KR20090009774A

KR20090009774A - 노광 장치

Info

Publication number: KR20090009774A
Application number: KR1020087018115A
Authority: KR
Inventors: 신타로 가와타
Original assignee: 가부시키가이샤 니콘
Priority date: 2006-04-25
Filing date: 2007-04-10
Publication date: 2009-01-23
Also published as: EP2012348A1; TW200741370A; JP2007294673A; WO2007129442A1; US20070279605A1

Abstract

노광 장치는 챔버와, 드라이 펌프와, 배기로와, 적외선 차폐부를 구비한다. 챔버는 노광 장치를 구성하는 컴포넌트를 수용한다. 드라이 펌프는 챔버 내의 기체를 배기한다.

배기로는, 챔버와 드라이 펌프를 접속한다. 적외선 차폐부는 챔버 내의 배기로의 입구부 및 배기로 내 중 적어도 한 쪽에 형성되고, 드라이 펌프로부터 챔버로의 적외선의 입사를 방해한다.

Description

노광 장치{EXPOSURE APPARATUS}

본 발명은, 진공 환경 하에서 운전되는 노광 장치에 관한 것이다.

최근, 반도체 집적 회로의 미세화에 따라, 광의 회절 한계에 의해 제한되는 광학계의 해상력을 향상시키기 위해, 1 ㎚∼50 ㎚ 정도의 파장을 갖는 EUV광을 사용한 EUV 노광 장치나, 하전 입자선을 사용한 하전 입자선 노광 장치가 개발되고 있다(또한, 상기의 노광 장치의 일례로서 특허문헌 1을 나타낸다).

EUV 노광 장치나 하전 입자선 노광 장치는, 투영 광학계, 원판 스테이지, 감응 기판 스테이지 등의 컴포넌트를 구비하고 있다. 이들 컴포넌트는, EUV광이나 하전 입자선의 공기에 의한 흡수를 막기 위해 진공 분위기의 챔버 내부에 배치되는 것이 일반적이다. 그리고, 챔버에는 탈기를 위한 드라이 펌프가 배기로를 통해 접속되어 있다.

또한, 상기한 노광 장치에서는, 노광시에 있어서 웨이퍼, 레티클 및 광학 소자 등에 열 변형이 생기면 노광 정밀도가 저하된다. 이 때문에 챔버 내의 각 컴포넌트에 대해서는 온도 관리를 매우 높은 정밀도로 행해야 한다.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2005-203754호 공보

본 발명의 발명자는 상기 노광 장치에서의 노광시의 여러 가지 현상을 해석하였다. 그 결과, 드라이 펌프가 발생하는 적외선이 배기로를 통해 챔버 내에 입사하여, 챔버 내의 컴포넌트를 가열시키는 것을 확인하였다.

본 발명은 상기 종래 기술의 문제를 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 드라이 펌프로부터 챔버로의 적외선의 입사를 억제하는 노광 장치를 제공하는 것에 있다.

본 발명에 따른 노광 장치는, 챔버와, 드라이 펌프와, 배기로와, 적외선 차폐부를 포함한다. 챔버는 노광 장치를 구성하는 컴포넌트를 수용한다. 드라이 펌프는 챔버 내의 기체를 배기한다. 배기로는 챔버와 드라이 펌프를 접속한다. 적외선 차폐부는 챔버 내의 배기로의 입구부 및 배기로 내 중 적어도 한 쪽에 형성되어, 드라이 펌프로부터 챔버로의 적외선의 입사를 방해한다.

본 발명의 노광 장치에서는, 드라이 펌프로부터 챔버로의 적외선의 입사에 기인하는 노광 장치의 컴포넌트의 온도 상승을 억제할 수 있다.

도 1은 제1 실시형태에서의 노광 장치의 주요부의 설명도

도 2는 EUV 노광 장치의 전체 구성을 도시하는 모식도

도 3은 배기 덕트의 표면 상태를 확대하여 도시하는 모식도

도 4는 제2 실시형태에서의 노광 장치의 주요부의 설명도

도 5는 제3 실시형태에서의 노광 장치의 주요부의 설명도

도 6은 제4 실시형태에서의 노광 장치의 주요부의 설명도

도 7은 차폐 부재의 구성의 일례를 도시하는 평면도

도 8은 도 7의 A-A를 따라 취한 단면도

도 9는 도 6의 구성의 변형예를 도시하는 도면

도 10은 제5 실시형태에서의 노광 장치의 주요부의 설명도

도 11은 하전 입자선 노광 장치의 전체 구성을 도시하는 모식도

(제1 실시형태의 설명)

이하, 제1 실시형태의 노광 장치의 구성을 설명한다. 우선, 도 2를 참조하면서 본 발명의 일례에 따른 EUV 노광 장치의 전체 구성을 모식화하여 설명한다.

도 2에 도시하는 EUV 노광 장치(100)는, 노광의 조명광으로서 EUV광을 이용한다. EUV광의 파장은 0.1 ㎚∼400 ㎚의 범위이지만, 이 실시형태에서는 1 ㎚∼50 ㎚ 정도의 파장의 EUV광이 이용된다. 투영 광학계는 이미지 광학 시스템(101)을 이용한 것이다. 웨이퍼(103) 상에 조사되는 패턴은 반사형의 레티클(102)에 의해 정해진다. 웨이퍼(103) 상에는 레티클(102)에 의한 패턴의 축소 이미지가 형성된다. 상기한 레티클(102)은 레티클 스테이지(104)의 하측에 정전척(도시 생략)을 통해 배치된다. 웨이퍼(103)는 웨이퍼 스테이지(105) 상에 배치된다. 전형적으로, 노광은 스텝·스캔에 의해 이루어진다. 노광 장치 전체는 소정의 온도 범위에 유지된 클린룸에 배치되어 있고, 장치 내부도 소정의 온도 범위가 되도록 제어되어 있다.

노광시의 조명광에 사용되는 EUV광은 대기에 대한 투과성이 낮기 때문에, EUV광이 통과하는 광 경로는, 진공 펌프(107)로 진공으로 유지된 진공 챔버(106)에 둘러싸여 있다. 또한 EUV광은 레이저 플라즈마 X선원에 의해 생성된다. 레이저 플라즈마 X선원은 레이저원(108)(여기 광원으로서 작용)과 크세논 가스 공급 장치(109)로 이루어져 있다. 이 레이저 플라즈마 X선원은 진공 챔버(110)로 둘러싸여 있고, 레이저 플라즈마 X선원에서 생성된 EUV광은 진공 챔버(110)의 창(111)을 통과한다.

포물면 거울(113)은, 크세논 가스 방출부 근방에 배치되어 있다. 포물면 거울(113)은 플라즈마에 의해 생성된 EUV광을 집광하는 집광 광학계를 구성한다. 이 포물면 거울(113)의 초점 위치는 노즐(112)로부터의 크세논 가스가 방출되는 위치 근방에 오도록 조절되어 있다. EUV광은 포물면 거울(113)의 다층막으로 반사하고, 진공 챔버(110) 내의 창(111)을 통하여 집광 거울(114)에 도달한다. 집광 거울(114)은 레티클(102)에 EUV광을 집광, 반사시킨다. EUV광은 집광 거울(114)에서 반사되어, 레티클(102)의 소정의 부분을 조명한다. 즉 포물면 거울(113)과 집광 거울(114)은 이 노광 장치의 조명 시스템을 구성한다.

레티클(102)은, EUV광을 반사하는 다층막과 패턴을 형성하기 위한 흡수체 패턴층을 갖고 있다. 레티클(102)에서 EUV광이 반사됨으로써 EUV광은 패턴화된다. 패턴화된 EUV광은 이미지 광학 시스템(101)을 통하여 웨이퍼(103)에 도달한다.

도 2에서의 이미지 광학 시스템(101)은 오목면 제1 거울(115a), 볼록면 제2 거울(115b), 볼록면 제3 거울(115c), 오목면 제4 거울(115d)의 4개의 반사 거울로 이루어져 있다. 각각의 거울(115a∼115d)은 EUV광을 반사하는 다층막이 구비되어 있다.

레티클(102)에서 반사된 EUV광은, 제1 거울(115a)로부터 제4 거울(115d)까지 순차 반사되어, 레티클(102)의 패턴의 축소 이미지(예컨대 1/4, 1/5, 1/6의 축소율)를 형성한다. 이미지 광학 시스템(101)은, 이미지 측[웨이퍼(103)의 측]에서 텔리센트릭이 되도록 설정되어 있다.

레티클(102)은 가동의 레티클 스테이지(104)에 의해 적어도 X-Y 평면 내에서 지지되어 있다. 웨이퍼(103)는, 바람직하게는 X, Y, Z 방향으로 가동의 웨이퍼 스테이지(105)에 의해 지지되어 있다. 웨이퍼(103) 상의 다이를 노광할 때에는, 조명 시스템에 의해 EUV광이 레티클(102)의 소정의 영역에 조사된다. 그리고 레티클(102)과 웨이퍼(103)는 이미지 광학 시스템(101)에 대하여 상기의 축소율에 따른 소정의 속도로 움직인다. 이와 같이 하여, 레티클 패턴은 웨이퍼(103) 상의 소정의 노광 범위(다이에 대하여)에 노광된다.

노광시에는, 웨이퍼(103) 상의 레지스트로부터 발생하는 가스가 이미지 광학 시스템(101)의 거울(115a∼115d)에 영향을 부여하지 않도록, 웨이퍼(103)는 파티션(116) 뒤의 웨이퍼 챔버에 배치되는 것이 바람직하다. 파티션(116)은 개구(116a)를 갖고 있고, 개구(116a)를 통하여 EUV광이 거울(115d)로부터 웨이퍼(103)에 조사된다. 파티션(116) 내의 공간은 진공 펌프(117)에 의해 진공 배기되어 있다. 이와 같이 하여, 노광시에 발생하는 가스상의 먼지가 거울(115a∼115d) 또는 레티클(102)에 부착되는 것을 막아, 이들의 광학 성능이 악화되는 것을 방지하고 있다.

도 1에 복귀하여, 제1 실시형태의 노광 장치에서의 주요부를 설명한다. 설명의 편의상, 도 1에서는 웨이퍼 및 웨이퍼 스테이지를 수용하는 웨이퍼 챔버와 그 배기계(도 2에서는 116 및 117에 대응한다)의 예를 설명한다. 물론, 제1 실시형태의 구성을, 예컨대 레티클 및 이미지 광학 시스템을 수용하는 진공 챔버와 그 배기계(도 2에서는 106 및 107에 대응한다) 등 그 외의 지점에 적용하여도 좋다.

도 1에서의 노광 장치는, 진공 챔버(11)와, 터보 펌프(12)와, 메커니컬 펌프(13)와, 배기 덕트(14)와, 덕트용 냉각기(15)와, 투영 광학계(16)와, 웨이퍼(17)와, 웨이퍼 스테이지(18)를 갖는다.

진공 챔버(11) 내에는 웨이퍼(17) 및 웨이퍼 스테이지(18)가 수용되어 있다. 진공 챔버(11)의 위쪽에는 투영 광학계(16)로부터 웨이퍼(17)에 EUV광을 유도하는 개구가 형성되어 있다. 또한, 진공 챔버(11)에 있어서 웨이퍼 스테이지(18)의 아래쪽에는 배기 덕트(14)의 일단이 접속되어 있다. 배기 덕트(14)의 타단은 터보 펌프(12)의 흡기구에 접속되어 있다. 또한 배기 덕트(14)는 액체 냉각 배관(15a)으로 접속된 덕트용 냉각기(15)에 의해 냉각되어 있다.

한편, 터보 펌프(12)의 배기구에는, 예비 배기용 메커니컬 펌프(13)가 직렬로 접속되어 있다. 그리고, 이들 진공 펌프(12, 13)의 구동에 의해서, 진공 챔버(11)의 내부는 10^-5 Pa 정도의 높은 진공으로 유지된다. 또한, 터보 펌프(12)는 액체 냉각 배관(19a)으로 접속된 펌프용 냉각기(19)에 의해서 냉각된다.

여기서, 제1 실시형태의 배기 덕트(14)는 일단측으로부터 L자형으로 굴곡되어 타단측에 연결되어 있다. 또한, 배기 덕트(14)의 내면에는 러프닝 등의 조면화 처리에 의해 무수한 돌기가 형성되어 있다. 이 때문에 배기 덕트(14) 내면은, 후술 의 적외선의 반사를 방해하는 반사 방지면을 구성하고 있다. 이 배기 덕트(14)의 돌기의 높이[즉, 배기 덕트(14)의 내면의 표면 거칠기]는, 반사를 방지하는 적외선의 파장에 따라서 적절히 설정된다. 일례로서, 제1 실시형태에서는 배기 덕트(14)의 내면의 돌기 높이가 수 ㎛∼수 ㎜ 정도가 되도록 설정된다. 또한, 배기 덕트(14)의 내면에 나사 절삭 등의 표면 가공을 실시하거나, 규사나 각종 세라믹 분말 등을 기재에 혼입하여 도포하는 등의 수단에 의해 상기의 돌기를 형성하도록 하여도 좋다.

이하, 제1 실시형태의 노광 장치의 작용을 설명한다. 터보 펌프(12)는 펌프용 냉각기(19)에 의해 냉각되지만, 터보 펌프(12)의 동작시에는 터보 펌프에 내장된 모터로부터도 적외선이 발생한다. 이 적외선은 진공 챔버(11)를 향해 배기 덕트(14)에 방사된다.

그러나, 상기와 같이 배기 덕트(14)는 L자형으로 굴곡되어 있기 때문에, 터보 펌프(12)로부터 진공 챔버(11)로의 적외선의 직사(直射)는 차단된다. 또한, 배기 덕트(14)의 내면은 상기한 바와 같이 무수한 돌기가 형성된 반사 방지면으로 되어 있다. 즉, 도 3에 도시하는 바와 같이, 배기 덕트(14)의 내면에서 반사하는 적외선은, 돌기가 이루는 요철면에서 심하게 산란한다. 그리고, 이 산란에 따르는 반사와 흡수와의 반복으로 진공 챔버(11)에 도달하는 적외선량은 현저히 저감된다. 또한 배기 덕트(14)는 덕트용 냉각기(15)에 의해 냉각되기 때문에, 배기 덕트(14)가 2차 열원이 되는 것도 아니다.

이상과 같이, 제1 실시형태의 구성에 의하면, 터보 펌프(12)로부터 진공 챔 버(11)에 입사하는 적외선량이 현저히 저감한다. 그 결과, 터보 펌프(12)로부터의 적외선에 기인하는 웨이퍼(17)의 열 변형이 대폭 억제된다.

(제2 실시형태의 설명)

도 4는 제2 실시형태의 노광 장치에서의 주요부를 설명하는 도면이다. 여기서, 이하의 실시형태에서의 노광 장치의 구성 요소에 대해서, 도 1에 도시하는 제1 실시형태의 구성과 공통의 것에 대해서는 동일 부호를 붙이고 중복 설명을 생략한다.

이 제2 실시형태에서는, 배기 덕트(14)의 내면에 적외선의 반사를 방지하는 반사 방지막(20)이 형성되어 있다. 이 반사 방지막(20)은 공지의 적외선 반사 방지재로 형성된다. 일례로서, 반사 방지막(20)은 골드블랙, 카본블랙 또는 금속 산화물을 고분자 재료로 분산시킨 박막 재료 등으로 형성된다. 또한, 배기 덕트(14)는 덕트용 냉각기(15)에 의해 냉각되기 때문에, 배기 덕트(14)가 2차 열원으로 되는 것은 아니다. 이 제2 실시형태의 구성에 의해서도, 제1 실시형태의 경우와 거의 동일한 효과를 얻을 수 있다.

(제3 실시형태의 설명)

도 5는 제3 실시형태의 노광 장치에서의 주요부를 설명하는 도면이다. 이 제3 실시형태에서는, 배기 덕트(14) 중간에 관로를 구부려 周回(주회)시킨 주회부(14a)를 형성하여, 적외선의 트랩을 형성하고 있다. 또한, 배기 덕트(14)는 덕트용 냉각기(15)에 의해 냉각되어 있다. 이 제3 실시형태의 구성에서도, 터보 펌프(12)로부터 진공 챔버(11)로의 적외선의 입사가 차단되기 때문에, 제1 실시형태 의 경우와 거의 동일한 효과를 얻을 수 있다.

(제4 실시형태의 설명)

도 6은 제4 실시형태의 노광 장치에서의 주요부를 설명하는 도면이다. 제4 실시형태에서는, 배기 덕트(14)의 중간부에 적외선을 차폐하기 위한 차폐 부재(21)가 배치되어 있다. 이 차폐 부재(21)는 액체 냉각 배관(22a)으로 접속된 냉각기(22)에 의해 냉각된다. 또한, 도 6의 예에서는 웨이퍼 스테이지(18)의 바로 아래에 터보 펌프(12)를 배치하고, 배기 덕트(14)에는 굴곡부를 형성하지 않는다.

도 7 및 도 8에 차폐 부재(21)의 구성의 일례를 도시한다. 차폐 부재(21)는 크기가 상이한 복수의 원주형의 차폐 날개(21a)를 동심원형으로 배치하여 형성된 판형 부재이다. 이 차폐 부재(21)는 배기 덕트(14)의 내경에 수용되는 크기로 설정되어 있다. 또한, 차폐 부재(21)에는 각각의 차폐 날개(21a)를 관통하여 액체 냉각 배관(22a)이 배치되어 있다.

또한, 각각의 차폐 날개(21a)는 일단측의 직경이 타단측의 직경보다 넓어지도록 형성되어 있다. 각각의 차폐 날개(21a)에서 일단측으로부터 타단측으로 넓어지는 각도는 모두 동일한 각도로 설정되어 있다. 또한, 차폐 부재(21)와 직교하는 방향(도 8의 상측 또는 하측)에서 봤을 때, 각각 인접하는 차폐 날개(21a)의 일단측과 타단측은 상호 중첩되도록 구성되어 있다.

즉, 차폐 부재(21)의 조립 상태에서는 루버형으로 배치된 복수의 차폐 날개(21a)에 의해 적외선의 통과가 차단된다. 한편 차폐 날개(21a) 사이에는 슬릿형의 통기부가 형성되어, 배기 덕트(14)를 흐르는 기체는 차폐 부재(21)를 통과할 수 있다. 또한, 차폐 부재(21)는 냉각기(22)에 의해 냉각되기 때문에, 차폐 부재(21)가 2차 열원이 되는 것도 아니다. 따라서, 제4 실시형태의 구성에서도 제1 실시형태의 경우와 거의 동일한 효과를 얻을 수 있다. 또한 도 7, 도 8에 도시한 차폐 부재(21)의 구성은 어디까지나 일례로서, 차폐 날개(21a)의 배치 등은 설계에 따라 적절하게 변경할 수 있다.

제4 실시형태에서 도 6의 구성의 변형예를 도 9에 도시한다. 도 9에서는 차폐 부재(23)를 진공 챔버(11)의 배기 덕트(14)의 입구에 설치하고 있다. 도 9의 차폐 부재(23)도 도 6의 경우와 마찬가지로 냉각기(22)로 냉각되어 있다. 또한, 도 9에서의 차폐 부재(23)는 배기 덕트(14)를 차폐할 수 있는 크기로, 개구가 없는 판형 부재로 구성되어 있다. 그리고, 도 9의 경우에는, 차폐 부재(23)와 배기 덕트(14)의 입구 사이에 클리어런스를 설치하여 통기부를 구성하고 있다. 물론, 도 9의 경우에도 상기한 도 7, 도 8에 도시하는 차폐 부재(21)를 사용하면, 배기 덕트(14)의 입구에 차폐 부재(21)를 클리어런스없이 부착할 수 있다.

(제5 실시형태의 설명)

도 10은 제5 실시형태의 노광 장치에서의 주요부를 설명하는 도면이다. 제5 실시형태에서는, 배기 덕트(14) 내에 복수의 돌기편(24)을 갖는 차폐 구조가 형성되어 있다. 각각의 돌기편(24)은 배기 덕트(14)의 연장 방향의, 상이한 위치에 배치되어 있고, 각각 배기 덕트(14)를 부분적으로 차폐하고 있다. 그리고, 복수의 돌기편(24)은, 어느 하나의 돌기편(24)이 차폐하지 않은 영역을 차폐하도록 조합되어 있어, 차폐 구조 전체로 배기 덕트(14) 전체를 차폐하도록 설정되어 있다. 도 10의 예에서는, 각 돌기편(24)이 배기 덕트(14)의 절반 이상의 영역을 차폐하고, 복수의 돌기편(24)을 교대로 맞물리도록 배치하여 차폐 구조를 구성하고 있다. 또한, 각각의 돌기편(24)은, 덕트용 냉각기(15) 등으로 냉각하는 것이 바람직하다.

또한, 각 돌기편(24) 사이에는 클리어런스가 확보되고, 돌기편(24)이 배기 덕트(14)를 완전히 차폐하지 않기 때문에 배기 덕트(14)의 통기는 확보되어 있다. 이러한 제5 실시형태의 구성에서도 제1 실시형태의 경우와 거의 동일한 효과를 얻을 수 있다.

(실시예 및 비교예의 설명)

여기서, 도 6에 도시한 제4 실시형태의 구성의 노광 장치의 실시예를 설명한다. 실시예에서는, EUV 노광 장치에서 웨이퍼 스테이지 바로 아래 1 m의 위치에 터보 펌프를 배치하고, 배기 덕트 내에는 차폐 부재를 배치하였다. 그리고, 터보 펌프에 의해 250 L/min의 조건으로 탈기를 행하였다. 또한, 웨이퍼의 관리 목표 온도는 23℃로 설정하고, 차폐 부재는 23℃로 냉각하였다. 이 실시예에서, 진공 챔버 내에 10 분간 웨이퍼를 방치하여도, 웨이퍼의 온도 상승은 0.1℃ 이하로 유지되었다.

한편, 상기 실시예의 비교예로서, 차폐 부재를 갖지 않는 점을 제외하고 상기와 같은 조건으로 탈기하여 웨이퍼의 온도를 측정하였다. 이 경우에는, 진공 챔버 내에 10 분간 웨이퍼를 방치하면, 웨이퍼의 온도가 23.9℃까지 크게 상승하였다.

(실시형태의 보충사항)

(1) 상기 실시형태는 EUV 노광 장치의 예를 설명하였지만, 본 발명은 하전 입자선 노광 장치에도 적용할 수 있다. 여기서, 본 발명을 하전 입자선 노광 장치에 적용한 경우의 구성을 모식적으로 설명한다.

도 11은, 하전 입자선 노광 장치의 전체 구성을 모식적으로 도시하는 도면이다. 노광 장치 전체는 소정의 온도 범위로 유지된 클린룸에 배치되어 있고, 장치 내부도 소정의 온도 범위가 되도록 제어되어 있다. 하전 입자선 노광 장치(200)의 상부에는, 광학 경통(진공 챔버)(201)이 배치되어 있다. 광학 경통(201)에는 진공 펌프(202)가 접속되어 있어, 광학 경통(201) 내를 진공 배기하고 있다.

광학 경통(201)의 상부에는 전자총(203)이 배치되어 있다. 전자총(203)은 아래쪽을 향해 전자선을 방사한다. 전자총(203)의 아래쪽에는, 순서대로 콘덴서 렌즈(204), 전자선 편향기(205), 마스크(M)가 배치되어 있다. 전자총(203)으로부터 방사된 전자선은 콘덴서 렌즈(204)에 의해 수속된다. 계속해서, 편향기(205)에 의해 도면의 가로 방향으로 순차 주사되어, 광학계의 시야 내에 있는 마스크(M)의 각 소영역의 조명이 행해진다.

마스크(M)는, 마스크 스테이지(211)의 상부에 설치된 척(210)에 의해 정전 흡착 등으로 고정되어 있다. 마스크 스테이지(211)는 정반(216)에 놓여 있다.

마스크 스테이지(211)에는, 도면의 좌측에 도시하는 구동 장치(212)가 접속되어 있다. 구동 장치(212)는 드라이버(214)를 통해 제어 장치(215)에 접속되어 있다. 또한, 마스크 스테이지(211)의 측방(도면의 우측)에는 레이저 간섭계(213)가 설치되어 있다. 레이저 간섭계(213)는 제어 장치(215)에 접속되어 있다.

정반(216)의 하측에는, 웨이퍼 챔버(진공 챔버)(221)가 배치되어 있다. 웨이퍼 챔버(221)의 측방(도면의 우측)에는, 진공 펌프(222)가 접속되어 있어, 웨이퍼 챔버(221) 내를 진공 배기하고 있다. 웨이퍼 챔버(221) 내에는, 상측으로부터 콘덴서 렌즈(224), 편향기(225), 웨이퍼(W)가 배치되어 있다.

마스크(M)를 통과한 전자선은 콘덴서 렌즈(224)에 의해 수속된다. 콘덴서 렌즈(224)를 통과한 전자선은 편향기(225)에 의해 편향된다. 이것에 의해, 웨이퍼(W) 상의 소정의 위치에 마스크(M)의 이미지가 결상된다.

웨이퍼(W)는, 웨이퍼 스테이지(231)의 상부에 설치된 척(230)에 의해 정전 흡착 등으로 고정되어 있다. 웨이퍼 스테이지(231)는 정반(236)에 놓여 있다. 웨이퍼 스테이지(231)에는, 도면의 좌측에 도시하는 구동 장치(232)가 접속되어 있다. 구동 장치(232)는 드라이버(234)를 통해, 제어 장치(215)에 접속되어 있다. 또한, 웨이퍼 스테이지(231)의 측방(도면의 우측)에는 레이저 간섭계(233)가 설치되어 있다. 레이저 간섭계(233)는 제어 장치(215)에 접속되어 있다.

그리고, 제어 장치(215)는 레이저 간섭계(213, 233)로 얻은 위치 정보에 기초하여, 마스크 스테이지(211) 및 웨이퍼 스테이지(231)를, 각각에 대응하는 구동 장치(212, 232)로 노광시의 목표 위치에 구동한다.

상기한 하전 입자선 노광 장치에서도, 진공 챔버(201) 및 진공 펌프(202)의 부분 또는 진공 챔버(221) 및 진공 펌프(222) 부분에, 상기 실시형태의 구성을 적용할 수 있다.

(2) 상기 실시형태는 본 발명의 일례로서, 제1 실시형태로부터 제5 실시형태 의 각 구성을 임의로 조합하여 실시하여도 좋다. 예컨대 제4 실시형태에 나타내는 차폐 부재를 다단으로 배치하여 적용하여도 좋다. 또한, 전술한 바와 같이, 본 발명은 EUV 노광 장치나 하전 입자선 노광 장치에서, 웨이퍼 챔버 이외의 진공 챔버에도 당연히 응용할 수 있다. 이 경우에는, 진공 펌프로부터 진공 챔버에 입사하는 적외선을 방해함으로써, 마스크, 레티클이나 광학 소자의 열 변형을 억제할 수 있다.

또한, 본 발명은, 그 정신 또는 그 주요한 특징으로부터 일탈하지 않고, 다른 여러 가지 형태로 실시할 수 있다. 이 때문에, 전술한 실시형태는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않기 때문에 한정적으로 해석해서는 안된다. 본 발명은 특허청구범위에 의해 나타내는 것으로, 본 발명은 명세서 본문에는 전혀 구속되지 않는다. 또한 특허청구범위의 균등 범위에 속하는 변형이나 변경은, 모두 본 발명의 범위 내이다.

Claims

노광 장치를 구성하는 컴포넌트를 수용하는 챔버와,

상기 챔버 내의 기체를 배기하는 드라이 펌프와,

상기 챔버와 상기 드라이 펌프를 접속하는 배기로와,

상기 챔버 내의 상기 배기로의 입구부 및 상기 배기로 내 중 적어도 한 쪽에 형성되고, 상기 드라이 펌프로부터 상기 챔버로의 적외선의 입사를 방해하는 적외선 차폐부

를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제1항에 있어서, 상기 적외선 차폐부는, 복수의 돌기편에 의해 상기 배기로를 통기 가능하게 차폐하는 차폐 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제1항에 있어서, 상기 적외선 차폐부는, 상기 기체를 통과시키는 통기부가 형성되고, 상기 배기로를 차폐하는 차폐 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제3항에 있어서, 상기 차폐 부재를 냉각하는 냉각기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제1항 내지 제4항에 있어서, 상기 적외선 차폐부로서, 상기 드라이 펌프로부터 상기 적외선의 직사(直射)를 막는 굴곡부를 상기 배기로에 형성한 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적외선 차폐부로서, 상기 적외선을 산란시키는 복수의 돌기를 상기 배기로의 내면에 형성한 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제6항에 있어서, 상기 돌기는 조면화 처리로 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적외선 차폐부로서, 상기 적외선의 반사 방지막을 상기 배기로의 내면에 형성한 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적외선 차폐부는 상기 배기로를 냉각하는 냉각기를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노광 장치는 EUV 노광 장치인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노광 장치는 하전 입자선 노광 장치인 것을 특징으로 하는 노광 장치.