KR20100026620A - Belt type edge polishing apparatus for flat glass - Google Patents

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전양근
김태호
박권식
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삼성코닝정밀유리 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A belt type edge polishing device for a flat glass is provided to process a edge surface to a desired shape by applying appropriate pressure to the edge surface using a support plate. CONSTITUTION: A belt type edge polishing device for a flat glass(100) comprises a first base roller(10), a second base roller(50), a support plate(60), and auxiliary rollers(20). The first base roller winds a belt(30) for polishing. The second base roller winds the belt which completes polishing. The support plate supports the belt contacted with the flat glass. The auxiliary rollers are located between the first base roller and the second base roller, and guide the belt.

Description

평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치{BELT TYPE EDGE POLISHING APPARATUS FOR FLAT GLASS}Belt type edge polishing device for flat glass {BELT TYPE EDGE POLISHING APPARATUS FOR FLAT GLASS}

본 발명은 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 절단된 유리의 엣지면을 지지 플레이트를 이용하여 소정의 압력을 인가하면서 폴리싱 가능한 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a belt type edge polishing apparatus for flat glass, and more particularly, to a belt type edge polishing apparatus for flat glass that can be polished while applying a predetermined pressure to a cut surface of a cut glass using a support plate. .

일반적으로, 평판 디스플레이 유리 기판의 절단 및 면취 공정은 기계적 절단 방식과 레이저를 이용한 비접촉 절단 방식이 있다.Generally, the cutting and chamfering processes of flat panel display glass substrates include a mechanical cutting method and a non-contact cutting method using a laser.

이중 기계적 절단 방식은 다이아몬드 또는 카바이드 눈새김 휠이 유리 표면을 가로질러 끌림으로써 유리판에 눈금이 기계적으로 새겨지게 되고, 그 후 눈금을 따라 유리판이 휘어짐으로써 절단되어 절단 가장자리가 생성되는 방식이다. 통상 기계적 절단 방식은 약 100 내지 150㎛ 깊이의 측방향 균열을 만들게 되며, 이러한 측방향 균열은 눈새김 휠의 절삭선으로부터 발생한다. 이러한 측방향 균열은 유리 기판의 강도를 저하시키기 때문에 유리 기판의 날카로운 모서리부를 연삭하여 제거해줘야 한다.The dual mechanical cutting method is that the diamond or carbide notching wheels are dragged across the glass surface so that the scale is mechanically inscribed on the glass plate and then the glass plate is bent along the scale to be cut to create the cutting edge. Typically, mechanical cutting methods produce lateral cracks of about 100 to 150 μm deep, which lateral cracks arise from the cutting line of the eye wheel. These lateral cracks reduce the strength of the glass substrate and must be removed by grinding the sharp edges of the glass substrate.

레이저를 통한 비접촉 절단 방식은 레이저가 유리 기판의 가장자리에 새긴 금(check)을 지나 유리 표면상의 소정 경로를 따라 움직이면서 유리 표면을 팽창시킨 후, 냉각기가 그 뒤를 따라 움직이면서 상기 표면을 인장시켜 레이저의 진행 경로를 따라 균열을 열적으로 전파시켜 유리 기판을 절단하는 방식이다. 레이저에 의한 절단 방식의 첫 번째 장점은 절단된 유리 기판 에지가 경면(鏡面)의 에지면으로 형성되어 기계식 절단에 비하여 분진이 적게 발생되고, 절단된 유리 기판의 진직도와 직각도 등의 사이즈 편차가 작게 되는 것이며, 두 번째 장점은 기계식 절단 방식의 경우 발생하는 측방향 균열을 대폭 줄일 수 있어 유리 기판 에지의 강도 및 품질을 높일 수 있다는 것이다.The non-contact cutting method using a laser expands the glass surface as the laser moves along a predetermined path on the glass surface through a check stamped on the edge of the glass substrate, and then moves the cooler along with it to tension the surface to advance the laser. The glass substrate is cut by thermally propagating the cracks along the path. The first advantage of the laser cutting method is that the cut glass substrate edge is formed into the edge surface of the mirror surface, so that less dust is generated than the mechanical cutting, and the size deviation of the cut glass substrate is straight and square. The second advantage is that the lateral cracking that occurs in the case of mechanical cutting can be greatly reduced, thereby increasing the strength and quality of the glass substrate edge.

상기와 같은 기계식 또는 레이저로 절단된 유리 기판의 절단부에는 날카로운 모서리부가 발생된다. 이러한 날카로운 모서리부는 외부 충격에 취약하며 품질이 균질하지 못한 문제점이 발생된다. 따라서 이러한 날카로운 모서리부는 연삭 또는 연마 공정을 통하여 면취 처리되어야 한다.Sharp edges are generated in the cutout portion of the glass substrate cut by the mechanical or laser as described above. These sharp edges are susceptible to external impact and have a problem of inhomogeneous quality. Therefore, these sharp edges must be chamfered through a grinding or polishing process.

종래 기판 유리의 연마 방식은 절단된 엣지면 전체를 라운드 형상으로 가공하는 R-edge 형상으로 연삭(grinding)을 수행한 후, 엣지면의 거칠기 수준을 향상시키기 위해 이와 비슷한 형태의 폴리싱 휠을 회전하여 연마(polishing)를 수행하는 것이 일반적이다. 이러한 방식으로 연마를 수행하는 경우, 연마된 엣지면의 거칠기 수준을 낮추는 것에는 한계가 있고, 그러한 거칠기 수준으로 인하여 거친면 사이로 그 거칠기 수준 크기 및 그 이하 크기의 파티클(이물질)이 다량으로 존재하게 된다. 또한 폴리싱 휠을 회전시키기 위해서는 복잡한 기구부 구성이 요구되며, 높은 회전력을 충족시키기 위해 장비 소모가 많고 많은 소음이 발생하게 된다. 나아가 휠과 유리 엣지와의 마찰로 발생되는 파티클은 비산되어 작업 환경을 악화시키고 유리 품질을 떨어뜨리게 된다.In the conventional method of polishing a substrate glass, grinding is performed in an R-edge shape in which the entire cut edge surface is processed into a round shape, and then a similar polishing wheel is rotated to improve the roughness level of the edge surface. It is common to perform polishing. When polishing is performed in this manner, there is a limit to lowering the roughness level of the polished edge surface, and such roughness level causes a large amount of particles (foreign matter) having a roughness level and a size smaller between the rough surfaces. do. In addition, complex mechanism configuration is required to rotate the polishing wheel, and equipment consumption is high and noise is generated to satisfy high rotational force. Furthermore, the particles generated by the friction between the wheel and the glass edge are scattered, which worsens the working environment and degrades the glass quality.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 하는 것으로서, 벨트 위에 연마재를 도포하고, 연마재의 성분에 따라 엣지면의 거칠기 수준의 확보가 가능한 필름 벨트를 이용하여 유리 기판의 엣지면을 폴리싱을 수행하는 벨트형 엣지 폴리싱 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention is to solve the above problems, a belt for applying an abrasive on the belt, using a film belt that can ensure the level of roughness of the edge surface according to the component of the abrasive to polish the edge surface of the glass substrate It is an object to provide a type edge polishing apparatus.

특히, 본 발명의 벨트형 엣지 폴리싱 장치에서는 지지 플레이트를 부가함으로써 유리기판의 엣지면에 원하는 압력을 제공할 수 있어 다양한 형태의 엣지면 폴리싱이 가능하게 되었다.In particular, in the belt type edge polishing apparatus of the present invention, by adding a support plate, it is possible to provide a desired pressure on the edge surface of the glass substrate, thereby enabling various types of edge surface polishing.

본 발명의 상기 목적은 평판 유리를 폴리싱하는 평판 유리 폴리싱 장치에 있어서, 폴리싱용 벨트(30)를 감고 있는 제 1 기본 롤러(10)와, 폴리싱 수행을 마친 벨트(30)를 감는 제 2 기본 롤러(50)와, 제 1 기본 롤러(10)와 상기 제 2 기본 롤러(50) 사이에서 벨트(30)를 가이드하고 텐션을 유지하는 다수 개 보조 롤러(20)와, 평판 유리와 접촉되는 벨트(30) 부분을 지지하는 지지 플레이트(60) 및 지지 플레이트(60)에 압력을 가하는 가압 장치(70)를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 유리 폴리싱 장치에 의해서 달성 가능하다.The above object of the present invention is a flat glass polishing apparatus for polishing flat glass, comprising: a first basic roller 10 wound around a polishing belt 30, and a second basic roller wound around a belt 30 having finished polishing. 50, a plurality of auxiliary rollers 20 for guiding the belt 30 and maintaining tension between the first basic roller 10 and the second basic roller 50, and a belt in contact with the flat glass ( 30) is achieved by a flat glass polishing apparatus comprising a support plate 60 for supporting a portion and a pressurizing device 70 for applying pressure to the support plate 60.

바람직하게는 상기 제 1 기본 롤러(10), 상기 제 2 기본 롤러(50), 상기 보조 롤러(20), 및 상기 가압 장치(70)를 지지하는 케이스를 더 구비하고, 평판 유리 의 엣지면과 닿는 케이스면은 개방면으로 형성되는 것이 좋다.Preferably, further comprising a case for supporting the first basic roller 10, the second basic roller 50, the auxiliary roller 20, and the pressing device 70, and the edge surface of the flat glass The contact surface of the case is preferably formed as an open surface.

또한, 케이스를 수평으로 이동시키는 수평 이동 장치를 더 구비하여 폴리싱 장치가 유리의 폴리싱 면으로 용이하게 접근할 수 있도록 하였고, 평판 유리를 진공 흡착하여 수평 방향으로 이동시키는 유리 이송 장치(90)가 구비되어 폴리싱이 원활하게 진행될 수 있도록 하였다.In addition, it is further provided with a horizontal moving device for moving the case horizontally so that the polishing device can easily access the polishing surface of the glass, and the glass conveying device 90 for moving the plate in the horizontal direction by vacuum suction Thus, the polishing can be performed smoothly.

본 발명의 폴리싱 장치에는 폴리싱으로 인해 발생된 파티클과 필름을 세정하기 위한 세정 노즐(120)이 더 구비되는 것이 좋으며, 세정 노즐(120)로부터 분사되는 물은 평판 유리의 중앙부에서 엣지부로 분사되도록 하는 것이 바람직하다.Preferably, the polishing apparatus of the present invention further includes a cleaning nozzle 120 for cleaning the particles and the film generated by the polishing, and water sprayed from the cleaning nozzle 120 is sprayed from the center portion of the flat glass to the edge portion. It is preferable.

지지 플레이트는 상기 평판 유리보다 경도가 낮은 단일 물질로 형성되는 것도 좋으나, 바람직하게는 지지 플레이트는 제 1 경도 물질로 형성되는 바디부(61)에 상기 평판 유리의 엣지면과 접촉하는 면(전면)은 상면과 하면으로부터 일정 두께만을 남겨두고 가운데 부분의 전체에 걸쳐 홈부(63)를 형성하고, 전면에 강체보다 낮은 제 2 경도 물질로 형성되는 패드층(65)이 구비하는 것이 좋다. 이때 홈부(63)의 높이는 평판 유리의 두께보다 크게 구성하여야 전체 엣지면에 골고루 폴리싱이 이루어지며, 제 2 경도 물질은 실리콘 폴리 우레탄으로 사용하는 것이 좋다.The support plate may be formed of a single material having a lower hardness than the flat glass, but preferably, the support plate is a surface (front surface) in contact with the edge surface of the flat glass on the body 61 formed of the first hardness material. It is preferable that the pad layer 65 is formed of the second hardness material lower than the rigid body on the entire surface of the center portion to form the groove portion 63, leaving only a predetermined thickness from the upper and lower surfaces. At this time, the height of the groove portion 63 should be configured to be larger than the thickness of the flat glass to uniformly polish the entire edge surface, the second hardness material is preferably used as silicone polyurethane.

본 발명에 따른 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치는 필름 벨트에 도포되는 연마재를 변경함으로써 원하는 엣지면이 거칠기 수준을 용이하게 확보할 수 있 게 되었고, 또한 지지 플레이트를 이용하여 엣지면에 적절한 압력을 가할 수 있으므로 엣지면을 원하는 형태로 가공할 수 있게 되었다.In the belt type edge polishing apparatus for flat glass according to the present invention, it is possible to easily secure the desired level of roughness by changing the abrasive applied to the film belt. This allows the edge surface to be machined to the desired shape.

또한, 본 발명에 따른 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치를 사용함으로써 경면 수준의 거칠기 수준에서는 엣지의 거친면 사이로 파티클이 존재하지 않게 되며, 벨트형 엣지 폴리싱 장치는 X, Y 축에 의한 직선 운동만 구현하면 되기 때문에 기구부가 간단해 지고 소음이 적게 발생되는 잇점이 있다. 나아가 본 발명에 따른 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치를 사용하면 엣지면에서 발생되는 파티클은 주변 30㎜ 이내에 분포하여 파티클 제거에도 유리한 잇점이 있다. In addition, by using the belt-type edge polishing apparatus for flat glass according to the present invention, particles are not present between the rough surfaces of the edges at the roughness level of the mirror surface, and the belt-type edge polishing apparatus uses only the linear motion by the X and Y axes. This can be achieved by simplifying the mechanism and generating less noise. Furthermore, when the belt type edge polishing apparatus for flat glass according to the present invention is used, particles generated at the edge surface are distributed within 30 mm of surroundings, which is advantageous in removing particles.

이하에서 본 발명의 실시를 위한 구체적인 내용을 첨부 도면을 참조하여 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the specific content for the practice of the present invention will be described in detail.

도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 일 실시예의 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치의 사시도 및 단면도이다. 본 발명에 따른 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치는 연마용 벨트를 감고 있는 제 1 기본 롤러(10), 연마를 수행한 벨트를 감는 제 2 기본 롤러(50), 제 1 기본 롤러(10)와 제 2 기본 롤러(50) 사이에서 벨트를 가이드하고 벨트의 텐션을 유지하는 다수 개의 보조 롤러(20)와, 유리의 엣지면과 벨트와 맞닿는 면에 설치되는 지지 플레이트(60), 지지 플레이트(60)를 가압하는 가압 장치(70), 연마로 인해 발생된 파티클과 필름을 세정하기 위한 세정 노 즐(120) 및 이들 구성 요소를 지지하는 케이스(80)로 구성된다. 도 1에서는 가압 장치의 구성은 생략되어 도시되었다.1 and 2 are a perspective view and a cross-sectional view of a belt type edge polishing apparatus for flat glass according to an embodiment of the present invention. The belt type edge polishing apparatus for flat glass according to the present invention includes a first basic roller 10 winding the polishing belt, a second basic roller 50 winding the polishing belt, and a first basic roller 10; A plurality of auxiliary rollers 20 for guiding the belts between the second basic rollers 50 and maintaining the tension of the belts, a support plate 60 and a support plate 60 which are installed on the surface which is in contact with the edge surface of the glass and the belt. Pressurizing device 70 for pressurizing the), the cleaning nozzle 120 for cleaning the particles and film generated by the polishing and the case 80 for supporting these components. In FIG. 1, the configuration of the pressing device is omitted.

제 1 기본 롤러(10)는 텐션 조절 장치가 부착된 롤러로서 벨트가 제 1 기본 롤러(10)로부터 풀릴 때 일정한 텐션을 유지하게 된다. 텐션 조절 장치는 VCR의 비디오 테이프 롤러에 사용되는 등 범용의 장치이므로 자세한 설명을 생략하기로 한다. 제 2 기본 롤러(50)는 스텝 모터에 의해서 구동되며, 폴리싱이 완료된 필름 벨트를 일정한 속도로 감아 보관하는 용도로 사용된다. 벨트를 이용하여 평판 유리의 엣지면을 폴리싱한 후 다음 평판 유리의 폴리싱을 준비하기 위해서 제 2 기본 롤러(50)의 스텝 모터가 일정한 속도로 회전하면서 제 1 기본 롤러(10)에 감겨진 벨트(30)가 일정한 속도록 풀리며 제 2 기본 롤러(50)에 감겨지는 방식으로 동작된다.The first basic roller 10 is a roller to which the tension adjusting device is attached to maintain a constant tension when the belt is released from the first basic roller 10. Since the tension adjusting device is a general purpose device such as used for a VCR video tape roller, detailed description thereof will be omitted. The second basic roller 50 is driven by a step motor, and is used for winding and storing a film belt on which polishing is completed at a constant speed. The belt wound on the first basic roller 10 while the step motor of the second basic roller 50 is rotated at a constant speed in order to polish the edge surface of the flat glass using the belt and then prepare the polishing of the next flat glass. 30 is released at a constant speed and is operated in such a way that it is wound on the second basic roller 50.

다수 개 보조 롤러(20-1, 20-2, 20-3, 20-4, 20-5, 20-6)는 제 1 기본 롤러(10)와 제 2 기본 롤러(50) 사이에 배치되어 벨트(30)를 가이드하고 벨트(30)의 적절한 텐션(tension)을 유지하는 롤러로서, 별도의 구동 장치와는 연결되지 않는다. 본 발명에서는 다수 개 보조 롤러(20-1, 20-2, 20-3, 20-4, 20-5, 20-6)를 통칭하여 보조 롤러(20)로 칭하기로 한다.A plurality of auxiliary rollers 20-1, 20-2, 20-3, 20-4, 20-5, and 20-6 are disposed between the first basic roller 10 and the second basic roller 50 to belt As a roller for guiding the 30 and maintaining a proper tension of the belt 30, it is not connected to a separate drive device. In the present invention, a plurality of auxiliary rollers 20-1, 20-2, 20-3, 20-4, 20-5, and 20-6 are collectively referred to as auxiliary rollers 20.

지지 플레이트(60)는 벨트(30)와 평판 유리의 엣지면이 닿는 면과 반대 방향에서 벨트(30)를 평판 유리 엣지면으로 가압하기 위한 플레이트이며, 가압 장치(70)는 지지 플레이트(60)에 일정한 압력을 가하기 위한 장치로서, 일 예로서 정압 실린더를 사용할 수 있다.The support plate 60 is a plate for pressing the belt 30 to the flat glass edge surface in a direction opposite to the surface where the belt 30 and the edge glass of the flat glass touch, and the pressing device 70 is the support plate 60. As an apparatus for applying a constant pressure to the pressure, a constant pressure cylinder may be used as an example.

세정 노즐(120)은 연마가 완료된 후 평판 유리(100)에 잔존하는 파티클과 필름을 제거하기 위하여 물을 분사하는 노즐로서, 물은 평판 유리의 가운데 부분에서 엣지 부분으로 향하는 방향으로 노즐의 방향이 설정되도록 하였다.The cleaning nozzle 120 is a nozzle for spraying water to remove particles and film remaining on the flat glass 100 after polishing is completed, and the direction of the nozzle in the direction from the center to the edge of the flat glass is changed. To be set.

케이스(80)는 제 1 기본 롤러(10), 제 2 기본 롤러(50), 다수 개 보조 롤러(20-1, 20-2, 20-3, 20-4, 20-5, 20-6), 세정 노즐(120) 및 가압 장치(70)가 소정의 위치에 설치되도록 지지하는 기능을 하며 적어도 지지 플레이트(60)에 의해 가압되는 벨트(30) 부분은 노출되는 개방면 형태를 갖는다.The case 80 includes a first basic roller 10, a second basic roller 50, and a plurality of auxiliary rollers 20-1, 20-2, 20-3, 20-4, 20-5, and 20-6. In addition, the cleaning nozzle 120 and the pressurizing device 70 have a function of supporting the installation in a predetermined position, and at least a portion of the belt 30 pressed by the support plate 60 has an open surface form.

도 3은 케이스 하면에 수평 이동 장치가 부착된 본 발명에 따른 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치의 일 실시예도이다. 좌측에는 평판 유리(100)를 진공 흡착기(91)를 이용하여 진공 흡착하면서 도면의 전방으로 이동시키는 유리 이송 장치(90)가 구비되고, 우측에는 수평 이동 장치(110)가 부착된 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치가 구비된다. 수평 이동 장치(110)의 일 예로는 리니어 가이드를 사용할 수 있다.Figure 3 is an embodiment of a belt-type edge polishing apparatus for flat glass according to the present invention with a horizontal moving device attached to the case bottom. On the left side is provided a glass transfer device 90 for moving the plate glass 100 to the front of the drawing while vacuum adsorption using the vacuum adsorber 91, and on the right side is a flat glass belt with a horizontal moving device 110 attached thereto. Type edge polishing apparatus is provided. An example of the horizontal moving device 110 may use a linear guide.

이하 도 1 내지 도 3을 이용하여 본 발명의 평판 유리의 폴리싱 동작에 대해 설명하기로 한다. 평판 유리(100)가 유리 이송 장치(90)에 의해 이송되어 오면, 수평 이동 장치(110)가 도 3의 좌측으로 이동하면서 벨트(30)가 평판 유리(100)의 엣지면에 닿게 된다. 이때 가압 장치(70)와 연결된 지지 플레이트(60)는 벨트(30)를 평판 유리(100)의 엣지면으로 적당한 압력으로 밀어주게 되며, 벨트는 회전하지 않은 상태로 고정된다. 평판 유리(100)의 엣지면에 닿는 벨트(30)상에는 연마재가 필름 형태로 도포되어 있으므로 사용되는 연마재에 따라 엣지면의 폴리싱 수준을 용이하게 조절할 수 있게 된다.Hereinafter, the polishing operation of the flat glass of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. When the flat glass 100 is conveyed by the glass conveying apparatus 90, the belt 30 contacts the edge surface of the flat glass 100 while the horizontal moving device 110 moves to the left side of FIG. 3. At this time, the support plate 60 connected to the pressing device 70 pushes the belt 30 to the edge surface of the flat glass 100 at an appropriate pressure, and the belt is fixed without rotation. Since the abrasive is applied in the form of a film on the belt 30 in contact with the edge of the flat glass 100, the polishing level of the edge can be easily adjusted according to the abrasive used.

지지 플레이트(60)에 의해 벨트(30)를 평판 유리의 엣지면으로 가압하는 압력은 벨트(30)의 텐션, 가압 장치(70)에 가해지는 압력, 지지 플레이트(60)의 재질에 따라 달라지며, 일반적으로 평판 유리(100)와 벨트(30)의 접촉 면적은 지지 플레이트(60)에 의해 벨트(30)에 전달되는 압력과 비례 관계에 있게 된다. 벨트(30)의 텐션(tension)은 지지 플레이트(60)와의 접촉시 충분한 여유를 줄 수 있도록 3 N·m로 유지하였으며, 수평 이동 장치(60)의 이동 거리는 3mm, 가압 장치(70)는 400 MPa로 유지하였다.The pressure for pressing the belt 30 to the edge surface of the flat glass by the support plate 60 depends on the tension of the belt 30, the pressure applied to the pressing device 70, and the material of the support plate 60. In general, the contact area between the plate glass 100 and the belt 30 is in proportion to the pressure transmitted to the belt 30 by the support plate 60. The tension (tension) of the belt 30 was maintained at 3 N · m so as to give a sufficient margin in contact with the support plate 60, the moving distance of the horizontal moving device 60 is 3mm, the pressing device 70 is 400 Maintained at MPa.

평판 유리(100)는 유리 이송 장치(90)에 의해 도 3의 전방으로 이송되면서 벨트(30)면에 도포된 연마재의 마찰 작용으로 엣지면이 폴리싱되며 평판 유리(100)의 측면이 폴리싱 장치를 완전히 통과하면, 스텝 모터(미 도시)를 동작시켜 제 1 기본 롤러(10)에 감겨있는 벨트(30)를 제 2 기본 롤러(50)로 감아 다음에 이송되는 평판 유리(100)의 폴리싱을 준비하게 된다.The flat glass 100 is transferred to the front of FIG. 3 by the glass transfer device 90, and the edge surface of the flat glass 100 is polished by the frictional action of the abrasive applied to the surface of the belt 30. When completely passed, the step motor (not shown) is operated to wind the belt 30 wound around the first basic roller 10 with the second basic roller 50 to prepare polishing of the plate glass 100 to be transferred next. Done.

본 발명에 따른 평판 유리 폴리싱 장치를 사용할 때 발생되는 파티클과 필름 입자는 평판 유리의 엣지면에 묻게 된다. 본 발명에 따른 평판 유리 폴리싱 장치는 가공 방식상 높은 운동량을 요하지 않기 때문에 파티클과 필름 입자는 먼 거리로 비산되지 않는다. 따라서 본 발명에 따른 평판 유리 폴리싱 장치를 사용하면 폴리싱 거칠기 수준도 0.1㎛ 수준으로 낮출 수 있고, 파티클의 크기와 수도 획기적 으로 감소시킬 수 있게 된다.Particles and film particles generated when using the flat glass polishing apparatus according to the present invention are buried in the edge surface of the flat glass. The flat glass polishing apparatus according to the present invention does not require high momentum on the processing method, so that particles and film particles are not scattered over a long distance. Therefore, by using the flat glass polishing apparatus according to the present invention can also reduce the polishing roughness level to 0.1㎛ level, it is possible to significantly reduce the size and number of particles.

도 4는 본 발명의 평판 유리 폴리싱 장치에 사용되는 지지 플레이트의 구성도이고, 도 5는 도 4의 지지 플레이트를 사용할 경우 평판 유리의 엣지면에 가해지는 압력을 도시한 것이다. 도 4에서 사용된 지지 플레이트(60)는 전체를 실리콘 폴리 우레탄(silicon polyurethane)으로 구성된 예이다. 도 4의 지지 플레이트를 사용할 경우 폴리싱이 이루어지기는 하나, 도 5에 도시한 바와 같이 평판 유리의 엣지면의 중간 부분에 폴리싱 압력이 집중되고 중앙에서부터 멀어질수록 폴리싱 압력이 감소하는 것을 알 수 있다. 따라서 중앙부에서 멀리 떨어진 표면에 가까운 엣지면은 적절한 폴리싱이 불충분하게 일어남을 알 수 있다.FIG. 4 is a configuration diagram of a support plate used in the flat glass polishing apparatus of the present invention, and FIG. 5 illustrates pressure applied to the edge surface of the flat glass when the support plate of FIG. 4 is used. The support plate 60 used in FIG. 4 is an example composed entirely of silicone polyurethane. When the support plate of FIG. 4 is used, polishing is performed, but as shown in FIG. 5, the polishing pressure is concentrated at the middle portion of the edge surface of the flat glass, and the polishing pressure decreases as the distance from the center is reduced. . Therefore, it can be seen that the edge surface close to the surface distant from the center portion is insufficiently polished properly.

도 6은 본 발명의 평판 유리 폴리싱 장치에 사용되는 또 다른 실시예의 지지 플레이트의 사시도이고, 도 7은 도 6의 지지 플레이트를 이용하여 폴리싱이 일어나는 형상을 설명하는 측면도이고, 도 8은 도 6의 지지 플레이트를 사용할 때 평판 유리 엣지면에 인가되는 압력을 도시하였다. FIG. 6 is a perspective view of a support plate of another embodiment used in the flat glass polishing apparatus of the present invention, FIG. 7 is a side view illustrating a shape in which polishing takes place using the support plate of FIG. 6, and FIG. 8 is of FIG. 6. The pressure applied to the plate glass edge when using the support plate is shown.

도 6에서 사용된 지지 플레이트(60)는 제 1 경도 물질인 강체로 형성되는 바디부(61)에 평판 유리의 엣지면과 접촉하는 면(이를 "전면"이라 칭하기로 한다)은 일정 두께의 상면과 하면만을 남겨두고 가운데 부분의 전체에 걸쳐 평판 유리(100)의 엣지면이 지나가는 방향으로 형성되는 홈부(63)를 구비하고, 전면에 강체보다 경도가 떨어지는 제 2 경도 물질로 형성되는 패드층(65)을 구비한다. 패드층(65) 은 통상 실리콘 폴리 우레탄으로 형성한다. In the support plate 60 used in FIG. 6, a surface of the body portion 61 formed of a rigid body having a first hardness material, which is in contact with the edge surface of the flat glass (hereinafter referred to as “front surface”), has a predetermined thickness. A pad layer having a groove portion 63 formed in a direction in which the edge surface of the flat glass 100 passes through the entire portion of the center portion, leaving only the lower surface and the lower surface thereof. 65). The pad layer 65 is usually formed of silicone polyurethane.

홈부(63)의 높이는 평판 유리(100)의 두께보다 크게 형성하여야 평판 유리(100)의 엣지면에 비교적 균일한 압력이 인가된다. 도 6의 지지 플레이트(60)를 사용할 경우, 폴리싱 시 지지 플레이트(60)의 전면에 형성된 홈부(63)로 평판 유리의 엣지부가 삽입됨으로써 폴리싱 면적을 확대할 수 있게 된다. 이러한 현상은 폴리싱 시 평판 유리에 인가되는 압력을 도시한 도 8에서 확인할 수 있다. 도 4의 지지 플레이트를 사용할 경우 도 8에 도시된 그래프(150)와 같이 폴리싱 면의 중앙부에 압력이 집중되는 현상이 나타나는데 비하여, 도 6의 지지 플레이트를 사용할 경우에는 도 6에 도시된 그래프(160)와 같이 폴리싱 압력이 평판 유리의 엣지면에 골고루 분포됨을 알 수 있다.The height of the groove portion 63 should be greater than the thickness of the flat glass 100 so that a relatively uniform pressure is applied to the edge surface of the flat glass 100. In the case of using the support plate 60 of FIG. 6, an edge portion of the flat glass is inserted into the groove portion 63 formed on the front surface of the support plate 60 during polishing, thereby increasing the polishing area. This phenomenon can be seen in FIG. 8, which shows the pressure applied to the flat glass during polishing. When the support plate of FIG. 4 is used, pressure is concentrated in the center of the polishing surface as shown in the graph 150 of FIG. 8, whereas when the support plate of FIG. 6 is used, the graph 160 of FIG. 6 is used. It can be seen that the polishing pressure is uniformly distributed on the edge surface of the flat glass as shown in FIG.

상기에서 본 발명의 특정한 실시예가 설명 및 도시되었지만, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당업자에 의하여 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다. 이와 같이 변형된 실시예들은 본 발명의 사상 및 범위로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며, 본 발명에 첨부된 청구범위 안에 속한다고 해야 할 것이다.Although specific embodiments of the present invention have been described and illustrated above, it will be apparent that various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the technical spirit of the present invention. Such modified embodiments should not be understood individually from the spirit and scope of the present invention, but should fall within the claims appended to the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 일 실시예의 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치의 사시도.1 is a perspective view of a belt type edge polishing apparatus for flat glass according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 일 실시예의 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a belt type edge polishing apparatus for flat glass according to an embodiment of the present invention.

도 3은 케이스 하면에 수평 이동 장치가 부착된 본 발명에 따른 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치의 일 실시예도.Figure 3 is an embodiment of a belt-type edge polishing apparatus for flat glass according to the present invention with a horizontal moving device attached to the case bottom.

도 4는 본 발명의 평판 유리 폴리싱 장치에 사용되는 지지 플레이트의 구성도.4 is a configuration diagram of a support plate used in the flat glass polishing apparatus of the present invention.

도 5는 도 4의 지지 플레이트를 사용할 경우 평판 유리의 엣지면에 가해지는 압력을 도시한 도면.FIG. 5 shows the pressure exerted on the edge surface of the plate glass when using the support plate of FIG. 4. FIG.

도 6은 본 발명의 평판 유리 폴리싱 장치에 사용되는 또 다른 실시예의 지지 플레이트의 사시도.6 is a perspective view of a support plate of another embodiment for use in the flat glass polishing apparatus of the present invention.

도 7은 도 6의 지지 플레이트를 이용하여 폴리싱이 일어나는 형상을 설명하는 측면도.FIG. 7 is a side view illustrating a shape in which polishing occurs using the support plate of FIG. 6. FIG.

도 8은 도 6의 지지 플레이트를 사용할 때 평판 유리 엣지면에 인가되는 압력을 도시한 도면. 8 shows the pressure applied to the flat glass edge surface when using the support plate of FIG. 6.

***** 도면 상 주요 기호에 대한 간략한 설명 ********** Brief description of the main symbols on the drawings *****

10: 제 1 기본 롤러 20: 보조 롤러10: first primary roller 20: auxiliary roller

30: 벨트 50: 제 2 기본 롤러30: belt 50: second base roller

60: 지지 플레이트 70: 가압 장치60: support plate 70: pressurization device

100: 평판 유리 110: 수평 이동 장치100: flat glass 110: horizontal shifting device

120: 세정 노즐120: cleaning nozzle

Claims (8)

평판 유리를 폴리싱하는 평판 유리 폴리싱 장치에 있어서,A flat glass polishing apparatus for polishing a flat glass, 폴리싱용 벨트(30)를 감고 있는 제 1 기본 롤러(10);A first basic roller 10 wound around the polishing belt 30; 폴리싱 수행을 마친 벨트(30)를 감는 제 2 기본 롤러(50); 및A second basic roller 50 winding the belt 30 after the polishing is performed; And 상기 평판 유리와 접촉되는 벨트(30) 부분을 지지하는 지지 플레이트(60)를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 유리 폴리싱 장치.And a support plate (60) for supporting a portion of the belt (30) in contact with the flat glass. 제 1항에 있어서, 상기 평판 유리 폴리싱 장치에는The flat glass polishing apparatus of claim 1, wherein the flat glass polishing apparatus includes: 상기 제 1 기본 롤러(10)와 상기 제 2 기본 롤러(50) 사이에서 벨트(30)를 가이드하고 텐션을 유지하는 다수 개 보조 롤러(20); 및A plurality of auxiliary rollers 20 for guiding the belt 30 and maintaining tension between the first basic roller 10 and the second basic roller 50; And 상기 지지 플레이트(60)에 압력을 가하는 가압 장치(70)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 평판 유리 폴리싱 장치.Flat glass polishing apparatus, characterized in that further provided with a pressing device for applying pressure to the support plate (60). 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제 1 기본 롤러(10), 상기 제 2 기본 롤러(50), 상기 보조 롤러(20), 및 상기 가압 장치(70)를 수평으로 이동시키는 수평 이동 장치(110)를 더 구비되는 것을 특징으로 하는 평판 유리 폴리싱 장치.A horizontal moving device 110 for horizontally moving the first basic roller 10, the second basic roller 50, the auxiliary roller 20, and the pressing device 70 is further provided. Flat glass polishing apparatus. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 평판 유리를 진공 흡착하여 수평 방향으로 이동시키는 유리 이송 장치(90)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 평판 유리 폴리싱 장치.And a glass transfer device (90) for vacuum suction of the flat glass to move in the horizontal direction. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 폴리싱으로 인해 발생된 파티클을 세정하기 위한 세정 노즐(120)이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 평판 유리 폴리싱 장치.Flat glass polishing apparatus, characterized in that the cleaning nozzle 120 is further provided for cleaning the particles generated due to the polishing. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지 플레이트는 상기 평판 유리보다 경도가 낮은 실리콘 폴리 우레탄으로 형성되는 것을 특징으로 하는 평판 유리 폴리싱 장치.And the support plate is formed of silicone polyurethane having a lower hardness than the flat glass. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지 플레이트는 제 1 경도 물질로 형성되는 바디부(61)에 상기 평판 유리의 엣지면과 접촉하는 면(전면)은 상면과 하면으로부터 일정 두께만을 남겨두 고 가운데 부분에는 평판 유리(100)의 엣지면이 지나가는 전체 방향에 걸쳐 홈부(63)를 형성하고, 전면에 강체보다 제 2 경도 물질로 형성되는 패드층(65)이 구비되고, 제 1 경도가 제 2 경도보다 큰 값을 갖는 것을 특징으로 하는 평판 유리 폴리싱 장치.The support plate is a body (61) formed of a first hardness material in contact with the edge surface of the flat glass (front surface) leaving only a certain thickness from the upper surface and the lower surface of the flat glass 100 The groove portion 63 is formed in the entire direction through which the edge surface passes, and the pad layer 65 is formed on the front surface of the second hardness material than the rigid body, and the first hardness has a value greater than the second hardness. Flat glass polishing apparatus. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 홈부(63)의 높이는 평판 유리의 두께보다 큰 것을 특징으로 하는 평판 유리 폴리싱 장치.The height of the groove portion 63 is larger than the thickness of the flat glass, flat glass polishing apparatus.
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KR102134559B1 (en) 2020-05-13 2020-07-15 윤석범 Polyping device for cell phone glass plate
KR102160898B1 (en) 2020-05-13 2020-09-28 윤석범 Polishing Pressurization Device for Cellular Glass Plates

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