KR20080102849A - p―n 접합 태양전지 제조방법 - Google Patents
p―n 접합 태양전지 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20080102849A KR20080102849A KR1020070049835A KR20070049835A KR20080102849A KR 20080102849 A KR20080102849 A KR 20080102849A KR 1020070049835 A KR1020070049835 A KR 1020070049835A KR 20070049835 A KR20070049835 A KR 20070049835A KR 20080102849 A KR20080102849 A KR 20080102849A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- type
- solar cell
- solid material
- groove
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 4
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 2
- 230000036651 mood Effects 0.000 abstract 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0352—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions
- H01L31/035272—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/035281—Shape of the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
- H01L31/072—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
본 발명은 효율이 높아지도록 수광부의 도핑농도를 다른 곳과 차별화하는 pn접합 태양전지 제조방법에 관한 것으로서, p형(100) 기판 상에 홈(110)을 형성하는 제1단계; 홈(110)에 n형 고체물질(120)을 삽입하는 제2단계; 및 상기 제2단계의 결과물을 n형 도펀트 분위기에서 가열하여 n형 고체물질(120) 주위(130)는 고농도 n형 도핑되도록 하고 그 외의 부분(140)은 저농도 n형 도핑되도록 하는 제3단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
태양전지, 수광부, n형 고체물질, 홈,
Description
도1은 pn 접합 태양전지의 원리를 설명하기 위한 도면;
도2 내지 도4는 본 발명에 따른 pn 접합 태양전지 제조방법을 설명하기 위한 도면들이다.
<도면의 주요부분에 대한 참조번호의 설명>
100: p형 기판
110: 홈
120: 고상의 n형 도펀트 소스
130: 고농도 n형 도핑영역
140: 저농도 n형 도핑영역
본 발명은 pn접합 태양전지 제조방법에 관한 것으로서, 특히 효율이 높아지 도록 수광부의 도핑농도를 다른 곳과 차별화하는 pn접합 태양전지 제조방법에 관한 것이다.
도 1은 pn 접합 태양전지의 원리를 설명하기 위한 도면이다. 도 1을 참조하면, pn 접합 다이오드(10)에 태양광을 비추면 그로 인하여 자유전자가 발생되고 따라서 pn 접합 다이오드(10)에 외부 회로를 연결하면 도시된 바와 같이 전류가 흐르게 된다.
n형 반도체(12)와 p형 반도체(14)에는 전극(12a, 14a)이 연결된다. 외부전극(12a)과의 오믹접촉을 위하여 n형 반도체(12)는 고농도로 도핑되는 데, 이렇게 n형 반도체(12)가 고농도로 도핑되면 태양광 중에서 파장이 짧은 파란색 계열이 n형 반도체(12)의 도펀트에 의해 트랩될 확률이 많아져서 효율이 떨어지게 된다.
따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위하여 외부전극과의 연결부분은 고농도로 도핑하고 수광부는 저농도로 도핑하는 pn 접합 태양전지 제조방법을 제공하는 데 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 pn접합 태양전지 제조방법은, p형 기판 상에 홈을 형성하는 제1단계; 상기 홈에 n형 고체물질을 삽입하는 제2단계; 및 상기 제2단계의 결과물을 n형 도펀트 분위기에서 가열하여 상기 n형 고체물질 주위는 고농도 n형 도핑되도록 하고 그 외의 부분은 저농도 n형 도핑되도록 하는 제3단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 n형 고체물질의 예로는 인(P) 막대를 들 수 있다.
상기 제3단계의 n형 도펀트 분위기는 캐리어 가스와 함께 POCl3를 스프레이 방식으로 상기 기판에 분사함으로써 얻을 수 있다.
기판이 p형이고, 도펀트 소스가 n형인 경우를 예로 들었으나, 기판이 n형이고, 도펀트 소스가 p형, 예컨대 알루미늄 봉인 경우에도 본 발명이 적용됨은 마찬가지이다.
이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 아래의 실시예는 본 발명의 내용을 이해하기 위해 제시된 것일 뿐이며 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상 내에서 많은 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명의 권리범위가 이러한 실시예에 한정되는 것으로 해석돼서는 안 된다.
도 2 내지 도 4는 본 발명에 따른 pn접합 태양전지 제조방법을 설명하기 위한 도면들이다.
먼저, 도 2에 도시된 바와 같이 p형 반도체 기판(100) 상에 홈(110)을 형성한다. 이러한 홈(110)은 습식식각이나 건식식각으로 형성시킬 수 있다. 다음에 도 3에 도시된 바와 같이, 고체형태의 n형 도펀트 소스(120), 예컨대 인(P) 막대를 홈(110)에 삽입한다.
그리고, 도 4에 도시된 바와 같이 그 결과물을 로(furnace)에 집어넣어 확산공정을 진행한다. 확산 공정은 n형 도펀트 분위기에서 진행한다. n형 도펀트 분위기는 예컨대 N2를 운반기체로 하여 POCl3(액체)를 로의 내부로 유입시켜 기판(100) 상에 스프레이(spray) 함으로써 얻을 수 있다. 그러면, n형 도펀트 소스(120)의 주위(130)는 고농도(N++)로 도핑되며, 그 외의 부분(140)은 상대적으로 저농도(N+)로 도핑된다.
도 4의 결과물 상에 반사방지막과 전극을 순차적으로 형성한다. 본 발명의 경우는 n형 도펀트 소스(120)가 홈(110)을 메워서 단차가 없어지기 때문에, 비용이 많이 들고 어려워서 양산성에 적합지 않았던 플레이팅 방식 대신에 간단한 스크린 프린팅 방법으로 상기 전극을 형성할 수 있다는 장점이 있다. 상기 전극은 나중에 패터닝되어 n형 도펀트 소스(120) 상에만 남는다. 그러면, 상기 전극과 연결되는 부분(120, 130)은 고농도로 도핑된 상태가 되고, 수광부(140)는 저농도로 도핑된 상태가 되어 고효율의 태양전지가 얻어지게 된다.
도 2 내지 도 4에서는 기판이 p형이고, 봉형 도펀트 소스가 n형인 경우를 예로 들었으나, 기판이 n형이고, 봉형 도펀트 소스가 p형, 예컨대 알루미늄 봉인 경우에도 본 발명이 적용됨은 마찬가지이다.
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 전극과 연결되는 부분은 고농도로 도핑되고 수광부는 저농도로 도핑되기 때문에 고효율의 태양전지를 얻을 수 있다.
Claims (5)
- p형 기판 상에 홈을 형성하는 제1단계;상기 홈에 n형 고체물질을 삽입하는 제2단계; 및상기 제2단계의 결과물을 n형 도펀트 분위기에서 가열하여 상기 n형 고체물질 주위는 고농도 n형 도핑되도록 하고 그 외의 부분은 저농도 n형 도핑되도록 하는 제3단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 pn 접합 태양전지 제조방법
- 제1항에 있어서, 상기 n형 고체물질은 인(P)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 pn접합 태양전지 제조방법.
- 제1항에서 있어서, 상기 제3단계의 n형 도펀트 분위기는 캐리어 가스와 함께 POCl3를 스프레이 방식으로 상기 기판에 분사함으로써 얻어지는 것을 특징으로 하는 pn 접합 태양전지 제조방법.
- n형 기판 상에 홈을 형성하는 제1단계;상기 홈에 p형 고체물질을 삽입하는 제2단계; 및상기 제2단계의 결과물을 p형 도펀트 분위기에서 가열하여 상기 p형 고체물질 주위는 고농도 p형 도핑되도록 하고 그 외의 부분은 저농도 p형 도핑되도록 하는 제3단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 pn 접합 태양전지 제조방법
- 제4항에 있어서, 상기 p형 고체물질은 알루미늄으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 pn접합 태양전지 제조방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070049835A KR20080102849A (ko) | 2007-05-22 | 2007-05-22 | p―n 접합 태양전지 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070049835A KR20080102849A (ko) | 2007-05-22 | 2007-05-22 | p―n 접합 태양전지 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080102849A true KR20080102849A (ko) | 2008-11-26 |
Family
ID=40288466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070049835A KR20080102849A (ko) | 2007-05-22 | 2007-05-22 | p―n 접합 태양전지 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20080102849A (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011049270A1 (ko) * | 2009-10-21 | 2011-04-28 | 주성엔지니어링(주) | 이종 접합 태양전지 및 그 제조방법 |
KR101429478B1 (ko) * | 2013-10-11 | 2014-08-14 | (재)한국나노기술원 | 도핑보상층이 형성된 태양전지의 제조방법 및 이에 의한 태양전지 |
-
2007
- 2007-05-22 KR KR1020070049835A patent/KR20080102849A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011049270A1 (ko) * | 2009-10-21 | 2011-04-28 | 주성엔지니어링(주) | 이종 접합 태양전지 및 그 제조방법 |
CN102612757A (zh) * | 2009-10-21 | 2012-07-25 | 周星工程股份有限公司 | 异质结型太阳能电池及其制造方法 |
KR101429478B1 (ko) * | 2013-10-11 | 2014-08-14 | (재)한국나노기술원 | 도핑보상층이 형성된 태양전지의 제조방법 및 이에 의한 태양전지 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101212198B1 (ko) | 태양 전지 | |
KR100877821B1 (ko) | 실리콘 태양전지의 선택적 에미터의 제조방법 | |
KR101225978B1 (ko) | 태양전지 및 그 제조방법 | |
KR101383395B1 (ko) | 후면전극형 태양전지의 제조방법 | |
JP2007184580A (ja) | 太陽電池及びその製造方法 | |
JP2004510323A (ja) | 光起電部品及びモジュール | |
US20140038347A1 (en) | Manufacturing method of electrode of solar cell | |
KR101085382B1 (ko) | 선택적 에미터를 포함하는 태양 전지 제조 방법 | |
CN102779894A (zh) | 太阳能电池的电极的制造方法与装置 | |
KR101054985B1 (ko) | 태양전지 제조 방법 | |
KR20080102849A (ko) | p―n 접합 태양전지 제조방법 | |
KR101089992B1 (ko) | 태양전지의 선택적 에미터 형성방법 | |
JP2015142079A (ja) | 光電変換装置 | |
KR20110078549A (ko) | 태양전지의 선택적 에미터 형성방법 | |
KR20130057285A (ko) | 광전변환소자 및 그 제조 방법 | |
CN107293582B (zh) | 面向物联网的硅基具有热电转换功能的bjt器件 | |
KR20120003612A (ko) | 후면전극형 태양전지의 제조방법 | |
US20110277824A1 (en) | Solar Cell and Method of Manufacturing the Same | |
KR101382047B1 (ko) | 태양전지의 선택적 에미터 형성방법 | |
TWI481060B (zh) | 太陽能電池的製作方法 | |
CN102623312B (zh) | 增加太阳能电池pn接面空乏区大小的方法及结构 | |
KR101115104B1 (ko) | 태양전지 및 그 제조방법 | |
KR101507855B1 (ko) | 소수성 처리를 이용한 태양 전지 제조 방법 | |
KR101503794B1 (ko) | 광학계를 이용한 태양전지 제조 방법 | |
KR101172611B1 (ko) | 태양전지 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |