KR20090115053A - Complex Sheet - Google Patents

Complex Sheet

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KR20090115053A
KR20090115053A KR1020090035044A KR20090035044A KR20090115053A KR 20090115053 A KR20090115053 A KR 20090115053A KR 1020090035044 A KR1020090035044 A KR 1020090035044A KR 20090035044 A KR20090035044 A KR 20090035044A KR 20090115053 A KR20090115053 A KR 20090115053A
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추우코카세이코교가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: A composite sheet is provided to improve and maintain contact reliability, and to improve productivity of the sheet by reducing compression cycle while increasing a lifetime of the film efficiently. CONSTITUTION: A composite sheet(32) includes a heat-resistant resin film and a sheet consisting of silicon rubber-based composition formed on either sides of the heat-resistant resin film. The silicon rubber-based composition includes silica powder of 2~100, carbon black of 0~200, magnesium oxide of 10~1000, ferric oxide of 0~20, and ceria of 0.1~0.5 based on the silicon rubber of 100. The heat-resistant resin film is comprised of one among polyimide resin, aromatic polyamide resin, polyether ether keton resin, polyethersulfone resin, and polyphenylene sulfide resin.

Description

복합 시트{Complex Sheet}Composite Sheet {Complex Sheet}

본 발명은, 전자기기, 특히 플랫 패널 디스플레이(FPD), 더욱 상세하게는 컬러 TFT 액정 모듈이나 컬러 STN 액정 모듈 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 유기 일렉트로루미네센스 디스플레이 패널의 제조 공정의 하나인 압착 공정에 사용되는 복합 시트에 관한 것이다.The present invention is a crimping step that is one of the processes for producing electronic devices, in particular flat panel displays (FPDs), and more particularly color TFT liquid crystal modules, color STN liquid crystal module plasma display panels (PDPs), and organic electroluminescent display panels. It relates to a composite sheet used for.

종래, 전자기기의 제조 프로세스에 있어서는, 도 1~도 3에 나타내는 것과 같은 압착 공정이 행해지고 있다. 여기서, 도 1은 전체도, 도 2는 도 1의 A부분을 확대하여 단면을 나타내는 X 화살표 방향에서 본 도, 도 3은 도 1의 B부분을 확대하여 단면을 나타내는 Y 화살표 방향에서 본 도이다. 단, 도 1은 압착 전, 도 2, 도3은 압착 후의 상태를 나타내고 있다. Conventionally, in the manufacturing process of an electronic device, the crimping process as shown in FIGS. 1-3 is performed. 1 is an overall view, FIG. 2 is an enlarged view of the portion A of FIG. 1 as viewed from the direction of the arrow X, and FIG. 3 is an enlarged view of the portion B of FIG. . However, FIG. 1 has shown the state after crimping before FIG. 2 and FIG.

도 중의 부호 1은, 상부에 제1 전극(2)이 형성된 글래스 기판을 나타낸다. 플랙시블 프린트 기판(FPC)(3)의 한쪽의 단부는, 상기 글래스 기판(1)의 단부에 열 압착에 의해 적층된다. 여기서, FPC(3)는, 드라이버 IC(4)를 형성한 필름(5)과, 이 필름(5)의 편측에 형성된 제2 전극(6)을 가지고 있다. 하단부에 이형 시트(7)를 구비한 히터(8)는, 상기 글래스 기판(1)과 FPC(3)와의 열 압착 예정부 상에 배치되어 있다. FPC(3)의 타 쪽의 단부는, 단부에 제3 전극(9)이 형성된 PCB(printed circuit board)기판(10)과 열 압착에 의해 적층된다. 하단부에 이형 시트(11)를 구비한 히터(12)는, 상기 PCB 기판(10)과 FPC(3)와의 열 압착 예정부 상에 배치되어 있다. 또한, 부호 13은 이방성 도전 필름(ACF), 부호 14는 시일재를 나타낸다. 또한, 제3 전극(9), 제2 전극(6), 제1 전극(2)의 순서로 두께가 얇게 설정되어 있다. Reference numeral 1 in the figure denotes a glass substrate on which the first electrode 2 is formed. One end of the flexible printed circuit board (FPC) 3 is laminated on the end of the glass substrate 1 by thermocompression bonding. Here, the FPC 3 has the film 5 in which the driver IC 4 was formed, and the 2nd electrode 6 formed in the one side of this film 5. The heater 8 provided with the release sheet 7 in the lower end part is arrange | positioned on the thermocompression scheduled part of the said glass substrate 1 and the FPC3. The other end of the FPC 3 is laminated by thermal compression with a printed circuit board (PCB) substrate 10 having a third electrode 9 formed at the end thereof. The heater 12 provided with the release sheet 11 in the lower end part is arrange | positioned on the thermocompression scheduled part of the said PCB board | substrate 10 and the FPC3. Reference numeral 13 denotes an anisotropic conductive film (ACF), and reference numeral 14 denotes a sealing material. Further, the thickness is set thinner in the order of the third electrode 9, the second electrode 6, and the first electrode 2.

도 1의 압착 공정에서는, 글래스 기판(1)의 제1 전극(2)과 FPC(3)의 제2 전극(6) 사이에 ACF(13)를 개재시킨 상태로, ACF(13) 상의 FPC(3)와 히터(8)의 사이에 이형 시트(7)를 끼워 히터(8)에 의해 열 압착시킴으로써, 글래스 기판(1)의 제1 전극(2)과 FPC(3)의 제2 전극(6)과의 전기적인 접속을 행한다. 또한, PCB 기판(10)의 제3 전극(9)과 FPC(3)의 제2 전극(6) 사이에 ACF(13)를 개재시킨 상태로, ACF(13) 상의 FPC(3)와 히터(12)의 사이에 이형 시트(11)를 끼워 히터(12)에 의해 열 압착시킴으로써, PCB 기판(10)의 제3 전극(9)과 FPC(3)의 제2 전극(6)과의 전기적인 접속을 행한다.In the crimping step of FIG. 1, the FPC on the ACF 13 is placed between the first electrode 2 of the glass substrate 1 and the second electrode 6 of the FPC 3 with the ACF 13 interposed therebetween. The first electrode 2 of the glass substrate 1 and the second electrode 6 of the FPC 3 are formed by sandwiching the release sheet 7 between the 3 and the heater 8 by thermocompression bonding with the heater 8. Electrical connection with the Further, the FPC 3 and the heater (on the ACF 13) are interposed between the third electrode 9 of the PCB substrate 10 and the second electrode 6 of the FPC 3. By interleaving the release sheet 11 between the 12 and thermocompression by the heater 12, the third electrode 9 of the PCB substrate 10 and the second electrode 6 of the FPC 3 The connection is made.

그러나, 압착 공정에 사용되는 이형 시트(7), (11)에는, 균일한 압착을 행하기 위한 쿠션성과 함께, 압착 시에 밀려나온 ACF(13)에 대한 이형성이 요구되고 있다. 특히, PCB 기판의 제3 전극(9)과 FPC(3)의 제2 전극(6)과의 접속을 행하는 개소(B부분)에서는, 글래스 기판용의 이형 시트보다 큰 쿠션성이 요구된다. 종래, 실리콘 고무 시트, 혹은 이형성을 가진 불소 수지 필름, 혹은 실리콘 고무와 불소 수지 필름의 복합 시트 등이 여러 가지 제안, 사용되고 있다. However, the release sheets 7 and 11 used in the crimping step are required to have releasability to the ACF 13 pushed out at the time of the crimping together with the cushioning property for uniform crimping. In particular, in the part (part B) which connects the 3rd electrode 9 of a PCB board | substrate and the 2nd electrode 6 of the FPC 3, cushioning property larger than the release sheet for glass substrates is calculated | required. DESCRIPTION OF RELATED ART Conventionally, the silicone rubber sheet, the fluororesin film which has mold release property, or the composite sheet of a silicone rubber and a fluororesin film, etc. are variously proposed and used.

종래, 상기 이형 시트와 동일한 목적을 가진 고무 복합 시트로서는, 예를 들 어 일본특허공개 2004-55687호 공보가 제안되고 있다. 이 고무 복합 시트는, 수지 필름과, 이 수지 필름의 한쪽 면(플랙시블 기판측)에 형성된 불소 수지층과, 수지 필름의 타 쪽 면에 형성된 고무층으로 구성되고, 변형에 강하고 또한 이방성 도전막과의 이형성을 확보하기 위한 구성을 갖고 있다. Conventionally, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-55687 has been proposed as a rubber composite sheet having the same purpose as the release sheet. The rubber composite sheet is composed of a resin film, a fluororesin layer formed on one side (flexible substrate side) of the resin film, and a rubber layer formed on the other side of the resin film, and is resistant to deformation and an anisotropic conductive film; It has a structure to secure the release property of.

그러나, 최근, 압착 사이클을 단축하여 생산성을 향상시키기 위해, ACF의 재질이 저온 단시간 타입으로 교체되고, 접속 신뢰성의 유지, 향상이 요구되고 있다. 또한, ACF를 사용하는 압착 공정도 용도적으로 여러 방면에 걸쳐 있고, 제안되고 있는 이형 시트에서도 만족한 이형 특성, 반복 사용 수명을 제공하고 있다고는 말하기 어려운 것이 현 상황이다. However, in recent years, in order to shorten a crimping cycle and improve productivity, the material of ACF is replaced by the low temperature short time type, and maintaining and improving connection reliability is calculated | required. Moreover, it is difficult to say that the crimping process using ACF also has many aspects for a use purpose, and it is difficult to say that the proposed release sheet provides satisfactory release characteristics and repeated service life.

본 발명의 목적은, 내열성 수지 필름과 이 필름의 양면에 형성된 실리콘 고무계 조성물로 이루어지는 시트를 구비한 구성으로 함과 아울러, 상기 시트의 실리콘 고무계 조성물을 특정 조성으로 함으로써, 여러 가지의 이방성 도전 필름을 사용하는 압착 공정에 적합한, 반복 사용 수명이 길고, 또한 양호한 이형 특성을 가진 복합 시트를 제공하는 데 있다. An object of the present invention is to provide a structure comprising a sheet made of a heat-resistant resin film and a silicone rubber composition formed on both surfaces of the film, and to make a specific composition of the silicone rubber composition of the sheet to form various anisotropic conductive films. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a composite sheet having a long repeated service life and having good release properties suitable for the pressing process to be used.

본 발명의 복합 시트는, 전자 기기의 제조 공정의 하나인 열 압착 공정에서 사용되는 복합 시트에 있어서, 내열성 수지 필름과, 이 내열성 수지 필름의 양면에 형성된 실리콘 고무계 조성물로 이루어지는 시트를 구비하고, 상기 시트의 실리콘 고무계 조성물은, 중량부로, 실리콘 고무 100에 대하여, 실리카 분말: 2~100, 카본 블랙: 0~200, 산화 마그네슘: 10~1000, 산화철: 0~20, 산화 세륨: 0.1~0.5를 포함하는 것을 특징으로 한다. The composite sheet of this invention is a composite sheet used in the thermocompression bonding process which is one of the manufacturing processes of an electronic device, Comprising: The sheet which consists of a heat resistant resin film and the silicone rubber composition formed on both surfaces of this heat resistant resin film, The said The silicone rubber composition of the sheet is, by weight part, silica powder: 2 to 100, carbon black: 0 to 200, magnesium oxide: 10 to 1000, iron oxide: 0 to 20, and cerium oxide: 0.1 to 0.5 with respect to the silicone rubber 100. It is characterized by including.

본 발명에 있어서, 상기 내열성 수지 필름으로서는, 폴리이미드 수지, 방향족 폴리아미드 수지, 폴리에테르 에테르케톤 수지, 폴리에테르 술폰 수지, 폴리페닐렌 설파이드 수지 중 어느 하나의 내열성 수지로 이루어지는 필름을 들 수 있지만, 특별히 한정되지 않는다. In this invention, although the said heat resistant resin film is a film which consists of a heat resistant resin in any one of a polyimide resin, an aromatic polyamide resin, a polyether ether ketone resin, a polyether sulfone resin, and a polyphenylene sulfide resin, It is not specifically limited.

본 발명에 있어서, 실리콘 고무 100 중량부에 대하여 실리카 분말을 2~100 중량부로 하는 것은, 다음의 이유에 의해서다. 즉, 실리카 분말이 2 중량부 미만에서는, 고무 경도가 낮아져 잔류 압축 왜곡이 커진다. 또한, 실리카 분말이 100 중량부를 넘으면, 고무 경도가 너무 높아져 쿠션성이 떨어짐과 아울러, 성형성이 악화한다. In this invention, it is for the following reason that a silica powder shall be 2-100 weight part with respect to 100 weight part of silicone rubber. That is, when silica powder is less than 2 weight part, rubber hardness will become low and residual compressive distortion will increase. Moreover, when silica powder exceeds 100 weight part, rubber hardness will become high too much and a cushion property will fall, and moldability will deteriorate.

본 발명에 있어서, 실리콘 고무 100 중량부에 대하여 카본 블랙을 0~200 중량부로 하는 것은, 카본 블랙이 200 중량부를 넘으면, 전기 전도도가 높아지지 않고 대전 방지 특성의 향상이 적음과 아울러, 성형성이 악화하기 때문이다. In the present invention, the carbon black is 0 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone rubber. When the carbon black is more than 200 parts by weight, the electrical conductivity is not increased and the antistatic property is less improved and the moldability is improved. Because it worsens.

본 발명에 있어서, 실리콘 고무 100 중량부에 대하여 산화 마그네슘을 10~1000 중량부로 하는 것은, 다음의 이유에 의해서다. 즉, 산화 마그네슘이 10 중량부 미만에서는, 열 전도 속도가 낮고, 승온에 시간이 걸린다. 또한, 산화 마그네슘이 1000 중량부를 넘으면, 열 전도 속도가 높아지지 않고 충전량의 증가에 대한 효과를 얻을 수 없음과 아울러, 성형성이 악화하여 경화 후의 고무가 취화한다. In this invention, it is for the following reason that magnesium oxide is 10-1000 weight part with respect to 100 weight part of silicone rubber. That is, when magnesium oxide is less than 10 weight part, heat conduction rate is low and temperature rising takes time. In addition, when magnesium oxide exceeds 1000 parts by weight, the thermal conduction rate does not increase, the effect on the increase of the filling amount cannot be obtained, and the moldability deteriorates and the rubber after curing becomes brittle.

본 발명에 있어서, 실리콘 고무 100 중량부에 대하여 산화철을 0~20 중량부로 하는 것은, 20 중량부를 넘으면, 고온 가압 하에서의 실리콘 폴리머의 저 분자량화를 억제할 수 없고, 잔류 압축 왜곡을 저하할 수 없기 때문이다. In the present invention, when the iron oxide is 0 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silicone rubber, when it exceeds 20 parts by weight, the low molecular weight of the silicone polymer under high temperature pressurization cannot be suppressed, and the residual compression distortion cannot be reduced. Because.

본 발명에 있어서, 실리콘 고무 100 중량부에 대하여 산화 세륨을 0.1~0.5 중량부로 하는 것은, 다음의 이유에 의해서다. 즉, 산화 세륨이 0.1 중량부 미만에서는, 고온 가압 하에서의 실리콘 폴리머의 저 분자량화가 발생하고, 잔류 압축 왜곡이 크다. 또한, 산화 세륨이 0.5 중량부를 넘으면, 고온 가압 하에서의 실리콘 폴리머의 저 분자량화를 억제할 수 없고, 잔류 압축 왜곡을 저하할 수 없다.In the present invention, the cerium oxide is 0.1 to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone rubber for the following reason. That is, when cerium oxide is less than 0.1 weight part, the low molecular weight of a silicone polymer under high temperature pressurization will generate | occur | produce, and residual compression distortion will be large. Moreover, when cerium oxide exceeds 0.5 weight part, the low molecular weight formation of a silicone polymer under high temperature pressurization cannot be suppressed, and residual compression distortion cannot be reduced.

본 발명에 있어서, 총 두께는 0.01~5㎜인 것이 바람직하다. 여기서, 총 두께가 0.01㎜ 미만의 경우는 강도 부족에 의해 사용 수명을 만족시키지 않고, 총 두께가 5㎜를 넘으면 열 전도 속도가 낮아 압착에 시간이 걸린다.In the present invention, the total thickness is preferably 0.01 to 5 mm. Here, when the total thickness is less than 0.01 mm, the service life is not satisfied due to lack of strength, and when the total thickness is more than 5 mm, the thermal conduction rate is low, so that the crimping takes time.

본 발명에 의하면, 여러 가지 이방성 도전 필름을 사용하는 압착 공정에 적합한, 반복 사용 수명이 길고, 또한 양호한 이형 특성을 가진 복합 시트를 얻을 수 있다. According to the present invention, it is possible to obtain a composite sheet having a long repeating service life and good release properties suitable for a crimping step using various anisotropic conductive films.

이하, 이 발명의 각 실시 형태에 관계하는 복합 시트에 관해서, 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 하기 제1~8의 실시 형태는, 도 1의 A부분에서의 전극 간의 압착에 이용되는 복합 시트이다. 또한, 하기의 제9, 10의 실시 형태는, 도 1의 B부분에서의 전극간의 압착에 이용되는 복합 시트에 관한 것이다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the composite sheet which concerns on each embodiment of this invention is demonstrated with reference to drawings. Moreover, following 1st-8 embodiment is a composite sheet used for crimping | bonding between electrodes in the A part of FIG. Moreover, following 9th and 10th embodiment are related with the composite sheet used for crimping | bonding between electrodes in the B part of FIG.

(제1 실시 형태)(1st embodiment)

도 4를 참조한다. See FIG. 4.

도 중의 부호 21은, 폴리이미드로 이루어지는 두께 50㎛의 내열성 수지 필름(폴리이미드 필름)을 나타낸다. 코로나 방전 처리에 의해 조면화된 요철면(21a,21b)은, 상기 폴리이미드 필름(21)의 양면에 각각 형성되어 있다. 실리콘 고무계 조성물로 이루어지는 흑색의 시트(22a,22b)는, 요철면(21a,21b)이 형성된 폴리이미드 필름(21)의 양면에 각각 형성되어 있다. 여기서, 시트(22a,22b)는, 오르가노폴리실록산(실리콘 고무) 100 중량부에, 실리카 분말 12 중량부, 카본 블랙 42 중량부, 산화 마그네슘 260 중량부, 산화철 2 중량부 및 산화 세륨 0.1 중량부를 균일하게 혼합하여 이루어지는 실리콘계 조성물을 적층, 건조, 경화하여 형성된다. The code | symbol 21 in FIG. Shows the heat resistant resin film (polyimide film) of 50 micrometers in thickness which consists of polyimides. The uneven surfaces 21a and 21b roughened by the corona discharge treatment are formed on both surfaces of the polyimide film 21, respectively. The black sheets 22a and 22b made of the silicone rubber composition are formed on both surfaces of the polyimide film 21 on which the uneven surfaces 21a and 21b are formed. Here, the sheets 22a and 22b include 100 parts by weight of organopolysiloxane (silicone rubber), 12 parts by weight of silica powder, 42 parts by weight of carbon black, 260 parts by weight of magnesium oxide, 2 parts by weight of iron oxide, and 0.1 parts by weight of cerium oxide. It forms by laminating | stacking, drying, and hardening | curing the silicone type composition which mixes uniformly.

이어서, 도 4의 복합 시트의 제조방법에 대하여 설명한다. Next, the manufacturing method of the composite sheet of FIG. 4 is demonstrated.

(1) 우선, 기재로서, 두께 50㎛의 폴리이미드 필름을 사용했다. 이 폴리이미드 필름은, 프라이머로서 폴리알콕시실란, 백금 화합물, 테트라에톡시실란을 n-핵산에 용해한 것을 이용하여 양면에 코팅하고, 실온에서 10분 건조했다. 이 때의 부착량은 편면 2.0g/㎡였다. 또한, 이것과는 별도로, 오르가노폴리실록산 100 중량부에, 실리카 분말 12 중량부, 카본 블랙 42 중량부, 산화 마그네슘 260 중량부, 산화철 2 중량부 및 산화 세륨 0.1 중량부를 혼련기로 균일하게 혼합함으로써 실리콘 고무계 조성물을 얻었다. (1) First, a 50-micrometer-thick polyimide film was used as a base material. This polyimide film was coated on both surfaces using a polyalkoxysilane, a platinum compound and a tetraethoxysilane dissolved in n-nucleic acid as a primer, and dried at room temperature for 10 minutes. The adhesion amount at this time was 2.0g / m <2> of single side | surfaces. In addition, apart from this, silicon is obtained by uniformly mixing 100 parts by weight of the organopolysiloxane with 12 parts by weight of silica powder, 42 parts by weight of carbon black, 260 parts by weight of magnesium oxide, 2 parts by weight of iron oxide, and 0.1 parts by weight of cerium oxide. A rubber composition was obtained.

(2) 이어서, 상기 실리콘계 고무 조성물을 톨루엔 용제에 용해하고, 또한 백 금 가황제를 가해 고무 페이스트를 작성했다. 계속해서, 상기 프라이머 처리를 실시한 두께 50㎛의 폴리이미드 필름의 편면에 상기 고무 페이스트를 코팅한 후, 열기 가황로에 의해 170℃ 하에서 10분간 가황했다. 계속해서, 이 처리를 폴리이미드 필름의 타 쪽 면에도 반복하여 행함으로써, 폴리이미드의 심재를 중간으로 하여 상하면을 대칭한 구조로 했다. 또한, 200℃의 열풍 건조로에서 4시간 처리함으로써 2차 가황을 행하고, 총 두께 200㎛의 실리콘 고무 조성물 피복의 복합 시트를 얻었다. (2) Next, the said silicone type rubber composition was melt | dissolved in the toluene solvent, and also the platinum vulcanizing agent was added and the rubber paste was created. Subsequently, after coating the said rubber paste on the single side | surface of the 50-micrometer-thick polyimide film which carried out the said primer process, it vulcanized for 10 minutes by 170 degreeC with a hot air vulcanization furnace. Subsequently, this process was repeated to the other surface of the polyimide film, and the upper and lower surfaces were made into the symmetrical structure by making the core material of polyimide into the middle. Furthermore, secondary vulcanization was carried out by treatment in a hot air drying furnace at 200 ° C. for 4 hours to obtain a composite sheet of silicone rubber composition coating having a total thickness of 200 μm.

제1 실시 형태에 의하면, 요철면(21a,21b)을 가진 폴리이미드 필름(21)과, 이 폴리이미드 필름(21)의 양면에 형성된, 소정의 조성을 가지는 실리콘 고무계 조성물로 이루어지는 시트(22a,22b)로부터 복합 시트(23)가 구성되어 있다. 따라서, 본 발명의 복합 시트(23)는, 여러 가지 이방성 도전 필름을 사용하는 압착 공정에 적합한, 반복 사용 수명이 길고, 또한 양호한 이형 특성을 가진다. According to 1st Embodiment, the sheet | seats 22a and 22b which consist of the polyimide film 21 which has uneven surface 21a, 21b, and the silicone rubber composition which has predetermined composition formed in both surfaces of this polyimide film 21. ), A composite sheet 23 is formed. Therefore, the composite sheet 23 of this invention has a long repeat service life suitable for the crimping | compression-bonding process using various anisotropic conductive films, and has favorable mold release characteristics.

사실, 도 5에 나타내는 것과 같은 시험기를 이용하여 상기 복합 시트의 두께 감소율(%)의 시험을 행했다. 이 시험은, 히터 하반(31) 상에 복합 시트(32)를 재치하고, 이 복합 시트(32)를 가열한 히터 상반(33)으로 프레스하여, 복합 시트(32)의 두께 감소의 비율을 측정함으로써 행했다. 또한, 도 6에 나타내는 것과 같은 시험기를 이용하여 상기 복합 시트의 압착 내구성의 시험을 행했다. 이 시험은, 가열한 히터 하반(31) 상에 프린트 기판(34a), 이방성 도전성 필름(35), 패턴 설계하지 않은 구리 증착 폴리이미드 필름(34b)을 순차적으로 끼워 복합 시트(32)를 재치하고, 이 복합 시트(32)를 가열한 히터 상반(33)으로 프레스함으로써 행했다. In fact, the test of the thickness reduction rate (%) of the said composite sheet was done using the tester shown in FIG. This test mounts the composite sheet 32 on the heater lower half 31, presses the composite sheet 32 to the heated heater upper panel 33, and measures the rate of thickness reduction of the composite sheet 32. I did it by doing. Moreover, the crimp durability test of the said composite sheet was done using the tester as shown in FIG. In this test, the composite sheet 32 is placed on the heated heater lower half 31 by sequentially inserting the printed board 34a, the anisotropic conductive film 35, and the copper-deposited polyimide film 34b without pattern design. The composite sheet 32 was pressed by pressing the heated upper half 33.

두께 감소율은, 프레스 압력: 4MPa, 히터 상반 온도: 300℃, 히터 하반 온도: 상온, 프레스 유지 시간: 10sec, 프레스 간격: 5sec, 프레스 횟수: 80회로서 구했다. Thickness reduction rate was calculated | required as press pressure: 4 MPa, heater upper half temperature: 300 degreeC, heater lower half temperature: normal temperature, press holding time: 10 sec, press interval: 5 sec, and press number: 80 times.

압착 내구성은, 프레스 압력: 3MPa, 히터 상반 온도: 280℃, 히터 하반 온도: 45℃, 프레스 유지 시간: 15sec, 프레스 횟수: 20,40,60,80회(각 프레스 횟수 후에 ACF의 압착 상태를 압착 시험 후의 도통에 의해 확인)로서 구했다.Press durability: press pressure: 3 MPa, heater upper temperature: 280 ° C, heater lower half temperature: 45 ° C, press holding time: 15 sec, press count: 20, 40, 60, 80 times (pressing the ACF after each press Confirmed by conduction after the crimping test).

(제2~8의 실시 형태 및 비교예 1~3)(Embodiments 2 and 8 and Comparative Examples 1 to 3)

원료의 조성물의 성분의 배합 비율을 바꾸는 것 이외, 상기 제1 실시 형태와 동일한 조작으로 복합 시트를 얻었다. 단, 비교예 3에 대해서는 폴리이미드 필름을 사용하고 있지 않다. The composite sheet was obtained by operation similar to the said 1st Embodiment except changing the compounding ratio of the component of the composition of a raw material. However, about the comparative example 3, the polyimide film is not used.

하기 표 1은, 제1 실시 형태 1~8 및 비교예 1~3의 원료의 조성물의 성분, 두께 감소율, 승온 속도, 대전 방지성, 성형 가공성 및 압착 내구성(각각 20회, 40회, 60회, 80회)에 대하여 조사한 결과를 나타낸다. 단, 표 1에 있어서, 승온 속도, 대전 방지성, 성형 가공성 및 압착 내구성은, 최량의 것을 두 겹 원으로, 양호한 것을 한 겹 원으로, 보통의 것을 삼각으로, 불량한 것을 ×로 표시했다. 또한, 표 1에 있어서, 실시예 1~8 및 비교예 1,2의 시트(22a,22b)의 두께는 각각 75㎛, 비교예 3의 고무층의 두께는 200㎛이다. Table 1 shows the components of the compositions of the raw materials of the first embodiment 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3, thickness reduction rate, temperature increase rate, antistatic properties, molding processability and crimp durability (20 times, 40 times, 60 times, respectively). , 80 times). However, in Table 1, the temperature increase rate, antistatic property, molding workability, and crimp durability indicated that the best one was a double ply circle, the good one was a single ply circle, the triangular one was triangular, and the bad was indicated by x. In addition, in Table 1, the thickness of the sheets 22a and 22b of Examples 1-8 and Comparative Examples 1 and 2 is 75 micrometers, respectively, and the thickness of the rubber layer of Comparative Example 3 is 200 micrometers.

원료 Raw material 배합비 (중량부) Compounding ratio (parts by weight) 실시 형태Embodiment 비교예Comparative example 1 2 3 4 5 6 1One 2 2 33 실리콘 고무Silicone rubber 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100 100 100 100 실리카 분말Silica powder 2~1002-100 1212 55 22 22 55 2020 3030 100100 22 150150 1010 카본 블랙Carbon black 10~20010-200 4242 1010 7070 6060 5555 2525 1010 200200 55 250 250 4040 산화 마그네슘Magnesium oxide 10~100010-1000 260260 3030 1010 5050 120120 500500 700700 10001000 1010 15001500 250250 산화철Iron oxide 0~200-20 22 00 1One 1One 1One 44 66 2020 00 30 30 22 산화 세륨Cerium oxide 0.1~0.50.1-0.5 0.10.1 0.10.1 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.50.5 0.050.05 1 One 0.30.3 두께 감소율Thickness reduction rate 0.50.5 1.31.3 1.31.3 1.11.1 0.90.9 0.80.8 1.31.3 0.30.3 1.41.4 1.4 1.4 2.2 2.2 승온 속도Temperature rise rate ×× ×× ×× 대전 방지성Antistatic ×× ×× 성형 가공성Moldability 압착 내구성 (횟수)Crimping Durability (Number) 2020 × × 4040 ×× ×× 6060 ×× ×× 8080 ××

단, 승온 속도에 있어서, ◎ : 고열전도성이며 압착 시간을 매우 양호하게 단축, ○ : 중열전도성이며 압착 시간을 양호하게 단축, △ : 저열전도성이며 압축 시간을 양호하게 단축, × : 약열전도성이며 압축시간의 단축 불충분을 각각 나타낸다.However, in the temperature increase rate, ◎: high thermal conductivity and very short compression time, ○: medium heat conductivity and good compression time, △: low thermal conductivity and good compression time, x: weak thermal conductivity And insufficient shortening of the compression time.

대전 방지성에 있어서, ◎ : 고도전성이며 매우 양호하게 대전을 방지, ○ : 중도전성이며 양호하게 대전을 방지, △ : 저도전성이며 대전을 방지, × : 약도전성이며 대전 방지 불량을 각각 나타낸다.In the antistatic property,?: Highly conductive and very good antistatic,?: Moderately conductive, satisfactory antistatic,?: Low conductive, antistatic, x: weakly conductive, and exhibit antistatic failure, respectively.

성형 가공성에 있어서, ○ : 성형 양호를 나타낸다.In molding processability, (circle): Molding favorable.

압착 내구성에 있어서, ○ : 도통 양호, × : 도통 불량을 나타낸다.In crimping durability, (circle): good conduction and x: poor conduction.

상기 표 1에 근거하는 제1 실시 형태 1~8 및 비교예 1~3의 복합 시트에 대한 고찰은 다음과 같다. The consideration about the composite sheet of 1st Embodiment 1-8 and Comparative Examples 1-3 based on the said Table 1 is as follows.

제1 실시 형태의 경우, 특성으로서의 승온 속도, 대전 방지성, 성형 가공성, 압착 내구성이 밸런스 좋게 설정되어 있고, ACF의 압착에 이용되는 열압착 시트에 요구되는 특성을 만족하는 것을 확인할 수 있었다. In the case of the first embodiment, it was confirmed that the temperature increase rate, antistatic property, molding processability, and crimp durability as properties are well-balanced, and satisfy the characteristics required for the thermocompression sheet used for crimping the ACF.

제2 실시 형태의 경우, 승온 속도는 저열전도이며 압착 시간을 단축하고, 또한 대전 방지성은 저도전성을 가지지만 대전을 방지하고 있다. 그러나, 실리콘 고무 조성물로 이루어지는 피복층의 강도 저하가 보여지고, 압착 내구성이 부족한 것을 확인할 수 있었다. In the case of the second embodiment, the temperature increase rate is low thermal conductivity, shortens the crimping time, and has antistatic property, but prevents electrification. However, the strength fall of the coating layer which consists of silicone rubber compositions was seen, and it was confirmed that the crimp durability was insufficient.

제3 실시 형태의 경우, 승온 속도는 약열전도이며 압착 시간의 단축은 불충분하고, 또한 대전 방지성은 고도전으로 양호하다. 또한, 실리콘 고무 조성물로 이루어지는 피복층에 약간의 강도 저하가 보여지고, 압착 내구성이 부족해 있는 것을 확인할 수 있었다. In the third embodiment, the rate of temperature rise is weak heat conduction, the shortening of the crimping time is insufficient, and the antistatic property is good at high electric conductivity. In addition, a slight decrease in strength was observed in the coating layer made of the silicone rubber composition, and it was confirmed that the compression durability was insufficient.

제4 실시 형태의 경우, 승온 속도는 저열전도성으로 압착 시간을 단축하고, 또한 대전 방지성은 고도전으로 매우 양호하다. 그러나, 실리콘 고무 조성물로 이루어지는 피복층에 약간의 강도 저하가 보여지고, 압착 내구성도 부족해 있는 것을 확인할 수 있었다. In the case of the fourth embodiment, the temperature increase rate is low thermal conductivity, shortens the crimping time, and the antistatic property is very good at high electric conductivity. However, it was confirmed that a slight decrease in strength was observed in the coating layer made of the silicone rubber composition, and the crimping durability was also insufficient.

제5 실시 형태의 경우, 승온 속도는 중열전도이며 압착 시간을 양호하게 단축하고, 또한 대전 방지성은 고도전으로 매우 양호하다. 그러나, 실리콘 고무 조성물로 이루어지는 피복층에 약간의 강도 저하가 보여지고, 압착 내구성도 약간 부족해 있는 것을 확인할 수 있었다. In the case of the fifth embodiment, the temperature increase rate is medium heat conduction, the compression time is shortened favorably, and the antistatic property is very good as the high electric warfare. However, a slight drop in strength was observed in the coating layer made of the silicone rubber composition, and it was confirmed that the compression durability was also slightly deficient.

제6 실시 형태의 경우, 승온 속도는 중열전도이며 압착 시간을 매우 양호하게 단축하고, 또한 대전 방지성은 저도전성이지만 대전을 방지하고 있다. 또한, 실리콘 고무 조성물로 이루어지는 피복층에 강도 저하가 보이지 않고, 압착 내구성도 충분한 것을 확인할 수 있었다.In the case of the sixth embodiment, the temperature increase rate is medium heat conduction and the compression time is shortened very satisfactorily, and the antistatic property is low conductivity but prevents charging. Moreover, it was confirmed that strength fall was not seen in the coating layer which consists of silicone rubber compositions, and crimp durability was also enough.

제7 실시 형태의 경우, 승온 속도는 고열전도이며 압착 시간을 매우 양호하게 단축하고, 또한 대전 방지성은 저도전성이기 때문에 대전 방지 불량이다. 또한, 실리콘 고무 조성물로 이루어지는 피복층에 강도 저하가 보이지 않고, 압착 내구성도 충분한 것을 확인할 수 있었다. In the case of the seventh embodiment, the temperature increase rate is high thermal conductivity, the compression time is shortened very satisfactorily, and the antistatic property is low. Moreover, it was confirmed that strength fall was not seen in the coating layer which consists of silicone rubber compositions, and crimp durability was also enough.

제8 실시 형태의 경우, 승온 속도는 고열전도이며 압착 시간을 매우 양호하게 단축하고, 또한 대전 방지성은 고도전성으로 매우 양호하다. 그러나, 실리콘 고무 조성물로 이루어지는 피복층에 강도 저하가 보여지고, 압착 내구성도 불충분하다. 또한, 성형성에 지장은 없지만, 성분 배합량이 많기 때문에, 복합 시트가 유연성이 결여되고, 건전한 ACF의 압착에 불확실성이 남는 것을 확인할 수 있었다. In the case of the eighth embodiment, the temperature increase rate is high thermal conductivity, the compression time is shortened very satisfactorily, and the antistatic property is very good in high conductivity. However, the strength fall is seen in the coating layer which consists of a silicone rubber composition, and crimp durability is also inadequate. In addition, although the moldability was not impaired, it was confirmed that the composite sheet lacked flexibility due to the large amount of component blending, and the uncertainty remained in the pressing of the healthy ACF.

비교예 1의 경우, 승온 속도는 약열전도이며 압착 시간의 단축은 불충분하고, 또한 대전 방지성은 약도전성이기 때문에 대전 방지 불량이다. 또한, 실리콘 고무 조성물로 이루어지는 피복층의 강도가 현저히 저하하기 때문에, 변형량이 크고, 반복 압착이 불가능한 것을 확인할 수 있었다. In the case of the comparative example 1, since the temperature increase rate is weak heat conduction, shortening of a crimping time is inadequate, and antistatic property is weak electroconductivity, it is an antistatic failure. Moreover, since the strength of the coating layer which consists of a silicone rubber composition falls remarkably, it was confirmed that deformation amount is large and it is impossible to repeat crimping.

비교예 2의 경우, 성형 가공성으로서 성분 배합량이 많고 성형 불능인 것을 확인할 수 있었다. In the case of the comparative example 2, it was confirmed that a component compounding quantity was large and molding impossibility as molding processability.

비교예 3의 경우, 승온 속도는 고열전도이며 압착 시간을 매우 양호하게 단축하고, 또한 대전 방지성은 고도전으로 극히 양호하다. 그러나, 실리콘 고무 조성물로 이루어지는 피복층의 강도가 현저히 저하하기 때문에, 변형량이 크고, 반복 압착이 불가능한 것을 확인할 수 있었다. In the case of the comparative example 3, the temperature increase rate is high thermal conductivity, the crimping time is shortened very well, and the antistatic property is extremely good as a high electric conductivity. However, since the strength of the coating layer which consists of a silicone rubber composition falls remarkably, it was confirmed that deformation amount is large and it is impossible to repeat crimping.

(제9 실시 형태)(Ninth embodiment)

도 7을 참조한다. 또한, 제9 실시 형태 및 후술하는 제10 실시 형태의 복합 시트의 경우, FPC의 단자 부분의 요철이 큰 용도로 사용되는 것을 상정하고 있기 때문에, 제1ㆍ제2 시트의 두께는 충분히 두껍게 형성되어 있다. 여기서, 도 7에 있어서, 복합 시트는, 제1 시트(42a)가 ACF측, 제2 시트(42b)가 히터측이 되도록 셋트한다. See FIG. 7. In addition, in the composite sheet of 9th Embodiment and 10th Embodiment mentioned later, since the unevenness | corrugation of the terminal part of an FPC is assumed to be used for a large use, the thickness of a 1st, 2nd sheet is formed thick enough, have. 7, the composite sheet is set so that the first sheet 42a is on the ACF side and the second sheet 42b is on the heater side.

도 중의 부호 41은, 폴리이미드로 이루어지는 두께 25㎛의 내열성 수지 필름(폴리이미드 필름)을 나타낸다. 이 폴리이미드 필름(41)의 양면에는, 코로나 방전 처리에 의해 조면화된 표면 거칠기(Ra)가 1.4의 요철면(41a,41b)이 각각 형성되어 있다. 요철면(41a,41b)이 형성된 폴리이미드 필름(41)의 양면에는, 각각 실리콘 고무계 조성물로 이루어지는 흑색의 제1 시트(두께 210㎛)(42a), 실리콘 고무계 조성물로 이루어지는 회색의 제2 시트(두께 115㎛)(42b)가 형성되어 있다.Reference numeral 41 in the figure denotes a heat resistant resin film (polyimide film) having a thickness of 25 μm made of polyimide. On both surfaces of the polyimide film 41, uneven surfaces 41a and 41b each having a roughness 1.4 of surface roughness Ra roughened by corona discharge treatment are formed. On both surfaces of the polyimide film 41 having the uneven surfaces 41a and 41b formed thereon, a first black sheet (210 µm thick) 42a made of a silicone rubber composition and a gray second sheet made of a silicone rubber composition ( 115 micrometers thick) 42b is formed.

여기서, 제1 시트(42a)는, 평균 중합도 4000의 오르가노폴리실록산(실리콘 고무) 100 중량부에, 실리카 분말 12 중량부, 카본 블랙 42 중량부, 산화 마그네슘 262 중량부, 산화철 2 중량부 및 산화 세륨 0.1 중량부를 균일하게 혼합하여 이루어지는 실리콘계 조성물을 적층, 건조, 경화하여 형성된다. 제2 시트(42b)는 평균 중합도 3700의 오르가노폴리실록산(실리콘 고무) 100 중량부에, 실리카 분말 31 중량부, 산화 마그네슘 698 중량부, 산화철 6 중량부 및 산화 세륨 0.1 중량부를 균일하게 혼합하여 이루어지는 실리콘계 조성물을 적층, 건조, 경화하여 형성된다. 하기 표 2는, 제9 실시 형태 및 후술하는 제10 실시 형태에 있어서의 각 원료의 배합 비율, 제1, 제2 시트의 두께, 두께 감소율, 승온 속도, 대전 방지성, 성형 가공성 및 압착 내구성(각각 20회, 40회, 60회, 80회)에 대하여 조사한 결과를 나타낸다. 단, 표 2에 있어서, 승온 속도, 대전 방지성, 성형 가공성 및 압착 내구성은, 최량의 것을 두 겹 원으로, 양호한 것을 한 겹 원으로, 보통의 것을 삼각으로, 불량한 것을 ×로 표시했다. Here, the first sheet 42a has 12 parts by weight of silica powder, 42 parts by weight of carbon black, 262 parts by weight of magnesium oxide, 2 parts by weight of iron oxide, and oxidation in 100 parts by weight of organopolysiloxane (silicone rubber) having an average degree of polymerization of 4000. It forms by laminating | stacking, drying, and hardening | curing the silicone type composition which mixes 0.1 weight part of cerium uniformly. The second sheet 42b is formed by uniformly mixing 31 parts by weight of silica powder, 698 parts by weight of magnesium oxide, 6 parts by weight of iron oxide, and 0.1 parts by weight of cerium oxide in 100 parts by weight of organopolysiloxane (silicone rubber) having an average degree of polymerization of 3700. It is formed by laminating, drying and curing the silicone composition. Table 2 below shows the blending ratios of the raw materials, the thicknesses of the first and second sheets, the thickness reduction rate, the temperature increase rate, the antistatic property, the molding processability, and the pressing durability in the ninth embodiment and the tenth embodiment described later. 20, 40, 60, and 80 times the results of the investigation are shown. However, in Table 2, the temperature increase rate, antistatic property, molding workability, and crimp durability indicated the best one in two-ply circles, the good one in one-ply circle, the triangular one, and the poor one in x.

원료Raw material 제9 실시형태 (제1 시트/제2 시트) 9th Embodiment (1st sheet / 2nd sheet) 제10 실시 형태 (제1 시트/제2 시트) Tenth Embodiment (First Sheet / Second Sheet) 실리콘 고무Silicone rubber 100/100100/100 100/100100/100 실리카 분말Silica powder 12/3112/31 12/1212/12 카본 블랙Carbon black 42/042/0 42/4242/42 산화 마그네슘Magnesium oxide 262/698262/698 262/262262/262 산화철Iron oxide 2/62/6 2/22/2 산화 세륨Cerium oxide 0.1/0.10.1 / 0.1 0.1/0.10.1 / 0.1 두께 (㎛)Thickness (㎛) 210/115210/115 150/150150/150 두께 감소율Thickness reduction rate 0.60.6 0.40.4 승온 속도Temperature rise rate 대전 방지성Antistatic 성형 가공성Moldability 압착 내구성 (횟수)Crimping Durability (Number) 2020 4040 6060 8080

단, 승온 속도에 있어서, ◎ : 고열전도성이며 압착 시간을 매우 양호하게However, in the temperature increase rate, ◎: high thermal conductivity and very good compression time

단축할 수 있는 경우를 나타낸다. The case where it can shorten is shown.

대전 방지성에 있어서, ◎ : 고도전성이며 매우 양호하게 대전 방지,In antistatic property,?: Highly conductive and very good antistatic,

○ : 중도전성이며 양호하게 대전 방지를 각각 나타낸다. (Circle): It is moderate electroconductivity and shows good antistatic, respectively.

성형 가공성에 있어서, ○ : 성형 양호를 나타낸다. In molding processability, (circle): Molding favorable.

압착 내구성에 있어서, ○ : 도통 양호를 나타낸다.In crimping durability, (circle): Good conduction is shown.

이어서, 도 7의 복합 시트(43)의 제조 방법에 대하여 설명한다. Next, the manufacturing method of the composite sheet 43 of FIG. 7 is demonstrated.

(1) 우선, 기재로서 두께 25㎛의 폴리이미드 필름을 사용했다. 또한, 오르가노폴리실록산 100 중량부에, 실리카 분말 12 중량부, 카본 블랙 42 중량부, 산화 마그네슘 262 중량부, 산화철 2 중량부 및 산화 세륨 0.1 중량부를 혼련기로 균일하게 혼합함으로써 실리콘 고무계 조성물을 얻었다.(1) First, a 25-micrometer-thick polyimide film was used as the substrate. Further, a silicone rubber-based composition was obtained by uniformly mixing 12 parts by weight of silica powder, 42 parts by weight of carbon black, 262 parts by weight of magnesium oxide, 2 parts by weight of iron oxide, and 0.1 parts by weight of cerium oxide by a kneader with 100 parts by weight of the organopolysiloxane.

(2) 이어서, 상기 실리콘계 고무 조성물을 톨루엔 용제에 용해하고, 또한 백금 가황제를 가해 고무 페이스트를 작성했다. 계속해서, 상기 프라이머 처리를 실시한 두께 25㎛의 폴리이미드 필름의 편면에 상기 고무 페이스트를 코팅한 후, 열기 가황로에 의해 170℃ 하에서 10분간 가황했다. 계속해서, 이 처리를 폴리이미드 필름의 타 쪽 면에도 반복하여 행함으로써, 폴리이미드의 심재를 중간으로 한 양면 구조로 했다. 또한, 200℃의 열풍 건조로에서 4시간 처리함으로써 2차 가황을 행하고, 총 두께 350㎛의 실리콘 고무 조성물 피복의 복합 시트(43)를 얻었다. (2) Next, the said silicone type rubber composition was melt | dissolved in the toluene solvent, and also the platinum vulcanizing agent was added and the rubber paste was created. Subsequently, after coating the said rubber paste on the single side | surface of the 25-micrometer-thick polyimide film which carried out the said primer process, it vulcanized for 10 minutes by 170 degreeC with a hot air vulcanization furnace. Subsequently, this process was repeated to the other surface of the polyimide film, and it was set as the double-sided structure which made the core material of polyimide the middle. Furthermore, secondary vulcanization was carried out by treatment in a hot air drying furnace at 200 ° C. for 4 hours to obtain a composite sheet 43 of a silicone rubber composition coating having a total thickness of 350 μm.

제9 실시 형태에 의하면, 요철면(41a,41b)을 가진 폴리이미드 필름(41)과, 이 폴리이미드 필름(41)의 한쪽 면에 형성된, 소정의 조성을 가지는 실리콘 고무계 조성물로 이루어지는 두께가 각각 210㎛의 제1 시트(42a)와, 폴리이미드 필름(41)의 타 쪽 면에 형성된, 소정의 조성을 가지는 실리콘 고무계 조성물로 이루어지는 두께가 각각 115㎛의 제2 시트(42b)로부터 복합 시트(43)가 구성되어 있다. 따라서, 본 발명의 복합 시트(43)는, 제1 실시 형태와 동일한 효과를 얻을 수 있을 뿐 아니라, 이하에 진술하는 효과를 가진다. According to the ninth embodiment, the thickness of the polyimide film 41 having the uneven surfaces 41a and 41b and the silicone rubber composition having a predetermined composition formed on one surface of the polyimide film 41 are each 210. The composite sheet 43 is formed from the second sheet 42b each having a thickness of 115 µm, which is formed of a silicone rubber-based composition having a predetermined composition, formed on the first sheet 42a having a thickness and the other side of the polyimide film 41. Is composed. Therefore, the composite sheet 43 of the present invention not only obtains the same effects as in the first embodiment, but also has the following effects.

즉, 용도에 따라서는, 복합 시트에 요구되는 쿠션성의 정도는 다르다. 예를 들어, 쿠션성을 필요로 하는 용도에 대해서는, 시트의 두께를 두껍게 할 필요가 있고, 여기서, 양면의 제1ㆍ제2 시트의 두께를 두껍게 하면, 쿠션성은 부여할 수 있지만, 열전도성이 손상된다. 그래서, 워크(플랙시블 기판)에 접촉하는 제1 시트(42a)의 두께를 두껍게 하고, 제2 시트(42b)의 두께를 얇게 함으로써, 열전도성을 손상하지 않고 쿠션성을 부여할 수 있다. 상기 제9 실시 형태의 경우, 제1 시트(42a)의 두께를 210㎛로 하고, 제2 시트(42b)의 두께를 115㎛로 하고 있기 때문에, 복합 시트(43)의 열전도성을 손상하지 않고, 쿠션성을 부여할 수 있다. 또한, 도 5의 복합 시트(43)에 있어서, 제1 시트(42a)는 기능성 발현을 위해, 제2 시트(42b)는 휨 방지를 위해 필요하다. That is, the degree of cushioning required for the composite sheet varies depending on the use. For example, for applications that require cushioning, the thickness of the sheet needs to be thickened. If the thickness of the first and second sheets on both sides is thickened, cushioning can be imparted, but thermal conductivity is impaired. do. Therefore, by thickening the thickness of the first sheet 42a in contact with the work (flexible substrate) and making the thickness of the second sheet 42b thin, cushioning properties can be imparted without impairing thermal conductivity. In the case of the ninth embodiment, since the thickness of the first sheet 42a is set to 210 µm and the thickness of the second sheet 42b is set to 115 µm, the thermal conductivity of the composite sheet 43 is not impaired. Cushioning property can be provided. In addition, in the composite sheet 43 of FIG. 5, the 1st sheet 42a is necessary for the functional expression, and the 2nd sheet 42b is necessary for the bending prevention.

또한, 동일한 색의 시트를 폴리이미드 필름의 양면에 형성하면, 복합 시트(43)의 표리(겉과 속)의 식별을 육안으로는 불가능하다. 그래서, 상기 제9 실시 형태의 경우, 제1 시트(42a)의 색을 흑색으로 하고, 제2 시트(42b)의 색을 회색으로 하고 있기 때문에, 복합 시트(43)의 표리의 식별을 용이하게 행할 수 있다. 또한, 폴리이미드 필름의 두께를 25㎛로 하고 있기 때문에, 제1 실시 형태와 비교해, 열전도성을 개선할 수 있다. In addition, when sheets of the same color are formed on both sides of the polyimide film, it is impossible to visually identify the front and back (face and inside) of the composite sheet 43. Therefore, in the ninth embodiment, since the color of the first sheet 42a is made black and the color of the second sheet 42b is made gray, the front and back of the composite sheet 43 can be easily identified. I can do it. Moreover, since the thickness of a polyimide film is 25 micrometers, compared with 1st Embodiment, thermal conductivity can be improved.

이렇게, 제9 실시 형태의 복합 시트는, 승온 속도를 개선하고, 대전 방지성, 성형 가공성, 압착 내구성이 밸런스 좋게 설정되어 있고, 제1 실시 형태와 비교해 보다 쿠션성이 요구되는 용도에도 적합하다. Thus, the composite sheet of 9th Embodiment improves a temperature increase rate, is set in the balance of antistatic property, molding processability, and crimp durability, and is suitable also for the use which requires cushion property compared with 1st Embodiment.

(제10 실시 형태)(10th embodiment)

도 8을 참조한다. 단, 도 7과 동일 부재는 동일 부호를 붙이고, 설명을 생략한다. See FIG. 8. However, the same members as in Fig. 7 are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

상기 표 2에 나타내는 것과 같이, 제1 시트(52a)는 두께가 150㎛로 흑색이고, 제2 시트(52b)는 제1 시트(52a)와 두께 및 색이 동일하다. 따라서, 제1 시트(51a)와 제2 시트(52b)의 배합 비율은 동일하다. 또한, 제10 실시 형태에 관계하는 복합 시트(53)의 제작 방법은 제9 실시 형태의 경우와 동일하다. As shown in Table 2, the first sheet 52a is black with a thickness of 150 µm, and the second sheet 52b has the same thickness and color as the first sheet 52a. Therefore, the compounding ratio of the 1st sheet 51a and the 2nd sheet 52b is the same. In addition, the manufacturing method of the composite sheet 53 which concerns on 10th Embodiment is the same as that of the ninth embodiment.

제10 실시 형태에 의하면, 승온 속도를 개선하고, 대전 방지성, 성형 가공성, 압착 내구성이 밸런스 좋게 설정되어 있고, 실시예 1과 비교해 두께 감소율, 열전도성이 약간 개선된 복합 시트를 얻을 수 있다. According to the tenth embodiment, a composite sheet can be obtained in which the temperature increase rate is improved, the antistatic property, the molding processability and the compression durability are set in a good balance, and the thickness reduction rate and the thermal conductivity are slightly improved as compared with the first embodiment.

도 1은, 회로기판의 전극 단자부와 글래스 기판, PCB 기판의 도전부와의 열압착을, 이형 시트를 이용하여 행하는 경우의 설명도이다. FIG. 1 is an explanatory diagram in the case where thermocompression bonding between an electrode terminal portion of a circuit board, a glass substrate, and a conductive portion of a PCB substrate is performed using a release sheet.

도 2는, 도 1의 요부를 확대하여 나타내는 X 화살표 방향에서 본 도이다. FIG. 2 is a view seen from the direction of the X arrow in which the main portion of FIG. 1 is enlarged. FIG.

도 3은, 도 1의 요부를 확대하여 나타내는 Y 화살표 방향에서 본 도이다. FIG. 3 is a view seen from the direction of the arrow Y, in which the main portion of FIG. 1 is enlarged. FIG.

도 4는, 본 발명의 제1 실시 형태에 관계하는 복합 시트의 개략적인 단면도이다. 4 is a schematic cross-sectional view of the composite sheet according to the first embodiment of the present invention.

도 5는, 본 발명의 복합 시트의 두께 감소율을 시험하기 위한 시험장치의 설명도이다. 5 is an explanatory view of a test apparatus for testing the thickness reduction rate of the composite sheet of the present invention.

도 6은, 본 발명의 복합 시트의 압착 내구성을 시험하기 위한 시험장치의 설명도이다. 6 is an explanatory diagram of a test apparatus for testing the crimp durability of the composite sheet of the present invention.

도 7은, 본 발명의 제9 실시 형태에 관계하는 복합 시트의 개략적인 단면도이다. 7 is a schematic cross-sectional view of a composite sheet according to a ninth embodiment of the present invention.

도 8은, 본 발명의 제10 실시 형태에 관계하는 복합 시트의 개략적인 단면도이다. 8 is a schematic cross-sectional view of a composite sheet according to a tenth embodiment of the present invention.

Claims (3)

전자기기의 제조 공정의 하나인 열 압착 공정에서 사용되는 복합 시트에 있어서, In the composite sheet used in the thermocompression bonding step which is one of the manufacturing processes of the electronic device, 내열성 수지 필름과, 이 내열성 수지 필름의 양면에 형성된 실리콘 고무계 조성물로 이루어지는 시트를 구비하고, And a sheet made of a heat resistant resin film and a silicone rubber composition formed on both sides of the heat resistant resin film, 상기 시트의 실리콘 고무계 조성물은, 중량부로, 실리콘 고무 100에 대하여, 실리카 분말: 2~100, 카본 블랙: 0~200, 산화 마그네슘: 10~1000, 산화철: 0~20, 산화 세륨: 0.1~0.5를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합 시트.The silicone rubber composition of the sheet is, by weight part, silica powder: 2 to 100, carbon black: 0 to 200, magnesium oxide: 10 to 1000, iron oxide: 0 to 20, cerium oxide: 0.1 to 0.5 with respect to the silicone rubber 100. Composite sheet comprising a. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 내열성 수지 필름은, 폴리이미드 수지, 방향족 폴리아미드 수지, 폴리에테르 에테르케톤 수지, 폴리에테르 술폰 수지, 폴리페닐렌 설파이드 수지 중 어느 하나의 내열성 수지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 복합 시트. The said heat resistant resin film consists of a heat resistant resin in any one of polyimide resin, aromatic polyamide resin, polyether ether ketone resin, polyether sulfone resin, and polyphenylene sulfide resin. 제1항 또는 2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 총 두께가 0.01~5㎜인 것을 특징으로 하는 복합 시트.A composite sheet having a total thickness of 0.01 to 5 mm.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101078252B1 (en) 2010-03-18 2011-10-31 유한회사 한국 타코닉 Thermal conductive and release sheet used in bonding anisotropic conductive film
TWI441293B (en) * 2011-06-29 2014-06-11 Au Optronics Corp Buffer sheet and cof bonding method applying the buffer sheet
JP2015170690A (en) * 2014-03-06 2015-09-28 信越化学工業株式会社 Thermally conductive composite sheet for crimping led chip and method for manufacturing the same
JP6435507B2 (en) * 2014-07-18 2018-12-12 パナソニックIpマネジメント株式会社 COMPOSITE SHEET, ITS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE USING COMPOSITE SHEET
JP6705329B2 (en) * 2016-07-27 2020-06-03 日本ゼオン株式会社 Composite sheet and thermocompression bonding method
CN116490352A (en) * 2020-10-19 2023-07-25 三菱化学株式会社 Laminate body

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4574879A (en) * 1984-02-29 1986-03-11 The Bergquist Company Mounting pad for solid-state devices
JP2649899B2 (en) * 1994-09-21 1997-09-03 ヤマウチ株式会社 Cushion material for forming press
JP4301468B2 (en) * 1999-07-07 2009-07-22 信越化学工業株式会社 Heat-resistant and heat-conductive silicone rubber composite sheet and method for producing the same
JP3920611B2 (en) * 2001-09-28 2007-05-30 ヤマウチ株式会社 Cushion material for heat press and method for producing the same
JP4210080B2 (en) * 2002-07-17 2009-01-14 中興化成工業株式会社 Rubber composite sheet
JP4572056B2 (en) * 2002-10-04 2010-10-27 信越化学工業株式会社 Thermally conductive silicone rubber composite sheet
JP3902558B2 (en) * 2003-03-07 2007-04-11 信越化学工業株式会社 Silicone rubber sheet for thermocompression bonding
JP2004311577A (en) * 2003-04-03 2004-11-04 Shin Etsu Chem Co Ltd Thermally conductive composite sheet and method of manufacturing the same
JP4745058B2 (en) * 2003-09-29 2011-08-10 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 Thermally conductive silicone composition
JP2005297234A (en) * 2004-04-07 2005-10-27 Shin Etsu Chem Co Ltd Silicone rubber sheet for thermocompression bonding and method for manufacturing the same

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