KR20090121498A - 가스 공급 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 분리된 입력 유로를 통해 공정 가스가 세정 가스를 입력받는 가스 입력부;분리된 분사 유로를 통해 상기 공정 가스와 세정 가스를 분사하는 가스 분사부;상기 가스 입력부 중앙의 제 1 입력 유로에 공정 가스를 제공하는 공정 가스 공급부; 및상기 제 1 입력 유로를 감싸는 제 2 입력 유로에 세정 가스를 제공하는 세정 가스 공급부를 포함하는 가스 공급 장치.
- 청구항 1에 있어서,상기 가스 분사부는 상기 공정 가스를 반응 공간에 균일하게 분사하는 분사판을 구비하고, 상기 분사판의 중앙 영역에 마련되어 상기 공정 가스를 넓게 분산시키는 분산부를 포함하는 가스 공급 장치.
- 청구항 2에 있어서,상기 분사판은 상기 공정 가스를 분사하는 복수의 제 1 분사 홀과 상기 세정 가스를 분사하는 적어도 하나의 제 2 분사 홀을 구비하고,상기 제 2 분사 홀의 직경이 상기 제 1 분사 홀보다 큰 가스 공급 장치.
- 청구항 3에 있어서,상기 분사판의 상기 제 1 분사 홀의 밀도가 상기 분사판의 중심 영역에서 가장자리 영역으로 갈수록 증가하는 가스 공급 장치.
- 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가스 입력부는,내측에 상기 제 1 입력 유로를 갖고 상측이 차폐된 제 1 입력 몸체;내측에 내부 공간을 갖고, 상기 내부 공간 내에 상기 제 1 입력 몸체가 삽입된 제 2 입력 몸체;상기 제 1 입력 몸체와 상기 제 2 입력 몸체 간을 연결 고정하는 고정부; 및상기 제 2 입력 몸체, 상기 고정부 및 상기 제 1 입력 몸체의 일부를 관통하여 상기 제 1 입력 유로와 연통된 연결 유로를 포함하고,상기 제 1 입력 몸체와 상기 제 2 입력 몸체 사이 공간에 상기 제 2 입력 유로가 마련된 가스 공급 장치.
- 청구항 3 또는 청구항 4에 있어서, 상기 가스 분사부는,분사 몸체;상기 분사 몸체의 중심에 마련되어 상기 공정 가스가 제공된 관통 유로; 및상기 분사 몸체 내에 마련되어 상기 세정 가스가 제공되고 중심 영역에서 가장자리 영역으로 연장된 적어도 하나의 연장 유로를 포함하고,상기 분사판은 상기 분사 몸체의 하측에 마련되어 상기 관통 유로와 연통되 는 분사 공간을 형성하고, 상기 분사판의 상기 복수의 제 1 분사 홀은 상기 분사 공간과 연통되고, 상기 제 2 분사 홀은 상기 연장 유로와 연통되는 가스 공급 장치.
- 청구항 6에 있어서,상기 제 2 분사 홀은 적어도 상기 분사판의 가장자리 영역에서 분사 몸체 방향으로 상기 분사 공간을 관통하여 돌출 연장된 가스 공급 장치.
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