KR20090100371A - 습식 판형상 물체 처리 장치 및 방법 - Google Patents

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램 리서치 아게
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Abstract

판형상 물체가 액체로 처리될 때, 판형상 물체에서 흘러나오는 액체를 수용하기 위하여 위로 향한 표면을 가진 단일 판형상 물체를 지지하기 위한 척과; 상기 척은 환형의 외주 립에 의해 외측으로 경계지워지고, 상기 척은 처리될 판형상 물체의 가장 큰 직경보다 더 큰 직경을 가지고, 척의 외주 립에서 흘러 나오는 액체를 수용하기 위한 위로 향한 링형상 표면을 가진 회전부를 구비하고; 상기 회전부는 척에 대하여 회전가능하고, 링형상 표면은 환형의 외주 립에 대하여 동축으로 배열되고, 상기 링형상 표면의 내경은 상기 척의 외경보다 작으며, 상기 립과 위로 향한 링형상 표면 사이의 거리는 0.1 내지 5mm인 습식 판형상 처리 장치가 개시된다. 또한, 관련된 방법이 개시된다.

Description

습식 판형상 물체 처리 장치 및 방법{DEVICE AND METHOD FOR WET TREATING PLATE-LIKE-ARTICLES}
본 발명은 판형상 물체가 액체로 처리될 때, 판형상 물체에서 흘러나오는 액체를 수용하기 위하여 위로 향한 표면을 구비한 단일의 판형상 물체를 파지하기 위한 척을 구비한 습식 판형상 물체 처리 장치에 관한 것이다.
이러한 습식 판형상 물체 처리 장치는 통상적으로 복수의 판형상 물체를 동시에 처리하는 이른바 습식 벤치로 대체된다.
이러한 판형상 물체는 반도체 웨이퍼, 또는 평판 디스플레이와 같은 다각형 물체와 함께 컴팩트 디스크와 같은 디스크형 물체일 수 있다.
습식 단일의 판형상 물체 처리 장치는 판형상 물체 상에 분배되는 액체가 흘러나오도록 스피닝시켜 효과적으로 제거하도록 판형상 물체를 회전시키는데 사용되고, 상기 액체는 외주 액체 수집 용기에 의해 수집된다. 따라서, 처리 액체는 최소의 속도로 판형상 물체 위를 흘러내린다. 그러나, 습식 벤치가 사용되는 몇몇 공정에서, 종종 판형상 물체 상에 액체가 남아 있거나 판형상 물체 표면을 가로질 러 서서히 흐르게 된다. 이러한 공정에 대하여, 외주 액체 수집 용기 내로 액체가 흘러내리게 하는 경우에 단일 프로세서를 사용하는 것은 불가능해 보인다.
상기한 습식 단일 판형상 물체 처리 장치에서 발생하는 다른 문제점은 공정 중에 판형상 물체가 완전히 젖은 상태를 유지하기 위하여 판형상 물체에 분배될 액체의 유동량이 크다는 것이다. 상기와 같은 필요성은, 서로 모순이 되어 보이지만, 판형상 물체가 젖은 상태를 유지하는 한편에 액체를 스핀시켜 제거하여야 한다.
그러므로, 본 발명의 목적은 단일 판형상 물체 처리 습식 공정에서 적은 양의 액체를 사용할 수 있는 장치와 공정 기술을 제공하는 데 있다.
본 발명의 상기 목적은:
- 판형상 물체가 액체로 처리될 때, 판형상 물체에서 흘러나오는 액체를 수용하기 위한 위로 향한 표면을 가진 단일 판형상 물체를 지지하고, 한형 외주 립에 의해 외측으로 경계지워지고, 처리될 판형상 물체의 가장 큰 직경보다 더 큰 직경을 가진 척과;
- 척에 대하여 회전가능하고, 링형상 표면은 환형의 외주 립에 대하여 동축으로 배열되고, 상기 링형상 표면의 내경은 상기 척의 외경보다 작으며, 상기 립과 위로 향한 링형상 표면 사이의 거리는 0.1 내지 5mm이며, 척의 외주 립에서 흘러 나오는 액체를 수용하기 위한 위로 향한 링형상 표면을 가진 회전부를 구비한 습식 단일 판형상 처리 장치에 의하여 달성된다.
판형상 물체를 지지하기 위한 척과 둘러싸고 있는 회전가능한 링형상 표면의 구성은 척이 회전하든지 회전하지 안든 간에 또는 척이 얼마나 빨리 회전하든지 간에 액체가 회전 링표면상에서 유동하고 방사 방향으로 흘러나가는 잇점을 가진다. 어떤 스핀 속도 이상에서 액체는 회전링과 접촉하지 않는다. 그러므로, 액체는 외주에 배열된 액체 수집 용기에 수집된다. 각각 아래로부터 2단 이상의 단을 가진 다단 액체 수집장치가 사용된다면, 동일 수집장치(양립 가능성의 이유 또는 액체별로 별도로 재사용하기 위하여) 내에서 수집할 수 없는 액체는 회전부의 링형상 회전 표면에서 방사 방향으로 흘러나올 때, 별도로 수집된다. 하나의 수집 레벨로부터 다른 수집 레벨로 변경하기 위하여, 링형상 표면은 서로에 대하여 수직으로 이동된다.
척이 회전가능한 바람직한 실시예에서, 판형상 물체가 회전되거나 정지되어 있는 동안에 선택적으로 처리되고, 판형상 물체는 0 rpm으로 포토레지스트 스트리핑액(즉, 유기 솔벤트 혼합물)으로 처리되고, 그 후, 10 내지 200 rpm으로 헹구어 그 다음에 3000 rpm으로 스핀 건조된다. 다른 스핀 속도로 이들 모든 처리를 하는 동안에, 회전가능한 링표면은 동일 스핀 속도, 즉 200 rpm으로 스핀할 수도 있다. 100 rpm 이하에서, 액체는 환형의 외주립으로부터 회전 링표면으로 유동되는 것이 기대되나, 스핀 속도에 의존하지 않을 뿐만아니라 액체의 표면 장력, 점도 및 액체의 유동량과 같은 다른 변수에도 의존되지 않는다.
장치가 척을 향하지 않는 표면(판형상 물체의 위로 향한 표면에)에 액체를 분배하기 위한 액체 분배 수단을 더 구비한다면, 액체는 판형상 물체의 위로 향한 표면 상에 남게 되고, 판형상 물체 표면 상에 액체의 부착을 지원하지 않으면서 중력에 의해서만 지지된 표면을 가로질러 자유롭게 유동한다.
거리(d)가 0.1 내지 2mm 범위일 때, 갭은 액체가 갭 내로 유동하기에 충분히 작다. 상기 거리(d)는 0.5mm 이하가 바람직하다.
환형의 외주 립이 형성되고, 이에 의해 립의 외측 에지는 하방으로 향하며, 액체는 중력에 의해 단독으로 구동되는 척의 에지를 향하여 유동한다. 이는 0rpm의 척의 속도로 공정이 진행되고 동시에 척으로부터 액체 수집 장치 내로 액체를 가속하게 한다. 바람직하게는, 척의 위로 향한 표면은 베벨 형상 에지 영역을 가지며, 베벨 형상 에지 영역은 에지로부터 0.5 내지 10 mm의 치수를 가진다.
다른 실시예에 있어서, 회전부는 용기 내에 배열된 척과 함께 회전 용기에 장착되거나 그 일부이며, 이에 의해 척과 용기 사이에 갭이 형성되며, 상기 갭은 0.05 내지 20mm 사이 범위의 거리를 가진다. 본 실시예는 척이 회전하지 않을지라도 원심력에 의해 액체가 구동되도록 상기 회전부와 상기 척 사이의 갭 내로 흐르기 때문에 바람직하다. 이러한 효과는 용기가 척의 아래에 위치될 때, 더욱 지지되며, 상기 구멍은 상기 용기와 상기 척 사이의 갭 내로 가스를 전송하기 위한 가스원과 연통한다. 상기 가스원은 외기이다.
회전부의 용기의 대안으로써 척 내에 장착된 모터에 의해 구동되고 척에 직접적으로 회전가능하게 장착된 링일 수 있다. 이러한 회전가능한 링은 또한 압축 가스에 의해 공압 구동될 수도 있다.
다른 실시예에 있어서, 척은 상기 척에 대면하는 판형상 물체의 표면에 적어도 부분적으로 가스를 퍼징을 하기 위한 가스 공급 수단을 더 구비하고, 척의 외주측은 판형상 물체의 에지 영역으로부터 멀리까지 대부분의 퍼징 가스가 일주하는 제 1 가스 안내 장치를 포함한다. 이러한 제 1 가스 안내 장치는 판형상 물체와 척 사이의 갭 내로 도입되는 가스가 액체를 수용하기 위한 위로 향한 척 표면상에서 판형상 물체의 에지 위로 액체가 유동하여 충돌하는 것을 회피한다. 이는 판형상 물체의 에지와 위로 향한 척 표면 사이의 갭 밖으로 가스가 흘러나와서 형성되는 거품이나 스플래시를 없애준다.
제 1 가스 안내 장치는 처리될 판형상 물체보다 작은 직경을 가지는 내측으로 향한 환형 에지에 의해 바깥쪽으로 경계 지워지는 환형 노즐 형상을 가지는 것이 바람직하다. 환형 에지의 직경은 판형상 물체의 직경보다 적어도 0.5mm 작은 것이 바람직하다.
본 장치는 상기 제 1 가스 안내 장치에서 나오는 가스를 방사방향 외측으로 더욱 안내하기 위한 회전가능한 링형상 표면 아래에 제 2 가스 안내 장치가 장착되는 것이 바람직하다. 이러한 제 2 가스 안내 장치는 제 1 가스 안내 장치로부터 나오는 가스 및/또는 척과 회전부 사이의 갭으로부터 나오는 가스 회전부의 링형상 표면상에서 척의 환형 외주 립위에서 유동하는 액체와 충돌을 회피하게 한다. 이는 환형 외주 립과 링형상 표면 사이의 갭으로부터 나오는 가스에 의해 발생하는 거품이나 스플래시를 없애준다.
본 발명의 다른 양태는:
- 판형상 물체를 수평으로 지지하기 위하여 척 상에 판형상 물체를 위치시키는 단계와; 상기 척은 판형상 물체의 에지의 적어도 아래에 위로 향한 표면을 가지고,
- 판형상 물체의 위로 향한 표면 상에 액체를 분배하는 단계와;
- 판형상 물체의 에지를 향하여 액체가 유동하게 하는 단계와;
- 외주 립에 의해 외측으로 경계지워진 척의 위로 향한 표면 상에서 판형상 물체에서 액체가 흘러나오게 하는 단계와; 상기 척은 처리될 판형상 물체의 가장 큰 직경보다 더 큰 직경을 가지고,
- 액체가 회전 링표면에서 가속되어 스피닝되도록 위로 향한 회전 링 표면 상에 척의 외주 립위의 위로 향한 표면에서 액체가 흘러나오게 하는 단계를 구비하고,
상기 회전 표면은 판형상 물체보다 더 빨리 회전하고, 회전 링의 내경은 상기 척의 외경보다 작고, 상기 립과 위로 향한 링표면 사이의 거리는 0.1 내지 5mm 범위인 판형상 물체의 습식 처리 방법이다.
본 방법의 실시예에서, 척은 0 내지 100rpm(바람직하게는 0 내지 50 rpm)의 스핀 속도로 회전한다.
회전 링표면은 50rpm 이상의 스핀 속도로 회전하는 것이 바람직하다.
퍼징 가스는 판형상 물체와 척 사이의 갭 안으로 도입되고 가스는 판형상 물체의 에지쪽으로 유동하는 것이 바람직하다.
80 vol.-%의 퍼징 가스가 판형상 물체의 에지 영역으로부터 멀리 일주하면 더 좋은 결과가 될 수 있다. 판형상 물체의 에지 영역으로부터 멀리 떨어져 일주하는 퍼징 가스가 80 vol.-%이상이라면, 회전 링 표면 아래의 외측으로 안내되어 더 개선될 수 있는 결과가 된다.
본 발명의 상세 및 잇점은 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예를 읽으면 명백해질 것이다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예의 개략적인 단면도이다.
도 2는 도 1의 F 부분의 개략적인 단면도이다.
도 3은 가스 안내링(즉, 모세관링)의 실시예를 도시한 도 2의 상세를 도시한 도면이다.
도 4는 다단 수집 장치를 가진 본 발명의 바람직한 실시예의 개략적인 단면도이다.
도 1, 도 2 및 도 4는 본 발명의 장치(1)의 바람직한 실시예의 개략적인 단면도를 도시한다. 장치(1)는 작은 개구가 아래를 향해 있고 큰 개구가 위를 향해 있는 컵형상의 회전부(20)(회전 용기(20))와, 동축으로 배열되어 있는 척(11)을 구비한다. 회전가능한 용기(20)와 회전가능한 척(11)은 다른 모터(30, 33)에 의해 별개로 구동될 수 있다.
장치(1)는 도 4에 개략적으로 도시된바와 같이, 다단 액체 수집 용기(2) 내에 배열된다. 가능한 액체 수집 용기의 예로서는 미국특허출원 US 2003/0056898 A1에 개시되어 있다. 회전가능한 용기와 액체 수집 용기(2)와 함께 척(11)은 서로에 대하여 수직으로 이동할 수 있고---환언하면 회전 가능한 용기와 척 사이의 거리는 변하지 않는다.
액체 분배 노즐(3)은 웨이퍼(W)(판형상 물체)가 척(11) 위에 놓여질 때, 위로 향한 표면에 액체를 분배하기 위하여 척(11)의 상부 표면을 향하여 대향된다.
척(11)은 척의 기초부 몸체(12)의 상부에 고정된 커버(13)를 구비한다. 기초부 몸체(1)와 커버(13) 사이에는, 도관(49)을 통하여 가스를 공급하는 가스 분배 챔버(48)가 배열된다. 가스는 척(11)과 웨이퍼(W) 사이에, 웨이퍼가 부유하게 하는 가스 쿠션을 제공하도록 도관(49)을 통하여 도입된다. 가스 분배 챔버(48)는 중공축(42)으로부터 상기 중공축(42)의 상부 단부 상의 도관(47)을 통하여 가스가 공급된다. 복수의, 즉 24개의 위로 향한 가스 도관(49)은 두 개의 동심원으로 배열된다. 웨이퍼와 척 사이로 도입된 가스는 가스 유동(G1)(도 2에서 점선 화살표)으로서 갭을 지나간다.
위로 돌출된 6개의 파지핀(16)은 척과 같은 스핀 속도로 회전되도록하기 위하여 웨이퍼(W)를 단단하게 파지한다. 파지핀(16)은 기구의 도시는 생략되었지만 편심되게 이동가능하다. 이러한 기구의 상세는 미국특허 제5,513,668호에 개시되어 있다.
제 2 중공축(44)은 제 1 중공축(42)과 동축으로 배열되어 있다. 이들 축은 함께 척을 구동하기 위하여 척(11)에 동축으로 고정되어 있다. 축은 제 1 중공축 모터(30)에 의해 구동된다. 모터의 내측 회전자(30r)는 제 2 중공축(44)에 고정되어 있고 외측 고정자(30s)는 승강가능한 장착판(7)에 고정되어 있다.
회전 가능한 용기(20)는 척(11)과 회전 가능한 용기(20) 사이의 갭(24)을 지나 척(11)에 동축으로 배열되어 있다. 회전가능한 용기는 제 2 중공축 모터(33)에 의해 구동된다.
제 2 모터(30)의 고정자(33s)는 회전가능한 척(11)과 회전가능한 용기(20) 사이의 갭(24)은 척이 상승될 때, 일정하게 유지되도록 승강가능한 장착판(7)에 고정되어 있다. 회전가능한 용기(20)는 볼베어링(36, 35)에 의해 중공축(44)에 연결되어 있다. 중공축(44)은 볼베어링(38)에 의해 장착판(7)에 회전가능하게 연결되어 있다.
척(11)의 위로 향한 표면(15)은 하방으로 굽은 립(14)이 형성되도록 외측 외주에서 하방으로 경사져 있다. 베벨형상의 에지 영역은 에지로부터 2mm 의 연장부를 가진다. 립(14)은 회전가능한 용기(20)의 위로 향한 링표면(21)과 중첩된다.
기본적으로, 회전가능한 용기(20)의 위로 향한 링 표면(21)은 편평하다. 그러나, 립(14)과 링 표면(21) 사이의 갭을 밀폐하기 위하여, 평면 링 표면(21)은 그 내경부에 외주 버르(25, Burr)를 가진다. 링 표면(21)과 립(14) 사이의 거리는 0.5mm이다.
내측 중공축(42)과 외측 중공축(44) 사이에서, 제 2 가스 채널이 회전가능한 용기(20)와 척(11)사이의 갭(24)에 도관(46)을 통하여 가스가 공급되도록 형성되어 있다. 그러므로, 볼베어링(6)에 의해 발생될 수도 있는 입자들이 하방으로 이동되고 척(11)과 용기(20) 사이의 미로 밀폐부(23)는 청정 가스로 퍼징된다.
복수의 공기 도관(27)은 용기(20) 내에 형성되고, 도관(27)은 미로 밀폐부(23)보다 더 먼거리에 있는 회전축을 가진다. 공기 도관(27)은 갭(24)을 통하여 립(14)과 링 표면(21) 사이의 갭을 향하여 대기가 공급된다. 갭(24) 내에서 외측을 향한 공기 유동(A1)(점선)은 척(11) 및/또는 용기(20)가 회전될 때, 발생된다. 이러한 외측으로 향한 공기 유동(A1)은 원심 펌프 효과에 의해 발생된다. 공기 유동(A1)은 척(11)과 회전가능한 용기(20) 사이의 갭(24) 내로 모든 액체의 유동이 회피된다.
다음에, 제 1 실시예(도 1, 도 2 및 도 4에 상세히 도시)에 따른 장치로 웨이퍼 처리를 설명한다.
액체는 액체 분배기(3)를 통하여 위로 향한 웨이퍼 표면으로 분배된다. 액체는 웨이퍼 에지를 향하여 유동하고 부분적으로 웨이퍼 둘레를 둘러싸나 웨이퍼(W)와 표면(15) 사이의 갭에는, 가스(G1)가 갭 밖으로 유동(G1)하기 때문에 유동하지 않는다. 잉여 액체는 링 표면(21)에 대하여 립(14)을 향하여 표면(15) 위로 유동한다. 척(11)이 회전하거나 회전하지 않거나 액체는 링 표면(21) 상에서 유동하고, 회전하는 링 표면(21)에 의해 가속이 되고, 액체는 회전하는 링 표면(21)을 흘러 선택된 액체 수집 용기 내로 흘러 들어간다.
도 3은 도 2의 상세도에 기초한 본 발명의 제 2 실시예를 도시한다. 본 실시예는 제 1 실시예와 다른데, 이는 가스를 위한 부가적인 가스 진로(G2)를 구비하 기 때문이며, 상기 가스는 도관(49)(도 1에 도시된 바와 같이)에 의해 도입된다. 웨이퍼를 부유시키는 가스 쿠션을 위하여 사용된 가스는 웨이퍼의 외주 영역으로부터 멀리 일주한다. 가스가 웨이퍼로부터 멀리 일주하도록 하기 위한 가스 안내 장치(19)는 스페이서(18)에 의해 척(11)에 장착되는 링형태를 가진다. 다르게는, 가스 안내 장치는 척 기초부 몸체와 같이 직접 형성될 수도 있다. 가스 안내 장치의 위로 향한 표면(5)은 웨이퍼와 평행한 평면이다.
링 형태를 가지고 있는 제 2 가스 안내 장치(22)는 스페이서(26)에 의해 회전가능한 용기(20)에 장착된다. 제 1 가스 안내 장치(19)와 척 기초부 몸체(12) 사이의 갭으로부터 나오는 가스(G2)는 제 2 가스 안내 장치(22)와 회전가능한 용기(20) 사이의 갭 내로 안내된다. 위로 향한 표면(15, 21)은 도 2에 도시된 실시예와 같이 동일한 기능을 가진다.
립(14)이 링 표면(21)에 중첩된 것과 같이, 립(14) 아래에 있는 제 2 립(17)은 위로 향한 제 2 하부 링 표면(28)과 중첩된다.
다음에, 제 2 실시예(도 3에 상세히 도시)에 따른 장치로 웨이퍼의 처리에 대하여 설명한다.
웨이퍼가 액체로 처리될 때, 상기 액체는 웨이퍼 에지를 향하여 유동하고, 웨이퍼(W)와 표면(15) 사이의 갭 내로 부분적으로 웨이퍼 둘레를 둘러싸고, 이는 공정 중에 남아있거나 링(19) 아래에서 외측으로 유동하여 가스 유동(G2)에 의해 지지된다. 잉여 액체(웨이퍼(W)와 표면(15) 사이의 갭 내로 유동하지 않는 액체)는립(14)을 향하여 표면(15) 위로 링 표면(21)상으로 유동한다. 액체 처리 후에 웨이퍼(W)와 표면(15) 사이의 갭 내의 액체는 제거, 즉 원심력에 의해 또는 가스 유동(G2)에 의해 제거된다.
척(11)이 회전하든지 회전 않하든지 간에 액체는 링 표면(21) 상에서 유동하고, 이는 회전하는 링 표면(21)에 의해 가속되고 액체는 원심력에 의해 회전하는 링 표면(21)으로부터 흘러서 선택된 액체 수집 용기 내로 흘러 들어간다.
외측을 향한 공기 유동(A2)은 립(17)과 표면(28) 사이의 갭을 퍼징하고 표면(28)과 링(28) 사이의 갭 내의 가스 유동(G2)과 합해진다.
그런 후에, 합쳐진 가스 유동(A2/G2)은 회전하는 링 표면(21)에서 흘러나오는 액체의 위측으로 향하는 유동과 충돌함이 없이 방사방향 외측으로 더욱 일주한다.

Claims (18)

  1. - 판형상 물체가 액체로 처리될 때, 판형상 물체에서 흘러나오는 액체를 수용하기 위하여 위로 향한 표면을 가진 단일 판형상 물체를 지지하기 위한 척과; 상기 척은 환형의 외주 립에 의해 외측으로 경계지워지고, 상기 척은 처리될 판형상 물체의 가장 큰 직경보다 더 큰 외경을 가지고,
    - 상기 척의 환형의 외주 립에서 흘러나오는 액체를 수용하기 위하여 위로 향한 링형상 표면을 가진 회전부를 구비하고; 상기 회전부는 상기 척에 대하여 회전가능하고, 상기 링형상 표면은 환형의 외주 립에 대하여 동축으로 배열되고, 상기 링형상 표면의 내경은 상기 척의 외경보다 작으며, 상기 립과 위로 향한 링형상 표면 사이의 거리(d)는 0.1 내지 5mm인 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 척은 회전가능한 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 척과 대면하지 않고 있는 표면에 액체를 분배하기 위한 액체 분배 수단 을 더 구비한 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 거리(d)는 0.1 내지 2mm 범위인 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 환형의 외주 립은 상기 립의 외측 에지가 아래를 향하도록 형성된 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 척의 위로 향한 표면은 베벨 형상 에지 영역을 가지고, 상기 베벨 형상 에지 영역은 에지로부터 0.5 내지 10mm의 치수를 가진 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 회전부는 상기 용기 내에 배열되어 있는 척과 함께 회전 가능한 용기에 장착 또는 그의 일부분이며, 이 때문에 갭이 척과 용기 사이에 형성되고, 상기 갭은 0.05와 20mm 사이의 거리를 가진 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  8. 청구항 5에 있어서,
    상기 용기는 상기 척 아래에 위치하는 개구를 가지고, 상기 개구는 상기 용기와 상기 척 사이의 갭 내로 가스를 전송하기 위하여 가스원과 연통하는 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  9. 청구항 6에 있어서,
    상기 가스원은 대기인 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 척은 판형상 물체의 표면을 적어도 부분적으로 가스를 퍼징하기 위한 가스 공급 수단을 더 구비하고, 상기 척의 주변 측면은 대부분의 퍼징 가스가 상기 판형상 물체의 에지 영역으로부터 멀리 일주하게 하는 제 1 가스 안내 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  11. 청구항 8에 있어서,
    상기 제 1 가스 안내 장치는 처리될 판형상 물체보다 작은 직경을 가지는 내측으로 향한 환형 에지에 의해 외측으로 경계 지워지는 환형 노즐의 형태를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  12. 청구항 8에 있어서,
    상기 회전가능한 링형상 표면의 아래에 있는 제 2 가스 안내 장치는 상기 제 1 가스 안내 장치에서 방사방향 외측으로 나오는 가스를 더욱 안내하는 것을 특징으로 하는 습식 판형상 처리 장치.
  13. - 판형상 물체를 수평으로 지지하기 위하여 척 상에 판형상 물체를 위치시키는 단계와; 상기 척은 상기 판형상 물체의 에지의 적어도 아래에 위로 향한 표면을 가지고,
    - 판형상 물체의 위로 향한 표면상에 액체를 분배하는 단계와;
    - 판형상 물체의 에지를 향하여 액체가 유동하게 하는 단계와;
    - 환형 외주 립에 의해 외측으로 경계 지워진 척의 위로 향한 표면상에서 판 형상 물체에서 액체가 흘러나오게 하는 단계와; 상기 척은 처리될 판형상 물체의 가장 큰 직경보다 더 큰 직경을 가지고,
    - 액체가 회전 링표면에서 가속되어 스핀되도록 위로 향한 회전 링 표면상에 상기 척의 환형 외주 립위에서 위로 향한 표면에서 액체가 흘러나오게 하는 단계를 구비하고,
    상기 회전 표면은 판형상 물체보다 더 빨리 회전하고, 상기 회전 링의 내경은 상기 척의 외경보다 작고, 상기 립과 위로 향한 링표면 사이의 거리(d)는 0.1 내지 5mm 범위인 것을 특징으로 하는 판형상 물체의 습식 처리 방법.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 척은 0 내지 100rpm의 스핀 속도로 회전하는 것을 특징으로 하는 판형상 물체의 습식 처리 방법.
  15. 청구항 13에 있어서,
    상기 회전 링 표면은 50rpm 이상의 스핀 속도로 회전하는 것을 특징으로 하는 판형상 물체의 습식 처리 방법.
  16. 청구항 13에 있어서,
    퍼징 가스는 상기 판형상 물체와 상기 척 사이의 갭 내로 도입되고 상기 가스는 상기 판형상 물체의 에지를 향하여 유동하는 것을 특징으로 하는 판형상 물체의 습식 처리 방법.
  17. 청구항 16에 있어서,
    80vol.-% 이상의 퍼징 가스는 상기 판형상 물체의 에지 영역으로부터 멀리 떨어져 일주하는 것을 특징으로 하는 판형상 물체의 습식 처리 방법.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 판형상 물체의 에지 영역으로부터 멀리 떨어져 일주하는 80vol.-% 이상의 퍼징 가스는 회전 링 표면의 아래에서 외측으로 안내되는 것을 특징으로 하는 판형상 물체의 습식 처리 방법.
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