KR20090073134A - Polyimide film and method for production thereof - Google Patents

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고이치 사와사키
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Abstract

Disclosed is a polyimide film comprising a film resin and an inorganic particle dispersed in the film in an amount of 0.1 to 0.9 wt% relative to the amount of the film resin, wherein the inorganic particle has a particle diameter of 0.01 to 1.5 mum, an average particle diameter of 0.05 to 0.7 mum, and such a particle size distribution that particles having a particle diameter of 0.15 to 0.60 mum account for 80 vol% or more of the total particle volume. Also disclosed is a method for producing a polyimide film, which comprises the steps of reacting tetracarboxylic acid dianhydride with a diamine in a polar organic solvent to produce a polyamic acid, imidizing the polyamic acid, and then molding the imidized product into a film, wherein a slurry comprising an inorganic particle dispersed in the same polar organic solvent as the polar inorganic solvent used above is added to a solution of the polyamic acid produced during the polyimide production process at a ratio of 0.1 to 0.9 wt% relative to the weight of the resin, and wherein the inorganic particle has a particle diameter of 0.01 to 1.5 mum, an average particle diameter of 0.05 to 0.7 mum, and a particle size distribution as mentioned above.

Description

폴리이미드 필름 및 그 제조 방법 {POLYIMIDE FILM AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF}POLYIMIDE FILM AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF}

본 발명은 폴리이미드 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a polyimide film and a method for producing the same.

더 상세하게는, 무기 미세 입자를 첨가함으로써, 무기 분체가 노출하지 않고 필름 중에 균일하게 분산된 상태로 표면 돌기를 발생시켜서 표면 상태를 제어하여, 필름의 주행성 및 접착성이 있으며, 플렉시블 프린트 배선 기판 (FPC)이나 칩 온 필름 (COF)의 자동 광학 검사 시스템 (AOI)에 적응 가능한 내열성을 가진 폴리이미드 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다. More specifically, by adding the inorganic fine particles, the surface is controlled by generating surface protrusions in a state in which the inorganic powder is uniformly dispersed in the film without exposing the inorganic powder, thereby having the running property and adhesiveness of the film, and the flexible printed wiring board. The present invention relates to a polyimide film having heat resistance that can be adapted to (FPC) or an automatic optical inspection system (AOI) of a chip on film (COF), and a method of manufacturing the same.

폴리이미드 필름은 내열성, 내한성, 내약품성, 전기 절연성 및 기계 강도 등에 있어서 우수한 특성이 있는 것이 알려져 있는데, 전선의 전기 절연 재료, 단열재, 플렉시블 프린트 배선 기판 (FPC)의 베이스 필름, IC의 테이프 오토메이티드 본딩 (TAB)용 캐리어 테이프 필름 및 IC의 리드 프레임 고정용 테이프 등에 널리 이용되고 있다. 이 중에서, 특히 FPC, TAB용 캐리어 테이프 및 리드 고정용 테이프 등의 용도에 있어서는, 통상적으로 여러 가지 접착제를 사이에 두고 폴리이미드 필름과 구리박이 접착되어 있다. Polyimide films are known to have excellent properties in heat resistance, cold resistance, chemical resistance, electrical insulation, mechanical strength, and the like. Electrical insulation materials for wires, heat insulating materials, base films for flexible printed wiring boards (FPCs), and automated tapes for ICs It is widely used for carrier tape films for bonding (TAB) and tapes for fixing lead frames of ICs. Among them, in particular, in applications such as FPC, carrier tape for TAB, and tape for fixing leads, a polyimide film and a copper foil are usually bonded to each other with various adhesives interposed therebetween.

폴리이미드가 이들 용도에 사용될 때에, 중요한 실용 특성은 필름의 미끄러 짐성 (이활성)이다. 여러 가지의 필름 가공 공정에 있어서, 필름 지지체 (예를 들면, 롤)와 필름의 이활성, 그리고 필름끼리의 이활성이 확보됨으로써, 각 공정에 있어서의 조작성, 취급성을 향상시키고, 또한 필름 위에 주름 등의 불량 부분이 발생하는 것을 회피할 수 있다. When polyimide is used for these applications, an important practical property is the slipperiness (activity) of the film. In various film processing steps, by securing the activity of the film support (for example, a roll) and the film, and the activity between the films, the operability and handleability in each process are improved, and the film is placed on the film. The occurrence of defective parts such as wrinkles can be avoided.

한편, 폴리이미드의 주용도인 플렉시블 프린트 배선판 용도에 있어서는, 통상적으로 여러 가지 접착제를 사이에 두고 구리박과 접착되어 있지만, 폴리이미드는 그 화학 구조 및 내약품 (용제) 안정성에 의하여 구리박과의 접착성이 불충분할 경우가 많아서, 현재 폴리이미드에 표면 처리 (알칼리 처리, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 샌드블라스트 처리 등)를 하여 접착하고 있다. 또한, 최근의 전자 부품의 파인 피치화에 있어서, 특히 FPC의 검사에 있어서, 종래에는 육안에 의한 선 폭, 이물 등의 검사가 주류를 이루었지만, 자동 광학 검사 시스템 (AOI)이 도입되고나서는, 무기 분체를 혼입하는 종래의 방법으로 제조된 내열성 필름에서는 주행성에 관하여 충분히 만족할만한 것을 얻을 수 있었지만, AOI에 있어서는 무기 분체가 너무 커서 최근의 FPC 등의 협피치화에 따라서 이 입자가 이물로 판단되어 자동 검사 시스템의 큰 장해가 되고 있다. On the other hand, in the flexible printed wiring board use which is the main use of polyimide, although it adheres normally with copper foil through various adhesive agents, polyimide adheres with copper foil by the chemical structure and chemical-resistance (solvent) stability. In many cases, the property is insufficient, and surface-adhesion (alkali treatment, corona treatment, plasma treatment, sand blast treatment, etc.) is applied to the polyimide. In recent years, in the fine pitch of electronic components, particularly in the inspection of FPC, inspection of line width, foreign matters and the like by the naked eye has become mainstream in the past, but after the introduction of the automatic optical inspection system (AOI), In the heat resistant film manufactured by the conventional method of incorporating the inorganic powder, it was possible to obtain a sufficiently satisfactory thing with respect to the running property. However, in the AOI, the inorganic powder is so large that the particles are judged to be foreign matter due to the narrow pitch of FPC or the like. It becomes a big obstacle of automatic inspection system.

종래의 폴리이미드 필름에 있어서의 이활화 기술에서는, 불활성 무기 화합물 (예를 들면, 알칼리 토금속의 오르토인산염, 제2 인산칼슘 무수물, 피로인산칼슘, 실리카, 탈크)을 폴리아믹산 에 첨가하는 방법 (특허 문헌 1 참조), 또한 미세 입자에 의하여 필름 표면에 미세한 돌기를 형성한 후, 플라즈마 처리를 실시하는 방법 (특허 문헌 2 참조)이 알려져 있다. 그러나, 이 문헌들에 개시되어 있는 입자는 입자 지름이 커서, 자동 광학 검사 시스템에는 적응하지 못하는 문제가 있다. 또한, 폴리이미드 표층에 평균 입자 지름이 0.01 내지 100 ㎛인 무기질 입자가 각 입자의 일부를 각각 매설하여 유지하고 있고, 일부 노출된 상기 무기질 입자로 이루어지는 다수의 돌기가 이 필름의 표면층에 1×10 내지 5×108개/㎟ 존재시키는 방법 (특허 문헌 3 참조)이 알려져 있다. 이 방법은 적극적으로 표면에 무기 입자를 노출시켜, 필름 표면의 마찰 계수를 저감함으로써, 이활성 효과를 효과적으로 얻지만, 무기질 입자가 일부 노출되어 있기 때문에 접면하는 다른 필름 표면에 스크래치가 발생하여 외관 불량을 초래하는 문제를 안고 있다. In the deactivation technique in the conventional polyimide film, a method of adding an inert inorganic compound (for example, orthophosphate of alkaline earth metal, dibasic calcium phosphate anhydride, calcium pyrophosphate, silica, talc) to a polyamic acid (patent Document 1) and a method of performing plasma treatment after forming fine projections on the surface of the film by fine particles (see Patent Document 2) are known. However, the particles disclosed in these documents have a problem that their particle diameters are large and they are not adapted to the automatic optical inspection system. In addition, inorganic particles having an average particle diameter of 0.01 to 100 µm are embedded in the polyimide surface layer, and a part of each particle is embedded and maintained, and a plurality of projections composed of the exposed inorganic particles are partially exposed to the surface layer of the film. The method (refer patent document 3) to make -5 * 10 <8> pieces / mm <2> exist is known. This method effectively obtains the activating effect by actively exposing the inorganic particles to the surface and reducing the coefficient of friction of the film surface. However, since the inorganic particles are partially exposed, scratches occur on the surface of the other film in contact with each other. It has a problem that causes it.

특허 문헌 1: 일본 공개 특허 공보 소62-68852호 공보Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-68852

특허 문헌 2: 일본 공개 특허 공보 2000-191810호 공보Patent Document 2: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-191810

특허 문헌 3: 일본 공개 특허 공보 평5-25295호 공보Patent document 3: Unexamined-Japanese-Patent No. 5-25295

본 발명은 이와 같은 시장 요구에 대하여 예의 연구한 결과, 주행성 (이활성)과 접착성 및 자동 광학 검사 시스템 (AOI)을 동시에 공업적으로 만족시키는 폴리이미드 필름을 얻는 것에 그 목적이 있다. An object of the present invention is to obtain a polyimide film which industrially satisfies the runnability (activity), the adhesiveness, and the automatic optical inspection system (AOI) at the same time as a result of intensive research on such market demands.

상기 목표를 달성하기 위하여, 본 발명의 폴리이미드 필름은 입자 지름이 0.01 내지 1.5 ㎛의 범위 내에 있고, 평균 입자 지름이 0.05 내지 0.7 ㎛이며, 또한 입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자가 전체 입자 중에서 80 체적% 이상의 비율을 차지하는 입도 분포의 무기 입자가 필름 수지 중량당 0.1 내지 0.9 중량%의 비율로 필름 중에 분산되어 있는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the polyimide film of the present invention has a particle diameter in the range of 0.01 to 1.5 μm, an average particle diameter of 0.05 to 0.7 μm, and a particle diameter of 0.15 to 0.60 μm among all the particles. Inorganic particles having a particle size distribution occupying a ratio of 80% by volume or more are dispersed in the film at a ratio of 0.1 to 0.9% by weight per film resin.

또한, 본 발명의 폴리이미드 필름은 아래의 (1) 내지 (5)를 모두 만족하는 것이 좋다. Moreover, it is good for the polyimide film of this invention to satisfy all the following (1)-(5).

(1) 무기 입자가 필름 수지 중량당 0.3 내지 0.8 중량%의 비율로 함유되어 있는 것. (1) The inorganic particles are contained in the ratio of 0.3 to 0.8 weight% per weight of film resin.

(2) 무기 입자의 평균 입자 지름이 0.1 내지 0.6 ㎛인 것. (2) The average particle diameter of an inorganic particle is 0.1-0.6 micrometer.

(3) 무기 입자의 평균 입자 지름이 0.3 내지 0.5 ㎛인 것. (3) The average particle diameter of an inorganic particle is 0.3-0.5 micrometer.

(4) 무기 입자에 기인하는 돌기가 필름 표면에 존재하고, 그 돌기의 높이가 2 ㎛ 이상인 것의 수가 5 개/40 cm 각(角) 이하인 것. (4) The processus | protrusion which originates in an inorganic particle exists in the film surface, and the number of the thing whose height of a processus | protrusion is 2 micrometers or more is 5 pieces / 40 cm or less.

(5) 필름 두께가 5 내지 175 ㎛인 것. (5) Film thickness is 5-175 micrometers.

또한, 본 발명의 폴리이미드 필름의 제조 방법은 테트라카르본산 이무수물과 디아민을 극성 유기 용매 중에서 반응시켜서 폴리아미드산을 제조하고, 이것을 이미드화한 후, 필름으로 성형함에 있어서, 입자 지름이 0.01 내지 1.5 ㎛의 범위 내에 있고, 평균 입자 지름이 0.05 내지 0.7 ㎛며, 또한 입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자가 전체 입자 중에서 80 체적% 이상의 비율을 차지하는 입도 분포의 무기 입자를 상기 극성 유기 용매와 같은 극성 유기 용매에 분산시킨 슬러리를 폴리이미드 제조 공정 중의 폴리아미드산 용액에 수지 중량당 0.1 내지 0.9 중량%의 비율로 첨가하는 것을 특징으로 한다. Moreover, the manufacturing method of the polyimide film of this invention makes a polyamic acid by making tetracarboxylic dianhydride and diamine react in a polar organic solvent, and after imidating this, shape | molding into a film, particle diameter is 0.01- Inorganic particles having a particle size distribution in the range of 1.5 μm, in which particles having an average particle diameter of 0.05 to 0.7 μm, and having a particle diameter of 0.15 to 0.60 μm occupy a ratio of 80% by volume or more in the total particles are the same as the polar organic solvent. The slurry dispersed in the polar organic solvent is added to the polyamic acid solution in the polyimide manufacturing process at a ratio of 0.1 to 0.9% by weight per resin.

발명의 효과Effects of the Invention

본 발명의 폴리이미드 필름은 무기 미세 입자를 첨가함으로써, 무기 입자가 필름 표면에 노출하지 않고, 필름 중에 균일하게 분산된 상태로 미세한 표면 돌기를 발현시키고, 또한 필름의 주행성 및 접착성이 향상됨으로써, 미세한 배선을 형성하는 플렉시블 프린트 배선 기판 (FPC)이나 칩 온 필름 (COF) 등의 용도에 적합하다. In the polyimide film of the present invention, by adding inorganic fine particles, the inorganic particles are not exposed to the surface of the film, the fine surface protrusions are expressed in a state dispersed uniformly in the film, and the running property and adhesion of the film are improved, It is suitable for uses, such as a flexible printed wiring board (FPC) and a chip-on-film (COF) which form a fine wiring.

발명을 실시하기Implement the invention 위한 최선의 실시 상태 Best practice for

이하 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 폴리이미드 필름을 얻을 때의 전구체인 폴리아미드산에 대하여 설명한다. The polyamic acid which is a precursor when obtaining the polyimide film of this invention is demonstrated.

본 발명에 있어서는, 예를 들면 방향족 테트라카르본산 이무수물 성분과 방향족 디아민 성분 또는 이 양자를 주성분으로 하는 화학 물질을 유기 용매 중에서 부가 중합시킴으로써 바니쉬 형태의 폴리아믹산을 얻는다. In the present invention, for example, the polyamic acid in the varnish form is obtained by addition polymerization of an aromatic tetracarboxylic dianhydride component and an aromatic diamine component or a chemical substance having both as main components in an organic solvent.

상기 방향족 디아민 성분의 구체예로서는, 파라페닐렌디아민, 메타페닐렌디아민, 벤티딘, 파라크실렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노페닐메탄, 1,5-디아미노나프탈렌, 3,3'-디메톡시벤티딘, 1,4-비스 (3-메틸-5아미노페닐)벤젠 및 이들의 아미드 형성성 유도체를 들 수 있다. 이 중에서 필름의 인장 탄성율을 높이는 효과가 있는 파라페닐렌디아민, 벤티딘, 3,4'-디아미노디페닐에테르가 좋다. 이들 디아민의 양을 조정하여, 최종적으로 얻는 폴리이미드 필름의 인장 탄성율이 4.0 GPa 이상으로 하는 것이 파인 피치 기판용으로서 좋다. Specific examples of the aromatic diamine component include paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, betidine, paraxylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4 '-Diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminophenylmethane, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3'-dime Oxybentidine, 1,4-bis (3-methyl-5aminophenyl) benzene, and amide forming derivatives thereof. Among them, paraphenylenediamine, betidine, and 3,4'-diaminodiphenyl ether, which have an effect of increasing the tensile modulus of the film, are preferable. It is good for fine pitch substrates to adjust the amount of these diamines and to make the tensile elasticity modulus of the polyimide film finally obtained into 4.0 GPa or more.

상기 방향족 테트라카르본산 이무수물 성분의 구체예로서는, 피로메리트산, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산, 2,3',3,4'-비페닐테트라카르본산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산, 2,3,6,7-나프탈렌디카르본산, 2,2-비스 (3,4-디카르복시페닐)에테르, 피리딘-2,3,5,6-테트라카르본산 및 이들의 아미드 형성성 유도체 등의 산무수물을 들 수 있다. Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride component include pyromellitic acid, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3', 3,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 3, 3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, 2,3,6,7-naphthalenedicarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether, pyridine-2,3,5 And acid anhydrides such as, 6-tetracarboxylic acid and amide-forming derivatives thereof.

사용되는 유기 용매의 구체예로서는, 예를 들면, 디메틸술폭시드, 디에틸술폭시드 등의 술폭시드계 용매, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디에틸포름아미드 등의 포름아미드계 용매, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디에틸아세트아미드 등의 아세트아미드계 용매, N-메틸-2-피로리돈, N-비닐-2-피로리돈 등의 피로리돈계 용매, 페놀, o-, m-, 또는 p-크레졸, 크시레놀, 할로겐화 페놀, 카테콜 등의 페놀계 용매, 또는 헥사메틸포스포르아미드, γ-부틸로락톤 등의 비프로톤성 극성 용매를 들 수 있고, 이들을 단독 또는 혼합물로서 사용하는 것이 좋지만, 크실렌, 톨루엔과 같은 방향족 탄화수소의 사용도 가능하다. As a specific example of the organic solvent used, For example, sulfoxide type solvents, such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, formamide solvents, such as N, N- dimethylformamide and N, N- diethylformamide, Acetamide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide, pyrididone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o -, m-, or p- cresol, Xi renol, there may be mentioned aprotic polar solvents such as phenolic solvents, or hexamethyl phosphoramide, γ- lactone butyl, such as a halogenated phenol, catechol, these single Or it is preferable to use as a mixture, but the use of aromatic hydrocarbons, such as xylene and toluene, is also possible.

중합 방법은 공지의 어느 방법이어도 좋으며, 예를 들면 다음 방법이 있다. Any well-known method may be sufficient as a superposition | polymerization method, for example, there exists the following method.

(1) 먼저, 방향족 디아민 성분 전량을 용매 중에서 넣고, 그 후 방향족 테트라카르본산류 성분을 방향족 디아민 성분 전량과 등량이 되도록 가하여 중합하는 방법. (1) First, the whole amount of aromatic diamine component is put in a solvent, and then, the aromatic tetracarboxylic acid component is added so as to be equivalent to the amount of aromatic diamine component and polymerized.

(2) 먼저, 방향족 테트라카르본산류 성분 전량을 용매 중에서 넣고, 그 후 방향족 디아민 성분을 방향족 테트라카르본산류 성분과 등량이 되도록 가하여 중합하는 방법. (2) First, the whole amount of aromatic tetracarboxylic acid component is put in a solvent, and then, the aromatic diamine component is added so as to be equivalent to the aromatic tetracarboxylic acid component and polymerized.

(3) 한쪽의 방향족 디아민 화합물을 용매에 넣은 후, 반응 성분에 대하여 방향족 테트라카르본산류 화합물이 95 내지 105 몰%가 되는 비율로 반응에 필요한 시간 혼합한 후, 다른 한쪽의 방향족 디아민 화합물을 첨가하고, 이어서 방향족 테트라카르본산류 화합물을 전체 방향족 디아민 성분과 전체 방향족 테트라카르본산류 성분이 거의 등량이 되도록 첨가하여 중합하는 방법. (3) After putting one aromatic diamine compound in a solvent, after mixing for the time required for reaction at a ratio of the aromatic tetracarboxylic acid compound to 95 to 105 mol% with respect to the reaction component, the other aromatic diamine compound is added. Then, the aromatic tetracarboxylic acid compound is added and polymerized so that the total aromatic diamine component and the total aromatic tetracarboxylic acid component are almost equivalent.

(4) 방향족 테트라카르본산류 화합물을 용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대하여 한쪽의 방향족 디아민 화합물이 95 내지 105몰%가 되는 비율로 반응에 필요한 시간 혼합한 후, 방향족 테트라카르본산류 화합물을 첨가하고, 이어서 다른 한쪽의 방향족 디아민 화합물을 전체 방향족 디아민 성분과 전체 방향족 테트라카르본산류 성분이 거의 등량이 되도록 첨가하여 중합하는 방법. (4) After adding the aromatic tetracarboxylic acid compound in a solvent and mixing for the time required for the reaction at a rate such that one aromatic diamine compound becomes 95 to 105 mol% with respect to the reaction component, an aromatic tetracarboxylic acid compound is added. Then, the other aromatic diamine compound is added and polymerized so that a total aromatic diamine component and a total aromatic tetracarboxylic acid component may be substantially equivalent.

(5) 용매 중에서 한쪽의 방향족 디아민 성분과 방향족 테트라카르본산류를 어느 하나가 과잉이 되도록 반응시켜서 폴리아미드산 용액 (A)을 조정하고, 다른 용매 중에서 다른 한쪽의 방향족 디아민 성분과 방향족 테트라카르본산류를 어느 하나가 과잉이 되도록 반응시켜 폴리아미드산 용액 (B)을 조정한다. 이렇게 하여 얻은 각 폴리아미드산 용액 (A)과 (B)을 혼합하고, 중합을 완결하는 방법. 이 때, 폴리아미드산 용액 (A)을 조정함에 있어서 방향족 디아민 성분이 과잉인 경우, 폴리아미드산 용액 (B)에서는 방향족 테트라카르본산 성분을 과잉으로 하고, 또한 폴리아미드산 용액 (A)에서 방향족 테트라카르본산 성분이 과잉인 경우, 폴리아미드산 용액 (B)에서는 방향족 디아민 성분을 과잉으로 하여, 폴리아미드산 용액 (A)과 (B)을 혼합하고, 이들 반응에 사용되는 전체 방향족 디아민 성분과 전체 방향족 테트라카르본산류 성분이 거의 등량이 되도록 조정한다.  (5) The polyamic acid solution (A) is adjusted by reacting one of the aromatic diamine components and the aromatic tetracarboxylic acids in excess in the solvent so as to become excess, and the other aromatic diamine component and the aromatic tetracarboxylic acid in the other solvent. The polyamic acid solution (B) is adjusted by reacting the streams to make excess one. The method of mixing each polyamic-acid solution (A) and (B) obtained in this way, and completing superposition | polymerization. At this time, when the aromatic diamine component is excessive in adjusting the polyamic acid solution (A), the aromatic tetracarboxylic acid component is excessive in the polyamic acid solution (B), and the aromatic in the polyamic acid solution (A) When the tetracarboxylic acid component is excessive, in the polyamic acid solution (B), the aromatic diamine component is made excess, the polyamic acid solution (A) and (B) are mixed, and the total aromatic diamine component used for these reactions and It adjusts so that all aromatic tetracarboxylic-acid components may be nearly equivalent.

한편, 중합 방법은 이들에 한정되는 것은 아니며, 기타 공지의 방법을 사용하여도 좋다. In addition, the polymerization method is not limited to these, You may use other well-known methods.

이와 같이 하여 얻은 폴리아믹산 용액은, 고형분을 5 내지 40 중량%、 좋기로는 10 내지 30 중량%을 함유하고 있고, 또한 그 점도는 브룩필드 점도계에 의한 측정값으로 10 내지 2000 Pa·s, 좋기로는, 100 내지 1000 Pa·s의 것이 안정적인 송액(送液)을 위하여 바람직하게 사용된다. 또한, 유기 용매 용액 중의 폴리아믹산은 부분적으로 이미드화되어 있어도 좋다. The polyamic acid solution thus obtained contains 5 to 40% by weight of solid content, preferably 10 to 30% by weight, and the viscosity is 10 to 2000 Pa · s, preferably measured by a Brookfield viscometer. Furnace is preferably used in the range of 100 to 1000 Pa · s for stable liquid feeding. In addition, the polyamic acid in the organic solvent solution may be partially imidized.

본 발명의 필름 표면 위에 돌기를 형성하기 위하여 수지에 첨가되는 무기 입자는 상기 폴리이미드 필름 제조 공정에서 접촉하는 모든 화학 물질에 대하여 불용일 필요가 있다. Inorganic particles added to the resin in order to form protrusions on the film surface of the present invention need to be insoluble for all chemicals contacted in the polyimide film manufacturing process.

본 발명에 있어서 사용 가능한 무기 입자로서는, SiO2 (실리카), TiO2, CaHPO4, Ca2P2O7 등을 적합한 것으로서 들 수 있다. 그 중에서도 졸·겔법으로 습식 분쇄법을 사용하여 제조한 실리카가 바니쉬 형태의 폴리아미드산 용액 중에서 안정적이고, 또한 물리적으로 안정적이며, 폴리이미드의 제 물성에 영향을 주지 않기 때문에 좋다. The inorganic particles usable in the present invention, SiO 2 (Silica), TiO 2 , CaHPO 4 , Ca 2 P 2 O 7 and the like can be cited as suitable ones. Among them, silica prepared by the wet grinding method by the sol-gel method is preferable because it is stable and physically stable in the varnish-type polyamic acid solution and does not affect the physical properties of the polyimide.

또한, 미세 실리카분은, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, n-메틸피로리돈 등의 극성 용매에 균일하게 분산시킨 실리카 슬러리로서 사용하는 것이 응집을 방지하기 위하여 좋다. 이 슬러리는 입자 지름이 매우 작기 때문에 침강 속도가 느리고 안정적이다. 또한, 가령 침강하더라도 재교반하여 용이하게 재분산 가능하다. The fine silica powder is used as a silica slurry uniformly dispersed in a polar solvent such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide and n -methylpyrrolidone to prevent aggregation. It's good to do. This slurry has a slow and stable settling rate because of its very small particle diameter. In addition, even if settling, it is possible to easily re-disperse by re-stirring.

본 발명에 있어서의 폴리이미드 필름의 표면에 돌기를 형성시키기 위하여 첨가되는 무기 입자의 입자 지름이 0.01 내지 1.5 ㎛의 범위 내에 있거나, 또는 평균 입자 지름이 0.05 ㎛ 내지 0.7 ㎛의 범위, 더 좋기로는 0.1 내지 0.6 ㎛의 범위, 더 좋기로는 0.3 내지 0.5 ㎛의 범위에 있는 경우, 이 폴리이미드 필름의 자동 광학 검사 시스템에서의 검사에 문제없이 적응할 수 있다. 또한, 필름 기계 물성 등의 저하를 일으키지 않고 사용 가능하다. 반대로, 이 범위보다 평균 입자 지름이 작으면 필름에 대한 충분한 이활성을 얻을 수 없고, 크면 자동 검사 시스템에서 이 입자가 이물로 판단하여 장해를 초래하므로 바람직하지 않다. 또 통상의 필름의 두께는 5 ㎛ 내지 175 ㎛이기 때문, 이 입자 지름 범위에서의 입자가 표면에 노출되는 경우는 없다. The particle diameter of the inorganic particle added in order to form a processus | protrusion on the surface of the polyimide film in this invention exists in the range of 0.01-1.5 micrometers, or the average particle diameter is the range of 0.05 micrometers-0.7 micrometers, More preferably, When in the range of 0.1 to 0.6 mu m, more preferably in the range of 0.3 to 0.5 mu m, the inspection in the automatic optical inspection system of this polyimide film can be adapted without problems. Moreover, it can use without causing the fall of a film mechanical property. On the contrary, if the average particle diameter is smaller than this range, it is not preferable because sufficient migration activity on the film cannot be obtained, and when the average particle diameter is large, the particles are judged as foreign matters in the automatic inspection system and cause obstacles. Moreover, since the thickness of a normal film is 5 micrometers-175 micrometers, the particle | grains in this particle diameter range are not exposed to the surface.

무기 입자는 필름 수지 중량당 0.1 내지 0.9 중량%가 좋고, 0.3 내지 0.8 중량%의 비율로 함유되어 있는 것이 더 좋다. 0.1 중량% 이하이면 필름 표면의 돌기 수도 부족하여 필름에 대한 충분한 이활성을 얻을 수 없고, 반송성이 악화되어, 롤에 감았을 때의 필름의 감긴 모습도 악화하므로 좋지 않다. 또한, 0.9 중량% 이상이면 필름의 이활성은 양호하지만, 입자의 이상 응집에 의한 조대(粗大) 돌기가 증가하고, 이것이 결과적으로 자동 검사 시스템에서 이물로 판단되어 장해를 초래하므로 바람직하지 못하다. The inorganic particles are preferably 0.1 to 0.9 wt% per weight of the film resin, and more preferably contained at a ratio of 0.3 to 0.8 wt%. If it is 0.1 wt% or less, the number of protrusions on the surface of the film may also be insufficient, and sufficient deactivation to the film may not be obtained, and the conveyability is deteriorated, and the wound shape of the film when the roll is wound is also not good. Moreover, if the weight is 0.9 weight% or more, the film has good activity, but it is unfavorable because coarse protrusion by abnormal aggregation of particle | grains increases, and this is judged as a foreign material in an automatic inspection system, and causes obstacle.

무기 입자에 의한 표면 돌기에 의하여 필름 표면적도 확대되고, 충분히 조면화(粗面化)되어 앵커 효과가 보이며, 접착성도 손상되지 않게 된다. The surface projections by the inorganic particles also increase the film surface area, roughen the surface sufficiently to show the anchor effect, and also prevent the adhesiveness from being impaired.

무기 입자의 입도 분포에 있어서는 좁은 분포인 것, 즉 유사한 크기의 입자가 전체 입자에서 차지하는 비율이 높은 것이 좋고, 구체적으로는 입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자가 전체 입자 중에서 80 체적% 이상의 비율을 차지하는 것이 좋다. 이 범위보다 적어서 0.15 ㎛ 이하인 입자가 차지하는 비율이 높아지면, 필름의 이활성이 저하되어 좋지 못하다. 또한, 무기 입자 슬러리 송액시에는 5 ㎛ 컷 필터나 10 ㎛ 컷 필터에 의하여 조립(粗粒)거친 입자를 제거하는 것이 가능하지만, 0.60 ㎛ 이상인 입자가 차지하는 비율이 높아지면, 필터의 막힘이 빈발하여 공정의 안정성을 저해할 뿐만 아니라, 입자의 조대 응집이 발생하기 쉬우므로 좋지 못하다. In the particle size distribution of the inorganic particles, a narrow distribution, that is, a high proportion of particles of similar size in the total particles is preferable, and specifically, particles having a particle diameter of 0.15 to 0.60 µm have a ratio of 80% by volume or more in the total particles. Good to occupy If the ratio of less than this range and the particle | grains which are 0.15 micrometer or less occupies becomes high, the activity of the film will fall and it is not good. In addition, although it is possible to remove granulated particles by a 5 µm cut filter or a 10 µm cut filter at the time of liquid slurry slurry feeding, when the proportion of particles having a diameter of 0.60 µm or more becomes high, clogging of the filter occurs frequently. Not only does it impair the stability of the process, but coarse agglomeration of the particles is likely to occur, which is not good.

무기 입자에 기인한 필름 표면 돌기에 있어서는, 높이 2 ㎛ 이상의 돌기수가 5 개/40 cm 각 이하인 것, 더 좋기로는 3 개/40 cm 각 이하, 더 좋기로는 1 개/40 cm 각 이하이다. 이보다 많으면 자동 검사 시스템에서 이 입자가 이물이라고 판단되어 장해를 일으키므로 좋지 못하다. In the film surface projections attributable to the inorganic particles, the number of projections having a height of 2 µm or more is 5/40 cm or less, more preferably 3/40 cm or less, and more preferably 1/40 cm or less. . If it is more than this, it is not good because the automatic inspection system determines that the particle is a foreign material and causes an obstacle.

이와 같은 무기 입자를 폴리이미드의 제조에 사용되는 유기 용매와 같은 극성 용매에 분산시킨 슬러리를 폴리이미드 제조 공정 중의 폴리아미드산 용액에 첨가한 후, 탈환화 탈용매시켜서 폴리이미드 필름을 얻는 것이 좋지만, 폴리아미드산 중합 전의 유기 용매 중에 무기 입자 슬러리를 첨가한 후, 폴리아미드산 중합, 탈환화 탈용매를 거쳐서 폴리이미드 필름을 얻는 것 등, 탈환화 탈용매 전의 공정이면 어떠한 공정에 있어서도 무기 입자 슬러리를 첨가하는 것이 가능하다. Although it is preferable to add the slurry which disperse | distributed such inorganic particle to the polar solvent like the organic solvent used for manufacture of a polyimide to the polyamic-acid solution in a polyimide manufacturing process, and then decyclization-de-solvent to obtain a polyimide film, After the inorganic particle slurry is added to the organic solvent before the polyamic acid polymerization, the inorganic particle slurry can be used in any step as long as it is a step before the decyclization desolvent, such as obtaining a polyimide film through polyamic acid polymerization or decyclization desolvent. It is possible to add.

이어서, 본 발명의 폴리이미드 필름의 제조 방법에 대하여 설명한다. Next, the manufacturing method of the polyimide film of this invention is demonstrated.

폴리이미드 필름을 제막하는 방법으로서는, 폴리아믹산 용액을 필름 형태로 캐스트하여 열적으로 탈환화 탈용매시켜서 폴리이미드 필름을 얻는 방법 및 폴리아믹산 용액에 환화 촉매 및 탈수제를 혼합하여 화학적으로 탈환화시켜서 겔 필름을 작성하고, 이것을 가열 탈용매함으로써 폴리이미드 필름을 얻는 방법을 들 수 있지만, 후자가 얻는 폴리이미드 필름의 열 팽창 계수를 낮게 억제할 수 있으므로 좋다. As a method of forming a polyimide film, a method of obtaining a polyimide film by casting a polyamic acid solution in the form of a film and thermally decyclizing and desolventing therein, and chemically decyclizing the mixed polyamic acid solution by mixing a cyclization catalyst and a dehydrating agent to a gel film Although the method of obtaining a polyimide film by creating and heat-solventing this is mentioned, since the thermal expansion coefficient of the polyimide film obtained by the latter can be suppressed low, it is good.

화학적으로 탈환화시키는 방법에 있어서는, 먼저 상기 폴리아믹산 용액을 조제하고, 환화 촉매 (이미드화 촉매), 탈수제 및 겔화 지연제 등을 첨가한다. In the chemically decyclization method, the polyamic acid solution is prepared first, and then a cyclization catalyst (imidization catalyst), a dehydrating agent, a gelling retardant, and the like are added.

본 발명에서 사용되는 환화 촉매의 구체예로서는, 트리메틸아민, 트리에틸렌디아민 등의 지방족 제3급 아민, 디메틸아닐린 등의 방향족 제3급 아민 및 이소퀴놀린, 피리딘, β-피콜린 등의 복소환 제3급 아민 등을 들 수 있지만, 복소환식 제3급 아민으로부터 선택되는 적어도 1 종류의 아민을 사용하는 것이 좋다. Specific examples of the cyclization catalyst used in the present invention include aromatic tertiary amines such as aliphatic tertiary amines such as trimethylamine and triethylenediamine and dimethylaniline, and heterocyclic thirds such as isoquinoline, pyridine, and β -picoline. Although a tertiary amine etc. are mentioned, It is good to use at least 1 sort (s) of amine chosen from a heterocyclic tertiary amine.

본 발명에서 사용되는 탈수제의 구체예로서는, 무수 초산, 무수 프로피온산, 무수낙산 등의 지방족 카르본산 무수물 및 무수 안식향산등의 방향족 카르본산 무수물 등을 들 수 있지만, 무수 초산 및/또는 무수 안식향산이 바람직하다. Specific examples of the dehydrating agent used in the present invention include aliphatic carboxylic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, and aromatic carboxylic anhydrides such as benzoic anhydride, and the like, but acetic anhydride and / or benzoic anhydride are preferred.

폴리아믹산 용액으로부터 폴리이미드 필름을 제조하는 방법으로서는, 환화 촉매 및 탈수제를 함유한 폴리아믹산 용액을 슬릿이 있는 캡으로부터 지지체 위로 흘려가게 하여 필름 형태로 성형하고, 지지체 상에서 이미드화를 일부 진행시켜서 자기 지지성이 있는 겔 필름으로 한 후, 지지체로부터 박리하고, 가열 건조/이미드화하고, 열처리를 실시한다. As a method for producing a polyimide film from a polyamic acid solution, a polyamic acid solution containing a cyclization catalyst and a dehydrating agent is formed into a film by flowing from a cap with a slit onto a support, and partially supported by imidization on a support. After making into a gel film with a property, it peels from a support body, heat-drys / imidizes, and heat-processes.

상기 폴리아믹산 용액은, 슬릿 형태의 캡을 통하여 필름 형태로 성형되고, 가열된 지지체 위로 흘려보내어, 지지체 위에서 열폐환 반응을 하고, 자기 지지성이 있는 겔 필름이 되어 지지체로부터 박리된다. The polyamic acid solution is shaped into a film through a slit cap, flows over a heated support, undergoes a heat-closing reaction on the support, and becomes a self-supporting gel film that is peeled off from the support.

상기 지지체라 함은, 금속제의 회전 드럼이나 엔드리스 벨트이며, 그 온도는 액체 또는 기체의 열매 및/또는 전기 히터 등의 복사열에 의하여 제어된다. The support is a metal rotating drum or an endless belt, the temperature of which is controlled by radiant heat such as a fruit or a fruit of a gas and / or an electric heater.

상기 겔 필름은 지지체로부터 열이 가하여지거나 및/또는 열풍이나 전기 히터 등의 열원으로부터 열이 가하여져 30 내지 200℃, 좋기로는 40 내지 150℃로 가열되어 폐환 반응하고, 유리된 유기 용매 등의 휘발분을 건조시킴으로써 자기 지지성을 갖게 되고, 지지체로부터 박리된다. The gel film is heated from a support and / or from a heat source such as a hot air or an electric heater, heated to 30 to 200 ° C., preferably 40 to 150 ° C., and the ring-closing reaction is performed. By drying volatile matter, it becomes self-supporting and peels from a support body.

상기 지지체로부터 박리된 겔 필름은 보통 회전 롤에 의하여 주행 속도를 규제하면서 주행 방향으로 연신된다. 연신은 140℃ 이하의 온도에서 1.05 내지 1.9배, 좋기로는 1.1 내지 1.6배, 더 좋기로는 1.1 내지 1.5배의 배율로 실시된다. 주행 방향으로 연신된 겔 필름은 텐터 장치에 도입되고, 텐터 클립에 의하면 폭 방향 양단부가 파지되어, 텐터 클립과 함께 주행하면서 폭 방향으로 연신된다. 상기 건조 존에서 건조한 필름은 열풍, 적외선 히터 등으로 15초 내지 10분 가열된다. 이어서, 열풍 및/또는 전기 히터 등에 의하여, 250 내지 500의 온도로 15초 내지 20분 열처리를 한다. 주행 방향으로의 연신 배율과 폭 방향으로의 연신 배율을 조정하면서 얻는 폴리이미드 필름의 필름 두께를 5 내지 175 ㎛로 조정하는 것이 좋다. 이 범위보다 두껍거나 얇으면 제막성은 현저하게 저하되므로 바람직하지 못하다. The gel film peeled from the support is usually stretched in the travel direction while regulating the travel speed by the rotary roll. Stretching is carried out at a magnification of 1.05 to 1.9 times, preferably 1.1 to 1.6 times, more preferably 1.1 to 1.5 times at a temperature of 140 ° C. or lower. The gel film stretched in the running direction is introduced into the tenter apparatus, and both ends in the width direction are gripped by the tenter clip and stretched in the width direction while traveling with the tenter clip. The film dried in the drying zone is heated for 15 seconds to 10 minutes with hot air, an infrared heater or the like. Subsequently, heat treatment is performed for 15 seconds to 20 minutes at a temperature of 250 to 500 by a hot air and / or an electric heater or the like. It is good to adjust the film thickness of the polyimide film obtained while adjusting the draw ratio in a running direction, and the draw ratio in a width direction to 5-175 micrometers. If it is thicker or thinner than this range, since film forming property will fall remarkably, it is unpreferable.

이하, 본 발명을 실시예를 이용하여 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described using examples.

본 발명에 있어서의 측정 방법에 대하여 이하에 설명한다. The measuring method in this invention is demonstrated below.

[마찰 계수 (정마찰 계수)][Frictional coefficient (static friction coefficient)]

필름의 처리면끼리를 포개고, JIS K-7125 (1999)에 기초하여 측정하였다. 즉, 미끄러짐 계수 측정 장치 슬립 테스터 (Slip Tester) (가부시키가이샤 테크노니즈 제품)을 사용하고, 필름 처리면끼리를 포갠 후, 그 위에 200 g의 추를 올려서 필름의 한쪽을 고정시키고, 다른 한쪽을 100 mm/분으로 잡아당겨서 마찰 계수를 측정하였다. The treated surfaces of the film were overlapped and measured based on JIS K-7125 (1999). That is, using a slip coefficient measuring device (Slip Tester) (manufactured by Technoise Co., Ltd.), the surface of the film treated surfaces are piled up, a 200 g weight is placed thereon to fix one side of the film, and the other side is The friction coefficient was measured by pulling at 100 mm / min.

[접착력][Adhesiveness]

접착성 평가 방법은 구체적으로는 IPC-FC-241의 방법에 기초하여, 폴리이미드 필름과 구리박을 시판되는 열가소성 폴리이미드 접착제로 접착하고, 경판 위에 필름을 고정하고, 측정하여 구하였다. The adhesive evaluation method specifically based on the method of IPC-FC-241, adhere | attached the polyimide film and copper foil with the commercially available thermoplastic polyimide adhesive, fixed the film on the hard board, and measured and calculated | required.

[자동 광학 검사 (AOI)][Automatic Optical Inspection (AOI)]

올포텍사 제품인 SK-75을 사용하여 베이스 필름을 검사하였다. 이물과 미립자가 구별되는 경우를 「A」 평가로 하고, 이물과 미립자의 크기가 유사하여 양자가 구별되지 않는 경우를 「C」 평가로 하고, 그 중간을「B」평가로 한다. The base film was inspected using SK-75 manufactured by Allpotec. The case where a foreign material and a microparticle are distinguished is made into "A" evaluation, the case where the foreign material and microparticles | fine-particles are similar and both are not distinguished is made into "C" evaluation, and the intermediate | middle is made into "B" evaluation.

[무기 입자의 평가][Evaluation of Inorganic Particles]

호리바제작소의 레이저 회절/산란식 입도 분포 측정 장치 LA-910을 사용하여 극성 용매에 분산한 시료를 측정, 해석한 결과, 입자 지름 범위, 평균 입자 지름, 입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛의 전체 입자에 대한 점유율을 알 수 있었다. Using a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer LA-910 manufactured by Horiba, the sample dispersed in a polar solvent was measured and analyzed. As a result, all particles having a particle diameter range, an average particle diameter, and a particle diameter of 0.15 to 0.60 μm were measured. I could tell the share.

[이상 돌기수][Ideal abnormalities]

필름 40 cm 각 면적당에 있어서, 높이 2 ㎛ 이상의 돌기수를 카운트하였다. 높이 측정은 레이저테크 (주) 제품인 주사형 레이저 현미경 「1LM15W」로, 니콘사의 100 배 렌즈 (CF Plan 100×0.95∞/0 EPI)을 사용하여, 「SURFACE 1」모드에서 필름 표면을 촬영·해석하여 확인하였다. In each film 40 cm area, the number of protrusions of 2 µm or more in height was counted. The height measurement is a laser type laser microscope "1LM15W" manufactured by Lasertech Co., Ltd., and photographed and analyzed the film surface in "SURFACE 1" mode using Nikon's 100x lens (CF Plan 100 × 0.95∞ / 0 EPI). Confirmed by.

[필름 두께][Film thickness]

미투토요제 라이트매틱 (Series 318)을 사용하여 측정하였다. It was measured using a Mitutoyo lightmatic (Series 318).

[실시예 1]Example 1

N,N-디메틸아세트아미드 (DMAC) 중에서, 피로메리트산 이무수물과 4,4'-디아미노디페닐에테르를 개략 반응시켜 바니쉬 형태의 폴리아미드산 용액을 얻었다. In N, N-dimethylacetamide (DMA C ), pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether were reacted with each other to obtain a polyamic acid solution in varnish form.

전체 입자의 입자 지름이 0.01 ㎛ 이상 1.5 ㎛ 이하로 제한되어 있고, 평균 입자 지름이 0.30 ㎛, 입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자가 전체 입자 중 87.2 체적%인 실리카의 N,N-디메틸아세트아미드 슬러리를 상기 바니쉬 형태의 폴리아미드산 용액에 수지 중량당 0.3 중량% 첨가하고, 충분히 교반, 분산시킨 후, 바니쉬 형태의 폴리아미드산 용액을 연속 제막 장치를 사용하여, 폴리이미드로 전화하는 동시에 건조 고화하고, 폴리이미드 필름으로 하여 두께 38 ㎛의 필름을 얻었다. 얻은 특성을 표 1에 나타내었다. N, N-dimethylacetamide of silica in which the particle diameter of all particles is limited to 0.01 µm or more and 1.5 µm or less, and particles having an average particle diameter of 0.30 µm and a particle diameter of 0.15 to 0.60 µm are 87.2% by volume of the total particles. After the slurry was added to the varnish-form polyamic acid solution by 0.3% by weight per resin weight, sufficiently stirred and dispersed, the varnish-form polyamic acid solution was converted to polyimide and dried and solidified using a continuous film forming apparatus. And the film of 38 micrometers in thickness was obtained as a polyimide film. The obtained characteristics are shown in Table 1.

[실시예 2 내지 7][Examples 2 to 7]

실리카의 평균 입자 지름, 실리카 첨가량, 입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자의 전체 입자 중에서 차지하는 비율을 각각 표 1과 같이 설정한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 얻은 38 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름에 대하여 각각 특성을 평가하고, 표 1에 나타내었다. About the 38-micrometer-thick polyimide film obtained by carrying out similarly to Example 1 except having set the average particle diameter of silica, the amount of silica addition, and the ratio which occupies among the whole particle | grains of the particle | grains whose particle diameter is 0.15-0.60 micrometer each as shown in Table 1. Each property was evaluated and shown in Table 1.

[실시예 8]Example 8

N,N-디메틸아세트아미드 (DMAC) 중에서, 피로메리트산 이무수물과 4,4'-디아미노디페닐에테르를 개략 반응시켜 바니쉬 형태의 폴리아미드산 용액을 얻었다. In N, N-dimethylacetamide (DMA C ), pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether were reacted with each other to obtain a polyamic acid solution in varnish form.

전체 입자의 입자 지름을 0.01 ㎛ 이상 1.5 ㎛ 이하로 제한되어 있고, 평균 입자 지름이 0.38 ㎛, 입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자가 전체 입자중 86.3 체적%인 실리카의 N,N-디메틸아세트아미드 슬러리를 상기 바니쉬 형태의 폴리아미드산 용액에 수지 중량당 0.35 중량% 첨가하고, 충분히 교반, 분산시킨 후, 바니쉬 형태의 폴리아미드산 용액을 연속 제막 장치를 사용하여, 폴리이미드로 전화하는 동시에 건조 고화하고, 폴리이미드 필름으로 하여 25 ㎛ 두께의 필름을 얻었다. 얻은 특성을 표 2에 나타내었다. N, N-dimethylacetamide of silica in which the particle diameter of all particles is limited to 0.01 μm or more and 1.5 μm or less, and particles having an average particle diameter of 0.38 μm and particle diameters of 0.15 to 0.60 μm are 86.3% by volume of all particles. The slurry was added to the varnish-form polyamic acid solution in an amount of 0.35% by weight per resin, sufficiently stirred and dispersed, and then the varnish-formed polyamic acid solution was converted to polyimide using a continuous film forming apparatus and dried and solidified. And the film of 25 micrometers thickness was obtained as a polyimide film. The obtained characteristics are shown in Table 2.

[실시예 9]Example 9

연속 제막 장치에서의 제막 속도를 실시예 8보다 2배 빠르게 하고, 12.5 ㎛ 두께의 필름을 얻은 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 얻은 폴리이미드 필름에 대하여 각각 특성을 평가하고, 표 2에 나타내었다. The film-forming speed in the continuous film forming apparatus was twice as fast as in Example 8, except that a film having a thickness of 12.5 μm was obtained, and the properties were evaluated for the polyimide films obtained in the same manner as in Example 8, and shown in Table 2, respectively.

[실시예 10]Example 10

연속 제막 장치에서의 제막 속도를 실시예 8보다 4배로 빠르게 하고, 7.5 ㎛ 두께의 필름을 얻은 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 얻은 폴리이미드 필름에 대하여 각각 특성을 평가하고, 표2에 나타내었다. The film-forming speed in the continuous film forming apparatus was increased four times faster than in Example 8, and the properties of the polyimide films obtained in the same manner as in Example 8 were evaluated, except that a film having a thickness of 7.5 µm was obtained, respectively, and shown in Table 2.

[실시예 11]Example 11

연속 제막 장치에서의 제막 속도를 실시예 8의 2분의 1의 속도로 하여 50 ㎛ 두께의 필름을 얻은 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 얻은 폴리이미드 필름에 대하여 각각 특성을 평가하고, 표 2에 나타내었다. Properties were evaluated for the polyimide films obtained in the same manner as in Example 8 except that a 50 μm-thick film was obtained at a film forming rate in the continuous film forming apparatus at a rate of 1/2 of Example 8. Indicated.

[실시예 12]Example 12

연속 제막 장치에서의 제막 속도를 실시예 8의 5분의 1의 속도로 하고, 125 ㎛ 두께의 필름을 얻은 이외에는, 실시예 8과 동일하게 하여 얻은 폴리이미드 필름에 대하여 각각 특성을 평가하고, 표2에 나타내었다. The film-forming speed in the continuous film-forming apparatus was made into the speed | rate of the fifth of Example 8, and the characteristic was evaluated about the polyimide film obtained similarly to Example 8 except having obtained the 125 micrometer-thick film, respectively, 2 is shown.

[실시예 13]Example 13

연속 제막 장치에서의 제막 속도를 실시예 8의 7분의 1의 속도로 하고, 175 ㎛ 두께의 필름을 얻은 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 얻은 폴리이미드 필름에 대하여 각각 특성을 평가하고, 표2에 나타내었다. The film-forming speed in the continuous film-forming apparatus was made into the 1/7 speed | rate of Example 8, and the characteristics were evaluated about the polyimide film obtained similarly to Example 8 except having obtained the film of 175 micrometers thickness, respectively. Shown in

[비교예 1]Comparative Example 1

실리카를 첨가하지 않는 이외에는 실시예 1과 동일하게 하고, 38 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 얻었다. 얻은 폴리이미드 필름에 대하여 특성을 평가하고, 표 3에 나타내었다. 정마찰 계수가 높고 미끄러짐성이 나쁜 필름을 얻었다. 또 접착력도 낮았다. Except not adding a silica, it carried out similarly to Example 1, and obtained the polyimide film of 38 micrometers thick. The characteristic was evaluated about the obtained polyimide film, and it is shown in Table 3. A film with high static friction coefficient and poor slipperiness was obtained. Moreover, adhesive force was also low.

[비교예 2]Comparative Example 2

입자 지름 범위가 0.1 내지 4.5 ㎛, 평균 입자 지름 1.1 ㎛, 첨가량 0.2 중량%、입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자의 전체 입자 중에서 차지하는 비율 27.3 체적%의 인산수소칼슘을 채용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 얻은 38 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름에 대하여 특성을 평가하고, 표 3에 나타내었다. AOI 검사에서는 이물과 미립자의 구별이 되지 않고, 또한 이상 돌기도 많이 발생하였다.  Except having adopted the calcium hydrogen phosphate of the ratio of 27.3 volume% of the particle | grains of the particle | grain range of 0.1-4.5 micrometers, the average particle diameter 1.1 micrometer, the addition amount 0.2weight%, and the particle diameter of the whole particle | grain of the particle | grains of 0.15-0.60 micrometer, it employ | adopted. The characteristics were evaluated about the 38-micrometer-thick polyimide film obtained by carrying out similarly to 1, and it is shown in Table 3. In the AOI test, there was no distinction between the foreign matter and the fine particles, and a lot of abnormal protrusions also occurred.

[비교예 3]Comparative Example 3

입자 지름 범위가 0.01 내지 0.3 ㎛, 평균 입자 지름이 0.08 ㎛, 첨가량 0.35 중량%、입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자의 전체 입자 중에서 차지하는 비율이 31.4 체적%인 인산수소칼슘을 채용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 얻은 38 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름에 대하여 특성을 평가하고, 표3에 나타내었다. 정마찰 계수가 높고, 미끄러짐성도 약간 나쁜 필름을 얻었다. Except for employing calcium hydrogen phosphate having a ratio of 31.4% by volume of all particles of the particles having a particle diameter range of 0.01 to 0.3 µm, an average particle diameter of 0.08 µm, an added amount of 0.35% by weight, and a particle diameter of 0.15 to 0.60 µm, The characteristics were evaluated about the 38-micrometer-thick polyimide film obtained similarly to Example 1, and it is shown in Table 3. A film with high static friction coefficient and slightly slipperiness was obtained.

[비교예 4][Comparative Example 4]

입자 지름 범위가 0.01 내지 1.5 ㎛, 평균 입자 지름이 0.4 ㎛, 첨가량이 0.35 중량%、입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자의 전체 입자 중에서 차지하는 비율이 72.6 체적%인 인산수소칼슘을 채용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 얻은 38 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름에 대하여 특성을 평가하고, 표3에 나타내었다. 이 예에서는, 0.9 내지 1.3 ㎛인 입자 지름의 점유율이 전체의 22.3 체적%을 차지하고 있었기 때문에, 이것이 원인이 되어 이상 돌기수가 많아졌다. 또한, AOI 검사에서는 이물과 미립자를 구별하기 어려운 결과가 되었다. Except for employing calcium hydrogen phosphate having a ratio of 72.6% by volume of all particles of a particle diameter ranging from 0.01 to 1.5 µm, an average particle diameter of 0.4 µm, an added amount of 0.35% by weight, and a particle diameter of 0.15 to 0.60 µm. , The characteristics were evaluated about the 38-micrometer-thick polyimide film obtained by carrying out similarly to Example 1, and it is shown in Table 3. In this example, since the share of the particle diameters of 0.9 to 1.3 µm occupied 22.3% by volume of the whole, this was the cause and the number of abnormal protrusions increased. In addition, it was difficult to distinguish between foreign matter and fine particles in the AOI test.

Figure 112009020643682-PCT00001
Figure 112009020643682-PCT00001

Figure 112009020643682-PCT00002
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Figure 112009020643682-PCT00003
Figure 112009020643682-PCT00003

표 1 내지 3의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 입자 지름이 0.01 내지 1.5 ㎛인 범위 내에 있어서, 또한 평균 입자 지름이 0.05 내지 0.7 ㎛인 무기 입자가 필름 수지 중량당 0.1 내지 0.9 중량%의 비율로, 필름 중에 균일하게 분산된 폴리이미드 필름은 뛰어난 이활성, 접착성을 가지며, 조대 입자에 의한 돌기수도 적다. As can be seen from the results of Tables 1 to 3, inorganic particles having a particle diameter in the range of 0.01 to 1.5 µm and an average particle diameter of 0.05 to 0.7 µm are present at a ratio of 0.1 to 0.9% by weight per film resin weight. The polyimide film uniformly dispersed in the film has excellent reactivity and adhesiveness, and also has a small number of protrusions due to coarse particles.

본 발명의 폴리이미드 필름은 AOI 검사에 의하여 이 입자가 이물이라고 판단 되는 것과 같은 장해도 없어서, 미세한 배선을 형성하는 플렉시블 프린트 배선 기판 (FPC)이나 칩 온 필름 (COF) 등의 용도에 적합하다. The polyimide film of this invention is suitable for the use, such as a flexible printed wiring board (FPC), a chip-on film (COF), which forms a fine wiring, without the obstacle | interruption like this particle judged as a foreign material by AOI inspection.

Claims (7)

입자 지름이 0.01 내지 1.5 ㎛의 범위 내에 있고, 평균 입자 지름이 0.05 내지 0.7 ㎛이며, 또한 입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자가 전체 입자 중에서 80 체적% 이상의 비율을 차지하는 입도 분포를 가진 무기 입자가 필름 수지 중량당 0.1 내지 0.9 중량%의 비율로 필름 중에 분산되어 있는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.Inorganic particles having a particle size distribution in which the particle diameter is in the range of 0.01 to 1.5 μm, the average particle diameter is 0.05 to 0.7 μm, and the particle diameter is 0.15 to 0.60 μm occupy a ratio of 80% by volume or more of the total particles. A polyimide film, which is dispersed in a film at a ratio of 0.1 to 0.9% by weight per film resin weight. 제1항에 있어서, 무기 입자는 필름 수지 중량당 0.3 내지 0.8 중량%의 비율로 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.The polyimide film of claim 1, wherein the inorganic particles are contained at a ratio of 0.3 to 0.8 wt% per weight of the film resin. 제1항 또는 제2항에 있어서, 무기 입자의 평균 입자 지름은 0.1 내지 0.6 ㎛인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.The polyimide film according to claim 1 or 2, wherein the average particle diameter of the inorganic particles is 0.1 to 0.6 mu m. 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 무기 입자의 평균 입자 지름은 0.3 내지 0.5 ㎛인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.The polyimide film according to any one of claims 1 to 3, wherein the average particle diameter of the inorganic particles is 0.3 to 0.5 µm. 제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 무기 입자에 기인하는 돌기가 필름 표면에 존재하고, 그 돌기의 높이가 2 ㎛ 이상인 것의 수는 5 개/40 cm 각 이하인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.The projections attributable to the inorganic particles are present on the surface of the film, and the number of the projections having a height of 2 µm or more is 5 pieces / 40 cm or less. Polyimide film. 제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서, 필름 두께는 5 내지 175 ㎛인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.The polyimide film of claim 1, wherein the film thickness is 5 to 175 μm. 테트라카르본산 이무수물과 디아민을 극성 유기 용매 중에서 반응시켜서 폴리아미드산을 제조하고, 이것을 이미드화한 후, 필름으로 성형함에 있어서, 입자 지름이 0.01 내지 1.5 ㎛의 범위 내에 있고, 또한 평균 입자 지름이 0.05 내지 0.7 ㎛이며, 또한 입자 지름이 0.15 내지 0.60 ㎛인 입자가 전체 입자 중에서 80 체적% 이상의 비율을 차지하는 입도 분포를 가진 무기 입자를 상기 극성 유기 용매와 동일한 극성 유기 용매에 분산시킨 슬러리를, 폴리이미드 제조 공정 중의 폴리아미드산 용액에, 수지 중량당 0.1 내지 0.9 중량%의 비율로 첨가하는 것을 특징으로 하는 제1항 기재의 폴리이미드 필름의 제조 방법.Tetracarboxylic dianhydride and diamine are reacted in a polar organic solvent to produce a polyamic acid, and after imidizing this, in forming into a film, the particle diameter is in the range of 0.01 to 1.5 mu m and the average particle diameter is Slurry obtained by dispersing an inorganic particle having a particle size distribution of 0.05 to 0.7 µm and particles having a particle diameter of 0.15 to 0.60 µm accounting for 80% by volume or more of the total particles in the same polar organic solvent as the polar organic solvent A method for producing a polyimide film according to claim 1, which is added to the polyamic acid solution in the mead production step at a ratio of 0.1 to 0.9% by weight per resin weight.
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