KR20090011309U - Storage case for photomask - Google Patents

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Abstract

본 고안은 포토마스크 보관 케이스에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 포토마스크의 측면 형상에 관계없이 상기 포토마스크를 효율적으로 지지하는 지지브라켓이 설치된 개선된 구조의 포토마스크 보관 케이스에 관한 것이다.The present invention relates to a photomask storage case, and more particularly to a photomask storage case of an improved structure provided with a support bracket for efficiently supporting the photomask regardless of the side shape of the photomask.

이를 위해, 포토마스크를 수용하는 몸체와, 이 몸체의 내부에 설치되어 포토마스크의 둘레면을 지지하는 지지브라켓을 포함하는 포토마스크 보관 케이스에 있어서, 상기 지지브라켓 중, 포토마스크의 둘레면에 대응된 부위에는 복수의 완충부재가 설치된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 케이스를 제공한다.To this end, in the photomask storage case comprising a body for accommodating the photomask and a support bracket installed inside the body to support the circumferential surface of the photomask, the support bracket corresponds to the circumferential surface of the photomask. The provided portion provides a photomask storage case, characterized in that a plurality of buffer members are installed.

포토마스크,지지브라켓,완충부재,복수,측면,형상 Photomask, Support Bracket, Shock Absorber, Multiple, Side, Shape

Description

포토마스크 보관 케이스{storage case for photomask}Storage case for photomask

본 고안은 포토마스크 보관 케이스에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 포토마스크의 측면 형상에 관계없이 포토마스크에 대한 유동방지 및 완충작용을 효과적으로 할 수 있는 지지브라켓이 설치된 포토마스크 보관 케이스에 관한 것이다.The present invention relates to a photomask storage case, and more particularly, to a photomask storage case provided with a support bracket that can effectively prevent the flow and buffer the photomask irrespective of the side shape of the photomask.

최근 들어, 급속한 발전을 거듭하고 있는 반도체 기술 개발에 의하여 점차 소형화 및 경량화되면서 성능은 더욱 강력해진 다양한 디스플레이 제품들이 생산되고 있다.In recent years, various display products have been produced, which have become more compact and lighter, due to the rapid development of semiconductor technology.

이와 같은 디스플레이 제품들 중에서 보통의 정보 디스플레이 장치에 널리 사용되고 있는 CRT(cathode ray tube)는 성능이나 가격적인 측면에서 많은 장점을 갖고 있지만, 소형화 또는 휴대성의 측면에서 볼 때, 단점이 있는 게 사실이다.Among these display products, the cathode ray tube (CRT), which is widely used in general information display devices, has many advantages in terms of performance and price, but it is true in view of miniaturization or portability.

이에 반하여, 현재 각광받고 있는 LCD(Liquid Crystal Display)는 소형화, 경량화 및 저전력 소비화 등의 장점이 있기 때문에, CRT의 단점을 극복할 수 있는 대체수단으로 주목받아 왔고, 현재에는 디스플레이 장치를 필요로 하고 있는 거의 모든 정보처리기기에 장착되어 사용하고 있는 실정이다.On the other hand, the liquid crystal display (LCD), which is currently in the spotlight, has been attracting attention as an alternative means of overcoming the disadvantages of the CRT because it has advantages such as miniaturization, light weight, and low power consumption, and now requires a display device. It is installed and used in almost all information processing equipment.

이와 같은, LCD는 점차 다양해지고 있는 고객의 요구에 부합하여 이를 충족 시킬 수 있도록 고객이 요구하고 있는 다양한 특성과 사양으로 제작되고 있으며, 그 경량화 및 박형화의 특성에 따라 그 제작단계에서도 고도의 정밀성과 노하우가 요구된다.As such, LCDs are manufactured with various characteristics and specifications required by customers in order to meet the demands of increasingly diverse customers, and according to the characteristics of light weight and thinning, high precision and high precision can be achieved even in the manufacturing stage. Know-how is required.

한편, LCD 완성품을 제조하는 과정에 있어서, 특히 고밀도 회로기판과 액정이 내장된 포토마스크(photomask)를 각 공정에 투입하기 위하여 일정한 장소로 이동시키거나 일시적으로 적재할 필요가 있다.On the other hand, in the process of manufacturing a finished LCD, it is necessary to move or temporarily load a photomask with a high density circuit board and a liquid crystal to a certain place, in order to input each process.

특히, 포토마스크는 그 제품의 특성상 외부의 충격이나 정전기 또는 이물질 등에 의해서도 상당히 민감하게 반응하여 쉽게 불량이 발생할 수 있으므로, 일반적인 생산라인에서는 포토마스크 전용 적재 수단을 이용하여 고정시킨 상태로 이동시키고 있다.In particular, the photomask is very sensitive to external shocks, static electricity or foreign matters due to the characteristics of the product, so that defects can easily occur, the general production line is moved to a fixed state using a photomask-only loading means.

이때, 상기 포토마스크 전용 적재 수단을 편의상 '포토마스크 보관 케이스'라 하며, 첨부된 도 1 내지 도 2b를 참조하여 종래의 포토마스크 보관 케이스에 대해 살펴보도록 한다.In this case, the photomask-only loading means is referred to as a 'photomask storage case' for convenience, and a look at a conventional photomask storage case with reference to FIGS. 1 to 2B.

포토마스크 보관 케이스는 도 1에 도시된 바와 같이, 케이스(10)와, 지지브라켓(20)을 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, the photomask storage case includes a case 10 and a support bracket 20.

상기 케이스(10)는 포토마스크 보관 케이스의 외관을 구성하며, 내부에는 포토마스크(P)를 수용하는 공간부가 형성된다.The case 10 constitutes an exterior of the photomask storage case, and a space portion for accommodating the photomask P is formed therein.

또한, 상기 케이스(10)는 포토마스크(P)를 지지하는 지지브라켓(20)이 설치된 제1케이스(11)와, 포토마스크(P)가 지지된 제1케이스(11)를 덮어씌워 상기 포토마스크(P)를 외부로부터 보호하는 제2케이스(미도시)로 구성된다.In addition, the case 10 covers the first case 11 in which the support bracket 20 for supporting the photomask P is installed, and the first case 11 in which the photomask P is supported to cover the photo. It consists of a 2nd case (not shown) which protects the mask P from the exterior.

또한, 상기 케이스(10)의 둘레에는 각각 그 둘레를 따라 복수의 보강부재(12)가 형성되며, 이 보강부재(12)로 인해 케이스(10)의 내구성은 향상된다.In addition, a plurality of reinforcing members 12 are formed in the periphery of the case 10, respectively, and the durability of the case 10 is improved due to the reinforcing members 12.

한편, 케이스(10)는 제1케이스(11)와 제2케이스에 각각 설치된 체결부재(13)에 의해 서로 포개진 상태로 결합된다.On the other hand, the case 10 is coupled to each other in a superimposed state by the fastening members 13 installed in the first case 11 and the second case, respectively.

또한, 도시되지는 않았지만, 상기 제1케이스(11)와 제2케이스 사이에는 씰링부재가 설치되며, 상기 씰링부재는 케이스(10)의 공간부에 이물질이 들어가지 않도록 하여 포토마스크(P)를 보호한다.In addition, although not shown, a sealing member is installed between the first case 11 and the second case, and the sealing member prevents foreign matter from entering into the space portion of the case 10 so that the photomask P may be formed. Protect.

즉, 씰링부재는 케이스(10)의 공간부를 밀폐하도록 구성된 것이다.That is, the sealing member is configured to seal the space part of the case 10.

이때, 씰링부재의 재질은 고무재질로 이루어지며, 제1케이스(11)의 외측에 탄력적으로 걸려 설치된다.At this time, the sealing member is made of a rubber material, and is elastically hung on the outer side of the first case 11.

다음으로, 지지브라켓(20)은 제1케이스(11)의 공간부에 수용된 포토마스크(P)를 지지하며, 제1케이스(11)의 내측면을 따라 설치된다.Next, the support bracket 20 supports the photomask P accommodated in the space portion of the first case 11 and is installed along the inner surface of the first case 11.

즉, 포토마스크(P)의 둘레면에 대응되는 위치에 설치되는 것이다.That is, it is installed at a position corresponding to the circumferential surface of the photomask (P).

이때, 지지브라켓(20)은 사각으로 이루어진 포토마스크(P)의 둘레면을 지지하여 포토마스크(P)의 유동을 방지한다.At this time, the support bracket 20 supports the circumferential surface of the photomask (P) made of a square to prevent the flow of the photomask (P).

한편, 제1케이스(11)에는 포토마스크(P)의 둘레면 외에도 포토마스크(P)의 전면 또는 후면을 지지하는 안착브라켓(30)이 설치된다.Meanwhile, in addition to the circumferential surface of the photomask P, a mounting bracket 30 supporting the front or rear surface of the photomask P is installed in the first case 11.

즉, 지지브라켓(20)은 포토마스크(P)의 둘레면을 지지하여 포토마스크(P)의 상,하,좌,우 유동을 방지하며, 안착브라켓(30)은 포토마스크(P)의 전면 또는 후면이 안착될 수 있도록 제공된다.That is, the support bracket 20 supports the circumferential surface of the photomask P to prevent the up, down, left and right flow of the photomask P, and the mounting bracket 30 is the front of the photomask P. Or a rear surface is provided for seating.

이때, 지지브라켓(20)과 안착브라켓(30)에는 포토마스크(P)의 유동방지 및 완충을 위한 완충부재(40)가 설치된다.At this time, the support bracket 20 and the mounting bracket 30 is provided with a buffer member 40 for preventing and buffering the flow of the photomask (P).

상기 완충부재(40)는 포토마스크(P)의 전면 또는 후면에 대응된 부위에 설치되며, 도 2a에 도시된 바와 같이, 포토마스크(P)의 둘레면에 대응된 부위에 설치된다.The buffer member 40 is installed at a portion corresponding to the front or rear surface of the photomask P, and as shown in FIG. 2A, is installed at a portion corresponding to the circumferential surface of the photomask P. Referring to FIG.

이에 따라, 케이스(10)의 유동시에 상기 완충부재(40)가 포토마스크(P)의 둘레면을 지지함으로써 포토마스크(P)의 유동을 방지하고 충격을 완화시키게 된다.Accordingly, when the case 10 flows, the buffer member 40 supports the circumferential surface of the photomask P to prevent the flow of the photomask P and to mitigate the impact.

이때, 완충부재(40)의 위치는 포토마스크(P) 둘레면의 중앙에 대응된 부위에 위치된다.At this time, the position of the buffer member 40 is located at a portion corresponding to the center of the peripheral surface of the photomask (P).

하지만, 상기한 종래의 포토마스크 보관 케이스는 다음과 같은 문제가 발생하였다.However, the conventional photomask storage case has the following problems.

포토마스크(P)의 측면 형태는 도 2a에 도시된 바와 같이 편평한 일직선 면으로 형성될 수도 있지만, 도 2b에 도시된 바와 같이, 경사면을 포함하는 형태일 수도 있다.The side shape of the photomask P may be formed as a flat straight surface as shown in FIG. 2A, but may be a shape including an inclined surface as shown in FIG. 2B.

이때, 도 2a에 도시된 포토마스크(P)는 통상 TFT LCD의 경우에 해당하며, 도 2b에 도시된 포토마스크(P)는 통상 컬러필터에 해당한다.In this case, the photomask P illustrated in FIG. 2A corresponds to a case of a TFT LCD, and the photomask P illustrated in FIG. 2B corresponds to a color filter.

이와 같이, 포토마스크(P)의 측면 형태가 경사진 경우, 지지브라켓(20)에 설치된 완충부재(40)는 효율적인 완충부재(40)의 역할을 할 수 없는 문제가 발생하였다.As described above, when the side shape of the photomask P is inclined, the shock absorbing member 40 installed in the support bracket 20 may not function as an efficient shock absorbing member 40.

즉, 포토마스크(P)의 측면이 경사짐으로 인해, 상기 포토마스크(P)의 측면은 지지브라켓(20)의 완충부재(40)에 밀착되지 못함으로써, 지지브라켓(20)과 포토마스크(P) 사이에 간격이 발생하는 것이다.That is, since the side of the photomask (P) is inclined, the side of the photomask (P) is not in close contact with the buffer member 40 of the support bracket 20, the support bracket 20 and the photomask ( There is a gap between P).

이에 따라, 포토마스크(P)가 유동될 수 있으며, 이로 인해 포토마스크(P)가 손상되는 문제가 발생하였다.Accordingly, the photomask (P) may flow, which causes a problem that the photomask (P) is damaged.

본 발명은 상기한 과제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 포토마스크의 측면 형태에 관계없이 포토마스크를 효율적으로 완충 지지할 수 있는 지지브라켓이 설치된 포토마스크의 보관 케이스를 제공하고자 한 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a storage case of a photomask provided with a support bracket that can efficiently support the photomask regardless of the side shape of the photomask. will be.

이를 위해, 포토마스크를 수용하는 몸체와, 이 몸체의 내부에 설치되어 포토마스크의 둘레면을 지지하는 지지브라켓을 포함하는 포토마스크 보관 케이스에 있어서,상기 지지브라켓 중, 포토마스크의 둘레면에 대응된 부위에는 복수의 완충부재가 설치된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 케이스를 제공한다.To this end, in the photomask storage case comprising a body for accommodating the photomask and a support bracket installed inside the body to support the circumferential surface of the photomask, the support bracket, corresponding to the circumferential surface of the photomask The provided portion provides a photomask storage case, characterized in that a plurality of buffer members are installed.

이때, 상기 지지브라켓은 몸체의 상측에 설치된 상부 지지브라켓과, 몸체의 하측에 설치된 하부 지지브라켓을 포함하며,상부 지지브라켓은 몸체의 내측면 모서리를 따라 'ㄱ'자로 절곡되며, 하부 지지 브라켓은 몸체의 내측면에 일자(一字)로 형성된 것이 바람직하다.In this case, the support bracket includes an upper support bracket installed on the upper side of the body, and a lower support bracket installed on the lower side of the body, and the upper support bracket is bent along the inner edge of the body to be 'A', and the lower support bracket It is preferable that the inner surface of the body is formed in one letter.

이때, 상기 하부 지지 브라켓 중, 포토마스크의 둘레면에 대응된 부위에는 실리콘부재가 설치된 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the silicon member is installed in a portion of the lower support bracket corresponding to the circumferential surface of the photomask.

이때, 상기 하부 지지 브라켓 중, 포토마스크의 넓은 면에 대응된 부위에는 실리콘부재가 설치된 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the silicon member is installed in a portion of the lower support bracket corresponding to the wide surface of the photomask.

또한, 상기 완충부재는 포토마스크의 둘레면 중앙을 중심으로 상,하부에 대응된 부위에 각각 하나씩 설치된 것이 바람직하다.In addition, the buffer member is preferably installed at each of the upper and lower portions corresponding to the center of the circumferential surface of the photomask, respectively.

또한, 상기 지지브라켓에는 포토마스크의 일면을 지지하는 지지편이 더 형성된 것이 바람직하다.In addition, the support bracket is preferably formed with a support piece for supporting one surface of the photomask.

본 고안에 따른 포토마스크 보관 케이스에 의하면 다음과 같은 효과가 있다.According to the photomask storage case according to the present invention has the following effects.

포토마스크의 측면을 각각 지지하는 지지브라켓에 완충부재가 복수로 설치됨 으로써, 포토마스크의 측면 형상에 관계없이 상기 포토마스크를 효율적으로 지지할 수 있는 효과가 있다.Since a plurality of shock absorbing members are installed on the support brackets respectively supporting the side surfaces of the photomask, the photomask can be efficiently supported regardless of the side shape of the photomask.

즉, 완충부재가 지지브라켓 중, 포토마스크의 둘레면 중앙을 중심으로 상,하부에 대응되는 위치에 각각 하나씩 설치됨으로써, 포토마스크의 측면이 경사각을 갖더라도 둘 중에 어느 하나의 완충부재에는 포토마스크가 밀착될 수 있는 것이다.That is, one buffer member is installed at a position corresponding to the upper and lower portions of the support bracket with respect to the center of the circumferential surface of the photomask, so that even if the side surface of the photomask has an inclination angle, one of the buffer members may be a photomask. Can be adhered to.

이에 따라, 측면 형상에 관계없이 포토마스크는 지지브라켓의 완충부재에 지지될 수 있게 되는 것이다.Accordingly, the photomask can be supported by the buffer member of the support bracket regardless of the side shape.

이하, 첨부된 도 3 내지 도 5b를 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 포토마스크 보관 케이스(이하 '케이스'라 함)에 대해 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a photomask storage case (hereinafter referred to as a 'case') according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 5B.

케이스는 몸체(100)와, 지지브라켓(200)과, 완충부재(300)를 포함하여 구성된다.The case includes a body 100, a support bracket 200, and a shock absorbing member 300.

몸체(100)는 케이스의 외관을 구성하며, 서로 포개진 상태로 결합될 수 있도록 한 쌍으로 구성된다.Body 100 constitutes the appearance of the case, it is composed of a pair to be combined in a superimposed state.

이때, 몸체(100)는 사각 형태로 이루어진 것이 바람직한데, 이는 포토마스크(P)가 사각 형태로 이루어지기 때문이다. At this time, the body 100 is preferably made of a rectangular shape, because the photomask (P) is made of a rectangular shape.

또한, 몸체(100)의 내부에는 소정의 공간이 형성되며, 이 공간에는 몸체(100)의 내구성을 보강하는 복수의 보강부재(미도시)들이 설치된다.In addition, a predetermined space is formed inside the body 100, and a plurality of reinforcing members (not shown) are installed in the space to reinforce the durability of the body 100.

이 보강부재는 몸체(100)의 내구성을 보강하는 역할뿐만 아니라, 후술하는 지지브라켓이 설치될 수 있도록 제공된다.This reinforcing member is provided so that the support bracket to be described later, as well as to reinforce the durability of the body 100 can be installed.

이를 위해, 보강부재는 몸체(100)의 내측면을 따라 일정한 높이를 가지며, 포토마스크(P)에 대응된 부위는 편평한 상태로 설치된다.To this end, the reinforcing member has a constant height along the inner surface of the body 100, the portion corresponding to the photomask (P) is installed in a flat state.

또한, 몸체(100)의 저면에는 케이스의 용이한 운반을 위한 바퀴(100a)가 설치됨이 바람직하며, 몸체(100)의 외측 둘레에는 사용자의 파지를 위한 손잡이(110)가 더 형성됨이 바람직하다.In addition, the bottom surface of the body 100 is preferably provided with a wheel (100a) for easy carrying of the case, it is preferable that the handle 110 for the grip of the user is further formed on the outer circumference of the body (100).

또한, 한 쌍의 몸체 중, 어느 하나의 몸체(100)에는 내부 공간에 이물이 침투되는 것을 방지하기 위해 씰링부재(미도시)가 설치되며, 각각의 몸체(100)에는 상호 간에 결합을 위한 복수의 체결부재(미도시)가 설치된다.In addition, one of the pair of bodies, any one of the body 100 is provided with a sealing member (not shown) to prevent foreign matter from penetrating the internal space, each body 100 a plurality for coupling to each other Fastening member (not shown) is installed.

한편, 도 3은 한 쌍의 몸체 중, 어느 하나의 몸체(100)를 개방한 상태를 나타낸 정면도로서, 포토마스크(P)가 지지브라켓(200)에 지지된 상태를 보여주고 있다.On the other hand, Figure 3 is a front view showing a state in which any one of the body body 100 is open, showing a state that the photomask (P) is supported on the support bracket 200.

이를 통해 알 수 있듯이, 지지브라켓(200)은 몸체(100)의 내측면 둘레를 따라 여러 개가 설치된다.As can be seen through this, a plurality of support brackets 200 are installed along the inner circumference of the body 100.

상기 지지브라켓(200)은 포토마스크(P)의 둘레면을 따라 대응되며, 보강부재 상에 별도의 체결수단에 의해 설치된다.The support bracket 200 corresponds along the circumferential surface of the photomask P, and is installed by a separate fastening means on the reinforcing member.

한편, 지지브라켓(200)은 몸체(100)의 상측에 설치되어 포토마스크(P)의 상부를 지지하는 상부 지지브라켓(210)과, 몸체(100)의 하측에 설치되어 포토마스크(P)의 하부를 지지하는 하부 지지브라켓(220)을 포함한다.On the other hand, the support bracket 200 is installed on the upper side of the body 100, the upper support bracket 210 for supporting the upper portion of the photomask (P), and is installed on the lower side of the body 100 of the photomask (P) It includes a lower support bracket 220 for supporting the lower portion.

이때, 상부 지지브라켓(210)은 포토마스크(P)의 상부를 지지하며, 이를 위해, 도 3 및 도 4a에 도시된 바와 같이 몸체(100)의 내측면 모서리를 따라 절곡된 'ㄱ' 형태임이 바람직하다.At this time, the upper support bracket 210 supports the upper portion of the photomask (P), for this purpose, 'b' shape is bent along the inner surface edge of the body 100 as shown in Figure 3 and 4a desirable.

또한, 상부 지지브라켓(210) 중, 포토마스크(P)의 상부 둘레면에 대응된 부위에는 각각 완충부재가 설치된다.In addition, each of the upper support brackets 210, the buffer member is provided in the portion corresponding to the upper peripheral surface of the photomask (P).

이때, 완충부재에 대한 상세한 설명은 후술하기로 한다.At this time, a detailed description of the shock absorbing member will be described later.

한편, 하부 지지브라켓(220)은 포토마스크(P)의 하부 둘레면을 지지하며, 이를 위해 도 3 및 도 4b에 도시된 바와 같이 일자(一字)형태로 이루어짐이 바람직하다.On the other hand, the lower support bracket 220 supports the lower circumferential surface of the photomask (P), for this purpose is preferably made of a date (一字) form as shown in Figure 3 and 4b.

이와 같이, 하부 지지브라켓(220)이 상부 지지브라켓(210)과 달리, 일자로 이루어진 이유는 몸체(100)의 내부에 포토마스크(P)의 적재를 원활하게 하기 위함이다.As such, the lower support bracket 220 is different from the upper support bracket 210, and is formed in order to facilitate the loading of the photomask P inside the body 100.

즉, 포토마스크(P)를 몸체(100)의 내부에 적재할 때, 하부 지지브라켓(220)이 기준이 되기 때문인데, 자동화 적재 공정에 따른 로봇이 먼저 포토마스크(P)의 하부를 하부 지지브라켓(220)에 밀착한 상태에서 포토마스크(P)의 상부를 상부 지지브라켓(210)에 밀착하게 된다.That is, when loading the photomask (P) in the interior of the body 100, the lower support bracket 220 is a reference, the robot according to the automated loading process first lower support the lower portion of the photomask (P) The upper portion of the photomask (P) in close contact with the bracket 220 is in close contact with the upper support bracket 210.

만약, 하부 지지브라켓(220)의 형태가 상부 지지브라켓(210)처럼 'ㄱ'자로 절곡된 형태라면, 포토마스크(P)가 하부 지지브라켓(220)에 밀착되는 과정에서 절곡된 부위의 간섭으로 인해 원활한 적재가 이루어지지 않을 수도 있다.If the shape of the lower support bracket 220 is bent as 'a' like the upper support bracket 210, the photomask (P) may interfere with the bent portion in the process of being in close contact with the lower support bracket (220). Due to this, smooth loading may not be achieved.

한편, 상부 지지브라켓(210)과 하부 지지브라켓(220) 각각에는 포토마스크(P)의 일면 일부가 안착되는 지지편(211,221)이 더 형성됨이 바람직하다.On the other hand, each of the upper support bracket 210 and the lower support bracket 220 is preferably formed on the support piece (211, 221) on which a portion of one side of the photomask (P) is seated.

그리고, 몸체(100)의 내측면 중앙에는 포토마스크(P)의 둘레면 중간을 지지 하는 중간 지지브라켓(230)이 더 설치됨이 바람직하며, 지지브라켓(210,220,230) 사이에는 포토마스크(P)의 일면이 안착되어 지지되는 안착브라켓(400)이 더 설치됨이 바람직하다.In addition, it is preferable that an intermediate support bracket 230 is further installed at the center of the inner surface of the body 100 to support the middle of the circumferential surface of the photomask P, and between the support brackets 210, 220, and 230, one surface of the photomask P. It is preferable that the seating bracket 400 is further installed and supported.

이때, 중간 지지브라켓(230)은 포토마스크(P)의 적재를 원활하게 하기 위해 상,하부 탈착되는 구성으로 이루어진다.At this time, the intermediate support bracket 230 is composed of a top, bottom detachable configuration in order to facilitate the loading of the photomask (P).

또한, 하부 지지브라켓(220) 및 안착브라켓(400)에는 실리콘부재(S)가 설치된다.In addition, the lower support bracket 220 and the mounting bracket 400 is provided with a silicon member (S).

상기 실리콘부재(S)는 포토마스크(P)의 일면 및 둘레면에 밀착되도록 설치되어 포토마스크(P)의 유동 방지 및 완충작용을 한다.The silicon member S is installed to be in close contact with one surface and the circumferential surface of the photomask (P) to prevent and buffer the flow of the photomask (P).

특히, 실리콘부재(S)는 도 4b에 도시된 바와 같이, 포토마스크(P)의 둘레면에 대응된 부위에도 설치됨으로써, 포토마스크(P)를 세워서 적재하였을 때 하부 지지 브라켓(220) 및 안착브라켓(400)에 가해지는 포토마스크(P)의 하중에 대한 완충 작용을 하게 된다.In particular, as shown in FIG. 4B, the silicon member S is also installed at a portion corresponding to the circumferential surface of the photomask P, so that the lower support bracket 220 and the seating when the photomask P is mounted upright. The buffer 400 acts as a buffer against the load of the photomask P applied to the bracket 400.

다음으로, 완충부재(300)는 상부 지지브라켓(210) 및 중간 지지브라켓(230)에 지지된 포토마스크(P)의 유동 방지 및 완충작용을 하며, 각각의 지지브라켓(210,230)에 복수로 설치된다.Next, the buffer member 300 prevents and buffers the flow of the photomask (P) supported on the upper support bracket 210 and the intermediate support bracket 230, a plurality of installed on each support bracket (210, 230) do.

이때, 완충부재(300)는 각각의 지지브라켓(210,230) 중, 포토마스크(P)의 둘레면에 대응된 부위에 설치된다.At this time, the buffer member 300 is installed in a portion corresponding to the circumferential surface of the photomask (P) of each of the support brackets (210, 230).

이때, 완충부재(300)는 지지브라켓(210,230) 중, 포토마스크(P)의 둘레면 중앙을 중심으로 상,하부에 대응된 부위에 각각 하나씩 설치됨이 바람직하다.At this time, the buffer member 300 is preferably installed in each of the support brackets (210, 230), the upper and lower portions corresponding to the center of the circumferential surface of the photomask (P), respectively.

즉, 도 4a 및 도 4c에 도시된 바와 같이 각각의 지지브라켓(210,230)에는 두 개의 완충부재(300)가 설치된 것이다.That is, as shown in FIGS. 4A and 4C, each of the support brackets 210 and 230 is provided with two shock absorbing members 300.

이와 같이, 지지브라켓(210,230)에 상,하로 두 개의 완충부재(300)가 설치된 것은, 둘레면 형상이 경사를 이루는 형태의 포토마스크(P)도 효과적으로 지지할 수 있게 하기 위함이다.As such, the two shock absorbing members 300 are installed on the support brackets 210 and 230 so as to effectively support the photomask P having a circumferential shape inclined.

즉, 완충부재(300)가 두 개로 설치되면, 도 5a에 도시된 바와 같이, 둘레면이 일직선인 포토마스크(P)의 경우 두 개 모두 그의 둘레면에 밀착되어 포토마스크(P)를 지지하게 되며, 도 5b에 도시된 바와 같이, 둘레면의 일부가 경사진 포토마스크(P)의 경우 두 개의 완충부재(300) 중 어느 하나라도 그의 둘레면에 밀착되기 때문에 둘레면의 형상에 관계없이 포토마스크(P)를 원활하게 지지할 수 있게 되는 것이다. That is, when two shock absorbing members 300 are installed, as shown in FIG. 5A, in the case of the photomask P having a straight circumferential surface, both are closely attached to the circumferential surface thereof to support the photomask P. As shown in FIG. 5B, in the case of the inclined photomask P, any one of the two buffer members 300 is in close contact with the peripheral surface thereof, regardless of the shape of the peripheral surface. The mask P can be smoothly supported.

한편, 완충부재(300)의 재질은 합성수지임이 바람직하나, 포토마스크(P)와 지지브라켓(210,230) 사이에 개재되어 포토마스크(P)의 유동방지 및 완충작용을 할 수 있는 재질이라면 무방하다.On the other hand, the material of the shock absorbing member 300 is preferably a synthetic resin, but may be any material that is interposed between the photomask (P) and the support brackets (210,230) to prevent the flow and buffering of the photomask (P).

이하, 상기한 구성으로 이루어진 케이스의 결합 및 작용에 대해 살펴보도록 한다.Hereinafter, look at the coupling and action of the case consisting of the above configuration.

몸체(100)의 내부 가장자리에는 보강부재가 설치되고, 이 보강부재는 지지브라켓(210,220,230) 이 설치되기 위한 면을 제공한다.A reinforcing member is installed at an inner edge of the body 100, and the reinforcing member provides a surface for installing the support brackets 210, 220, and 230.

이후, 각각의 보강부재 위에 별도의 체결수단을 이용해 지지브라켓(210,220,230)을 고정시킨다.Then, fixing the support brackets 210, 220, 230 using a separate fastening means on each reinforcing member.

이때, 중간 지지브라켓(230)은 포토마스크(P)의 간섭을 피하기 위해 상부가 탈거된 상태로 고정된다.At this time, the intermediate support bracket 230 is fixed in a state where the upper part is removed to avoid interference of the photomask (P).

이후, 자동화 적재 공정을 통해 로봇은 포토마스크(P)를 몸체(100)의 내부에 적재시킨다.Thereafter, the robot loads the photomask P inside the body 100 through an automated loading process.

이때, 포토마스크(P)의 하부 일면 및 하부 둘레면 모두는 하부 지지브라켓(220) 및 안착브라켓(400)에 설치된 실리콘부재(S)에 밀착된다.At this time, both the lower one surface and the lower peripheral surface of the photomask (P) is in close contact with the silicon member (S) provided on the lower support bracket 220 and the mounting bracket 400.

이후, 포토마스크(P)를 밀어 포토마스크(P)의 상부를 상부 지지브라켓(210)에 지지시킨다.Thereafter, the photomask P is pushed to support the upper portion of the photomask P on the upper support bracket 210.

이때, 포토마스크(P)의 상부 일면은 상부 지지브라켓(210)의 지지편(211) 및 안착브라켓(400)의 실리콘부재에 밀착된다.At this time, the upper surface of the photomask (P) is in close contact with the support member 211 of the upper support bracket 210 and the silicon member of the mounting bracket 400.

이와 더불어, 포토마스크(P)의 하부 둘레면을 제외한 나머지 세 개의 둘레면은 각각 지지브라켓(210,230)의 완충부재(300)에 밀착되며, 도 5a 및 도 5b를 통해 알 수 있듯이, 어떠한 형태의 둘레면을 갖는 포토마스크(P)라도 완충부재(300)에 밀착되어 유동이 방지되고 완충작용이 효과적으로 이루어질 수 있게 된다.In addition, the remaining three peripheral surfaces except for the lower peripheral surface of the photomask (P) is in close contact with the buffer member 300 of the support brackets 210 and 230, respectively, as can be seen through Figures 5a and 5b, Even if the photomask (P) having a circumferential surface is in close contact with the buffer member 300 to prevent the flow and the buffering effect can be effectively made.

이후, 중간 지지브라켓(230)의 상부를 체결하여, 포토마스크(P)의 이탈 방지를 더욱 강화한다.Thereafter, by fastening the upper portion of the intermediate support bracket 230, the separation of the photomask (P) is further strengthened.

이후, 다른 하나의 몸체를 상기한 어느 하나의 몸체(100)를 덮어 체결부재를 이용해 상호 결합시킨다.Subsequently, the other body is covered with any one of the above-mentioned body 100 and coupled to each other using a fastening member.

이로써, 케이스의 결합이 완료되며, 운반 등으로 인한 케이스의 유동시에도 지지브라켓(210,220,230)에 설치된 복수의 완충부재(300) 및 실리콘부재(S)로 인해 포토마스크(P)가 안전하게 보관될 수 있다.Thus, the coupling of the case is completed, the photomask (P) can be safely stored due to the plurality of shock absorbing members 300 and the silicon member (S) installed in the support brackets (210, 220, 230) even during the flow of the case due to transportation, etc. have.

도 1은 종래의 포토마스크 보관 케이스의 개방된 상태를 나타낸 정면도1 is a front view showing an open state of a conventional photomask storage case

도 2a 및 도 2b는 둘레면의 형태가 각기 다른 포토마스크가 종래의 지지브라켓에 지지된 상태를 나타낸 요부 단면도2A and 2B are main cross-sectional views showing a state in which photomasks having different shapes of peripheral surfaces are supported on a conventional support bracket.

도 3은 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 포토마스크 보관 케이스의 개방된 상태를 나타낸 정면도3 is a front view showing an open state of the photomask storage case according to a preferred embodiment of the present invention

도 4a 내지 도 4c는 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 포토마스크 보관 케이스의 상부 지지브라켓, 하부 지지브라켓, 중간 지지브라켓을 나타낸 사시도4A to 4C are perspective views illustrating an upper support bracket, a lower support bracket, and an intermediate support bracket of a photomask storage case according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5a 및 도 5b는 둘레면의 형태가 각기 다른 포토마스크가 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 지지브라켓에 지지된 상태를 나타낸 요부 단면도.5a and 5b is a sectional view showing the main portion of the photomask having a different shape of the circumferential surface is supported on the support bracket according to a preferred embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부호에 대한 설명** Description of Major Symbols in Drawings *

100 : 몸체 100a : 바퀴100: body 100a: wheels

200 : 지지브라켓 210 : 상부 지지브라켓200: support bracket 210: upper support bracket

220 : 하부 지지브라켓 230 : 중간 지지브라켓220: lower support bracket 230: intermediate support bracket

300 : 완충부재 400 : 안착브라켓300: buffer member 400: mounting bracket

P : 포토마스크 S : 실리콘부재P: Photomask S: Silicone Member

Claims (6)

포토마스크를 수용하는 몸체와, 이 몸체의 내부에 설치되어 포토마스크의 둘레면을 지지하는 지지브라켓을 포함하는 포토마스크 보관 케이스에 있어서,In the photomask storage case comprising a body for receiving a photomask and a support bracket installed inside the body to support a circumferential surface of the photomask, 상기 지지브라켓 중, 포토마스크의 둘레면에 대응된 부위에는 복수의 완충부재가 설치된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 케이스.A photomask storage case, characterized in that a plurality of buffer members are installed in a portion of the support bracket corresponding to the circumferential surface of the photomask. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지브라켓은 몸체의 상측에 설치된 상부 지지브라켓과, 몸체의 하측에 설치된 하부 지지브라켓을 포함하며,The support bracket includes an upper support bracket installed on the upper side of the body, a lower support bracket installed on the lower side of the body, 상부 지지브라켓은 몸체의 내측면 모서리를 따라 'ㄱ'자로 절곡되며, 하부 지지 브라켓은 몸체의 내측면에 일자(一字)로 형성된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 케이스.The upper support bracket is bent in the letter 'A' along the inner edge of the body, the lower support bracket is a photomask storage case, characterized in that formed in a date (一字) on the inner side of the body. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 하부 지지 브라켓 중, 포토마스크의 둘레면에 대응된 부위에는 실리콘부재가 설치된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 케이스.The photomask storage case, characterized in that the silicon member is installed in a portion of the lower support bracket corresponding to the circumferential surface of the photomask. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 하부 지지 브라켓 중, 포토마스크의 넓은 면에 대응된 부위에는 실리콘 부재가 설치된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 케이스.The photomask storage case, characterized in that the silicon member is installed in a portion of the lower support bracket corresponding to the wide surface of the photomask. 제 1항 내지 제 4항 중, 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 완충부재는 포토마스크의 둘레면 중앙을 중심으로 상,하부에 대응된 부위에 각각 하나씩 설치된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 케이스.The buffer member is a photomask storage case, characterized in that each one installed in the upper and lower portions corresponding to the center around the center of the photomask. 제 1항 내지 제 4항 중, 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 지지브라켓에는 포토마스크의 일면을 지지하는 지지편이 더 형성된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 케이스.The support bracket is a photomask storage case, characterized in that the support piece for supporting one side of the photomask is further formed.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023120991A (en) * 2022-02-18 2023-08-30 株式会社協同 Photomask storage case and cushion member for photomask for use in photomask storage case

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