KR20090038677A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR20090038677A
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이우송
이명기
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세메스 주식회사
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    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B3/00Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements
    • B05B3/008Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements comprising a wobbling or nutating element, i.e. rotating about an axis describing a cone during spraying
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Abstract

기판 처리 장치가 제공된다. 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 제1 요동체 및 제2 요동체를 포함하는 요동부로서, 제2 요동체는 제1 요동체 하부에 배치되며, 제1 요동체에 의해 제2 요동체가 요동되는 요동부, 및 제2 요동체의 양측에 각각 배치되며, 제2 요동체의 의해 요동되는 노즐부를 포함한다.
기판 처리 장치, 노즐, 파이프, 요동부

Description

기판 처리 장치{Apparatus for processing substrate}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 분사부의 중앙에 요동부가 배치된 기판 처리 장치에 관한 것이다.
정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 표시 장치를 가진다. 지금까지는 표시 장치로 CRT(Cathode Ray Tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 예컨대, 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display; LCD)와 같은 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다.
이러한 액정 표시 장치를 제조하기 위해 식각, 현상, 세정 등 다양한 공정들이 수행된다. 다양한 공정들에서 기판 처리 장치는 기판 상에 예컨대, 약액, 초순수(DeIonized water; DI), 건조 가스 등의 유체를 분사하며, 이때 기판의 전부분에 효과적으로 유체를 분사하기 위해 분사 파이프는 요동하게 된다. 그러나, 기판이 대형화됨에 따라, 분사 파이프가 길어져서 분사 파이프 끝단의 요동 각도를 제어하기가 어려워서 공정의 안정성이 떨어질 수 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 분사 파이프 끝단의 요동 각도를 효과적으로 제어할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는, 메인트(maint) 작업이 용이한 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 제1 요동체 및 제2 요동체를 포함하는 요동부로서, 제2 요동체는 제1 요동체 하부에 배치되며, 제1 요동체에 의해 제2 요동체가 요동되는 요동부, 및 제2 요동체의 양측에 각각 배치되며, 제2 요동체의 의해 요동되는 노즐부를 포함한다.
또한 요동부와 노즐부를 결합하는 결합부로서, 요동부에서 분사부를 탈부착되도록 하는 결합부를 더 포함한다.
상기한 바와 같은 기판 처리 장치는 분사부의 중앙에 요동부가 배치되어 분사 파이프 끝단의 요동 각도를 효과적으로 제어할 수 있다.
또한 요동부와 분사 파이프 사이에 탈부착이 가능한 결합부가 배치되어, 효 과적으로 메인트 작업을 수행할 수 있다.
본 발명은 이상에서 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
이하 도 1 및 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대하여 설명한다.
도 1 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 평면도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 단면도이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 분사부를 설명하는 도면이다. 이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에서는 예시적으로 하나의 분사부가 배치된 것으로 설명하나, 이에 제한되는 것은 아니다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(1)는 챔버(50), 챔버(50)의 내부에 배치된 기판 이송부(200) 및 분사부(300)를 포함한다.
챔버(50)는 기판(10)에 대한 처리 공정 예컨대, 식각, 현상, 세정 공정 등이 진행되는 공간이다. 챔버(50)는 챔버(50)의 일측벽에 배치되며 기판(10)이 챔버(50) 내에 반입되는 입구(51), 타측벽에 배치되며 기판(10)이 챔버(50)에서 반출되는 출구(53) 및 하부에 배치되며 기판 처리 공정에서 발생되는 유체를 배출하는 배출구(55)를 포함한다. 예컨대, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치가 세정 장치일 경우, 배출구(55)를 통하여 약액, 초순수, 건조 가스(DeIonized water; DI) 등의 유체가 외부로 배출될 수 있다. 또한 도면에는 표시하지 않았지만, 챔버는 측벽에 예컨대, 배기 가스(fume) 등이 배출되는 배기구를 포함할 수도 있다.
기판 이송부(200)는 기판(10)을 이송하는 역할을 하며, 다수의 샤프트(210), 다수의 롤러(220) 및 구동부(230)를 포함한다.
각 샤프트(210)는 기판(10)이 이송되는 방향으로 나란히 배치되며, 구동부(230)에 의해 회전된다. 또한 각각의 샤프트(210)는 다수의 롤러(220)에 삽입된다.
롤러(220)는 이송되는 기판(10)을 지지하며, 기판(10)을 이송하는 역할을 한다. 즉, 기판(10)은 롤러(220) 상에 놓여지고, 샤프트(210) 및 롤러(220)의 회전에 의하여 일방향으로 이송될 수 있다.
구동부(230)는 각각의 샤프트(210)의 양단에 결합된 다수의 폴리(233), 인접하는 폴리(233)들을 연결하여 회전력을 전달하는 다수의 벨트(235) 및 다수의 폴리(233)와 다수의 벨트(235)에 회전력을 제공하는 구동력 제공부(231)를 포함한다.
다수의 폴리(233)들은 샤프트(210)의 양단에 결합되어, 구동력 제공부(231)로부터 회전력을 전달받아 결합된 샤프트(210)들을 회전시키는 역할을 한다. 여기서 각 폴리(233)들은 원주 방향으로 N극과 S극이 반복되는 자석을 포함할 수 있다.
구동력 제공부(231)는 챔버(50) 외부에 배치되며, 다수의 폴리(233) 및 다수의 벨트(235)에 회전력을 제공하는 역할을 한다. 구동력 제공부(231)는 N극과 S극이 반복되는 자석을 포함할 수 있다. 이에 의해, 구동력 제공부(231)와 폴리(233)는 자력으로 연결될 수 있으므로, 폴리(233)가 구동력 제공부(231)에 의하여 회전될 수 있다.
도면에는 표시하지 않았지만, 본 발명의 다른 실시예들에서 기판 이송부는 인접하는 폴리들을 연결하고 회전력을 전달하는 다수의 벨트를 포함하지 않을 수도 있다. 즉, 각 폴리들이 자석을 포함하여, 자력에 의하여 인접하는 폴리들이 연결될 수 있다. 이에 의해 각 폴리의 회전력이 인접하는 다른 폴리에 전달될 수 있다.
또한 도면에는 표시하지 않았지만, 본 발명의 또 다른 실시예들에서 기판 이송부의 폴리와 구동력 제공부가 자력에 의하지 않고, 직접적으로 연결될 수도 있다. 예컨대, 챔버 내부의 폴리와 챔버 외부의 구동력 제공부가 챔버를 관통하는 회전축에 의해 연결되어, 구동력 제공부에서 제공되는 회전력이 폴리에 전달될 수도 있다.
분사부(300)는 예컨대, 약액, 초순수, 건조 가스 등의 유체를 기판(10)에 분사하는 역할을 하며, 유체를 분사하는 노즐부(310)와 노즐부(310)를 요동시키는 요동부(320)를 포함한다. 여기서 분사부(300)는 기판 처리 장치에서 기판(10)의 이송 방향과 수직 방향으로 배치된다.
노즐부(310)는 요동부(320)의 제2 요동체(323) 양측에 각각 배치되며, 요동부(320)에 의하여 요동되면서 기판(10) 상에 예컨대, 약액, 초순수, 건조 가스 등의 유체를 분사하는 역할을 한다. 노즐부(310)는 예컨대, 약액, 초순수, 건조 가스 등의 유체를 분사하는 다수의 노즐(315) 및 공급관(400)을 통하여 외부로부터 제공된 유체를 다수의 노즐(315)에 제공하는 분사 파이프(313)를 포함한다. 여기서 분사 파이프(313)는 예컨대, PVC와 같은 폴리머로 형성될 수 있다.
요동부(320)는 분사부(300)의 중앙에 배치되며, 노즐부(310)를 요동시키는 역할을 한다. 요동부(320)는 제1 요동체(327), 제1 요동체(327)를 지지하는 제1 지 지체(325), 제1 요동체(327)의 하부에 배치되며 제1 요동체(327)에 의해 요동되는 제2 요동체(323) 및 제2 요동체(323)를 지지하는 제2 지지체(321)를 포함한다.
제1 요동체(327)는 챔버(50)의 외부에 배치되며, 제1 지지체(325)에 의하여 지지된다. 제1 요동체(327)는 요동력 제공부(미도시)에 의하여 요동 운동을 하며, 제2 요동체(323)에 요동력을 제공한다. 여기서 제1 요동체(327)는 제1 요동체(327)의 원주 방향으로 N극과 S극이 반복하여 배치된 자석을 포함할 수 있다.
제2 요동체(323)는 챔버(50)의 내부에 배치되며, 제2 지지체(321)에 의하여 지지된다. 제2 요동체(323)는 제1 요동체(327)에 의하여 요동되며, 양측에 연결된 노즐부(310)를 요동시킨다. 여기서 제2 요동체(323)는 제2 요동체(323)의 원주 방향으로 N극과 S극이 반복하여 배치된 자석을 포함할 수 있다. 이에 의해, 제1 요동체(327) 및 제2 요동체(323)는 자력으로 연결되므로, 제1 요동체(327)에 의해 제2 요동체(323)가 요동될 수 있다.
또한 제2 요동체(323)의 양측에는 각각 노즐부(310)가 배치된다. 즉, 분사부(300)의 중앙에 제2 요동체(323)를 포함하는 요동부(320)가 배치되며, 이의 양측에 유체를 분사하는 노즐부(310)가 배치되는 것이다. 이에 의해, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 노즐부(310)의 요동 각도를 효과적으로 제어할 수 있다.
구체적으로, 기판이 대형화되어 유체 등을 분사하는 노즐부(310)의 길이가 길어질 경우, 분사 파이프(313)의 연성 등에 의해 요동부(320)에서 멀리 떨어진 노즐부(310) 부분의 요동 각도를 효과적으로 제어하기 어려울 수 있다. 특히, 분사 부(300)의 일측으로 요동부(320)가 치우쳐서 배치될 경우, 요동부(320)와 노즐부(310) 끝단 사이의 길이가 길어져서 노즐부(310) 끝단의 요동 각도를 제어하기 어려울 수 있다. 하지만 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 요동부(320)가 분사부(300)의 중앙에 배치되어 요동부(320)와 노즐부(310) 끝단 사이의 길이가 비교적 길지 않으므로, 노즐부(310) 양 끝단의 요동 각도를 효과적으로 제어할 수 있다.
이하 도 4을 참조하여, 요동부(320)의 동작에 대하여 설명한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 요동부의 예시적인 동작을 설명하는 도면이다.
도 4를 참조하면, 제1 요동체(327)의 자석과 제2 요동체(323)의 자석이 서로 인력을 가지도록 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 요동체(327)의 N극과 제2 요동체(323)의 S극이 서로 마주보도록 배치되어, 제1 요동체(327)와 제2 요동체(323) 사이에 인력이 작용할 수 있다. 이에 의해 제1 요동체(327)가 요동력 제공부(미도시)에 의해 소정의 각도(θ)만큼 요동함에 따라, 제2 요동체(323) 역시 소정의 각도(θ)만큼 요동될 수 있다. 즉, 제1 요동체(327)와 제2 요동체(323)가 직접적으로 연결되어 있지 않더라도, 자력에 의하여 연결되어 있으므로 제1 요동체(327)에 의해 제2 요동체(323)가 요동될 수 있다. 여기서 소정의 각도(θ)는 예컨대, 40°일 수 있다.
다음으로 도 1, 도 2, 도 4 및 도 5를 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대하여 설명한다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 분사부를 설명하는 도면이다. 도 1 내지 도 4와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 사용하며, 해당 구성 요소에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치가 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치와 다른 점은, 분사부(301)가 요동부(320)의 제2 요동체(323)와 노즐부(310) 사이에 결합부(500)를 더 포함한다는 점이다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치는 챔버(50), 챔버(50) 내부에 배치된 기판 이송부(200) 및 분사부(301)를 포함한다.
챔버(50)는 기판(10)에 대한 처리 공정 예컨대, 식각, 현상, 세정 공정 등이 진행되는 공간이다. 챔버(50)는 챔버(50)의 일측벽에 배치되며 기판(10)이 챔버(50) 내에 반입되는 입구(51), 타측벽에 배치되며 기판(10)이 챔버(50)에서 반출되는 출구(53) 및 하부에 배치되며 기판 처리 공정에서 발생되는 유체를 배출하는 배출구(55)를 포함한다.
기판 이송부(200)는 기판(10)을 이송하는 역할을 하며, 다수의 샤프트(210), 다수의 롤러(220) 및 구동부(230)를 포함한다.
분사부(300)는 예컨대, 약액, 초순수, 건조 가스 등의 유체를 기판(10) 상에 분사하는 역할을 하며, 유체를 분사하는 노즐부(310), 노즐부(310)를 요동시키는 요동부(320) 및 요동부(320)의 제2 요동체(323)와 노즐부(310)를 결합하는 결합부(500)를 포함한다.
결합부(500)는 요동부(320)의 제2 요동체(323)와 노즐부(310) 사이에 배치되 며, 이들을 연결하는 역할을 한다. 또한 결합부(500)는 요동부(320)에서 노즐부(310)가 탈부착 될 수 있도록 한다. 여기서 결합부(500)는 요동부(320)에서 노즐부(310)를 분리 가능하며, 요동부(320)와 노즐부(310)를 연결시에는 유체 등을 효과적으로 실링(sealing)할 수 있는 구조일 수 있다. 이에 의해 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치는 메인트(maint) 작업시 용이할 수 있다.
본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구의 범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구의 범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 분사부를 설명하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 요동부의 예시적인 동작을 설명하는 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 분사부를 설명하는 도면이다.
<도면의 간단한 설명>
10: 기판 50: 챔버
200: 기판 이송부 300: 분사부
310: 노즐부 320: 요동부
323: 제1 요동체 327: 제2 요동체
400: 공급관 500: 결합부

Claims (2)

  1. 제1 요동체 및 제2 요동체를 포함하는 요동부로서, 상기 제2 요동체는 상기 제1 요동체 하부에 배치되며, 상기 제1 요동체에 의해 상기 제2 요동체가 요동되는 요동부; 및
    상기 제2 요동체의 양측에 각각 배치되며, 상기 제2 요동체의 의해 요동되는 노즐부를 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 요동부와 상기 노즐부를 연결하는 결합부로서, 상기 요동부에서 상기 분사부를 탈부착 되도록 하는 결합부를 더 포함하는 기판 처리 장치.
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