KR20090057456A - Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법 - Google Patents

Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20090057456A
KR20090057456A KR20097008192A KR20097008192A KR20090057456A KR 20090057456 A KR20090057456 A KR 20090057456A KR 20097008192 A KR20097008192 A KR 20097008192A KR 20097008192 A KR20097008192 A KR 20097008192A KR 20090057456 A KR20090057456 A KR 20090057456A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
indium
ito
hydroxide
oxide
tin
Prior art date
Application number
KR20097008192A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101155359B1 (ko
Inventor
유이치로 신도
고우이치 다케모토
Original Assignee
닛코 킨조쿠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛코 킨조쿠 가부시키가이샤 filed Critical 닛코 킨조쿠 가부시키가이샤
Publication of KR20090057456A publication Critical patent/KR20090057456A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101155359B1 publication Critical patent/KR101155359B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C1/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C1/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions
    • C25C1/14—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions of tin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B25/00—Obtaining tin
    • C22B25/06—Obtaining tin from scrap, especially tin scrap
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/04—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
    • C22B3/045—Leaching using electrochemical processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B58/00—Obtaining gallium or indium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B7/00—Working up raw materials other than ores, e.g. scrap, to produce non-ferrous metals and compounds thereof; Methods of a general interest or applied to the winning of more than two metals
    • C22B7/006—Wet processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • C25B1/01—Products
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C1/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions
    • C25C1/22—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions of metals not provided for in groups C25C1/02 - C25C1/20
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00—Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20—Recycling

Abstract

ITO 스크랩을 pH 조정한 전해액 중에서 전해시킴으로써, 수산화인듐 및 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물을 회수하여, 필요에 따라 이것을 배소하여 산화인듐 및 산화주석의 혼합물로서 회수하는 것을 특징으로 하는 ITO 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법. 인듐-주석 산화물 (ITO) 스퍼터링 타겟 또는 제조시에 발생되는 ITO 단재 등의 ITO 스크랩으로부터, 수산화인듐 및 수산화주석 혹은 메타주석산, 또는 인듐 및 주석의 산화물을 효율적으로 회수하는 방법을 제공한다.

Description

ＩＴＯ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법{METHOD FOR COLLECTION OF VALUABLE METAL FROM ITO SCRAP}
본 발명은, 사용이 완료된 인듐-주석 산화물 (ITO) 스퍼터링 타겟 또는 제조시에 발생되는 ITO 단재 (端材) 등의 ITO 스크랩 (본원 명세서에 있어서는, 이들을「ITO 스크랩」이라고 총칭한다) 으로부터의 유가 금속의 회수 방법에 관한 것이다.
최근, 인듐-주석 산화물 (In2O3-SnO2 : 일반적으로 ITO 로 불린다) 스퍼터링 타겟은 액정 표시 장치의 투명 도전성 박막이나 가스 센서 등에 널리 사용되고 있는데, 대부분의 경우 스퍼터링법에 의한 박막 형성 수단을 이용하여 기판 등의 위에 박막이 형성되어 있다.
이 스퍼터링법에 의한 박막 형성 수단은 우수한 방법이지만, 스퍼터링 타겟을 이용하여, 예를 들어 투명 도전성 박막을 형성해 가면, 그 타겟은 균일하게 소모되어 가는 것은 아니다. 이 타겟 일부의 소모가 심한 부분을 일반적으로 에로전(erosion)부라고 부르는데, 이 에로전부의 소모가 진행되어 타겟을 지지하는 배킹 플레이트가 노출되기 직전까지 스퍼터링 조작을 속행시킨다. 그리고, 그 후에는 새로운 타겟으로 교환하였다.
따라서, 사용이 완료된 스퍼터링 타겟에는 많은 비(非)에로전부, 즉 사용하지 않은 타겟 부분이 잔존하게 되고, 이들은 모두 스크랩이 된다. 또, ITO 스퍼터링 타겟 제조시에도, 연마분이나 절삭분으로부터 스크랩 (단재) 이 발생된다. 일반적으로, 산화주석 (SnO2) 이 9.7wt% 전후 함유되어 있는데, 대부분은 산화인듐 (In2O3) 이다.
ITO 스퍼터링 타겟 재료에는 고순도재가 사용되었고, 특히 인듐은 가격도 비싸기 때문에, 일반적으로 이와 같은 스크랩재로부터 인듐을 회수하는 것이, 그리고 또한, 동시에 주석을 회수하는 것이 이루어졌다. 이 인듐 회수 방법으로서, 종래 산 용해법, 이온 교환법, 용매 추출법 등의 습식 정제를 조합한 방법이 이용되었다.
예를 들어, ITO 스크랩을 세정 및 분쇄 후 질산에 용해시키고, 용해액에 황화수소를 통과시켜 아연, 주석, 납, 구리 등의 불순물을 황화물로서 침전 제거한 후, 이것에 암모니아를 첨가하고 중화시켜 수산화인듐으로서 회수하는 방법이다. 그러나, 이 방법에 의해 얻어진 수산화인듐은 여과성이 나빠 조작에 장시간이 걸리며, Si, Al 등의 불순물이 많고, 또 생성되는 수산화인듐은 그 중화 조건 및 숙성 조건 등에 의해 입경이나 입도 분포가 변동되기 때문에, 그 후 ITO 타겟을 제조할 때에 ITO 타겟의 특성을 안정적으로 유지할 수 없다는 문제가 있었다.
이하에, 종래 기술과 그 이해 득실을 소개한다.
그 하나로서, 기판 상에 피착된 ITO 막을 전해액 중에서 전기 화학적 반응에 의해 환원시키고, 다시 이 환원된 투명 도전막을 전해액에 용해시키는 투명 도전막의 에칭 방법이 있다 (특허문헌 1 참조). 단, 목적이 마스크 패턴을 고정밀도로 얻는 방법으로, 회수 방법과는 상이한 기술이다.
ITO 로부터의 유가 금속을 회수하기 위한 사전 처리로서, 배킹 플레이트와의 접합에 이용했던 In 계의 납재에 함유되는 불순물을 전해액 중에서 분리하는 기술이 있다 (특허문헌 2 참조). 그러나, 이것은 ITO 로부터 유가 금속을 회수하는 직접적인 기술에 관한 것은 아니다.
아연 정련 공정의 부산물로서 얻어지는 중간물 또는 ITO 스크랩으로부터 인듐을 회수할 때에, 주석을 할로겐화 주석산염으로서 분리한 후, 염산 또는 질산 수용액으로 환원 처리하고, 이어서 이 수용액의 pH 를 2 ∼ 5 로 조정하고, 철, 아연, 구리, 탈륨 등의 금속 이온을 환원시켜 침전시키기 어려운 물질로 하여, 수용액 중의 인듐 성분을 분리하는 기술이 개시되어 있다 (특허문헌 3 참조). 이 기술은 정제 공정이 복잡하고, 정제 효과도 그다지 기대할 수 없다는 문제가 있다.
또, 고순도 인듐의 회수 방법으로서, ITO 를 염산으로 용해시키고, 이것에 알칼리를 첨가하여 pH 가 0.5 ∼ 4 가 되도록 하고, 주석을 수산화물로서 제거하고, 이어서 황화수소 가스를 불어넣어 구리, 납 등의 유해물을 황화물로서 제거하고, 이어서 이 용해액을 이용하여 전해에 의해 인듐 메탈을 전해 채취하는 기술이 개시되어 있다 (특허문헌 4 참조). 이 기술도 정제 공정이 복잡하다는 문제가 있다.
ITO 인듐 함유 스크랩을 염산으로 용해시켜 염화인듐 용액으로 하고, 이 용액에 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 주석을 수산화주석으로서 제거하고, 제거 후 다시 수산화나트륨 수용액을 첨가하고 수산화인듐으로 하여 이것을 여과하고, 여과 후의 수산화인듐을 황산인듐으로 하고, 이것을 이용하여 전해 채취에 의해 인듐으로 하는 방법이 있다 (특허문헌 5 참조). 이것은 정제 효과가 커 유효한 방법인데, 공정이 복잡하다는 불리한 점이 있다.
ITO 인듐 함유 스크랩을 염산으로 용해시키고 염화인듐 용액으로 하는 공정, 그 염화인듐 용액에 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 스크랩 중에 함유되는 주석을 수산화주석으로서 제거하는 공정, 그 수산화주석을 제거한 후 액으로부터 아연에 의해 인듐을 치환, 회수하는 공정으로 이루어지는 인듐의 회수 방법이 있다 (특허문헌 6 참조). 이 방법도, 정제 효과가 커 유효한 방법이지만, 공정이 복잡하다는 불리한 점이 있다.
용융 금속 인듐 상에 부상되는 아산화물 함유 주조 스크랩을 꺼내어 분위기로에 삽입하고, 1 번 노를 진공으로 한 후 아르곤 가스를 도입하여 소정 온도로 가열해 아산화물 함유 주조 스크랩을 환원시키는 금속 인듐의 회수 방법을 개시한다 (특허문헌 7 참조).
이 자체는 유효한 방법이지만, ITO 스크랩의 기본적인 회수 방법은 아니라는 결점이 있다.
이상으로부터, 효율적이면서 또한 회수 공정에 범용성이 있는 방법이 요구되고 있다.
특허문헌 1 : 일본 공개특허공보 소62-290900호
특허문헌 2 : 일본 공개특허공보 평8-41560호
특허문헌 3 : 일본 공개특허공보 평3-82720호
특허문헌 4 : 일본 공개특허공보 2000-169991호
특허문헌 5 : 일본 공개특허공보 2002-69684호
특허문헌 6 : 일본 공개특허공보 2002-69544호
특허문헌 7 : 일본 공개특허공보 2002-241865호
발명의 개시
발명이 해결하고자 하는 과제
본 발명은, 상기의 문제를 해결하기 위해, 인듐-주석 산화물 (ITO) 스퍼터링 타겟 또는 제조시에 발생되는 ITO 단재 등의 ITO 스크랩으로부터 인듐 및 주석을 효율적으로 회수하는 방법을 제공하는 것에 있다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명은, ITO 스크랩을 pH 조정한 전해액 중에서 애노드로 하여 전해시킴으로써 수산화인듐 및 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물을 얻고, 수산화인듐 및 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물로서 인듐 및 주석을 회수하는 ITO 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법을 제공한다.
본 발명의 ITO 스크랩으로부터 유가 금속을 회수하는 경우의 전해액으로서, 주로 황산, 염산, 질산 용액 등의 산성 용액 또는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화암모늄 등의 알칼리 용액을 사용한다.
이들 전해질 용액은, 바람직한 전해질 용액을 제시하는 것으로, 이들에 제한되는 것이 아니고, 효율적으로 회수할 수 있는 조건을 임의로 선택할 수 있다. 전해질 용액의 pH 는 3 ∼ 11 로 조정하여 실시하는 것이 바람직하다. 특히, pH5 ∼ 9 가 수산화인듐 및 수산화주석의 혼합물을 효율적으로 회수할 수 있는 바람직한 조건이다.
전류 밀도 등의 전해 조건은, 단재 등의 스크랩이므로 일의적으로 결정되는 것은 아니고, 전류 밀도는 그 단재의 양이나 재료의 성질에 따라 적절히 선택하여 실시한다. 전해질 용액의 액온은 통상적으로 0 ∼ 100℃ 의 범위로 하는데, 바람직하게는 20 ∼ 50℃ 의 범위로 한다.
이상의 본 발명의 전해에 의한 수산화인듐 및 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물로서 인듐 및 주석을 회수하는 방법은, ITO 스크랩을 애노드로 하여 전해시킬 뿐이므로 매우 간편한 방법이다. 그러나, 종래 기술에서 이와 같은 수법을 채용한 예는 없다.
본 발명은, 또한 상기에서 전해시킴으로써 얻은 수산화인듐 및 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물을 배소(焙燒)하여 산화인듐 및 산화주석의 혼합물로서 인듐 및 주석을 회수할 수 있다.
일단, ITO 로부터 수산화인듐 및 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물로서 회수할 수 있으면, 이들을 더욱 배소하여 산화인듐 및 산화주석의 혼합물을 얻어, 그대로 ITO 재료의 원료로서 사용할 수 있다. 또, 필요에 따라 추가로 산화인듐 또는 산화주석을 첨가하여 그 성분량을 바꾸거나, 혹은 다른 원소를 첨가하여 소결시켜 ITO 타겟을 재생하는 것도 용이하게 이룰 수 있는 것이다. 본원 발명은 이들을 모두 포함한다.
발명의 효과
인듐-주석 산화물 (ITO) 스퍼터링 타겟 또는 제조시에 발생되는 ITO 단재 등의 ITO 스크랩을 사용하고, 이것을 애노드로 하여 전해시킬 뿐이므로, 매우 간편하게 수산화인듐 및 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물로서, 나아가서는 산화인듐 및 산화주석의 혼합물로서 효율적으로 회수할 수 있다는 우수한 방법이다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
본 발명은, ITO 타겟의 인듐 함유 스크랩을, 전해에 의해, 간편하게 수산화인듐 및 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물로서 회수할 수 있다. 또한 얻어진 수산화인듐 및 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물을 배소함으로써 산화인듐 및 산화주석의 혼합물로서 효율적으로 회수할 수 있다. 배소 온도로서는 100 ∼ 1000℃ 로 한다. 바람직하게는 100 ∼ 500℃ 로 하는 것이 좋다. 100℃ 미만에서는 수분이 남고, 1000℃ 를 초과하면 소결되어 버리므로, 상기의 범위로 한다.
전해액으로서는, 황산, 염산, 질산 등의 산성 용액 또는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화암모늄 등의 알칼리 용액을 사용할 수 있다. 그 밖에, 전류 효율을 높이기 위해, 일반적으로 알려져 있는 공지된 첨가재를 사용할 수도 있다. 이와 같이, 산화인듐과 산화주석을 동시에 회수할 수 있으면, 재생 ITO 를 제조하는 것도 용이해지는 것이 이해될 것이다.
전해 장치로서 특별한 것은 필요로 하지 않는다. 예를 들어 전해시킬 ITO 를 애노드로 하고, 캐소드 모판으로서 카본 등의 내식성 있는 전극을 이용하여 전해시키면 된다. 이로써, 애노드 중의 불순물의 증가 또는 혼입을 피할 수 있다.
전류 밀도는 원료의 종류에 따라 적절히 조정하는 것이 바람직하다. 이 경우에 조정하는 요소는 생산 효율뿐이다. 또, 전해 온도도 특별히 제한은 없는데, 0 ∼ 100℃ 로 조정하여 전해시키는 것이 바람직하다. 전해 온도 0℃ 미만이면 전류 효율이 저하되는 점, 반대로 전해 온도가 100℃ 를 초과하면 전해액의 증발이 많아진다는 점인데, 보다 바람직한 전해 온도는 20 ∼ 50℃ 이다.
다음으로, 실시예에 대해 설명한다. 또한, 본 실시예는 발명의 일례를 나타내기 위한 것으로, 본 발명은 이들 실시예에 제한되는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 기술 사상에 포함되는 다른 양태 및 변형을 포함하는 것이다.
(실시예 1)
ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재 2㎏ 을 원료로 하였다. 이 원료 중의 성분은 산화주석 (SnO2) 이 9.7wt%, 잔부 산화인듐 (In2O3) 이었다. 이 원료를 애노드로 하고, 황산과 황산나트륨의 혼합 용액 중에서 전해 정제를 실시하였다. 전해 조건은 pH : 4, 전해 온도 : 50℃ 이다.
이 결과, In 수산화물 및 Sn 수산화물이 침전되었다. 캐소드측에는 전착되지 않았다. 이로써, ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재로부터 In 수산화물 및 Sn 수산화물의 혼합물을 회수할 수 있었다.
이와 같이 하여 얻은 In 수산화물 및 Sn 수산화물의 혼합물을, 다시 150℃ 에서 배소하여, In 산화물 (In2O3) 및 Sn 산화물 (SnO2) 의 혼합물을 얻었다. 이 혼합물은 약 1.8㎏ 이었다. 이 방법에 의해 얻어지는 비율은 통상적으로 In2O3 : 72 ∼ 89wt%, SnO2 : 28 ∼ 11wt% 로, 재생 ITO 의 원료로서 사용할 수 있었다.
(실시예 2)
ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재 2㎏ 을 원료로 하였다. 이 원료 중의 성분은 산화주석 (SnO2) 이 9.7wt%, 잔부 산화인듐 (In2O3) 이었다. 이 원료를 애노드로 하고, 질산과 질산암모늄 용액 중에서 전해 정제를 실시하였다. 전해 조건은 pH : 6, 전해 온도 : 50℃ 이다.
이 결과, 수산화인듐 및 메타주석산이 침전되었다. 캐소드측에는 전착되지 않았다. 이로써, ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재로부터 수산화인듐 및 메타주석산의 혼합물을 회수할 수 있었다.
이와 같이 하여 얻은 수산화인듐 및 메타주석산의 혼합물을, 다시 150℃ 에서 배소하여 In 산화물 (In2O3) 및 Sn 산화물 (SnO2) 의 혼합물을 얻었다. 이 혼합물은 약 1.8㎏ 이었다. 이 방법에 의해 얻어지는 비율은 통상적으로 In2O3 : 72 ∼ 89wt%, SnO2 : 28 ∼ 11wt% 로, 재생 ITO 의 원료로서 사용할 수 있었다.
(실시예 3)
ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재 2㎏ 을 원료로 하였다. 이 원료 중의 성분은 산화주석 (SnO2) 이 9.7wt%, 잔부 산화인듐 (In2O3) 이었다.
이 원료를 애노드로 하고, 염산 용액 중에서 전해 정제를 실시하였다. 전해 조건은 pH : 5, 전해 온도 : 30℃ 이다. 이 결과, In 수산화물 및 Sn 수산화물이 침전되었다. 캐소드측에는 전착되지 않았다. 이로써, ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재로부터 In 수산화물 및 Sn 수산화물의 혼합물을 회수할 수 있었다.
이와 같이 하여 얻은 In 수산화물 및 Sn 수산화물의 혼합물을, 다시 200℃ 에서 배소하여 In 산화물 (In2O3) 및 Sn 산화물 (SnO2) 의 혼합물을 얻었다. 이 혼합물은 약 1.8㎏ 이었다. 이 방법에 의해 얻어지는 비율은 통상적으로 In2O3 : 72 ∼ 89wt%, SnO2 : 28 ∼ 11wt% 로, 재생 ITO 의 원료로서 사용할 수 있었다.
(실시예 4)
ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재 2㎏ 을 원료로 하였다. 이 원료 중의 성분은 산화주석 (SnO2) 이 9.7wt%, 잔부 산화인듐 (In2O3) 이었다. 이 원료를 애노드로 하고, 염화 암모늄 용액 중에서 전해 정제를 실시하였다. 전해 조건은 pH : 8, 전해 온도 : 50℃ 이다.
이 결과, In 수산화물 및 Sn 수산화물이 침전되었다. 캐소드측에는 전착되지 않았다. 이로써, ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재로부터 In 수산화물 및 Sn 수산화물의 혼합물을 회수할 수 있었다.
이와 같이 하여 얻은 In 수산화물 및 Sn 수산화물의 혼합물을, 다시 150℃ 로 배소하여 In 산화물 (In2O3) 및 Sn 산화물 (SnO2) 의 혼합물을 얻었다. 이 혼합물은 약 1.8㎏ 이었다. 이 방법에 의해 얻어지는 비율은 통상적으로 In2O3 : 72 ∼ 89 wt%, SnO2 : 28 ∼ 11wt% 로, 재생 ITO 의 원료로서 사용할 수 있었다.
(실시예 5)
ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재 2㎏ 을 원료로 하였다. 이 원료 중의 성분은 산화주석 (SnO2) 이 9.7wt%, 잔부 산화인듐 (In2O3) 이었다. 이 원료를 애노드로 하고, 수산화나트륨과 질산나트륨의 혼합 용액 중에서 전해 정제를 실시하였다. 전해 조건은 pH : 9, 전해 온도 : 50℃ 이다.
이 결과, 인듐수산화물과 메타주석산이 침전되었다. 캐소드측에는 전착되지 않았다. 이로써, ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재로부터 In 수산화물 및 메타주석산의 혼합물을 회수할 수 있었다.
이와 같이 하여 얻은 인듐수산화물과 메타주석산의 혼합물을, 다시 150℃ 에 서 배소하여 In 산화물 (In2O3) 및 Sn 산화물 (SnO2) 의 혼합물을 얻었다. 이 혼합물은 약 1.8㎏ 이었다. 이 방법에 의해 얻어지는 비율은 통상적으로 In2O3 : 72 ∼ 89wt%, SnO2 : 28 ∼ 11wt% 로, 재생 ITO 의 원료로서 사용할 수 있었다.
(실시예 6)
ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재 2㎏ 을 원료로 하였다. 이 원료 중의 성분은 산화주석 (SnO2) 이 9.7wt%, 잔부 산화인듐 (In2O3) 이었다. 이 원료를 애노드로 하고, 수산화나트륨 용액 중에서 전해 정제를 실시하였다. 전해 조건은 pH : 10, 전해 온도 : 30℃ 이다.
이 결과, 수산화인듐 및 메타주석산이 침전되었다. 캐소드측에는 전착되지 않았다. 이로써, ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재로부터, 수산화인듐 및 메타주석산의 혼합물을 회수할 수 있었다.
이와 같이 하여 얻은 수산화인듐 및 메타주석산의 혼합물을, 다시 400℃ 에서 배소하여 In 산화물 (In2O3) 및 Sn 산화물 (SnO2) 의 혼합물을 얻었다. 이 혼합물은 약 1.8㎏ 이었다. 이 방법에 의해 얻어지는 비율은 통상적으로 In2O3 : 72 ∼ 89wt%, SnO2 : 28 ∼ 11wt% 로, 재생 ITO 의 원료로서 사용할 수 있었다.
(비교예 1)
ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재 2㎏ 을 원료로 하였다. 이 원료 중의 성분은 산화주석 (SnO2) 이 9.7wt%, 잔부 산화인듐 (In2O3) 이었다.
이 원료를 애노드로 하고, 황산 용액 중에서 전해 정제를 실시하였다. 전해 조건은 pH : 2, 전해 온도 : 50℃ 이다. 이 결과, Sn 수산화물이 침전되었지만, 인듐은 캐소드측에는 전착되었다. 이로써, ITO (산화인듐-산화주석) 의 단재로부터 Sn 산화물의 혼합물을 동시에 회수할 수는 없었다. 이것은, pH2 로 강산성측으로 한 것에 의한다고 볼 수 있다. Sn 수산화물의 배소에 의해 약 180g 의 산화주석이 얻어졌다.
(비교예 2)
ITO (산화인듐-산화주석) 스크랩 2㎏ 을 원료로 하였다. 이 원료 중의 성분은 산화주석 (SnO2) 이 9.7wt%, 잔부 산화인듐 (In2O3) 이었다.
이 원료를 애노드로 하고, 수산화나트륨 (NaOH) 용액 중에서 pH12 로 하여, 전해 정제를 실시하였다. 전해 조건은 다음과 같다. 이 결과, 인듐의 수산화물은 일부 침전되었지만, Sn 수산화물은 침전되지 않았다. 캐소드측에는 인듐과 주석의 메탈이 전착되었다. 이로써, ITO (산화인듐-산화주석) 의 스크랩으로부터 In 수산화물 및 Sn 수산화물의 혼합물을 동시에 회수할 수는 없었다.
이것은, pH12 로 강알칼리로 한 것에 의한다고 볼 수 있다. 인듐 수산화물의 배소에 의해, 약 1600g 의 산화인듐이 얻어졌지만, 수율은 떨어진다. 또, In 수산화물 및 Sn 수산화물 또는 In 산화물 및 Sn 산화물의 혼합물을 동시에 회수 할 수는 없었다.
상기의 실시예에 있어서는, 모두 산화주석 (SnO2) 이 9.7wt%, 잔부 산화인듐 (In2O3) 인 ITO (산화인듐-산화주석) 단재 또는 스크랩을 사용하였는데, In2O3 및 SnO2 의 성분량에 따라 전류 밀도, pH 등의 전해 조건을 임의로 바꿀 수 있고, 이 원료의 성분량에 특별히 제한될 필요가 없는 것은 말할 필요도 없다. 특히, ITO 는 산화주석 (SnO2) 의 함유량을 5wt% ∼ 30wt% 까지 변화시키는 경우가 있는데, 이와 같은 경우에도 본 발명은 충분히 적용할 수 있다.
또, ITO 에 추가로 소량의 부성분을 첨가한 것도 있는데, 기본적으로 ITO 가 기본 성분이면, 본원 발명은 이들에도 적용할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.
본 발명은, 인듐-주석 산화물 (ITO) 스퍼터링 타겟 또는 제조시에 발생되는 ITO 단재 등의 ITO 스크랩을 사용하고, 이것을 애노드로 하여 전해시킬 뿐이므로, 매우 간편하게 인듐과 주석의 산화물을 효율적으로 회수할 수 있다는 점에서 큰 산업상의 이점이 있다.

Claims (2)

  1. ITO 스크랩을 애노드로 하여 전해시킴으로써 수산화인듐 및 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물로서 회수하는 것을 특징으로 하는 ITO 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    전해시킴으로써 얻은 수산화인듐과 수산화주석 또는 메타주석산의 혼합물을 배소하여 인듐 및 주석의 산화물로 하고, 산화인듐 및 산화주석의 혼합물로서 회수 하는 것을 특징으로 하는 ITO 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법.
KR1020097008192A 2006-10-24 2007-06-27 Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법 KR101155359B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2006-288186 2006-10-24
JP2006288186 2006-10-24
PCT/JP2007/062896 WO2008053617A1 (fr) 2006-10-24 2007-06-27 Procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'ito

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020127005369A Division KR20120034127A (ko) 2006-10-24 2007-06-27 Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090057456A true KR20090057456A (ko) 2009-06-05
KR101155359B1 KR101155359B1 (ko) 2012-06-19

Family

ID=39343968

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097008192A KR101155359B1 (ko) 2006-10-24 2007-06-27 Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법
KR1020127005369A KR20120034127A (ko) 2006-10-24 2007-06-27 Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020127005369A KR20120034127A (ko) 2006-10-24 2007-06-27 Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8012336B2 (ko)
EP (1) EP2078766B1 (ko)
JP (1) JP4745400B2 (ko)
KR (2) KR101155359B1 (ko)
CN (1) CN101528984B (ko)
CA (1) CA2667234C (ko)
WO (1) WO2008053617A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101725919B1 (ko) * 2016-04-18 2017-04-12 (주)한청알에프 폐 ito로부터 고순도 인듐을 회수하는 방법

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8012337B2 (en) * 2006-10-24 2011-09-06 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Method for collection of valuable metal from ITO scrap
CA2666233C (en) * 2006-10-24 2012-03-06 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. Method for collection of valuable metal from ito scrap
KR101155359B1 (ko) 2006-10-24 2012-06-19 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법
JP5043029B2 (ja) * 2006-10-24 2012-10-10 Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 Ｉｔｏスクラップからの有価金属の回収方法
WO2008053618A1 (fr) * 2006-10-24 2008-05-08 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. Procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'ito
CN101611173B (zh) * 2007-02-16 2011-02-16 Jx日矿日石金属株式会社 从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法
US8734633B2 (en) * 2007-02-16 2014-05-27 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Method of recovering valuable metal from scrap containing conductive oxide
JP4210714B2 (ja) * 2007-03-27 2009-01-21 日鉱金属株式会社 導電性のある酸化物を含有するスクラップからの有価金属の回収方法
BRPI0701919B1 (pt) * 2007-05-23 2016-10-11 Votorantim Metais Zinco S A processo de produção de índio metálico puro a partir de óxido de zinco e/ou solução contendo o metal
CN101946027B (zh) * 2008-02-12 2012-01-11 Jx日矿日石金属株式会社 从izo废料中回收有价值金属的方法
JP5102317B2 (ja) 2008-02-12 2012-12-19 Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 Ｉｚｏスクラップからの有価金属の回収方法
CN101981233B (zh) 2008-03-06 2013-02-13 Jx日矿日石金属株式会社 从izo废料中回收有价值金属的方法
KR101410187B1 (ko) * 2011-07-26 2014-06-19 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 수산화인듐 또는 수산화인듐을 함유하는 화합물의 제조 방법
CN111632587B (zh) * 2019-03-01 2022-09-09 天津大学 一种铟-三氧化二铟异质纳米材料复合电催化剂及其制备方法和应用
CN114808036B (zh) * 2022-04-21 2023-12-05 柳州华锡有色设计研究院有限责任公司 一种从ito靶材废料回收高纯锡铟合金的方法

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62290900A (ja) 1986-06-11 1987-12-17 Oki Electric Ind Co Ltd 透明導電膜のエツチング方法およびその装置
US4981564A (en) 1988-07-06 1991-01-01 Technic Inc. Additives for electroplating compositions and methods for their use
US4950326A (en) 1989-05-01 1990-08-21 Tektronix, Inc. Process for removal of dissolved copper from solution
JPH0382720A (ja) 1989-08-25 1991-04-08 Tosoh Corp インジウムを回収する方法
JPH0641778A (ja) 1992-07-23 1994-02-15 Mitsubishi Materials Corp 金属の電解精錬設備における電着金属の剥離装置
JPH07145495A (ja) * 1993-11-20 1995-06-06 Toho Aen Kk 電解精製法
JP3051971B2 (ja) 1994-07-26 2000-06-12 同和鉱業株式会社 金属ろう材付着ｉｔｏの処理方法
JP3972464B2 (ja) 1998-05-29 2007-09-05 三菱マテリアル株式会社 高純度錫の製造方法
US6117209A (en) 1998-11-02 2000-09-12 Gnb Technologies, Inc. Hydrometallurgical process for treating alloys and drosses to recover the metal components
JP4304254B2 (ja) 1998-12-04 2009-07-29 Ｄｏｗａメタルマイン株式会社 高純度インジウムの回収方法
EP1288339B1 (en) 2000-05-22 2010-08-18 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. Method of producing a higher-purity metal
JP4519294B2 (ja) 2000-08-28 2010-08-04 日鉱金属株式会社 インジウムの回収方法
JP4549501B2 (ja) 2000-08-28 2010-09-22 日鉱金属株式会社 インジウムの回収方法
JP4723106B2 (ja) 2000-12-15 2011-07-13 Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 金属インジウムの回収方法
US7435325B2 (en) * 2001-08-01 2008-10-14 Nippon Mining & Metals Co., Ltd Method for producing high purity nickle, high purity nickle, sputtering target comprising the high purity nickel, and thin film formed by using said spattering target
JP3998951B2 (ja) * 2001-11-14 2007-10-31 日鉱金属株式会社 スクラップからの有価金属の回収方法及び装置
JP2003247089A (ja) * 2002-02-25 2003-09-05 Nikko Materials Co Ltd インジウムの回収方法
JP2004043946A (ja) * 2002-05-21 2004-02-12 Nikko Materials Co Ltd 高純度金属の製造方法及び装置
US7157024B2 (en) 2003-05-26 2007-01-02 Nissan Chemical Industries, Ltd. Metal oxide particle and process for producing same
JP2005314786A (ja) * 2004-03-31 2005-11-10 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd インジウムの回収方法
JP5043029B2 (ja) 2006-10-24 2012-10-10 Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 Ｉｔｏスクラップからの有価金属の回収方法
US8012337B2 (en) 2006-10-24 2011-09-06 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Method for collection of valuable metal from ITO scrap
KR101155359B1 (ko) 2006-10-24 2012-06-19 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법
CA2666233C (en) 2006-10-24 2012-03-06 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. Method for collection of valuable metal from ito scrap
WO2008053618A1 (fr) 2006-10-24 2008-05-08 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. Procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'ito
US8734633B2 (en) 2007-02-16 2014-05-27 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Method of recovering valuable metal from scrap containing conductive oxide
CN101611173B (zh) 2007-02-16 2011-02-16 Jx日矿日石金属株式会社 从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法
JP4210714B2 (ja) 2007-03-27 2009-01-21 日鉱金属株式会社 導電性のある酸化物を含有するスクラップからの有価金属の回収方法
CN101946027B (zh) 2008-02-12 2012-01-11 Jx日矿日石金属株式会社 从izo废料中回收有价值金属的方法
JP5102317B2 (ja) 2008-02-12 2012-12-19 Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 Ｉｚｏスクラップからの有価金属の回収方法
CN101981233B (zh) 2008-03-06 2013-02-13 Jx日矿日石金属株式会社 从izo废料中回收有价值金属的方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101725919B1 (ko) * 2016-04-18 2017-04-12 (주)한청알에프 폐 ito로부터 고순도 인듐을 회수하는 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US8012336B2 (en) 2011-09-06
KR101155359B1 (ko) 2012-06-19
KR20120034127A (ko) 2012-04-09
CA2667234C (en) 2012-08-21
CN101528984A (zh) 2009-09-09
EP2078766A1 (en) 2009-07-15
CN101528984B (zh) 2012-10-24
US20100084279A1 (en) 2010-04-08
EP2078766A4 (en) 2009-09-02
JPWO2008053617A1 (ja) 2010-02-25
EP2078766B1 (en) 2011-09-28
WO2008053617A1 (fr) 2008-05-08
CA2667234A1 (en) 2008-05-08
JP4745400B2 (ja) 2011-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101155359B1 (ko) Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법
JP5043027B2 (ja) Ｉｔｏスクラップからの有価金属の回収方法
JP5043029B2 (ja) Ｉｔｏスクラップからの有価金属の回収方法
JP4647695B2 (ja) Ｉｔｏスクラップからの有価金属の回収方法
JP5043028B2 (ja) Ｉｔｏスクラップからの有価金属の回収方法
KR101134336B1 (ko) 도전성이 있는 산화물을 함유하는 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법
CA2673833C (en) Method of recovering valuable metal from scrap containing conductive oxide
US8308932B2 (en) Method of recovering valuable metals from IZO scrap
JP5192000B2 (ja) Ｉｚｏスクラップからの有価金属の回収方法
KR101155357B1 (ko) Ｉｚｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법
JP4598921B2 (ja) インジウムの回収方法
JP5177471B2 (ja) 水酸化インジウム又はインジウムの回収方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
A107 Divisional application of patent
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150430

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160517

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170522

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180516

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190515

Year of fee payment: 8