KR20090052155A - 유기발광표시장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 기판과, 기판 상에 형성되는 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극과 전기적으로 접속되는 제1 전극, 제1 전극 상에 형성되는 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치되며, 라인 형태로 형성되는 복수개의 유기물층을 포함하는 유기발광소자와, 유기물층과 동일한 색을 가지며, 유기발광소자가 배치되는 표시영역의 상부 또는 하부인 제1 영역에 형성되는 모니터링 유기물층과, 유기물층과 동일한 색을 가지며, 제1 영역에 대향하는 제2 영역에 형성되는 더미 유기물층을 포함하는 유기발광표시장치에 관한 것이다. 이에 의하여, 유기발광표시장치는, 유기물층 형성을 위하여 마스크를 사용하는 경우의 스트레칭 공정에도 불구하고, 유기물층이 안정적으로 형성된다.
유기물층, 마스크, 그릴, 더미 그릴, 더미 유기물층

Description

유기발광표시장치{Organic lighting emitting display device}
본 발명은 유기발광표시장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는 유기물층이 안정적으로 형성되는 유기발광표시장치에 관한 것이다.
유기발광표시장치는 기판 상에 위치하는 두 개의 전극 사이에 유기물층이 형성되고, 두 개의 전극 사이에 서로 전기적인 신호 등을 공급하여 원하는 영상을 표시할 수 있는 자발광 표시장치이다.
특히 유기발광표시장치는 자발광형 소자로 시야각이 넓으며, 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답시간이 빠르다는 장점을 가지고 있다. 상기 유기발광표시장치는 유기물층 중 발광층(emitting layer)에 무기 화합물이 아닌 유기 화합물을 사용한다. 유기물층의 재료로 저분자 재료가 사용되는 경우, 통상적으로 진공 증착법을 이용하는 것이 일반적이다.
진공 증착법에 의해, 원하는 패턴을 갖도록 유기물층을 형성하는 경우, 다수의 개구부 패턴을 갖는 박막 형성용 마스크를 이용하는 쉐도우마스크(shadow mask)법이 알려져 있다. 마스크는 통상적으로 얇은 금속 박막 형태로 제조되며, 따라서 다수의 개구부를 갖는 마스크는 부분적으로 장력이 다르게 나타난다.
도 1은 박막 형성용 그릴 마스크 장치를 보여주는 도면이다.
도면을 참조하면, 기판의 전체 면적과 대응하는 규격의 마스크(10)에는 기판의 표시영역에 대응하는 제1 영역(20)에 라인 형태의 다수의 그릴(grille)(12)들이 형성되어 있다. 이 그릴은 일정 길이 및 일정 폭을 가지며, 일정한 간격을 두고 서로 평행한 상태로 배치된다. 한편, 유기물층, 특히 발광층이 일정 폭으로 형성되는지를 검사하기 위하여, 제1 영역(20)의 상부인 제2 영역(22)에 더미 그릴(15)이 형성된다. 다수의 그릴들(12) 및 더미 그릴들(15)은 마스크 기본 부재(11)가 관통하여 형성된다. 이러한 마스크(10)를 유기물층 형성 공정, 특히 발광층 형성 공정에 투입하기에 앞서 마스크(10)에 대한 스트레칭(stretching) 공정 및 프레임으로의 부착 공정을 실시한다.
마스크(10)는 얇은 금속 박막(薄膜) 형태로 제조되며, 따라서 마스크(10)는 부분적으로 장력(tension)이 다르게 나타난다. 이를 방지하기 위하여, 마스크(10)를 잡아당겨 마스크(10)의 전체 면에 걸쳐 균일한 장력을 갖도록 하는 스트레칭 장치(stretcher)를 이용하고 있으며, 스트레칭 공정 후에 절단 예정선(L)을 따라서 절단 공정을 수행하여 그릴이 형성되지 않은 기본 부재(11)의 외곽부를 제거한 후에, 유기물층, 특히 발광층 형성 공정이 진행된다.
상술한 마스크(10)의 스트레칭 공정에서, 마스크(10)의 각 에지에는 구동 수단에 연결된 다수의 그립퍼(gripper; 도시되지 않음)가 물려지며, 각 그립퍼는 도 1의 각 화살표 방향으로 마스크(10)를 잡아당기게 된다.
도 2a 및 도 2b는 마스크의 코너부를 도시한 부분 평면도이다. 즉, 도 2a는 마스크의 좌측 상단을, 도 2b는 마스크의 좌측 하단을 도시한 부분 평면도이다.
도면을 참조하여 설명하면, 도 1에서 도시한 바와 같이, 스트레칭 장치에 의해 마스크를 각 방향으로 잡아당기는 경우, 그릴(12) 및 더미 그릴(15)에는 필연적으로 휨 등의 찌그러짐이 발생한다.
이러한 현상은 마스크(10)의 중심부에서 먼 그릴일수록 더 심해진다. 도 2a는 가장 먼 그릴(12a)이 중심부에 더 가까운 그릴(12b 또는 12c) 보다 그 변형이 더 심해지는 것을 보여준다. 또한, 도 2b도 마스크(10)의 중심부에서 가장 먼 그릴(12l)이 중심부에 더 가까운 그릴(12m 또는 12n) 보다 그 변형이 더 심해지는 것을 보여준다.
또한, 이러한 현상은 마스크의 코너부로 갈수록 심해진다. 도 1과 같은 그릴 마스크의 구조에서는 더미 그릴(15)이 형성된 제2 영역(22) 보다 제1 영역의 하부 영역이 더 심해진다. 이는 제1 영역(20)의 상부인 제2 영역(22)에는 유기물층의 폭을 검사하기 위한 더미 그릴(15)이 형성되나, 제1 영역의 하부에는 이와 같은 더미 그릴이 형성되지 않아 비대칭 구조로 인하여, 위치적인 특성상 당김력이 균일하게 작용하지 않기 때문이다. 이러한 문제점은 대형의 유기발광표시장치의 유기물층 형성시 더 심각해진다.
본 발명의 목적은, 유기물층 형성시 마스킹 공정에서의 스트레칭에도 불구하고 안정적으로 유기물층이 형성된 유기발광표시장치를 제공하는 것이다.
상술한 과제 및 그 밖의 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 유기발광표시장치는, 기판과, 기판 상에 형성되는 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극과 전기적으로 접속되는 제1 전극, 제1 전극 상에 형성되는 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치되며, 라인 형태로 형성되는 복수개의 유기물층을 포함하는 유기발광소자와, 유기물층과 동일한 색을 가지며, 유기발광소자가 배치되는 표시영역의 상부 또는 하부인 제1 영역에 형성되는 모니터링 유기물층과, 유기물층과 동일한 색을 가지며, 제1 영역에 대향하는 제2 영역에 형성되는 더미 유기물층을 포함한다.
상술한 바와 같이 본 발명 실시예에 따른 유기발광표시장치는, 표시영역 내에서 라인 형태로 유기물층이 형성되며, 비표시영역인 표시영역의 상부영역에 유기물층을 모니터링하기 위한 모니터링 유기물층이 형성되며, 비표시영역인 표시영역의 하부영역에 더미 유기물층을 형성함으로써, 마스크를 사용하여 유기물층을 형성하는 경우의 스트레칭 공정시 스트레칭에도 불구하고, 안정적으로 원하는 표시영역내에 유기물층이 형성된다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 도면을 참조하여 설명한다.
도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 일실시예에 따른 유기발광표시장치에 사용되는 마스크 장치의 평면도이다.
먼저, 도 3a를 참조하여 설명하면, 박막 형성용 마스크(30)는 제1 영역(37) 및 제1 영역(37)을 둘러싸는 제2 영역(42,44)으로 나뉜다.
제1 영역(37)에는 라인 형태의 개구부를 갖는 복수개의 그릴(32)이 형성된다. 종래와 달리, 라인 형태의 그릴(32)을 형성함으로 인하여, 유기물층 형성을 위하여 마스크를 사용하는 경우, 스트레칭 공정에서 처짐이나 휨 등이 줄어들게 된다.
한편, 제2 영역의 상부 영역(42)에는, 그릴(32)과 동일 선상에, 모니터링 그릴(35)이 형성된다. 모니터링 그릴(35)은 표시영역 내의 그릴(32)을 이용하여 유기물층을 형성하는 경우 유기물층이 폭이 적절한지 여부를 검사하기 위하여 형성된다.
또한, 제2 영역의 하부 영역(44)에는, 더미 그릴(36)이 형성된다. 더미 그릴(36)은 도면과 같이 그릴(32)과 동일 선상에 형성될 수 있다. 이는, 마스크를 이용하여 유기물층 형성시에 수반되는 스트레칭 공정에서, 제2 영역의 상부 영역(42)과 제2 영역의 하부영역(44)에 작용하는 스트레칭 포스가 균형을 이루도록 하기 위함이다. 또한, 모니터링 그릴(35)과 더미 그릴(36)에 스트레칭 포스가 집중됨으로써, 제1 영역(40)의 그릴(32)에 발생하는 처짐이나 휨이 훨씬 줄어들게 된다.
스트레칭 공정 이후 절단 예정선(L)을 따라서 절단 공정을 수행하여 그릴이 형성되지 않은 기본 부재(31)의 외곽부를 제거한 후에, 유기물층, 특히 발광층(EML) 형성 공정이 진행된다.
다음, 도 3b를 참조하면, 그릴(32)의 폭(W1)과 더미 그릴(36)의 폭(W2)이 다 르게 형성된다. 그릴의 폭(W1) 보다 더미 그릴의 폭(W2)이 더 넓은 것이 바람직하다(W2>W1). 더미 그릴의 폭(W2)이 그릴의 폭(W1) 보다 넓으면 스트레칭 포스가 더미 그릴(36)에 더 많이 집중되며, 따라서 제1 영역 내의 그릴(32)에 작용하는 스트레칭 포스가 약화되어, 그릴(32)에 발생하는 처짐이나 힘 등이 줄어들게 된다.
한편, 더미 그릴의 폭(W2)이 너무 넓으면, 더미 그릴과 인접하는 더미 그릴 사이의 폭이 좁아져, 공정상의 어려움 및 스트레칭 포스에 의한 더미 그릴(36)의 파손 가능성이 있으므로, 더미 그릴의 폭(W2)은 그릴의 폭(W1)에 비해 1.2 배 내지 2배인 것이 바람직하다.
한편, 도면에서는 도시하지 않았지만, 서로 인접하는 그릴들(32) 중 제1 영역의 외곽인 제2 영역, 구체적으로는 제2 영역의 측부에 더 가까운 그릴의 폭이 더 넓은 것이 바람직하다. 이는 스트레칭 포스가 마스크의 중앙부보다 외곽에 더 많이 작용하는 것을 고려한 것이다.
다음, 도 3c를 참조하면, 도 3c의 마스크 장치(30)는 도 3a의 마스크 장치와 거의 유사하나, 제2 영역의 하부 영역(44)에 형성되는 더미 그릴(46)의 위치가 조금 다르게 형성된다. 즉, 더미 그릴(46)의 위치는, 제1 영역의 그릴(32) 및 모니터링 그릴(35)과 동일 선 상에서 형성되는 것이 아니라, 제1 영역의 그릴(32) 및 모니터링 그릴(35)의 동일 선 상과 소정 간격을 두고 형성된다. 즉, 제1 영역의 그릴(32)들 사이에 형성된다. 이러한 구조에 의하면, 제2 영역의 상부 영역(42)에 형성되는 모니터링 그릴(35)과는 그 위치가 서로 어긋나게 되나, 그럼에도 불구하고, 스트레칭 공정시 제1 영역의 그릴(32)에 작용하는 스트레칭 포스를 약화시킬 수 있 다. 즉, 그릴(32) 사이에 위치함으로써, 그릴(32)에만 집중되는 스트레칭 포스를 그릴(32) 사이로 분산 시키는 역할을 함으로써, 결국, 제1 영역의 그릴(32)에 작용하는 스트레칭 포스를 약화시키게 된다. 또한, 제2 영역의 상부 영역(42)에는 모니터링 그릴(35)이, 제2 영역의 하부 영역(44)에는 더미 그릴(36)이 위치함으로써, 마스크의 상,하부에 작용하는 스트레칭 포스를 또한 약화시킬 수 있게 된다.
다음, 도 3d를 참조하면, 그릴(32)의 폭(W1)과 더미 그릴(36)의 폭(W2)이 다르게 형성된다. 그릴의 폭(W1) 보다 더미 그릴의 폭(W2)이 더 넓은 것이 바람직하다(W2>W1). 더미 그릴의 폭(W2)이 그릴의 폭(W1) 보다 넓으면 스트레칭 포스가 더미 그릴(36)에 더 많이 집중되며, 따라서 제1 영역 내의 그릴(32)에 작용하는 스트레칭 포스가 약화되어, 그릴(32)에 발생하는 처짐이나 힘 등이 줄어들게 된다.
다음, 도 3e를 참조하면, 도 3a 내지 도 3b와 유사하나, 제2 영역의 측부 영역(48)에 제2 더미 그릴(37)이 형성된다는 점에서 차이점이 있다. 제2 영역의 측부 영역(48)에도 제2 더미 그릴(37)이 형성됨으로써, 제1 영역 내의 그릴(32)에 작용하는 스트레칭 포스가 더 약화되게 된다. 도면에서는 제2 영역의 좌측 영역(48)에 제2 더미 그릴이 형성되는 것으로 도시하나, 이에 한정되지 않으며 제2 영역의 우측 영역에도 제2 더미 그릴이 형성될 수 있다.
다음, 도 3f를 참조하면, 도 3c 내지 도 3d와 유사하나, 제2 영역의 측부 영역(48)에 제2 더미 그릴(37)이 형성된다는 점에서 차이점이 있다. 제2 영역의 측부 영역(48)에도 제2 더미 그릴(37)이 형성됨으로써, 제1 영역 내의 그릴(32)에 작용하는 스트레칭 포스가 더 약화되게 된다. 도면에서는 제2 영역의 좌측 영역(48)에 제2 더미 그릴이 형성되는 것으로 도시하나, 이에 한정되지 않으며 제2 영역의 우측 영역에도 제2 더미 그릴이 형성될 수 있다.
도 3a 내지 도 3f 와 같은, 마스크 장치를 사용함으로 인하여, 스트레칭 단계에서, 발생하는 그릴의 찌그럼짐 등이 보상되게 된다. 이와 같은 마스크 장치는 대형의 유기발광표시장치에서 훨씬 더 유용할 수 있다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 유기발광표시장치의 개략적인 평면도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 유기발광표시장치는 기판(100) 상에 다수 개의 화소(120)가 복수개의 매트릭스 형상으로 형성된다.
수동형 유기발광표시장치인 경우, 화소는 기판 상에 형성되는 제1 전극(애노드 전극), 유기물층, 및 제2 전극(캐소드 전극)을 포함하는 유기발광소자로 이루어질 수 있다, 또한 능동형 유기발광표시장치인 경우, 화소는 기판 상에 형성되는 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극과 전기적으로 접속되는 제1 전극(애노드 전극), 유기물층 및 제2 전극(캐소드 전극)을 포함하는 유기발광소자로 이루어질 수 있다.
또한, 화소(120)는 유기물층이 R,G,B 유기물층인가에 따라 R,G,B 화소로 구분된다. 이러한, 다수개의 화소(유기발광소자)가 이루어져 표시영역(115)이 정의되며, 표시영역 외곽에 비표시영역(125)이 정의된다. 유기발광표시장치의 각 화소(120)에 구동 신호가 인가되며, 이에 의해 각 화소(120)는 해당하는 광을 방출하게 된다.
도 5는 도 4의 I-I' 에 따른 능동형 유기발광표시장치의 단면도이다.
도면을 참조하여 설명하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는, 능동형 유기발광표시장치로서, 기판(200), 기판(200) 상에 형성되는 박막 트랜지스터, 기판(200) 상에 형성되며 박막 트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극과와 전기적으로 연결되는 제1 전극(240) 및 제2 전극(270), 제1 전극(240) 및 제2 전극(270) 사이에 형성되는 유기물층을 포함한다.
도면에 도시된 바와 같이, 박막 트랜지스터는 기판(200) 상에 형성된 버퍼층(205) 상에 형성되며, 반도체층(210), 게이트 절연막(215), 게이트 전극(220), 층간절연막(225), 소스 전극(235a) 및 드레인 전극(235b)을 포함한다.
버퍼층(205) 상에 비정질 또는 다결정 실리콘으로 이루어진 반도체층(210)이 형성되고, 반도체층(210) 상에 게이트 절연막(215)이, 게이트 절연막(215) 상에 게이트 전극(220)이 형성된다. 게이트 전극(220)을 절연시키는 층간 절연막(225)이 형성되고, 층간 절연막(225)의 콘택홀들(230a, 230b)을 통해 반도체층(210)과 전기적으로 연결되는 소스 전극(235a) 및 드레인 전극(235b)이 형성된다.
한편, 제1 전극(240)은 애노드 전극으로서 박막트랜지스터의 소스 전극(235a) 및 드레인 전극(235b) 중 어느 하나와 전기적으로 연결된다. 제1 전극(240) 상에 제1 전극(240)의 일정 영역을 노출시키는 개구부(255)를 포함하는 뱅크층(250)이 위치한다. 제1 전극(240)의 노출된 영역 상에 유기물층(260)이 위치하고, 유기물층(260) 상에 제2 전극(270)이 위치한다.
유기물층(260)은 적어도 발광층(EML)을 포함하며, 정공주입층(HIL), 정공 수 송층(HTL), 전자 수송층(ETL), 전자 주입층(EIL) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 그 외에 정공 저지층 등도 포함할 수 있다.
R,G,B 발광층에 따라 유기물층이 R,G,B 유기물층으로 나뉘며, 이러한 유기물층에 따라 화소가 R,G,B 화소로 나뉜다.
한편, R,G,B 발광층 중 적어도 하나는 인광물질을 사용할 수 있다.
R 발광층은 CBP(carbazole biphenyl) 또는 mCP(1,3-bis(carbazol-9-yl)를 포함하는 호스트 물질을 포함하며, PIQIr(acac)(bis(1-phenylisoquinoline)acetylacetonate iridium), PQIr(acac)(bis(1-phenylquinoline)acetylacetonate iridium), PQIr(tris(1-phenylquinoline)iridium) 및 PtOEP(octaethylporphyrin platinum)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 도펀트를 포함하는 인광물질로 이루어질 수 있다. 또한 이리듐(III)(2-(3-메틸페닐)-6-메틸퀴놀리나토-N,C2?(2,4-펜테인다이오네이트-O,O), , 이리듐(III)(2-(3-메틸페닐)-6-메틸퀴놀리나토-N,C2?(2,4-펜테인다이오네이트-O,O) 등의 이리듐계 전이금속화합물과 백금 포르피린류 등이 있다. 또한 이와는 달리, PBD:Eu(DBM)3(Phen) 또는 Perylene을 포함하는 형광물질로 이루어질 수도 있다.
G 발광층은 CBP 또는 mCP를 포함하는 호스트 물질을 포함하며, Ir(ppy)3(fac tris(2-phenylpyridine)iridium)을 포함하는 도펀트 물질을 포함하는 인광물질로 이루어질 수 있다. 또한, 트리스(2-페니피리딘)Ir(III) 등이 있을 수 있다. 또한, 이와는 달리, Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum)을 포함하는 형광물질로 이 루어질 수도 있다.
B 발광층은 CBP 또는 mCP를 포함하는 호스트 물질을 포함하며, (4,6-F2ppy)2Irpic을 포함하는 도펀트 물질을 포함하는 인광물질로 이루어질 수 있다. 또한, (3,4-CN)3Ir, (3,4-CN)2Ir(picolinic acid), (3,4-CN)2Ir(N3), (3,4-CN)2Ir(N4), (2,4-CN)3Ir 등의 이리듐계 전이금속화합물이 있다. 이와는 달리, spiro-DPVBi, spiro-6P, 디스틸벤젠(DSB), 디스트릴아릴렌(DSA), PFO계 고분자 및 PPV계 고분자로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함하는 형광물질로 이루어질 수 있다.
한편, 유기물층(260), 특히 발광층은 후술하는 바와 같이, 기판 상의 표시영역 내에 라인 형태로, 즉 일 방향으로 연장되어 형성되며, 그 외에 비표시영역에 모니터링 유기물층 및 더미 유기물층이 형성된다.
도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 일실시예에 따라 기판 상에 형성되는 유기물층을 보여주는 평면도이다.
도면을 참조하여 설명하면, 도 6a는 도 3a 내지 도 3b의 마스크 장치를 사용하는 경우에 해당하며, 도 6b는 도 3c 내지 도 3d, 도 6c는 도 3e, 도 6d는 도 3f의 마스크를 사용하는 경우에 해당한다.
먼저, 도 6a의 기판(400) 상에 표시영역(403)이 정의된다. 표시영역은 능동형인 경우, 박막트랜지스터, 제1 전극, 유기물층 및 제2 전극을 포함하는 화소(유기발광소자)에 의해 정의되며, 수동형인 경우, 제1 전극, 유기물층 및 제2 전극을 포함하는 화소(유기발광소자)에 의해 정의된다. 표시영역(403)에 라인 형태로 복수 개의 유기물층(405,415,425,435..)이 형성된다. 여기서 유기물층(405,415,425,435..)은, 제1 전극(미도시)과 제2 전극(미도시) 사이에 형성되는 유기물층일 수 있으며, 특히 발광층일 수 있다.
이러한 유기물층(405,415,425,435..)은 R,G,B 유기물층일 수 있다. 도면에서는 R 유기물층(405), G 유기물층(415), B 유기물층(425), 다시 R 유기물층(435) 순으로 도시되고 있다.
한편, 표시영역(403)의 외곽에 비표시영역이 정의된다. 비표시영역인 표시영역의 상부영역(408)내의 유기물층(405,415,425,435..)과 동일한 라인 상에 모니터링 유기물층(406,416,426..)이 형성되며, 비표시영역인 표시 영역의 하부영역(406)내의 유기물층(405,415,425,435..)과 동일한 라인 상에 더미 유기물층(409,419.429.439...)이 형성된다.
모니터링 유기물층(406,416,426..)은, 표시영역 내의 유기물층이 정확한 위치에 형성되었는지, 그 폭이 정확한지 여부를 검사하기 위한 목적으로 활용될 수 있다.
모니터링 유기물층(406,416,426..) 및 더미 유기물층 영(409,419.429.439...)역은 표시영역 내의 유기물층(405,415,425,435..)에 대응하여 동일한 색을 갖는 유기물층으로 형성된다. 예를 들어, R 유기물층(405)의 상부에는 R 모니터링 유기물층(406)이, R 유기물층(405)의 하부에는 R 더미 유기물층(409)이 형성된다. G 유기물층과 B 유기물층의 상,하부에도 동일하게 G 모니터링 유기물층(416)이, G 더미 유기물층(419) 및 B 모니터링 유기물층(426)이, B 더미 유기물층(429)이 형성된다.
한편, 동일 색을 갖는 더미 유기물층들 사이에는 다른 색을 갖는 더미 유미발광층이 형성된다. 예를 들어, R 더미 유기물층(409,439) 사이에는 G 더미 유기물층(419) 및 B 더미 유기물층(429)이 형성된다.
이러한 모니터링 유기물층(406,416,426..) 및 더미 유기물층(409,419,429,439..)으로 인하여, 표시영역 내의 유기물층(405,415,425,435..) 형성시에 작용하는 스트레칭 포스가 훨씬 더 약화되게 되며, 따라서 안정적으로 표시영역에 유기물층을 형성할 수 있게 된다.
한편, 동일한 색을 가지며 서로 인접하는 제1 유기물층(405) 및 제2 유기물층(435) 중 비표시영역에 더 가까운 제1 유기물층(405)의 폭(W11)이 더 넓은 것이 바람직하다(W11>W12). 이는 스트레칭 포스가 표시영역의 외곽에 더 많이 작용하는 것을 고려한 것이다.
또한, 더미 유기물층의 폭(W13)이 유기물층의 폭(W11) 보다 더 넓은 것이 바람직하다(W13>W11). 더미 유기물층의 폭(W13)이 유기물층의 폭(W11) 보다 넓으면 스트레칭 포스가 더미 유기물층(409,419,429,439...)에 더 많이 집중되며, 따라서 표시영역(403) 내의 유기물층(405,415,425,435..)에 작용하는 스트레칭 포스가 약화되어, 표시영역(403)에 형성되는 유기물층(405,415,425,435..)이 안정적으로 원하는 위치에 형성되게 된다.
한편, 더미 유기물층의 폭(W13)이 너무 넓으면, 인접하는 더미 유기물층의 사이가 좁아져, 공정상의 어려움 및 스트레칭 포스에 의한 더미 유기물층 영역의 파손 가능성이 있으므로, 더미 유기물층의 폭(W13)은 유기물층의 폭(W11 또는 W12)에 비해 1.2 배 내지 2배인 것이 바람직하다.
다음, 도 6b를 참조하면, 도 6a 와 달리, 표시영역의 하부 영역(406)에 형성되는 더미 유기물층(509,519,529,539...)이, 표시영역 내의 유기물층 (405,415,425,435..)과 동일한 선 상이 아니라 소정 간격 이격되어 형성된다. 즉, 유기물층들 사이의 선 상에 형성된다.
이러한 구조에 의하면, 표시영역의 상부영역(408)에 형성되는 모니터링 유기물층(406,416,426..)과는 그 위치가 서로 어긋나게 되나, 그럼에도 불구하고, 스트레칭 공정시 표시영역의 유기물층(405,415,425,435..)에 작용하는 스트레칭 포스를 약화시킬 수 있다. 즉, 유기물층 사이에 위치함으로써, 유기물층(405,415,425,435..)에만 집중되는 스트레칭 포스를 유기물층 사이로 분산 시키는 역할을 함으로써, 결국, 표시영역의 유기물층에 작용하는 스트레칭 포스를 약화시키게 된다. 또한, 표시영역의 상부영역(408)에는 모니터링 유기물층(406,416,426..)이, 표시영역의 하부영역(406)에는 더미 유기물층(509,519,529,539...)이 위치함으로써, 표시영역의 상,하부에 작용하는 스트레칭 포스를 또한 약화시킬 수 있게 된다.
다음, 도 6c를 참조하면, 도 6a와 유사하나, 표시영역의 측부영역(411)에 제2 더미 유기물층(609,619,629..)이 형성된다는 점에서 차이점이 있다. 표시영역의 측부영역(411)에도 제2 더미 유기물층(609,619,629..)이 형성됨으로써, 표시영역 내의 유기물층(405,415,425,435..) 형성시에 작용하는 스트레칭 포스가 더 약화되 게 된다. 도면에서는 표시영역의 좌측영역에 제2 더미 유기물층이 형성되는 것으로 도시하나, 이에 한정되지 않으며 표시영역의 우측영역에도 제2 더미 유기물층 영역이 형성될 수 있다.
다음, 도 6d를 참조하면, 도 6b와 유사하나, 표시영역의 측부영역(411)에 제2 더미 유기물층(609,619,629..)이 형성된다는 점에서 차이점이 있다. 표시영역의 측부영역(411)에도 제2 더미 유기물층 영역(609,619,629..)이 형성됨으로써, 표시영역 내의 유기물층(405,415,425,435..) 형성시에 작용하는 스트레칭 포스가 더 약화되게 된다. 도면에서는 표시영역의 좌측영역에 제2 더미 유기물층 영역이 형성되는 것으로 도시하나, 이에 한정되지 않으며 제2 영역의 우측영역에도 제2 더미 유기물층 영역이 형성될 수 있다.
도 6a 내지 도 6d와 같이, 표시영역의 적어도 상부영역(408) 및 하부영역(406)에 각각 모니터링 유기물층 및 더미 유기물층을 형성함으로써, 유기물층 형성시 사용되는 마스크 장치의 스트레칭 단계에서 발생하는 유기물층의 찌그러짐 등이 보상되게 되어, 표시영역 내의 원하는 위치에 유기물층이 형성되게 된다. 이러한 방식은 대형의 유기발광표시장치에 훨씬 더 유용할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발 명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
도 1은 박막 형성용 그릴 마스크 장치를 보여주는 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 도 1의 그릴 마스크의 코너부를 도시한 부분 평면도이다.
도 3a 및 도 3f는 본 발명의 일실시예에 따른 유기발광표시장치에 사용되는
마스크 장치의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 유기발광표시장치의 개략적인 평면도
이다.
도 5는 도 4의 I-I' 에 따른 능동형 유기발광표시장치의 단면도이다.
도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 일실시예에 따라 기판 상에 형성되는 유기발
광층을 보여주는 평면도이다.
<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명>
30:마스크 32,34:그릴
35:모니터링 그릴 36:더미 그릴
40: 제1 영역 42:제2 영역의 상부영역
44:제2 영역의 하부영역 48:제2 영역의 측부영역
400: 기판 403: 표시영역
405,415,425,435:유기물층
406,416,426:모니터링 유기물층
409,419,429,439:더미 유기물층

Claims (9)

  1. 기판;
    상기 기판 상에 형성되는 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극과 전기적으로 접속되는 제1 전극, 상기 제1 전극 상에 형성되는 제2 전극, 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치되며, 라인 형태로 형성되는 복수개의 유기물층을 포함하는 유기발광소자;
    상기 유기물층과 동일한 색을 가지며, 상기 유기발광소자가 배치되는 표시영역의 상부 또는 하부인 제1 영역에 형성되는 모니터링 유기물층; 및
    상기 유기물층과 동일한 색을 가지며, 상기 제1 영역에 대향하는 제2 영역에 형성되는 더미 유기물층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 유기물층과 동일 색을 갖는 모니터링 유기물층 및 더미 유기물층은 상기 유기물층과 동일 라인에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 유기물층과 동일 색을 갖는 모니터링 유기물층은 상기 유기물층과 동일라인에 형성되며,
    상기 유기물층과 동일 색을 갖는 더미 유기물층은 상기 라인과 소정 간격 이 격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 유기물층은 R,G,B 유기물층을 포함하며,
    상기 모니터링 유기물층 및 더미 유기물층은 상기 R,G,B 유기물층에 대응하여 각각 R,G,B 모니터링 유기물층 및 R,G,B 더미 유기물층을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 더미 유기물층의 폭이 상기 유기물층의 폭과 다른 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.
  6. 제1항에 있어서,
    서로 인접하는 제1 및 제2 유기물층 중 상기 표시영역의 외측인 비표시영역에 더 가까운 제1 유기물층의 폭이 상기 제2 유기물층의 폭 보다 더 넓은 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 유기물층은 동일한 색의 유기물층인 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 표시영역의 측부 영역에 형성되는 제2 더미 유기물층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제2 더미 유기물층은 R,G,B 별로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.
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