KR20080085709A - 척 플레이트에 대한 외부 압력 측정장치 및 그 외부 압력에따른 척 플레이트의 위치보정장치 및 그에 따른 방법 - Google Patents
척 플레이트에 대한 외부 압력 측정장치 및 그 외부 압력에따른 척 플레이트의 위치보정장치 및 그에 따른 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
제1리니어 인코더 | 제2리니어 인코더 | 하중판별정보 | Z축 보정값 | X축 보정값 | Y축 보정값 |
하측이동, 10μm | 상측이동, 10μm | 우측 편하중 | 0 | 0 | 우측방향으로 20μm 이동 |
상측이동, 10μm | 하측이동, 10μm | 좌측 편하중 | 0 | 0 | 좌측방향으로 20μm 이동 |
하측이동, 10μm | 하측이동, 10μm | 전면 하중 | 상측방향으로 10μm 이동 | 0 | 0 |
Claims (6)
- 척 플레이트에 대한 외부 압력 측정장치에 있어서,상기 척 플레이트의 가장자리 중 서로 대향되는 다수의 위치와 척 프레임 간에 다수 설치되며, 각각 상기 척 플레이트의 가장자리와 상기 척 프레임간의 거리가 초기 상태를 기준으로 상하로 이동한 거리 및 이동방향에 대한 센싱정보를 생성하는 다수의 리니어 인코더;상기 다수의 리니어 인코더가 출력하는 센싱정보에 따라 상기 척 플레이트에 가해지는 편하중 또는 전면에 가해지는 하중을 검출하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 척 플레이트에 대한 외부 압력 측정장치.
- 제1항에 있어서,상기 다수의 리니어 인코더는상기 척 프레임에 일측면이 고정 설치되는 막대형상이며, 일측면에 이동거리를 검출하기 위한 패턴이 인쇄된 제1지지부재;상기 패턴의 인쇄면에 대향되며, 초기 위치를 기준으로 상하로 이동함에 따라 상기 패턴을 독취한 센싱신호를 생성하는 광센서;상기 광센서와 상기 척 플레이트간을 고정 설치하는 막대형상의 제2지지부재;상기 광센서로부터의 센싱신호부터 이동거리 및 이동방향을 검출하여 상기 센싱정보를 생성하여 상기 제어부로 제공하는 센싱신호 처리모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 척 플레이트에 대한 외부 압력 측정장치.
- 척 플레이트의 위치보정장치에 있어서,상기 척 플레이트를 X,Y,Z축으로 이송하는 X,Y,Z축 모터;상기 척 플레이트의 가장자리 중 서로 대향되는 다수의 위치와 척 프레임 간에 다수 설치되며, 각각 상기 척 플레이트의 가장자리와 상기 척 프레임간의 거리가 초기 상태를 기준으로 상하로 이동한 거리 및 이동방향에 대한 센싱정보를 생성하는 다수의 리니어 인코더;상기 다수의 리니어 인코더가 출력하는 센싱정보에 대응되는 편하중 또는 전면에 가해지는 하중 판별 정보와 X,Y,Z 축 보정값이 저장된 메모리;상기 다수의 리니어 인코더로부터 센싱정보가 입력되면, 상기 센싱정보에 대응되는 하중 판별정보 및 X,Y,Z축 보정값을 상기 메모리로부터 독출하고, 상기 독출된 X,Y,Z축 보정값에 따라 상기 X,Y,Z축 모터를 구동하여 상기 척 플레이트의 위치를 보정하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 척 플레이트의 위치보정장치.
- 제3항에 있어서,상기 다수의 리니어 인코더는상기 척 프레임에 일측면이 고정 설치되는 막대형상이며, 일측면에 이동거리 를 검출하기 위한 패턴이 인쇄된 제1지지부재;상기 패턴의 인쇄면에 대향되며, 초기 위치를 기준으로 상하로 이동함에 따라 상기 패턴을 독취한 센싱신호를 생성하는 광센서;상기 광센서와 상기 척 플레이트간을 고정 설치하는 막대형상의 제2지지부재;상기 광센서로부터의 센싱신호부터 이동거리 및 이동방향을 검출하여 상기 센싱정보를 생성하여 상기 제어부로 제공하는 센싱신호 처리모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 척 플레이트에 대한 위치 보정 장치.
- 척 플레이트에 대한 외부 압력 측정 방법에 있어서,상기 척 플레이트의 가장자리 중 서로 대향되는 다수의 위치와 척 프레임 간에 다수 설치된 다수의 리니어 인코더가, 각각 상기 척 플레이트의 가장자리와 상기 척 프레임간의 거리가 초기 상태를 기준으로 상하로 이동한 거리 및 이동방향에 대한 센싱정보를 생성하는 단계;상기 다수의 리니어 인코더가 출력하는 센싱정보에 대응되는 편하중 또는 전면에 가해지는 하중판별정보가 저장된 메모리에서, 상기 다수의 리니어 인코더가 출력하는 센싱정보에 대응되는 판별정보를 독출하여, 상기 척 플레이트에 가해지는 편하중 또는 전면에 가해지는 하중을 검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 척 플레이트에 대한 외부 압력 측정 방법.
- 척 플레이트에 대한 위치 보정 방법에 있어서,상기 척 플레이트의 가장자리 중 서로 대향되는 다수의 위치와 척 프레임 간에 다수 설치된 다수의 리니어 인코더가, 각각 상기 척 플레이트의 가장자리와 상기 척 프레임간의 거리가 초기 상태를 기준으로 상하로 이동한 거리 및 이동방향에 대한 센싱정보를 생성하는 단계;상기 다수의 리니어 인코더로부터 센싱정보가 입력되면, 다수의 리니어 인코더가 출력하는 센싱정보에 대응되는 편하중 또는 전면에 가해지는 하중 판별 정보와 X,Y,Z 축 보정값이 저장된 메모리로부터 상기 센싱정보에 대응되는 하중 판별정보 및 X,Y,Z축 보정값을 독출하고, 상기 독출된 X,Y,Z축 보정값에 따라 상기 X,Y,Z축 모터를 구동하여 상기 척 플레이트의 위치를 보정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 척 플레이트의 위치 보정 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/KR2008/001535 WO2008114997A1 (en) | 2007-03-20 | 2008-03-19 | Apparatus of measuring pressure of chuck plate, correcting position of chuck plate and method thereof |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20070027130 | 2007-03-20 | ||
KR1020070027130 | 2007-03-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080085709A true KR20080085709A (ko) | 2008-09-24 |
KR100995591B1 KR100995591B1 (ko) | 2010-11-22 |
Family
ID=40025336
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080024218A KR100995591B1 (ko) | 2007-03-20 | 2008-03-17 | 척 플레이트에 대한 외부 압력 측정장치 및 그 외부 압력에따른 척 플레이트의 위치보정장치 및 그에 따른 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100995591B1 (ko) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100522975B1 (ko) | 2004-04-17 | 2005-10-19 | (주)지오니스 | 자동정렬수단이 구비된 반도체 웨이퍼 분석용 프로버 시스템 |
-
2008
- 2008-03-17 KR KR1020080024218A patent/KR100995591B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100995591B1 (ko) | 2010-11-22 |
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