KR20090103784A - Thermal conductive laminate and method for preparing the same - Google Patents

Thermal conductive laminate and method for preparing the same

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KR20090103784A
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Abstract

PURPOSE: A thermal conductive laminate and a method for preparing the same are provided to be easily attached to heat-generating electronic components or heat-radiating members. CONSTITUTION: A thermal conductive laminate(1) comprises a first cured layer and a second cured layer. The both sides of the thermal conductive laminate have different adhesion force. The first cured layer is formed by molding a first silicone composition into a thin film and curing it. The second cured layer is formed by molding a second silicone composition into a thin film and curing it on the one side of the first cured layer. The first silicone composition contains: organopolysiloxane with two or more alkenyl groups bonded with silicone atom within one molecule; thermal conductive filler; organo hydrogen polysiloxane; platinum-family catalyst; reaction control agent; and silicon resin.

Description

열 전도성 적층체 및 그의 제조 방법 {THERMAL CONDUCTIVE LAMINATE AND METHOD FOR PREPARING THE SAME}Thermally Conductive Laminates and Methods for Manufacturing the Same {THERMAL CONDUCTIVE LAMINATE AND METHOD FOR PREPARING THE SAME}

본 발명은 특히 발열성 전자 부품의 냉각을 위해, 발열성 전자 부품과 히트싱크 또는 회로 기판 등의 방열 부재 사이의 열경계면에 개재할 수 있는 열 전도성 적층체 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates in particular to a thermally conductive laminate which can be interposed on a thermal interface between a heat generating electronic component and a heat dissipating member such as a heat sink or a circuit board for cooling the heat generating electronic component and a manufacturing method thereof.

개인용 컴퓨터, 디지털 비디오 디스크, 휴대 전화 등의 전자 기기에 사용되는 CPU, 드라이버 IC, 메모리 등의 반도체 소자, LED 등의 발광 소자 등의 전자 부품은 고성능화·고속화·소형화·고집적화에 따라, 그것 자신이 대량의 열을 발생한다. 그 열에 의한 이들 발열성 전자 부품의 온도 상승은 발열성 전자 부품 자신의 동작 불량, 파괴를 야기할 우려가 있다. 그 때문에, 동작 중의 발열성 전자 부품의 온도 상승을 억제하기 위한 많은 열방산 방법 및 그것에 사용하는 방열 부재가 제안되어 있다.Electronic components such as CPUs, driver ICs, and memory devices used in electronic devices such as personal computers, digital video disks, and mobile phones, and light emitting devices such as LEDs, have become high-performance, high-speed, miniaturized, and highly integrated. Generates a large amount of heat The increase in temperature of these heat generating electronic components due to the heat may cause a malfunction and destruction of the heat generating electronic components themselves. Therefore, many heat dissipation methods for suppressing the temperature rise of the heat generating electronic component during operation, and the heat radiating member used for it are proposed.

종래, 전자 기기 등에 있어서는, 동작 중의 발열성 전자 부품의 온도 상승을 억제하기 위해서, 알루미늄, 구리 등의 열전도율이 높은 금속판을 이용한 히트싱크 등의 방열 부재가 사용되고 있다. 이 방열 부재는, 발열성 전자 부품이 발생하는 열을 전도하고, 열을 외기와의 온도차에 의해서 표면으로부터 방출한다.Background Art Conventionally, in electronic devices and the like, heat dissipation members such as heat sinks using metal plates having high thermal conductivity such as aluminum and copper have been used in order to suppress the temperature rise of the heat generating electronic components during operation. The heat dissipation member conducts heat generated by the heat generating electronic component and emits heat from the surface due to the temperature difference from the outside air.

발열성 전자 부품으로부터 발생하는 열을 방열 부재에 효율적으로 전도시키기 위해서는, 발열성 전자 부품과 방열 부재 사이에 발생하는 근소한 간극을 열 전도성 재료로 매립하는 것이 효과적이다. 그 열 전도성 재료로서, 열 전도성 충전재를 배합한 열 전도성 시트나 열 전도성 그리스 등이 이용되고, 이들 열 전도성 재료를 발열성 전자 부품과 방열 부재 사이에 개재하고, 이들 열 전도성 재료를 통해 발열성 전자 부품으로부터 방열 부재에의 열전도를 실현하고 있다.In order to efficiently conduct heat generated from the heat generating electronic component to the heat radiating member, it is effective to fill a small gap generated between the heat generating electronic component and the heat radiating member with the heat conductive material. As the thermally conductive material, a thermally conductive sheet incorporating a thermally conductive filler, a thermally conductive grease, or the like is used, and these thermally conductive materials are interposed between the heat generating electronic component and the heat radiating member, and the heat generating electrons through these heat conductive materials. Heat conduction from the component to the heat dissipation member is realized.

시트는 그리스에 비하여 취급성이 우수하고, 열 전도성 실리콘 고무 등으로 형성된 열 전도성 시트는 여러가지 분야에 이용되고 있다.Sheets have better handling properties than greases, and thermally conductive sheets formed of thermally conductive silicone rubber or the like have been used in various fields.

열 전도성 시트는, 취급성을 중시한 일반품과, 밀착성을 중시한 저경도품으로 크게 구별할 수 있다.A thermally conductive sheet can be largely classified into a general product which made much of handleability, and the low hardness product which made much of adhesiveness.

이 중 일반품은, 대부분의 경우, JIS K6253에 규정의 타입 A 듀로미터로 측정한 경도가 60 이상인 경질의 고무를 시트상으로 한 것으로, 0.1 mm 정도의 박막 상태로도 단품에서의 취급이 가능하다. 그러나, 이 일반품은 표면에 점착감이 없기 때문에, 발열성 전자 부품 및 방열 부재에의 고정이 곤란하다. 이것을 해결하기 위해서, 박막상의 열 전도성 시트의 한쪽면 내지 양면에 점착제를 도포하고, 용이하게 고정할 수 있도록 한 점착성 부여 타입이 제안되어 있다. 그러나, 도포한 점착제는 열 전도성이 불충분하기 때문에, 점착제 도포품의 열 저항은 도포하지 않는 것에 비하여 크게 증가한다는 문제가 있었다. 또한, 점착제의 도포는, 시트의 두께 그 자체를 증가시킨다는 점에서도 열 저항에는 불리하게 기능한다.In general, the general product is made of a hard rubber having a hardness of 60 or more measured in a type A durometer specified in JIS K6253 in the form of a sheet, and handling in a single product is possible even in a thin film of about 0.1 mm. Do. However, since this general article has no adhesiveness on the surface, it is difficult to fix it to a heat generating electronic component and a heat dissipation member. In order to solve this, the tackifying type which apply | coated the adhesive to one side or both sides of a thin-film thermally conductive sheet, and was able to fix easily is proposed. However, since the applied adhesive has insufficient thermal conductivity, there has been a problem that the thermal resistance of the pressure-sensitive adhesive coated article is greatly increased as compared with not applied. In addition, the application of the pressure-sensitive adhesive functions disadvantageously in thermal resistance in that the thickness of the sheet itself increases.

한편, 저경도품은, 아스커 C 경도 60 이하의 저경도 열전도 재료를 시트상으로 성형한 것이고, 점착제 등을 도포하지 않고도 자신을 고정할 수 있을 정도의 점착력을 유지하고 있다. 그러나, 그 저경도를 실현하기 위해서, 시트 중에 다량의 가소제를 배합하거나, 가교 밀도를 매우 낮게 하고 있기 때문에, 박막으로 했을 때의 강도 및 취급성에 난점이 있기 때문에, 양호한 취급성을 얻기 위해서는 어느 일정 이상의 두께가 필요하였다. 그 때문에, 저경도품의 열 저항을 저하시키는 것은 곤란하였다. 또한, 이러한 저경도품은 오일 블리딩이 발생하고, 근방의 발열성 전자 부품을 오염시키기 쉽다는 결점이 있었다.On the other hand, the low-hardness product is formed by molding a low-hardness heat conductive material having an Asker C hardness of 60 or less in a sheet form, and maintains an adhesive force that can fix itself without applying an adhesive or the like. However, in order to realize the low hardness, since a large amount of plasticizer is mixed in the sheet or the crosslinking density is made very low, there is a difficulty in the strength and handleability when forming a thin film. The above thickness was needed. Therefore, it was difficult to reduce the thermal resistance of the low hardness article. In addition, such a low-hardness product has the drawback that oil bleeding occurs and it is easy to contaminate nearby heat generating electronic components.

이러한 결점을 해결하는 것으로서, 단일층으로 이루어지는 박막이면서 취급 가능하고, 또한 자신을 발열성 전자 부품 및 방열 부재에 용이하게 고정시킬 수 있는 점착성을 갖는 열 전도성 점착 테이프가 개발되고 있다(특허 문헌 1). 그러나, 이들 열 전도성 점착 테이프는, 자신의 점착력이 균일하고, 한쪽면 강점착, 한쪽면 미점착과 같은 보다 미세한 특성 요구에 응할 수 없었다. 예를 들면, 강도가 낮은 전자 소자와, 고강도의 방열체를 점착 테이프로 고정, 방열하는 경우, 한번 접착에 실패하면 박리(리워크)가 매우 곤란하고, 무리하게 박리하려고 하면, 전자 소자가 파괴된다. 이를 해결하기 위해서, 점착 테이프 한쪽면에 타분(打粉) 처리 등을 행하여 점착력을 컨트롤하는 방법이 있지만, 이 경우, 열 전도성 점착 테이프와 피접착체와의 밀착이 불량이 되어, 열 전도성이 현저히 저하되는 문제가 발생한다.As a solution to this drawback, a thermally conductive adhesive tape having a single layer thin film, which can be handled and which can be easily fixed to a heat generating electronic component and a heat radiating member, has been developed (Patent Document 1). . However, these thermally conductive adhesive tapes are uniform in their adhesive strength and could not meet finer characteristic requirements such as strong adhesion on one side and non-adhesion on one side. For example, in the case of fixing and dissipating a low-strength electronic device and a high-strength radiator with an adhesive tape, when adhesion fails once, peeling (rework) is very difficult. do. In order to solve this problem, there is a method of controlling the adhesive force by performing a chip treatment or the like on one side of the adhesive tape, but in this case, the adhesion between the thermally conductive adhesive tape and the adherend becomes poor and the thermal conductivity is significantly reduced. A problem arises.

그 밖에, 본 발명에 관련된 선행 기술을 개시하는 것으로서 특허 문헌 2 내지 5를 들 수 있다.In addition, patent documents 2-5 are mentioned as disclosing the prior art which concerns on this invention.

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 제2002-030212호 공보[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-030212

[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 제2005-035264호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-035264

[특허 문헌 3] 일본 특허 공개 제2005-206733호 공보[Patent Document 3] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-206733

[특허 문헌 4] 일본 특허 공개 제2006-182888호 공보[Patent Document 4] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-182888

[특허 문헌 5] 일본 특허 공개 제2006-188610호 공보[Patent Document 5] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-188610

따라서, 본 발명의 과제는 박막이고 취급성이 양호하며, 적절한 점착성을 갖기 때문에 스스로 발열성 전자 부품 또는 방열 부재에 용이하게 고정시킬 수 있고, 또한 양면의 점착력이 상이하기 때문에, 리워크성이 양호하고 열 전도성도 우수한 열 전도성 적층체 및 그의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.Therefore, the problem of the present invention is a thin film, good handleability, and having proper adhesiveness, so that it can be easily fixed to a heat generating electronic component or a heat dissipation member by itself, and the reworkability is good because the adhesive strength of both surfaces is different. And a thermally conductive laminate having excellent thermal conductivity and a method for producing the same.

본 발명자들은, 상기 과제를 달성하기 위해서 예의 검토를 행한 결과, 열 전도성 시트를 특정한 부가 반응 경화형의 실리콘 조성물의 경화물로 이루어지는 층과, 별도의 조성을 갖는 부가 반응 경화형의 실리콘 조성물의 경화물로 이루어지는 층과의 적층체로서 구성함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to achieve the said subject, the present inventors consisted of the layer which consists of the hardened | cured material of the specific addition reaction hardening type silicone composition, and the hardened | cured material of the addition reaction hardening type silicone composition which has another composition as a result. It discovered that the said subject could be solved by comprised as a laminated body with a layer.

즉, 본 발명은 첫번째로,That is, the present invention firstly,

(a) 규소 원자에 결합한 알케닐기를 1 분자 중에 2개 이상 갖는 오르가노폴리실록산: 100 용량부,(a) an organopolysiloxane having two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule: 100 parts by volume,

(b) 열 전도성 충전재: 50 내지 1,000 용량부,(b) thermally conductive filler: 50 to 1,000 parts by volume,

(c) 규소 원자에 결합한 수소 원자를 1 분자 중에 2개 이상 갖는 오르가노히드로젠폴리실록산: 본 성분의 규소 원자에 결합한 수소 원자/(a) 성분 중 알케닐기의 몰비가 0.5 내지 5.0이 되는 양,(c) an organohydrogenpolysiloxane having two or more hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule: an amount such that the molar ratio of the alkenyl group in the hydrogen atom / (a) component bonded to the silicon atom of the present component is 0.5 to 5.0,

(d) 백금족 금속계 촉매: 유효량,(d) platinum group metal catalysts: an effective amount,

(e) 반응 제어제: 유효량 및 (e) reaction control agents: effective amounts and

(f) 실리콘 수지: 50 내지 500 용량부(f) Silicone resin: 50 to 500 parts by volume

를 포함하는 실리콘 조성물 1을 박막상으로 성형하고 경화시켜 이루어지는 제1 경화물층과, 상기 (a) 내지 (f) 성분을 필수 성분으로서 포함하고 상기 실리콘 조성물 1과 조성이 상이한 실리콘 조성물 2를 상기 제1 경화물층의 한쪽면 상에 박막상으로 성형하고 경화시켜 이루어지는 제2 경화물층으로 이루어지며, 양면의 점착력이 서로 다른 열 전도성 적층체를 제공한다.And a first cured product layer formed by molding and curing a silicone composition 1 comprising a thin film, and the components (a) to (f) as essential components, and the silicone composition 2 having a composition different from the silicone composition 1 above. A second cured product layer formed by molding and curing a thin film on one side of the first cured product layer, and providing a thermally conductive laminate having different adhesive strengths on both sides thereof.

또한, 본 발명에 이용되는 조성물의 성분의 배합량을 "용량부"로 나타낼 때의 "용량"이란 해당 성분의 질량을 그 진비중으로 나눠 얻어진 값을 의미한다.In addition, the "dose" when the compounding quantity of the component of the composition used for this invention is represented by "capacity part" means the value obtained by dividing the mass of the said component by the specific gravity.

본 발명의 열 전도성 적층체의 바람직한 실시 형태로서 다음 것을 들 수 있다.The following are mentioned as preferable embodiment of the thermally conductive laminated body of this invention.

·실온하에 상기 적층체의 25 mm 폭의 샘플의 한쪽면을 알루미늄판에 닿게 하고, 질량 2 kg의 고무 롤러로 압착하여 접착 후 10 분간 양생하고, 그 후 상기 적층체의 알루미늄판과 접착되지 않은 다른쪽의 한쪽면에 보강재에 접착한 후, 상기 적층체의 일단을 접착한 상기 보강재와 함께 파지하여 인장 속도 300 mm/분으로 180°방향으로 상기 알루미늄판으로부터 박리하고, 박리에 요한 힘(점착력)을 측정하는 것을 상기 적층체의 양면에 행했을 때에, 양면의 점착력이 모두 0.3 N/cm 이상이고, 또한 양면의 점착력의 차가 2 N/cm 이상인 것이 바람직하다. 상기 보강재로는, 예를 들면 실리콘 테이프, 알루미늄박 등을 들 수 있다.At room temperature, one side of the 25 mm wide sample of the laminate was brought into contact with an aluminum plate, pressed with a rubber roller of 2 kg in mass, cured for 10 minutes after adhesion, and then unbonded with the aluminum plate of the laminate. After adhering to the reinforcing material on one side of the other side, one end of the laminate is gripped together with the reinforcing material to which it is bonded and peeled from the aluminum plate in the 180 ° direction at a tensile speed of 300 mm / min, and the force required for peeling (adhesive force) When measuring)) is performed on both surfaces of the said laminated body, it is preferable that the adhesive force of both surfaces is 0.3 N / cm or more, and the difference in adhesive force of both surfaces is 2 N / cm or more. As said reinforcing material, a silicone tape, aluminum foil, etc. are mentioned, for example.

·상기 (f) 성분의 실리콘 수지가 R1 3SiO1/2 단위(R1은 지방족 불포화 결합을 함유하지 않는 비치환 또는 치환의 1가 탄화수소기를 나타냄)와 SiO4/2 단위를 포함하고, R1 3SiO1 /2 단위/SiO4 /2 단위의 몰비가 0.5 내지 1.5인 것이 바람직하다.The silicone resin of component (f) comprises R 1 3 SiO 1/2 units (R 1 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bonds) and SiO 4/2 units, that the R 1 3 SiO 1/2 units / SiO 4/2 unit molar ratio is 0.5 to 1.5 is preferred.

·상기 실리콘 조성물 1 및/또는 실리콘 조성물 2는, 추가로 (g) 성분으로서,Said silicone composition 1 and / or silicone composition 2 are further (g) component,

(g-1) 하기 화학식 1로 표시되는 알콕시실란 화합물 및 (g-2) 하기 화학식 2로 표시되는 분자쇄 한쪽 말단이 트리알콕시실릴기로 봉쇄된 디메틸폴리실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상: 0.01 내지 50 용량부를 함유하는 것이 바람직하다.(g-1) at least one selected from the group consisting of an alkoxysilane compound represented by the following formula (1) and (g-2) dimethylpolysiloxane in which one end of the molecular chain represented by the following formula (2) is sealed with a trialkoxysilyl group: 0.01 It is preferred to contain from 50 to 50 parts by volume.

R2 aR3 bSi(OR4)4-a-b R 2 a R 3 b Si (OR 4 ) 4-ab

(식 중, R2는 독립적으로 탄소 원자수 6 내지 15의 알킬기이고, R3은 독립적으로 비치환 또는 치환의 탄소 원자수 1 내지 8의 1가 탄화수소기이며, R4는 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬기이고, a는 1 내지 3의 정수, b는 0 내지 2의 정수이되, 단 a+b는 1 내지 3의 정수이다)(Wherein R 2 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and R 4 independently is carbon number Is an alkyl group of 1 to 6, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 to 2, provided that a + b is an integer of 1 to 3)

(식 중, R5는 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬기이고, c는 5 내지 100의 정수이다)(Wherein R 5 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, c is an integer of 5 to 100)

·상기 실리콘 조성물 1 및/또는 실리콘 조성물 2는, 추가로 (h) 성분으로서, 하기 화학식 3으로 표시되는 23 ℃에 있어서의 동점도가 10 내지 100,000 ㎟/s인 오르가노폴리실록산을 함유하는 것이 바람직하다.The silicone composition 1 and / or silicone composition 2 further preferably contain an organopolysiloxane having a kinematic viscosity of 10 to 100,000 mm 2 / s at 23 ° C. represented by the following general formula (3). .

R6-(SiR6 2O)dSiR6 2-R6 R 6- (SiR 6 2 O) d SiR 6 2 -R 6

(R6은 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 18의 지방족 불포화 결합을 포함하지 않는 1가 탄화수소기, d는 5 내지 2,000의 정수이다)(R 6 is independently a monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bonds of 1 to 18 carbon atoms, d is an integer from 5 to 2,000)

·상기 열 전도성 적층체는, 두께가 20 내지 1,000 ㎛인 것이 바람직하다.It is preferable that the said heat conductive laminated body is 20-1,000 micrometers in thickness.

·상기 열 전도성 적층체는, 레이저 플래시법으로 측정한 25 ℃에 있어서의 열 저항이 10 ㎠·K/W 이하인 것이 바람직하다.-It is preferable that the said heat conductive laminated body is 10 cm <2> * K / W or less in heat resistance in 25 degreeC measured by the laser flash method.

본 발명은 두번째로,Secondly, the present invention

(a) 규소 원자에 결합한 알케닐기를 1 분자 중에 2개 이상 갖는 오르가노폴리실록산: 100 용량부,(a) an organopolysiloxane having two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule: 100 parts by volume,

(b) 열 전도성 충전재: 50 내지 1,000 용량부,(b) thermally conductive filler: 50 to 1,000 parts by volume,

(c) 규소 원자에 결합한 수소 원자를 1 분자 중에 2개 이상 갖는 오르가노히드로젠폴리실록산: 본 성분의 규소 원자에 결합한 수소 원자/(a) 성분 중 알케닐기의 몰비가 0.5 내지 5.0이 되는 양,(c) an organohydrogenpolysiloxane having two or more hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule: an amount such that the molar ratio of the alkenyl group in the hydrogen atom / (a) component bonded to the silicon atom of the present component is 0.5 to 5.0,

(d) 백금족 금속계 촉매: 유효량,(d) platinum group metal catalysts: an effective amount,

(e) 반응 제어제: 유효량 및 (e) reaction control agents: effective amounts and

(f) 실리콘 수지: 50 내지 500 용량부(f) Silicone resin: 50 to 500 parts by volume

를 포함하는 실리콘 조성물 1을, 실리콘 점착제용의 표면 이형 처리를 실시한 기재의 표면에 박막상으로 도포하고 경화시켜 제1 경화물층을 형성하고, 그 후 상기 (a) 내지 (f) 성분을 포함하고 상기 실리콘 조성물 1과 조성이 상이한 실리콘 조성물 2를 상기 제1 경화물층의 표면 상에 박막상으로 도포하고 경화시켜 제2 경화물층을 형성하는 것을 특징으로 하는, 상기한 그 양면의 점착력이 서로 다른 열 전도성 적층체의 제조 방법을 제공한다.Applying the silicone composition 1 comprising a thin film on the surface of the substrate subjected to the surface release treatment for a silicone pressure-sensitive adhesive and cured to form a first cured product layer, and then containing the components (a) to (f) And a silicone composition 2 having a composition different from that of the silicone composition 1 in a thin film form on the surface of the first cured product layer and cured to form a second cured product layer. Provided are methods of making different thermally conductive laminates.

본 발명의 상기 제조 방법의 바람직한 실시 형태 중 하나로서, 상기 기재에 실시하고 있는 실리콘 점착제용의 이형 처리가, 불소 치환기를 주쇄에 포함하는 변성 실리콘에 의한 처리인 제조 방법을 들 수 있다.As one of the preferable embodiment of the said manufacturing method of this invention, the manufacturing method in which the mold release process for the silicone adhesive which is given to the said base material is the process by modified silicone which contains a fluorine substituent in a main chain is mentioned.

본 발명의 열 전도성 적층체는 양면의 표면 점착성이 상이하고, 게다가 한쪽면마다 상이한 원하는 점착력을 구비시킬 수 있기 때문에 리워크성이 매우 우수하다. 상기 열 전도성 적층체의 각 면의 점착성은 적절하기 때문에 발열성 전자 부품이나 방열 부재에 점착하여 용이하게 고정시킬 수 있고, 게다가 필요에 따라서 피착체로부터 용이하게 박리할 수 있기 때문에 취급성이 양호하다. 또한, 발열성 전자 부품과 방열 부재 사이에 개재했을 때는 양자를 양호하게 접촉시킬 수 있고, 매우 양호한 열 전도성을 발휘한다. 또한 오일의 블리딩은 억제되어 문제가 되지 않는다. 따라서, 본 발명의 적층체는 열 전도성 시트로서 유용하다.The thermally conductive laminate of the present invention is excellent in reworkability because the surface adhesiveness of both surfaces is different, and the desired adhesive force different from one surface can be provided. Since the adhesiveness of each surface of the said heat conductive laminated body is appropriate, it can adhere to a heat generating electronic component or a heat radiating member, and can fix it easily, and also it is easy to peel off from a to-be-adhered body as needed, and handling property is favorable. . In addition, when interposed between the heat generating electronic component and the heat dissipation member, both can be satisfactorily brought into contact with each other, and exhibit very good thermal conductivity. In addition, bleeding of the oil is suppressed and does not become a problem. Therefore, the laminate of the present invention is useful as a thermally conductive sheet.

도 1은 실시예에 있어서 본 발명의 열 전도성 적층체를 적용한 발열·방열 장치의 종단면을 나타내는 개념도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a conceptual diagram which shows the longitudinal cross section of the heat-generating / heat radiating apparatus to which the thermally conductive laminated body of this invention was applied in an Example.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>

1. 열 전도성 적층체1. Thermally Conductive Laminates

2. 의사 CPU2. Pseudo CPU

3. 프린트 배선 기판3. Printed wiring board

4. 방열 부재4. Heat dissipation member

5. 클램프 5. Clamp

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 열 전도성 적층체는 제1 경화물층과 제2 경화물층으로 이루어지지만, 이들은 모두 상기 (a) 내지 (f) 성분을 필수 성분으로서 포함하지만 각각 다른 조성을 갖는 조성물로 형성된다. 이하, 상기 조성물에 대해서 설명한다.Although the heat conductive laminated body of this invention consists of a 1st hardened | cured material layer and a 2nd hardened | cured material layer, these are all formed from the composition which contains said (a)-(f) component as an essential component, but each has a different composition. Hereinafter, the said composition is demonstrated.

〔(a) 알케닐기를 갖는 오르가노폴리실록산〕[(A) organopolysiloxane having alkenyl group]

본 발명 조성물의 (a) 성분은, 규소 원자에 결합한 알케닐기를 1 분자 중에 2개 이상 갖는 오르가노폴리실록산이고, 본 발명의 부가 반응 경화형 조성물에 있어서의 주요제(기재 중합체) 중 하나이다.The component (a) of the composition of the present invention is an organopolysiloxane having two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, and is one of the main agents (base polymer) in the addition reaction curable composition of the present invention.

이 오르가노폴리실록산은 액상이면, 그 분자 구조는 한정되지 않고, 예를 들면 직쇄상, 분지쇄상, 일부 분지를 갖는 직쇄상을 들 수 있지만, 특히 바람직하게는 직쇄상이다.If this organopolysiloxane is liquid, the molecular structure is not limited, For example, although it is linear, branched, the linear which has some branch is mentioned, Especially preferably, it is linear.

여기서, 알케닐기란 직쇄상의 알케닐기뿐만 아니라 시클로알케닐기를 포함한다. 구체적으로는, 상기 알케닐기로는, 예를 들면 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 이소프로페닐기, 부테닐기, 헥세닐기, 시클로헥세닐기 등의 통상, 탄소 원자수 2 내지 8 정도의 것을 들 수 있고, 그 중에서도 비닐기, 알릴기 등의 탄소 원자수 2 내지 3의 저급 알케닐기가 바람직하며, 특히 비닐기가 바람직하다. 이 알케닐기는, 분자쇄 말단의 규소 원자, 또한 분자쇄 도중의 규소 원자 중 어느 하나에 결합할 수도 있지만, 얻어지는 경화물의 유연성을 양호한 것으로 하기 위해서, 분자쇄 말단의 규소 원자에만 결합하여 존재하는 것이 바람직하다.Here, an alkenyl group contains not only a linear alkenyl group but a cycloalkenyl group. Specifically, as said alkenyl group, things, such as a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, cyclohexenyl group, etc. are usually 2-8 carbon atoms, for example. Among these, a lower alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms such as a vinyl group and an allyl group is preferable, and a vinyl group is particularly preferable. Although this alkenyl group may couple | bond with either the silicon atom of the molecular chain terminal, or the silicon atom in the middle of a molecular chain, in order to make the softness of the hardened | cured material obtained favorable, it exists only by binding to the silicon atom of the molecular chain terminal. desirable.

(a) 성분 중 알케닐기 이외의 규소 원자에 결합하는 기는, 예를 들면 비치환 또는 치환의 1가 탄화수소기이고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 네오펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기 등의 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기 등의 시클로알킬기, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐릴기 등의 아릴기, 벤질기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 메틸벤질기 등의 아랄킬기 및 이들 기의 탄소 원자에 결합하고 있는 수소 원자의 일부 또는 전부가 불소, 염소, 브롬 등의 할로겐 원자, 시아노기 등으로 치환된 기, 예를 들면 클로로메틸기, 2-브로모에틸기, 3-클로로프로필기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 클로로페닐기, 플루오로페닐기, 시아노에틸기, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-노나플루오로헥실기 등의 탄소 원자수가 1 내지 10, 특히 탄소 원자수가 1 내지 6인 것을 들 수 있고, 이들 중에서도 바람직하게는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 클로로메틸기, 브로모에틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 시아노에틸기 등의 탄소 원자수 1 내지 3의 비치환 또는 치환의 알킬기 및 페닐기, 클로로페닐기, 플루오로페닐기 등의 비치환 또는 치환의 페닐기이다. 또한, 알케닐기 이외의 규소 원자에 결합하는 기는 모두가 동일하거나 상이할 수도 있다. 내용제성 등의 특수한 특성이 요구되지 않는 한, 비용, 그 입수의 용이성, 화학적 안정성, 환경 부하 등의 이유에 따라 전부 메틸기가 선택되는 경우가 많다.Groups bonded to silicon atoms other than alkenyl groups in the component (a) are, for example, unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon groups, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, and isobutyl groups. cycloalkyl groups such as alkyl groups such as tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group and dodecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and cycloheptyl group, Of aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group and biphenylyl group, aralkyl groups such as benzyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group and methylbenzyl group and hydrogen atoms bonded to carbon atoms of these groups Some or all of which are substituted with halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine, cyano groups, etc., for example, chloromethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl Group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, cyanoethyl group, 3,3,4,4,5 And carbon atoms such as 5,6,6,6-nonnafluorohexyl groups having from 1 to 10 carbon atoms, in particular from 1 to 6 carbon atoms, and among these, methyl, ethyl, propyl and chloro Unsubstituted or substituted unsubstituted or substituted alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms such as methyl group, bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, cyanoethyl group, or phenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, or Substituted phenyl group. Moreover, all the groups couple | bonded with the silicon atom other than an alkenyl group may be same or different. Unless special properties such as solvent resistance are required, all methyl groups are often selected for reasons of cost, ease of acquisition, chemical stability, and environmental load.

또한, 이 오르가노폴리실록산의 25 ℃에 있어서의 동점도는, 통상 10 내지 100,000 ㎟/s, 특히 바람직하게는 500 내지 50,000 ㎟/s의 범위이다. 상기 점도가 지나치게 낮으면 얻어지는 조성물의 보존 안정성이 악화되고, 또한 지나치게 높으면 얻어지는 조성물의 신전성이 악화되는 경우가 있다.Moreover, the kinematic viscosity at 25 degrees C of this organopolysiloxane is 10-100,000 mm <2> / s normally, Especially preferably, it is the range of 500-50,000 mm <2> / s. When the said viscosity is too low, the storage stability of the composition obtained will worsen, and when too high, the extension of the composition obtained may deteriorate.

이러한 오르가노폴리실록산의 바람직한 구체예로는, 분자쇄 양쪽 말단 디메틸비닐실록시기 봉쇄 폴리디메틸실록산, 분자쇄 양쪽 말단 메틸디비닐실록시기 봉쇄 폴리디메틸실록산, 분자쇄 양쪽 말단 디메틸비닐실록시 봉쇄 디메틸실록산·메틸페닐실록산 공중합체 등을 들 수 있다.As a specific example of such organopolysiloxane, molecular chain both terminal dimethylvinyl siloxy group blocking polydimethylsiloxane, molecular chain both terminal methyldivinyl siloxy group blocking polydimethylsiloxane, molecular chain both terminal dimethylvinyl siloxy blocking dimethylsiloxane Methylphenylsiloxane copolymer etc. are mentioned.

이 (a) 성분의 오르가노폴리실록산은 1종 단독으로도, 예를 들면 점도가 다른 2종 이상을 조합하여도 사용할 수 있다.The organopolysiloxane of this (a) component can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types from which a viscosity differs, for example.

〔(b) 열 전도성 충전재〕((B) Thermally Conductive Filler]

(b) 성분인 열 전도성 충전재로는, 통상 예를 들면 금속 분말, 금속 산화물 분말, 세라믹 분말이 이용되고, 구체적으로는 알루미늄 분말, 구리 분말, 은 분말, 니켈 분말, 금 분말, 산화알루미늄 분말, 산화아연 분말, 산화마그네슘 분말, 산화철 분말, 산화티탄 분말, 산화지르코늄 분말, 질화알루미늄 분말, 질화붕소 분말, 질화규소 분말, 다이아몬드 분말, 카본 분말, 풀러렌 분말, 카본흑연 분말 등을 들 수 있다. 그러나, 이들로 한정되는 것은 아니고, 종래 열 전도성 충전재로서 사용되는 공지된 물질이면 어떠한 충전재일 수도 있고, 이들은 1종 단독으로 또는 2종 이상 혼합할 수도 있다.As the thermally conductive filler as the component (b), for example, metal powder, metal oxide powder, ceramic powder are usually used, and specifically, aluminum powder, copper powder, silver powder, nickel powder, gold powder, aluminum oxide powder, Zinc oxide powder, magnesium oxide powder, iron oxide powder, titanium oxide powder, zirconium oxide powder, aluminum nitride powder, boron nitride powder, silicon nitride powder, diamond powder, carbon powder, fullerene powder, carbon graphite powder, and the like. However, it is not limited to these, Any filler may be sufficient as it is a well-known substance used conventionally as a thermally conductive filler, These may be single 1 type or it may mix 2 or more types.

이들 열 전도성 충전재는, 평균 입경이 통상 0.1 내지 100 ㎛, 바람직하게는 0.5 내지 50 ㎛인 것을 사용할 수 있다. 이들 충전재는 1종 단독으로 이용할 수도 있고, 복수종을 혼합하여 이용할 수도 있다. 또한, 평균 입경이 상이한 입자를 2종 이상 이용하는 것도 가능하다. 또한, 본 발명에 있어서, 평균 입경은 부피 평균 입경이고, 마이크로 트랙 입도 분포 측정 장치 MT3300EX(니키소 가부시끼가이샤)에 의한 측정값이다.As these thermally conductive fillers, the average particle diameter is 0.1-100 micrometers normally, Preferably the thing of 0.5-50 micrometers can be used. These fillers may be used individually by 1 type, and may mix and use multiple types. Moreover, it is also possible to use 2 or more types of particle | grains from which an average particle diameter differs. In addition, in this invention, an average particle diameter is a volume average particle diameter, and is a measured value by micro track particle size distribution measuring apparatus MT3300EX (Nikiso Corporation).

열 전도성 충전재의 배합량은, 조성물의 유동성, 성형성, 얻어지는 열 전도성의 관점에서, (a) 성분 100 용량부에 대해서 50 내지 1,000 용량부, 바람직하게는 100 내지 500 용량부이다.The compounding quantity of a thermally conductive filler is 50-1,000 volume parts with respect to 100 volume parts of (a) component from a viewpoint of the fluidity | liquidity of a composition, moldability, and the thermal conductivity obtained, Preferably it is 100-500 volume parts.

〔(c) 오르가노히드로젠폴리실록산〕[(C) organohydrogenpolysiloxane]

본 발명의 조성물의 (c) 성분은, 통상 규소 원자에 결합한 수소 원자(즉, SiH기)를 1 분자 중에 2개 이상, 바람직하게는 2 내지 100개 갖는 오르가노히드로젠폴리실록산이고, (a) 성분의 가교제로서 작용하는 성분이다. 즉, (c) 성분 중 규소 원자에 결합한 수소 원자가, 후술하는 (d) 성분의 백금족 금속계 촉매의 작용에 의해, (a) 성분 중 알케닐기와 히드로실릴화 반응에 의해 부가하여, 가교 결합을 갖는 3차원 메쉬상 구조를 갖는 가교 경화물을 제공한다.Component (c) of the composition of the present invention is an organohydrogenpolysiloxane having usually two or more, preferably 2 to 100, hydrogen atoms (i.e., SiH groups) bonded to silicon atoms (a) It is a component which acts as a crosslinking agent of a component. That is, the hydrogen atom couple | bonded with the silicon atom in (c) component is added by the action of the platinum group metal catalyst of (d) component mentioned later by hydrosilylation reaction with the alkenyl group in (a) component, and has a crosslinking bond. The crosslinked hardened | cured material which has a three-dimensional mesh-like structure is provided.

(c) 성분 중 규소 원자에 결합한 유기기로는, 예를 들면 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 비치환 또는 치환의 1가 탄화수소기 등을 들 수 있으며, 구체적으로는, (a) 성분의 항에서 설명한 알케닐기 이외의 규소 원자에 결합하는 기로서 예시한 것과 동종의 비치환 또는 치환의 탄화수소기를 들 수 있다. 그 중에서도, 합성면 및 경제성의 관점에서 메틸기인 것이 바람직하다.As an organic group couple | bonded with the silicon atom among (c) component, the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group which does not have an aliphatic unsaturated bond, etc. are mentioned, For example, Alke described in the term of component (a) The same kind of unsubstituted or substituted hydrocarbon group as what was illustrated as group couple | bonded with the silicon atom other than a silyl group is mentioned. Especially, it is preferable that it is a methyl group from a synthetic viewpoint and economical viewpoint.

(c) 성분의 오르가노히드로젠폴리실록산의 구조는 특별히 한정되지 않으며, 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 하나일 수도 있지만, 바람직하게는 직쇄상이다. 이러한 직쇄상의 오르가노히드로젠폴리실록산은, 예를 들면 하기 화학식 4로 표시된다.The structure of the organohydrogenpolysiloxane of the component (c) is not particularly limited, and may be any of linear, branched, and cyclic, but is preferably linear. Such linear organohydrogenpolysiloxane is represented by following formula (4), for example.

(식 중, R7은 독립적으로 알케닐기 이외의 비치환 또는 치환의 1가 탄화수소기 또는 수소 원자이되, 단 2개 이상은 수소 원자이고, n은 1 이상의 정수이다)(Wherein R 7 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group or hydrogen atom other than an alkenyl group, provided that at least two are hydrogen atoms and n is an integer of 1 or more)

상기 화학식 4에 있어서, R7로 표시되는 알케닐기 이외의 비치환 또는 치환의 1가 탄화수소기는, (a) 성분의 항에서 상술한 알케닐기 이외의 규소 원자에 결합한 기 중 1가 탄화수소기와 동종의 것이다.In the general formula (4), an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group other than the alkenyl group represented by R 7 is the same as the monovalent hydrocarbon group in the group bonded to silicon atoms other than the alkenyl group described above in the section of component (a). will be.

또한, n은 바람직하게는 2 내지 100, 보다 바람직하게는 5 내지 50의 정수이다.In addition, n is preferably an integer of 2 to 100, more preferably 5 to 50.

(c) 성분의 오르가노히드로젠폴리실록산의 바람직한 구체예로는, 분자쇄 양쪽 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 메틸히드로젠폴리실록산, 분자쇄 양쪽 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸히드로젠실록산 공중합체, 분자쇄 양쪽 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸히드로젠실록산·메틸페닐실록산 공중합체, 분자쇄 양쪽 말단 디메틸히드로젠실록시기 봉쇄 디메틸폴리실록산, 분자쇄 양쪽 말단 디메틸히드로젠실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸히드로젠실록산 공중합체, 분자쇄 양쪽 말단 디메틸히드로젠실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸페닐실록산 공중합체, 분자쇄 양쪽 말단 디메틸히드로젠실록시기 봉쇄 메틸페닐폴리실록산 등을 들 수 있다. 또한, (c) 성분의 오르가노히드로젠폴리실록산은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여도 사용할 수 있다.As a preferable specific example of the organohydrogenpolysiloxane of (c) component, the molecular chain both terminal trimethylsiloxy group blocking methylhydrogenpolysiloxane, the molecular chain both terminal trimethylsiloxy group blocking dimethylsiloxane methylhydrogensiloxane copolymer, molecular chain Both terminal trimethylsiloxy group blocking dimethylsiloxane, methyl hydrogen siloxane, methylphenyl siloxane copolymer, molecular chain both terminal dimethyl hydrogen siloxane group blocking dimethyl polysiloxane, molecular chain both terminal dimethyl hydrogen siloxane group blocking dimethyl siloxane, methyl hydrogen siloxane public A copolymer, a molecular chain both terminal dimethyl hydrogen siloxy group blocking dimethylsiloxane, methylphenyl siloxane copolymer, a molecular chain both terminal dimethyl hydrogen siloxy group blocking methylphenyl polysiloxane, etc. are mentioned. In addition, the organohydrogenpolysiloxane of (c) component can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(c) 성분의 첨가량은, (c) 성분의 SiH기가 (a) 성분 중 알케닐기 1 몰에 대해서 0.5 내지 5.0 몰이 되는 양, 바람직하게는 0.8 내지 4.0 몰이 되는 양이다. (c) 성분의 Si-H기의 양이 (a) 성분 중 알케닐기 1 몰에 대해서 0.5 몰 미만이면 열 전도성 조성물이 경화하지 않게 되거나, 경화물의 강도가 불충분하여, 성형체, 적층체로서 취급할 수 없게 되는 등의 문제가 발생한다. 5.0 몰을 초과하는 양이면 경화물에 점착성이 불충분해지고, 자신의 점착으로 자신을 고정시킬 수 없다는 문제가 발생한다.The addition amount of (c) component is the amount which SiH group of (c) component becomes 0.5-5.0 mol with respect to 1 mol of alkenyl groups in (a) component, Preferably it is 0.8-4.0 mol. If the amount of the Si-H group of the component (c) is less than 0.5 mole with respect to 1 mole of the alkenyl group in the component (a), the thermally conductive composition will not be cured or the strength of the cured product will be insufficient, so that it can be treated as a molded or laminated body. Problems such as unavailability occur. If the amount is more than 5.0 moles, the adhesiveness becomes insufficient on the cured product, and a problem arises in that the self-adhesion cannot be fixed.

〔(d) 백금족 금속계 촉매〕[(D) Platinum Group Metal Catalysts]

본 발명에 있어서의 (d) 성분의 백금족 금속계 촉매는, (a) 성분 중 알케닐기와 (c) 성분 중 규소 원자에 결합한 수소 원자와의 부가 반응을 촉진하고, 본 발명의 조성물로부터 삼차원 메쉬상 구조의 가교 경화물을 제공하기 위해서 배합되는 성분이다.The platinum group metal catalyst of (d) component in this invention promotes addition reaction of the alkenyl group in (a) component, and the hydrogen atom couple | bonded with the silicon atom in (c) component, and shows the three-dimensional mesh form from the composition of this invention. It is a component mix | blended in order to provide the crosslinked hardened | cured material of a structure.

(d) 성분으로는, 통상의 히드로실릴화 반응에 이용되는 공지된 촉매를 전부 사용할 수 있다. 그 구체예로는, 예를 들면 백금(백금흑을 포함함), 로듐, 팔라듐 등의 백금족 금속 단체, H2PtCl4·nH2O, H2PtCl6·nH2O, NaHPtCl6·nH2O, KHPtCl6·nH2O, Na2PtCl6·nH2O, K2PtCl4·nH2O, PtCl4·nH2O, PtCl2, Na2HPtCl4·nH2O(단, 식 중, n은 0 내지 6의 정수이고, 바람직하게는 0 또는 6임) 등의 염화백금, 염화백금산 및 염화백금산염, 알코올 변성 염화백금산, 염화백금산과 올레핀과의 콤플렉스, 백금흑, 팔라듐 등의 백금족 금속을 알루미나, 실리카, 카본 등의 담체에 담지시킨 것, 로듐-올레핀 콤플렉스, 클로로트리스(트리페닐포스핀)로듐(윌킨슨 촉매), 염화백금, 염화백금산 또는 염화백금산염과 비닐기 함유 실록산과의 콤플렉스 등을 들 수 있다. 또한, (d) 성분의 백금족 금속계 촉매는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여도 사용할 수 있다.As the component (d), any known catalyst used in a normal hydrosilylation reaction can be used. Specific examples thereof include platinum group metals such as platinum (including platinum black), rhodium and palladium, H 2 PtCl 4 nH 2 O, H 2 PtCl 6 nH 2 O, NaHPtCl 6 nH 2 O , KHPtCl 6 nH 2 O, Na 2 PtCl 6 nH 2 O, K 2 PtCl 4 nH 2 O, PtCl 4 nH 2 O, PtCl 2 , Na 2 HPtCl 4 nH 2 O (wherein n is an integer of 0 to 6, preferably 0 or 6), or a platinum group metal such as platinum chloride, chloroplatinic acid and chloroplatinic acid salt, alcohol-modified chloroplatinic acid, complex of chloroplatinic acid and olefin, platinum black, palladium, etc. Supported on a carrier such as alumina, silica, carbon, rhodium-olefin complex, chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (Wilkinson's catalyst), platinum chloride, chloroplatinic acid or a complex of chloroplatinate and vinyl group-containing siloxane, etc. Can be mentioned. In addition, the platinum group metal catalyst of (d) component can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

(d) 성분의 배합량은, 본 발명의 조성물을 경화시키기 위해서 필요한 유효량이면 좋고, 특별히 제한되지 않지만, 통상 (a) 성분에 대한 백금족 금속 원소의 질량 환산으로 0.1 내지 1,000 ppm, 바람직하게는 0.5 내지 500 ppm으로 하는 것이 좋다.The compounding quantity of (d) component should just be an effective amount necessary in order to harden the composition of this invention, although it does not restrict | limit especially, Usually, it is 0.1-1,000 ppm in mass conversion of the platinum group metal element with respect to (a) component, Preferably it is 0.5- It is good to set it to 500 ppm.

〔(e) 반응 제어제〕[(E) Reaction Control Agent]

(e) 성분의 반응 제어제는, (d) 성분의 존재하에 진행되는 (a) 성분과 (c) 성분의 반응 속도를 조정하기 위한 것이다.Reaction control agent of (e) component is for adjusting reaction rate of (a) component and (c) component which advance in presence of (d) component.

(e) 성분으로는, 통상의 부가 반응 경화형 실리콘 조성물에 이용되는 공지된 부가 반응 억제제를 전부 사용할 수 있다. 그 구체예로는, 1-에티닐-1-시클로헥산올, 3-부틴-1-올 등의 아세틸렌 화합물, 질소 화합물, 유기 인 화합물, 황 화합물, 옥심 화합물, 유기 클로로 화합물 등을 들 수 있다. 또한, (e) 성분의 부가 반응 억제제는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여도 사용할 수 있다.As (e) component, all the well-known addition reaction inhibitor used for a normal addition reaction curing type silicone composition can be used. Specific examples thereof include acetylene compounds such as 1-ethynyl-1-cyclohexanol and 3-butyn-1-ol, nitrogen compounds, organophosphorus compounds, sulfur compounds, oxime compounds, organic chloro compounds and the like. . In addition, the addition reaction inhibitor of (e) component can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(e) 성분의 배합량은, (d) 성분의 사용량에 따라서도 다르기 때문에 일률적으로는 정의할 수 없지만, 히드로실릴화 반응의 진행을 원하는 반응 속도로 조정할 수 있는 유효량이면 좋고, 통상 (a) 성분의 질량에 대해서 10 내지 50000 ppm 정도로 하는 것이 좋다. (e) 성분의 배합량이 지나치게 적은 경우에는 충분한 가용 시간을 확보할 수 없는 경우가 있고, 또한 지나치게 많은 경우에는 조성물의 경화성이 저하되는 경우가 있다.Although the compounding quantity of (e) component changes also with the usage-amount of (d) component, it cannot be defined uniformly, but what is necessary is just an effective amount which can adjust the progress of a hydrosilylation reaction to a desired reaction rate, and usually (a) component It may be about 10 to 50000 ppm with respect to the mass of. When the compounding quantity of (e) component is too small, sufficient pot life may not be secured, and when too large, the curability of a composition may fall.

〔(f) 실리콘 수지〕[(F) Silicone Resin]

본 발명에 이용되는 (f) 성분의 실리콘 수지는, 본 발명의 경화물에 점착성을 부여하는 작용을 갖는다.The silicone resin of (f) component used for this invention has the effect | action which provides adhesiveness to the hardened | cured material of this invention.

(f) 성분의 예로는, R1 3SiO1/2 단위(M 단위)와, SiO4/2 단위(Q 단위)의 공중합체이며, M 단위와 Q 단위의 비(몰비)가 M/Q=0.5 내지 1.5, 바람직하게는 0.6 내지 1.4, 더욱 바람직하게는 0.7 내지 1.3인 것을 들 수 있다. M/Q=0.5 내지 1.5의 범위에서 원하는 점착력이 얻어진다.Examples of the component (f) include a copolymer of R 1 3 SiO 1/2 units (M units) and SiO 4/2 units (Q units), and the ratio (molar ratio) between the M units and the Q units is M / Q. = 0.5 to 1.5, preferably 0.6 to 1.4, more preferably 0.7 to 1.3. Desired adhesive force is obtained in the range of M / Q = 0.5-1.5.

R1은 지방족 불포화 결합을 함유하지 않는 비치환 또는 치환의 1가 탄화수소기이고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 네오펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기 등의 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기 등의 시클로알킬기, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐릴기 등의 아릴기, 벤질기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 메틸벤질기 등의 아랄킬기 및 이들 기의 탄소 원자에 결합하고 있는 수소 원자의 일부 또는 전부가 불소, 염소, 브롬 등의 할로겐 원자, 시아노기 등으로 치환된 기, 예를 들면 클로로메틸기, 2-브로모에틸기, 3-클로로프로필기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 클로로페닐기, 플루오로페닐기, 시아노에틸기, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-노나플루오로헥실기 등의 탄소 원자수가 1 내지 10, 특히 탄소 원자수가 1 내지 6인 것을 들 수 있고, 이들 중에서도 바람직하게는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 클로로메틸기, 브로모에틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 시아노에틸기 등의 탄소 원자수 1 내지 3의 비치환 또는 치환의 알킬기 및 페닐기, 클로로페닐기, 플루오로페닐기 등의 비치환 또는 치환의 페닐기이다. 또한, R1은 모두가 동일하거나 상이할 수도 있다. R1은 내용제성 등의 특수한 특성이 요구되지 않는 한, 비용, 그의 입수 용이성, 화학적 안정성, 환경 부하 등의 이유에 의해 모두 메틸기가 선택되는 경우가 많다.R 1 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bonds, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, Cycloalkyl groups such as neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group and dodecyl group, cycloalkyl group such as cyclopentyl group, cyclohexyl group and cycloheptyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, Aralkyl groups such as aryl groups such as naphthyl groups and biphenylyl groups, benzyl groups, phenylethyl groups, phenylpropyl groups and methylbenzyl groups, and some or all of the hydrogen atoms bonded to carbon atoms of these groups are fluorine, chlorine and bromine Groups substituted with halogen atoms, cyano groups and the like, for example, chloromethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, Cyanoethyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohex The number of carbon atoms, such as a group, is 1-10, especially carbon atoms are 1-6, Among these, Preferably, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a chloromethyl group, a bromoethyl group, 3,3, 3- tree Unsubstituted or substituted alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms such as fluoropropyl group and cyanoethyl group, and unsubstituted or substituted phenyl groups such as phenyl group, chlorophenyl group and fluorophenyl group. In addition, all of R 1 may be the same or different. Unless special properties such as solvent resistance are required, all of R 1 's are often selected from methyl groups for reasons of cost, their availability, chemical stability, and environmental load.

(f) 성분의 첨가량은, (a) 성분 100 용량부에 대해서 50 내지 500 용량부, 바람직하게는 60 내지 350 용량부, 더욱 바람직하게는 70 내지 200 용량부이다. (f) 성분의 첨가량이 50 용량부 미만 및 500 용량부를 초과하는 경우는, 원하는 점착성이 얻어지지 않게 된다.The addition amount of (f) component is 50-500 volume part with respect to 100 volume part of (a) component, Preferably it is 60-350 volume part, More preferably, it is 70-200 volume part. When the addition amount of (f) component exceeds less than 50 volume parts and 500 volume parts, desired adhesiveness will not be obtained.

(f) 성분 그 자체는 실온에서 고체 또는 점조한 액체이지만, 용제에 용해된 상태로 사용하는 것도 가능하다. 그 경우, 조성물에의 첨가량은 용제분을 제외한 양으로 결정된다.The component (f) itself is a solid or viscous liquid at room temperature, but can also be used in a state dissolved in a solvent. In that case, the addition amount to a composition is determined by the quantity except the solvent powder.

〔그 밖의 성분〕[Other components]

본 발명에 이용되는 조성물(실리콘 조성물 1 및/또는 실리콘 조성물 2)에는, 필요에 따라서, 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위에서, 상기 (a) 내지 (f) 성분 이외의 성분을 첨가할 수 있다. 이하, 이러한 임의적 성분에 대해서 설명한다.To the composition (silicon composition 1 and / or silicone composition 2) used for this invention, if necessary, components other than said (a)-(f) component can be added in the range which does not impair the objective of this invention. have. Hereinafter, such an optional component is demonstrated.

·(g) 표면 처리제: (G) surface treatment:

본 발명의 조성물에는, 조성물 제조시에, (b) 열 전도성 충전재를 소수화 처리하여 (a) 오르가노폴리실록산과의 습윤성을 향상시키고, (b) 열 전도성 충전재를 (a) 성분을 포함하는 매트릭스 중에 균일하게 분산시키는 것을 목적으로, 표면 처리제(웨터)를 배합할 수 있다. 상기 (g) 성분으로는 특히 하기의 (g-1) 및 (g-2)가 바람직하다. In the composition of the present invention, at the time of preparation of the composition, (b) hydrophobic treatment of the thermally conductive filler to improve wettability with (a) the organopolysiloxane, and (b) the thermally conductive filler is contained in a matrix comprising the component (a). In order to disperse | distribute uniformly, a surface treating agent (wetter) can be mix | blended. Especially as said (g) component, following (g-1) and (g-2) are preferable.

··(g-1) 알콕시실란 화합물(G-1) alkoxysilane compounds

하기 화학식 1로 표시되는 알콕시실란 화합물이다. An alkoxysilane compound represented by the following formula (1).

<화학식 1><Formula 1>

R2 aR3 bSi(OR4)4-a-b R 2 a R 3 b Si (OR 4 ) 4-ab

(식 중, R2는 독립적으로 탄소 원자수 6 내지 15의 알킬기이고, R3은 독립적으로 비치환 또는 치환의 탄소 원자수 1 내지 8의 1가 탄화수소기이며, R4는 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬기이고, a는 1 내지 3의 정수, b는 0 내지 2의 정수이되, 단 a+b는 1 내지 3의 정수이다)(Wherein R 2 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and R 4 independently is carbon number Is an alkyl group of 1 to 6, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 to 2, provided that a + b is an integer of 1 to 3)

상기 화학식 1에 있어서, R2로 표시되는 알킬기로는, 예를 들면 헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기, 테트라데실기 등을 들 수 있다. 이 R2로 표시되는 알킬기의 탄소 원자수가 6 내지 15의 범위를 만족시키면, (b) 성분의 습윤성이 충분히 향상되고, 취급 작업성이 양호하며, 조성물의 저온 특성이 양호한 것이 된다.In the formula (1), examples of the alkyl group represented by R 2 include a hexyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, a tetradecyl group, and the like. When the carbon number of the alkyl group represented by this R <2> satisfy | fills the range of 6-15, the wettability of (b) component will fully improve, handling workability will be favorable, and the low temperature characteristic of a composition will become favorable.

R3으로 표시되는 비치환 또는 치환의 1가 탄화수소기로는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 헥실기, 옥틸기 등의 알킬기; 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기; 비닐기, 알릴기 등의 알케닐기; 페닐기, 톨릴기 등의 아릴기; 2-페닐에틸기, 2-메틸-2-페닐에틸기 등의 아랄킬기; 3,3,3-트리플루오로프로필기, 2-(노나플루오로부틸)에틸기, 2-(헵타데카플루오로옥틸)에틸기, p-클로로페닐기 등의 할로겐화 탄화수소기 등을 들 수 있다. 이 중에서는, 특히 메틸기, 에틸기가 바람직하다.As an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group represented by R <3> , For example, Alkyl groups, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, an octyl group; Cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; Alkenyl groups such as vinyl group and allyl group; Aryl groups, such as a phenyl group and a tolyl group; Aralkyl groups such as 2-phenylethyl group and 2-methyl-2-phenylethyl group; And halogenated hydrocarbon groups such as 3,3,3-trifluoropropyl group, 2- (nonnafluorobutyl) ethyl group, 2- (heptadecafluorooctyl) ethyl group, and p-chlorophenyl group. Especially in this, a methyl group and an ethyl group are preferable.

R4로 표시되는 알킬기로는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 등의 알킬기를 들 수 있다. 이 중에서는, 특히 메틸기, 에틸기가 바람직하다.As an alkyl group represented by R <4> , alkyl groups, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group, are mentioned, for example. Especially in this, a methyl group and an ethyl group are preferable.

이 (g-1) 성분의 바람직한 구체예로는, 하기의 것을 들 수 있다.The following are mentioned as a preferable specific example of this (g-1) component.

또한, (g-1) 성분은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여도 사용할 수 있다. (g-1) 성분의 배합량은 일정량을 초과하여도 그 이상 웨터 효과가 증대하는 것은 아니기 때문에 경제적이지 못하다. 또한 상기 성분은 휘발성이 있기 때문에 개방계에서 방치하면 조성물 및 경화 후의 경화물이 서서히 딱딱해지는 경우가 있다.In addition, (g-1) component can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The compounding amount of the component (g-1) is not economical because the wet effect does not increase any more than a certain amount. Moreover, since the said component is volatile, when left to stand in an open system, a composition and hardened | cured material after hardening may become hard gradually.

··(g-2) 디메틸폴리실록산(G-2) dimethyldimethylsiloxane

하기 화학식 2로 표시되는 분자쇄 한쪽 말단이 트리알콕시실릴기로 봉쇄된 디메틸폴리실록산이다.One end of the molecular chain represented by the following formula (2) is dimethylpolysiloxane sealed with a trialkoxysilyl group.

<화학식 2><Formula 2>

(식 중, R5는 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬기이고, c는 5 내지 100의 정수이다)(Wherein R 5 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, c is an integer of 5 to 100)

상기 화학식 2에 있어서, R5로 표시되는 알킬기는, 상기 화학식 1 중 R4로 표시되는 알킬기와 동종의 것이다.In the formula (2), the alkyl group represented by R 5 is the same as the alkyl group represented by R 4 in the formula (1).

이 (g-2) 성분의 바람직한 구체예로는, 하기의 것을 들 수 있다.The following are mentioned as a preferable specific example of this (g-2) component.

또한, (g-2) 성분은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여도 사용할 수 있다. 이 (g-2) 성분의 배합량이 지나치게 많으면, 얻어지는 경화물의 내열성이나 내습성이 저하되는 경향이 있다.In addition, (g-2) component can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. When there is too much compounding quantity of this (g-2) component, there exists a tendency for the heat resistance and moisture resistance of the hardened | cured material obtained to fall.

(g) 성분의 표면 처리제로서, 이들 (g-1) 성분과 (g-2) 성분 중 어느 하나 또는 양자를 조합하여 사용하여도 관계없다. 이 경우, (g) 성분의 배합량은, (a) 성분 100 용량부에 대해서 0.01 내지 50 용량부, 특히 0.1 내지 30 용량부인 것이 바람직하다.As the surface treating agent of the component (g), any one or both of these components (g-1) and (g-2) may be used in combination. In this case, it is preferable that the compounding quantity of (g) component is 0.01-50 volume parts with respect to 100 volume parts of (a) component, especially 0.1-30 volume parts.

·(h) 오르가노폴리실록산: (H) organopolysiloxanes:

본 발명의 조성물에는, 추가로 (h) 성분으로서, 하기 화학식 3으로 표시되는 23 ℃에 있어서의 동점도가 10 내지 100,000 ㎟/s인 오르가노폴리실록산을 첨가할 수 있다. 열 전도성 조성물의 점도 조정제 등의 특성 부여를 목적으로 적절하게 이용되지만, 이것으로 한정되는 것은 아니다. 1종 단독으로 사용할 수도, 2종 이상을 병용할 수도 있다.To the composition of the present invention, an organopolysiloxane having a kinematic viscosity of 10 to 100,000 mm 2 / s at 23 ° C. represented by the following general formula (3) can be further added to the composition (h). Although it uses suitably for the purpose of providing the characteristics, such as a viscosity modifier of a thermally conductive composition, it is not limited to this. It may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

<화학식 3><Formula 3>

R6-(SiR6 2O)dSiR6 2-R6 R 6- (SiR 6 2 O) d SiR 6 2 -R 6

(R6은 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 18의 지방족 불포화 결합을 포함하지 않는 1가 탄화수소기, d는 5 내지 2,000의 정수이다)(R 6 is independently a monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bonds of 1 to 18 carbon atoms, d is an integer from 5 to 2,000)

상기 R6은 독립적으로 비치환 또는 치환의 탄소 원자수 1 내지 18의 1가 탄화수소기이다. R6으로는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 헥실기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 테트라데실기, 헥사데실기, 옥타데실기 등의 알킬기; 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 시클로헥실기; 페닐기, 톨릴기 등의 아릴기; 2-페닐에틸기, 2-메틸-2-페닐에틸기 등의 아랄킬기; 3,3,3-트리플루오로프로필기, 2-(퍼플루오로부틸)에틸기, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸기, p-클로로페닐기 등의 할로겐화 탄화수소기 등을 들 수 있지만, 특히 메틸기, 페닐기, 탄소 원자수 6 내지 18의 알킬기가 바람직하다.R 6 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. Examples of R 6 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group and octadecyl group; Cyclohexyl groups, such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group; Aryl groups, such as a phenyl group and a tolyl group; Aralkyl groups such as 2-phenylethyl group and 2-methyl-2-phenylethyl group; Halogenated hydrocarbon groups such as 3,3,3-trifluoropropyl group, 2- (perfluorobutyl) ethyl group, 2- (perfluorooctyl) ethyl group, and p-chlorophenyl group; A phenyl group and the alkyl group of 6-18 carbon atoms are preferable.

상기 d는, 요구되는 점도의 관점에서, 바람직하게는 5 내지 2,000의 정수이고, 특히 바람직하게는 10 내지 1,000의 정수이다.From the viewpoint of the required viscosity, d is preferably an integer of 5 to 2,000, particularly preferably an integer of 10 to 1,000.

또한, 25 ℃에 있어서의 동점도는, 바람직하게는 10 내지 100,000 ㎟/s이고, 특히 100 내지 10,000 ㎟/s인 것이 바람직하다. 상기 동점도가 10 ㎟/s보다 낮으면, 얻어지는 조성물의 경화물의 오일 블리딩이 발생하기 쉬워진다. 상기 동점도가 100,000 ㎟/s보다 크면, 얻어지는 열 전도성 조성물의 유동성이 부족해지기 쉽다.In addition, the kinematic viscosity at 25 ° C. is preferably 10 to 100,000 mm 2 / s, and particularly preferably 100 to 10,000 mm 2 / s. When the said kinematic viscosity is lower than 10 mm <2> / s, the oil bleeding of the hardened | cured material of the composition obtained will become easy to generate | occur | produce. When the kinematic viscosity is larger than 100,000 mm 2 / s, the fluidity of the thermally conductive composition obtained tends to be insufficient.

(h) 성분의 구체예로는, 예를 들면As a specific example of (h) component, it is, for example

등을 들 수 있다.Etc. can be mentioned.

(h) 성분을 본 발명의 조성물에 첨가하는 경우, 그 첨가량은 한정되지 않고, 원하는 효과가 얻어지는 양이면 좋지만, (a) 성분 100 용량부에 대해서, 바람직하게는 0.1 내지 100 용량부, 보다 바람직하게는 1 내지 50 용량부이다. 상기 첨가량이 이 범위 내에 있으면, 경화 전의 열 전도성 조성물에 양호한 유동성, 작업성을 유지하기 쉽고, 또한 (b) 성분의 열 전도성 충전재를 상기 조성물에 충전하는 것이 용이하다.When adding (h) component to the composition of this invention, the addition amount is not limited, What is necessary is just an quantity from which a desired effect is acquired, About 0.1 volume part of (a) component, Preferably it is 0.1-100 volume parts, More preferably Preferably from 1 to 50 parts by volume. When the addition amount is within this range, it is easy to maintain good fluidity and workability in the thermally conductive composition before curing, and it is easy to fill the composition with a thermally conductive filler of component (b).

·그 밖의 임의 성분: Other optional ingredients:

그 밖의 임의 성분으로서, 예를 들면 불소 변성 실리콘 계면활성제; 착색제로서 카본블랙, 이산화티탄, 적산화철 등; 난연성 부여제로서 백금 화합물, 산화철, 산화티탄, 산화세륨 등의 금속 산화물, 또는 금속 수산화물 등을 첨가할 수도 있다. 또한, 열 전도성 충전재의 침강 방지제로서, 침강성 실리카 또는 소성 실리카 등의 미분말 실리카, 요변성 향상제 등을 첨가하는 것도 임의이다.As other optional components, For example, Fluorine modified silicone surfactant; As the colorant, carbon black, titanium dioxide, red iron oxide and the like; As the flame retardant imparting agent, a metal compound such as a platinum compound, iron oxide, titanium oxide, cerium oxide, or a metal hydroxide may be added. Moreover, it is also arbitrary to add fine powder silica, such as precipitated silica or calcined silica, a thixotropy improvement agent, etc. as an antisettling agent of a thermally conductive filler.

〔적층체의 형성〕[Formation of laminated body]

소요의 성분을 균일하게 혼합한, 각각 조성이 다른 2종 이상의 본 발명의 조성물(조성물 1 및 조성물 2)을 제조한다. 우선, 한쪽 조성물 1을 기재 상에 도포 성형하고, 가열 경화시켜 제1 층을 형성한다. 이어서, 다른 1종의 조성물(조성물 2)을 제1 층의 한쪽면 상에 도포 성형하고, 가열 경화시킨다. 이와 같이 하여, 본 발명의 열 전도성 적층체를 얻을 수 있다. 조성물을 기재 또는 제1 층 상에 도포, 성형할 때는, 조성물의 점도 조정을 위해 톨루엔 등의 용제를 첨가하는 것도 가능하다.Two or more kinds of compositions (composition 1 and composition 2) of the present invention having different compositions, with uniform mixing of required components, are prepared. First, one composition 1 is apply-molded on a base material, heat-hardened, and a 1st layer is formed. Next, another 1 type of composition (composition 2) is apply-molded on one side of a 1st layer, and it heat-hardens. In this way, the thermally conductive laminate of the present invention can be obtained. When apply | coating and shape | molding a composition on a base material or a 1st layer, it is also possible to add solvents, such as toluene, for viscosity adjustment of a composition.

제1 및 제2 경화층의 두께는, 각각 바람직하게는 10 내지 500 ㎛이고, 더욱 바람직하게는 20 내지 250 ㎛이다. 적층체 전체적으로의 두께는, 바람직하게는 20 내지 1,000 ㎛이고, 더욱 바람직하게는 50 내지 500 ㎛이다. 두께가 지나치게 얇으면 적층체의 취급이 나쁘며, 점착감이 저하된다. 한편, 두께가 지나치게 두꺼우면 원하는 열 전도성이 얻어지지 않게 된다.The thickness of a 1st and 2nd hardened layer becomes like this. Preferably it is 10-500 micrometers, More preferably, it is 20-250 micrometers. Preferably the thickness of the whole laminated body is 20-1,000 micrometers, More preferably, it is 50-500 micrometers. When thickness is too thin, handling of a laminated body will be bad and a feeling of adhesiveness will fall. On the other hand, if the thickness is too thick, the desired thermal conductivity will not be obtained.

〔특성〕〔characteristic〕

·열 저항: Thermal resistance:

본 발명의 열 전도성 적층체는, 레이저 플래시법으로 측정한 25 ℃에 있어서의 열 저항이 10 ㎠·K/W 이하인 것이 바람직하고, 특히 5 ㎠·K/W 이하인 것이 바람직하다. 상기 열 저항이 이 범위 내에 있으면, 본 발명 조성물은 발열량이 큰 발열체에 적용한 경우에도, 상기 발열체로부터 발생하는 열을 효율적으로 방열 부품으로 방산시킬 수 있다. 또한, 레이저 플래시법에 의한 열 저항의 측정은, ASTM E 1461에 준거하여 행할 수 있다.It is preferable that the thermal resistance in 25 degreeC measured by the laser flash method of the thermal conductive laminated body of this invention is 10 cm <2> * K / W or less, and it is especially preferable that it is 5 cm <2> * K / W or less. When the heat resistance is within this range, the composition of the present invention can efficiently dissipate heat generated from the heat generating element into the heat dissipation component even when applied to a heat generating element having a large heat generation amount. In addition, the measurement of the thermal resistance by a laser flash method can be performed based on ASTME1461.

·점착성: Adhesiveness:

본 발명의 열 전도성 적층체는, 양면에 상이한 점착력을 갖는 것을 특징으로 한다. 25 mm 폭의 적층체의 샘플을 준비하고, 실온하에서 그의 한쪽면을 실온하에 알루미늄판에 닿게 하고, 상기 적층체를 질량 2 kg의 고무 롤러로 눌러 접착한 후, 10 분간 양생하고, 그 후 상기 적층체의 알루미늄판과 접착되지 않은 다른쪽의 한쪽면에 25 mm 폭의 실리콘 테이프(니퍼(주) 제조, No.99)로 이루어지는 테이프상 보강재를 접착한 후, 상기 적층체의 일단을 접착한 상기 보강재와 함께 상기 알루미늄판으로부터 박리하여 잡고, 인장 속도 300 mm/분으로 180°방향으로 상기 알루미늄판으로부터 박리했을 때, 박리에 요하는 힘("점착력"이라 함)을 측정하였다. 양면(강점착측면과 약점착측면)의 점착력의 차가 2 N/cm 이상인 것이 바람직하고, 3 N/cm 이상인 것이 특히 바람직하다. 적층체 양면의 점착력의 차가 3 N/cm 미만인 경우, 양면의 점착성에 있어서의 유의차가 발현되기 어렵고, 리워크나 접착 박리시에 피착체를 파손할 우려가 있다.The thermally conductive laminate of the present invention is characterized by having different adhesive strengths on both surfaces. A sample of a 25 mm wide laminate was prepared, one side of the laminate was brought into contact with an aluminum plate at room temperature under room temperature, the laminate was pressed with a rubber roller of 2 kg in mass, and then cured for 10 minutes. After adhering a tape-like reinforcing member made of a 25 mm wide silicone tape (Nipper Co., Ltd., No. 99) to the other side of the laminate not bonded to the aluminum plate, one end of the laminate was adhered. When peeled and hold | maintained from the said aluminum plate with the said reinforcing material, and peeled from the said aluminum plate in 180 degree direction at the tensile velocity of 300 mm / min, the force (referred to as "adhesive force") required for peeling was measured. It is preferable that the difference of adhesive force of both surfaces (strong adhesive side surface and weak adhesive side surface) is 2 N / cm or more, and it is especially preferable that it is 3 N / cm or more. When the difference of the adhesive force of both surfaces of a laminated body is less than 3 N / cm, the significant difference in adhesiveness of both surfaces is hard to be expressed, and there exists a possibility that a to-be-adhered body may be damaged at the time of rework and adhesive peeling.

또한, 상기한 바와 같이 하여 측정한 점착력은 양면 모두 0.3 N/cm 이상, 특히 0.5 내지 20 N/cm인 것이 바람직하다. 어느 한쪽 점착력이 0.3 N/cm 미만인 경우, 스스로의 점착력으로 발열성 전자 부품이나 방열 부재를 고정시키는 것이 곤란해진다. 또한, 점착력이 지나치게 크면 용이하게 박리되지 않기 때문에 리워크성이 떨어진다.Moreover, it is preferable that the adhesive force measured as mentioned above is 0.3 N / cm or more, especially 0.5-20 N / cm in both surfaces. When either adhesive force is less than 0.3 N / cm, it becomes difficult to fix a heat generating electronic component or a heat dissipation member by own adhesive force. Moreover, when adhesive force is too big | large, since it does not peel easily, rework property is inferior.

본 발명의 적층체의 양면의 점착력이 이러한 값이 되도록 실리콘 조성물 1과 실리콘 조성물 2를 선택한다. 이 선택은, 본 발명의 실리콘 조성물을 조성을 변경하여 복수종 제조하고, 기재에 도포하고 경화시켜 경화층을 형성하고, 상기와 마찬가지로 점착력을 시험함으로써 각 조성물마다의 점착력을 구할 수 있다. 이어서, 2종의 실리콘 조성물을 점착력이 상기 조건을 만족시키도록 선택하여 조합함으로써 본 발명의 적층체를 용이하게 제조할 수 있다.Silicone composition 1 and silicone composition 2 are selected so that the adhesive force of both surfaces of the laminated body of this invention may be such a value. This selection can manufacture the plural types of the silicone composition of this invention, changing a composition, apply | coating to a base material, and hardening | curing to form a hardened layer, and can test the adhesive force for each composition by testing adhesive force similarly to the above. Subsequently, the laminated body of this invention can be manufactured easily by selecting and combining 2 types of silicone compositions so that adhesive force may satisfy the said conditions.

〔열 전도성 적층체의 제조 방법〕[Method for producing thermally conductive laminate]

본 발명의 열 전도성 적층체는, 예를 들면 상술한 방법, 즉 (a) 내지 (f)의 성분을 각각 소정량 포함하는 실리콘 조성물 1을, 실리콘 점착제용의 표면 이형 처리를 실시한 기재의 표면에 박막상으로 도포하고 경화시켜 제1 경화물층을 형성하고, 그 후, 상기 (a) 내지 (f) 성분을 포함하여 상기 실리콘 조성물 1과 조성이 상이한 실리콘 조성물 2를 상기 제1 경화물층의 표면 상에 박막상으로 도포하고 경화시켜 제2 경화물층을 형성함으로써 제조할 수 있다.The thermally conductive laminate of the present invention includes, for example, the method described above, that is, the silicone composition 1 each containing a predetermined amount of the components of (a) to (f) on the surface of the substrate subjected to the surface release treatment for the silicone pressure sensitive adhesive. The first cured product layer was formed by applying a thin film and curing to form a first cured product layer. Then, a silicone composition 2 having a composition different from the silicone composition 1 including the components (a) to (f) was added to the first cured product layer. It can manufacture by apply | coating in a thin film form on the surface, and hardening to form a 2nd hardened | cured material layer.

상기한 방법에 있어서, 조성물 1 또는 조성물 2를 제조할 때의 각 성분의 배합 순서는 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 방법으로는,In the above-described method, the compounding order of each component when producing the composition 1 or the composition 2 is not particularly limited, but as a preferable method,

(1) (a) 성분, (b) 성분 및 (d) 성분을 소요량 혼련하여 베이스 조성물을 제조한다,(1) A necessary amount of the (a) component, the (b) component, and the (d) component is kneaded to prepare a base composition.

(2) 별도, (c) 및 (e) 성분을 혼합하여 이루어지는 경화제를 제조한다,(2) Separately, a curing agent obtained by mixing the components (c) and (e) is prepared.

(3) 이어서, 상기한 베이스 조성물과, 경화제와, (f) 성분의 실리콘 수지를 균일하게 혼합한 조성물을 제조하는 것을 들 수 있다.(3) Next, manufacturing the composition which mixed the said base composition, a hardening | curing agent, and the silicone resin of (f) component uniformly is mentioned.

본 발명의 방법에 사용하는 기재, 즉 실리콘 조성물 1을 도포하는 기재로는, 종이, PET 필름 등에 실리콘 점착제용의 표면 이형 처리를 실시한 것이 적합하다. 실리콘 점착제용의 표면 이형제로는, 퍼플루오로알킬기, 퍼플루오로폴리에테르기 등의 불소 치환기를 주쇄에 갖는 변성 실리콘을 들 수 있다.As a base material used for the method of this invention, ie, the base material which apply | coats the silicone composition 1, what performed the surface mold release process for silicone adhesives to paper, a PET film, etc. is suitable. As a surface release agent for silicone pressure sensitive adhesives, the modified silicone which has fluorine substituents, such as a perfluoroalkyl group and a perfluoro polyether group, in a main chain is mentioned.

상기 퍼플루오로폴리에테르기는, 하기 화학식 5 내지 7로 표시할 수 있다.The perfluoropolyether group may be represented by the following Chemical Formulas 5 to 7.

또한, 이러한 불소 치환기를 갖는 변성 실리콘으로서 구체적으로는, 신에쓰 가가꾸 고교(주) 제조의 상품명: X-70-201, X-70-258 등의 제품을 들 수 있다.Moreover, as modified silicone which has such a fluorine substituent, products, such as Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. brand name: X-70-201, X-70-258, etc. are mentioned specifically ,.

기재 상에 조성물의 도포, 성형의 방법은 바 코터, 나이프 코터, 콤마 코터, 스핀 코터 등을 이용하여 기재 상에 액상의 재료를 박막상으로 도포하는 것을 들 수 있지만, 상기 기재 방법으로 한정되는 것은 아니다.The method of coating and molding the composition on the substrate may include coating a liquid material on a substrate using a bar coater, a knife coater, a comma coater, a spin coater, or the like in a thin film. no.

또한, 성형 후에 가열시키기 위한 가열 온도 조건은, 용제를 첨가한 경우는 이용한 용제가 휘발하고, (a) 성분과 (c) 성분이 반응할 수 있을 정도의 온도이면 된다. 생산성, 기재 필름에의 영향을 고려하여 50 내지 150 ℃가 바람직하고, 60 내지 150 ℃가 더욱 바람직하다. 경화 시간은, 통상 0.5 내지 30 분이면 좋고, 바람직하게는 1 내지 20 분이다. 동일한 온도의 가열이어도, 스텝업이나 램프업으로 온도를 변화시키는 가열 방법을 채용할 수도 있다.In addition, the heating temperature conditions for heating after shaping | molding should just be a temperature which the solvent used volatilizes and (a) component and (c) component can react, when a solvent is added. 50-150 degreeC is preferable and 60-150 degreeC is more preferable in consideration of the influence on productivity and a base film. Hardening time should just be 0.5-30 minutes normally, Preferably it is 1-20 minutes. Even in the case of heating at the same temperature, a heating method in which the temperature is changed by step-up or ramp-up may be adopted.

경화 후의 열 전도성 적층체는, 기재 필름과 마찬가지의 이형 처리 필름을 보호용의 세퍼레이터 필름으로서, 적층체의 기재측과는 반대측의 표면에 접합시킴으로써, 수송, 정척(定尺) 컷트 등의 취급을 용이하게 할 수 있다. 이 때, 기재 필름이란 이형제의 처리량이나 종류를 변경하거나, 기재의 재질을 변경하여 기재 필름과 세퍼레이터 필름의 적층체로부터의 점착력에 경중을 가하는 것도 가능하다.The heat conductive laminated body after hardening is easy to handle, such as transportation, a fixed cut, by bonding the mold release process film similar to a base film to the surface on the opposite side to the base material side of a laminated body as a separator film for protection. It can be done. At this time, with a base film, it is also possible to change the throughput and kind of a mold release agent, or to change the material of a base material, and to add light weight to the adhesive force from the laminated body of a base film and a separator film.

이와 같이 하여 얻어진 열 전도성 적층체는, 세퍼레이터 필름 또는 기재 필름을 박리한 후, 발열성 전자 부품 또는 방열 부재에 접착하고, 그 후, 나머지 필름을 박리함으로써, 박막이어도 용이하게 배치할 수 있고, 또한 우수한 열전도 특성을 나타낸다. 또한, 양면에서 점착성이 다르기 때문에, 리워크 또는 접착 박리시에 강점착측에서의 접착을 유지하면서, 원하는 면(약점착측)에서의 박리를 행할 수 있다. 이에 따라, 약점착측에서는, 피착체에 가해지는 스트레스가 감소되고, 파손을 방지하는 것이 가능해진다.The thermally conductive laminate thus obtained can be easily disposed even if it is a thin film by peeling the separator film or the base film and then adhering to the heat generating electronic component or the heat dissipation member, and then peeling off the remaining film. It exhibits excellent thermal conductivity properties. Moreover, since adhesiveness differs on both surfaces, peeling on the desired surface (weak adhesion side) can be performed, maintaining adhesiveness on the strong adhesion side at the time of rework or adhesive peeling. As a result, on the weak adhesion side, the stress applied to the adherend is reduced, and it is possible to prevent breakage.

<실시예><Example>

이하, 본 발명의 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 하기의 실시예로 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, although an Example and a comparative example of this invention are given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to the following Example.

우선, 하기 실시예 및 비교예에 있어서 이용한 (a) 내지 (f) 성분을 하기에 나타낸다.First, (a)-(f) component used in the following Example and the comparative example is shown below.

<(a) 성분><(a) component>

·(A-1) 25 ℃에 있어서의 동점도가 600 ㎟/s이고, 분자쇄 양쪽 말단이 디메틸비닐실록시기로 봉쇄된 디메틸폴리실록산(A-1) Dimethyl polysiloxane having a kinematic viscosity at 25 ° C. of 600 mm 2 / s and having both ends of the molecular chain sealed with a dimethylvinylsiloxy group.

·(A-2) 25 ℃에 있어서의 동점도가 30,000 ㎟/s이고, 분자쇄 양쪽 말단이 디메틸비닐실록시기로 봉쇄된 디메틸폴리실록산(A-2) Dimethyl polysiloxane having a kinematic viscosity at 25 ° C. of 30,000 mm 2 / s and having both ends of the molecular chain sealed with a dimethylvinylsiloxy group.

<(b) 성분><(b) component>

·(B-1) 평균 입경 10.7 ㎛의 알루미나 분말(진비중 3.98)(B-1) Alumina powder (average specific gravity 3.98) having an average particle diameter of 10.7 µm

·(B-2) 평균 입경 1.1 ㎛의 알루미나 분말(진비중 3.98)(B-2) Alumina powder (average specific gravity 3.98) with an average particle diameter of 1.1 mu m

·(B-3) 평균 입경 0.6 ㎛의 산화아연 분말(진비중 5.67)(B-3) Zinc oxide powder (average specific gravity 5.67) with an average particle diameter of 0.6 micrometers

<(c) 성분><(c) component>

·(C-1) 하기 구조식으로 표시되는 오르가노히드로젠폴리실록산(C-1) organohydrogenpolysiloxane represented by the following structural formula

<(D) 성분><(D) component>

(D-1) 백금-디비닐테트라메틸디실록산 착체의 디메틸폴리실록산(분자쇄 양쪽 말단이 디메틸비닐실릴기로 봉쇄된 것, 25 ℃에 있어서의 동점도가 600 ㎟/s인 용액〔백금 원자 함유량: 1 질량%〕(D-1) Dimethylpolysiloxane of the platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (molecular chain blocked at both ends by a dimethylvinylsilyl group; solution having a kinematic viscosity of 600 mm 2 / s at 25 ° C. [platinum atom content: 1 mass%〕

<(E) 성분><(E) component>

·(e-1) 1-에티닐-1-시클로헥산올의 50 질량% 톨루엔 용액(E-1) 50 mass% toluene solution of 1-ethynyl-1-cyclohexanol

<(f) 성분><(f) component>

·(F-1) 실질적으로 Me3SiO0.5 단위(M 단위)와 SiO2 단위(Q 단위)만으로 이루어지는 실리콘 수지(M/Q 몰비 1.15)의 톨루엔 용액(불휘발분 60 %; 점도 30 ㎟/s).· (F-1) substantially Me 3 SiO 0.5 unit (M unit) and SiO 2 units (Q units), silicone resin (M / Q molar ratio of 1.15) of a toluene solution (non-volatile content of 60% containing only; viscosity 30 ㎟ / s ).

·(F-2) 실질적으로 Me3SiO0.5 단위(M 단위)와 SiO2 단위(Q 단위)만으로 이루어지는 실리콘 수지(M/Q 몰비 0.85)의 톨루엔 용액(불휘발분 70 %; 점도 30 ㎟/s).· (F-2) substantially Me 3 SiO 0.5 unit (M unit) and SiO 2 toluene solution of silicone resin (M / Q molar ratio of 0.85) composed of only units (Q units) (non-volatile content of 70%; viscosity 30 ㎟ / s ).

<(g) 성분><(g) component>

·(G-1) 구조식: C12H25Si(OC2H5)3으로 표시되는 오르가노실란(G-1) structural formula: organosilane represented by C 12 H 25 Si (OC 2 H 5 ) 3

·(G-2) 하기 구조식으로 표시되는 분자쇄 한쪽 말단 트리메톡시실릴기 봉쇄 디메틸폴리실록산(G-2) Molecular chain single terminal trimethoxysilyl group blockade dimethylpolysiloxane represented by the following structural formula

<(h) 성분><(h) component>

·(H-1) 하기 구조식으로 표시되는, 25 ℃에 있어서의 동점도가 600 ㎟/s인 디메틸폴리실록산.(H-1) Dimethyl polysiloxane whose kinematic viscosity at 25 degrees C is represented by the following structural formula.

<기재><Base material>

(K-1) 신에쓰 가가꾸 고교(주) 제조의 X-70-201을 1.0 g/㎡ 도포한 두께 100 ㎛의 PET 필름(K-1) PET film having a thickness of 100 μm to which 1.0 g / m 2 of X-70-201 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

(K-2) 두께 100 ㎛의 미처리 PET 필름(K-2) 100 μm thick untreated PET film

[제조예 1 내지 4, 비교 제조예 1 내지 4]Production Examples 1 to 4 and Comparative Production Examples 1 to 4

<열 전도성 조성물의 제조><Preparation of Thermally Conductive Composition>

하기 표 1에 기재된 성분을 동 표에 기재된 배합량(질량부)으로, 다음과 같이 하여 배합하고 조성물 S1 내지 S7을 제조하였다. 또한, 조성물 S5, S6 및 S7은 본 발명의 조건을 만족시키지 않는 조성물이다.The component of following Table 1 was mix | blended in the compounding quantity (mass part) described in the same table as follows, and the compositions S1-S7 were manufactured. In addition, compositions S5, S6, and S7 are compositions which do not satisfy the conditions of the present invention.

내용적 700 ㎖의 플라네터리 믹서(도꾸슈기 가고교(주) 제조, 상품명: T.K. 하이비스믹스)에 (a) 성분, (b) 성분, 경우에 따라서 (g) 성분과 (h) 성분을 투입하고, 60 분간 혼합시켰다. 이어서 (d) 성분과 (e) 성분을 가하고, 균일하게 혼합시키고, 마지막으로 (c) 성분과 (f) 성분을 첨가하고, 균일하게 혼합하여 조성물을 제조하였다.(A) component, (b) component, and optionally (g) component and (h) component were put into a 700 ml planetary mixer (manufactured by Tokushu-Kigo Kagokyo Co., Ltd., trade name: TK Hibis Mix). It was added and mixed for 60 minutes. Then, the component (d) and the component (e) were added, uniformly mixed, and finally, the component (c) and the component (f) were added and uniformly mixed to prepare a composition.

≪주 1≫: 표 중 괄호 내의 수치는, (a) 성분의 100 용량부에 대한 (f) 성분 중 수지분의 용량부이다.<< note 1 >>: The numerical value in parentheses in a table | surface is a capacity | capacitance part of resin in (f) component with respect to 100 capacity parts of (a) component.

≪주 2≫: 표 중 (d) 성분 및 (e) 성분의 농도는, (a) 성분의 질량에 대한 (D-1) 성분 및 (E-1) 성분의 농도이다. 괄호 내의 수치는, (a) 성분의 질량에 대한 (D-1) 성분의 백금 원자로서의 농도 및 (a) 성분의 질량에 대한 (E-1) 성분에 포함되는 1-에티닐-1-시클로헥산올의 농도이다.<< note 2 >>: The density | concentration of (d) component and (e) component in a table | surface is the density | concentration of (D-1) component and (E-1) component with respect to the mass of (a) component. The numerical value in parentheses is 1-ethynyl-1-cyclo contained in (E-1) component with respect to the density | concentration as a platinum atom of (D-1) component with respect to the mass of (a) component, and the mass of (a) component. Concentration of hexanol.

≪주 3≫: "SiH/Vi"란, (A) 성분 중 비닐기 1개에 대한 (B) 성분 중 SiH기(규소 원자에 결합한 수소 원자)의 개수를 의미한다.<< note 3 >>: "SiH / Vi" means the number of SiH groups (hydrogen atom couple | bonded with the silicon atom) in (B) component with respect to one vinyl group in (A) component.

[실시예 1 내지 4, 비교예 1 내지 5][Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5]

<적층체의 제조><Production of Laminate>

하기 표 2, 표 3에 기재된 적층체를 동일한 표에 기재된 조건을 이용하여, 다음과 같이 하여 얻었다. 우선 표 1에서 얻어진 조성물 중, 1종 (X1)을 선택하여 기재에 도포하고, 경화시키고, 열 전도성 경화물의 단층체 (Y1)을 얻었다. 계속해서 표 1에서 얻어진 조성물 중, 추가로 1종 (X2)를 선택하여, 앞서 얻은 열 전도성 경화물의 단층체 상에 도포한 후, 경화시키고, 적층체 (Y2)를 얻었다.The laminated bodies of following Table 2 and Table 3 were obtained using the conditions of the same table as follows. First, in the composition obtained in Table 1, 1 type (X1) was selected, apply | coated to a base material, it hardened | cured, and the monolayer (Y1) of the thermally conductive hardened | cured material was obtained. Subsequently, in the composition obtained in Table 1, 1 type (X2) was further selected and apply | coated on the monolayer of the heat conductive hardened | cured material obtained previously, and it hardened | cured and obtained laminated body (Y2).

얻어진 적층체에 대해서, 점착성, 리워크성·선택 박리성, 블리딩성, 기재로부터의 박리성, 박리 후의 취급성, 열 저항에 대해서 하기의 방법으로 평가하였다. 결과를 표 2 및 표 3에 나타낸다.About the obtained laminated body, adhesiveness, rework property, selective peelability, bleeding property, the peelability from a base material, the handleability after peeling, and heat resistance were evaluated by the following method. The results are shown in Tables 2 and 3.

·박리성: Peelability:

경화 후의 열 전도성 적층체를 기재 필름으로부터 손에 의해서 박리할 때의 무게에 의해 평가하였다(감촉에 의한 평가). 박리의 감촉이 가볍고, 적층체에 전혀 변형이 일어나지 않는 경우에 "양호"하다고 평가하고, 박리의 감촉이 무겁거나, 적층체에 변형이 발생한 경우에 "불량"이라고 평가하였다.The heat conductive laminated body after hardening was evaluated by the weight at the time of peeling by hand from a base film (evaluation by a touch). It was evaluated as "good" when the texture of peeling was light and deformation | transformation did not generate | occur | produce at all in a laminated body, and it evaluated as "defect" when the texture of peeling was heavy or deformation | transformation generate | occur | produced in a laminated body.

·박리 후의 취급성:Handling after peeling:

박리한 후의 열 전도성 경화물의 손에 의한 취급성을 본체 형상으로 주목하여 평가하였다. 기재 필름으로부터 박리한 열 전도성 경화물을 알루미늄판에 접착할 때, 곤란없이 접착이 가능한 경우, "양호"하다고 평가하였다. 열 전도성 경화물이 깨지거나, 손에 견고하게 접착 변형되어, 원래의 형상을 되찾을 수 없는 경우, "불량"이라 판단하였다.The handleability by the hand of the heat conductive hardened | cured material after peeling was evaluated by paying attention to the shape of a main body. When the heat conductive hardened | cured material peeled from the base film was stuck to an aluminum plate, when adhesiveness was possible without difficulty, it evaluated as "good." When the thermally conductive cured product broke or was firmly adhered and deformed to the hand, and the original shape could not be recovered, it was judged as “poor”.

·리워크성·선택 박리성: Reworkability, Selective Peelability:

박리한 후의 열 전도성 경화물의 양면을 동일한 알루미늄판으로 끼우고, 리워크성(박리시에, 접착체에 손상을 제공하지 않는지) 및 선택 박리성(항상 약점착 사이드로부터 박리되는지)을 평가하였다.Both surfaces of the thermally conductive cured product after peeling were sandwiched by the same aluminum plate, and reworkability (whether peeling did not cause damage to the adhesive) and selective peelability (always peeling from the weakly adhesive side) were evaluated.

열 전도성 경화물을 개재하여 접착되는 2매의 알루미늄판을 박리하는 시험을 5회 반복하였다(열 전도성 경화물과 알루미늄판은 시험마다 교환함). 5회 모두 양면에 접착되는 알루미늄판의 변형이나 파괴없이, 점착력이 약한 면에 접착되는 알루미늄판으로부터 열 전도성 경화물이 박리된 경우, "양호"하다고 평가하고, 한번이라도 점착력이 강한 면에 접착되는 알루미늄판으로부터 열 전도성 경화물이 박리된 경우, 알루미늄판 또는 열 전도성 경화물이 변형, 파괴된 경우는 "불량"이라고 평가하였다.The test which peeled the two aluminum sheets adhere | attached through a thermally conductive hardened | cured material was repeated 5 times (The thermally conductive hardened | cured material and an aluminum plate were changed for every test.). When the thermally conductive cured product is peeled off from the aluminum plate adhered to the weak adhesive force without deformation or destruction of the aluminum plate adhered to both surfaces, it is evaluated as "good" and adhered to the strong adhesive face at least once. When the heat conductive hardened | cured material peeled from an aluminum plate, when an aluminum plate or a heat conductive hardened | cured material deform | transformed and destroyed, it evaluated as "defect."

·점착성: Adhesiveness:

상술한 요령으로 상기 열 전도성 적층체를 한쪽면마다 알루미늄판에 2 kg 고무 롤러로 접착한 후, 10 분간 양생하고, 적층체의 변형을 방지하기 위해서 알루미늄판과 접착하지 않은 다른 한쪽면을 강도가 강한 실리콘 점착 테이프(니퍼 가부시끼가이샤 제조)와 접착시킨 후, 일단을 박리하여 손으로 잡고, 상온에서 인장 속도 300 mm/분으로 180°방향으로 박리하여 점착력을 측정하였다. 측정 결과를 표 2 및 표 3에 나타낸다.In the above-described manner, the thermally conductive laminate is bonded to an aluminum plate on one side with a 2 kg rubber roller, and then cured for 10 minutes, and the other side that is not bonded to the aluminum plate is hardened to prevent deformation of the laminate. After adhering with a strong silicone adhesive tape (manufactured by Nipper Co., Ltd.), one end was peeled off and held by hand, and peeled at 180 ° at a tensile speed of 300 mm / min at room temperature to measure the adhesive force. The measurement results are shown in Tables 2 and 3.

·블리딩성: Bleeding:

0.1 mm 두께의 샘플을 기재마다 20 mm 변(角)으로 컷팅하고, 상질지 위에 수지층을 향하여 올려 놓고, 그 위에 100 g의 분동을 올려 놓아 밀착시키고, 1일 후 상질지에의 오일 이행 정도를 육안으로 확인하여 평가하였다.A 0.1 mm thick sample was cut into 20 mm sides for each substrate, placed on top of the paper toward the resin layer, and then placed on a 100 g weight thereon to be in close contact with each other. Visually confirmed and evaluated.

·열 저항: Thermal resistance:

상기에서 얻어진 열 전도성 적층체를, 표준 알루미늄으로 이루어지는 원판상 플레이트(순도: 99.9 %, 직경: 약 12.7 mm, 두께: 약 1.0 mm)의 전체면에 설치하고, 그 위에 다른 표준 알루미늄 플레이트를 중첩하고, 얻어지는 구조체를 클립으로 끼움으로써 약 175.5 kPa(1.80 kgf/㎠)의 압력을 가해 3층 구조체를 얻었다.The thermally conductive laminate obtained above is installed on the entire surface of a disc-shaped plate made of standard aluminum (purity: 99.9%, diameter: about 12.7 mm, thickness: about 1.0 mm), and another standard aluminum plate is superimposed thereon. The pressure of about 175.5 kPa (1.80 kgf / cm <2>) was applied by clamping the obtained structure with a clip, and the three-layer structure was obtained.

얻어진 시험편의 두께를 측정하고, 표준 알루미늄의 플레이트의 기지의 두께를 뺌으로써, 열 전도성 적층체의 두께를 산출하였다. 또한, 시험편의 두께의 측정에는, 마이크로미터(가부시끼가이샤 미쯔토요 제조, 형식: M820-25VA)를 이용하였다. 얻어진 결과를 표 2 및 표 3에 나타낸다. 상기 시험편을 이용하여 열 전도성 적층체의 열 저항(㎠·K/W)을 열 저항 측정기(네치사 제조, 크세논 플래시 분석기; LFA447 Nano Flash)에 의해 측정하였다. 얻어진 열 저항을 표 2 및 표 3에 나타낸다.The thickness of the thermally conductive laminate was calculated by measuring the thickness of the obtained test piece and subtracting the known thickness of the plate of standard aluminum. In addition, the micrometer (Mitsutoyo Corporation make, model: M820-25VA) was used for the measurement of the thickness of a test piece. The obtained results are shown in Tables 2 and 3. Using the said test piece, the thermal resistance (cm <2> * K / W) of the thermally conductive laminated body was measured by the heat resistance measuring instrument (the Nessen make, Xenon flash analyzer; LFA447 Nano Flash). The obtained thermal resistance is shown in Table 2 and Table 3.

·발열·방열 장치에의 적용: Application to heat generating and radiating device:

도 1은 발열·방열 장치의 구조를 나타내는 개략적 단면도이다. 도 1에 의거하여 설명한다. 상기 실시예 1 내지 3에서 얻어진 열 전도성 적층체 (1)을 2 cm×2 cm의 의사(擬似) CPU (2)의 표면 상에 설치하였다. 의사 CPU (2)는 프린트 배선 기판 (3) 위에 장착되어 있다. 적층체 (1)에 방열 부재 (4)를 중첩하고, 클램프 (5)로 방열 부재 (4)와 프린트 배선 기판 (3)을 클램프 중지시킴으로써 압접하였다. 이와 같이 하여, 열 전도성 적층체 (1)을 통해 의사 CPU (2)와 방열 부재 (4)가 접합되어 있는 발열·방열 장치 (6)을 얻었다. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a heat generating / heat radiating device. It demonstrates based on FIG. The thermally conductive laminated body 1 obtained in the said Examples 1-3 was installed on the surface of the pseudo CPU 2 of 2 cm x 2 cm. The pseudo CPU 2 is mounted on the printed wiring board 3. The heat dissipation member 4 was superimposed on the laminated body 1, and it crimped by clamp-stopping the heat dissipation member 4 and the printed wiring board 3 with the clamp 5. In this way, the heat generating and heat radiating device 6 in which the pseudo CPU 2 and the heat dissipation member 4 are bonded to each other via the thermally conductive laminate 1 is obtained.

의사 CPU (2)에 전력을 공급한 바, 의사 CPU (2)는 발열하여 온도가 상승했지만 약 100 ℃에서 안정되었다. 1000 시간이라는 장시간에 걸쳐 안정된 열전도 및 방열이 가능하고, 과열 축적에 의한 의사 CPU의 고장은 발생하지 않았다. 또한, 방열 부재 (4)를 제거할 때에 의사 CPU (2) 및 프린트 배선 기판의 손상도 방지할 수 있었다. 따라서, 본 발명의 열 전도성 적층체의 채용에 의해, 반도체 장치 등의 발열·방열 장치의 신뢰성이 향상되는 것을 확인할 수 있었다.When power was supplied to the pseudo CPU 2, the pseudo CPU 2 generated heat and the temperature rose, but was stabilized at about 100 ° C. Stable heat conduction and heat dissipation were possible for a long time of 1000 hours, and no failure of the pseudo CPU due to overheat accumulation occurred. In addition, damage to the pseudo CPU 2 and the printed wiring board was also prevented when the heat dissipation member 4 was removed. Therefore, it was confirmed that the reliability of heat generating / heat radiating devices such as semiconductor devices is improved by adopting the thermally conductive laminate of the present invention.

Claims (9)

(a) 규소 원자에 결합한 알케닐기를 1 분자 중에 2개 이상 갖는 오르가노폴리실록산: 100 용량부, (a) an organopolysiloxane having two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule: 100 parts by volume, (b) 열 전도성 충전재: 50 내지 1,000 용량부, (b) thermally conductive filler: 50 to 1,000 parts by volume, (c) 규소 원자에 결합한 수소 원자를 1 분자 중에 2개 이상 갖는 오르가노히드로젠폴리실록산: 본 성분의 규소 원자에 결합한 수소 원자/(a) 성분 중 알케닐기의 몰비가 0.5 내지 5.0이 되는 양, (c) an organohydrogenpolysiloxane having two or more hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule: an amount such that the molar ratio of the alkenyl group in the hydrogen atom / (a) component bonded to the silicon atom of the present component is 0.5 to 5.0, (d) 백금족 금속계 촉매: 유효량, (d) platinum group metal catalysts: an effective amount, (e) 반응 제어제: 유효량 및 (e) reaction control agents: effective amounts and (f) 실리콘 수지: 50 내지 500 용량부(f) Silicone resin: 50 to 500 parts by volume 를 포함하는 실리콘 조성물 1을 박막상으로 성형하고 경화시켜 이루어지는 제1 경화물층과, 상기 (a) 내지 (f) 성분을 필수 성분으로서 포함하고 상기 실리콘 조성물 1과 조성이 상이한 실리콘 조성물 2를 상기 제1 경화물층의 한쪽면 상에 박막상으로 성형하고 경화시켜 이루어지는 제2 경화물층으로 이루어지고, 양면의 점착력이 서로 다른 열 전도성 적층체.And a first cured product layer formed by molding and curing a silicone composition 1 comprising a thin film, and the components (a) to (f) as essential components, and the silicone composition 2 having a composition different from the silicone composition 1 above. The heat conductive laminated body which consists of a 2nd hardened | cured material layer formed by shape | molding and hardening in a thin film form on one side of a 1st hardened | cured material layer, and the adhesive force of both surfaces differs. 제1항에 있어서, 실온하에, 상기 적층체의 25 mm 폭의 샘플의 한쪽면을 실온하에 알루미늄판에 닿게 하고 상기 적층체를 질량 2 kg의 고무 롤러로 압착하여 접착 후 10 분간 양생하고, 그 후 상기 적층체의 알루미늄판과 접착되지 않은 다른쪽의 한쪽면을 보강재에 접착한 후, 상기 적층체의 일단을 접착한 상기 보강재와 함께 파지하여 인장 속도 300 mm/분으로 180°방향으로 상기 알루미늄판으로부터 박리하고, 박리에 요한 힘(점착력)을 측정하는 것을 상기 적층체의 양면에 행했을 때에, 양면의 점착력이 모두 0.3 N/cm 이상이며, 양면의 점착력의 차가 2 N/cm 이상인 열 전도성 적층체.The method according to claim 1, wherein at room temperature, one side of a 25 mm wide sample of the laminate is brought into contact with an aluminum plate at room temperature, and the laminate is pressed with a rubber roller of 2 kg by mass to cure for 10 minutes after adhesion. Then, the other side of the laminate, which is not bonded to the other side of the laminate, is adhered to the reinforcing material, and then one end of the laminate is gripped together with the reinforcing material bonded thereto, and the aluminum is rotated in a 180 ° direction at a tensile speed of 300 mm / min. When peeling from a plate and measuring the force (adhesive force) required for peeling on both surfaces of the said laminated body, the adhesive force of both surfaces is 0.3 N / cm or more, and the thermal conductivity whose difference of adhesive strength of both surfaces is 2 N / cm or more Laminate. 제1항 또는 제2항에 있어서, (f) 성분의 실리콘 수지가 R1 3SiO1/2 단위(R1은 지방족 불포화 결합을 함유하지 않는 비치환 또는 치환의 1가 탄화수소기를 나타냄)와 SiO4/2 단위를 포함하고, R1 3SiO1/2 단위/SiO4/2 단위의 몰비가 0.5 내지 1.5인 열 전도성 적층체.The silicone resin of component (f) is composed of R 1 3 SiO 1/2 units (R 1 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond) and SiO. A thermally conductive laminate comprising 4/2 units and having a molar ratio of R 1 3 SiO 1/2 units / SiO 4/2 units between 0.5 and 1.5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 추가로 (g) 성분으로서, (g-1) 하기 화학식 1로 표시되는 알콕시실란 화합물 및 (g-2) 하기 화학식 2로 표시되는 분자쇄 한쪽 말단이 트리알콕시실릴기로 봉쇄된 디메틸폴리실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상: 0.01 내지 50 용량부를 함유하는 열 전도성 적층체.The terminal of one of claims 1 or 2, wherein (g) alkoxysilane compound represented by the following general formula (1) and (g-2) one end of the molecular chain represented by the following general formula (2) is a tree. 1 or more types chosen from the group which consists of dimethylpolysiloxane sealed by the alkoxy silyl group: The heat conductive laminated body containing 0.01-50 volume parts. <화학식 1><Formula 1> R2 aR3 bSi(OR4)4-a-b R 2 a R 3 b Si (OR 4 ) 4-ab (식 중, R2는 독립적으로 탄소 원자수 6 내지 15의 알킬기이고, R3은 독립적으로 비치환 또는 치환의 탄소 원자수 1 내지 8의 1가 탄화수소기이며, R4는 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬기이고, a는 1 내지 3의 정수, b는 0 내지 2의 정수이되, 단 a+b는 1 내지 3의 정수이다)(Wherein R 2 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and R 4 independently is carbon number Is an alkyl group of 1 to 6, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 to 2, provided that a + b is an integer of 1 to 3) <화학식 2><Formula 2> (식 중, R5는 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬기이고, c는 5 내지 100의 정수이다)(Wherein R 5 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, c is an integer of 5 to 100) 제1항 또는 제2항에 있어서, 추가로 (h) 성분으로서, 하기 화학식 3으로 표시되는 23 ℃에 있어서의 동점도가 10 내지 100,000 ㎟/s인 오르가노폴리실록산을 함유하는 것을 특징으로 하는 열 전도성 적층체.The thermal conductivity according to claim 1 or 2, further comprising (h) an organopolysiloxane having a kinematic viscosity of 10 to 100,000 mm 2 / s at 23 ° C. represented by the following general formula (3). Laminate. <화학식 3><Formula 3> R6-(SiR6 2O)dSiR6 2-R6 R 6- (SiR 6 2 O) d SiR 6 2 -R 6 (식 중, R6은 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 18의 지방족 불포화 결합을 포함하지 않는 1가 탄화수소기, d는 5 내지 2,000의 정수이다)(In formula, R <6> is the monovalent hydrocarbon group which does not contain the aliphatic unsaturated bond of C1-C18 independently, d is an integer of 5-2,000.) 제1항 또는 제2항에 있어서, 두께가 20 내지 1,000 ㎛인 열 전도성 적층체.The thermally conductive laminate according to claim 1 or 2, wherein the thermally conductive laminate has a thickness of 20 to 1,000 µm. 제1항 또는 제2항에 있어서, 레이저 플래시법으로 측정한 25 ℃에 있어서의 열 저항이 10 ㎠·K/W 이하인 열 전도성 적층체.The thermally conductive laminate according to claim 1 or 2, wherein the thermal resistance at 25 ° C. measured by the laser flash method is 10 cm 2 · K / W or less. (a) 규소 원자에 결합한 알케닐기를 1 분자 중에 2개 이상 갖는 오르가노폴리실록산: 100 용량부,(a) an organopolysiloxane having two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule: 100 parts by volume, (b) 열 전도성 충전재: 50 내지 1,000 용량부, (b) thermally conductive filler: 50 to 1,000 parts by volume, (c) 규소 원자에 결합한 수소 원자를 1 분자 중에 2개 이상 갖는 오르가노히드로젠폴리실록산: 본 성분의 규소 원자에 결합한 수소 원자/(a) 성분 중 알케닐기의 몰비가 0.5 내지 5.0이 되는 양, (c) an organohydrogenpolysiloxane having two or more hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule: an amount such that the molar ratio of the alkenyl group in the hydrogen atom / (a) component bonded to the silicon atom of the present component is 0.5 to 5.0, (d) 백금족 금속계 촉매: 유효량, (d) platinum group metal catalysts: an effective amount, (e) 반응 제어제: 유효량 및 (e) reaction control agents: effective amounts and (f) 실리콘 수지: 50 내지 500 용량부(f) Silicone resin: 50 to 500 parts by volume 를 포함하는 실리콘 조성물 1을, 실리콘 점착제용의 표면 이형 처리를 실시한 기재의 표면에 박막상으로 도포하고 경화시켜 제1 경화물층을 형성하고, 그 후 상기 (a) 내지 (f) 성분을 포함하여 상기 실리콘 조성물 1과 조성이 상이한 실리콘 조성물 2를 상기 제1 경화물층의 표면 상에 박막상으로 도포하고 경화시켜 제2 경화물층을 형성하는 것을 특징으로 하는 그 양면의 점착력이 서로 다른 열 전도성 적층체의 제조 방법.Applying the silicone composition 1 comprising a thin film on the surface of the substrate subjected to the surface release treatment for a silicone pressure-sensitive adhesive and cured to form a first cured product layer, and then containing the components (a) to (f) By applying a silicone composition 2 having a composition different from the silicone composition 1 in a thin film form on the surface of the first cured product layer to form a second cured product layer. Method for producing a conductive laminate. 제8항에 있어서, 기재에 실시하고 있는 실리콘 점착제용의 이형 처리가 불소 치환기를 주쇄에 포함하는 변성 실리콘에 의한 처리인 제조 방법.The manufacturing method of Claim 8 whose release process for silicone adhesives performed on the base material is the process by modified silicone which contains a fluorine substituent in a main chain.
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