KR20080098158A - 잉크 젯 프린트 헤드 - Google Patents

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KR20080098158A
KR20080098158A KR1020070043488A KR20070043488A KR20080098158A KR 20080098158 A KR20080098158 A KR 20080098158A KR 1020070043488 A KR1020070043488 A KR 1020070043488A KR 20070043488 A KR20070043488 A KR 20070043488A KR 20080098158 A KR20080098158 A KR 20080098158A
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김선호
최정훈
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엘지전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 잉크 젯 프린트 헤드에 관한 것으로서, 사이드 슈터(Side Shooter) 방식의 잉크 젯 프린트 헤드에 있어서, 기판 상부에 접합되는 멤브레인 중 노즐의 상부에 형성되는 부분의 두께를 다른 영역보다 두껍게 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면 노즐 부위의 구조를 기계적으로 안정하게 할 수 있으며, 잉크 액적(Drop)의 직진성을 향상시킬 수 있고, 노즐 면에 젖음(Wetting) 현상이 발생할 경우, 압전 액츄에이터 쪽으로 잉크가 이동하는 것을 방지할 수 있다.
잉크 젯 프린트 헤드, 압전 액츄에이터, 사이드 슈터, 노즐, 웨팅

Description

잉크 젯 프린트 헤드{ Ink jet print head }
도 1 및 도 2는 종래의 사이드 슈터(Side Shooter) 방식의 잉크 젯 프린트 헤드의 사시도.
도 3은 본 발명의 잉크 젯 프린트 헤드를 나타낸 사시도.
도 4a 내지 도 4i는 본 발명의 잉크 젯 프린트 헤드의 제조방법을 나타낸 단면도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 기판 110 : 잉크 주입구
120 : 리스트릭터 130 : 압력 챔버
140 : 노즐 200 : 멤브레인
300 : 압전 액츄에이터
본 발명은 잉크 젯 프린트 헤드에 관한 것이다.
최근 정보화 시대의 요구에 의하여 디스플레이, 기록 매체, 통신 등 다양한 분야에서 기술이 눈부시게 발전하고 있으며 특히, 인쇄 기술의 경우 새롭고 다양한 기술이 제시되면서 빠르게 발전하고 있다.
이 중 잉크 젯 방식을 이용한 인쇄 기술은 간단한 구조와 저렴한 가격으로 가정용, 사무용 및 산업용에 널리 사용되고 있다. 상기 잉크 젯 방식은 열이나 기포 또는 압력을 이용하여 인쇄하고자 하는 위치에 잉크를 미세 구멍(Nozzle)으로 밀어 넣어 인쇄하는 방법이다.
잉크 젯 방식의 프린터에 있어서, 잉크 젯 프린트 헤드는 매우 중요한 부분을 이루고 있으며, 잉크 젯 프린트 헤드란 인쇄용 잉크의 미소한 액적(droplet)을 기록 용지상의 원하는 위치에 분출시켜서 일정 색상의 화상으로 인쇄하는 장치이다.
이러한 잉크 젯 프린트 헤드는 잉크 분출 방식에 따라 열 구동 방식의 잉크 젯 프린트 헤드와 압전 방식의 잉크 젯 프린트 헤드로 구분할 수 있다.
여기서, 열 구동 방식의 잉크 젯 프린트 헤드는 열원을 이용하여 잉크에 버블(bubble)을 발생시켜 그 버블의 팽창력에 의해 잉크를 분출시키며, 압전 방식의 잉크 젯 프린트 헤드는 압전체를 사용하여 그 압전체의 변형으로 잉크에 가해지는 압력에 의해 잉크를 분출시킨다.
또한, 잉크 젯 프린트 헤드는 잉크에 가해지는 압력의 방향과 잉크 액적의 토출방향에 따라, 사이드 슈터(Side Shooter) 방식의 잉크 젯 프린트 헤드와 루프 슈터(Roof Shooter) 방식의 잉크 젯 프린트 헤드로 나눌 수 있다.
상기 사이드 슈터 방식의 잉크 젯 프린트 헤드는 잉크에 가해지는 압력의 방향과 잉크 액적의 토출 방향이 서로 직각을 이루며, 상기 루프 슈터 방식의 잉크 젯 프린트 헤드는 잉크에 가해지는 압력의 방향과 잉크 액적의 토출 방향이 서로 동일하다.
도 1 및 도 2는 종래의 사이드 슈터(Side Shooter) 방식의 잉크 젯 프린트 헤드의 사시도이다.
이에 도시된 바와 같이, 단결정 실리콘 웨이퍼(10)에 노즐(11), 압력 챔버(13), 리스트릭터(Restrictor)(15), 잉크 주입구(17)가 형성되어 있고, 상기 단결정 실리콘 웨이퍼(10) 상부에 멤브레인(20)이 접합되어 있으며, 상기 멤브레인(20) 상부에 압전 액츄에이터(30)가 형성되어 있다.
여기서, 상기 노즐(11), 압력 챔버(13), 리스트릭터(15), 잉크 주입구(17)는 상기 단결정 실리콘 웨이퍼(10)를 식각하여 형성한다.
상기 잉크 주입구(17)는 잉크 저장고(미도시)로부터 유입된 잉크를 각 압력 챔버(13)로 공급하며, 상기 리스트릭터(15)는 잉크 주입구(17)로부터 압력 챔버(13)로 잉크가 유입되는 통로이다.
상기 압력 챔버(13)는 잉크 주입구(17)에서 유입된 잉크가 채워지는 곳으로, 압전 액츄에이터(30)의 구동에 의해 그 부피가 변화함으로써 잉크의 분출 또는 유입을 위한 압력 변화를 생성한다.
상기 노즐(11)은 압력 챔버(13)의 압력 변화에 의해 잉크를 외부로 분출시키는 역할을 한다.
상기 멤브레인(20)은 실리콘 또는 유리로 이루어진 기판을 상기 단결정 실리 콘 웨이퍼(10) 상부에 접합하여 형성하며, 상기 멤브레인(20)의 압력 챔버(13) 상부벽을 이루는 부위는 압전 액츄에이터(30)에 의해 변형되는 진동판(20-1)의 역할을 하게 된다.
상기 압전 액츄에이터(30)는 상기 멤브레인(20) 상부의 압력 챔버(13)와 대응되는 위치에 형성되며, 압전 액츄에이터(30)는 하부 전극, 압전막 및 상부 전극이 순차적으로 적층되어 구성된다.
종래의 사이드 슈터 방식의 잉크 젯 프린트 헤드는 노즐(11) 부위의 구조가 기계적으로 취약하고, 잉크 액적의 직진성이 떨어지며, 잉크의 젖음 현상(Wetting)이 발생시 압전 액츄에이터(30)의 성능을 저하시킬 염려가 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 기판 상부에 접합되는 멤브레인 중 노즐의 상부에 형성되는 부분의 두께를 다른 영역보다 두껍게 형성함으로써, 노즐 부분이 기계적으로 안정된 구조를 가지게 하고, 잉크 액적의 직진성을 향상시키며, 웨팅 현상으로 인한 압전 액츄에이터의 기능 저하를 방지하는 잉크 젯 프린트 헤드를 제공하는 데 있다.
도 1 및 도 2를 참조하면 일반적인 사이드 슈터 방식의 잉크 젯 프린트 헤드는 멤브레인(20)을 형성할 때, 실리콘 또는 유리로 이루어진 기판을 상기 단결정 실리콘 웨이퍼(10)에 접합한 후, 약 10㎛ ~ 50㎛의 두께가 될 때까지 폴리싱 공정을 수행하는데, 이 경우 노즐(11)이 있는 부위가 구조적으로 취약해져서 제조 공정 중 또는 사용 중에 노즐이 깨지기 쉽다는 단점이 있다.
그리고, 노즐(11)에서 잉크 액적(Drop)의 직진성이 떨어져 잉크 젯 프린트 헤드의 특성을 저하시키는 문제점이 있다.
즉, 노즐(11)이 위치한 부위의 멤브레인(20)의 두께가 얇아 압전 액츄에이터(30)의 구동시, 상기 노즐(11)이 위치한 부위의 멤브레인(20)이 흔들리게 되며 이 경우 노즐(11)에서 잉크가 직진하여 토출되지 못하는 문제점이 있다.
또한, 상기 노즐(11)이 위치한 면을 정면으로 바라보았을 때, 상기 노즐(11)이 중앙 부위에 위치하지 못하고 상반부에 위치하게 되는데, 이 경우 잉크 젯 프린트 헤드의 사용 중에 잉크의 젖음 현상(Wetting)이 발생하면, 잉크가 압전 액츄에이터(30)로 흘러들어가 압전 액츄에이터(30)의 성능을 저하시킬 염려가 있다.
즉, 압력 챔버(13) 내에 발생하는 압력은 잉크를 노즐(11)로 밀어내는데 주로 작용하지만, 동시에 잉크를 잉크 저장고(미도시)로 밀어내어 역흐름(Reverse Flow)을 발생시키기도 한다.
이와 같은 잉크의 역흐름은 이웃 노즐의 초기 메니스커스(Meniscus)의 모양을 변화시켜 노즐(11)을 통해 방출되는 잉크 액적의 양이 예측치와 달라지게 되며, 그로 인해 노즐 표면이 젖게 되는 웨팅(Wetting) 현상이 발생한다.
상기 웨팅 현상이 발생하면 토출되는 잉크가 노즐(11)의 표면에 젖어있는 잉크와 덩어리를 형성하게 되고, 이러한 잉크 덩어리가 압전 액츄에이터(30) 쪽으로 흘러들어가 단선(Short) 등의 문제를 일으키게 된다.
따라서, 이러한 문제점을 해결하기 위해 본 발명에서는 기판 상부에 접합되는 멤브레인 중 노즐의 상부에 형성되는 부분의 두께를 다른 영역보다 두껍게 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 잉크 젯 프린트 헤드의 바람직한 일 실시예는, 압력 챔버에서 발생하는 압력 변화에 의해 외부로 잉크를 토출하는 노즐이 형성된 기판 상부에 접합하여 형성되며, 상기 노즐이 형성된 부분이 다른 부분보다 두껍게 형성된 멤브레인과, 상기 멤브레인 상부의 상기 압력 챔버에 대응하는 위치에 형성된 압전 액츄에이터를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 잉크 젯 프린트 헤드의 바람직한 다른 실시예는, 압력 챔버에서 발생하는 압력 변화에 의해 외부로 잉크를 토출하는 노즐이 형성된 기판 상부에 접합하여 형성되는 멤브레인과, 상기 멤브레인 상부의 상기 노즐에 대응하는 위치에 형성된 댐 구조물과, 상기 멤브레인 상부의 상기 압력 챔버에 대응하는 위치에 형성된 압전 액츄에이터를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이하, 도 3 및 도 4를 참조하여 본 발명의 잉크 젯 프린트 헤드를 상세히 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명과 관련된 공지기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 그리고, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하 여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
도 3은 본 발명의 잉크 젯 프린트 헤드를 개략적으로 나타낸 사시도이다.
이에 도시된 바와 같이, 잉크 저장고(미도시)로부터 유입되는 잉크를 압력 챔버(130)로 공급하는 잉크 주입구(110), 상기 잉크 주입구(110)에서 상기 압력 챔버(130)로 일정한 양의 잉크가 주입되도록 하는 리스트릭터(120), 상기 리스트릭터(120)로부터 인입되는 잉크를 일시적으로 저장하고 저장된 잉크가 분출될 수 있도록 압력을 가하는 압력 챔버(130), 상기 압력 챔버(130)에서 발생하는 압력 변화에 의해 외부로 잉크를 토출하는 노즐(140)이 형성된 기판(100)과, 상기 기판(100) 상부에 형성되며, 상기 노즐(140)이 형성된 부위의 두께가 다른 부분의 두께보다 두껍게 형성된 멤브레인(200)과, 상기 멤브레인 (200) 상부의 상기 압력 챔버(130)에 대응하는 위치에 형성된 압전 액츄에이터(300)를 포함하여 이루어진다.
여기서, 상기 기판(100)은 (100)면 단결정 실리콘 웨이퍼를 이용하며, 이때 상기 단결정 실리콘 웨이퍼(100)의 두께는 300㎛~ 600㎛으로 하는 것이 바람직하다.
상기 멤브레인(200)은 실리콘, 유리(Glass), SOI(Silicon On Insulator) 웨이퍼 중에서 선택된 어느 하나의 물질로 이루어지며, 특히 SOI(Silicon On Insulator) 웨이퍼를 사용하는 것이 바람직하다.
상기 멤브레인(200) 중 노즐(140)의 상부에 형성되며, 다른 영역보다 두껍게 형성되는 부분(A)의 두께는 300㎛~ 600㎛ 인 것이 바람직하며, 그 이외의 부분(B)의 두께는 10㎛~ 50㎛ 인 것이 바람직하다.
상기 압전 액츄에이터(300)는 공통 전극의 역할을 하는 하부 전극(310)과, 인가되는 전압에 따라 변형되는 압전막(320)과, 구동 전극의 역할을 하는 상부 전극(330)으로 이루어진다.
상기 하부 전극(310) 및 상부 전극(330)으로는 주로 백금(Pt)을 이용하며, 상기 압전막(320)으로는 압전성을 가지는 물질을 이용하되 특히 세라믹 계통의 PZT(Plumbum－Zirconate－Titanate)를 이용하는 것이 바람직하다. 상기 PZT는 낮은 전압 공급으로 비교적 큰 변형을 이룰 수 있다.
이와 같이 구성된 본 발명의 잉크 젯 프린트 헤드에 있어서, 상기 압전 액츄에이터(300)의 상부 전극(330)에 전압을 인가하면 상기 압전막(320)이 압전성(piezoelectric)에 의해 변형을 일으킨다.
여기서, 압전성이란 물질의 전기적 성질과 기계적 성질의 결합에 의해 나타나는 것으로 물질에 압력을 가해서 변형을 일으키면 전기장이 형성되어 전극을 통해 전압이 발생하는 현상 또는 압전성 물질에 전기장을 가하면 물질의 변형이 유발되는 현상을 말하는데, 여기서는 후자의 경우가 이에 해당한다.
상기 압전막(320)의 변형으로 인해 상기 압력 챔버(130)의 부피가 감소하며 따라서, 압력 챔버(130) 내의 압력이 증가하게 된다.
상기 압력 챔버(130) 내의 압력이 증가함에 따라 발생된 에너지는 노즐(140)로 집중되며, 그로 인해 상기 압력 챔버(130) 내에 채워져 있는 잉크가 노즐(110)에서 분출되게 된다.
상기 상부 전극(330)에 인가하는 전압을 제거하면, 상기 압전막(320)은 원래의 형태로 복원되고, 이로 인해 압력 챔버(130)의 부피는 증가하며 따라서, 상기 압력 챔버(130) 내의 압력은 감소하게 된다.
그리고, 상기 압력 챔버(130) 내의 압력이 감소하게 되면, 상기 잉크 주입구(110)에 저장되어 있는 잉크가 상기 리스트릭터(120)을 통하여 상기 압력 챔버(130)로 유입되게 된다.
상기 리스트릭터(120)는 상기 잉크 주입구(110)로부터 압력 챔버(130)로 잉크를 공급하는 통로의 역할을 할 뿐만 아니라, 잉크가 상기 노즐(110)로부터 분출될 때 압력 챔버(13)로부터 상기 잉크 주입구(110)로 잉크가 역류하는 것을 방지하는 역할을 한다.
이와 같이 본 발명에 의하면, 상기 멤브레인(200) 중 노즐(140)의 상부에 형성되는 부분(A)의 두께를 다른 영역보다 두껍게 형성함으로써, 노즐(140) 부위의 구조를 기계적으로 안정하게 할 수 있으며, 그로 인해 노즐(140)이 깨어지는 현상을 방지할 수 있어 잉크 젯 프린트 헤드의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
그리고, 상기 노즐(140)이 형성된 면을 정면에서 바라보았을 때, 상기 노즐(140)이 중앙 부분에 위치하게 되어 잉크 액적(Drop)의 직진성과 같은 특성을 향 상시킬 수 있다.
또한, 잉크 젯 프린트 헤드의 사용 중에 노즐(140) 면에 젖음(Wetting) 현상이 발생할 경우, 압전 액츄에이터(300) 쪽으로 잉크가 이동하는 것을 방지할 수 있어 압전 액츄에이터(300)를 보호할 수 있다.
한편, 상기 멤브레인(200)의 전 영역의 두께를 10㎛~ 50㎛로 형성하고, 상기 노즐(140)이 위치한 부분의 멤브레인 상부에 두께가 300㎛~ 600㎛에 해당하는 댐 구조물을 형성할 수도 있다.
도 4a 내지 도 4i는 본 발명의 잉크 젯 프린트 헤드의 제조방법을 나타낸 단면도이다.
이에 도시된 바와 같이, 기판(400)의 상부면과 하부면에 마스크층(411)(412)을 형성한다(도 4a).
상기 기판(400)은 (100)면 단결정 실리콘 웨이퍼를 이용하며, 이때 상기 단결정 실리콘 웨이퍼(400)는 300㎛ ~ 600㎛의 두께로 형성하는 것이 바람직하다.
상기 기판(400)의 상부면과 하부면에 형성되는 마스크층(411)(412)은 습식 식각용 마스크층으로서, 실리콘 산화물이나 실리콘 질화물 예를 들면, Si3N4 또는 SiO2 층으로 이루어지는 것이 바람직하다.
다음으로, 상기 기판(400) 상부에 리소그라피(Lithography) 공정을 이용하여 압력 챔버를 형성할 부분(405)에 패턴을 형성하고 건식 식각 공정을 이용하여 상기 습식 식각 마스크 층(411)을 제거한다(도 4b).
이어서, 상기 압력 챔버를 형성할 부분(405)에 이방성 에칭 용액을 이용하여 습식 식각 공정을 수행하여 압력 챔버(420)를 형성한다(도 4c).
이때, 상기 에칭 용액으로는 상기 단결정 실리콘 웨이퍼의 (100)면과 (111)면에 대해 이방성 에칭 특성을 나타내는 용액 예를 들면, EDP(Ethylenediamine Pyrocatechol Water), TMAH(Tetramethyl Ammonium Hydroxide) 및 KOH(Potassium Hydroxide) 등을 이용할 수 있다.
연이어, 상기 기판(400) 상부에 리소그라피 공정을 이용하여 노즐을 형성할 부분(미도시), 리스트릭터를 형성할 부분(406)과 잉크 주입구를 형성할 부분(407)에 패턴을 형성하고 건식 식각 공정을 이용하여 상기 식각 마스크층(411)을 제거한다(도 4d).
다음으로, Deep RIE(Reactive Lion Etching) 공정을 이용하여 상기 기판(400)을 식각함으로써, 기판(400)에 노즐(430), 리스트릭터(440) 및 잉크 주입구(450)를 형성한다(도 4e).
여기서, 상기 Deep RIE 공정을 수행하는 경우 Sf6, O2 및 CHF3 기체를 사용하는 것이 바람직하다.
이어서, 기판(400)의 상부면 및 하부면에 남아있는 마스크층(411)(412)을 제거한 후, 상기 기판(400) 상부에 멤브레인(460)을 접합한다(도 4f).
상기 멤브레인(460)은 실리콘, 유리(Glass), SOI(Silicon On Insulator) 웨 이퍼 중에서 선택된 어느 하나의 물질로 이루어지며, 특히 SOI(Silicon On Insulator) 웨이퍼를 사용하는 것이 바람직하다.
상기 멤브레인(460)의 두께는 600㎛~ 650㎛인 것이 바람직하며, 상기 멤브레인(460)은 에폭시 수지 접착, 아노딕 본딩(Anodic Bonding), SDB(Silicon Direct Bonding) 등을 이용하여 상기 기판(400) 상부에 접합한다.
연이어, 상기 멤브레인(460)의 두께가 상기 기판(400)의 두께와 비슷할 정도에 이를 때까지 예를 들면, 상기 멤브레인(460)의 두께가 300㎛~ 600㎛이 될 때까지 폴리싱 공정을 수행한다(도 4g).
이때, 상기 멤브레인(460)으로 SOI(Silicon On Insulator) 웨이퍼를 이용하는 경우, 절연층이 식각 정지층(Etching Stop Layer)으로 작용한다.
다음으로, 상기 멤브레인(460) 상부에 마스크층을 형성하고 패턴화한 후, 패턴된 마스크층을 식각 마스크로 하여 상기 멤브레인(460)을 식각한다(도 4h).
이때, 상기 멤브레인(460)은 그 두께가 10㎛~ 50㎛가 될 때까지 식각하는데, 이 경우 상기 멤브레인(460) 중 상기 노즐(430) 상부에 위치한 부분(A)은 두께가 300㎛~ 600㎛으로 남아 있으며, 그 이외의 부분(B)은 두께가 10㎛~ 50㎛가 된다.
이어서, 상기 압력 챔버(420)가 위치한 멤브레인(460)의 상부에 하부 전극, 압전막, 상부 전극을 순차적으로 적층하여 압전 액츄에이터(470)를 형성한다(도 4i).
여기서, 상기 하부 전극과 상부 전극은 Pt 을 일정 두께로 스퍼터링(sputtering)함으로써 형성하는 것이 바람직하고, 상기 압전막으로는 압전성을 가지는 물질을 이용하되 특히 세라믹 계통의 PZT(Plumbum－Zirconate－Titanate)를 이용하는 것이 바람직하다.
한편, 도 4g의 폴리싱 공정에서 상기 멤브레인(460)을 두께가 10㎛~ 50㎛이 될 때까지 식각한 후, 상기 노즐(430)이 위치한 멤브레인(460)의 상부에 두께가 300㎛~ 600㎛인 댐 구조물을 형성할 수도 있다.
이상에서 대표적인 실시예를 통하여 본 발명에 대하여 상세하게 설명하였으나, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 상술한 실시예에 대하여 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 변형이 가능함을 이해할 것이다.
그러므로 본 발명의 권리범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의하면 멤브레인 중 노즐의 상부에 형성되는 부분의 두께를 다른 영역보다 두껍게 형성함으로써, 노즐 부위의 구조를 기계적으로 안정하게 할 수 있으며, 그로 인해 노즐이 깨어지는 현상을 방지할 수 있어 잉크 젯 프린트 헤드의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
그리고, 상기 노즐이 형성된 면을 정면에서 바라보았을 때, 상기 노즐이 중 앙 부분에 위치하게 되어 잉크 액적(Drop)의 직진성과 같은 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 잉크 젯 프린트 헤드의 사용 중에 노즐 면에 젖음(Wetting) 현상이 발생할 경우, 압전 액츄에이터 쪽으로 잉크가 이동하는 것을 방지할 수 있어 압전 액츄에이터를 보호할 수 있다.

Claims (7)

  1. 압력 챔버에서 발생하는 압력 변화에 의해 외부로 잉크를 토출하는 노즐이 형성된 기판 상부에 접합하여 형성되며, 상기 노즐이 형성된 부분이 다른 부분보다 두껍게 형성된 멤브레인; 및
    상기 멤브레인 상부의 상기 압력 챔버에 대응하는 위치에 형성된 압전 액츄에이터를 포함하여 이루어지는 잉크 젯 프린트 헤드.
  2. 압력 챔버에서 발생하는 압력 변화에 의해 외부로 잉크를 토출하는 노즐이 형성된 기판 상부에 접합하여 형성되는 멤브레인;
    상기 멤브레인 상부의 상기 노즐에 대응하는 위치에 형성된 댐 구조물; 및
    상기 멤브레인 상부의 상기 압력 챔버에 대응하는 위치에 형성된 압전 액츄에이터를 포함하여 이루어지는 잉크 젯 프린트 헤드.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 잉크 젯 프린트 헤드는 사이드 슈터(Side Shooter) 방식인 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트 헤드.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 기판은 표면이 (100)면 단결정 실리콘 기판인 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트 헤드.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 멤브레인은 실리콘, 유리(Glass), SOI(Silicon On Insulator) 웨이퍼 중에서 선택된 어느 하나의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트 헤드.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 노즐이 형성된 부분의 멤브레인의 두께는 300㎛~ 600㎛인 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트 헤드.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 댐 구조물의 두께는 300㎛~ 600㎛인 것을 특징으로 하는 잉크 젯 프린트 헤드.
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