JP2009235279A - Heat-conductive molding and manufacturing method therefor - Google Patents

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JP2009235279A
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Akihiro Endo
晃洋 遠藤
Masaya Asaine
雅弥 朝稲
Takahiro Maruyama
貴宏 丸山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-conductive molding having satisfactory handlability even in a form of thin film, fixable easily to a heat generating electronic component or a heat radiating member by itself, because having proper adhesiveness, and excellent in heat conductivity, and a manufacturing method therefor. <P>SOLUTION: This heat-conductive molding comprises a thin film-like cured object of a curable silicone composition containing (a) an organo polysiloxane having two or more of alkenyl groups, (b) a heat-conductive filler having 0.1-30 μm average particle size, having 100 ppm or less plus sieve fraction of 32 μm opening defined by JIS Z 8801-1 in terms of mass, and not containing substantially a plus sieve fraction of 45 μm opening defined by JIS Z 8801-1, (c) an organo hydrogen polysiloxane having two or more of hydrogen atoms coupled to silicon atom, (d) a platinum group metal catalyst, (e) a reaction control agent: effective amount, and (f) a silicone resin. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、特には発熱性電子部品の冷却のために、発熱性電子部品とヒートシンクまたは回路基板などの放熱部材との間の熱境界面に介装し得るシート状の熱伝導性成形体およびその製造方法に関する。   The present invention particularly relates to a sheet-like thermally conductive molded body that can be interposed at a thermal interface between a heat-generating electronic component and a heat-dissipating member such as a heat sink or a circuit board for cooling the heat-generating electronic component, and It relates to the manufacturing method.

パーソナルコンピュータ、デジタルビデオディスク、携帯電話等の電子機器に使用されるCPU、ドライバIC、メモリー等の半導体素子、LED等の発光素子などの電子部品は、高性能化・高速化・小型化・高集積化に伴い、それ自身が大量の熱を発生する。その熱によるこれらの発熱性電子部品の温度上昇は発熱性電子部品自身の動作不良、破壊を引き起こす恐れがある。そのため、動作中の発熱性電子部品の温度上昇を抑制するための多くの熱放散方法およびそれに使用する放熱部材が提案されている。   Electronic components such as CPUs, driver ICs, semiconductor elements such as memories, and light emitting elements such as LEDs used in electronic devices such as personal computers, digital video disks, and mobile phones are becoming more sophisticated, faster, smaller, and more expensive. Along with integration, itself generates a large amount of heat. The temperature rise of these exothermic electronic components due to the heat may cause malfunction and destruction of the exothermic electronic components themselves. Therefore, many heat dissipation methods for suppressing the temperature rise of the heat-generating electronic components during operation and heat dissipation members used for the heat dissipation methods have been proposed.

従来、電子機器等においては、動作中の発熱性電子部品の温度上昇を抑えるために、アルミニウム、銅等の熱伝導率の高い金属板を用いたヒートシンク等の放熱部材が使用されている。この放熱部材は、発熱性電子部品が発生する熱を伝導し、熱を外気との温度差によって表面から放出する。   Conventionally, in an electronic device or the like, a heat radiating member such as a heat sink using a metal plate having a high thermal conductivity such as aluminum or copper is used in order to suppress a temperature rise of a heat generating electronic component during operation. The heat radiating member conducts heat generated by the heat-generating electronic component, and releases the heat from the surface due to a temperature difference from the outside air.

発熱性電子部品から発生する熱を放熱部材に効率よく伝導させるためには、発熱性電子部品と放熱部材との間に生じるわずかな間隙を熱伝導性材料で埋めることが効果的である。その熱伝導性材料として、熱伝導性充填材を配合した熱伝導性シートや熱伝導性グリース等が用いられ、これら熱伝導性材料を発熱性電子部品と放熱部材との間に介装し、これら熱伝導性材料を介して発熱性電子部品から放熱部材への熱伝導を実現している。   In order to efficiently conduct heat generated from the heat generating electronic component to the heat radiating member, it is effective to fill a slight gap generated between the heat generating electronic component and the heat radiating member with the heat conductive material. As the heat conductive material, a heat conductive sheet or a heat conductive grease blended with a heat conductive filler is used, and these heat conductive materials are interposed between a heat-generating electronic component and a heat dissipation member, Heat conduction from the heat-generating electronic component to the heat radiating member is realized through these heat conductive materials.

シートはグリースに比べ取り扱い性に優れており、熱伝導性シリコーンゴム等で形成された熱伝導性シートは様々な分野に用いられている。   Sheets are easier to handle than grease, and heat conductive sheets formed of heat conductive silicone rubber or the like are used in various fields.

熱伝導性シートは、取り扱い性を重視した一般品と、密着性を重視した低硬度品とに大別することができる。   Thermally conductive sheets can be broadly classified into general products that emphasize handling and low hardness products that emphasize adhesion.

このうち一般品は、殆どの場合、JIS K6253に規定のタイプAデュロメーターで測定した硬度が60以上の硬いゴムをシート状にしたものであり、0.1mm程度の薄薄膜状態であっても単品での取り扱いが可能である。しかし、この一般品は表面に粘着感がないため、発熱性電子部品および放熱部材への固定が困難である。これを解決するため、薄膜状の熱伝導性シートの片面乃至両面に粘着剤を塗布し、容易に固定ができるようにした粘着性付与タイプが提案されている。しかしながら、塗布した粘着剤は熱伝導性が十分なものではないため、粘着剤塗布品の熱抵抗は塗布しないものに比べ大きく増加してしまうという問題があった。また、粘着剤の塗布は、シートの厚さそのものを増加させる点においても熱抵抗には不利に働く。   Of these, general products are most often made of hard rubber with a hardness of 60 or more as measured by a type A durometer as defined in JIS K6253 in a sheet form. Can be handled. However, since this general product does not have a sticky feeling on the surface, it is difficult to fix it to the heat generating electronic component and the heat radiating member. In order to solve this, a tackiness imparting type has been proposed in which a pressure-sensitive adhesive is applied to one or both sides of a thin-film heat conductive sheet so that it can be easily fixed. However, since the applied adhesive does not have sufficient thermal conductivity, there is a problem that the thermal resistance of the adhesive-applied product is greatly increased compared to that without application. Moreover, the application of the pressure-sensitive adhesive adversely affects the thermal resistance in terms of increasing the thickness of the sheet itself.

一方、低硬度品は、アスカ−C硬度60以下の低硬度熱伝導材料をシート状に成形したものであり、粘着剤などを塗布せずとも、自身を固定できる程度の粘着力を保持している。しかしながら、その低硬度を実現するために、シート中に多量の可塑剤を配合したり、架橋密度を非常に低くしたりしているため、薄膜にした際の強度および取り扱い性に難点があるので、良好な取り扱い性を得るためにはある一定以上の厚みが必要であった。そのため、低硬度品の熱抵抗を低下させることは困難であった。また、このような低硬度品は、オイルブリードが発生し、近傍の発熱性電子部品を汚染し易いという欠点があった。   On the other hand, a low-hardness product is a sheet of a low-hardness heat conductive material having an Asuka-C hardness of 60 or less, and maintains an adhesive strength that can fix itself without applying an adhesive or the like. Yes. However, in order to realize the low hardness, a large amount of plasticizer is blended in the sheet or the crosslink density is extremely low, so there are difficulties in strength and handleability when forming a thin film. In order to obtain good handleability, a certain thickness or more is required. Therefore, it has been difficult to reduce the thermal resistance of the low hardness product. Further, such a low hardness product has a drawback that oil bleed is generated and a nearby heat-generating electronic component is easily contaminated.

このような欠点を解決するものとして、単一層からなる薄膜でありながら取り扱い可能で、かつ、自身を発熱性電子部品および放熱部材に容易に固定できる粘着テープが開発されている(特許文献1)。しかしながら、近年、益々発熱部材の発熱量が上がってくると、通常の粘着テープでは放熱効果が不十分になってきた。放熱性能を向上させるためには、ひとつには熱伝導性充填材を高度に充填する方法がある。しかしながら、熱伝導性充填材を高度に充填すると、粘着テープ自体が脆くなりやすく、取扱い性が低下するので充填度を高めることには限界がある。もう一つの手段としては、熱抵抗は放熱材料の厚みに比例するので粘着テープの厚さを薄くする方法が考えられるが、実際にはこの方法によっても効果的に熱抵抗を低減することができず、放熱効果を高めることはできない。   As a solution to such a drawback, an adhesive tape that can be handled while being a thin film of a single layer and can be easily fixed to a heat-generating electronic component and a heat-dissipating member has been developed (Patent Document 1). . However, in recent years, as the amount of heat generated by the heat generating member increases more and more, the heat dissipation effect has become insufficient with ordinary adhesive tapes. In order to improve the heat dissipation performance, there is one method of highly filling the heat conductive filler. However, when the heat conductive filler is highly filled, the pressure-sensitive adhesive tape itself tends to become brittle and the handleability is lowered, so there is a limit to increasing the filling degree. Another method is to reduce the thickness of the adhesive tape because the thermal resistance is proportional to the thickness of the heat dissipation material. In practice, this method can also effectively reduce the thermal resistance. Therefore, the heat dissipation effect cannot be enhanced.

特許文献2には、熱伝導性シリコーングリースであるが、熱伝導性充填材としてインジウム粉末を90質量%より多く100質量%以下含み、その他に、平均粒径が0.1〜20μmであり、JIS Z 8801-1に規定の目開き32μmの篩上分率が質量基準で50ppm以下であり、かつ同規格に規定の目開き45μmの篩上分率が実質的に0ppmである組成物が記載されている。該組成物は熱伝導性シートを開示するものではない。
本発明に関連する先行技術を開示するものとして特許文献3〜6が挙げられる。
Patent Document 2 is a heat conductive silicone grease, which contains indium powder as a heat conductive filler in an amount of more than 90% by mass and 100% by mass or less, and in addition, the average particle size is 0.1 to 20 μm, JIS Z 8801-1 describes a composition in which the sieve top fraction with a sieve opening of 32 μm is 50 ppm or less on a mass basis, and the sieve top fraction with a sieve opening of 45 μm specified in the same standard is substantially 0 ppm. Has been. The composition does not disclose a thermally conductive sheet.
Patent documents 3-6 are mentioned as what discloses the prior art relevant to the present invention.

特開2002−030212号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-030212 特開2007−051227号公報JP 2007-051227 A 特開2005−035264号公報JP 2005-035264 A 特開2005−206733号公報JP 2005-206733 A 特開2006−182888号公報JP 2006-182888 A 特開2006−188610号公報JP 2006-188610 A

そこで、本発明の課題は、薄膜でも取り扱い性が良く、適度な粘着性を有するため自身で発熱性電子部品または放熱部材に容易に固定でき、熱伝導性にも優れる熱伝導性成形体およびその製造方法を提供することにある。   Therefore, the problem of the present invention is that the thin film is easy to handle even in a thin film and has an appropriate adhesiveness, so that it can be easily fixed to a heat-generating electronic component or a heat-dissipating member by itself, and a heat-conductive molded article having excellent heat conductivity and its It is to provide a manufacturing method.

本発明者らは、上記課題を達成するため鋭意検討を行った結果、上記の方法において、粘着テープを薄くすることにより熱抵抗を低減する試みがうまく行かない原因は、熱伝導性充填材に使用される無機粉末には通常粗粒が混在し、そのためにテープを薄くすると粗粒表面が露出して発熱部材と放熱部材と接触を阻害してしまうことであった。そこで、本発明は、特定の粒度分布を有する熱伝導性充填材を採用することにより該課題を解決できることを見出した。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the reason why the attempt to reduce the thermal resistance by making the adhesive tape thin in the above method is not successful is the heat conductive filler. Coarse grains are usually mixed in the inorganic powder to be used. For this reason, when the tape is thinned, the surface of the coarse grains is exposed and the contact between the heat generating member and the heat radiating member is hindered. Therefore, the present invention has found that this problem can be solved by employing a thermally conductive filler having a specific particle size distribution.

即ち、本発明は第一に、
(a)ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に2個以上有するオルガノポリシロキサン:100容量部、
(b)熱伝導性充填材:50〜1,000容量部、
(c)ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:本成分のケイ素原子に結合した水素原子/(a)成分中のアルケニル基のモル比が0.5〜5.0となる量、
(d)白金族金属系触媒:有効量、
(e)反応制御剤:有効量、および
(f)シリコーン樹脂:50〜500容量部
を含む硬化性シリコーン組成物にして、前記(b)成分の熱伝導性充填材は、平均粒径が0.1〜30μmであり、JIS Z 8801-1に規定の目開き32μmの篩上分率が質量基準で100ppm以下であり、かつ同規格に規定の目開き45μmの篩上画分を実質的に含まないシリコーン組成物の薄膜状硬化物からなる熱伝導性成形体を提供する。
That is, the present invention firstly
(A) Organopolysiloxane having two or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule: 100 parts by volume
(B) Thermally conductive filler: 50 to 1,000 parts by volume,
(C) Organohydrogenpolysiloxane having two or more hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule: The molar ratio of hydrogen atoms bonded to silicon atoms in this component / alkenyl groups in component (a) is 0.00. An amount of 5 to 5.0,
(D) platinum group metal catalyst: effective amount,
(E) Reaction control agent: Effective amount, and (f) Silicone resin: A curable silicone composition containing 50 to 500 parts by volume, and the heat conductive filler of component (b) has an average particle size of 0. .1 to 30 μm, the fraction on the sieve having an opening of 32 μm as defined in JIS Z 8801-1 is 100 ppm or less on a mass basis, and the fraction on the sieve having an opening of 45 μm as defined in the same standard is substantially Provided is a thermally conductive molded body comprising a thin film-like cured product of a silicone composition which does not contain.

なお、本発明に用いられる組成物の成分の配合量を「容量部」で示す際の「容量」とは当該成分の質量をその真比重で除して得られた値を意味する。   The “capacity” when the blending amount of the component of the composition used in the present invention is represented by “volume part” means a value obtained by dividing the mass of the component by its true specific gravity.

本発明の熱伝導性成形体の好ましい実施形態のとして次のものを挙げることができる。   The following can be mentioned as preferable embodiment of the heat conductive molded object of this invention.

・前記(f)成分のシリコーン樹脂が、R 3SiO1/2単位(R1は脂肪族不飽和結合を含有しない非置換または置換の1価炭化水素基を示す)とSiO4/2単位とを含み、R 3SiO1/2単位/SiO4/2単位のモル比が0.5〜1.5であることが好ましい。 The silicone resin as component (f) is composed of R 1 3 SiO 1/2 units (R 1 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond) and SiO 4/2 units. And the molar ratio of R 1 3 SiO 1/2 units / SiO 4/2 units is preferably 0.5 to 1.5.

・前記のシリコーン組成物は、さらに、(g)成分として、
(g−1)下記一般式(1):
Si(OR)4-a-b (1)
(式中、Rは独立に炭素原子数6〜15のアルキル基であり、Rは独立に非置換または置換の炭素原子数1〜8の1価炭化水素基であり、Rは独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、aは1〜3の整数、bは0〜2の整数であり、但しa+bは1〜3の整数である。)
で表されるアルコキシシラン化合物、および
(g−2)下記一般式(2):
-The above-mentioned silicone composition is further used as a component (g):
(G-1) The following general formula (1):
R 2 a R 3 b Si (OR 4 ) 4-ab (1)
Wherein R 2 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and R 4 is independently And an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 to 2, provided that a + b is an integer of 1 to 3.)
And (g-2) the following general formula (2):

Figure 2009235279
Figure 2009235279

(式中、Rは独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、cは5〜100の整数である。)
で表される分子鎖片末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサンからなる群から選ばれる少なくとも1種: 0.01〜50容量部
を含有することが好ましい。
(In the formula, R 5 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and c is an integer of 5 to 100.)
It is preferable to contain 0.01-50 volume part of at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of dimethylpolysiloxane blocked with the trialkoxysilyl group at the molecular chain fragment end represented by

・前記のシリコーン組成物は、更に、(h)成分として、下記平均組成式(3):
-(SiR O)SiR -R ・・・(3)
(Rは独立に炭素原子数1〜18の脂肪族不飽和結合を含まない一価炭化水素基、dは5〜2,000の整数である。)
で表される23℃における動粘度が10〜100,000mm2/sのオルガノポリシロキサンを含有することが好ましい。
-The silicone composition further comprises the following average composition formula (3) as component (h):
R 6- (SiR 6 2 O) d SiR 6 2 -R 6 (3)
(R 6 is a monovalent hydrocarbon group that does not contain an aliphatic unsaturated bond having 1 to 18 carbon atoms, and d is an integer of 5 to 2,000.)
It is preferable to contain the organopolysiloxane whose kinematic viscosity in 23 degreeC represented by these is 10-100,000 mm < 2 > / s.

・前記熱伝導性成形体は、厚みが100μm以下、特に20〜100μmであることが好ましい。   -It is preferable that the said heat conductive molded object is 100 micrometers or less in thickness, especially 20-100 micrometers.

・前記熱伝導性成形体は、レーザーフラッシュ法で測定した25℃における熱抵抗が1.5cm2・K/W以下であることが好ましい。 -It is preferable that the said heat conductive molded object is 1.5 cm < 2 > * K / W or less in 25 degreeC thermal resistance measured by the laser flash method.

本発明は、第二に、
(a)アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン:100容量部、
(b)熱伝導性充填材:50〜1,000容量部、
(c)オルガノハイドロジェンポリシロキサン:(c)成分のケイ素原子に直接結合した水素原子と(a)成分のアルケニル基とのモル比で0.5〜5.0となる量、
(d)白金族金属系触媒:有効量、
(e)反応制御剤:有効量、並びに
(f)シリコーン樹脂:50〜500容量部
を含む硬化性シリコーン組成物にして、前記(b)成分の熱伝導性充填材は、平均粒径が0.1〜30μmであり、JIS Z 8801-1に規定の目開き32μmの篩上分率が質量基準で100ppm以下であり、かつ同規格に規定の目開き45μmの篩上画分を実質的に含まないシリコーン組成物を、シリコーン粘着剤用の表面離型処理を施した基材の表面に薄膜状に塗布し硬化させて薄膜状硬化物を得ることを特徴とする熱伝導性成形体の製造方法を提供する。
The present invention secondly,
(A) Organopolysiloxane having an alkenyl group: 100 parts by volume,
(B) Thermally conductive filler: 50 to 1,000 parts by volume,
(C) Organohydrogenpolysiloxane: an amount of 0.5 to 5.0 in terms of a molar ratio of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms in component (c) and alkenyl groups in component (a),
(D) platinum group metal catalyst: effective amount,
(E) Reaction control agent: Effective amount, and (f) Silicone resin: A curable silicone composition containing 50 to 500 parts by volume, and the heat conductive filler of component (b) has an average particle size of 0. .1 to 30 μm, the fraction on the sieve having an opening of 32 μm as defined in JIS Z 8801-1 is 100 ppm or less on a mass basis, and the fraction on the sieve having an opening of 45 μm as defined in the same standard is substantially Production of a thermally conductive molded article characterized in that a silicone composition not containing a silicone composition is applied to the surface of a substrate subjected to surface release treatment for a silicone adhesive and cured to obtain a thin film cured product Provide a method.

本発明の上記製造方法の好ましい実施形態の一つとして、前記基材に施しているシリコーン粘着剤用の離型処理が、フッ素置換基を主鎖に含む変性シリコーンによる処理である製造方法が挙げられる。   One preferred embodiment of the production method of the present invention is a production method in which the release treatment for the silicone pressure-sensitive adhesive applied to the substrate is treatment with a modified silicone containing a fluorine substituent in the main chain. It is done.

本発明の熱伝導性成形体は、適度の表面粘着性を有するので発熱性電子部品や放熱部材に粘着して容易に固定でき、しかも必要に応じて被着体から容易に剥離性することができるので取り扱い性が良好である。また、発熱性電子部品と放熱部材との間に介装した際には両者を良好に接触させることができ、極めて良好な熱伝導性を発揮する。さらにオイルのブリードは抑制され問題にならない。したがって、本発明の成形体は熱伝導性シートとして有用である。   Since the heat conductive molded body of the present invention has moderate surface tackiness, it can be easily fixed by sticking to a heat-generating electronic component or a heat radiating member, and easily peelable from an adherend as needed. Since it can be used, it is easy to handle. Moreover, when interposed between a heat-generating electronic component and a heat radiating member, both can be satisfactorily brought into contact with each other, and extremely good thermal conductivity is exhibited. Furthermore, oil bleed is suppressed and does not become a problem. Therefore, the molded article of the present invention is useful as a heat conductive sheet.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の熱伝導性成形体は上記(a)〜(f)成分を必須成分として含む組成物から形成される。以下、該組成物について説明する。
〔(a)アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン〕
本発明組成物の(a)成分は、ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に2個以上有するオルガノポリシロキサンであり、本発明の付加反応硬化型組成物における主剤(ベースポリマー)の一つである。
The heat conductive molded object of this invention is formed from the composition which contains the said (a)-(f) component as an essential component. Hereinafter, the composition will be described.
[(A) Organopolysiloxane having an alkenyl group]
Component (a) of the composition of the present invention is an organopolysiloxane having two or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule, and is one of the main agents (base polymers) in the addition reaction curable composition of the present invention. One.

このオルガノポリシロキサンは液状であれば、その分子構造は限定されず、例えば、直鎖状、分岐鎖状、一部分岐を有する直鎖状が挙げられるが、特に好ましくは直鎖状である。   The molecular structure of the organopolysiloxane is not limited as long as it is liquid, and examples thereof include a straight chain, a branched chain, and a partially branched straight chain, and a linear chain is particularly preferable.

ここで、アルケニル基とは直鎖状のアルケニル基だけでなくシクロアルケニル基を包含する。具体的には、前記アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等の通常、炭素原子数2〜8程度のものが挙げられ、中でもビニル基、アリル基等の炭素原子数2〜3の低級アルケニル基が好ましく、特にはビニル基が好ましい。このアルケニル基は、分子鎖末端のケイ素原子、また分子鎖途中のケイ素原子の何れに結合していてもよいが、得られる硬化物の柔軟性がよいものとするため、分子鎖末端のケイ素原子にのみ結合して存在することが好ましい。   Here, the alkenyl group includes not only a linear alkenyl group but also a cycloalkenyl group. Specifically, examples of the alkenyl group include those having usually about 2 to 8 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, and cyclohexenyl group. Of these, a lower alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms such as a vinyl group and an allyl group is preferable, and a vinyl group is particularly preferable. This alkenyl group may be bonded to either a silicon atom at the end of the molecular chain or a silicon atom in the middle of the molecular chain, but the silicon atom at the end of the molecular chain is used to make the resulting cured product flexible. It is preferable that it is bonded only to.

(a)成分中のアルケニル基以外のケイ素原子に結合する基は、例えば、非置換または置換の一価炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基などのアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等のアラルキル基、並びにこれらの基の炭素原子に結合している水素原子の一部または全部が、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、シアノ基などで置換された基、例えば、クロロメチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、シアノエチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基等の炭素原子数が1〜10、特に炭素原子数が1〜6のものが挙げられ、これらの中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等の炭素原子数1〜3の非置換または置換のアルキル基、およびフェニル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基等の非置換または置換のフェニル基である。また、アルケニル基以外のケイ素原子に結合する基は全てが同一であっても異なっていてもよい。耐溶剤性などの特殊な特性を要求されない限り、コスト、その入手のし易さ、化学的安定性、環境負荷などの理由により全てメチル基が選ばれることが多い。   The group bonded to the silicon atom other than the alkenyl group in the component (a) is, for example, an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, Cycloalkyl groups such as isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc., cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc. , Aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, biphenylyl group, aralkyl groups such as benzyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, methylbenzyl group, and carbon atoms of these groups Some or all of the hydrogen atoms are halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine, cyano groups For example, chloromethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, cyanoethyl group, 3,3,4, Examples include 4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl group having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms, and among these, methyl group, ethyl Group, propyl group, chloromethyl group, bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, cyanoethyl group and other unsubstituted or substituted alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, and phenyl group, chlorophenyl group, fluoro An unsubstituted or substituted phenyl group such as a phenyl group. All the groups bonded to the silicon atom other than the alkenyl group may be the same or different. Unless special properties such as solvent resistance are required, a methyl group is often selected for reasons such as cost, availability, chemical stability, and environmental burden.

また、このオルガノポリシロキサンの25℃における動粘度は、通常、10〜100,000mm2/s、特に好ましくは500〜50,000mm2/sの範囲である。前記粘度が低すぎると、得られる組成物の保存安定性が悪くなり、また、高すぎると得られる組成物の伸展性が悪くなる場合がある。 Moreover, kinematic viscosity at 25 ° C. This organopolysiloxane is usually, 10~100,000mm 2 / s, particularly preferably from 500~50,000mm 2 / s. If the viscosity is too low, the storage stability of the resulting composition will be poor, and if it is too high, the extensibility of the resulting composition may be poor.

このようなオルガノポリシロキサンの好適な具体例としては、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ポリジメチルシロキサン、分子鎖両末端メチルジビニルシロキシ基封鎖ポリジメチルシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等が挙げられる。   Preferable specific examples of such organopolysiloxanes include dimethylvinylsiloxy group-capped polydimethylsiloxane having molecular chains at both ends, methyldivinylsiloxy group-capped polydimethylsiloxane having molecular chains at both ends, and dimethylvinylsiloxy-capped dimethylsiloxane having molecular chains at both ends. -A methylphenylsiloxane copolymer etc. are mentioned.

この(a)成分のオルガノポリシロキサンは、1種単独でも、例えば粘度が異なる2種以上を組み合わせても使用することができる。   The organopolysiloxane of component (a) can be used singly or in combination of two or more having different viscosities.

〔(b)熱伝導性充填材〕
(b)成分である熱伝導性充填材としては、通常、例えば、金属粉末、金属酸化物粉末、セラミック粉末が用いられ、具体的には、アルミニウム粉末、銅粉末、銀粉末、ニッケル粉末、金粉末、酸化アルミニウム粉末、酸化亜鉛粉末、酸化マグネシウム粉末、酸化鉄粉末、酸化チタン粉末、酸化ジルコニウム粉末、窒化アルミニウム粉末、窒化ホウ素粉末、窒化珪素粉末、ダイヤモンド粉末、カーボン粉末、フラーレン粉末、カーボングラファイト粉末などが挙げられる。しかし、これらに限定されるものではなく、従来熱伝導性充填材として使用される公知の物質であれば如何なる充填材でもよく、これらは1種類単独であるいは2種類以上混ぜ合わせてもよい。
[(B) Thermally conductive filler]
As the thermally conductive filler that is component (b), for example, metal powder, metal oxide powder, and ceramic powder are usually used. Specifically, aluminum powder, copper powder, silver powder, nickel powder, gold powder, and the like are used. Powder, aluminum oxide powder, zinc oxide powder, magnesium oxide powder, iron oxide powder, titanium oxide powder, zirconium oxide powder, aluminum nitride powder, boron nitride powder, silicon nitride powder, diamond powder, carbon powder, fullerene powder, carbon graphite powder Etc. However, the present invention is not limited thereto, and any filler may be used as long as it is a known substance conventionally used as a thermally conductive filler, and these may be used alone or in combination of two or more.

これら熱伝導性充填材は、平均粒径が通常0.1〜30μm、望ましくは0.5〜20μmのものを用いることができる。これら充填材は1種単独で用いてもよいし、複数種を混合して用いてもよい。また、平均粒径の異なる粒子を2種以上用いることも可能である。なお、本発明において、平均粒径は体積平均粒径であり、マイクロトラック粒度分布測定装置MT3300EX(日機装株式会社)による測定値である。   As these heat conductive fillers, those having an average particle size of usually 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 20 μm can be used. These fillers may be used individually by 1 type, and may mix and use multiple types. Two or more kinds of particles having different average particle diameters can be used. In addition, in this invention, an average particle diameter is a volume average particle diameter, and is a measured value by the micro track particle size distribution measuring apparatus MT3300EX (Nikkiso Co., Ltd.).

熱伝導性充填材の配合量は、組成物の流動性、成形性、得られる熱伝導性の観点から、(a)成分100容量部に対して50〜1,000容量部、好ましくは100〜500容量部である。   The blending amount of the heat conductive filler is 50 to 1,000 parts by volume, preferably 100 to 100 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the component (a), from the viewpoint of fluidity, moldability, and heat conductivity to be obtained. 500 parts by volume.

(b)成分の熱伝導性充填材は、目開き32μm目開きの篩上分率が質量基準で50ppm以下であり、好ましくは30ppm以下である。硬化前の該組成物中に目開き32μmの篩上画分が50ppmを超えて含まれると、得られる薄膜状成形体の表面に熱伝導性充填材の粒子表面が露出してしまう。そのため、成形体の熱抵抗が顕著に上昇する。また、目開き32μmの篩上画分がたとえ50ppm以下であっても、一粒でも大きな粗粒が組成物中に存在していると、その場合でも薄膜上硬化物と被着体との接触が悪くなることがあり、結果として所望する放熱効果が得られない。従って、所望の放熱効果を得るためには、目開き45μmの篩上画分が実質的に存在しないことが必要である。ここで、「実質的に存在しない」とは、熱伝導性組成物50gをトルエン100gと共に200mlのプラスチック瓶に入れ、栓をして熱伝導性組成物が分散しきるまで振とうし、分散した後、目開き45μmの篩(標準篩:JIS Z 8801)にその分散液を流し込み、洗浄用トルエンなどでよく洗い流し、乾燥機にそのふるいごと入れて乾燥させる。乾燥後、薬包紙に試験用ふるい上の粗粒を移して目視観察し、目開き45μmの篩上画分の粗粒が目視にて認められないことを意味する。   The heat conductive filler of component (b) has a sieve top fraction with an opening of 32 μm and a mass basis of 50 ppm or less, preferably 30 ppm or less. When the composition on the sieve having an opening of 32 μm exceeds 50 ppm in the composition before curing, the particle surface of the thermally conductive filler is exposed on the surface of the obtained thin film-like molded body. For this reason, the thermal resistance of the molded body is significantly increased. Further, even if the fraction on the sieve having a mesh size of 32 μm is 50 ppm or less, even if one large coarse particle is present in the composition, even in that case, the contact between the cured product on the thin film and the adherend As a result, the desired heat dissipation effect cannot be obtained. Therefore, in order to obtain a desired heat dissipation effect, it is necessary that the fraction on the sieve having a mesh size of 45 μm does not substantially exist. Here, “substantially non-existent” means that 50 g of the heat conductive composition is placed in a 200 ml plastic bottle together with 100 g of toluene, capped and shaken until the heat conductive composition is completely dispersed. Then, the dispersion is poured into a sieve (standard sieve: JIS Z 8801) having an opening of 45 μm, thoroughly washed with toluene for washing, and the sieve is put into a dryer and dried. After drying, the coarse particles on the test sieve are transferred to the medicine wrapping paper and visually observed, which means that the coarse particles of the fraction on the sieve having an opening of 45 μm are not visually recognized.

硬化前の組成物中から不要な粗粒を取り除くには、該組成物を直接篩で濾過する方法もあるが、該組成物のように、高度に熱伝導性充填材が入っている材料を濾過することは現実的には難しく、組成物に配合する前に熱伝導性充填材から粗粒を取り除くことが好ましい。   In order to remove unnecessary coarse particles from the composition before curing, there is a method of directly filtering the composition through a sieve. However, a material containing a highly thermally conductive filler such as the composition is used. It is practically difficult to filter, and it is preferable to remove coarse particles from the thermally conductive filler before blending into the composition.

熱伝導性充填材等のフィラーを製造するメーカーが、粒度分布を測定し、検査表などに値を載せているが、絶対量が少ない粗粒は一般的には粒度分布測定装置では検出できない。従って、同じ材料、同じ平均粒径のものを使っても粗粒を取り除いているかどうかで放熱特性に大きな差が生じる。発熱性電子部品の発熱が非常に大きくなっている現在、熱伝導性充填材の粗粒の量をコントロールすることは特に重要である。   A manufacturer that manufactures a filler such as a heat conductive filler measures the particle size distribution and puts a value on an inspection table or the like, but coarse particles with a small absolute amount cannot generally be detected by a particle size distribution measuring device. Therefore, even if the same material and the same average particle diameter are used, there is a large difference in heat dissipation characteristics depending on whether or not coarse particles are removed. It is particularly important to control the amount of coarse particles of the heat conductive filler at the time when the heat generation of the heat-generating electronic parts is very large.

これら、熱伝導性充填材から粗粒を取り除くためには、いくつか方法がある。一般的には気流分級やメッシュ分級などがあり、高度に粗粒を取り除きさえすれば、熱伝導性充填材の分級は何でもよいが、本発明に用いられる熱伝導性充填材は、メッシュ分級を掛けることが好ましい。気流分級もかなりの確率で粗粒を取り除くことができるが、やはり高度に取り除くことは難しいし、メッシュ分級の方が、例えば目開き45μmの篩下品を使えば、実質的に最大粒径45μmの熱伝導性充填材が得られる。   There are several ways to remove coarse particles from these thermally conductive fillers. Generally, there are airflow classification, mesh classification, etc. As long as coarse particles are removed to a high degree, the classification of the thermally conductive filler is not limited, but the thermally conductive filler used in the present invention is classified into mesh classification. It is preferable to multiply. Although air classification can remove coarse particles with a considerable probability, it is still more difficult to remove, and mesh classification has a maximum particle size of substantially 45 μm, for example, if a sieve product having an opening of 45 μm is used. A thermally conductive filler is obtained.

本発明において、硬化前の熱伝導性組成物中の粗粒質量を測定するには、例えばトルエンなどの溶剤に溶解させ、その溶解液をJIS Z 8801に規定の目開き45μmの篩、および目開き32μmの篩を通過させ、よく洗浄後、目開き45μmの篩の上に残った粒子を目視で観察し、目開き32μmの篩の上に残った粗粒は乾燥後に薬包紙などに集めて、その質量を測定すればよい。   In the present invention, in order to measure the coarse particle mass in the thermally conductive composition before curing, for example, it is dissolved in a solvent such as toluene, and the resulting solution is sieved with a sieve having an opening of 45 μm as defined in JIS Z8801, and After passing through a sieve having an opening of 32 μm and thoroughly washing, the particles remaining on the sieve having an opening of 45 μm are visually observed. Coarse particles remaining on the sieve having an opening of 32 μm are collected on a medicine wrapping paper after drying, What is necessary is just to measure the mass.

〔(c)オルガノハイドロジェンポリシロキサン〕
本発明の組成物の(c)成分は、通常、ケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)を1分子中に2個以上、好ましくは2〜100個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンであり、(a)成分の架橋剤として作用する成分である。即ち、(c)成分中のケイ素原子に結合した水素原子が、後述の(d)成分の白金族金属系触媒の作用により、(a)成分中のアルケニル基とヒドロシリル化反応により付加して、架橋結合を有する3次元網状構造を有する架橋硬化物を与える。
[(C) Organohydrogenpolysiloxane]
The component (c) of the composition of the present invention is usually an organohydrogenpolysiloxane having 2 or more, preferably 2 to 100, hydrogen atoms (that is, SiH groups) bonded to silicon atoms in one molecule. (A) It is a component which acts as a crosslinking agent for the component. That is, the hydrogen atom bonded to the silicon atom in the component (c) is added by the hydrosilylation reaction with the alkenyl group in the component (a) by the action of the platinum group metal catalyst of the component (d) described later, A crosslinked cured product having a three-dimensional network structure having crosslinked bonds is obtained.

(c)成分中のケイ素原子に結合した有機基としては、例えば、脂肪族不飽和結合を有しない非置換または置換の一価炭化水素基等が挙げられ、具体的には、(a)成分の項で説明したアルケニル基以外のケイ素原子に結合する基として例示したものと同種の非置換または置換の炭化水素基が挙げられる。その中でも、合成面および経済性の点から、メチル基であることが好ましい。   Examples of the organic group bonded to the silicon atom in the component (c) include an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond. Specifically, the component (a) Examples thereof include unsubstituted or substituted hydrocarbon groups of the same type as those exemplified as the group bonded to the silicon atom other than the alkenyl group described in the section. Among them, a methyl group is preferable from the viewpoint of synthesis and economy.

(c)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの構造は、特に限定されず、直鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよいが、好ましくは直鎖状である。このような直鎖状のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、例えば、下記一般式(4):   The structure of the organohydrogenpolysiloxane of component (c) is not particularly limited, and may be any of linear, branched and cyclic, but is preferably linear. Such a linear organohydrogenpolysiloxane includes, for example, the following general formula (4):

Figure 2009235279
Figure 2009235279

(式中、Rは独立にアルケニル基以外の非置換または置換の1価炭化水素基あるいは水素原子であり、但し、少なくとも2個は水素原子であり、nは1以上の整数である。)
で表される。
(Wherein R 7 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group other than an alkenyl group or a hydrogen atom, provided that at least two are hydrogen atoms and n is an integer of 1 or more.)
It is represented by

上記一般式(4)において、Rで表されるアルケニル基以外の非置換または置換の1価炭化水素基は、(a)成分の項で前述したアルケニル基以外のケイ素原子に結合した基の中の1価炭化水素基と同種のものである。 In the general formula (4), the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group other than the alkenyl group represented by R 7 is a group bonded to a silicon atom other than the alkenyl group described above in the section of the component (a). It is the same kind as the monovalent hydrocarbon group therein.

また、nは好ましくは2〜100、より好ましくは5〜50の整数である。   N is preferably an integer of 2 to 100, more preferably 5 to 50.

(c)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの好適な具体例としては、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。なお、(c)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。   Preferable specific examples of the organohydrogenpolysiloxane of component (c) include molecular chain both ends trimethylsiloxy group-capped methylhydrogen polysiloxane, molecular chain both ends trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer , Dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane / methylphenylsiloxane copolymer blocked with trimethylsiloxy group blocked at both ends of molecular chain, dimethylpolysiloxane blocked with dimethylhydrogensiloxy group blocked at both ends of molecular chain, dimethylsiloxane with dimethylhydrogensiloxy group blocked at both ends of molecular chain・ Methylhydrogensiloxane copolymer, dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylsiloxane at both molecular chains ・ Methylphenylsiloxane copolymer, dimethylhigh at both molecular chains Rojenshirokishi groups at methylphenyl polysiloxane and the like. The (c) component organohydrogenpolysiloxane can be used singly or in combination of two or more.

(c)成分の添加量は、(c)成分のSiH基が(a)成分中のアルケニル基1モルに対して0.5〜5.0モルとなる量、望ましくは0.8〜4.0モルとなる量である。(c)成分のSi−H基の量が(a)成分中のアルケニル基1モルに対して0.5モル未満では熱伝導性組成物が硬化しなくなったり、硬化物の強度が不十分で、薄膜状成形体として取り扱うことができなくなったりするなどの問題が発生する。5.0モルを超える量では、硬化物に粘着性が不十分となり、自身の粘着で自身を固定することできないという問題が発生する。   Component (c) is added in an amount such that the SiH group of component (c) is 0.5 to 5.0 moles per mole of alkenyl group in component (a), preferably 0.8 to 4. The amount is 0 mol. If the amount of Si-H groups in component (c) is less than 0.5 moles relative to 1 mole of alkenyl groups in component (a), the thermally conductive composition will not cure or the strength of the cured product will be insufficient. The problem that it becomes impossible to handle as a thin-film shaped article occurs. If the amount exceeds 5.0 moles, the cured product will not have sufficient adhesiveness, and the problem that it cannot be fixed with its own adhesive will occur.

〔(d)白金族金属系触媒〕
本発明における(d)成分の白金族金属系触媒は、(a)成分中のアルケニル基と(c)成分中のケイ素原子に結合した水素原子との付加反応を促進し、本発明の組成物から三次元網状構造の架橋硬化物を与えるために配合される成分である。
[(D) Platinum group metal catalyst]
The platinum group metal catalyst of component (d) in the present invention promotes the addition reaction between the alkenyl group in component (a) and the hydrogen atom bonded to the silicon atom in component (c), and the composition of the present invention. To the three-dimensional network structure to give a cross-linked cured product.

(d)成分としては、通常のヒドロシリル化反応に用いられる公知の触媒を全て使用することができる。その具体例としては、例えば、白金(白金黒を含む)、ロジウム、パラジウム等の白金族金属単体、H2PtCl4・nH2O、H2PtCl6・nH2O、NaHPtCl6・nH2O、KHPtCl6・nH2O、Na2PtCl6・nH2O、K2PtCl4・nH2O、PtCl4・nH2O、PtCl2、Na2HPtCl4・nH2O(但し、式中、nは0〜6の整数であり、好ましくは0または6である。)等の塩化白金、塩化白金酸および塩化白金酸塩、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸とオレフィンとのコンプレックス、白金黒、パラジウム等の白金族金属をアルミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させたもの、ロジウム−オレフィンコンプレックス、クロロトリス(トリフェニルフォスフィン)ロジウム(ウィルキンソン触媒)、塩化白金、塩化白金酸または塩化白金酸塩とビニル基含有シロキサンとのコンプレックスなどが挙げられる。なお、(d)成分の白金族金属系触媒は、1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。 (D) As a component, all the well-known catalysts used for normal hydrosilylation reaction can be used. Specific examples thereof include platinum group metals such as platinum (including platinum black), rhodium and palladium, H 2 PtCl 4 · nH 2 O, H 2 PtCl 6 · nH 2 O, NaHPtCl 6 · nH 2 O. , KHPtCl 6 · nH 2 O, Na 2 PtCl 6 · nH 2 O, K 2 PtCl 4 · nH 2 O, PtCl 4 · nH 2 O, PtCl 2 , Na 2 HPtCl 4 · nH 2 O (where, n is an integer of 0 to 6, preferably 0 or 6.), etc.), etc.), platinum modified with chloroplatinic acid and chloroplatinate, alcohol-modified chloroplatinic acid, chloroplatinic acid and olefin complex, platinum black , Platinum group metals such as palladium supported on alumina, silica, carbon, etc., rhodium-olefin complex, chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (Wilki Nson catalyst), platinum chloride, chloroplatinic acid, or a complex of chloroplatinate and a vinyl group-containing siloxane. The platinum group metal catalyst of component (d) can be used singly or in combination of two or more.

(d)成分の配合量は、本発明の組成物を硬化させるために必要な有効量であればよく、特に制限されないが、通常、(a)成分に対する白金族金属元素の質量換算で、0.1〜1,000ppm、望ましくは0.5〜500ppmとするのがよい。   (D) The compounding quantity of a component should just be an effective amount required in order to harden the composition of this invention, Although it does not restrict | limit, Usually, it is 0 in conversion of the mass of the platinum group metal element with respect to (a) component. .1 to 1,000 ppm, preferably 0.5 to 500 ppm.

〔(e)反応制御剤〕
(e)成分の反応制御剤は、(d)成分の存在下で進行する(a)成分と(c)成分の反応速度を調整するためのものである。
[(E) Reaction control agent]
The (e) component reaction control agent is for adjusting the reaction rate of the (a) component and the (c) component that proceed in the presence of the (d) component.

(e)成分としては、通常の付加反応硬化型シリコーン組成物に用いられる公知の付加反応抑制剤を全て使用することができる。その具体例としては、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、3−ブチン−1−オール等のアセチレン化合物、窒素化合物、有機りん化合物、硫黄化合物、オキシム化合物、有機クロロ化合物等が挙げられる。なお、(e)成分の付加反応抑制剤は、1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。   As the component (e), all known addition reaction inhibitors used in ordinary addition reaction curable silicone compositions can be used. Specific examples thereof include acetylene compounds such as 1-ethynyl-1-cyclohexanol and 3-butyn-1-ol, nitrogen compounds, organic phosphorus compounds, sulfur compounds, oxime compounds, and organic chloro compounds. In addition, the addition reaction inhibitor of (e) component can be used even if single 1 type also combines 2 or more types.

(e)成分の配合量は、(d)成分の使用量によっても異なるので一概には定義できないが、ヒドロシリル化反応の進行を所望の反応速度に調整できる有効量であればよく、通常、(a)成分の質量に対して、10〜50000ppm程度とすることがよい。(e)成分の配合量が少なすぎる場合には十分な可使時間を確保することができないことがあり、また多すぎる場合には組成物の硬化性が低下することがある。   The amount of component (e) varies depending on the amount of component (d) used, and thus cannot be defined unconditionally. However, it may be any effective amount that can adjust the progress of the hydrosilylation reaction to a desired reaction rate. It is good to set it as about 10-50000 ppm with respect to the mass of a) component. If the amount of component (e) is too small, sufficient pot life may not be ensured, and if too large, the curability of the composition may be reduced.

〔(f)シリコーン樹脂〕
本発明に用いられる(f)成分のシリコーン樹脂は、本発明の硬化物に粘着性を付与する作用を有する。
[(F) Silicone resin]
The silicone resin of component (f) used in the present invention has an effect of imparting tackiness to the cured product of the present invention.

(f)成分の例としては、R 3SiO1/2単位(M単位)と、SiO4/2単位(Q単位)の共重合体であって、M単位とQ単位の比(モル比)がM/Q=0.5〜1.5、好ましくは0.6〜1.4、更に好ましくは0.7〜1.3であるものが挙げられる。M/Q=0.5〜1.5の範囲において所望の粘着力が得られる。 Examples of the component (f) include a copolymer of R 1 3 SiO 1/2 unit (M unit) and SiO 4/2 unit (Q unit), wherein the ratio of M unit to Q unit (molar ratio). ) Is M / Q = 0.5 to 1.5, preferably 0.6 to 1.4, more preferably 0.7 to 1.3. A desired adhesive strength can be obtained in the range of M / Q = 0.5 to 1.5.

は脂肪族不飽和結合を含有しない非置換または置換の1価炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等のアラルキル基、並びにこれらの基の炭素原子に結合している水素原子の一部または全部が、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、シアノ基などで置換された基、例えば、クロロメチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、シアノエチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基等の炭素原子数が1〜10、特に炭素原子数が1〜6のものが挙げられ、これらの中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等の炭素原子数1〜3の非置換または置換のアルキル基およびフェニル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基等の非置換または置換のフェニル基である。また、Rは全てが同一であっても異なっていてもよい。Rは、耐溶剤性などの特殊な特性を要求されない限り、コスト、その入手のし易さ、化学的安定性、環境負荷などの理由により全てメチル基が選ばれることが多い。 R 1 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl Group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, alkyl group such as dodecyl group, cycloalkyl group such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group An aryl group such as a naphthyl group and a biphenylyl group, an aralkyl group such as a benzyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group and a methylbenzyl group, and a part or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of these groups , Groups substituted by halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine, cyano groups, etc. Tyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, cyanoethyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6 , 6-nonafluorohexyl group and the like having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms, among them, preferably methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, C1-C3 unsubstituted or substituted alkyl group such as bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, cyanoethyl group, and unsubstituted or substituted phenyl group such as phenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group It is a group. R 1 may be all the same or different. As for R 1 , a methyl group is often selected for reasons such as cost, availability, chemical stability, and environmental burden unless special characteristics such as solvent resistance are required.

(f)成分の添加量は、(a)成分100容量部に対して、50〜500容量部、好ましくは60〜350容量部、更に好ましくは70〜200容量部である。(f)成分の添加量が、50容量部未満および500容量部を超える場合は、所望の粘着性が得られなくなる。   The amount of component (f) added is 50 to 500 parts by volume, preferably 60 to 350 parts by volume, and more preferably 70 to 200 parts by volume with respect to 100 parts by volume of component (a). If the amount of component (f) added is less than 50 parts by volume or more than 500 parts by volume, the desired tackiness cannot be obtained.

(f)成分そのものは室温で固体または粘稠な液体であるが、溶剤に溶解した状態で使用することも可能である。その場合、組成物への添加量は、溶剤分を除いた量で決定される。   The component (f) itself is a solid or viscous liquid at room temperature, but it can also be used in a state dissolved in a solvent. In that case, the amount added to the composition is determined by the amount excluding the solvent.

〔その他の成分〕
本発明に用いられる組成物には、必要に応じて、本発明の目的を損なわない範囲で、上記(a)〜(f)成分以外の成分を添加することができる。以下、このような任意的成分について説明する。
[Other ingredients]
In the composition used for this invention, components other than said (a)-(f) component can be added as needed in the range which does not impair the objective of this invention. Hereinafter, such optional components will be described.

・(g)表面処理剤:
本発明の組成物には、組成物調製時に、(b)熱伝導性充填材を疎水化処理し(a)オルガノポリシロキサンとの濡れ性を向上させ、(b)熱伝導性充填材を(a)成分からなるマトリックス中に均一に分散させることを目的として、表面処理剤(ウェッター)を配合することができる。該(g)成分としては特に下記の(g−1)および(g−2)が好ましい。
(G) Surface treatment agent:
In the composition of the present invention, at the time of preparing the composition, (b) the thermally conductive filler is hydrophobized to improve the wettability with (a) the organopolysiloxane, and (b) the thermally conductive filler is ( A surface treating agent (wetter) can be blended for the purpose of uniformly dispersing in the matrix comprising the component a). As the component (g), the following (g-1) and (g-2) are particularly preferable.

・・(g−1)アルコキシシラン化合物
下記一般式(1):
Si(OR)4-a-b (1)
(式中、Rは独立に炭素原子数6〜15のアルキル基であり、Rは独立に非置換または置換の炭素原子数1〜8の1価炭化水素基であり、Rは独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、aは1〜3の整数、bは0〜2の整数であり、但しa+bは1〜3の整数である。)
で表されるアルコキシシラン化合物である。
(G-1) Alkoxysilane compound The following general formula (1):
R 2 a R 3 b Si (OR 4 ) 4-ab (1)
Wherein R 2 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and R 4 is independently And an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 to 2, provided that a + b is an integer of 1 to 3.)
It is the alkoxysilane compound represented by these.

上記一般式(1)において、Rで表されるアルキル基としては、例えば、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基等が挙げられる。このRで表されるアルキル基の炭素原子数が6〜15の範囲を満たすと、(b)成分の濡れ性が十分に向上し、取り扱い作業性がよく、組成物の低温特性が良好なものとなる。 In the general formula (1), examples of the alkyl group represented by R 2 include a hexyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, and a tetradecyl group. When the number of carbon atoms of the alkyl group represented by R 2 satisfies the range of 6 to 15, the wettability of the component (b) is sufficiently improved, the handling workability is good, and the low temperature characteristics of the composition are good. It will be a thing.

で表される非置換または置換の1価炭化水素基しては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;ビニル基、アリル基等のアルケニル基;フェニル基、トリル基等のアリール基;2−フェニルエチル基、2−メチル−2−フェニルエチル基等のアラルキル基;3,3,3-トリフロロプロピル基、2−(ノナフルオロブチル)エチル基、2−(へプタデカフルオロオクチル)エチル基、p−クロロフェニル基等のハロゲン化炭化水素基等が挙げられる。これらの中では、特に、メチル基、エチル基が好ましい。 Examples of the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group represented by R 3 include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, and an octyl group; and a cycloalkyl such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Groups: alkenyl groups such as vinyl and allyl groups; aryl groups such as phenyl and tolyl groups; aralkyl groups such as 2-phenylethyl and 2-methyl-2-phenylethyl groups; 3,3,3-trifluoro Examples thereof include halogenated hydrocarbon groups such as propyl group, 2- (nonafluorobutyl) ethyl group, 2- (heptadecafluorooctyl) ethyl group, and p-chlorophenyl group. Among these, a methyl group and an ethyl group are particularly preferable.

で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。これらの中では、特に、メチル基、エチル基が好ましい。 Examples of the alkyl group represented by R 4 include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. Among these, a methyl group and an ethyl group are particularly preferable.

この(g−1)成分の好適な具体例としては、下記のものを挙げることができる。   Preferable specific examples of the component (g-1) include the following.

13Si(OCH)
1021Si(OCH)
1225Si(OCH)
1225Si(OC)
1021Si(CH)(OCH)
1021Si(C)(OCH)
1021Si(CH)(OC)
1021Si(CH=CH)(OCH)
1021Si(CHCHCF)(OCH)
C 6 H 13 Si (OCH 3 ) 3
C 10 H 21 Si (OCH 3 ) 3
C 12 H 25 Si (OCH 3 ) 3
C 12 H 25 Si (OC 2 H 5 ) 3
C 10 H 21 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2
C 10 H 21 Si (C 6 H 5) (OCH 3) 2
C 10 H 21 Si (CH 3 ) (OC 2 H 5) 2
C 10 H 21 Si (CH═CH 2 ) (OCH 3 ) 2
C 10 H 21 Si (CH 2 CH 2 CF 3) (OCH 3) 2

なお、(g−1)成分は1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。該成分にはウェッターとしての作用がある。   In addition, (g-1) component can be used even if single 1 type also combines 2 or more types. The component has a function as a wetter.

・・(g−2)ジメチルポリシロキサン
下記一般式(2):
(G-2) Dimethylpolysiloxane The following general formula (2):

Figure 2009235279
Figure 2009235279

(式中、Rは独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、cは5〜100の整数である。)
で表される分子鎖片末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサンである。
(In the formula, R 5 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and c is an integer of 5 to 100.)
Is a dimethylpolysiloxane in which one end of a molecular chain represented by is blocked with a trialkoxysilyl group.

上記一般式(2)において、Rで表されるアルキル基は、上記一般式(1)中のRで表されるアルキル基と同種のものである。 In the general formula (2), the alkyl group represented by R 5 is the same type as the alkyl group represented by R 4 in the general formula (1).

この(g−2)成分の好適な具体例としては、下記のものを挙げることができる。   Preferable specific examples of the component (g-2) include the following.

Figure 2009235279
Figure 2009235279

なお、(g−2)成分は1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。該成分の配合量が多すぎると、得られる硬化物の耐熱性や耐湿性が低下する傾向がある。   In addition, (g-2) component can be used even if single 1 type also combines 2 or more types. When there are too many compounding quantities of this component, there exists a tendency for the heat resistance and moisture resistance of the hardened | cured material obtained to fall.

(g)成分の表面処理剤として、これら(g−1)成分と(g−2)成分のいずれか一方でも両者を組み合わせて使用しても差し支えない。この場合、(g)成分の配合量は、(a)成分100容量部に対して0.01〜50容量部であることが好ましい。   As the surface treatment agent for the component (g), either one of the components (g-1) and (g-2) may be used in combination. In this case, it is preferable that the compounding quantity of (g) component is 0.01-50 volume parts with respect to 100 volume parts of (a) component.

・(h)オルガノポリシロキサン: (H) Organopolysiloxane:

本発明の組成物には、更に(h)成分として、下記平均組成式(3):
-(SiR O)SiR -R ・・・(3)
(Rは独立に炭素原子数1〜18の脂肪族不飽和結合を含まない一価炭化水素基、dは5〜2,000の整数である。)
で表される23℃における動粘度が10〜100,000mm2/sのオルガノポリシロキサンを添加することができる。熱伝導性組成物の粘度調整剤等の特性付与を目的として適宜用いられるが、これに限定されるものではない。一種単独で使用しても、二種以上を併用してもよい。
In the composition of the present invention, the following average composition formula (3):
R 6- (SiR 6 2 O) d SiR 6 2 -R 6 (3)
(R 6 is a monovalent hydrocarbon group that does not contain an aliphatic unsaturated bond having 1 to 18 carbon atoms, and d is an integer of 5 to 2,000.)
It is possible to add an organopolysiloxane having a kinematic viscosity at 23 ° C. of 10 to 100,000 mm 2 / s. Although it is suitably used for the purpose of imparting properties such as a viscosity modifier of the thermally conductive composition, it is not limited thereto. One kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

上記R6は独立に非置換または置換の炭素原子数1〜18の一価炭化水素基である。R6としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロヘキシル基;フェニル基、トリル基等のアリール基;2−フェニルエチル基、2−メチル−2−フェニルエチル基等のアラルキル基;3,3,3−トリフロロプロピル基、2−(パーフロロブチル)エチル基、2−(パーフロロオクチル)エチル基、p−クロロフェニル基等のハロゲン化炭化水素基などが挙げられるが、特にメチル基、フェニル基、炭素原子数6〜18のアルキル基が好ましい。 R 6 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. Examples of R 6 include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, and octadecyl; cyclohexyl groups such as cyclopentyl and cyclohexyl. Aryl groups such as phenyl group and tolyl group; aralkyl groups such as 2-phenylethyl group and 2-methyl-2-phenylethyl group; 3,3,3-trifluoropropyl group, 2- (perfluorobutyl) ethyl Group, 2- (perfluorooctyl) ethyl group, halogenated hydrocarbon group such as p-chlorophenyl group, and the like are mentioned, and methyl group, phenyl group and alkyl group having 6 to 18 carbon atoms are particularly preferable.

上記dは、要求される粘度の観点から、好ましくは1.8〜2.2の数であり、特に好ましくは1.9〜2.1の数である。   From the viewpoint of the required viscosity, d is preferably a number from 1.8 to 2.2, and particularly preferably a number from 1.9 to 2.1.

また、25℃における動粘度は、好ましくは、10〜100,000mm/sであり、特に100〜10,000mm/sであることが好ましい。該動粘度が10mm/sより低いと、得られる組成物の硬化物がオイルブリードを発生しやすくなる。該動粘度が100,000mm/sより大きいと、得られる熱伝導性組成物の流動性が乏しくなりやすい。 Further, the kinematic viscosity at 25 ° C., preferably a 10~100,000mm 2 / s, it is preferable in particular 100~10,000mm 2 / s. When the kinematic viscosity is lower than 10 mm 2 / s, the cured product of the resulting composition tends to generate oil bleeding. If the kinematic viscosity is greater than 100,000 mm 2 / s, the fluidity of the resulting heat conductive composition tends to be poor.

(h)成分の具体例としては、例えば、   Specific examples of the component (h) include, for example,

Figure 2009235279
Figure 2009235279

Figure 2009235279
Figure 2009235279

Figure 2009235279
Figure 2009235279

などが挙げられる。 Etc.

(h)成分を本発明の組成物に添加する場合、その添加量は限定されず、所望の効果が得られる量であればよいが、(a)成分100容量部に対して、好ましくは0.1〜100容量部、より好ましくは1〜50容量部である。該添加量がこの範囲内にあると、硬化前の熱伝導性組成物に良好な流動性、作業性を維持しやすく、また、(b)成分の熱伝導性充填材を該組成物に充填するのが容易である。   When the component (h) is added to the composition of the present invention, the amount added is not limited and may be any amount that provides the desired effect, but is preferably 0 with respect to 100 parts by volume of the component (a). .1 to 100 parts by volume, more preferably 1 to 50 parts by volume. When the added amount is within this range, it is easy to maintain good fluidity and workability in the thermally conductive composition before curing, and the composition is filled with the thermally conductive filler of component (b). Easy to do.

・その他の任意成分:
その他の任意成分として、例えば、フッ素変性シリコーン界面活性剤;着色剤としてカーボンブラック、二酸化チタン、ベンガラなど;難燃性付与剤として白金化合物、酸化鉄、酸化チタン、酸化セリウムなどの金属酸化物、または金属水酸化物などを添加してもよい。更に、熱伝導性充填材の沈降防止剤として、沈降性シリカまたは焼成シリカなどの微粉末シリカ、チクソ性向上剤等を添加することも任意である。
・ Other optional ingredients:
Other optional components include, for example, fluorine-modified silicone surfactants; carbon black, titanium dioxide, bengara, etc. as colorants; metal oxides such as platinum compounds, iron oxides, titanium oxides, cerium oxides as flame retardants, Alternatively, a metal hydroxide or the like may be added. Furthermore, it is optional to add fine powder silica such as precipitated silica or calcined silica, thixotropic improver, etc. as an anti-settling agent for the heat conductive filler.

〔成形体の形成〕
上述した成分の内、所要の成分を均一に混合し、その混合物を基材上に薄膜状に成形し、加熱硬化することにより、本発明の薄膜状熱伝導性成形体を得ることが可能である。
[Formation of molded body]
It is possible to obtain the thin-film thermally conductive molded body of the present invention by uniformly mixing the required components among the above-mentioned components, forming the mixture into a thin film on a base material, and curing by heating. is there.

本発明の薄膜上成形体の厚さは、取扱い性、得られる粘着性および熱伝導性の点で、好ましくは100μm以下、特に20〜100μmであり、更に好ましくは30〜50μmである。   The thickness of the molded body on a thin film of the present invention is preferably 100 μm or less, particularly 20 to 100 μm, and more preferably 30 to 50 μm from the viewpoints of handleability, obtained adhesiveness and thermal conductivity.

所要の成分を均一に混合した本発明の組成物を調製する。該組成物を基材上に塗布成形し、加熱硬化させて薄膜状硬化物を形成する。こうして、本発明の熱伝導性成形体を得ることができる。組成物を基材上に塗布、成形する際には、組成物の粘度調整のためにトルエン等の溶剤を添加することも可能である。   A composition of the present invention is prepared by uniformly mixing the required components. The composition is applied and formed on a substrate and cured by heating to form a thin film-like cured product. In this way, the heat conductive molded object of this invention can be obtained. When applying and molding the composition on a substrate, a solvent such as toluene can be added to adjust the viscosity of the composition.

〔特性〕
・熱抵抗:
本発明の熱伝導性成形体は、レーザーフラッシュ法で測定した25℃における熱抵抗が、1.5cm2・K/W以下であることが好ましく、特に1.0cm2・K/W以下であることが好ましい。該熱抵抗がこの範囲内にあると、本発明の成形体を発熱量の大きい発熱体に適用した場合でも、該発熱体から発生する熱を効率よく放熱部材へ伝達させることができる。なお、レーザーフラッシュ法による熱抵抗の測定は、ASTM E 1461に準拠して行うことができる。
〔Characteristic〕
·Thermal resistance:
The heat conductive molded body of the present invention preferably has a thermal resistance at 25 ° C. measured by a laser flash method of 1.5 cm 2 · K / W or less, particularly 1.0 cm 2 · K / W or less. It is preferable. When the thermal resistance is within this range, even when the molded body of the present invention is applied to a heating element having a large calorific value, heat generated from the heating element can be efficiently transmitted to the heat radiating member. In addition, the measurement of the thermal resistance by the laser flash method can be performed in accordance with ASTM E 1461.

〔熱伝導性成形体の製造方法〕
本発明の熱伝導性成形体は、例えば、前述した方法、即ち、(a)〜(f)の成分をそれぞれ所定量含むシリコーン組成物を、シリコーン粘着剤用の表面離型処理を施した基材の表面に薄膜状に塗布し硬化させて薄膜状硬化物を得ることにより製造することができる。
[Method for producing thermally conductive molded body]
The thermally conductive molded body of the present invention is, for example, a group obtained by subjecting a silicone composition containing a predetermined amount of each of the components (a) to (f) to a surface release treatment for a silicone adhesive. It can be manufactured by applying a thin film on the surface of the material and curing it to obtain a thin film cured product.

上記の方法において、前記組成物を調製する際の各成分の配合順序は特に限定されないが、好ましい方法としては、
(1)(a)成分、(b)成分、および(d)成分を所要量混練してベース組成物を調製する、
(2)別途、(c)成分および(e)成分を混合してなる硬化剤を調製する、
(3)次に、上記のベース組成物と、硬化剤と、(f)成分のシリコーン樹脂とを均一に混合した組成物を調製することが挙げられる。
In the above method, the blending order of each component when preparing the composition is not particularly limited, but as a preferred method,
(1) A base composition is prepared by kneading a required amount of the components (a), (b), and (d).
(2) Separately, a curing agent prepared by mixing the component (c) and the component (e) is prepared.
(3) Next, preparing the composition which mixed said base composition, hardening | curing agent, and the silicone resin of (f) component uniformly is mentioned.

本発明の方法に使用する基材、即ち、シリコーン組成物を塗布する基材としては、紙、PETフィルム等にシリコーン粘着剤用の表面離型処理を施したものが適している。シリコーン粘着剤用の表面離型剤としては、パーフロロアルキル基、パーフロロポリエーテル基等のフッ素置換基を主鎖にもつ変性シリコーンを挙げることができる。   As the base material used in the method of the present invention, that is, the base material on which the silicone composition is applied, a paper, a PET film or the like subjected to a surface release treatment for a silicone adhesive is suitable. Examples of the surface release agent for silicone pressure-sensitive adhesives include modified silicones having a fluorine substituent such as a perfluoroalkyl group and a perfluoropolyether group in the main chain.

上記パーフロロポリエーテル基は、下記式(5)〜(7)で表すことができる。   The perfluoropolyether group can be represented by the following formulas (5) to (7).

Figure 2009235279
Figure 2009235279

また、かかるフッ素置換基をもつ変性シリコーンとして具体的には、信越化学工業(株)製の商品名:X−70−201、X−70−258などの製品が挙げられる。   Specific examples of the modified silicone having a fluorine substituent include products such as trade names: X-70-201 and X-70-258 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

基材上へ組成物の塗布、成形の方法は、バーコーター、ナイフコーター、コンマコーター、スピンコーターなどを用いて基材上に液状の材料を薄膜状に塗布することが挙げられるが、上記記載方法に限定されるものではない。   Examples of the method for applying and molding the composition on the substrate include applying a liquid material in a thin film on the substrate using a bar coater, knife coater, comma coater, spin coater, etc. The method is not limited.

また、成形後に加熱させるための加熱温度条件は、溶剤を添加した場合は用いた溶剤が揮発し、(a)成分と(c)成分が反応し得る程度の温度であればよい。生産性、基材フィルムへの影響を考慮して、50〜150℃が望ましく、60〜150℃が更に望ましい。硬化時間は、通常0.5〜30分でよく、好ましくは1〜20分である。同一温度の加熱であっても、ステップアップやランプアップで温度を変化させる加熱方法を採用しても良い。   Moreover, the heating temperature conditions for heating after shaping | molding should just be the temperature which the solvent used when the solvent was added volatilizes and (a) component and (c) component can react. In view of productivity and influence on the substrate film, 50 to 150 ° C. is desirable, and 60 to 150 ° C. is more desirable. The curing time may usually be 0.5 to 30 minutes, preferably 1 to 20 minutes. Even when heating is performed at the same temperature, a heating method in which the temperature is changed by step-up or ramp-up may be employed.

硬化後の熱伝導性成形体は、基材フィルムと同様の離型処理フィルムを保護用のセパレーターフィルムとして、成形体の基材側とは反対側の表面に貼り合わせることで、輸送、定尺カット等の取り扱いを容易にすることができる。この際、基材フィルムとは離型剤の処理量や種類を変えたり、基材の材質を変えて、基材フィルムとセパレーターフィルムの成形体からの剥離力に軽重をつけることも可能である。   The thermally conductive molded body after curing can be transported and scaled by sticking the same release treatment film as the base film as a protective separator film on the surface opposite to the base side of the molded body. Handling such as cutting can be facilitated. In this case, it is possible to change the processing amount and type of the release agent with the base film, or change the material of the base material to give a light weight to the peeling force from the molded body of the base film and the separator film. .

このようにして得られた熱伝導性成形体は、セパレーターフィルムまたは基材フィルムを剥離した後、発熱性電子部品または放熱部材に貼り付け、その後、残りのフィルムを剥離することにより、薄膜であっても容易に配置することができ、かつ優れた熱伝導特性を示す。   The heat conductive molded body thus obtained is a thin film by peeling off the separator film or substrate film, and then sticking it to the heat-generating electronic component or heat dissipation member, and then peeling off the remaining film. However, it can be easily arranged and exhibits excellent heat conduction characteristics.

以下、本発明の実施例および比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although the Example and comparative example of this invention are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.

まず、下記実施例および比較例において用いた(a)〜(f)成分を下記に示す。
<(a)成分>
・(A−1)25℃における動粘度が600mm/sであり、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン
・(A−2)25℃における動粘度が30,000mm/sであり、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン
First, the components (a) to (f) used in the following examples and comparative examples are shown below.
<(A) component>
(A-1) Dimethylpolysiloxane having a kinematic viscosity at 25 ° C. of 600 mm 2 / s and having both molecular chain ends blocked with dimethylvinylsiloxy groups. (A-2) Kinematic viscosity at 25 ° C. of 30,000 mm 2 / s, dimethylpolysiloxane with both molecular chain ends blocked with dimethylvinylsiloxy groups

<(b)成分>
・(B−1)平均粒径10.7μmのアルミナ粉末、篩いで分級した目開き32μmの篩下品(真比重3.98)。
・(B−2)平均粒径20.6μmのアルミナ粉末、篩いで分級した目開き32μmの篩下品(真比重3.98)。
・(B−3)平均粒径0.5μmの酸化亜鉛粉末、気流分級により分級した目開き32μmの篩下品(真比重5.67)。
・(B−4)平均粒径20.6μmのアルミナ粉末、分級処理を施さないもの(真比重3.98)。
・(B−5)平均粒径1.0μmのアルミナ粉末、篩いで分級した目開き32μmの篩下品(真比重3.98)。
・(B−6)平均粒径5.3μmのアルミナ粉末、分級処理を施さないもの(真比重3.98)。
<(B) component>
(B-1) Alumina powder having an average particle diameter of 10.7 μm, a sieved product having an opening of 32 μm classified by a sieve (true specific gravity 3.98).
(B-2) Alumina powder having an average particle diameter of 20.6 μm, a sieved product having a mesh size of 32 μm classified by a sieve (true specific gravity 3.98).
(B-3) Zinc oxide powder having an average particle diameter of 0.5 μm, and a sieved product having an opening of 32 μm classified by airflow classification (true specific gravity 5.67).
(B-4) Alumina powder having an average particle diameter of 20.6 μm, not subjected to classification treatment (true specific gravity 3.98).
(B-5) Alumina powder having an average particle diameter of 1.0 μm, and a sieved product having a mesh size of 32 μm classified by a sieve (true specific gravity 3.98).
(B-6) Alumina powder having an average particle size of 5.3 μm, not subjected to classification treatment (true specific gravity 3.98).

<(c)成分>
・(C−1)下記構造式:
<(C) component>
(C-1) The following structural formula:

Figure 2009235279
Figure 2009235279

で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン Organohydrogenpolysiloxane represented by

<(d)成分>
(D−1)白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のジメチルポリシロキサン(分子鎖両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖されたもの、25℃における動粘度が600mm/sである溶液〔白金原子含有量:1質量%〕
<(D) component>
(D-1) dimethylpolysiloxane of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (both ends of molecular chain blocked with dimethylvinylsilyl group, solution having a kinematic viscosity at 25 ° C. of 600 mm 2 / s [containing platinum atom (Amount: 1% by mass)

<(e)成分>
・(E−1)1−エチニル−1−シクロヘキサノールの50質量%トルエン溶液
<(E) component>
-(E-1) 1 mass% toluene solution of 1-ethynyl-1-cyclohexanol

<(f)成分>
・(F−1)実質的にMeSiO0.5単位(M単位)とSiO単位(Q単位)のみからなるシリコーン樹脂(M/Qモル比1.15)のトルエン溶液(不揮発分60%;粘度30mm/s)。
<Component (f)>
(F-1) Toluene solution (non-volatile content 60) of silicone resin (M / Q molar ratio 1.15) consisting essentially of Me 3 SiO 0.5 units (M units) and SiO 2 units (Q units) %; Viscosity 30 mm 2 / s).

<(g)成分>
・(G−1)構造式:C1225Si(OC)で表されるオルガノシラン
・(G−2)下記構造式:
<(G) component>
(G-1) Structural formula: Organosilane represented by C 12 H 25 Si (OC 2 H 5 ) 3 (G-2) Structural formula:

Figure 2009235279
Figure 2009235279

で表される分子鎖片末端トリメトキシシリル基封鎖ジメチルポリシロキサン A dimethylpolysiloxane blocked with a trimethoxysilyl group blocked by a molecular chain represented by

<(h)成分>
・(H-1)下記構造式:
<(H) component>
(H-1) Structural formula:

Figure 2009235279
Figure 2009235279

で表される、25℃における動粘度が600mm/sであるジメチルポリシロキサン。 Dimethylpolysiloxane having a kinematic viscosity at 25 ° C. of 600 mm 2 / s represented by

<基材>
(K−1)信越化学工業(株)製のX−70−201を1.0g/m塗布した厚さ100μmのPETフィルム
(K−2)厚さ100μmの未処理PETフィルム
<Base material>
(K-1) 100 μm thick PET film coated with 1.0 g / m 2 of X-70-201 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (K-2) Untreated PET film with a thickness of 100 μm

[実施例1〜3、比較例1〜5]
<熱伝導性組成物の調製>
表1および表2に記載の成分を同表に記載の配合量(容量部または質量基準のppm)で、次のとおりにして配合し各例の組成物を調製した。
[Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 to 5]
<Preparation of thermal conductive composition>
The components described in Tables 1 and 2 were blended in the following amounts in the blending amounts (parts by volume or ppm based on mass) listed in the same table to prepare the compositions of the respective examples.

内容積700ミリリットルのプラネタリーミキサー(特殊機化工業(株)製、商品名:T.K.ハイビスミックス)に、(a)成分、(b)成分、場合によって(g)成分と(h)成分を仕込み、60分間混合せしめた。次いで(d)成分と(e)成分を加え、均一に混合せしめ、最後に(c)成分と(f)成分を添加し、均一に混合して組成物を調製した。   To a planetary mixer (trade name: TK Hibismix manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.) with an internal volume of 700 ml, (a) component, (b) component, and optionally (g) component and (h) The ingredients were charged and mixed for 60 minutes. Next, the components (d) and (e) were added and mixed uniformly. Finally, the components (c) and (f) were added and mixed uniformly to prepare a composition.

<目開き45μmの篩上画分の粒子の目視観察>
組成物50gをトルエン100gと共に200mlのプラスチック瓶に入れ、栓をして組成物が十分に分散するまで振とうした。分散した後、目開き45μmの篩(標準篩:JIS Z 8801)にその分散液を流し込み、洗浄用トルエンなどでよく洗い流し、乾燥機にその篩ごと入れて乾燥させた。乾燥後、薬包紙に試験用篩上の粗粒を移して目視観察し、下記判定基準により評価した。評価結果を表1および表2に示す。
<Visual observation of particles on the sieve with an opening of 45 μm>
50 g of the composition was placed in a 200 ml plastic bottle with 100 g of toluene, stoppered and shaken until the composition was well dispersed. After the dispersion, the dispersion was poured into a sieve (standard sieve: JIS Z 8801) having an opening of 45 μm, thoroughly washed with toluene for washing, and the sieve was put in a dryer and dried. After drying, the coarse particles on the test sieve were transferred to the medicine wrapping paper, visually observed, and evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

・・判定基準:
○:目開き45μmの篩上画分の粗粒が目視にて認められない。
..Criteria:
○: Coarse particles of the sieved portion having an opening of 45 μm are not visually recognized.

×:目開き45μmの篩上画分の粗粒が目視にて一粒でも認められた。     X: At least one coarse particle of the fraction on the sieve having an opening of 45 μm was visually observed.

<目開き32μmの篩上画分の粒子の目視観察>
目開き45μmの篩上画分の粒子の目視観察で、粗粒が認められなかった組成物50gを、トルエン100gと共に200mlのプラスチック瓶に入れ、栓をして組成物が十分に分散するまで振とうした。分散した後、目開き32μmの試験用篩(標準篩:JIS Z 8801)にその分散液を流し込み、洗浄用トルエンなどでよく洗い流し、乾燥機にその篩ごと入れて乾燥させた。乾燥後、薬包紙に試験用篩上の粗粒を移してその質量を計り、組成物に対して何ppmかを計算した。評価結果を表1および表2に示す。
<Visual observation of particles on the sieve having an opening of 32 μm>
50 g of the composition in which coarse particles were not observed by visual observation of the particles on the sieve having a mesh opening of 45 μm was placed in a 200 ml plastic bottle together with 100 g of toluene, and the stopper was shaken until the composition was sufficiently dispersed. That ’s it. After the dispersion, the dispersion was poured into a test sieve (standard sieve: JIS Z 8801) having a mesh size of 32 μm, washed thoroughly with toluene for washing, and the sieve was put in a dryer and dried. After drying, the coarse particles on the test sieve were transferred to a medicine wrapping paper, and the mass was measured to calculate how many ppm with respect to the composition. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

<熱伝導性硬化物の成形>
組成物を均一に混合した後、表1および表2に記載の条件にて基材に塗布し、硬化させて薄膜状熱伝導性成形体を得た。
<Molding of heat conductive cured product>
After the composition was uniformly mixed, it was applied to a substrate under the conditions described in Tables 1 and 2 and cured to obtain a thin-film thermally conductive molded body.

得られた熱伝導性成形体について、ブリード性、基材からの剥離性、剥離後の取り扱い性、熱抵抗について、下記の方法で評価した。結果を表1および表2に示す。   About the obtained heat conductive molded object, the following method evaluated the bleeding property, the peelability from a base material, the handleability after peeling, and thermal resistance. The results are shown in Tables 1 and 2.

・剥離性:
硬化後の熱伝導性成形体を基材フィルムから手によって剥がす際の重さにより評価した(感触による評価)。剥離の感触が軽く、成形体に全く変形が起らない場合に「良好」と評価し、剥離の感触が重く、または成形体に変形が起こった場合に「不良」と評価した。
・ Peelability:
It evaluated by the weight at the time of peeling the heat conductive molded object after hardening from a base film by hand (evaluation by a touch). When the feeling of peeling was light and the molded body did not deform at all, it was evaluated as “good”, and when the feeling of peeling was heavy or when the molded body was deformed, it was evaluated as “bad”.

・剥離後の取り扱い性:
剥がした後の熱伝導性硬化物の手による取り扱い性を本体形状に着目して評価した。基材フィルムより剥がした熱伝導性硬化物を、アルミ板に接着する際、困難無く接着が可能な場合、「良好」と評価した。熱伝導性硬化物が割れたり、手に強固に張り付き変形し、元の形状を取り戻すことができなかったりした場合、「不良」と判断した。
・ Handability after peeling:
The handleability of the thermally conductive cured product after peeling was evaluated by paying attention to the shape of the main body. When the thermally conductive cured product peeled off from the base film was adhered to an aluminum plate, it was evaluated as “good” when it could be adhered without difficulty. When the thermally conductive cured product was cracked or firmly adhered to the hand and deformed, and the original shape could not be recovered, it was judged as “bad”.

・ブリード性:
0.1mm厚のサンプルを基材ごと20mm角にカットし、上質紙の上に樹脂層を向けて載せ、その上に100gの分銅を載せて密着させ、1日後の上質紙へのオイル移行具合を目視で確認して評価した。
・ Bleedability:
Cut a 0.1mm thick sample into a 20mm square together with the base material, place the resin layer on the fine paper and place it on top with a 100g weight, and let it adhere to the fine paper one day later. Was visually confirmed and evaluated.

・熱抵抗:
上記で得られた熱伝導性成形体を、標準アルミニウムからなる円板状プレート(純度:99.9%、直径:約12.7mm、厚み:約1.0mm)の全面に設置し、その上に他の標準アルミニウムプレートを重ね、得られる構造体をクリップで挟むことにより約175.5kPa(1.80kgf/cm2)の圧力をかけて薄膜状成形体を得た。
·Thermal resistance:
The thermally conductive molded body obtained above was placed on the entire surface of a disk-shaped plate (purity: 99.9%, diameter: about 12.7 mm, thickness: about 1.0 mm) made of standard aluminum, Another standard aluminum plate was stacked on top of each other, and the resulting structure was sandwiched between clips to apply a pressure of about 175.5 kPa (1.80 kgf / cm 2 ) to obtain a thin-film shaped body.

得られた試験片の厚さを測定し、標準アルミニウムのプレートの既知の厚さを差し引くことによって、熱伝導性成形体の厚さを算出した。なお、試験片の厚さの測定には、マイクロメーター(株式会社ミツトヨ製、型式:M820−25VA)を用いた。得られた結果を表1および表2に示す。上記試験片を用いて、熱伝導性成形体の熱抵抗(cm2・K/W)を熱抵抗測定器(ネッチ社製、キセノンフラッシュアナライザー;LFA447 NanoFlash)により測定した。得られた熱抵抗を表1および表2に示す。 The thickness of the obtained test piece was measured, and the thickness of the thermally conductive molded body was calculated by subtracting the known thickness of the standard aluminum plate. A micrometer (manufactured by Mitutoyo Corporation, model: M820-25VA) was used to measure the thickness of the test piece. The obtained results are shown in Tables 1 and 2. Using the test piece, the thermal resistance (cm 2 · K / W) of the thermally conductive molded body was measured with a thermal resistance measuring instrument (manufactured by Netch Co., Ltd., xenon flash analyzer; LFA447 NanoFlash). The obtained thermal resistance is shown in Table 1 and Table 2.

・発熱・放熱装置への適用:
図1は発熱・放熱装置の構造を示す概略的断面図である。図1に即して説明する。上記実施例1〜3で得られた熱伝導性成形体1を2cm×2cmの擬似CPU2の表面上に設置した。擬似CPU2はプリント配線基板3の上に装着されている。成形体1に放熱部材4を重ね、クランプ5で放熱部材4とプリント配線基板3とをクランプ留めすることにより圧接した。こうして、熱伝導性成形体1を介して擬似CPU2と放熱部材4が接合されている発熱・放熱装置6を得た。
・ Application to heat generation and heat dissipation devices:
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a heat generation / heat dissipation device. This will be described with reference to FIG. The thermally conductive molded body 1 obtained in the above Examples 1 to 3 was placed on the surface of the 2 cm × 2 cm pseudo CPU 2. The pseudo CPU 2 is mounted on the printed wiring board 3. The heat radiating member 4 was stacked on the molded body 1, and the heat radiating member 4 and the printed wiring board 3 were clamped by the clamp 5 to be pressed. In this way, a heat generating / heat radiating device 6 in which the pseudo CPU 2 and the heat radiating member 4 were joined via the heat conductive molded body 1 was obtained.

擬似CPU2に電力を供給したところ、擬似CPU2は発熱し温度が上昇したが約100℃で安定した。1,000時間という長時間にわたって安定した熱伝導および放熱が可能であり、過熱蓄積による擬似CPUの故障は発生しなかった。また、放熱部材4を取り外す際に擬似CPU2の損傷も防止できた。よって、本発明の熱伝導性成形体の採用により、半導体装置などの発熱・放熱装置の信頼性が向上することが確認できた。   When power was supplied to the pseudo CPU 2, the pseudo CPU 2 generated heat and the temperature rose, but stabilized at about 100 ° C. Stable heat conduction and heat dissipation were possible for a long time of 1,000 hours, and no failure of the pseudo CPU due to overheat accumulation occurred. Moreover, when removing the heat radiating member 4, damage to the pseudo CPU 2 could be prevented. Therefore, it was confirmed that the reliability of the heat generating and heat radiating device such as a semiconductor device was improved by employing the heat conductive molded body of the present invention.

Figure 2009235279
Figure 2009235279

Figure 2009235279
Figure 2009235279

・表1および表2の注:
≪注1≫:表中の括弧内の数値は、(a)成分の容量に対する(f)成分のレジン分の容量部である
≪注2≫:表中の(d)成分および(e)成分の行において、数値は(a)成分100質量部に対する(D-1)成分および(E-1)成分の量を質量部で示したものである。括弧内の数値は、(a)成分の質量に対する(D-1)成分中の白金原子の正味の濃度(ppm)および(a)成分の質量に対する(E-1)成分に含まれる1−エチニル−1−シクロヘキサノールの正味の濃度(ppm)である。
≪注3≫:「SiH/Vi」とは、(A)成分中のビニル基1個に対する(B)成分中のSiH基(ケイ素原子に結合した水素原子)の個数を意味する。
・ Notes on Table 1 and Table 2:
<< Note 1 >>: The numerical value in parentheses in the table is the volume part of resin of (f) component relative to the capacity of component (a) << Note 2 >>: Component (d) and (e) in the table In this row, the numerical value indicates the amount of the component (D-1) and the component (E-1) in parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (a). The numerical values in parentheses are the net concentration (ppm) of platinum atoms in component (D-1) relative to the mass of component (a) and 1-ethynyl contained in component (E-1) relative to the mass of component (a) It is the net concentration (ppm) of -1-cyclohexanol.
<< Note 3 >>: “SiH / Vi” means the number of SiH groups (hydrogen atoms bonded to silicon atoms) in the component (B) with respect to one vinyl group in the component (A).

実施例において本発明の熱伝導性成形体を適用した発熱・放熱装置の縦断面を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the longitudinal cross-section of the heat_generation | fever and the thermal radiation apparatus to which the heat conductive molded object of this invention is applied in an Example.

符号の説明Explanation of symbols

1.熱伝導性成形体
2.擬似CPU
3.プリント配線基板
4.放熱部材
5.クランプ
1. 1. Thermally conductive molded body Pseudo CPU
3. 3. Printed wiring board 4. Heat dissipation member Clamp

Claims (8)

(a)ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に2個以上有するオルガノポリシロキサン:100容量部、
(b)熱伝導性充填材:50〜1,000容量部、
(c)ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:本成分のケイ素原子に結合した水素原子/(a)成分中のアルケニル基のモル比が0.5〜5.0となる量、
(d)白金族金属系触媒:有効量、
(e)反応制御剤:有効量、および
(f)シリコーン樹脂:50〜500容量部
を含む硬化性シリコーン組成物にして、前記(b)成分の熱伝導性充填剤は、平均粒径が0.1〜30μmであり、JIS Z 8801-1に規定の目開き32μmの篩上分率が質量基準で100ppm以下であり、かつ同規格に規定の目開き45μmの篩上画分を実質的に含まないシリコーン組成物の薄膜状硬化物からなる熱伝導性成形体。
(A) Organopolysiloxane having two or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule: 100 parts by volume
(B) Thermally conductive filler: 50 to 1,000 parts by volume,
(C) Organohydrogenpolysiloxane having two or more hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule: The molar ratio of hydrogen atoms bonded to silicon atoms in this component / alkenyl groups in component (a) is 0.00. An amount of 5 to 5.0,
(D) platinum group metal catalyst: effective amount,
(E) Reaction control agent: Effective amount, and (f) Silicone resin: A curable silicone composition containing 50 to 500 parts by volume. The thermal conductive filler of the component (b) has an average particle size of 0. .1 to 30 μm, the fraction on the sieve having an opening of 32 μm as defined in JIS Z 8801-1 is 100 ppm or less on a mass basis, and the fraction on the sieve having an opening of 45 μm as defined in the same standard is substantially A thermally conductive molded article comprising a thin film-like cured product of a silicone composition which does not contain.
(f)成分のシリコーン樹脂が、R 3SiO1/2単位(R1は脂肪族不飽和結合を含有しない非置換または置換の1価炭化水素基を示す)とSiO4/2単位とを含み、R 3SiO1/2単位/SiO4/2単位のモル比が0.5〜1.5である請求項1に係る熱伝導性成形体。 The silicone resin as component (f) contains R 1 3 SiO 1/2 units (R 1 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond) and SiO 4/2 units. The thermally conductive molded article according to claim 1, wherein the molar ratio of R 1 3 SiO 1/2 units / SiO 4/2 units is 0.5 to 1.5. さらに、(g)成分として、
(g−1)下記一般式(1):
Si(OR)4-a-b (1)
(式中、Rは独立に炭素原子数6〜15のアルキル基であり、Rは独立に非置換または置換の炭素原子数1〜8の1価炭化水素基であり、Rは独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、aは1〜3の整数、bは0〜2の整数であり、但しa+bは1〜3の整数である。)
で表されるアルコキシシラン化合物、および
(g−2)下記一般式(2):
Figure 2009235279
(式中、Rは独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、cは5〜100の整数である。)
で表される分子鎖片末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサンからなる群から選ばれる少なくとも1種: 0.01〜50容量部
を含有する請求項1乃至2のいずれか1項に係る熱伝導性成形体。
Furthermore, as component (g),
(G-1) The following general formula (1):
R 2 a R 3 b Si (OR 4 ) 4-ab (1)
Wherein R 2 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and R 4 is independently And an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 to 2, provided that a + b is an integer of 1 to 3.)
And (g-2) the following general formula (2):
Figure 2009235279
(In the formula, R 5 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and c is an integer of 5 to 100.)
The at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of the dimethylpolysiloxane by which the molecular chain piece terminal represented by this was blocked with the trialkoxy silyl group: 0.01-50 volume parts is contained. The heat conductive molded object which concerns on.
更に(h)成分として、下記平均組成式(3):
-(SiR O)SiR -R ・・・(3)
(Rは独立に炭素原子数1〜18の脂肪族不飽和結合を含まない一価炭化水素基、dは5〜2,000の整数である。)
で表される23℃における動粘度が10〜100,000mm2/sのオルガノポリシロキサンを含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の熱伝導性成形体。
Further, as the component (h), the following average composition formula (3):
R 6- (SiR 6 2 O) d SiR 6 2 -R 6 (3)
(R 6 is a monovalent hydrocarbon group that does not contain an aliphatic unsaturated bond having 1 to 18 carbon atoms, and d is an integer of 5 to 2,000.)
The heat conductive molded object according to any one of claims 1 to 3, comprising an organopolysiloxane having a kinematic viscosity at 23 ° C represented by 10 to 100,000 mm 2 / s.
厚みが100μm以下である請求項1乃至4のいずれか1項に係る熱伝導性成形体。   The thermally conductive molded article according to any one of claims 1 to 4, having a thickness of 100 µm or less. レーザーフラッシュ法で測定した25℃における熱抵抗が1.5cm2・K/W以下である請求項1乃至5のいずれか1項に係る熱伝導性成形体。 The heat conductive molded body according to any one of claims 1 to 5, wherein a thermal resistance at 25 ° C measured by a laser flash method is 1.5 cm 2 · K / W or less. (a)アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン:100容量部、
(b)熱伝導性充填材:50〜1,000容量部、
(c)オルガノハイドロジェンポリシロキサン:(c)成分のケイ素原子に直接結合した水素原子と(a)成分のアルケニル基とのモル比で0.5〜5.0となる量、
(d)白金族金属系触媒:有効量、
(e)反応制御剤:有効量、並びに
(f)シリコーン樹脂:50〜500容量部
を含む硬化性シリコーン組成物にして、前記(b)成分の熱伝導性充填剤は、平均粒径が0.1〜30μmであり、JIS Z 8801-1に規定の目開き32μmの篩上分率が質量基準で100ppm以下であり、かつ同規格に規定の目開き45μmの篩上画分を実質的に含まないシリコーン組成物を、シリコーン粘着剤用の表面離型処理を施した基材の表面に薄膜状に塗布し硬化させて薄膜状硬化物を得ることを特徴とする熱伝導性成形体の製造方法。
(A) Organopolysiloxane having an alkenyl group: 100 parts by volume,
(B) Thermally conductive filler: 50 to 1,000 parts by volume,
(C) Organohydrogenpolysiloxane: an amount of 0.5 to 5.0 in terms of a molar ratio of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms in component (c) and alkenyl groups in component (a),
(D) platinum group metal catalyst: effective amount,
(E) Reaction control agent: Effective amount, and (f) Silicone resin: A curable silicone composition containing 50 to 500 parts by volume, and the heat conductive filler of component (b) has an average particle size of 0. .1 to 30 μm, the fraction on the sieve having an opening of 32 μm as defined in JIS Z 8801-1 is 100 ppm or less on a mass basis, and the fraction on the sieve having an opening of 45 μm as defined in the same standard is substantially Production of a thermally conductive molded article characterized in that a silicone composition not containing a silicone composition is applied to the surface of a substrate subjected to surface release treatment for a silicone adhesive and cured to obtain a thin film cured product Method.
基材に施しているシリコーン粘着剤用の離型処理が、フッ素置換基を主鎖に含む変性シリコーンによる処理である請求項7に係る製造方法。   The production method according to claim 7, wherein the release treatment for the silicone pressure-sensitive adhesive applied to the substrate is a treatment with a modified silicone containing a fluorine substituent in the main chain.
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