자 하는 패턴 형태 및 크기에 적합하도록 선택되어 패턴 제작용 툴(120)에 장착되어 사용되며, 본 발명이 여기에 기재된 범위로 한정되는 것은 아니나 패턴 제작용 툴의 가공용 팁(122)은 다이아몬드 재질로 제작할 수 있다.
그리고, 가공용 팁(122)이 상기 마스터 본체에 패턴을 제작하는 방법에 따라 음각 패턴 또는 양각 패턴의 형태를 나타낼 수 있으며, 제작하고자 하는 패턴 형태 에 따라 가공용 팁(122)의 크기 및 형태는 변경할 수 있다. (도 2b 및 도 2c참조)
하나의 일 예로, 폭이 50㎛이며, 간격이 250㎛의 광도파로 마스터 본체에 패턴을 제작하기 위한 가공용 팁(120)은 200㎛ 폭을 가지는 직사각형 형태로 제작할 수 있다.
도 2b 및 도 2c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 미러 경사면을 포함하는 패턴을 나타낸 도면으로서, 도 2b는 직선 패턴의 형태를 나타내며, 도 2c는 곡선 패턴의 형태를 나타낸다. 그리고, 도 2b 및 도 2c에서 형성되는 패턴은 양각패턴(112a) 또는 음각패턴(112b)으로 형성할 수 있다.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시 예에 따른 임프린팅 방법을 사용한 광도파로 제조 공정을 나타낸 도면이다.
도 3a를 참조하면, 상기 도 1a에서 형성된 광도파로 마스터(100)를 사용하여 광도파로 하부 클래드 층을 형성할 제 1클래드 필름(300)에 전사한다(도 3b참조).
상기 전사 과정을 통해 제 1클래드 필름(300)에 광도파로 마스터(100)에 형성된 패턴이 형성되고(도 3c참조), 상기 패턴에 코어 용액(320)을 주입하여 광도파로의 코어를 형성할 수 있다.
도 3d를 참조하면, 코어 용액(320)이 주입된 제 1클래드 필름(300)의 상부에 상부 클래드 층을 형성할 제 2클래드 필름(330)을 적층하여 경화함으로써, 광도파로(350)를 제조할 수 있다.
광도파로(350)는 제 1클래드 필름(300)과 제 2클래드 필름(330) 사이에 광도파로 마스터(100)의 패턴 형태를 나타내는 경화된 코어(322)를 포함하여 형성할 수 있다.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 일 실시 예에 따른 몰드를 이용한 임프린팅 방법을 사용한 광도파로 제조 공정을 나타낸 도면이다.
도 4a를 참조하면, 상기 도 1a에서 형성된 광도파로 마스터(100)의 상부에 투명 몰드 제작을 위한 용액을 부은 다음 경화시켜 투명 몰드(340)를 형성할 수 있다.
투명 몰드(340)는 광도파로 마스터(100)에 형성되어 있는 패턴이 역상으로 복제되며, 투명 몰드(340)를 사용하여 광도파로를 대량으로 형성할 수 있다.
도 4b를 참조하면, 패턴이 복제된 투명 몰드(340)의 상부에 코어 용액(320)을 주입하여 경화시킬 수 있다.
도 4c를 참조하면, 상기 투명 몰드(340)에 주입되어 경화된 코어 용액(322)을 분리하여 제 1클래드 필름(300)에 적층하고, 그 상부에 클래드 용액(332)을 코팅하여 경화시킴으로써 광도파로(350)를 제작할 수 있다(도 4d참조).
도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 일 실시 예에 따른 임프린팅 방법을 사용한 미러 일체형 광도파로 제조 공정을 나타낸 도면이다.
도 5a를 참조하면, 상기의 도 2a에 의해 형성된 미러 일체형 광도파로 마스 터(102)를 광도파로의 하부 클래드 층을 형성할 제 1클래드 필름(300)에 전사하여 미러 일체형 광도파로 마스터(102)의 일측면에 형성되어 있는 경사면(114)을 구비한 패턴이 역상으로 제 1클래드 필름(300)에 전사할 수 있다.
이때, 제 1클래드 필름(300)은 열 가소성 재료로 사용되며, 제 1클래드 필름(300) 위에 미러 일체형 광도파로 마스터(102)를 적층하고, 고온 및 고압으로 패턴을 전사할 수 있다.
도 5b를 참조하면, 패턴이 전사된 제 1클래드 필름(300)의 경사면(304)에 미러 박막(310)을 증착할 수 있으며, 이때 사용되는 미러 박막(310)은 유전체 박막 및 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 백금(Ti) 및 구리(Cu) 중 선택되는 하나 이상의 금속 박막으로 형성할 수 있다.
미러 박막(310)을 코팅한 제 1클래드 필름(300)의 음각으로 나타난 패턴 부분에 코어 용액(320)을 주입하고(도 5c참조), 상부에 제 2클래드 필름(330)을 적층하여 압력을 가하면서 열 또는 자외선을 조사하여 미러 일체형 광도파로(352)를 제작할 수 있다(도 5d참조).
제 2클래드 필름(330)은 제 1클래드 필름(300)과 동일 또는 상이한 물질로 형성할 수 있으며, 상부 클래드 층을 형성할 수 있다.
도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 일 실시 예에 따른 몰드를 이용한 임프린팅 방법을 사용한 미러 일체형 광도파로 제조 공정을 나타낸 도면이다.
도 6a를 참조하면, 상기의 도 2a에 의해 형성된 미러 일체형 광도파로 마스 터(102)의 상부에 투명 몰드(340) 제작을 위한 PDMS(Poly-Dimethal-siloxane) 용액을 부은 다음 경화시켜 투명 몰드(340)를 제작하고, 제작된 투명 몰드(340)는 미러 일체형 광도파로 마스터(102)의 패턴이 역상으로 복제된다.
패턴이 역상으로 복제된 투명 몰드(340)에 코어 용액(320)을 주입하고 제 1클래드 필름(300)을 밀착하여 열 또는 자외선을 조사하여 코어를 경화시킴과 동시에, 경화된 코어 용액(322)을 제 1클래드 필름(300)의 상부에 형성시킬 수 있다(도 6b참조).
제 1클래드 필름(300)의 상부에 경화된 코어 용액(322)을 투명몰드(600)로 부터 분리하고, 경화된 코어 용액(322)의 양 끝단에 형성된 경사면에 미러를 코팅하거나, 미러 박막(310)을 증착한다(도 6c참조).
그리고, 클래드 용액(332)을 코팅하고 경화시켜 상부 클래드 층을 형성하여 미러 일체형 광도파로 마스터를 제작할 수 있다(도 6c참조).
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 미러 일체형 광도파로를 응용한 다층 광전배선 기판(700)을 나타낸 도면으로서, 전기 배선(710), 광 배선(광도파로)(352), 마이크로 프로세서 칩(720), 메모리칩(770), 전광/광전 소자(730, 760) 및 전광/광전 소자(740, 750) 등을 포함할 수 있다.
본 발명은 대용량의 광통신, 정보기록, 정보처리, 정보 전송의 고속화 및 배선의 고밀도화가 지속적으로 요구되는 정보처리 초 고속화에 있어서, 미러 일체형 광도파로를 사용하여 간단한 공정으로 다양한 부분에 응용하여 사용할 수 있으며, 향후 광PCB기술, 광SOP 및 다층 광회로 기술 등 광 연결을 필요로 하는 다양한 부분에 사용될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다"등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
당업자는 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 설명된 실시형태를 변경 또는 변형할 수 있으며, 이러한 변경 또는 변형도 본 발명의 범위에 속한다. 또한, 본 명세서에서 설명한 각 구성요소의 물질은 당업자가 공지된 다양한 물질로부터 용이하게 선택하여 대처할 수 있다. 또한, 당업자는 본 명세서에서 설명된 구성요소 중 일부를 성능의 열화 없이 생략하거나 성능을 개선하기 위해 구성요소를 추가할 수 있다. 뿐만 아니라, 당업자는 공정 환경이나 장비에 따라 본 명세서에서 설명한 방법 단계의 순서를 변경할 수도 있다. 따라서 본 발명의 범위는 설명된 실시형태가 아니라 특허청구범위 및 그 균등물에 의해 결정되어야 한다.
도 1a 내지 도 1c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 광도파로 마스터 제조공정을 포함하는 패턴을 나타낸 도면.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 미러 일체형 광도파로 마스터 제조공정 및 경사면을 포함하는 패턴을 나타낸 도면.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시 예에 따른 임프린팅 방법을 사용한 광도파로 제조 공정을 나타낸 도면.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 일 실시 예에 따른 몰드를 이용한 임프린팅 방법을 사용한 광도파로 제조 공정을 나타낸 도면.
도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 일 실시 예에 따른 임프린팅 방법을 사용한 미러 일체형 광도파로 제조 공정을 나타낸 도면.
도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 일 실시 예에 따른 몰드를 이용한 임프린팅 방법을 사용한 미러 일체형 광도파로 제조 공정을 나타낸 도면.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 미러 일체형 광도파로를 응용한 다층 광전배선기판을 나타낸 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100 : 광도파로 마스터 102 : 미러 일체형 광도파로 마스터
110 : 기판 112 : 미러 일체형 패턴
112a : 양각패턴 112b : 음각패턴
114, 304 : 경사면 120 : 패턴 제작용 툴
122 : 가공용 팁 300 : 제 1클래드 필름
310 : 미러 박막 320 : 코어 용액
322 : 경화된 코어 용액 330 : 제 2클래드 필름
332 : 클래드 용액 340 : 투명 몰드
350 : 광도파로 352 : 미러 일체형 광도파로
700 : 다층 광전 배선 기판 710 : 전기 배선
720 : 마이크로 프로세서 칩 730, 760 : 전광/광전 구동칩
740, 750 : 전광/광전 소자 770 : 메모리칩

Claims (15)

  1. 일측면에 미러 일체형 패턴이 형성된 광도파로 마스터를 제작하는 단계;
    상기 광도파로 마스터의 미러 일체형 패턴을 제 1클래드 필름에 전사하는 단계;
    상기 제 1클래드 필름에 전사된 미러 일체형 패턴의 경사면에 미러를 코팅하는 단계;
    코어 용액을 상기 제 1클래드 필름에 전사된 패턴에 주입하는 단계; 및
    상기 코어 용액이 주입된 제 1클래드 필름의 상부에 제 2클래드 필름을 적층하고 경화하는 단계를 포함하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
  2. 일측면에 미러 일체형 패턴이 형성된 광도파로 마스터를 제작하는 단계;
    상기 광도파로 마스터의 미러 일체형 패턴을 투명 몰드에 전사하고, 전사된 상기 투명 몰드에 코어 용액을 주입하는 단계;
    상기 코어 용액이 주입된 상기 투명 몰드에 제 1클래드 필름을 부착하여 경화한 후, 상기 투명 몰드를 분리하는 단계;
    상기 경화된 코어 용액의 경사면에 미러를 코팅하는 단계;및
    상기 미러 코팅 후 상기 경화된 코어 용액 및 제 1클래드 필름에 클래드 용액을 코팅하고 경화하는 단계를 포함하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 광도파로 마스터를 제작하는 단계는
    기판의 일측면을 연마하여 마스터 본체를 구성하는 단계;
    가공용 팁이 장착된 패턴 제작용 툴을 제작하는 단계; 및
    상기 마스터 본체의 일측면에 상기 패턴 제작용 툴을 사용하여 상기 미러 일체형 패턴을 제작하는 단계를 포함하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 기판은 금속계, 유리계 또는 고분자계 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
  5. 제 3항에 있어서, 상기 마스터 본체는 스타박스 기판에 니켈을 전기 도금한 것인 것을 특징으로 하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
  6. 제 3항에 있어서, 상기 가공용 팁은 단결정 다이아몬드인 것을 특징으로 하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
  7. 제 3항에 있어서, 상기 미러 일체형 패턴을 형성하는 단계는
    양각 패턴, 음각 패턴, 직선 패턴 및 곡선 패턴 중 선택되는 하나 이상의 패턴으로 형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방 법.
  8. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 미러 일체형 패턴은
    패턴 제작용 툴의 각도를 조절하여 상기 미러 일체형 패턴의 일단에 경사면이 형성되는 것을 특징으로 하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
  9. 제 8항에 있어서, 상기 경사면의 각도는 45°인 것을 특징으로 하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
  10. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 미러는
    은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 백금(Ti) 및 구리(Cu) 중 선택되는 적어도 하나 이상의 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
  11. 일측면에 코어 삽입용 패턴이 형성되고, 상기 패턴의 양 끝단에 경사면을 포함하는 광도파로 마스터.
  12. 제 11항에 있어서, 상기 경사면의 각도는 45°인 것을 특징으로 하는 광도파로 마스터.
  13. 기판의 일측면을 연마하여 마스터 본체를 구성하는 단계;
    가공용 팁이 장착된 패턴 제작용 툴을 제작하는 단계; 및
    상기 마스터 본체의 일측면에 상기 패턴 제작용 툴을 사용하여 양각 또는 음각, 직선 또는 곡선의 패턴을 제작하는 단계를 포함하는 광도파로 마스터 제작방법.
  14. 상기 제 13항의 방법에 의해 광도파로 마스터를 제작하는 단계;
    상기 광도파로 마스터의 패턴을 제 제 1클래드 필름에 전사하는 단계;
    상기 제 1클래드 필름에 전사된 패턴에 코어 용액을 주입하는 단계; 및
    상기 코어 용액이 주입된 제 1클래드 필름의 상부에 제 2클래드 필름을 적층하고 경화하는 단계를 포함하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
  15. 상기 제 13항의 방법에 의해 광도파로 마스터를 제작하는 단계;
    상기 광도파로 마스터의 패턴을 투명 몰드에 전사하고, 전사된 상기 투명 몰드에 코어 용액을 주입하여 경화하는 단계;
    상기 경화된 코어 용액을 분리하여 제 1클래드 필름에 부착하는 단계; 및
    상기 경화된 상기 코어 용액 및 제 1클래드 필름에 클래드 용액을 코팅하고 경화하는 단계를 포함하는 광도파로 마스터를 이용한 광도파로 제작 방법.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101310895B1 (ko) * 2012-10-17 2013-09-25 한국광기술원 평판형 광도파로 소자 제조방법
KR101447479B1 (ko) * 2014-06-30 2014-10-07 주식회사 세코닉스 마이크로 구조의 광제어 패턴이 형성된 디스플레이용 도광 시트의 제조방법
KR20150131471A (ko) * 2014-05-14 2015-11-25 한국광기술원 광전 기판 제조방법
CN114516188A (zh) * 2022-02-17 2022-05-20 深圳睿晟自动化技术有限公司 微纳米级光波导镜面热压工艺方法

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