JP2009214424A - Multilayer aromatic polyimide film - Google Patents

Multilayer aromatic polyimide film Download PDF

Info

Publication number
JP2009214424A
JP2009214424A JP2008060708A JP2008060708A JP2009214424A JP 2009214424 A JP2009214424 A JP 2009214424A JP 2008060708 A JP2008060708 A JP 2008060708A JP 2008060708 A JP2008060708 A JP 2008060708A JP 2009214424 A JP2009214424 A JP 2009214424A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
polyimide film
outermost layer
aromatic polyimide
multilayer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008060708A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masabumi Yasuda
巨文 安田
Hironori Ishikawa
裕規 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Du Pont Toray Co Ltd
Original Assignee
Du Pont Toray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Du Pont Toray Co Ltd filed Critical Du Pont Toray Co Ltd
Priority to JP2008060708A priority Critical patent/JP2009214424A/en
Publication of JP2009214424A publication Critical patent/JP2009214424A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer aromatic polyimide film realizing running properties at film making and machining, machining properties such as perforation by laser or the like and cost reduction by reducing the additional amount of filler. <P>SOLUTION: This multilayer aromatic polyimide film is a laminate consisting of at least three layers of aromatic polyimide film, and the outermost layer includes the filler or a polyimide film. The manufacturing method of the multilayer aromatic polyimide film comprises the steps of making polyamide acid by reacting tetracarbonic acid dianhydride and diamine in a polar organic solvent, imidizing the product obtained, then adding, to a polyamide acid solution, a slurry obtained by dispersing inorganic particles with a particle diameter within a range of 0.07-2.0 μm and an average particle diameter of ≤1.0 μm in the polar organic solvent same as the above polar organic solvent for forming a film, and laminating a polyimide film thus obtained as the outermost layer of a laminated film having three or more layers. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、走行性に優れ且加工性に優れた多層芳香族ポリイミドフィルムに関し、さらに詳しくは製膜時及び加工時の走行性、レーザーによる穴あけ等の加工性、フィラーの添加量減少による低コスト化を実現した多層芳香族ポリイミドフィルムに関する。   The present invention relates to a multilayer aromatic polyimide film having excellent runnability and excellent processability, and more specifically, runnability during film formation and processing, workability such as drilling by laser, and low cost due to a decrease in the amount of filler added. The present invention relates to a multilayer aromatic polyimide film that has been realized.

ポリイミドフィルムは、耐熱性、耐寒性、耐薬品性、電気絶縁性および機械強度などにおいて優れた特性を有することが知られており、電線の電気絶縁材料、断熱材、フレキシブルプリント配線基板(FPC)のベースフィルム、ICのテープオートメイティッドボンディング(TAB)用のキャリアテープフィルム、およびICのリードフレーム固定用テープなどに広く利用されている。これらのうち、特にFPC、TAB用キャリアテープおよびリード固定用テープなどの用途においては通常、種々の接着剤を介してポリイミドフィルムと銅箔とが接着されて用いられている。また、レーザーによるスルーホールを作成する際の加工性も重要である。   Polyimide films are known to have excellent properties in heat resistance, cold resistance, chemical resistance, electrical insulation, mechanical strength, etc., and electrical insulation materials for wires, heat insulating materials, flexible printed wiring boards (FPC) It is widely used as a base film of IC, a carrier tape film for IC tape automated bonding (TAB), a tape for fixing IC lead frames, and the like. Of these, polyimide films and copper foils are usually bonded to each other through various adhesives, particularly in applications such as FPC, TAB carrier tape and lead fixing tape. In addition, workability when creating a through hole with a laser is also important.

ポリイミドがこれらの用途に用いられる際重要な実用特性はフィルムの滑り性(易滑性)である。様々なフィルム加工工程において、フィルム支持体(たとえばロール)とフィルムとの易滑性、またフィルム同志の易滑性が確保されることにより、各工程における操作性、取り扱い性を向上させ、更にはフィルム上にシワ等の不良個所の発生が回避できる。また一方、ポリイミドの主用途であるフレキシブルプリント配線板用途においては、通常、種々の接着剤を介して銅箔と接着されているが、ポリイミドは、その化学構造及び耐薬品(溶剤)安定性により銅箔との接着性が不十分な場合が多く、現状ではポリイミドに表面処理(アルカリ処理、コロナ処理、プラズマ処理、サンドブラスト処理等)を施し、接着されている。また最近の電子部品のファインピッチ化において特にFPCの検査において従来は目視による線幅、異物等の検査が主流であったが自動光学検査システム(AOI)が導入されるようになってからは、無機粉体を混入する従来処方で製造された耐熱性フィルムでは、走行性に関して十分満足した物が得られていたがAOIにおいては、無機粉体が大きすぎて最近のFPC等の狭ピッチ化に伴い該粒子が異物と判断され自動査検査システムの大きな障害になっている。   An important practical property when polyimide is used in these applications is the slipperiness (slidability) of the film. In various film processing steps, the slidability between the film support (for example, roll) and the film and the slidability between the films are ensured, thereby improving the operability and handling in each step, Generation of defects such as wrinkles on the film can be avoided. On the other hand, in the flexible printed wiring board application, which is the main use of polyimide, it is usually bonded to copper foil via various adhesives, but polyimide has a chemical structure and chemical resistance (solvent) stability. In many cases, the adhesiveness to the copper foil is insufficient, and at present, the polyimide is subjected to surface treatment (alkali treatment, corona treatment, plasma treatment, sandblast treatment, etc.) and bonded. Also, in recent finer pitches of electronic parts, especially in the inspection of FPC, the inspection of visual line width, foreign matter, etc. has been the mainstream, but since the introduction of the automatic optical inspection system (AOI), A heat-resistant film manufactured with a conventional formulation in which inorganic powder is mixed has been sufficiently satisfactory in terms of running performance. However, in AOI, inorganic powder is too large to reduce the pitch of recent FPCs. As a result, the particles are judged to be a foreign substance, which is a major obstacle to the automatic inspection system.

従来のポリイミドフィルムにおける易滑化技術では、不活性無機化合物(例えばアルカリ土類金属のオルトリン酸塩、第2リン酸カルシウム無水物、ピロリン酸カルシウム、シリカ、タルク)をポリアミック酸に添加する方法(特許文献1参照)、更には微細粒子によってフィルム表面に微細な突起を形成後、プラズマ処理を施す方法(特許文献2参照)が知られている。しかしこれらに示される粒子は粒子径が大きく、自動光学検査システムには適応しないという問題がある。またポリイミド表層に平均粒子径が0.01〜100μmである無機質粒子が各粒子の一部をそれぞれ埋設させて保持されていて、一部露出した前記無機質粒子からなる多数の突起が該フィルムの表面層に1×10〜5×10個/mm2存在させる方法(特許文献3参照)が知られている。この方法は、積極的に表面に無機粒子を露出させ、フィルム表面の摩擦係数を低減させることにより、易滑性効果を効果的に得る物であるが無機質粒子が一部露出しているため接面する他のフィルム表面にすり傷が発生し外観不良をきたすといった問題を抱えている。 In the conventional smoothing technology for polyimide films, an inert inorganic compound (for example, alkaline earth metal orthophosphate, dibasic calcium phosphate anhydride, calcium pyrophosphate, silica, talc) is added to polyamic acid (Patent Document 1). Further, a method of performing plasma treatment after forming fine protrusions on the film surface with fine particles (see Patent Document 2) is known. However, there is a problem that the particles shown in these figures have a large particle size and cannot be applied to an automatic optical inspection system. In addition, inorganic particles having an average particle size of 0.01 to 100 μm are held on the polyimide surface layer by embedding a part of each particle, and a plurality of protrusions made of the exposed inorganic particles are formed on the surface of the film. A method (see Patent Document 3) in which 1 × 10 to 5 × 10 8 pieces / mm 2 exists in a layer is known. This method is an object that effectively obtains a slipperiness effect by actively exposing inorganic particles on the surface and reducing the coefficient of friction on the film surface. However, since some of the inorganic particles are exposed, this method is effective. There is a problem that scratches are generated on the other film surface facing and the appearance is deteriorated.

また、レーザーによるスルーホールを作成する際、フィラーに起因する穴開け不良の問題も同時に抱えており、更には高価なフィラーは高コストになるため実用性に欠けると言う問題を有していた。
特開昭62−68852号公報 特開2000−191810号公報 特開平5−25295号公報
Further, when creating a through-hole by a laser, there is a problem of poor drilling due to the filler, and furthermore, an expensive filler has a problem that it is not practical because it is expensive.
JP-A-62-68852 JP 2000-191810 A Japanese Patent Laid-Open No. 5-25295

本発明は、これらの市場要求に対して鋭意研究の結果、走行性(易滑性)、接着性、スルーホール作成時の加工性、及び自動光学検査システム(AOI)を同時に工業的に満足させること、更には高価なフィラーを最外層にのみ添加しフィラー使用量を削減し同時に低コスト化を実現することにある。   As a result of diligent research on these market requirements, the present invention simultaneously satisfies the industrial requirements for running performance (slidability), adhesion, workability when creating a through hole, and automatic optical inspection system (AOI). In addition, an expensive filler is added only to the outermost layer to reduce the amount of filler used, and at the same time to reduce the cost.

上記の目標を達成するために、本発明の多層芳香族ポリイミドフィルムは、
(1)芳香族ポリイミドフィルムを3層以上積層した多層芳香族ポリイミドフィルムであり、最外層がフィラーを含有していることを特徴とする多層芳香族ポリイミドフィルムであって、最外層に含有されるフィラーが無機粒子であり、その粒子径が0.07 〜 2.0μ m で且つ平均粒子径が1.0μm以下であり、最外層の表面には該無機粒子による微細な突起が形成されていることを特徴とし、
(2)最外層に含まれるフィラー量が0.1〜0.9重量%であること、
(3)最外層厚みが1〜50μmで、多層フィルム全体の厚みが5〜175μmであることが好ましい。
In order to achieve the above goal, the multilayer aromatic polyimide film of the present invention is:
(1) A multilayer aromatic polyimide film in which three or more aromatic polyimide films are laminated, and the outermost layer contains a filler, and is a multilayer aromatic polyimide film characterized in that it is contained in the outermost layer. The filler is inorganic particles, the particle diameter is 0.07 to 2.0 μm and the average particle diameter is 1.0 μm or less, and fine protrusions are formed on the surface of the outermost layer by the inorganic particles. It is characterized by
(2) The amount of filler contained in the outermost layer is 0.1 to 0.9% by weight,
(3) It is preferable that the outermost layer thickness is 1 to 50 μm and the thickness of the entire multilayer film is 5 to 175 μm.

また本発明の多層芳香族ポリイミドフィルムの製造方法は
(1)テトラカルボン酸二無水物とジアミンを極性有機溶媒中で反応させてポリアミド酸を製造し、これをイミド化した後、フィルムに成形するに際し、粒子径が0.07〜2.0μmの範囲内にあり、かつ平均粒子径が1.0μm以下である無機粒子を上記極性有機溶媒と同じ極性有機溶媒に分散させたスラリーをポリアミド酸溶液に添加し、得られたポリイミドフィルムを3層以上の積層フィルムの最外層として積層することを特徴とする。
The method for producing a multilayer aromatic polyimide film of the present invention is as follows. (1) A polycarboxylic acid is produced by reacting tetracarboxylic dianhydride and diamine in a polar organic solvent. In this case, a slurry in which inorganic particles having a particle diameter in the range of 0.07 to 2.0 μm and an average particle diameter of 1.0 μm or less are dispersed in the same polar organic solvent as the polar organic solvent is used as a polyamic acid solution. And the obtained polyimide film is laminated as the outermost layer of a laminated film of three or more layers.

本発明のポリイミドフィルムは、フィラーを最外層のみに添加することによって、フィラーの含有量がフィルム全体で減少し、走行性を損なうことなく、スルーホールの加工性、高価な無機粒子を使用した際のコストが低下すること、接着性が向上することから、微細な配線を形成するフレキシブルプリント配線基板(FPC)やチップオンフィルム(COF)などの用途に好適である。   When the polyimide film of the present invention uses fillers only in the outermost layer, the filler content is reduced throughout the film, and the processability of through holes and expensive inorganic particles are used without sacrificing running performance. Therefore, it is suitable for uses such as a flexible printed wiring board (FPC) and a chip on film (COF) for forming fine wiring.

以下本発明について詳細に説明する。   The present invention will be described in detail below.

本発明のポリイミドフィルムを得るに際しての前駆体であるポリアミド酸について説明する。   The polyamic acid that is a precursor for obtaining the polyimide film of the present invention will be described.

本発明においては、例えば芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と芳香族ジアミン成分または、この両者を主成分とする化学物資を有機溶媒中で付加重合させることによってワニス状ポリアミック酸を得る。   In the present invention, for example, an aromatic tetracarboxylic dianhydride component and an aromatic diamine component, or chemical substances mainly composed of these components are addition-polymerized in an organic solvent to obtain a varnish-like polyamic acid.

上記芳香族ジアミン成分の具体例としては、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンチジン、パラキシリレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、3,3’−ジメトキシベンチジン、1,4−ビス(3−メチル−5アミノフェニル)ベンゼンおよびこれらのアミド形成性誘導体が挙げられる。この中でフィルムの引っ張り弾性率を高くする効果のあるパラフェニレンジアミン、ベンジジン、3,4’−ジアミノジフェニルエーテルなどのジアミンの量を調整し、最終的に得られるポリイミドフィルムの引っ張り弾性率が4.0GPa以上にすることが、ファインピッチ基板用として好ましい。   Specific examples of the aromatic diamine component include paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, benzidine, paraxylylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3′-dimethoxybenzidine, 1,4-bis (3-methyl- 5-aminophenyl) benzene and their amide-forming derivatives. Among them, the amount of diamine such as paraphenylenediamine, benzidine, 3,4'-diaminodiphenyl ether, which has an effect of increasing the tensile modulus of the film, is adjusted, and the finally obtained polyimide film has a tensile modulus of 4. It is preferable for the fine pitch substrate to be 0 GPa or more.

上記芳香族テトラカルボン酸二無水物成分の具体例としては、ピロメリット酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸およびこれらのアミド形成性誘導体などの酸無水物が挙げられる。   Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride component include pyromellitic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3 ′, 3,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, 2,3,6,7-naphthalenedicarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether, pyridine-2,3,5 , 6-tetracarboxylic acid and acid anhydrides such as amide-forming derivatives thereof.

使用される有機溶媒の具体例としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−,m−,またはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどの非プロトン性極性溶媒を挙げることができ、これらを単独又は混合物として用いるのが望ましいが、さらにはキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の使用も可能である。   Specific examples of the organic solvent used include, for example, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, Acetamide solvents such as N, N-diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m-, or p-cresol, xylenol, halogenated Examples thereof include phenolic solvents such as phenol and catechol, or aprotic polar solvents such as hexamethylphosphoramide and γ-butyrolactone, and these are preferably used alone or as a mixture. Aromatic charcoal like The use of hydrogen is also possible.

重合方法は公知のいずれの方法で行ってもよく、例えば
(1)先に芳香族ジアミン成分全量を溶媒中に入れ、その後芳香族テトラカルボン酸類成分を芳香族ジアミン成分全量と当量になるよう加えて重合する方法。
(2)先に芳香族テトラカルボン酸類成分全量を溶媒中に入れ、その後芳香族ジアミン成分を芳香族テトラカルボン酸類成分と等量になるよう加えて重合する方法。
(3)一方の芳香族ジアミン化合物を溶媒中に入れた後、反応成分に対して芳香族テトラカルボン酸類化合物が95〜105モル%となる比率で反応に必要な時間混合した後、もう一方の芳香族ジアミン化合物を添加し、続いて芳香族テトラカルボン酸類化合物を全芳香族ジアミン成分と全芳香族テトラカルボン酸類成分とがほぼ等量になるよう添加して重合する方法。
(4)芳香族テトラカルボン酸類化合物を溶媒中に入れた後、反応成分に対して一方の芳香族ジアミン化合物が95〜105モル%となる比率で反応に必要な時間混合した後、芳香族テトラカルボン酸類化合物を添加し、続いてもう一方の芳香族ジアミン化合物を全芳香族ジアミン成分と全芳香族テトラカルボン酸類成分とがほぼ等量になるよう添加して重合する方法。
(5)溶媒中で一方の芳香族ジアミン成分と芳香族テトラカルボン酸類をどちらかが過剰になるよう反応させてポリアミド酸溶液(A)を調整し、別の溶媒中でもう一方の芳香族ジアミン成分と芳香族テトラカルボン酸類をどちらかが過剰になるよう反応させポリアミド酸溶液(B)を調整する。こうして得られた各ポリアミド酸溶液(A)と(B)を混合し、重合を完結する方法。この時ポリアミド酸溶液(A)を調整するに際し芳香族ジアミン成分が過剰の場合、ポリアミド酸溶液(B)では芳香族テトラカルボン酸成分を過剰に、またポリアミド酸溶液(A)で芳香族テトラカルボン酸成分が過剰の場合、ポリアミド酸溶液(B)では芳香族ジアミン成分を過剰にし、ポリアミド酸溶液(A)と(B)を混ぜ合わせこれら反応に使用される全芳香族ジアミン成分と全芳香族テトラカルボン酸類成分とがほぼ等量になるよう調整する。
The polymerization method may be carried out by any known method. For example, (1) the aromatic diamine component is first added to the solvent, and then the aromatic tetracarboxylic acid component is added in an amount equivalent to the total amount of the aromatic diamine component. To polymerize.
(2) A method in which the total amount of the aromatic tetracarboxylic acid component is first put in a solvent, and then the aromatic diamine component is added in an amount equivalent to that of the aromatic tetracarboxylic acid component for polymerization.
(3) After one aromatic diamine compound is put in a solvent, the aromatic tetracarboxylic acid compound is mixed at a ratio of 95 to 105 mol% with respect to the reaction components, and then mixed for the other time. A method in which an aromatic diamine compound is added, and then an aromatic tetracarboxylic acid compound is added and polymerized so that the total aromatic diamine component and the total aromatic tetracarboxylic acid component are approximately equal.
(4) After putting the aromatic tetracarboxylic acid compound in the solvent, the aromatic tetracarboxylic acid compound is mixed for a time required for the reaction at a ratio of 95 to 105 mol% of one aromatic diamine compound with respect to the reaction component, and then the aromatic tetracarboxylic acid compound is mixed. A method in which a carboxylic acid compound is added, and then the other aromatic diamine compound is added and polymerized so that the total aromatic diamine component and the total aromatic tetracarboxylic acid component are approximately equal.
(5) A polyamic acid solution (A) is prepared by reacting one aromatic diamine component and an aromatic tetracarboxylic acid in a solvent so that either one becomes excessive, and the other aromatic diamine in another solvent. The polyamic acid solution (B) is prepared by reacting the component and the aromatic tetracarboxylic acid so that either one becomes excessive. A method of mixing the polyamic acid solutions (A) and (B) thus obtained to complete the polymerization. At this time, when adjusting the polyamic acid solution (A), if the aromatic diamine component is excessive, the polyamic acid solution (B) contains excessive aromatic tetracarboxylic acid component, and the polyamic acid solution (A) contains aromatic tetracarboxylic acid. When the acid component is excessive, the polyamic acid solution (B) makes the aromatic diamine component excessive, and the polyamic acid solutions (A) and (B) are combined to form the wholly aromatic diamine component and wholly aromatic compound used in these reactions. Adjustment is made so that the amount of the tetracarboxylic acid component is approximately equal.

なお、重合方法はこれらに限定されることはなく、その他公知の方法を用いてもよい。   The polymerization method is not limited to these, and other known methods may be used.

こうして得られるポリアミック酸溶液は、固形分を5〜40重量%、好ましくは10〜30重量%を含有しており、またその粘度はブルックフィールド粘度計による測定値で10〜2000Pa・s、好ましくは、100〜1000Pa・sのものが、安定した送液のために好ましく使用される。また、有機溶媒溶液中のポリアミック酸は部分的にイミド化されていてもよい。   The polyamic acid solution thus obtained contains a solid content of 5 to 40% by weight, preferably 10 to 30% by weight, and its viscosity is 10 to 2000 Pa · s as measured by a Brookfield viscometer, preferably 100-1000 Pa · s is preferably used for stable liquid feeding. Moreover, the polyamic acid in the organic solvent solution may be partially imidized.

本発明のフィルム表面上に突起を形成させるために添加される粒子は、前記のポリイミドフィルム製造工程で接触する全ての化学物質に対して不溶である必要がある。本発明において使用可能なフィラーとしては、無機粒子、有機粒子が挙げられるが中でも無機粒子が好ましい。無機粒子としては、SiO(シリカ)、TiO、CaHPO、Ca7、等を好適に挙げることができる。中でもゾル・ゲル法で湿式粉砕法で製造したシリカが、ワニス状ポリアミド酸溶液中で安定し、かつ物理的に安定し、ポリイミドの諸物性に影響を与えないので好ましい。 The particles added to form protrusions on the film surface of the present invention must be insoluble in all chemical substances that come into contact in the polyimide film manufacturing process. Examples of the filler that can be used in the present invention include inorganic particles and organic particles, among which inorganic particles are preferable. As inorganic particles, SiO 2 (silica), TiO 2 , CaHPO 4 , Ca 2 P 2 O 7, and the like can be suitably exemplified. Among these, silica produced by a wet pulverization method using a sol-gel method is preferable because it is stable in a varnish-like polyamic acid solution, physically stable, and does not affect various physical properties of the polyimide.

さらに、微細シリカ粉は、N,N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、nーメチルピロリドン等の極性溶媒に均一に極性溶媒に分散させたシリカスラリーとして使用することで凝集を防止するため好ましい。このスラリーは、粒子径が非常に小さいため沈降速度が遅く安定している。また、たとえ沈降しても再攪拌する事で容易に再分散可能である。   Furthermore, the fine silica powder is agglomerated by using it as a silica slurry uniformly dispersed in a polar solvent such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, and n-methylpyrrolidone. It is preferable to prevent this. Since this slurry has a very small particle size, the sedimentation rate is slow and stable. Even if it settles, it can be easily redispersed by re-stirring.

本発明においては、無機粒子の粒子径が0.07〜2.0μmの範囲内にあること、かつ平均粒子径が1.0μm以下であり、そうすることによりポリイミドフィルムの自動光学検査システムでの検査が問題なく適応できる。またフィルムの機械物性等の低下を発生させずに使用可能である。逆にこれらの範囲より平均粒子径が下回るとフィルムへの充分な易滑性が得られなく、上回ると自動検査システムで該粒子が異物と判断され障害を来すので好ましくない。また本発明における最外層の厚みは通常のフィルムの厚さは5〜50μmであるため、この粒子径範囲での粒子が表面に露出することはない。また、最外層のみに無機粒子を添加する為、スルーホール作成の加工性が低下することも無い。   In the present invention, the particle size of the inorganic particles is in the range of 0.07 to 2.0 μm, and the average particle size is 1.0 μm or less, so that in the automatic optical inspection system of polyimide film Inspection can be applied without problems. Further, it can be used without causing deterioration of the mechanical properties of the film. On the other hand, if the average particle size is below these ranges, sufficient slipperiness to the film cannot be obtained, and if it exceeds, the particles are judged to be foreign matter by an automatic inspection system, which is not preferable. Moreover, since the thickness of the outermost layer in this invention is 5-50 micrometers in the normal film thickness, the particle | grains in this particle diameter range are not exposed to the surface. In addition, since inorganic particles are added only to the outermost layer, the workability for creating through holes does not deteriorate.

無機粒子はフィルム樹脂重量当たり0.1〜0.9重量%が好ましく、0.3〜0.7重量%の割合で含まれていることがより好ましい。0.1重量%以下であるとフィルム表面の突起数も不足することによってフィルムへの充分な易滑性が得られず、搬送性が悪化し、ロールに巻いた時のフィルム巻姿も悪化するので好ましくない。また0.9重量%以上であるとフィルムの易滑性は良化するものの、粒子の異常凝集による粗大突起が増加し、これが結果的に自動検査システムで異物と判断され障害を来すので好ましくない。   The inorganic particles are preferably 0.1 to 0.9% by weight per film resin weight, and more preferably 0.3 to 0.7% by weight. If the amount is 0.1% by weight or less, the film surface is insufficient in number of protrusions, so that sufficient slipperiness to the film cannot be obtained, the transportability is deteriorated, and the film winding shape when wound on a roll is also deteriorated. Therefore, it is not preferable. Further, if it is 0.9% by weight or more, the slipperiness of the film is improved, but coarse protrusions due to abnormal aggregation of particles increase, and this is judged to be a foreign matter by an automatic inspection system, which causes failure. Absent.

無機粒子による表面突起により、フィルム表面積も拡大し、十分に粗面化されアンカー効果が見られ接着性も損なうこともなくなる。   The surface protrusions of the inorganic particles also increase the film surface area, and the surface is sufficiently roughened so that the anchor effect is observed and the adhesiveness is not impaired.

無機粒子の粒度分布においては狭い分布であること、つまり類似の大きさの粒子が全粒子に占める割合が高い方が良い。   It is better that the inorganic particles have a narrow particle size distribution, that is, the proportion of particles having similar sizes in all the particles is high.

次に、本発明のポリイミドフィルムの製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the polyimide film of this invention is demonstrated.

ポリイミドフィルムを製膜する方法としては、ポリアミック酸溶液をフィルム状にキャストし熱的に脱環化脱溶媒させてポリイミドフィルムを得る方法、およびポリアミック酸溶液に環化触媒及び脱水剤を混合し化学的に脱環化させてゲルフィルムを作成しこれを加熱脱溶媒することによりポリイミドフィルムを得る方法が挙げられるが、後者の方が得られるポリイミドフィルムの熱膨張係数を低く抑えることができるので好ましい。   As a method for forming a polyimide film, a polyamic acid solution is cast into a film and thermally decyclized and desolvated to obtain a polyimide film, and a polyamic acid solution is mixed with a cyclization catalyst and a dehydrating agent. The method of obtaining a polyimide film by preparing a gel film by decyclizing it and heating it to remove the solvent is preferable, but the latter is preferable because the thermal expansion coefficient of the obtained polyimide film can be kept low. .

化学的に脱環化させる方法においては、まず上記ポリアミック酸溶液を調製する。   In the method of chemically decyclizing, first, the polyamic acid solution is prepared.

上記ポリアミック酸溶液は、環化触媒(イミド化触媒)、脱水剤およびゲル化遅延剤などを含有することができる。   The polyamic acid solution can contain a cyclization catalyst (imidization catalyst), a dehydrating agent, a gelation retarder, and the like.

本発明で使用される環化触媒の具体例としては、トリメチルアミン、トリエチレンジアミンなどの脂肪族第3級アミン、ジメチルアニリンなどの芳香族第3級アミン、およびイソキノリン、ピリジン、β−ピコリンなどの複素環第3級アミンなどが挙げられるが、複素環式第3級アミンから選ばれる少なくとも一種類のアミンを使用するのが好ましい。   Specific examples of the cyclization catalyst used in the present invention include aliphatic tertiary amines such as trimethylamine and triethylenediamine, aromatic tertiary amines such as dimethylaniline, and complex such as isoquinoline, pyridine and β-picoline. Although a ring tertiary amine etc. are mentioned, it is preferable to use at least 1 sort (s) of amine chosen from a heterocyclic tertiary amine.

本発明で使用される脱水剤の具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸などの脂肪族カルボン酸無水物、および無水安息香酸などの芳香族カルボン酸無水物などが挙げられるが、無水酢酸および/または無水安息香酸が好ましい。   Specific examples of the dehydrating agent used in the present invention include aliphatic carboxylic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and butyric anhydride, and aromatic carboxylic acid anhydrides such as benzoic anhydride, Acetic anhydride and / or benzoic anhydride are preferred.

ポリアミック酸溶液からポリイミドフィルムを製造する方法としては、環化触媒および脱水剤を含有せしめたポリアミック酸溶液をスリット付き多層口金から支持体上に流延してフィルム状に成形し、支持体上でイミド化を一部進行させて自己支持性を有するゲルフィルムとした後、支持体より剥離し、加熱乾燥/イミド化し、熱処理を行う。   As a method for producing a polyimide film from a polyamic acid solution, a polyamic acid solution containing a cyclization catalyst and a dehydrating agent is cast on a support from a multilayer die with a slit and formed into a film shape. After a part of imidization proceeds to obtain a gel film having a self-supporting property, the gel film is peeled off from the support, heat-dried / imidized, and subjected to heat treatment.

上記ポリアミック酸溶液は、スリット状多層口金を通ってフィルム状に成型され、加熱された支持体上に流延され、支持体上で熱閉環反応をし、自己支持性を有するゲルフィルムとなって支持体から剥離される。   The polyamic acid solution is formed into a film through a slit-shaped multi-layer die, cast on a heated support, undergoes a thermal ring-closing reaction on the support, and becomes a self-supporting gel film. It is peeled from the support.

上記支持体とは、金属製の回転ドラムやエンドレスベルトであり、その温度は液体または気体の熱媒、および/または電気ヒーターなどの輻射熱により制御される。   The support is a metal rotating drum or an endless belt, and its temperature is controlled by radiant heat from a liquid or gaseous heat medium and / or an electric heater.

上記ゲルフィルムは、支持体からの受熱および/または熱風や電気ヒータ−などの熱源からの受熱により30〜200℃、好ましくは40〜150℃に加熱されて閉環反応し、遊離した有機溶媒などの揮発分を乾燥させることにより自己支持性を有するようになり、支持体から剥離される。   The gel film is heated to 30 to 200 ° C., preferably 40 to 150 ° C. by receiving heat from the support and / or heat from a heat source such as hot air or an electric heater. By drying the volatile matter, it becomes self-supporting and is peeled off from the support.

上記支持体から剥離されたゲルフィルムは、通常回転ロールにより走行速度を規制しながら走行方向に延伸される。延伸は、140℃以下の温度で1.05〜1.9倍、好ましくは1.1〜1.6倍、さらに好ましくは1.1〜1.5倍の倍率で実施される。走行方向に延伸されたゲルフィルムは、テンター装置に導入され、テンタークリップに幅方向両端部を把持されて、テンタークリップと共に走行しながら、幅方法へ延伸される。上記の乾燥ゾーンで乾燥したフィルムは、熱風、赤外ヒーターなどで15秒から10分加熱される。次いで、熱風および/または電気ヒーターなどにより、250〜500の温度で15秒から20分熱処理を行う。走行方向への延伸倍率と幅方向への延伸倍率を調整しながら得られるポリイミドフィルムのフィルム厚みを5〜175μmに調整するのが好ましい。この範囲より厚くても薄くなっても、製膜性は著しく低下するので好ましくない。   The gel film peeled off from the support is usually stretched in the running direction while regulating the running speed with a rotating roll. Stretching is performed at a temperature of 140 ° C. or less at a magnification of 1.05 to 1.9 times, preferably 1.1 to 1.6 times, and more preferably 1.1 to 1.5 times. The gel film stretched in the running direction is introduced into the tenter device, and both ends in the width direction are held by the tenter clip, and stretched in the width method while running with the tenter clip. The film dried in the drying zone is heated for 15 seconds to 10 minutes with hot air, an infrared heater or the like. Next, heat treatment is performed for 15 seconds to 20 minutes at a temperature of 250 to 500 using hot air and / or an electric heater. It is preferable to adjust the film thickness of the polyimide film obtained to 5 to 175 μm while adjusting the draw ratio in the running direction and the draw ratio in the width direction. Even if it is thicker or thinner than this range, the film forming property is remarkably lowered, which is not preferable.

フィラー、好ましくは無機粒子を含有させる方法としては、ポリイミドの製造に使用される有機溶媒と同じ極性溶媒にフィラーを分散させたスラリーをポリイミド製造工程中のポリアミド酸溶液に添加した後、脱環化脱溶媒させて無機粒子入りポリイミドフィルムを得ることができる。   As a method of containing a filler, preferably inorganic particles, a slurry in which a filler is dispersed in the same polar solvent as the organic solvent used in the production of polyimide is added to the polyamic acid solution in the polyimide production process, followed by decyclization. A polyimide film containing inorganic particles can be obtained by removing the solvent.

無機粒子入り芳香族ポリイミドフィルムを最外層に積層させて多層芳香族ポリイミドフィルムを製造する方法としては、多層口金を使用して支持体に流延する方法、フィルム上にさらにポリアミック酸を塗布する方法などが知られている。   As a method for producing a multilayer aromatic polyimide film by laminating an aromatic polyimide film containing inorganic particles on the outermost layer, a method of casting on a support using a multilayer die, a method of further applying a polyamic acid on the film Etc. are known.

本発明において、「最外層」とは積層フィルムの最も外側に存在する層を言う。本発明では3層以上であるから、3段に層を重ねた場合、1段目と3段目がいずれも最外層である。したがって、3層以上の積層フィルムの最外層は2層存在する。   In the present invention, the “outermost layer” refers to a layer present on the outermost side of the laminated film. In the present invention, since there are three or more layers, when the layers are stacked in three steps, the first step and the third step are both outermost layers. Accordingly, there are two outermost layers of a laminated film of three or more layers.

(1)フィルム厚
Mitutoyo製ライトマチック(Series318 )を使用して測定した。
(1) Film thickness It measured using the lightmatic (Series318) made from Mitutoyo.

(2)摩擦係数(静摩擦係数)
フィルムの処理面同士を重ね合わせ、JIS K−7125(1999)に基づき測定した。すなわち、スベリ係数測定装置Slip Tester(株式会社テクノニーズ製)を使用し、フィルム処理面同士を重ね合わせて、その上に200gのおもりを載せ、フィルムの一方を固定、もう一方を100mm/分で引っ張り、摩擦係数を測定した。
(2) Friction coefficient (Static friction coefficient)
The processed surfaces of the films were overlapped and measured according to JIS K-7125 (1999). That is, using a slip coefficient measuring apparatus Slip Tester (manufactured by Technonez Co., Ltd.), the film processing surfaces are overlapped with each other, a 200 g weight is placed thereon, one of the films is fixed, and the other is 100 mm / min Tensile and friction coefficients were measured.

(3)自動光学検査(AOI)
日本オルボテック(株)製のSK−75を使用してベースフィルムを検査した。異物と微粒子の区別の付く場合を「○」評価、一方異物と微粒子の大きさが類似していて、両者の区別が付かない場合を「×」とした。
(3) Automatic optical inspection (AOI)
The base film was inspected using SK-75 manufactured by Nippon Orbotech Co., Ltd. A case where a foreign substance and a fine particle could be distinguished was evaluated as “◯”, while a case where the foreign substance and the fine particle were similar in size and could not be distinguished from each other was designated as “X”.

(4)無機粒子の評価
堀場製作所のレーザ回析/散乱式粒度分布測定装置LA−910を用い、極性溶媒に分散させた試料を測定、解析した結果から粒子径範囲、平均粒子径、粒子径0.15〜0.60μmの範囲を読み取った。
(4) Evaluation of inorganic particles Using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus LA-910 manufactured by Horiba, Ltd., a sample dispersed in a polar solvent was measured and analyzed, and the particle size range, average particle size, and particle size were determined. A range of 0.15 to 0.60 μm was read.

[実施例1]
溶媒としてN ,N−ジメチルアセトアミドを用い、この溶媒中でピロメリット酸二無水物と4 ,4’−ジアミノジフェニルエーテルとをほぼ完全に反応させ、ワニス状ポリアミック酸溶液を得た。
[Example 1]
N, N-dimethylacetamide was used as a solvent, and pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether were almost completely reacted in this solvent to obtain a varnish-like polyamic acid solution.

次に、粒径分布が0.07〜2.0μmで且つ平均径0.50μmのシリカのN,N−ジメチルアセトアミドスラリーを前記ワニス状ポリアミド酸溶液に、樹脂重量当たりシリカ粒子が0.15重量%になるように添加し、十分攪拌、分散させたシリカ入りワニス状ポリアミック酸溶液を得た。   Next, an N, N-dimethylacetamide slurry of silica having a particle size distribution of 0.07 to 2.0 μm and an average diameter of 0.50 μm is added to the varnish-like polyamic acid solution, and 0.15 wt. %, And a silica-containing varnish-like polyamic acid solution that was sufficiently stirred and dispersed was obtained.

このシリカ入りワニス状ポリアミック酸を最外層にし、中心層にはシリカを入れていないワニス状ポリアミック酸を用い、3層口金を持つ連続製膜装置を用いて、これらのポリアミック酸をポリイミドに転化すると同時に乾燥固化し、3層からなるポリイミドフィルムとした。得られたフィルムの厚みは75μmであった。また、中心層の厚みは25μm、最外層(2層)の厚みはそれぞれ25μmで、トータル50μmであった。   Using this varnish-like polyamic acid containing silica as the outermost layer, using a varnish-like polyamic acid containing no silica in the center layer, and using a continuous film-forming apparatus having a three-layer die, converting these polyamic acids to polyimide At the same time, it was dried and solidified to obtain a polyimide film comprising three layers. The thickness of the obtained film was 75 μm. Further, the thickness of the central layer was 25 μm, and the thicknesses of the outermost layers (two layers) were 25 μm, respectively, for a total of 50 μm.

[実施例2]
実施例1と同様の方法で中心層の厚みが50μm、全最外層の厚みが25μmである以外は実施例1と同様にして実験を行い75μmのポリイミドフィルムを得た。
[Example 2]
A 75 μm polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the center layer was 50 μm and the thickness of all outermost layers was 25 μm.

[実施例3]
実施例1 と同様の方法で、最外層のシリカ添加量を0.3 重量% に変更し、十分攪拌、分散させた後、実施例1と同一の方法で75μmのポリイミドフィルムを得た。
[Example 3]
In the same manner as in Example 1, the amount of silica added to the outermost layer was changed to 0.3 wt%, and after sufficient stirring and dispersion, a 75 μm polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1.

[実施例4]
N,N−ジメチルアセトアミド中で、ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとをほぼ完全に反応させてワニス状ポリアミック酸溶液を得た。
[Example 4]
Pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether were almost completely reacted in N, N-dimethylacetamide to obtain a varnish-like polyamic acid solution.

次に、粒径分布が0.07 〜 2.0μmで且つ平均径0.50μmのシリカのN, N−ジメチルアセトアミドスラリーを前記ワニス状ポリアミド酸溶液に、樹脂重量当たりシリカ粒子が0.3重量%になるように添加し、十分攪拌、分散させたシリカ入りワニス状ポリアミック酸溶液を得た。   Next, an N, N-dimethylacetamide slurry of silica having a particle size distribution of 0.07 to 2.0 μm and an average diameter of 0.50 μm is added to the varnish-like polyamic acid solution, and 0.3 wt% of silica particles per resin weight. %, And a silica-containing varnish-like polyamic acid solution that was sufficiently stirred and dispersed was obtained.

このシリカ入りワニス状ポリアミック酸を最外層にし、中心層にはシリカを入れていないワニス状ポリアミック酸を用い、3層口金を持つ連続製膜装置を用いて、これらのポリアミック酸をポリイミドに転化すると同時に乾燥固化し、3層からなるポリイミドフィルムとした。得られたフィルムの厚みは37.5μmであった。また、中心層の厚みは12.5μm、最外層の厚みは12.5μmであった。   Using this varnish-like polyamic acid containing silica as the outermost layer, using a varnish-like polyamic acid containing no silica in the center layer, and using a continuous film-forming apparatus having a three-layer die, converting these polyamic acids to polyimide At the same time, it was dried and solidified to obtain a polyimide film comprising three layers. The thickness of the obtained film was 37.5 μm. The center layer had a thickness of 12.5 μm, and the outermost layer had a thickness of 12.5 μm.

[実施例5]
実施例4と同様の方法で、最外層のシリカ添加量を0.6重量% に変更し、十分攪拌、分散させた後、実施例4と同一の方法で、37.5μmのポリイミドフィルムを得た。
[Example 5]
In the same manner as in Example 4, the silica addition amount of the outermost layer was changed to 0.6% by weight, and after sufficiently stirring and dispersing, a 37.5 μm polyimide film was obtained by the same method as in Example 4. It was.

[実施例6]
実施例4と同様の方法で、最外層のシリカ添加量を0.9重量% に変更し、十分攪拌、分散させた後、実施例4と同一の方法で、37.5μmのポリイミドフィルムを得た。
[Example 6]
In the same manner as in Example 4, the silica addition amount of the outermost layer was changed to 0.9% by weight, and after sufficiently stirring and dispersing, a 37.5 μm polyimide film was obtained by the same method as in Example 4. It was.

[比較例1]
N,N−ジメチルアセトアミド中で、ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとをほぼ完全に反応させてワニス状ポリアミック酸溶液を得た。
[Comparative Example 1]
Pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether were almost completely reacted in N, N-dimethylacetamide to obtain a varnish-like polyamic acid solution.

次に、粒径分布が0.07〜2.0μmで且つ平均径0.50μmのシリカのN,N−ジメチルアセトアミドスラリーを前記ワニス状ポリアミド酸溶液に、樹脂重量当たりシリカ粒子が0.15重量%になるように添加し、十分攪拌、分散させたシリカ入りワニス状ポリアミック酸溶液を得た。   Next, an N, N-dimethylacetamide slurry of silica having a particle size distribution of 0.07 to 2.0 μm and an average diameter of 0.50 μm is added to the varnish-like polyamic acid solution, and 0.15 wt. %, And a silica-containing varnish-like polyamic acid solution that was sufficiently stirred and dispersed was obtained.

このシリカ入りワニス状ポリアミック酸を連続製膜装置を用いて、ポリイミドに転化すると同時に乾燥固化し、ポリイミドフィルムとした。得られたフィルムの厚みは75μmであった。   This silica-containing varnish-like polyamic acid was converted into polyimide using a continuous film forming apparatus, and simultaneously dried and solidified to obtain a polyimide film. The thickness of the obtained film was 75 μm.

[比較例2]
比較例1 と同様の方法で、シリカ添加量を0.3重量% に変更し、十分攪拌、分散させた後、比較例1と同一の方法で、75μmのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Example 2]
In the same manner as in Comparative Example 1, the amount of silica added was changed to 0.3% by weight, and after sufficient stirring and dispersion, a 75 μm polyimide film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1.

[比較例3]
比較例1 と同様の方法で、シリカ添加量を0.6重量% に変更し、十分攪拌、分散させた後、比較例1と同一の方法で、75μmのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Example 3]
In the same manner as in Comparative Example 1, the silica addition amount was changed to 0.6% by weight, and after sufficient stirring and dispersion, a 75 μm polyimide film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1.

[比較例4]
N , N − ジメチルアセトアミド中で、ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとをほぼ完全に反応させてワニス状ポリアミック酸溶液を得た。
[Comparative Example 4]
Pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether were almost completely reacted in N 2, N-dimethylacetamide to obtain a varnish-like polyamic acid solution.

次に、粒径分布が0.07 〜 2.0μmで且つ平均径1.50μmのシリカのN,N−ジメチルアセトアミドスラリーを前記ワニス状ポリアミド酸溶液に、樹脂重量当たりシリカ粒子が0.3重量%になるように添加し、十分攪拌、分散させたシリカ入りワニス状ポリアミック酸溶液を得た。   Next, an N, N-dimethylacetamide slurry of silica having a particle size distribution of 0.07 to 2.0 μm and an average diameter of 1.50 μm is added to the varnish-like polyamic acid solution, and 0.3 wt% of silica particles per resin weight. %, And a silica-containing varnish-like polyamic acid solution that was sufficiently stirred and dispersed was obtained.

このシリカ入りワニス状ポリアミック酸を最外層にし、中心層にはシリカを入れていないワニス状ポリアミック酸を用い、3層口金を持つ連続製膜装置を用いて、これらのポリアミック酸をポリイミドに転化すると同時に乾燥固化し、3層からなるポリイミドフィルムとした。得られたフィルムの厚みは75μmであった。また、中心層の厚みは25μm、2枚の最外層の厚みは合わせて50μmであった。
[比較例5]
Using this varnish-like polyamic acid containing silica as the outermost layer, using a varnish-like polyamic acid containing no silica in the center layer, and using a continuous film-forming apparatus having a three-layer die, these polyamic acids are converted to polyimide. At the same time, it was dried and solidified to obtain a polyimide film comprising three layers. The thickness of the obtained film was 75 μm. The thickness of the central layer was 25 μm, and the thickness of the two outermost layers was 50 μm in total.
[Comparative Example 5]

比較例4と同様の方法で、シリカの粒径分布が0.07 〜 2.5μmで且つ平均径2.0μmに変更し、十分攪拌、分散させた後、比較例1と同一の方法で、75μmのポリイミドフィルムを得た。   In the same manner as in Comparative Example 4, the silica particle size distribution was changed to 0.07 to 2.5 μm and the average diameter was changed to 2.0 μm, and after sufficiently stirring and dispersing, the same method as in Comparative Example 1, A 75 μm polyimide film was obtained.

Figure 2009214424
Figure 2009214424

本発明のポリイミドフィルムは、フィラーを最外層のみに添加することによって、フィラーの含有量がフィルム全体で減少し、走行性を損なうことなく、スルーホールの加工性、高価な無機粒子を使用した際のコストが低下すること、接着性が向上することから、微細な配線を形成するフレキシブルプリント配線基板(FPC)やチップオンフィルム(COF)などの用途に好適である。   When the polyimide film of the present invention uses fillers only in the outermost layer, the filler content is reduced throughout the film, and the processability of through holes and expensive inorganic particles are used without sacrificing running performance. Therefore, it is suitable for uses such as a flexible printed wiring board (FPC) and a chip on film (COF) for forming fine wiring.

Claims (4)

芳香族ポリイミドフィルムを3層以上積層した多層芳香族ポリイミドフィルムであり、最外層がフィラーを含有していることを特徴とする多層芳香族ポリイミドフィルムであって、最外層に含有されるフィラーが無機粒子であり、その粒子径が0.07 〜 2.0μmで且つ平均粒子径が1.0μm以下であり、最外層の表面には該無機粒子による微細な突起が形成されていることを特徴とする多層芳香族ポリイミドフィルム。 A multilayer aromatic polyimide film in which three or more aromatic polyimide films are laminated, wherein the outermost layer contains a filler, and the filler contained in the outermost layer is inorganic. A particle having a particle diameter of 0.07 to 2.0 μm and an average particle diameter of 1.0 μm or less, and fine protrusions of the inorganic particles are formed on the surface of the outermost layer. Multilayer aromatic polyimide film. 最外層に含まれるフィラー量が0.1〜0.9重量%である請求項1記載の多層芳香族ポリイミドフィルム。
のポリイミドフィルム。
The multilayer aromatic polyimide film according to claim 1, wherein the amount of filler contained in the outermost layer is 0.1 to 0.9% by weight.
Polyimide film.
最外層厚みが1〜50μmで、多層フィルム全体の厚みが5〜175μmであることを特徴とする請求項1〜2いずれか記載の多層芳香族ポリイミドフィルム。 The outermost layer thickness is 1-50 micrometers, and the thickness of the whole multilayer film is 5-175 micrometers, The multilayer aromatic polyimide film in any one of Claims 1-2 characterized by the above-mentioned. テトラカルボン酸二無水物とジアミンを極性有機溶媒中で反応させてポリアミド酸を製造し、これをイミド化した後、フィルムに成形するに際し、粒子径が0.07〜2.0μmの範囲内にあり、かつ平均粒子径が1.0μm以下である無機粒子を上記極性有機溶媒と同じ極性有機溶媒に分散させたスラリーをポリアミド酸溶液に添加し、得られたポリイミドフィルムを3層以上の積層フィルムの最外層として積層することを特徴とする多層芳香族ポリイミドフィルムの製造方法。 A tetracarboxylic dianhydride and a diamine are reacted in a polar organic solvent to produce a polyamic acid. After imidizing this, when forming into a film, the particle diameter is within a range of 0.07 to 2.0 μm. A slurry in which inorganic particles having an average particle diameter of 1.0 μm or less are dispersed in the same polar organic solvent as the above polar organic solvent is added to the polyamic acid solution, and the resulting polyimide film is a laminated film having three or more layers. A method for producing a multilayer aromatic polyimide film, comprising laminating as an outermost layer.
JP2008060708A 2008-03-11 2008-03-11 Multilayer aromatic polyimide film Pending JP2009214424A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008060708A JP2009214424A (en) 2008-03-11 2008-03-11 Multilayer aromatic polyimide film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008060708A JP2009214424A (en) 2008-03-11 2008-03-11 Multilayer aromatic polyimide film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009214424A true JP2009214424A (en) 2009-09-24

Family

ID=41186826

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008060708A Pending JP2009214424A (en) 2008-03-11 2008-03-11 Multilayer aromatic polyimide film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009214424A (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004217907A (en) * 2002-12-25 2004-08-05 Du Pont Toray Co Ltd Polyimide film and method for producing the same
JP2007090770A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Kaneka Corp Aromatic polyimide film and manufacturing method of the polyimide film
JP2007098675A (en) * 2005-09-30 2007-04-19 Kaneka Corp Laminated polyimide film and method for producing the film

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004217907A (en) * 2002-12-25 2004-08-05 Du Pont Toray Co Ltd Polyimide film and method for producing the same
JP2007090770A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Kaneka Corp Aromatic polyimide film and manufacturing method of the polyimide film
JP2007098675A (en) * 2005-09-30 2007-04-19 Kaneka Corp Laminated polyimide film and method for producing the film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10377110B2 (en) Copper clad laminate
TWI408200B (en) Novel polyimide film, adhesive film obtained using the same, and flexible metal laminated laminate
TWI447201B (en) Then the film
JP5262030B2 (en) Polyimide film and copper-clad laminate based thereon
JP2005314669A (en) Polyimide film and copper-clad laminate using the same as substrate
JP2010163625A (en) Polyimide film with enhanced sliding property and substrate employing it
JP2018145303A (en) Multilayer polyimide film
JP5064033B2 (en) Adhesive sheet and copper-clad laminate
JP2006188025A (en) Copper-clad laminate
JP2010126634A (en) Polyimide film and method for producing the same
JP2008106139A (en) Polyimide film and method for producing the same
JP2008106141A (en) Polyimide film and method for producing the same
JP5961511B2 (en) Black polyimide film
JP2016132744A (en) Polyimide film
JP2019151748A (en) Polyimide film
JP2008106138A (en) Polyimide film and method for producing the same
JP2008106140A (en) Polyimide film and method for producing the same
JP5571839B2 (en) Polyimide film and copper-clad laminate based on the same
JP2014070170A (en) Black polyimide film
JP5285557B2 (en) Aromatic polyimide film and method for producing the same
JP2009214424A (en) Multilayer aromatic polyimide film
JP6603021B2 (en) Polyimide film
WO2014115827A1 (en) Black polyimide film
JP2014043511A (en) Polyimide film and method for producing the same
JP2006316232A (en) Adhesive film and its preparation process

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100301

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100301

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110118

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120301

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120313

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120710