KR20090069927A - Manufacturing process of partion wall for plazma display panel - Google Patents

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KR20090069927A
KR20090069927A KR1020070137755A KR20070137755A KR20090069927A KR 20090069927 A KR20090069927 A KR 20090069927A KR 1020070137755 A KR1020070137755 A KR 1020070137755A KR 20070137755 A KR20070137755 A KR 20070137755A KR 20090069927 A KR20090069927 A KR 20090069927A
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KR1020070137755A
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최종형
이근수
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엘지전자 주식회사
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/24Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
    • H01J9/241Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases the vessel being for a flat panel display
    • H01J9/242Spacers between faceplate and backplate

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Abstract

A process of manufacturing partition wall for plasma display panel is provided to simplify the manufacturing process and material by etching a barrier rib sheet. The transparent electrode, the bus electrode, and the dielectric of upper panel and the protective film are formed on the glass substrate. The address electrode(110) is formed on the low glass substrate(100). The dielectric layer is formed on the address electrode. The barrier sheet(115) is arranged on the dielectric. The barrier layer groove(125) is formed in the barrier sheet in an interval. The barrier sheet is arranged on the low glass substrate in laminating type. The fluorescent substance is coated on the side of the barrier rib.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법{Manufacturing process of partion wall for plazma display panel}Manufacturing process of plasma display panel {Manufacturing process of partion wall for plazma display panel}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a method of manufacturing a partition wall of a plasma display panel.

멀티미디어 시대의 도래와 함께 더 세밀하고, 더 크고, 더욱 자연색에 가까운 색을 표현해 줄 수 있는 디스플레이 장치의 등장이 요구되고 있다.With the advent of the multimedia era, there is a demand for the appearance of display devices capable of expressing finer, larger, and more natural colors.

그런데, 40인치 이상의 큰 화면을 구성하기에는 현재의 CRT(Cathode Ray Tube) 구조나 LCD(Liquid Crystal Display)방식으로는 한계가 있어서, 평판표시장치 중 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)이 각광받고 있으며 고화질 영상의 분야로 용도확대를 위해 고정세화와 대화면화가 급속도로 발전하고 있다. However, there is a limit to the current CRT (Cathode Ray Tube) structure or LCD (Liquid Crystal Display) method to form a large screen of 40 inches or more, Plasma Display Panel (PDP) of the flat panel display is in the spotlight and High-definition and large screens are rapidly developing to expand their use in the field.

플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은 차세대 대형 평판 디스플레이 시장을 주도하고 있는 것으로, 격벽으로 격리되어 있는 방전 셀에서 헬륨-네온(He-Ne), 네온-크세논(Ne-Xe) 가스에 의한 플라즈마 발광시에 발생하는 자외선이 형광체를 자극Plasma Display Panel (PDP) is leading the market for the next generation of large flat panel displays. When plasma is emitted by helium-neon (Ne-Xe) or neon-xenon (Ne-Xe) gas in discharge cells separated by partition walls, Ultraviolet rays that stimulate the phosphor

하여 여기 상태에서 기저 상태로 돌아갈 때 에너지차에 의해서 발생하는 발광 현상을 이용한 디스플레이 소자로서 크게 교류형(AC) 플라즈마 디스플레이 패널과 직류 형(DC) 플라즈마 디스플레이 패널로 분류되고 있다.As a display element using a light emitting phenomenon caused by an energy difference when it returns from the excited state to the ground state, it is classified into an AC plasma display panel and a DC plasma display panel.

플라즈마 디스플레이 패널의 최대 특징은 같은 자체 발광형인 CRT와 비교하여 10cm 이하로 얇게 제작될 수 있고, 평면의 대화면(60~80inch) 제작이 손쉬울 뿐 아니라 스타일(style)이나 디자인(design)면에서 종래 CRT와는 명확히 구별이 된다.The biggest feature of the plasma display panel is that it can be manufactured as thin as 10cm or less compared to the same self-luminous CRT. This is clearly distinct from the CRT.

플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼우며, 자체 발광형으로 박진감, 현장감 있는 화상 구현이 가능하고, 구조가 간단하며 대화면 평면 디스플레이를 쉽게 제작할 수 있어, 일찍부터 HDTV(고선명 TV)의 적격 판정을 받아왔다.Plasma display panels are thin, light, self-luminous, capable of real-time, realistic images, simple structures, and easy-to-produce large-screen flat displays, which have long been qualified for HDTV (high definition TV).

LCD와 비교하면 자체 발광형이므로 좌우 넓은 범위에 걸쳐 깨끗하고 아름다운 화면을 볼 수 있고, 시야각이 수평, 수직 어느 쪽으로도 160°이상의 광시야각을 갖고 있다.Compared with LCD, it is a self-luminous type, so you can see beautiful and beautiful screens over a wide range of left and right.

특히, 화면 교체 시간이 LCD보다 10배 이상 빠르므로 동화상 표시에 가장 알맞은 디스플레이라고 할 수 있으며, 도트 매트릭스(Dot Matrix) 방식에 의한 고정화소에서 영상 표시 방식이기 때문에 밝고, 색 편차나 화면의 비뚤어짐이 없고, 자계의 영향은 전혀 받지 않아 대화면, 고화질 영상에 가장 적합한 디스플레이라 할 수 있다.In particular, since the screen replacement time is 10 times faster than LCD, it is the most suitable display for moving image display.It is bright because it is a video display method in the fixed pixel by dot matrix method, and color deviation or screen skew Without the influence of the magnetic field at all, it is the best display for a large screen, high-definition image.

플라즈마 디스플레이 패널은 격벽으로 정의되는 픽셀 내에 형광체를 가지고 있으며,그 형광체의 하부 각각에 어드레스전극을 구비하는 하부과, 상기 하부의 어드레스전극에 대항하는 버스전극 및 서스테인전극을 구비하는 상판으로 구성된다.The plasma display panel has a phosphor in a pixel defined by a partition wall, and includes a lower plate having an address electrode at each lower portion of the phosphor, and a top plate having a bus electrode and a sustain electrode opposed to the lower address electrode.

현재 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 제조하는데 있어서 기판 상에 일정 두께의 전극제를 도포한 후 노광 현상을 거쳐 전극 패턴을 형성한 후 전극층 위에는 유전체를 열소성 공정을 이용하여 형성한 후에 유전체 상에 일정 두께의 격벽제를 도포한다. 격벽제 도포 후에는 다시 노광, 현상을 거쳐 샌드 블라스팅이나 에칭법 등으로 일정 형태의 격벽을 형성하고 격벽 내부에 형광층을 형성한다.In manufacturing a partition of a plasma display panel, an electrode pattern having a predetermined thickness is coated on a substrate, an electrode pattern is formed through an exposure phenomenon, and a dielectric is formed on the electrode layer using a thermosetting process. The partition wall is applied. After the barrier agent is applied, a certain type of barrier rib is formed by sand blasting or etching through exposure and development, and a fluorescent layer is formed inside the barrier rib.

그러나, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽의 제조방법은, 유기 바인더를 사용하여 인쇄, 다이 코팅, 시트 상등으로 하여 형성 후 소성함으로써 격벽 내, 외부에 높은 비표면적을 갖는 미세한 기포의 존재로 인해 수분 등 외부의 불순 가스를 흡착, 방전 도중 방전 셀을 오염시켜 구동 및 수명에 영향을 주게 되고 다량의 기포가 존재하는 불완전 소성체임으로 인해 외부의 충격에도 매우 취약하다.However, the conventional method of manufacturing the partition wall of the plasma display panel is formed by printing, die coating, sheet or the like using an organic binder, and then baking, thereby forming moisture and the like due to the presence of fine bubbles having a high specific surface area inside and outside the partition wall. Adsorption of external impurity gas contaminates the discharge cell during discharge, affects the driving and lifespan, and is very vulnerable to external impact due to the incomplete plastic body with a large amount of bubbles.

또한 도포, 인쇄, 건조, 소성 등의 연속 공정과 이에 따르는 시설 투자 역시 비용 절감의 걸림돌이 된다.In addition, continuous processes such as coating, printing, drying and firing, and subsequent facility investment, are also obstacles to cost reduction.

따라서 본 발명의 목적은, 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 공정 및 재료를 단순화하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to simplify the manufacturing process and material of the partition wall of the plasma display panel.

전술한 목적 및 그 밖의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법은, 하부 글라스 기판상에 시트를 배치하는 시트 배치단계와, 상기 시트에 소정간격으로 격벽 홈을 형성하는 격벽 홈 형성단계와, 상기 시트를 에칭하여 격벽을 형성하는 에칭단계와, 상기 격벽의 측면에 형광체를 도 포하는 형광체 도포단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above and other objects, a method of manufacturing a partition wall of a plasma display panel includes a sheet arranging step of arranging a sheet on a lower glass substrate, and a partition wall forming a partition groove at a predetermined interval on the sheet. And a groove forming step, an etching step of etching the sheet to form a partition wall, and a phosphor coating step of applying a phosphor to a side surface of the partition wall.

본 발명에 따르면, 도포, 인쇄, 건조, 소성 등의 연속 공정등을 줄여 제조 공정 및 재료를 단순화할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법의 제공에 있다.According to the present invention, there is provided a method for manufacturing partition walls of a plasma display panel which can simplify a manufacturing process and materials by reducing continuous processes such as coating, printing, drying, and baking.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the drawings will be described the present invention in more detail.

도 1은 플라즈마 디스플레이 패널의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a plasma display panel.

도 1을 참조하면, 플라즈마 디스플레이 패널 소자는 상부 글라스 기판(70), 하부 글라스 기판(10), 상부 글라스 기판(70)과 하부 글라스 기판(10)의 사이에서 방전 공간을 유지시켜주는 격벽(50)으로 구성되어 있다.Referring to FIG. 1, the plasma display panel device may include a partition wall 50 that maintains a discharge space between an upper glass substrate 70, a lower glass substrate 10, an upper glass substrate 70, and a lower glass substrate 10. )

상부 글라스 기판(70)상에는 투명 전극(73), 버스 전극(76), BM, 상판 유전체(80), 보호막(85)이 형성된다. 격벽(50), 그리고 하부 글라스 기판(10)상에는 어드레싱 전극(30), 하부 유전체(40), 형광체(60)가 형성된다.The transparent electrode 73, the bus electrode 76, the BM, the upper plate dielectric 80, and the passivation layer 85 are formed on the upper glass substrate 70. The addressing electrode 30, the lower dielectric 40, and the phosphor 60 are formed on the partition wall 50 and the lower glass substrate 10.

상판 글라스 (70)의 경우 버스 전극(76)은 비교적 저항이 높은 투명 전도성 박막 위에서 저항 강하의 역할을 하게 되며 방전을 유지시켜준다. 통상 투명 박막은 진공 증착법, CVD, Sputtering 법 등으로 형성하며 버스 전극은 스크린 프린팅법, 라미네이팅법등을 사용하여 형성하며 대부분 은(Ag)전극재료를 사용하여 형성한다. In the case of the upper glass 70, the bus electrode 76 serves as a resistance drop on the transparent conductive thin film having a relatively high resistance and maintains a discharge. In general, transparent thin films are formed by vacuum deposition, CVD, sputtering, etc., and bus electrodes are formed by screen printing, laminating, and the like, and are mostly formed using silver (Ag) electrode materials.

상판 유전체는 벽전하(wall charge)를 형성, 방전 유지 전압에 의해 방전을 유지시키며, 플라즈마 방전 시에 이온 충격으로부터 전극을 보호하고 확산 방지막의 역할을 하게 된다. The top dielectric forms a wall charge, maintains discharge by the discharge sustain voltage, protects the electrode from ion bombardment during plasma discharge, and serves as a diffusion barrier.

대부분 산화납(PbO)이 주성분인 조성의 유전재료를 사용하며 전이점이 400℃근방으로서 소성온도는 560 내지 580℃정도이며 최종 두께는 30 내지 40um부분을 유지한다. 산화 마그네슘(MgO)은 이차전자 방출계수가 높은 재료로서 방전 전압을 강하시키고 동시에 방전을 유지시켜주며 이온 충격으로부터 유전체 및 전극을 보호해주는 역할을 하게 된다. Mostly, PbO is mainly composed of dielectric material. The transition point is around 400 ℃, the firing temperature is about 560 ~ 580 ℃ and the final thickness is 30 ~ 40um. Magnesium oxide (MgO) is a material having a high secondary electron emission coefficient, which lowers the discharge voltage, maintains the discharge, and protects the dielectric and the electrode from ion bombardment.

하부 글라스 기판(10)의 경우 어드레싱 전극은 스크린 프린팅법, 라미네이팅법 등을 이용하여 형성하며 대부분 전도성이 우수한 은(Ag)전극을 사용한다. 어드레싱 전극 위에는 확산 방지막 역할을 함과 동시에 형광체로부터 후방으로 투과되는 가시광을 반사시키는 반사막 역할을 하고 격벽의 기저층 역할을 하게 되는 하부 유전체층을 형성하게 된다. In the case of the lower glass substrate 10, the addressing electrode is formed by using a screen printing method, a laminating method, etc., and mostly uses a silver (Ag) electrode having excellent conductivity. On the addressing electrode, a lower dielectric layer serving as a diffusion barrier and reflecting visible light transmitted backward from the phosphor and serving as a base layer of the partition wall is formed.

격벽은 플라즈마 디스플레이 패널소자에서 방전 유지 및 반사에 의한 발광 효율을 향상시키고 동시에 방전 셀간의 전기적, 광학적 상호 혼신을 방지하는 매우 중요한 역할을 한다. 일반적으로 하부 유전체와 격벽은 직경 1-2㎛크기의 PbO 또는 non-PbO 글라스 미분말에 반사특성 향상 및 유전율 조절을 위해 미분말 상태의 산화물을 수십 % 섞은 혼합분말을 유기 용매와 혼합하여 페이스트 상태로 만들어 형성한다. The partition wall plays a very important role in improving the luminous efficiency by discharge retention and reflection in the plasma display panel device and at the same time preventing electrical and optical interference between discharge cells. In general, the lower dielectric layer and the partition wall are made of PbO or non-PbO glass fine powder with a diameter of 1-2 ㎛ and paste into the organic state with a mixed powder mixed with dozens of fine powder oxides with an organic solvent to improve reflection characteristics and control the dielectric constant. Form.

하부 유전체의 형성 방법은 스크린 프린팅 법이나 라미네이팅 방법이 일반적이며 격벽은 샌드 블라스팅 법, 스크린 프린팅 법, 감광성법, 에칭 법 등 다양한 방법으로 형성하고 있다. 하부 유전체의 최종 두께는 약 20um, 격벽은 76~150um 정도의 두께를 합착하여 약 500 Torr의 불활성 방전 가스를 주입하여 소자 제작을 완료하게 된다.The lower dielectric is generally formed by a screen printing method or a laminating method, and the partition wall is formed by various methods such as sand blasting, screen printing, photosensitive, and etching. The final thickness of the lower dielectric is about 20um and the partition wall is about 76 ~ 150um, and the inert discharge gas of about 500 Torr is injected to complete the device fabrication.

도 2는 플라즈마 디스플레이 패널의 개략적인 격벽 제조방법을 도시한 도이다.2 is a diagram illustrating a schematic method of manufacturing a partition wall of a plasma display panel.

도 2를 참조하여 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 살펴보면, 하부 글라스 기판(10) 상에 어드레스 전극 형성을 위한 전극제를 도포(S1)하고, 전극이 형성되는 부분에 노광 공정을 수행하고(S5), 소성 공정을 통해 어드레스 전극을 형성(S10)한다.Referring to FIG. 2, a method of manufacturing a plasma display panel is applied to an electrode material for forming an address electrode on a lower glass substrate 10 (S1), and an exposure process is performed on a portion where an electrode is formed (S5). In operation S10, an address electrode is formed through a firing process.

어드레스 전극이 형성된 후 전극 상에 유전체를 도포하여 유전층을 형성(S15)하고, 유전층 상에 격벽제를 도포(S20)한다.After the address electrode is formed, a dielectric is formed on the electrode to form a dielectric layer (S15), and a barrier agent is applied on the dielectric layer (S20).

격벽이 형성되는 부분에 노광 공정을 수행(S25)한 후, 노광공정이 끝나면 격벽제를 소성 공정을 통하여 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 형성(S30)하고, 격벽의 측면에 형광체를 도포한다(S35). After the exposure process is performed on the portion where the barrier ribs are formed (S25), after the exposure process is completed, the barrier ribs are formed through the firing process (S30), and then phosphors are applied to the side surfaces of the barrier ribs (S35). .

상판과 하판의 별도의 제조 과정이 완료되면, 상판과 하판을 합착하여 플라즈마 디스플레이 패널을 완성하게 된다.When the separate manufacturing process of the upper plate and the lower plate is completed, the upper plate and the lower plate is bonded to complete the plasma display panel.

도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 도시한 도이다.3A to 3E illustrate a method of manufacturing a plasma display panel according to a first embodiment of the present invention.

도 3a 및 도 3b를 참조하면, 하부 글라스 기판(100) 상에 전극제를 도포하고, 노광/현상을 통하여 어드레스 전극(110)을 소성하여 형성하고, 유전체(120)를 형성하고, 유전체(120) 상에 격벽시트(115)를 배치한다.Referring to FIGS. 3A and 3B, an electrode agent is coated on the lower glass substrate 100, the address electrode 110 is formed by baking through exposure / development, a dielectric 120 is formed, and the dielectric 120 is formed. The partition sheet 115 is disposed on the ().

격벽시트(115)는 글래스 파우더에 SlO2 및 TiO2 등의 필러가 포함된 무기물들을 아크릴계 전색제를 이용하여 유동성을 가지는 물질로 만든다.The partition sheet 115 is made of a material having fluidity by using an acrylic colorant with inorganic materials including fillers such as SlO 2 and TiO 2 in the glass powder.

배치된 격벽시트(115) 상에 어드레스 전극(110)의 간격과 동일한 간격으로 돌기가 돌출되어 있는 격벽 홈 형성기구(120)를 격벽시트(115) 상에 덮은 후 압력을 가한다.The partition grooves 115 having the protrusions protruding at the same distance from the address electrode 110 on the partition sheet 115 arranged on the partition sheet 115 are covered with pressure.

격벽 홈(125)을 형성하는 홈 형성기구(120)는 홈 형성 간격을 용이하게 조절할 수 있으며, 도시한 홈 형성기구(120)에 한정되지 않으며, 롤러 형태의 홈 형성기구도 가능하다.The groove forming mechanism 120 forming the partition groove 125 can easily adjust the groove forming intervals, and is not limited to the groove forming mechanism 120 shown in the drawings, and a groove forming mechanism in the form of a roller is also possible.

단, 격벽시트(115)의 격벽 홈 형성 간격은 플라즈마 디스플레이 패널의 크기에 따라 변경될 수 있으며, 격벽 홈이 형성되는 간격은 하부 글라스 기판(100) 상에 형성되는 어드레스 전극의 간격(110)과 일치한다.However, the spacing of the barrier rib grooves of the barrier sheet 115 may be changed according to the size of the plasma display panel, and the spacing of the barrier rib grooves may be formed between the gap 110 and the address electrode formed on the lower glass substrate 100. Matches.

격벽 홈 형성기구(120)를 격벽시트(115) 상에 덮은 후 압력을 가하면 어드레스 전극(110)이 형성된 상부에 일정간격으로 격벽 홈(125)이 형성된다.When the partition groove forming mechanism 120 is covered on the partition sheet 115 and a pressure is applied, the partition groove 125 is formed at a predetermined interval on the upper portion where the address electrode 110 is formed.

도 3c 내지 도 3e는 도 3b의 I-I`의 단면을 도시한 도이다.3C to 3E are cross-sectional views taken along line II ′ of FIG. 3B.

도 3c를 참조하면, 하부 글라스 기판(100) 상에 어드레스 전극(110)을 형성하고, 유전체(120)를 형성한 후 유전체(120) 상에 격벽 홈(125)이 형성된 격벽시트(115)가 배치되어 있다.Referring to FIG. 3C, after forming the address electrode 110 on the lower glass substrate 100, forming the dielectric 120, the partition sheet 115 having the partition grooves 125 formed on the dielectric 120 is formed. It is arranged.

격벽 홈(125)이 형성된 격벽시트(115)를 에칭하면 도 3d에 도시된 바와 같이 격벽 홈(125)이 형성된 부분이 격벽 홈(125)이 형성되지 않은 부분에 비하여 보다 상대적으로 많이 부식되어 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽이 형성된다. When the barrier sheet 115 having the barrier ribs 125 formed is etched, as shown in FIG. 3D, the portion in which the barrier ribs 125 are formed is corroded more relatively than the portion in which the barrier ribs 125 are not formed, thereby causing plasma. The partition wall of the display panel is formed.

에칭 공정시 사용되는 에칭 용액은 산성용액을 사용하며, 바람직하게는 질산 또는 황산을 사용하는 것이 바람직하다.The etching solution used in the etching process uses an acidic solution, preferably nitric acid or sulfuric acid.

플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 생성한 후, 격벽의 측면에 형광체(130)를 도포한다.After the partition wall of the plasma display panel is generated, the phosphor 130 is coated on the side surface of the partition wall.

도 4a 내지 도 4f는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 도시한 도이다.4A to 4F illustrate a method of manufacturing a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

격벽 홈 형성기구(120)를 격벽시트(115) 상에 덮은 후 압력을 가하여, 격벽시트에 격벽 홈(125)을 형성한다. 격벽 홈(125)을 형성하는 홈 형성기구(120)는 홈 형성 간격을 용이하게 조절할 수 있으며, 도시한 홈 형성기구(120)에 한정되지 않으며, 롤러 형태의 홈 형성기구도 가능하다. The partition groove forming mechanism 120 is covered on the partition sheet 115 and then pressure is applied to form the partition groove 125 in the partition sheet. The groove forming mechanism 120 forming the partition groove 125 can easily adjust the groove forming intervals, and is not limited to the groove forming mechanism 120 shown in the drawings, and a groove forming mechanism in the form of a roller is also possible.

단, 격벽시트(115)의 격벽 홈 형성 간격은 플라즈마 디스플레이 패널의 크기에 따라 변경될 수 있으며, 격벽 홈이 형성되는 간격은 하부 글라스 기판(100) 상에 형성되는 어드레스 전극의 간격(110)과 일치한다.However, the spacing of the barrier rib grooves of the barrier sheet 115 may be changed according to the size of the plasma display panel, and the spacing of the barrier rib grooves may be formed between the gap 110 and the address electrode formed on the lower glass substrate 100. Matches.

격벽 홈(125)이 형성된 격벽시트(115)를 하부 글라스 기판(100) 상에 전극제를 도포하고, 노광/현상을 통하여 어드레스 전극(110)을 소성하여 형성하고, 유전체(120)를 형성하고, 유전체(120) 상에 배치한다.The partition sheet 115 having the partition grooves 125 formed thereon is coated with an electrode material on the lower glass substrate 100, the address electrode 110 is formed by baking the exposure / development, and the dielectric 120 is formed. On the dielectric 120.

이후의 공정은 전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법의 제1 실시예와 동일하게 에칭 공정으로 격벽을 생성한 후, 격벽의 측면에 형광체(130)를 도포한 다.Subsequently, the partition wall is formed by the etching process in the same manner as in the first embodiment of the method of manufacturing the plasma display panel, and then the phosphor 130 is coated on the side surface of the partition wall.

전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법은 배치되는 격벽 시트의 두께 및 배치 횟수를 변경하여 격벽의 크기 조절이 용이하며, 격벽 시트에 홈을 형성하여 에칭하여 홈이 형성된 부분이 더 빠르게 부식되도록 함으로써, 도포, 인쇄, 건조, 소성 등의 연속 공정 등을 줄여 제조 공정 및 재료를 단순화할 수 있다.In the above-described method for manufacturing a partition wall of the plasma display panel, the size of the partition wall can be easily adjusted by changing the thickness and the number of arrangement of the partition sheet, and by forming a groove in the partition sheet to etch the grooved portion faster, Manufacturing processes and materials can be simplified by reducing continuous processes such as coating, printing, drying and firing.

또한, 이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 전술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안될 것이다.In addition, while the preferred embodiments of the present invention have been shown and described above, the present invention is not limited to the specific embodiments described above, but the technical field to which the invention belongs without departing from the spirit of the invention claimed in the claims. Of course, various modifications can be made by those skilled in the art, and these modifications should not be individually understood from the technical spirit or the prospect of the present invention.

도 1은 플라즈마 디스플레이 패널의 개략적인 단면도,1 is a schematic cross-sectional view of a plasma display panel;

도 2는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 도시한 도,2 is a view illustrating a method of manufacturing a partition wall of a plasma display panel;

도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 도시한 도, 그리고3A to 3E illustrate a method of manufacturing a plasma display panel according to a first embodiment of the present invention; and

도 4a 내지 도 4f는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 도시한 도이다.4A to 4F illustrate a method of manufacturing a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명><Explanation of symbols on main parts of the drawings>

100: 하부 글라스 기판 105: 유전체100: lower glass substrate 105: dielectric

110: 어드레스 전극 115: 격벽시트110: address electrode 115: partition wall sheet

125: 격벽 홈125: bulkhead groove

Claims (14)

하부 글라스 기판상에 격벽시트를 배치하는 시트 배치단계;A sheet disposing step of disposing a partition sheet on a lower glass substrate; 상기 격벽시트에 소정간격으로 격벽 홈을 형성하는 격벽 홈 형성단계;A partition groove forming step of forming a partition groove in the partition sheet at a predetermined interval; 상기 격벽시트를 에칭하여 격벽을 형성하는 에칭단계; 및Etching the barrier sheet to form a barrier; And 상기 격벽의 측면에 형광체를 도포하는 형광체 도포단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.Phosphor coating step of applying a phosphor on the side surface of the partition; plasma display panel manufacturing method comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판상에 상기 소정간격으로 어드레스 전극을 형성하는 전극 형성단계; 및An electrode forming step of forming an address electrode on the substrate at the predetermined intervals; And 상기 어드레스 전극상에 유전층을 형성하는 유전층 형성단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.The dielectric layer forming step of forming a dielectric layer on the address electrode; plasma barrier panel manufacturing method further comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 격벽시트는 글래스 파우더에 SlO2 및 TiO2 등의 필러가 포함된 무기물들을 아크릴계 전색제를 이용하여 유동성을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.The partition sheet is a plasma display panel manufacturing method of the plasma display panel, characterized in that the inorganic powder containing fillers, such as SlO 2 and TiO 2 in the glass powder having fluidity using an acrylic developer. 제1항에 있어서The method of claim 1 상기 격벽시트를 배치하는 시트 배치단계는, 상기 격벽 시트를 상기 하부 글라스 기판상에 라미네이팅의 형태로 배치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.The sheet disposing step of arranging the partition sheet, the partition sheet manufacturing method of the plasma display panel, characterized in that in the form of laminating on the lower glass substrate. 상기 격벽시트를 배치하는 시트 배치단계는, 상기 격벽 시트를 상기 하부 글라스 기판상에 테이블 코팅 형태로 배치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.The sheet disposing step of arranging the partition sheet, the partition sheet manufacturing method of the plasma display panel, characterized in that for arranging the partition sheet on the lower glass substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 격벽시트를 에칭하는 용액은 산성용액인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.And a solution for etching the partition sheet is an acid solution. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 산성용액은 질산 또는 황산인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.And the acid solution is nitric acid or sulfuric acid. 격벽시트에 격벽 홈을 형성하는 격벽 홈 형성단계;A partition groove forming step of forming a partition groove in the partition sheet; 상기 격벽 홈이 형성된 격벽시트를 하부 글라스 기판상에 소정간격으로 배치하는 시트 배치단계;A sheet disposing step of disposing a partition sheet on which the partition groove is formed at predetermined intervals on a lower glass substrate; 상기 격벽시트를 에칭하여 격벽을 형성하는 에칭단계; 및Etching the barrier sheet to form a barrier; And 상기 격벽의 측면에 형광체를 도포하는 형광체 도포단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.Phosphor coating step of applying a phosphor on the side surface of the partition; plasma display panel manufacturing method comprising a. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 기판상에 상기 소정간격으로 어드레스 전극을 형성하는 전극 형성단계; 및An electrode forming step of forming an address electrode on the substrate at the predetermined intervals; And 상기 어드레스 전극상에 유전층을 형성하는 유전층 형성단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.The dielectric layer forming step of forming a dielectric layer on the address electrode; plasma barrier panel manufacturing method further comprising a. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 상기 격벽시트는 글래스 파우더에 SlO2 및 TiO2 등의 필러가 포함된 무기물들을 아크릴계 전색제를 이용하여 유동성을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽제조방법The partition sheet is a partition manufacturing method of the plasma display panel, characterized in that the inorganic powder containing fillers such as SlO 2 and TiO 2 in the glass powder having fluidity using an acrylic colorant. 제8항에 있어서The method of claim 8 상기 격벽시트를 배치하는 시트 배치단계는, 상기 격벽 시트를 상기 하부 글라스 기판상에 라미네이팅의 형태로 배치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.The sheet disposing step of arranging the partition sheet, the partition sheet manufacturing method of the plasma display panel, characterized in that in the form of laminating on the lower glass substrate. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 격벽시트를 배치하는 시트 배치단계는, 상기 격벽 시트를 상기 하부 글라스 기판상에 테이블 코팅 형태로 배치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.The sheet disposing step of arranging the partition sheet, the partition sheet manufacturing method of the plasma display panel, characterized in that for arranging the partition sheet on the lower glass substrate. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 격벽시트를 에칭하는 용액은 산성용액인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.And a solution for etching the partition sheet is an acid solution. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 산성용액은 질산 또는 황산인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.And the acid solution is nitric acid or sulfuric acid.
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