JP2004335339A - Plasma display panel and its manufacturing method - Google Patents

Plasma display panel and its manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2004335339A
JP2004335339A JP2003131341A JP2003131341A JP2004335339A JP 2004335339 A JP2004335339 A JP 2004335339A JP 2003131341 A JP2003131341 A JP 2003131341A JP 2003131341 A JP2003131341 A JP 2003131341A JP 2004335339 A JP2004335339 A JP 2004335339A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
display panel
plasma display
partition
phosphor
partition wall
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003131341A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Teru Nishitani
輝 西谷
Masatoshi Kitagawa
雅俊 北川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2003131341A priority Critical patent/JP2004335339A/en
Publication of JP2004335339A publication Critical patent/JP2004335339A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display panel capable of restraining attenuation of a vacuum ultraviolet ray, improving luminance, and capable of reducing phosphor deterioration; and to provide its manufacturing method. <P>SOLUTION: This plasma display panel is characterized by forming a partition or a phosphor surface into a tapered shape or a curved shape. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示デバイスなどに用いるプラズマディスプレイパネルに関し、特にプラズマディスプレイパネルの輝度および発光効率を向上させたプラズマディスプレイパネルに関する。
【0002】
【従来の技術】
高精細、大画面テレビへの期待が高まっている。CRTは解像度・画質の点でプラズマディスプレイや液晶に対して優れているが、40インチ以上の大画面では、奥行きと重量が大きくなり、好ましくない。一方、液晶は消費電力が少なく、駆動電圧も低いという優れた性能を有しているが、そのプロセスに真空製造装置が多いことから、大画面化は難しく、また、性能面では、視野角が狭い、画面の応答が遅いという問題点がある。これに対して、プラズマディスプレイは、大画面の実現が可能であり、すでに40インチクラスの製品が開発されている(例えば、非特許文献1参照)。
【0003】
プラズマディスプレイパネル(PDP)には、直流型(DC型)と交流型(AC型)があるが、本明細ではAC型を中心に説明する。図13は、従来のAC型プラズマディスプレイパネルの要部の斜視図を示したものである。図13において、1はフロート法による硼硅素ナトリウム系ガラスよりなる前面ガラス基板(フロントカバープレート)であり、この前面ガラス基板1上に銀電極、あるいは透明電極と銀電極から成るサステイン電極(表示電極)2、13が存在し、この上をコンデンサの働きをするガラス粉末を用いて形成された誘電体ガラス層3と誘電体保護膜4が覆っている。5は背面ガラス基板(バックプレート)であり、この背面ガラス基板5上にアドレス電極(銀電極)6、誘電体ガラス層7が設けられ、その上に隔壁8と蛍光体層9が設けられており、隔壁8間が放電ガスを封入する放電空間12になっている。
【0004】
また、図13のようなストライプ状の隔壁構造では隣接セルと放電空間を共有していることから、異常放電を起こす場合が多く、隔壁をマトリクス状に形成する手法が用いられている(図14〜図17)。この隔壁形状は井桁状あるいはワッフル構造と呼称される場合が多い。
【0005】
また、視野角向上と正面輝度向上を目的として、隔壁を階段状に形成する手法も開発されている(例えば、特許文献1参照)。
【0006】
【特許文献1】
特開2002−334661号公報
【非特許文献1】
「機能材料」、1996年2月号、Vol.16、No.2、7ページ
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
スキャン電極、サステイン電極に印加された電圧に対応して、両電極近辺にXe、Ne等のガス放電が発生する。ガス放電により真空紫外光が発生する。真空紫外光が、セルの底面および隔壁側面に塗られた蛍光体を励起する。励起された蛍光体は、RGBのいずれかの可視光を発する。真空紫外光は、ガス雰囲気中では距離による減衰が大きい。従来のセル構造では、プラズマ放電している部分と蛍光体との距離が遠く、発生した真空紫外光が蛍光体に届くまでに減衰してしまい、発光効率が低いという課題がある。また、放電位置と蛍光体表面の距離が近すぎると、蛍光体が真空紫外光により劣化してしまうという、発光寿命に関わる別の課題も存在する。
【0008】
特に、隔壁がマトリクス構造のプラズマディスプレイパネルの場合は特有の問題がある。サステイン電極に平行な隔壁に対して、プラズマ放電の端の形状は長円の弧のような形状となる。一方、サステイン電極に垂直な隔壁に対して、プラズマ放電の端の形状はかなり矩形に近い。そのため、テーパーや曲面形状の隔壁を形成しても、真空紫外光の減衰を抑えかつ蛍光体劣化を低減することができないという課題がある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、我々は真空紫外光の減衰と蛍光体の劣化という相反する問題点を考慮した結果、以下のような発明を見出した。
【0010】
請求項1に関わる発明は、隔壁がテーパー形状または曲面形状に形成されていることを特徴とする。
【0011】
請求項2に関わる発明は、隔壁側面に形成された蛍光体面がテーパー形状であることを特徴とする。
【0012】
請求項3に関わる発明は、マトリクス状に形成された隔壁によって区画され、サステイン電極と平行な隔壁のみテーパー形状に形成されていることを特徴とする。
【0013】
請求項4に関わる発明は、請求項1または3に記載の構造を前提として、テーパー形状の隔壁の角度が基板面に対して垂直方向から20°より大きいことを特徴とする。
【0014】
請求項5に関わる発明は、マトリクス状に形成された隔壁によって区画され、サステイン電極と平行な隔壁側面に形成された蛍光体面がテーパー形状であることを特徴とする。
【0015】
請求項6に関わる発明は、請求項2または4に記載のテーパー形状の蛍光体面を有することを前提として、角度が基板面に対して垂直方向から20°より大きいことを特徴とする。
【0016】
請求項7に関わる発明は、マトリクス状に形成された隔壁によって区画され、サステイン電極と平行な隔壁のみテーパー形状でありかつ隔壁側面に形成された蛍光体面がテーパー形状であることを特徴とする。
【0017】
請求項8に関わる発明は、マトリクス状に形成された隔壁によって区画され、サステイン電極と平行な隔壁のみ曲面形状または階段形状であることを特徴とする。
【0018】
請求項9に関わる発明は、請求項1、2または8のいずれかに記載の曲面形状または階段形状の隔壁を有することを前提として、平均曲率半径が隔壁の高さの1倍〜4倍であることを特徴とする。
【0019】
請求項10に関わる発明は、マトリクス状に形成された隔壁によって区画され、サステイン電極と平行な隔壁側面に形成された蛍光体面が曲面形状または階段形状であることを特徴とする。
【0020】
請求項11に関わる発明は、マトリクス状に形成された隔壁によって区画され、サステイン電極と平行な隔壁が曲面形状でありかつ隔壁側面に形成された蛍光体面が曲面形状であることを特徴とする。
【0021】
請求項12に関わる発明は、マトリクス状に形成された隔壁によって区画され、サステイン電極と平行な隔壁がテーパー形状でありかつ隔壁側面に形成された蛍光体面が曲面形状であることを特徴とする。
【0022】
請求項13に関わる発明は、請求項10から12のいずれかに記載の曲面形状または階段形状を有することを前提に、隔壁側面に形成された蛍光体面の平均曲率半径が隔壁の高さの1倍〜4倍であることを特徴とする。
【0023】
請求項14に関わる発明は、隔壁層上の隔壁に相当する部分にテーパー形状または曲面形状を有するレジスト部分を形成した後、上部から削る工程を有することを特徴とする。
【0024】
請求項15に関わる発明は、隔壁層上のデータ電極に平行な隔壁に相当する部分に垂直に近いレジスト部分を形成し、サステイン電極に平行な隔壁に相当する部分にテーパー形状または曲面形状を有するレジスト部分を形成した後、上部から削る工程を有することを特徴とする。
【0025】
請求項16に関わる発明は、請求項14または15に記載の製造方法を前提として、上部から削る工程が、サンドブラスト法であることを特徴とする。
【0026】
請求項17に関わる発明は、粘度が比較的高い40〜150cpの蛍光体ペーストを用いるの方法により隔壁側面にテーパー形状の蛍光体面を形成することを特徴とする。
【0027】
請求項18に関わる発明は、請求項12から16のいずれかに記載のテーパー形状の隔壁形成方法を用いることを前提として、さらに粘度が比較的高い40〜150cpの蛍光体ペーストを用いる工程により蛍光体面を形成することを特徴とする。
【0028】
請求項19に関わる発明は、請求項14から17のいずれかに記載のテーパー形状の隔壁形成方法を用いることを前提として、さらに粘度が比較的高い40〜150cpの蛍光体ペーストを用いる工程により、隔壁側面に曲面形状の蛍光体面を形成することを特徴とする。
【0029】
請求項20に関わる発明は、請求項14または15の製造方法により、曲面形状の隔壁形成することを前提として、さらに粘度が比較的高い40〜150cpの蛍光体ペーストを用いる方法で隔壁側面に曲面形状の蛍光体面を形成することを特徴とする。
【0030】
このように、従来のセル構造において、隔壁あるいは蛍光体表面をテーパー形状または曲面形状にした。これにより、従来の概ね方形のセル構造と比較して、プラズマ発光部分と蛍光体表面の距離が適切にとれる構造となり、真空紫外光の減衰と蛍光体の劣化という相反する問題点を解決した。
【0031】
また、隔壁がマトリクス構造の場合、サステイン電極と平行な隔壁のみ、あるいは蛍光体表面をもテーパー形状、曲面形状、階段形状のいずれかにすることで、真空紫外光の減衰を抑えかつ蛍光体劣化を低減することができる。
【0032】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【0033】
(実施の形態1)
本発明の目的は、真空紫外光の減衰と蛍光体の劣化を防ぐことにより、PDPパネルの輝度を向上させることである。PDPには、直流型(DC型)、交流型(AC型)、DC/ACハイブリッド型およびAC/DCハイブリッド型が存在する。AC型、DC/ACハイブリッド型およびAC/DCハイブリッド型は通常、誘電体保護膜を使用する。また、DC型は誘電体保護膜を使用しない構成をとることも多いが、誘電体保護膜を使用する構成をとることも可能である。PDPおよび発光装置であって、電極を保護する目的で誘電体保護膜が使用されている装置全般に対して、本発明は効果がある。ここではAC型PDPを中心に説明する。
【0034】
なお、図中にプラズマ発光部分17を記載したが、これはシミュレーションによって得られたものであり、プラズマ発光は経時的に位置が変化するが、発光を時間積分したものの最高輝度を100%として、70%の輝度になる部分までを図示している。また、サステイン電極に平行な隔壁を横リブ、サステイン電極に垂直な隔壁を縦リブと呼称する。
【0035】
図13、図15は、本実施の形態1に係る交流面放電型プラズマディスプレイパネル(以下、「PDP」という)の斜視図、図16および図17は各々、図15における横リブ、縦リブの断面図である。図14はマトリクス状の隔壁を示す斜視図である。なお、これらの図では便宜上セルが少数示されているが、実際には赤(R)、緑(G)、青(B)の各色を発光するセルが多数配列されてPDPが構成されている。
【0036】
このPDPは、図13、図15〜図17に示すように、前面ガラス基板(フロントカバープレート)1上にサステイン電極(表示電極)2、13があり、サステイン電極2、13は、図示していないが、Ag電極あるいはITOやSnOの透明電極上にバスラインとしてAg、あるいはその他の金属の電極が設けられた構成になっている。その上に誘電体ガラスペーストを用い、ダイコート法あるいはブレードコート法にて塗布後、焼成して作成した誘電体ガラス層3が配されてなる前面パネル15と、背面ガラス基板(バックプレート)5にアドレス電極6があり、その上に作成された誘電体ガラス層7(ガラス組成は第1電極上の誘電体ガラス層3と同じ)、隔壁8、R、G、B各色の蛍光体層9が配されてなる背面パネル16とを張り合わせ、前面パネル15と背面パネル16の間に形成される放電空間12内に放電ガスが封入された構成となっており、以下に示すように作製される。ここでは改良前のPDPの製造方法を述べ、各実施例において改良点を詳述する。
【0037】
(1)前面パネル15の作製
前面パネル15は、以下の工程を経て形成される(サステイン電極の形成)。
【0038】
サステイン電極2、13は、以下のようにして前面ガラス基板1に形成する。図416用いながら説明する。
【0039】
まず、前面ガラス基板1に厚さ0.12μmのITO(酸化インジウムと酸化スズからなる透明導体)をスパッタ法で全面に形成後、フォトリソグラフィー法にて幅150μmのストライプ状電極を形成し(電極間距離は0.05mm)、次に感光性の銀ペーストを全面に形成後、同じくフォトリソグラフィー法にて幅30μmのAgバスラインをITO上に形成した後、Agを550℃で焼成することによってAg電極(サステイン電極)を形成する。
【0040】
(誘電体ガラス層の形成)
ガラスの軟化点が550℃〜600℃の誘電体ガラス(酸化鉛系ガラスあるいは酸化ビスマス系ガラス)粉とブチルカルビトールアセテート等から成るバインダー成分を、有機バインダーを用いてペースト化し、スクリーン印刷法で誘電体ガラス層を印刷し、乾燥後に550℃〜650℃で焼成する。
【0041】
(誘電体保護膜の形成)
誘電体保護膜4としてのMgO膜は真空蒸着によって得ることができる。成膜においては、蒸着源としてペレット状のMgOを用いる。例えば、粒径5〜3mm、純度99.95%以上のMgOペレットを用い、ピアス式ガンを加熱源とする反応性EB蒸着法により、真空度5×10−5Torr、酸素導入流量10sccm、酸素分圧90%以上、レート20Å/s、膜厚7000Å、基板温度150℃の条件で成膜した。
【0042】
(2)背面パネル16の作製
背面パネル16は、以下の工程を経て形成される。
【0043】
(アドレス電極の形成)
まず、背面ガラス基板5の上に前述した前面パネル15のサステイン電極形成方法と同様の方法でアドレス電極6を形成する。
【0044】
(誘電体ガラス層の形成)
その上に前面パネル15の場合と同様の方法で誘電体ガラス層を形成する。
【0045】
(隔壁の形成)
そして、スクリーン印刷法やサンドブラスト法によって作成された隔壁8を所定のピッチで固着する。隔壁8はストライプ状に形成する場合(図13)と、マトリクス状に形成する場合(図14、図15)がある。本実施の形態1ではマトリクス状のものを中心に説明する。
【0046】
(蛍光体層の形成)
次に、隔壁8に挟まれた各空間内に、赤色(R)蛍光体、緑色(G)蛍光体、青色(B)蛍光体のうちの1つを配設することによって蛍光体層9を形成する。各色R、G、Bの蛍光体としては、次の蛍光体を用いる。
【0047】
赤色蛍光体:Y:Eu3+
緑色蛍光体:ZnSiO:Mn
青色蛍光体:BaMgAl1017:Eu2+
蛍光体は、以下のように形成する。まず、サーバー内に平均粒径2.0μmの赤色蛍光体であるY:Eu3+粉末50wt%、エチルセルローズ1.0wt%、溶剤(α−ターピネオール49wt%から成る蛍光体混合物)をサンドミルで混合撹はんし、粘度を15cpとした塗布液を入れ、ポンプの圧力で噴射装置のノズル(ノズル径60μm)から赤色蛍光体形成用液体をストライプ形状の隔壁内に噴射させると同時に基板を直線状に移動させて、赤色蛍光体ラインを形成する。同様にして、青色(BaMgAl1017:Eu2+)、緑色(ZnSiO:Mn)のラインを形成した後、500℃で10分間焼成し、各蛍光体層9を形成する。
【0048】
(3)前面パネル15及び背面パネル16の張り合わせによるPDPの作製
次に、前述のようにして作製した前面パネル15と背面パネル16とを封着用ガラスを用いて張り合わせると共に、隔壁8で仕切られた放電空間12内を高真空(1.0×10−4Pa(8×10−7Torr)程度)に排気した後、所定の組成の放電ガスを所定の圧力で封入することによってPDPを作製する(図14、図15参照)。
【0049】
なお、本実施の形態1では、PDPのセルサイズは40インチクラスのVGAに適合するよう、セルピッチを0.36mm、サステイン電極2、13の電極間距離dを0.1mmに設定する。
【0050】
また、封入する放電ガスの組成は、従来から用いられているNe−Xe系であるが、Xeの含有量を5体積%以上に、封入圧力は66.5kPa〜101kPa(500Torr〜760Torr)に設定することで、セルの発光輝度の向上を図っている。
【0051】
【実施例】
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
【0052】
(実施例1)
図2は本発明の実施例1に係るプラズマディスプレイの放電セルを示す断面図である。なお、この断面図に示された放電セルはストライプ状のものでもよいし、マトリクス状のものでもよい。
【0053】
図2において、背面ガラス基板5上にアドレス電極6、誘電体ガラス層7が積層され、放電空間12がテーパー形状の隔壁8により区画されている。隔壁8の表面には蛍光体層9が形成されている。
【0054】
従来の放電セルの断面図を図16に示す。従来の隔壁8は矩形に近い形状であり、放電空間12も矩形に近い形状であった。プラズマ発光する部分17は図示したように、サステイン電極2、13の下方を結び、アドレス電極6側に延びた曲面となる。従来の矩形の隔壁8の場合、プラズマ発光部分17と蛍光体層9表面の距離が位置によって異なるため、距離が短い部分と長い部分との差が大きく、真空紫外光は減衰し、蛍光体は劣化するという状態であることがわかる。
【0055】
つまり、プラズマ発光部分17から発せられた真空紫外光は、ガス雰囲気中では距離による減衰が大きく、プラズマ放電している部分と蛍光体との距離が遠い部分では、発生した真空紫外光が蛍光体に届くまでに減衰してしまい、発光効率が低くなる。また、放電位置と蛍光体表面の距離が近すぎると、蛍光体が真空紫外光により劣化してしまい、発光寿命が短くなる。このように、プラズマ発光部分と蛍光体表面との距離に関して、好ましい距離が存在する一方、相反する問題点も存在する。
【0056】
これに対して、図2に示しているように、本発明のテーパー形状の隔壁8を用いると、プラズマ発光部分17と蛍光体層9表面との距離による違いが少なくなる。これにより、真空紫外光の劣化が減少し、輝度が向上する。また、蛍光体の劣化による輝度の経時劣化も許容範囲内に抑えられる。なお、上記の特長を満たす隔壁あるいは蛍光体表面のテーパー形状として、基板面に対して垂直方向から20°より大きい必要がある。
【0057】
上記の隔壁形状を以下の製造方法を用いて作製した。背面パネル16の隔壁形成の工程において、誘電体ガラス層7上に感光性ポジレジスト(レジスト層10)をコートしてプリベークした後、その上を中間調を有する露光マスク11で覆い、これを所定強度の紫外線14を用いて密着露光した。なお、マスク材料としてはクロム、銀塩等を用いた(図3(a))。
【0058】
図3(b)に、本実施例1において露光に用いた露光マスクの露光用紫外線に対する透過率を示す。このような中間調を有する露光マスクで露光することにより、ポジレジストに到達する紫外線の強さを制御することができた。所定強度の紫外線14を用いて露光することにより現像・ポストベークしたところ、図4(a)に示すように、誘電体ガラス層7の上に周期的に凸状(かまぼこ状)レジスト部18を残存させることができた。次に、サンドブラスト法(矢印19)によりエッチングすると、レジストの薄い部分から順にエッチングされ、テーパー形状の誘電体ガラスによる隔壁8が形成できた(図4(b))。
【0059】
なお、マスクに中間調をつけるために、マスクの厚さを変化させたが、他の方法でマスクに中間調をつけてもよい。例えば、微小な多数の穴をマスクに開口させ、その密度または穴の大きさに差をつけることにより、透過率に分布のあるマスクを用いてもよい。
【0060】
(実施例2)
図17は従来の放電セル構造をサステイン電極に平行な断面で示した図である。この断面図で見ると、プラズマ発光部分17は多少曲がってはいるが、矩形に近い形状で発光している。実施例1では、マトリクス形状の隔壁に対して、縦リブと横リブの区別なくテーパー形状を形成した。図5に、縦リブ、横リブをテーパー形状で形成した場合のサステイン電極に平行な断面図を示す。この断面図で見ると、隔壁8のテーパー角度が小さすぎるため、プラズマ発光部分17と蛍光体層9表面が近接している部分が存在している。この近接している部分は蛍光体の劣化が著しく、初期輝度は明るいものの、経時的に輝度劣化が起こる。
【0061】
本実施例2における放電セルでは、マトリクス状の隔壁が形成されるが、サステイン電極と平行な隔壁はテーパー形状とし(図2)、サステイン電極に対して垂直な隔壁は矩形に近い形状とした(図6)。つまり、テーパーの角度がサステイン電極に対して平行な隔壁の方が、垂直な隔壁より大きい。上記隔壁8の定義を蛍光体層9表面にあてはめても同様の効果がある。
【0062】
このように、サステイン電極に平行な隔壁(横リブ)のみをテーパー形状にすることにより、プラズマ発光部分と蛍光体表面との距離が、どの部分でもおおむね好ましい距離になる。これにより、真空紫外光の劣化が減少し、輝度が向上する。また、蛍光体の劣化による輝度の経時劣化も許容範囲内に抑えられる。上記の特長を満たす隔壁あるいは蛍光体表面のテーパー形状として、横リブは基板面に対して垂直方向から20°より大きく、縦リブは20°より小さい形状が好ましい。
【0063】
上記の隔壁形状を実施例1と同様の工程を用いて作製した。露光マスクは縦リブ部分の透過率を2値とし、横リブ部分の透過率が中間調を有する(図3(b))ように設計した。以下、実施例1と同様の工程を経ることにより、縦リブは矩形形状に近く、横リブはテーパー形状であるマトリクス状の隔壁を形成した。
【0064】
(実施例3)
図1は本発明の実施例3に係るプラズマディスプレイの放電セルを示す断面図である。なお、この断面図に示された放電セルはストライプ状のものでもよいし、マトリクス状のものでもよい。図1において、背面ガラス基板5上にアドレス電極6、誘電体ガラス層7が積層され、放電空間12が曲面形状の隔壁8により区画されている。隔壁の表面には蛍光体層9が形成されている。
【0065】
従来の放電セルの断面図を図16に示す。従来の隔壁8は矩形に近い形状であり、放電空間12も矩形に近い形状であった。プラズマ発光する部分17は図示したように、サステイン電極2、13の下方を結び、アドレス電極6側に延びた曲面となる。従来の矩形の隔壁8の場合、プラズマ発光部分17と蛍光体層9表面の距離が位置によって異なるため、距離が短い部分と長い部分との差が大きく、真空紫外光は減衰し、蛍光体は劣化するという状態であることがわかる。
【0066】
これに対して、図1に示しているように、本発明の曲面形状の隔壁8を用いると、プラズマ発光部分17と蛍光体層9表面との距離による違いが少なくなる。これにより、真空紫外光の劣化が減少し、輝度が向上する。また、蛍光体の劣化による輝度の経時劣化も許容範囲内に抑えられる。なお、上記の特長を満たす隔壁あるいは蛍光体表面の曲面形状として、円筒の表面あるいはそれを引き伸ばした形状となり、隔壁表面または蛍光体表面の平均曲率は隔壁の高さの1倍〜4倍であることが好ましい。
【0067】
また、図1に記載の隔壁形状はセル全体に対して隔壁に曲面をつけた形状であるが、誘電体ガラス層7と平行な部分が存在しても良い(図7)。誘電体ガラス層7と平行な面は、誘電体ガラス層7が露出していてもよいし、誘電体ガラス層7の一部がエッチングされていてもよいし、隔壁の一部が残っていてもよい。この場合、アドレス電極6と平行な面が存在することで、アドレスのための蓄積電荷が安定し、非点灯画素による不良が減少するという効果がある。
【0068】
上記の隔壁形状を以下の製造方法を用いて作製した。背面パネル16の隔壁形成の工程において、誘電体ガラス層7上に感光性ポジレジスト(レジスト層10)をコートしてプリベークした後、その上を隔壁の高さ分布に対応した階調をつけた、透過率に中間調を有する露光マスク11で覆い、これを所定強度の紫外線14を用いて密着露光した。なお、マスク材料としてはクロム、銀塩等を用いた(図8(a))。
【0069】
図8(b)に、本実施例3において露光に用いた露光マスクの露光用紫外線に対する透過率を示す。このような中間調を有する露光マスクで露光することにより、ポジレジストに到達する紫外線の強さを制御することができた。所定強度の紫外線14を用いて露光することにより、現像・ポストベークしたところ、図9(a)に示すように、誘電体ガラス層7の上に周期的に凸状(かまぼこ状)レジスト部18を残存させることができた。次に、サンドブラスト法(矢印19)によりエッチングすると、レジストの薄い部分から順にエッチングされ、曲面形状の誘電体ガラスによる隔壁8が形成される(図9(b))。
【0070】
(実施例4)
図17は従来の放電セル構造をサステイン電極に平行な断面で示した図である。この断面で見ると、プラズマ発光部分17は多少曲がってはいるが、矩形に近い形状で発光している。実施例3では、マトリクス形状の隔壁に対して、縦リブと横リブの区別なく曲面形状を形成した。図10に、縦リブ、横リブを曲面形状で形成した場合のサステイン電極に平行な断面図を示す。この断面図で見ると、プラズマ発光部分17と蛍光体層9表面が近接している部分が存在おり、隔壁8の曲面形状が不適合であるのがわかる。この近接している部分は蛍光体の劣化が著しく、初期輝度は明るいものの、経時的に輝度劣化が起こる。
【0071】
本実施例4における放電セルでは、マトリクス状の隔壁が形成されるが、サステイン電極と平行な隔壁は曲面形状とし(図1)、サステイン電極に対して垂直な隔壁は矩形に近い形状とした(図6)。つまり、隔壁を曲面形状とみなし、平均曲率半径を算出した場合、平均曲率半径がサステイン電極に対して平行な隔壁の方が、垂直な隔壁より小さい。上記隔壁8の定義を蛍光体層9表面にあてはめても同様の効果がある。
【0072】
このように、サステイン電極に平行な隔壁(横リブ)のみを曲面形状にすることにより、プラズマ発光部分と蛍光体表面との距離が、どの部分でもおおむね好ましい距離になる。これにより、真空紫外光の劣化が減少し、輝度が向上する。また、蛍光体の劣化による輝度の経時劣化も許容範囲内に抑えられる。上記の特長を満たすサステイン電極に対して平行な隔壁あるいは蛍光体表面の曲面形状として、円筒の表面あるいはそれを引き伸ばした形状となり、隔壁表面または蛍光体表面の平均曲率は隔壁の高さの1倍〜4倍であることが好ましい。
【0073】
上記の隔壁形状を実施例3と同様の工程を用いて作製した。露光マスクは縦リブ部分の透過率を2値とし、横リブ部分の透過率が中間調を有する(図8(b))ように設計した。以下、実施例3と同様の工程を経ることにより、縦リブは矩形形状に近く、横リブは曲面形状であるマトリクス状の隔壁を形成した。
【0074】
また、上記の実施例4では、サステイン電極に平行な隔壁のテーパーの角度を大きくとる、平均曲率半径を小さくするとしたが、プラズマ発光部分は駆動や電極等の設計で変化する。それぞれの設計において最適になるよう、縦、横のリブ、蛍光体表面のテーパー角度が異なる、あるいは平均曲率半径が異なるセル構造を用いる必要がある。
【0075】
(実施例5)
実施例1と同様にして、テーパー形状を有する隔壁を形成する。次に、各色の蛍光体ペーストをノズルから噴射させるが、従来の工程では蛍光体ペーストの粘度を15cpとしているが、多少高い粘度の蛍光体ペーストを噴射または塗布する。その後、500℃で10分間焼成し、蛍光体層9を形成する。
【0076】
蛍光体ペーストの粘度が150cp以上の場合は、ほとんど凹みが形成されない、あるいは非常に浅くなってしまう。また、粘度が40cp以下の場合は、隔壁8の垂直に近い部分に付着せずに流れ、セルの下部にたまるような状態になる。したがって、テーパー形状の隔壁8に対して、曲面形状の蛍光体層9表面を形成するためには、蛍光体ペーストの粘度が40cp以上150cp以下のものが好ましい。この範囲の粘度で蛍光体を塗布すると、テーパーと底面の頂点がなだらかになり、図11に示すように隔壁8が垂直またはテーパー形状であり、蛍光体層9表面が曲面形状であるセル構造が実現できる。これにより、輝度が向上し、輝度の経時劣化が許容範囲におさまり、製造工程が簡略化できる。また、縦リブを垂直に近い形状で形成し、横リブをテーパー形状に形成し、上記粘度の蛍光体ペーストを用いると、サステイン電極に垂直方向、水平方向ともに、プラズマ発光部分と蛍光体表面の距離を適切に確保でき、さらに効果が大きい。なお、本実施例5においても、蛍光体表面の平均曲率半径が隔壁の高さの1倍〜4倍である形状が好ましい。
【0077】
(実施例6)
実施例3と同様にして、曲面形状を有する隔壁を形成する。次に、各色の蛍光体ペーストをノズルから噴射させるが、従来の工程では蛍光体ペーストの粘度を15cpとしているが、多少高い粘度の蛍光体ペーストを噴射または塗布する。その後、500℃で10分間焼成し、蛍光体層9を形成する。
【0078】
蛍光体ペーストの粘度が150cp以上の場合は、ほとんど凹みが形成されない、あるいは非常に浅くなってしまう。また、粘度が40cp以下の場合は、隔壁8の垂直に近い部分に付着せずに流れ、セルの下部にたまるような状態になる。このような比較的深い曲面形状の隔壁8に対して、適切な深さの曲面形状の蛍光体層9表面を形成するためには、蛍光体ペーストの粘度が40cp以上150cp以下のものが好ましい。
【0079】
この範囲の粘度で蛍光体を塗布すると、テーパーと底面の頂点がなだらかになり、図12に示すように、隔壁8が深い曲面形状であり、蛍光体層9表面が浅い曲面形状であるセル構造が実現できる。つまり、曲面形状の平均曲率半径において、隔壁表面の方が蛍光体表面より大きいセル構造となる。これにより、輝度が向上し、輝度の経時劣化が許容範囲におさまり、製造工程が簡略化できる。また、隔壁の曲面形状を正確に形成するには制御が難しく、粘度の比較的高い蛍光体ペーストを用いて成形する方が、蛍光体表面の曲面形状の生産ばらつきが小さくなる。また、縦リブは垂直に近い形状で形成し、横リブは曲面形状に形成し、上記粘度の蛍光体ペーストを用いると、サステイン電極に垂直方向、水平方向ともに、プラズマ発光部分と蛍光体表面の距離を適切に確保でき、さらに効果が大きい。なお、本実施例6においても、蛍光体表面の平均曲率半径が隔壁の高さの1倍〜4倍である形状が好ましい。
【0080】
【発明の効果】
以下、本発明のPDPに対する効果について説明する。本発明によれば、従来のセル構造の隔壁あるいは蛍光体表面をテーパー形状または曲面形状にすることで、従来の概ね方形のセル構造と比較して、プラズマ発光部分と蛍光体表面の距離が適切にとれる構造になり、真空紫外光の減衰を抑制し、輝度が向上した。また、蛍光体の劣化を抑制し、輝度の経時劣化を抑制する効果がある。
【0081】
また、本発明によれば、隔壁がマトリクス構造のサステイン電極と平行な隔壁のみ、あるいは蛍光体表面をもテーパー形状、曲面形状、階段形状のいずれかにすることで、真空紫外光の減衰を抑え、さらに輝度が向上しかつ蛍光体劣化を低減することができるという効果がある。輝度が向上するということは、従来と同一輝度であっても消費電力が低減するということであり、また、寿命が長いという特徴も備えるので、本発明のプラズマディスプレイパネルは環境にやさしいものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例3に記載の曲面形状の隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す断面図
【図2】本発明の実施例1に記載のテーパー形状の隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す断面図
【図3】本発明の実施例1に記載の隔壁形成工程を示す断面図
【図4】本発明の実施例1に記載の隔壁形成工程を示す断面図
【図5】本発明の実施例1、2に記載のテーパー形状の隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す断面図
【図6】本発明の実施例2、4に記載の横リブのみテーパー形状の隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す断面図
【図7】本発明の実施例3に記載の曲面形状の隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す断面図
【図8】本発明の実施例3に記載の隔壁形成工程を示す断面図
【図9】本発明の実施例3に記載の隔壁形成工程を示す断面図
【図10】本発明の実施例3、4に記載の曲面形状の隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す断面図
【図11】本発明の実施例5に記載の曲面形状の蛍光体表面を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す断面図
【図12】本発明の実施例6に記載の曲面形状の蛍光体表面を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す断面図
【図13】従来のストライプ状隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す斜視図
【図14】従来のマトリクス状隔壁を示す斜視図
【図15】従来のマトリクス状隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す斜視図
【図16】従来のマトリクス状隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す横リブの断面図
【図17】従来のマトリクス状隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの構成を示す縦リブの断面図
【符号の説明】
1 前面ガラス基板
2 サステイン電極(表示電極)
3 誘電体ガラス層
4 誘電体保護膜
5 背面ガラス基板
6 アドレス電極
7 誘電体ガラス層
8 隔壁(リブ)
9 蛍光体層
10 レジスト層
11 マスク
12 放電空間
13 サステイン電極(表示電極)
14 紫外線
15 前面パネル
16 背面パネル
17 プラズマ発光部分
18 凸状レジスト部
19 サンドブラスト
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a plasma display panel used for a display device or the like, and more particularly, to a plasma display panel having improved brightness and luminous efficiency of the plasma display panel.
[0002]
[Prior art]
Expectations for high-definition, large-screen TVs are increasing. A CRT is superior to a plasma display and a liquid crystal in terms of resolution and image quality. However, a large screen of 40 inches or more increases depth and weight, which is not preferable. On the other hand, liquid crystal has excellent performance such as low power consumption and low driving voltage, but it is difficult to enlarge the screen because there are many vacuum manufacturing devices in the process, and in view of performance, the viewing angle is low. There is a problem that the screen response is narrow and the screen response is slow. On the other hand, a plasma display is capable of realizing a large screen, and a 40-inch class product has already been developed (for example, see Non-Patent Document 1).
[0003]
Plasma display panels (PDPs) are classified into a direct current type (DC type) and an alternating current type (AC type). In this specification, description will be made mainly on the AC type. FIG. 13 is a perspective view of a main part of a conventional AC plasma display panel. In FIG. 13, reference numeral 1 denotes a front glass substrate (front cover plate) made of sodium borosilicate glass by a float method, and a silver electrode or a sustain electrode (display electrode) comprising a transparent electrode and a silver electrode is formed on the front glass substrate 1. 2) and 13, on which a dielectric glass layer 3 and a dielectric protective film 4 formed using glass powder acting as a capacitor are covered. Reference numeral 5 denotes a back glass substrate (back plate) on which an address electrode (silver electrode) 6 and a dielectric glass layer 7 are provided, on which a partition 8 and a phosphor layer 9 are provided. The space between the partition walls 8 is a discharge space 12 in which a discharge gas is sealed.
[0004]
Further, in the striped partition structure as shown in FIG. 13, since the discharge space is shared with the adjacent cells, abnormal discharge often occurs, and a method of forming the partition in a matrix is used (FIG. 14). 17). This partition shape is often called a cross-girder shape or a waffle structure.
[0005]
Further, a technique of forming the partition walls in a step shape has been developed for the purpose of improving the viewing angle and the front luminance (for example, see Patent Document 1).
[0006]
[Patent Document 1]
JP-A-2002-334661
[Non-patent document 1]
"Functional Materials", February 1996, Vol. 16, no. 2, 7 pages
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
Gas discharges such as Xe and Ne are generated near both electrodes in response to the voltages applied to the scan electrodes and the sustain electrodes. Vacuum ultraviolet light is generated by the gas discharge. Vacuum ultraviolet light excites the phosphor coated on the bottom surface of the cell and the side wall of the partition. The excited phosphor emits any visible light of RGB. Vacuum ultraviolet light is greatly attenuated by distance in a gas atmosphere. In the conventional cell structure, there is a problem that the distance between the portion where plasma discharge occurs and the phosphor is long, and the generated vacuum ultraviolet light is attenuated before reaching the phosphor, resulting in low luminous efficiency. Further, if the distance between the discharge position and the phosphor surface is too short, the phosphor is deteriorated by vacuum ultraviolet light, and there is another problem relating to the emission life.
[0008]
In particular, there is a particular problem when the partition is a plasma display panel having a matrix structure. With respect to the partition wall parallel to the sustain electrode, the shape of the end of the plasma discharge has a shape like an oval arc. On the other hand, the shape of the edge of the plasma discharge is substantially rectangular in comparison with the partition wall perpendicular to the sustain electrode. For this reason, even if a tapered or curved partition wall is formed, there is a problem that attenuation of vacuum ultraviolet light cannot be suppressed and phosphor degradation cannot be reduced.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, we have found the following inventions as a result of considering conflicting problems of attenuation of vacuum ultraviolet light and deterioration of phosphor.
[0010]
The invention according to claim 1 is characterized in that the partition wall is formed in a tapered shape or a curved shape.
[0011]
The invention according to claim 2 is characterized in that the phosphor surface formed on the side wall of the partition has a tapered shape.
[0012]
The invention according to claim 3 is characterized in that the partition is defined by partition walls formed in a matrix, and only the partition walls parallel to the sustain electrodes are formed in a tapered shape.
[0013]
The invention according to claim 4 is based on the premise of the structure according to claim 1 or 3, wherein the angle of the tapered partition wall is larger than 20 ° from the direction perpendicular to the substrate surface.
[0014]
The invention according to claim 5 is characterized in that a phosphor surface formed on a side wall of the partition wall parallel to the sustain electrode is partitioned by a partition wall formed in a matrix shape.
[0015]
The invention according to claim 6 is characterized in that the angle is larger than 20 ° from a direction perpendicular to the substrate surface, assuming that the phosphor surface of claim 2 or 4 is provided.
[0016]
The invention according to claim 7 is characterized in that only partition walls parallel to the sustain electrode are partitioned by matrix-formed partition walls, and the phosphor surface formed on the side wall of the partition is tapered.
[0017]
The invention according to claim 8 is characterized in that the partition walls are partitioned by a matrix and only the partition walls parallel to the sustain electrodes have a curved surface shape or a stepped shape.
[0018]
The invention according to claim 9 is based on the premise that the partition has the curved surface shape or the stepped shape according to any one of claims 1, 2 and 8, and has an average radius of curvature of 1 to 4 times the height of the partition. There is a feature.
[0019]
The invention according to claim 10 is characterized in that the phosphor surface formed on the side wall of the partition wall parallel to the sustain electrode is defined by a curved surface or a step shape.
[0020]
The invention according to claim 11 is characterized in that the partition walls are partitioned by a matrix and the partition wall parallel to the sustain electrode has a curved shape, and the phosphor surface formed on the side surface of the partition has a curved shape.
[0021]
A twelfth aspect of the present invention is characterized in that the partition wall is partitioned by a matrix, the partition wall parallel to the sustain electrode is tapered, and the phosphor surface formed on the side wall of the partition is curved.
[0022]
The invention according to claim 13 is based on the premise that the phosphor has the curved surface shape or the staircase shape according to any one of claims 10 to 12, wherein the average radius of curvature of the phosphor surface formed on the side surface of the partition wall is one of the height of the partition wall. It is characterized in that it is twice to four times.
[0023]
The invention according to claim 14 is characterized in that a step of forming a resist portion having a tapered shape or a curved surface shape on a portion corresponding to a partition wall on a partition layer and then shaving the resist portion from above is provided.
[0024]
The invention according to claim 15 forms a resist portion nearly perpendicular to a portion corresponding to the partition wall parallel to the data electrode on the partition layer, and has a tapered shape or a curved surface shape at a portion corresponding to the partition wall parallel to the sustain electrode. After the formation of the resist portion, a step of shaving from the upper portion is provided.
[0025]
The invention according to claim 16 is characterized in that, based on the manufacturing method according to claim 14 or 15, the step of shaving from above is a sandblast method.
[0026]
The invention according to claim 17 is characterized in that a tapered phosphor surface is formed on the side wall of the partition wall by using a phosphor paste having a relatively high viscosity of 40 to 150 cp.
[0027]
The invention according to claim 18 is based on the premise that the tapered partition wall forming method according to any one of claims 12 to 16 is used, and the phosphor is formed by a process using a phosphor paste having a relatively high viscosity of 40 to 150 cp. It is characterized by forming a body surface.
[0028]
The invention according to claim 19 is based on the premise that the method for forming a tapered partition wall according to any one of claims 14 to 17 is used, and further includes a step of using a phosphor paste having a relatively high viscosity of 40 to 150 cp, A curved phosphor surface is formed on the side wall of the partition.
[0029]
The invention according to claim 20 is based on the premise that a curved partition wall is formed by the manufacturing method according to claim 14 or 15, and a curved surface is formed on a side wall of the partition wall by using a phosphor paste having a relatively high viscosity of 40 to 150 cp. It is characterized in that a phosphor surface having a shape is formed.
[0030]
As described above, in the conventional cell structure, the partition wall or the phosphor surface has a tapered shape or a curved surface shape. As a result, as compared with the conventional substantially rectangular cell structure, the distance between the plasma light-emitting portion and the phosphor surface can be appropriately set, and the conflicting problems of attenuation of vacuum ultraviolet light and deterioration of the phosphor have been solved.
[0031]
In addition, when the partition has a matrix structure, only the partition parallel to the sustain electrode or the phosphor surface is formed into a tapered shape, a curved surface shape, or a stepped shape, thereby suppressing vacuum ultraviolet light attenuation and deteriorating the phosphor. Can be reduced.
[0032]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0033]
(Embodiment 1)
An object of the present invention is to improve the brightness of a PDP panel by preventing the attenuation of vacuum ultraviolet light and the deterioration of phosphors. PDPs include a direct current type (DC type), an alternating current type (AC type), a DC / AC hybrid type, and an AC / DC hybrid type. The AC type, DC / AC hybrid type and AC / DC hybrid type usually use a dielectric protection film. In addition, the DC type often adopts a configuration that does not use a dielectric protection film, but it can also adopt a configuration that uses a dielectric protection film. The present invention is effective for all PDPs and light-emitting devices in which a dielectric protective film is used for protecting an electrode. Here, an AC type PDP will be mainly described.
[0034]
Although the plasma light-emitting portion 17 is shown in the figure, this is obtained by simulation, and the position of the plasma light-emission changes with time. The portion up to a portion where the luminance becomes 70% is shown. Partition walls parallel to the sustain electrodes are referred to as horizontal ribs, and partition walls perpendicular to the sustain electrodes are referred to as vertical ribs.
[0035]
13 and 15 are perspective views of an AC surface discharge type plasma display panel (hereinafter, referred to as “PDP”) according to the first embodiment, and FIGS. 16 and 17 are horizontal and vertical ribs in FIG. 15, respectively. It is sectional drawing. FIG. 14 is a perspective view showing a matrix partition. In these figures, a small number of cells are shown for the sake of convenience, but a PDP is formed by actually arranging a large number of cells that emit red (R), green (G), and blue (B). .
[0036]
This PDP has sustain electrodes (display electrodes) 2 and 13 on a front glass substrate (front cover plate) 1 as shown in FIGS. 13 and 15 to 17, and the sustain electrodes 2 and 13 are illustrated. Not available, but Ag electrode or ITO or SnO2Ag or another metal electrode is provided as a bus line on the transparent electrode. A dielectric glass paste is applied thereon by a die coating method or a blade coating method, and then applied to the front panel 15 having the dielectric glass layer 3 formed by firing and the rear glass substrate (back plate) 5. There is an address electrode 6, on which a dielectric glass layer 7 (glass composition is the same as the dielectric glass layer 3 on the first electrode), partition walls 8, and phosphor layers 9 of R, G, and B colors are formed. The rear panel 16 is arranged and the discharge gas is sealed in the discharge space 12 formed between the front panel 15 and the rear panel 16, and is manufactured as described below. Here, a method of manufacturing a PDP before improvement will be described, and improvements will be described in detail in each embodiment.
[0037]
(1) Fabrication of front panel 15
The front panel 15 is formed through the following steps (formation of a sustain electrode).
[0038]
The sustain electrodes 2 and 13 are formed on the front glass substrate 1 as follows. This will be described with reference to FIG.
[0039]
First, ITO (transparent conductor made of indium oxide and tin oxide) having a thickness of 0.12 μm is formed on the entire surface of the front glass substrate 1 by a sputtering method, and then a striped electrode having a width of 150 μm is formed by a photolithography method (electrode). (The distance is 0.05 mm.) Then, after forming a photosensitive silver paste on the entire surface, an Ag bus line having a width of 30 μm is formed on the ITO by the same photolithography method, and then the Ag is fired at 550 ° C. An Ag electrode (sustain electrode) is formed.
[0040]
(Formation of dielectric glass layer)
A binder component composed of dielectric glass (lead oxide glass or bismuth oxide glass) powder having a glass softening point of 550 ° C. to 600 ° C. and butyl carbitol acetate is formed into a paste using an organic binder, and is screen-printed. The dielectric glass layer is printed and fired at 550 ° C. to 650 ° C. after drying.
[0041]
(Formation of dielectric protection film)
The MgO film as the dielectric protection film 4 can be obtained by vacuum evaporation. In film formation, pellet-shaped MgO is used as an evaporation source. For example, using a MgO pellet having a particle size of 5 to 3 mm and a purity of 99.95% or more, a degree of vacuum of 5 × 10 5 is obtained by a reactive EB vapor deposition method using a piercing gun as a heating source.-5The film was formed under the conditions of Torr, an oxygen introduction flow rate of 10 sccm, an oxygen partial pressure of 90% or more, a rate of 20 ° / s, a film thickness of 7000 °, and a substrate temperature of 150 ° C.
[0042]
(2) Fabrication of rear panel 16
The back panel 16 is formed through the following steps.
[0043]
(Formation of address electrode)
First, the address electrodes 6 are formed on the rear glass substrate 5 by the same method as the above-described method for forming the sustain electrodes of the front panel 15.
[0044]
(Formation of dielectric glass layer)
A dielectric glass layer is formed thereon in the same manner as in the case of the front panel 15.
[0045]
(Formation of partition)
Then, the partition walls 8 formed by a screen printing method or a sand blast method are fixed at a predetermined pitch. The partition walls 8 may be formed in a stripe shape (FIG. 13) or in a matrix shape (FIGS. 14 and 15). In the first embodiment, a description will be given focusing on a matrix.
[0046]
(Formation of phosphor layer)
Next, one of a red (R) phosphor, a green (G) phosphor, and a blue (B) phosphor is disposed in each space between the partition walls 8 to form the phosphor layer 9. Form. The following phosphors are used as the phosphors of the respective colors R, G, and B.
[0047]
Red phosphor: Y2O3: Eu3+
Green phosphor: Zn2SiO4: Mn
Blue phosphor: BaMgAl10O17: Eu2+
The phosphor is formed as follows. First, a red phosphor Y having an average particle size of 2.0 μm is placed in the server.2O3: Eu3+A powder (50 wt%), ethyl cellulose (1.0 wt%), and a solvent (a phosphor mixture composed of α-terpineol (49 wt%)) were mixed and stirred by a sand mill, and a coating liquid having a viscosity of 15 cp was added. A red phosphor line is formed by ejecting a liquid for forming a red phosphor from a nozzle (nozzle diameter: 60 μm) into a stripe-shaped partition and simultaneously moving the substrate linearly. Similarly, blue (BaMgAl10O17: Eu2+), Green (Zn2SiO4: Mn), and baking at 500 ° C. for 10 minutes to form each phosphor layer 9.
[0048]
(3) Production of PDP by bonding front panel 15 and rear panel 16
Next, the front panel 15 and the rear panel 16 produced as described above are bonded together using sealing glass, and a high vacuum (1.0 × 10-4Pa (8 × 10-7After evacuation to about Torr), a discharge gas having a predetermined composition is sealed at a predetermined pressure to produce a PDP (see FIGS. 14 and 15).
[0049]
In the first embodiment, the cell pitch of the PDP is set to 0.36 mm and the distance d between the sustain electrodes 2 and 13 is set to 0.1 mm so that the cell size of the PDP conforms to the VGA of the 40-inch class.
[0050]
In addition, the composition of the discharge gas to be charged is a conventionally used Ne-Xe system. By doing so, the emission luminance of the cell is improved.
[0051]
【Example】
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0052]
(Example 1)
FIG. 2 is a sectional view showing a discharge cell of the plasma display according to the first embodiment of the present invention. Note that the discharge cells shown in this cross-sectional view may have a stripe shape or a matrix shape.
[0053]
In FIG. 2, an address electrode 6 and a dielectric glass layer 7 are laminated on a back glass substrate 5, and a discharge space 12 is defined by a tapered partition wall 8. The phosphor layer 9 is formed on the surface of the partition 8.
[0054]
FIG. 16 is a sectional view of a conventional discharge cell. The conventional partition 8 has a shape close to a rectangle, and the discharge space 12 also has a shape close to a rectangle. As shown, the plasma emitting portion 17 has a curved surface extending below the sustain electrodes 2 and 13 and extending toward the address electrode 6. In the case of the conventional rectangular partition wall 8, since the distance between the plasma light emitting portion 17 and the surface of the phosphor layer 9 differs depending on the position, the difference between the short portion and the long portion is large, the vacuum ultraviolet light is attenuated, and the phosphor is It can be seen that the state is deteriorated.
[0055]
In other words, the vacuum ultraviolet light emitted from the plasma light-emitting portion 17 is greatly attenuated by distance in a gas atmosphere, and the generated vacuum ultraviolet light is applied to the fluorescent material in a portion where the distance between the plasma discharge portion and the fluorescent material is long. And the luminous efficiency decreases. If the distance between the discharge position and the phosphor surface is too short, the phosphor is deteriorated by vacuum ultraviolet light, and the light emission life is shortened. As described above, while there is a preferable distance between the plasma light emitting portion and the phosphor surface, there are also conflicting problems.
[0056]
On the other hand, as shown in FIG. 2, when the tapered partition wall 8 of the present invention is used, the difference due to the distance between the plasma light emitting portion 17 and the surface of the phosphor layer 9 is reduced. Thereby, the deterioration of vacuum ultraviolet light is reduced, and the luminance is improved. Further, the deterioration with time of the luminance due to the deterioration of the phosphor can be suppressed within the allowable range. It is necessary that the partition wall or the tapered shape of the phosphor surface satisfying the above-mentioned features be larger than 20 ° from the direction perpendicular to the substrate surface.
[0057]
The above partition wall shape was produced using the following production method. In the step of forming the partition wall of the back panel 16, a photosensitive positive resist (resist layer 10) is coated on the dielectric glass layer 7 and prebaked, and then the top is covered with a light-exposure mask 11 having a halftone. Contact exposure was performed using ultraviolet light 14 having high intensity. Note that chromium, silver salt, and the like were used as a mask material (FIG. 3A).
[0058]
FIG. 3B shows the transmittance of the exposure mask used for exposure in the first embodiment with respect to exposure ultraviolet rays. By exposing with the exposure mask having such a halftone, the intensity of the ultraviolet rays reaching the positive resist could be controlled. When development and post-baking are performed by exposing to light using ultraviolet rays 14 having a predetermined intensity, as shown in FIG. 4A, a convex (camel-shaped) resist portion 18 is periodically formed on the dielectric glass layer 7. It could be left. Next, when etching was performed by the sand blast method (arrow 19), the resist was etched in order from the thinner portion, and the partition wall 8 made of tapered dielectric glass was formed (FIG. 4B).
[0059]
Although the thickness of the mask is changed in order to give a halftone to the mask, the mask may be given a halftone by another method. For example, a mask having a distribution of transmittance may be used by opening a large number of minute holes in the mask and making a difference in the density or the size of the holes.
[0060]
(Example 2)
FIG. 17 is a diagram showing a conventional discharge cell structure in a cross section parallel to a sustain electrode. In this sectional view, the plasma light emitting portion 17 is slightly bent, but emits light in a shape close to a rectangle. In Example 1, a tapered shape was formed for the matrix-shaped partition walls without distinction between vertical ribs and horizontal ribs. FIG. 5 shows a cross-sectional view parallel to the sustain electrode when the vertical ribs and the horizontal ribs are formed in a tapered shape. In this sectional view, the taper angle of the partition wall 8 is too small, and there is a portion where the plasma light emitting portion 17 and the surface of the phosphor layer 9 are close to each other. In this close portion, the phosphor is significantly deteriorated, and although the initial luminance is bright, the luminance is deteriorated with time.
[0061]
In the discharge cell according to the second embodiment, matrix-shaped partitions are formed. Partitions parallel to the sustain electrodes have a tapered shape (FIG. 2), and partitions perpendicular to the sustain electrodes have a shape close to a rectangle. (Fig. 6). That is, the partition wall having a taper angle parallel to the sustain electrode is larger than the vertical partition wall. The same effect can be obtained by applying the definition of the partition 8 to the surface of the phosphor layer 9.
[0062]
In this way, by making only the partition (transverse rib) parallel to the sustain electrode into a tapered shape, the distance between the plasma light-emitting portion and the phosphor surface becomes almost a preferable distance in any portion. Thereby, the deterioration of vacuum ultraviolet light is reduced, and the luminance is improved. Further, the deterioration with time of the luminance due to the deterioration of the phosphor can be suppressed within the allowable range. As the tapered shape of the partition wall or the phosphor surface which satisfies the above features, the horizontal ribs are preferably larger than 20 ° from the direction perpendicular to the substrate surface, and the vertical ribs are preferably smaller than 20 °.
[0063]
The above partition wall shape was produced using the same steps as in Example 1. The exposure mask was designed so that the transmittance of the vertical rib portions was binary, and the transmittance of the horizontal rib portions had a halftone (FIG. 3B). Thereafter, through the same steps as in Example 1, matrix ribs having vertical ribs close to a rectangular shape and horizontal ribs having a tapered shape were formed.
[0064]
(Example 3)
FIG. 1 is a sectional view showing a discharge cell of a plasma display according to Embodiment 3 of the present invention. Note that the discharge cells shown in this cross-sectional view may have a stripe shape or a matrix shape. In FIG. 1, an address electrode 6 and a dielectric glass layer 7 are laminated on a rear glass substrate 5, and a discharge space 12 is defined by a curved partition wall 8. A phosphor layer 9 is formed on the surface of the partition.
[0065]
FIG. 16 is a sectional view of a conventional discharge cell. The conventional partition 8 has a shape close to a rectangle, and the discharge space 12 also has a shape close to a rectangle. As shown, the plasma emitting portion 17 has a curved surface extending below the sustain electrodes 2 and 13 and extending toward the address electrode 6. In the case of the conventional rectangular partition wall 8, since the distance between the plasma light emitting portion 17 and the surface of the phosphor layer 9 differs depending on the position, the difference between the short portion and the long portion is large, the vacuum ultraviolet light is attenuated, and the phosphor is It can be seen that the state is deteriorated.
[0066]
On the other hand, as shown in FIG. 1, when the curved partition wall 8 of the present invention is used, the difference due to the distance between the plasma light emitting portion 17 and the surface of the phosphor layer 9 is reduced. Thereby, the deterioration of vacuum ultraviolet light is reduced, and the luminance is improved. Further, the deterioration with time of the luminance due to the deterioration of the phosphor can be suppressed within the allowable range. In addition, as the curved surface shape of the partition wall or the phosphor surface satisfying the above-mentioned features, the surface becomes a cylindrical surface or a shape obtained by stretching it, and the average curvature of the partition wall surface or the phosphor surface is 1 to 4 times the height of the partition wall. Is preferred.
[0067]
Further, although the partition shape shown in FIG. 1 is a shape in which the partition wall has a curved surface with respect to the entire cell, a portion parallel to the dielectric glass layer 7 may be present (FIG. 7). On the surface parallel to the dielectric glass layer 7, the dielectric glass layer 7 may be exposed, a part of the dielectric glass layer 7 may be etched, or a part of the partition wall may remain. Is also good. In this case, the presence of the plane parallel to the address electrode 6 has the effect of stabilizing the accumulated charge for the address and reducing the defects due to the non-lighted pixels.
[0068]
The above partition wall shape was produced using the following production method. In the step of forming the partition walls of the rear panel 16, a photosensitive positive resist (resist layer 10) is coated on the dielectric glass layer 7 and prebaked, and then a gradation corresponding to the height distribution of the partition walls is formed thereon. Then, the substrate was covered with an exposure mask 11 having a halftone transmittance, and this was subjected to close contact exposure using ultraviolet rays 14 having a predetermined intensity. Note that chromium, silver salt, and the like were used as the mask material (FIG. 8A).
[0069]
FIG. 8B shows the transmittance of the exposure mask used for exposure in the third embodiment to ultraviolet rays for exposure. By exposing with the exposure mask having such a halftone, the intensity of the ultraviolet rays reaching the positive resist could be controlled. After exposure and development using an ultraviolet ray 14 having a predetermined intensity, the resultant was developed and post-baked. As shown in FIG. 9A, a convex (camel-shaped) resist portion 18 was periodically formed on the dielectric glass layer 7. Was able to remain. Next, when etching is performed by the sand blast method (arrow 19), the etching is performed in order from the thin portion of the resist, and the partition wall 8 made of a dielectric glass having a curved surface is formed (FIG. 9B).
[0070]
(Example 4)
FIG. 17 is a diagram showing a conventional discharge cell structure in a cross section parallel to a sustain electrode. When viewed from this cross section, the plasma light emitting portion 17 emits light in a shape close to a rectangle although it is slightly bent. In Example 3, a curved shape was formed on a matrix-shaped partition wall without distinction between vertical ribs and horizontal ribs. FIG. 10 is a cross-sectional view parallel to the sustain electrode when the vertical ribs and the horizontal ribs are formed in a curved shape. From this cross-sectional view, it can be seen that there is a portion where the plasma light emitting portion 17 and the surface of the phosphor layer 9 are close to each other, and the curved shape of the partition wall 8 is incompatible. In this close portion, the phosphor is significantly deteriorated, and although the initial luminance is bright, the luminance is deteriorated with time.
[0071]
In the discharge cell according to the fourth embodiment, the partition walls in the form of a matrix are formed. The partition walls parallel to the sustain electrodes have a curved surface shape (FIG. 1), and the partition walls perpendicular to the sustain electrodes have a substantially rectangular shape ( (Fig. 6). That is, when the partition walls are regarded as having a curved surface shape and the average radius of curvature is calculated, the partition walls having an average radius of curvature parallel to the sustain electrode are smaller than the partition walls perpendicular to the sustain electrode. The same effect can be obtained by applying the definition of the partition 8 to the surface of the phosphor layer 9.
[0072]
In this way, by forming only the partition wall (lateral rib) parallel to the sustain electrode into a curved shape, the distance between the plasma light-emitting portion and the phosphor surface becomes substantially preferable in any portion. Thereby, the deterioration of vacuum ultraviolet light is reduced, and the luminance is improved. Further, the deterioration with time of the luminance due to the deterioration of the phosphor can be suppressed within the allowable range. The curved surface shape of the partition wall or the phosphor surface parallel to the sustain electrode that satisfies the above-mentioned features is a cylindrical surface or a shape obtained by extending the cylindrical surface, and the average curvature of the partition wall surface or the phosphor surface is one time the height of the partition wall. It is preferably up to 4 times.
[0073]
The above partition wall shape was manufactured using the same steps as in Example 3. The exposure mask was designed so that the transmittance of the vertical rib portions was binary, and the transmittance of the horizontal rib portions was halftone (FIG. 8B). Thereafter, through the same steps as in Example 3, matrix ribs having vertical ribs close to a rectangular shape and horizontal ribs having a curved surface were formed.
[0074]
In the fourth embodiment, the taper angle of the partition wall parallel to the sustain electrode is set to be large and the average radius of curvature is set to be small. In order to optimize each design, it is necessary to use a cell structure having different vertical and horizontal ribs, different taper angles of the phosphor surface, or different average radii of curvature.
[0075]
(Example 5)
In the same manner as in Example 1, a partition having a tapered shape is formed. Next, the phosphor paste of each color is ejected from a nozzle. In the conventional process, the viscosity of the phosphor paste is set to 15 cp, but the phosphor paste having a somewhat higher viscosity is ejected or applied. Thereafter, baking is performed at 500 ° C. for 10 minutes to form the phosphor layer 9.
[0076]
When the viscosity of the phosphor paste is 150 cp or more, a dent is hardly formed or becomes very shallow. On the other hand, when the viscosity is 40 cp or less, it flows without adhering to a portion near the vertical of the partition wall 8, and becomes a state where it accumulates at the lower part of the cell. Therefore, in order to form the curved phosphor layer 9 surface on the tapered partition wall 8, the phosphor paste preferably has a viscosity of 40 cp or more and 150 cp or less. When the phosphor is applied with the viscosity in this range, the taper and the bottom of the bottom become gentle, and as shown in FIG. 11, the partition 8 has a vertical or tapered shape and the phosphor layer 9 has a curved cell surface. realizable. As a result, the luminance is improved, the temporal deterioration of the luminance falls within an allowable range, and the manufacturing process can be simplified. In addition, when the vertical ribs are formed in a shape close to vertical, the horizontal ribs are formed in a tapered shape, and the phosphor paste having the above viscosity is used, both in the vertical direction and the horizontal direction in the sustain electrode, the plasma light emitting portion and the phosphor surface are formed. The distance can be properly secured, and the effect is great. Note that, also in the fifth embodiment, a shape in which the average radius of curvature of the phosphor surface is 1 to 4 times the height of the partition wall is preferable.
[0077]
(Example 6)
In the same manner as in the third embodiment, a partition having a curved surface shape is formed. Next, the phosphor paste of each color is ejected from a nozzle. In the conventional process, the viscosity of the phosphor paste is set to 15 cp, but the phosphor paste having a somewhat higher viscosity is ejected or applied. Thereafter, baking is performed at 500 ° C. for 10 minutes to form the phosphor layer 9.
[0078]
When the viscosity of the phosphor paste is 150 cp or more, a dent is hardly formed or becomes very shallow. On the other hand, when the viscosity is 40 cp or less, it flows without adhering to a portion near the vertical of the partition wall 8, and becomes a state where it accumulates at the lower part of the cell. In order to form the surface of the phosphor layer 9 having a curved surface having an appropriate depth with respect to the partition wall 8 having a relatively deep curved surface, the phosphor paste preferably has a viscosity of 40 cp or more and 150 cp or less.
[0079]
When the phosphor is applied with the viscosity in this range, the taper and the bottom of the bottom become gentle, and as shown in FIG. 12, the partition 8 has a deep curved surface and the phosphor layer 9 has a shallow curved surface. Can be realized. In other words, in the average radius of curvature of the curved surface shape, the partition wall surface has a cell structure larger than the phosphor surface. As a result, the luminance is improved, the temporal deterioration of the luminance falls within an allowable range, and the manufacturing process can be simplified. In addition, it is difficult to accurately form the curved surface shape of the partition wall, and molding using a phosphor paste having a relatively high viscosity reduces the production variation of the curved surface shape of the phosphor surface. In addition, the vertical ribs are formed in a shape close to vertical, the horizontal ribs are formed in a curved shape, and when the phosphor paste having the above viscosity is used, both the vertical direction and the horizontal direction of the sustain electrode, the plasma light emitting portion and the surface of the phosphor are formed. The distance can be properly secured, and the effect is great. In the sixth embodiment, the shape in which the average radius of curvature of the phosphor surface is 1 to 4 times the height of the partition walls is also preferable.
[0080]
【The invention's effect】
Hereinafter, the effects of the present invention on the PDP will be described. According to the present invention, the distance between the plasma light-emitting portion and the phosphor surface is more appropriate by making the partition walls or the phosphor surface of the conventional cell structure tapered or curved in shape than in the conventional generally rectangular cell structure. , The attenuation of vacuum ultraviolet light was suppressed, and the luminance was improved. Further, there is an effect that the deterioration of the phosphor is suppressed and the deterioration with time of the luminance is suppressed.
[0081]
According to the present invention, the attenuation of the vacuum ultraviolet light is suppressed by forming only the partition walls which are parallel to the sustain electrode having the matrix structure, or the phosphor surface in a tapered shape, a curved surface shape, or a stepped shape. In addition, there is an effect that the luminance can be further improved and the deterioration of the phosphor can be reduced. The improvement in brightness means that power consumption is reduced even at the same brightness as before, and the plasma display panel of the present invention is also environmentally friendly because it has a feature of long life. .
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a plasma display panel having a curved partition wall according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a plasma display panel having a tapered partition wall according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a partition forming step according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a partition forming step according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a plasma display panel having tapered partition walls according to the first and second embodiments of the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a plasma display panel having a tapered partition wall only in horizontal ribs according to Examples 2 and 4 of the present invention.
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a plasma display panel having a curved partition wall according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a sectional view showing a partition wall forming step according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a sectional view showing a partition wall forming step according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a plasma display panel having a curved partition wall according to the third and fourth embodiments of the present invention.
FIG. 11 is a sectional view showing a configuration of a plasma display panel having a curved phosphor surface according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a plasma display panel having a curved phosphor surface according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 13 is a perspective view showing the configuration of a conventional plasma display panel having striped partition walls.
FIG. 14 is a perspective view showing a conventional matrix partition.
FIG. 15 is a perspective view showing a configuration of a conventional plasma display panel having matrix-shaped partition walls.
FIG. 16 is a cross-sectional view of a horizontal rib showing a configuration of a plasma display panel having a conventional matrix partition.
FIG. 17 is a cross-sectional view of a vertical rib showing a configuration of a plasma display panel having a conventional matrix partition.
[Explanation of symbols]
1 Front glass substrate
2 Sustain electrode (display electrode)
3 Dielectric glass layer
4 Dielectric protection film
5 Back glass substrate
6 Address electrode
7 Dielectric glass layer
8 ribs (ribs)
9 Phosphor layer
10 Resist layer
11 Mask
12 Discharge space
13 Sustain electrode (display electrode)
14 UV
15 Front panel
16 Rear panel
17 Plasma emission part
18 Convex resist
19 Sandblast

Claims (20)

表面板または背面板の少なくとも一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、隔壁によって区画された放電空間にガスが充填される構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、
隔壁が断面形状においてテーパー形状または曲面形状に形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
An electrode for applying a voltage from the outside to at least one of the front plate or the back plate is provided, and in a plasma display panel configured to be filled with a gas in a discharge space partitioned by partition walls,
A plasma display panel, wherein a partition wall is formed in a tapered shape or a curved shape in a cross-sectional shape.
表面板または背面板の少なくとも一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、隔壁によって区画された放電空間にガスが充填される構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、
隔壁側面に形成された蛍光体面が断面形状においてテーパー形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
An electrode for applying a voltage from the outside to at least one of the front plate or the back plate is provided, and in a plasma display panel configured to be filled with a gas in a discharge space partitioned by partition walls,
A plasma display panel, wherein a phosphor surface formed on a side surface of a partition wall has a tapered cross section.
表面板または背面板の少なくとも一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、更に前記表面ガラスと背面ガラスとの間にマトリクス状に形成された隔壁によって区画された放電空間にガスが充填される構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、
サステイン電極と平行な隔壁のみ断面形状においてテーパー形状に形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
An electrode for applying a voltage from the outside is provided on at least one of the front plate and the rear plate, and gas is filled in a discharge space defined by partition walls formed in a matrix between the front glass and the rear glass. In the configuration of the plasma display panel,
A plasma display panel, wherein only a partition wall parallel to a sustain electrode is formed to have a tapered cross section.
請求項1または3に記載のテーパー形状の隔壁の角度が基板面に対して垂直方向から20°より大きいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。4. The plasma display panel according to claim 1, wherein the angle of the tapered partition wall according to claim 1 is greater than 20 ° from a direction perpendicular to the substrate surface. 表面板または背面板の少なくとも一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、更に前記表面ガラスと背面ガラスとの間にマトリクス状に形成された隔壁によって区画された放電空間にガスが充填される構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、
少なくともサステイン電極と平行な隔壁側面に形成された蛍光体面が断面形状においてテーパー形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
An electrode for applying a voltage from the outside is provided on at least one of the front plate and the rear plate, and gas is filled in a discharge space defined by partition walls formed in a matrix between the front glass and the rear glass. In the configuration of the plasma display panel,
A plasma display panel characterized in that at least a phosphor surface formed on a side wall of a partition wall parallel to a sustain electrode has a tapered cross section.
請求項2または4に記載のテーパー形状の蛍光体面の角度が基板面に対して垂直方向から20°より大きいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。5. The plasma display panel according to claim 2, wherein the angle of the tapered phosphor surface according to claim 2 or 4 is greater than 20 degrees from a direction perpendicular to the substrate surface. 表面板または背面板の少なくとも一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、更に前記表面ガラスと背面ガラスとの間にマトリクス状に形成された隔壁によって区画された放電空間にガスが充填される構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、
少なくともサステイン電極と平行な隔壁のみ断面形状においてテーパー形状でありかつ前記隔壁側面に形成された蛍光体面断面形状においてがテーパー形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
An electrode for applying a voltage from the outside is provided on at least one of the front plate and the rear plate, and gas is filled in a discharge space defined by partition walls formed in a matrix between the front glass and the rear glass. In the configuration of the plasma display panel,
A plasma display panel wherein at least only a partition wall parallel to a sustain electrode has a tapered cross-sectional shape, and a cross-sectional shape of a phosphor formed on a side surface of the partition wall has a tapered shape.
表面板または背面板の少なくとも一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、更に前記表面ガラスと背面ガラスとの間にマトリクス状に形成された隔壁によって区画された放電空間にガスが充填される構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、
サステイン電極と平行な隔壁のみ断面形状において曲面形状または階段形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
An electrode for applying a voltage from the outside is provided on at least one of the front plate and the rear plate, and gas is filled in a discharge space defined by partition walls formed in a matrix between the front glass and the rear glass. In the configuration of the plasma display panel,
A plasma display panel characterized in that only a partition wall parallel to a sustain electrode has a curved or stepped cross-sectional shape.
請求項1、2または8のいずれかに記載の曲面形状または階段形状の隔壁の平均曲率半径が隔壁の高さの1倍〜4倍であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。9. A plasma display panel according to claim 1, wherein the curved or stepped partition walls have an average radius of curvature of one to four times the height of the partition walls. 表面板または背面板の少なくとも一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、更に前記表面ガラスと背面ガラスとの間にマトリクス状に形成された隔壁によって区画された放電空間にガスが充填される構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、
サステイン電極と平行な隔壁側面に形成された蛍光体面が断面形状において曲面形状または階段形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
An electrode for applying a voltage from the outside is provided on at least one of the front plate and the rear plate, and gas is filled in a discharge space defined by partition walls formed in a matrix between the front glass and the rear glass. In the configuration of the plasma display panel,
A plasma display panel, wherein a phosphor surface formed on a side wall of a partition wall parallel to a sustain electrode has a curved or stepped cross section.
表面板または背面板の少なくとも一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、更に前記表面ガラスと背面ガラスとの間にマトリクス状に形成された隔壁によって区画された放電空間にガスが充填される構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、
サステイン電極と平行な隔壁が断面形状において曲面形状でありかつ隔壁側面に形成された蛍光体面が断面形状において曲面形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
An electrode for applying a voltage from the outside is provided on at least one of the front plate and the rear plate, and gas is filled in a discharge space defined by partition walls formed in a matrix between the front glass and the rear glass. In the configuration of the plasma display panel,
A plasma display panel, wherein a partition wall parallel to a sustain electrode has a curved cross-sectional shape, and a phosphor surface formed on a side surface of the partition wall has a curved cross-sectional shape.
表面板または背面板の少なくとも一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、更に前記表面ガラスと背面ガラスとの間にマトリクス状に形成された隔壁によって区画された放電空間にガスが充填される構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、
サステイン電極と平行な隔壁が断面形状においてテーパー形状でありかつ隔壁側面に形成された蛍光体面が断面形状において曲面形状であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
An electrode for applying a voltage from the outside is provided on at least one of the front plate and the rear plate, and gas is filled in a discharge space defined by partition walls formed in a matrix between the front glass and the rear glass. In the configuration of the plasma display panel,
A plasma display panel, wherein a partition wall parallel to a sustain electrode has a tapered cross-sectional shape, and a phosphor surface formed on a side surface of the partition wall has a curved cross-sectional shape.
請求項10から12のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルに存する曲面形状または階段形状の隔壁の側面に形成された蛍光体面の平均曲率半径が隔壁の高さの1倍〜4倍であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。13. The average radius of curvature of the phosphor surface formed on the side surface of the curved or stepped partition in the plasma display panel according to claim 10 is 1 to 4 times the height of the partition. Characteristic plasma display panel. 隔壁層上の隔壁に相当する部分に断面形状においてテーパー形状または曲面形状を有するレジスト部分を形成した後、上部から削る工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。A method for manufacturing a plasma display panel, comprising: forming a resist portion having a tapered or curved cross-sectional shape in a portion corresponding to a partition on a partition layer, and then shaving the resist from an upper portion. 隔壁層上のデータ電極に平行な隔壁に相当する部分に垂直に近いレジスト部分を形成し、サステイン電極に平行な隔壁に相当する部分にテーパー形状または曲面形状を有するレジスト部分を形成した後、上部から削る工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。After forming a resist portion nearly perpendicular to a portion corresponding to the partition wall parallel to the data electrode on the partition layer, and forming a resist portion having a tapered or curved surface shape at a portion corresponding to the partition wall parallel to the sustain electrode, the upper portion is formed. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising: 上部から削る工程が、サンドブラスト法であることを特徴とする請求項14または15に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 14, wherein the step of shaving from the upper portion is a sandblast method. 粘度が40〜150cpの蛍光体ペーストを用いるの方法により、隔壁側面にテーパー形状の蛍光体面を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。A method for manufacturing a plasma display panel, wherein a tapered phosphor surface is formed on a side surface of a partition wall by using a phosphor paste having a viscosity of 40 to 150 cp. 請求項12から13のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの隔壁,又は請求項14から16のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において,隔壁に粘度が40〜150cpの蛍光体ペーストを用いることにより、隔壁側面にテーパー形状の蛍光体面を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。In the method of manufacturing a plasma display panel according to any one of claims 12 to 13 or the method of manufacturing a plasma display panel according to any one of claims 14 to 16, a phosphor paste having a viscosity of 40 to 150 cp is used for the partition. A method of manufacturing a plasma display panel, wherein a phosphor surface having a tapered shape is formed on a side surface of a partition wall. 請求項14から17のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において,断面形状がテーパー形状の隔壁に粘度が40〜150cpの蛍光体ペーストを用いることにより、隔壁側面に曲面形状の蛍光体面を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。18. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 14, wherein a phosphor paste having a viscosity of 40 to 150 cp is used for a partition having a tapered cross section, so that a curved phosphor surface is formed on a side surface of the partition. Forming a plasma display panel. 請求項14または15のプラズマディスプレイパネルの製造方法において,断面形状が曲面形状の隔壁に,粘度が40〜150cpの蛍光体ペーストを用いることにより、隔壁側面に曲面形状の蛍光体面を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。16. The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 14 or 15, wherein a phosphor paste having a viscosity of 40 to 150 cp is used for the partition wall having a curved cross section to form a curved phosphor surface on the side wall of the partition wall. A method for manufacturing a plasma display panel, which is characterized in that:
JP2003131341A 2003-05-09 2003-05-09 Plasma display panel and its manufacturing method Pending JP2004335339A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003131341A JP2004335339A (en) 2003-05-09 2003-05-09 Plasma display panel and its manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003131341A JP2004335339A (en) 2003-05-09 2003-05-09 Plasma display panel and its manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004335339A true JP2004335339A (en) 2004-11-25

Family

ID=33506537

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003131341A Pending JP2004335339A (en) 2003-05-09 2003-05-09 Plasma display panel and its manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004335339A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007003447A (en) * 2005-06-27 2007-01-11 Toray Ind Inc Method and apparatus for inspecting curved surface, and method and apparatus for inspecting display panel

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007003447A (en) * 2005-06-27 2007-01-11 Toray Ind Inc Method and apparatus for inspecting curved surface, and method and apparatus for inspecting display panel
JP4705417B2 (en) * 2005-06-27 2011-06-22 東レ株式会社 Display panel inspection method and apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6965201B2 (en) Plasma display device having barrier ribs
US6812641B2 (en) Plasma display device
JPH0737510A (en) Plasma display panel
KR20070059381A (en) A slurry, a green sheet for a wall and a wall manufacturing method of plasma display panel
US7489079B2 (en) Plasma display having a recessed part in a discharge cell
JP2004119118A (en) Plasma display device and its manufacturing method
JP4546502B2 (en) Plasma display panel and method for forming partition of plasma display panel
JP2006216525A (en) Plasma display device, plasma display panel, and method for production thereof
JP4519629B2 (en) Plasma display member and plasma display
JP2004335339A (en) Plasma display panel and its manufacturing method
JPH11185635A (en) Plasma display panel and manufacture of plasma display panel
JP4102073B2 (en) Plasma display panel and manufacturing method thereof
JP2005116349A (en) Plasma display device
JP2003132799A (en) Alternate current driving type plasma display
US20070152590A1 (en) Plasma display panel
JP2004335340A (en) Plasma display panel, its manufacturing method, and manufacturing device therefor
US20070152589A1 (en) Plasma display panel
US20060043896A1 (en) Plasma display apparatus including barrier rib and method of manufacturing the same
JP2005222722A (en) Plasma display panel
JP2007103148A (en) Plasma display panel
JP2007157485A (en) Plasma display panel and manufacturing method of the same
US20070152585A1 (en) Plasma display panel
JP2011222325A (en) Method for manufacturing plasma display panel, and plasma display panel
JP2002352724A (en) Gas discharge panel
JP2005209636A (en) Plasma display component and plasma display