KR20080085510A - Rapid thermal pressing (rtp) apparatus for nanoimprint lithography - Google Patents

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Abstract

A nanoimprint lithography apparatus for a rapid thermal pressing and a heating method are provided to reduce the heating and cooling time and to improve the productivity by rapidly heating a surface of a metal stamp using a skin effect. A lower base(61) is prepared on an inner lower side of a nanoimprint lithography apparatus and a metal support plate is placed on an upper part of the lower base. An upper base(62) is prepared on an inner upper side of the nanoimprint lithography apparatus and a metal stamp is placed on a lower part of the upper base. A plurality inserting grooves are formed at a lower part of the upper case. An upper base vertical movement unit moves the upper base upwardly and downwardly on the basis of the lower base and includes a slide guide bar(63) functioning as a guide with respect to the movement of the upper base. A rectangular helical coil is fixed on the lower base and installed in an inserting groove formed on the upper base. The metal stamp is installed between upper and lower support plates and has a desired pattern of a nano or micro scale. A polymer resist(20) is interposed between the metal stamp and a supporting plate material.

Description

급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치 및 가열방법{RAPID THERMAL PRESSING (RTP) APPARATUS FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY}Microimprint lithography apparatus and heating method capable of rapid molding {RAPID THERMAL PRESSING (RTP) APPARATUS FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY}

도 1 은 미세 임프린팅의 공정 순서도,1 is a process flow chart of fine imprinting,

도 2 는 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치의 평판가열 코일 형상을 나타낸 사시도, 2 is a perspective view showing the shape of a flat plate heating coil of a fine imprint lithography apparatus capable of rapid molding according to the present invention;

도 3 는 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치의 평판가열 코일 형상을 나타낸 평면도 및 측면도,3 is a plan view and a side view showing the shape of a flat plate heating coil of a microimprint lithography apparatus capable of rapid molding according to the present invention;

도 4 는 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치의 유도가열시 금속 스탬프의 측정위치별 온도이력을 나타낸 그래프,Figure 4 is a graph showing the temperature history for each measurement position of the metal stamp during induction heating of the present invention rapid forming fine imprint lithography apparatus;

도 5 는 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치를 나타낸 사시도, 5 is a perspective view showing a microimprint lithography apparatus capable of rapid molding according to the present invention;

도 6 은 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치를 나타낸 단면도,6 is a cross-sectional view showing a microimprint lithographic apparatus of the present invention capable of rapid molding;

도 7 은 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치의 코일 내부 각 용도별 판재들을 나타낸 단면도,Figure 7 is a cross-sectional view showing the plate material for each use in the coil of the present invention rapid forming fine imprint lithography apparatus;

도 8 은 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치의 온도분포 검증을 위한 측정위치를 나타내는 평면도,8 is a plan view showing a measurement position for verifying the temperature distribution of the present invention, the rapid molding fine imprint lithography apparatus;

도 9 는 균일한 간격의 유도가열 코일을 갖는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치를 나타낸 사진,9 is a photograph showing a microimprint lithography apparatus capable of rapid molding with uniformly spaced induction heating coils,

도 10 은 도 9의 장치를 이용하여 도 8의 측정위치별 온도분포 그래프FIG. 10 is a graph of temperature distribution by measurement position of FIG. 8 using the apparatus of FIG.

도 11 는 불균일한 간격의 유도가열 코일을 갖는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치를 나타낸 사진,11 is a photograph showing a microimprint lithography apparatus capable of rapid molding with induction heating coils of non-uniform spacing;

도 12 은 도 11의 장치를 이용하여 도 8의 측정위치별 온도분포 그래프FIG. 12 is a graph of temperature distribution by measurement position of FIG. 8 using the apparatus of FIG.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

(10): 금속 스탬프 (20): 고분자 레지스트(10): metal stamp (20): polymer resist

(30): 지지판 (40): 코일(30): support plate 40: coil

(61): 하부 베이스 (62): 상부 베이스 61: lower base 62: upper base

(63): 슬라이드 가이드 바 (64): 하부 지지판(63): slide guide bar 64: lower support plate

(65): 상부 지지판 (70): 금속 지지판 65: upper support plate 70: metal support plate

본 발명은 급속 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치 및 가열 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 나노임프린트 리소그래피용 금속몰드를 고주파유도가열을 이용해 급속으로 가열하되, 고주파유도가열 코일을 사각스프링형상으로 금속몰드를 감싸도록 형성함으로써 균일한 온도분포를 유지할 수 있고, 급속으로 가열 된 금속몰드는 고분자 레지스트(polymer resist)의 표면만 순간적으로 유리전이온도(Tg)이상으로 가열시켜 이미 금속몰드에 각인된 미세패턴을 고분자 레지스트에 가압하여 전사시키는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치 및 가열방법에 관한 것이다.The present invention relates to an imprint lithography apparatus and a heating method capable of rapid molding, and more particularly, a metal mold for nanoimprint lithography is rapidly heated using high frequency induction heating, and a high frequency induction coil is formed in a rectangular spring shape. It can be formed to cover a uniform temperature distribution, and the rapidly heated metal mold instantly heats only the surface of the polymer resist above the glass transition temperature (Tg) to form a fine pattern already stamped on the metal mold. The present invention relates to a microimprint lithography apparatus and a heating method capable of rapid molding, which are pressurized and transferred to a polymer resist.

나노임프린트 리소그래피(NIL:Nanoimprint Lithography)란 나노 수준의 정밀한 금형을 만들어 미세한 패턴을 형성하는 기술로, 고분자 레지스트 위에 압력을 가해 마치 도장을 찍듯 패턴을 전사하는 나노 소자 제작 방법으로, 기존 노광 공정에 비해 단순하고 비용이 낮은 장점이 있어 차세대 패턴 형성 기술로 주목받아 온 기술로서, 대한민국 출원번호 10-2004-0003394 등에 그 기술이 설명되어 있다. Nanoimprint Lithography (NIL) is a technology for forming fine patterns by making nano-level molds and forming nano patterns by applying pressure on polymer resists to transfer patterns as if they are painted. As a technology that has been attracting attention as a next generation pattern forming technology because of its simple and low cost, the technology is described in Korean Patent Application No. 10-2004-0003394.

이러한 나노임프린트 리소그래피 공정은 도 1 에 나타나 있듯이 크게 성형장치의 진공챔버 안에 금형과 가공 소재를 장착하는 단계 정렬단계, 진공챔버를 진공상태로 만드는 진공화단계, 나노 또는 마이크로 스케일의 원하는 패턴을 가지는 스탬프(스탬프,금형)와 프라스틱 판재와 일정온도 이상으로 가열하는 가열단계, 가열된 상태에서 스탬프(스탬프,금형)와 프라스틱 판재를 고온조건(120℃ 내외)에서 고압(10∼30bar)으로 누르는 가압하여 스탬프의 패턴을 프라스틱 판재로 전사하는 전사 단계, 상기 전사단계가 완료된 후 프라스틱 판재를 일정 온도 이하로 냉각하는 냉각단계, 진공챔버를 열고 가공된 소재를 취출하는 이형단계로 구분되는데, 보통 상기의 알려진 총 공정시간은 30~40 분정도로 긴 싸이클 타임이 소요된다.Such a nanoimprint lithography process includes a step of mounting a mold and a work material into a vacuum chamber of a molding apparatus as shown in FIG. 1, an alignment step of vacuuming a vacuum chamber, and a stamp having a desired pattern of nano or micro scale. (Stamp, mold) and the heating step of heating the plastic plate and above a certain temperature, by pressing the stamp (stamp, mold) and the plastic plate under high pressure (10 ~ 30 bar) under high temperature condition (about 120 ℃) It is divided into a transfer step of transferring the pattern of the stamp to the plastic plate, a cooling step of cooling the plastic plate below a predetermined temperature after the transfer step is completed, and a release step of opening the vacuum chamber and taking out the processed material. The total process time is 30 to 40 minutes and takes a long cycle time.

이들 각 단계 중에서도 가장 시간이 많이 소요되는 가열 및 냉각단계에서 사용되는 종래의 가열방법은 스탬프 주위에 가열 프레이트를 두고 전기 열선을 이용 하여 이 가열 플레이트를 먼저 가열한 후 스탬프는 가열 플레이트로부터 열을 전도하여 스탬프를 가열하는 간접적인 가열방식을 채택하고 있다. 그러나 이러한 간접가열방식은 가열 효율성이 떨어지는 측면이 있고, 가열부위 외에 다른 부위도 함께 가열되는 문제점과 이로 인해 냉각시간 또한 많이 소요 되어 생산성 저하의 주 원인이 되고 있다. The conventional heating method used in the most time-consuming heating and cooling step of each of these steps is to place the heating plate around the stamp and heat the heating plate first using an electric heating wire, and then the stamp conducts heat from the heating plate. Indirect heating method is adopted to heat the stamp. However, this indirect heating method has a low heating efficiency, other parts in addition to the heating portion is heated together with the problem of cooling time is also a major cause of productivity degradation.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로서, 상세하게는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치 및 가열 방법을 제공하여 나노 임프린트 리소그래피 공정의 싸이클 타임을 축소하는 기술적 과제를 달성하는 발명으로, 특히 표피효과(skin effect)를 이용하여 금속 스탬프의 표면만 급속 가열함과 동시에 고분자 레지스트의 표면만 열을 유리전이온도(Tg)이상으로 순간적으로 전도시켜 성형함으로써 가열 시간뿐만 아니라 냉각하는 시간의 비용도 줄여 생산성을 향상시키고, 금속몰드의 대면적 온도분포를 일정하게 하여 생산품의 품질을 개선하는 데에 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and in particular, to provide a fine imprint lithography apparatus and a heating method capable of rapid molding to achieve a technical problem of reducing the cycle time of the nanoimprint lithography process, in particular By using the skin effect, only the surface of the metal stamp is rapidly heated, and only the surface of the polymer resist is formed by instantaneously conducting heat above the glass transition temperature (Tg) to form not only the heating time but also the cost of cooling time. It aims to improve productivity by reducing productivity by reducing the temperature distribution of metal mold.

상기한 바와 같은 목적을 달성하고 종래의 결점을 제거하기 위한 과제를 수행하는 본 발명의 목적은 고분자 레지스트의 표면에 미세 패턴을 급속으로 성형할 수 있는 임프린트 리소그래피 장치에 있어서, 내부에 밀폐 공간 형성이 가능한 챔 버; 상기 챔버 내부의 압력(진공)을 조절할 수 있는 압력조절 수단; 상기 챔버 내부 하측에 마련되며, 그 상부에 가공대상물이 위치되는 하부 베이스; 상기 챔버 내부 상측에 마련되며 그 하부에 스탬프가 위치되는 상부 베이스; 상기 하부베이스를 기반으로 상부 베이스를 상하 이동을 하며 이를 가이드 해주는 역할을 하는 슬라이드 가이드 바를 포함하는 상부베이스 수직 이동수단; 하부베이스에 일측이 고정되고 상부 베이스와의 상대적인 이동이 가능하도록 설치되는 가압수단; 냉각수가 내부에 순환되는 상부지지판 및 하부 지지판 사이에 설치되는 나노 또는 마이크로 스케일의 원하는 패턴을 가지는 금속스탬프, 금속스탬프의 패턴이 전사되는 고분자 레지스트 및 고분자 레지스트의 하부에 위치하는 금속스탬프와 동일한 크기 및 재질로 이루어지는 금속지지판; 상기 고분자 레지스트를 금속스탬프와 금속지지판재 사이에 공급하는 이송수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피 장치를 제공함으로서 달성된다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention, which achieves the above object and accomplishes a problem for eliminating the conventional drawback, is an imprint lithography apparatus capable of rapidly forming a fine pattern on the surface of a polymer resist, wherein an enclosed space is formed therein. Chamber available; Pressure regulating means capable of adjusting a pressure (vacuum) in the chamber; A lower base provided below the chamber and having a processing object positioned thereon; An upper base provided above the chamber and positioned at a lower portion thereof; An upper base vertical movement means including a slide guide bar which moves up and down and guides the upper base based on the lower base; One side is fixed to the lower base and the pressing means is installed to allow relative movement with the upper base; A metal stamp having a desired pattern of nano or micro scale installed between an upper support plate and a lower support plate circulating therein, the same size as the metal stamp positioned below the polymer resist and the polymer resist to which the pattern of the metal stamp is transferred, and A metal support plate made of a material; It is achieved by providing an imprint lithographic apparatus comprising a transfer means for supplying said polymer resist between a metal stamp and a metal support plate material.

한편 이러한 본 발명에서 고주파유도가열수단인 사각형 스프링과 같은 형상의 코일을 사용하여 중심부에 자기장이 같은 방향으로 흐르도록 유도함으로써 금속스탬프의 온도를 균일하게 가열할 수 있으며, 코일의 소재를 동파이프식으로 형성하여 코일 안으로는 냉각수를 흘려 코일 자체의 온도 상승을 억제하고 동시에 가열 과정에서 온도가 상승된 하부베이스 및 하부베이스를 항시 냉각하게 함으로써 냉각 시간을 줄여서 생산성을 높여 줄 수 있도록 한다. Meanwhile, in the present invention, by using a coil having a shape such as a square spring, which is a high frequency induction heating means, the magnetic field flows in the same direction at the center thereof so that the temperature of the metal stamp can be uniformly heated. It is formed to form a cooling water flow into the coil to suppress the temperature rise of the coil itself, and at the same time to cool the lower base and the lower base is always heated in the heating process to reduce the cooling time to increase the productivity.

여기서 유도가열이란 금속가열에 이용되며 정확하게는 고주파유도가열(高周波誘導加熱)이라 칭하는 것으로 코일에 교류(고주파) 전류를 통하면 코일 주변의 교류전류에 의한 교번자속(文番磁束)이 발생하고 이 자계속에 놓인 도전체에는 유도전류가 발생하게 된다. 이 전류를 와전류(도전체에 발생하는 자력선의 변화를 저지하는 전기적인 힘)라 하고 피가열체(금속 또는 도전체)의 고유저항과 와전류에 의한 줄(Joule)열이 발생하며 이를 와전류 손실이라 하고 유도가열시의 발열원(發熱原)이 되며 주파수를 높이게 되면 표피효과에 의해 피가열물의 표면만을 집중적으로 가열 할 수도 있다. Here, induction heating is used for metal heating, and precisely called high frequency induction heating. When alternating magnetic flux is generated by alternating currents around the coil, the alternating magnetic flux is generated. Inductive currents are generated in the conductor placed on the magnetic field. This current is called the eddy current (electrical force that prevents the change of the magnetic lines generated in the conductor), and the resistivity of the heating object (metal or conductor) and Joule heat due to the eddy current are generated, which is called eddy current loss. And it becomes a heating source (발열 原) during induction heating, and if the frequency is increased, only the surface of the object to be heated can be concentrated by the skin effect.

한편, 유도가열시 자계 속에 놓인 도전체에만 유도전류가 발생하게 된다. 따라서 유도가열이 될 수 있는 것은 전기의 도체에 한정되어지고 피가열물 이외에는 세라믹, 유리, 엔지니어링 플라스틱 등 비도체로 소재를 선택하는 것이 바람직하며, 도체 중에서도 자성이 높을수록 가열효율이 좋으며, 비도체는 내열성과 강도가 우수해야 한다. On the other hand, induced current is generated only in the conductor placed in the magnetic field during induction heating. Therefore, the induction heating can be limited to electric conductors, and it is preferable to select materials from non-conductors such as ceramics, glass, and engineering plastics other than the heated object. The higher the magneticity among the conductors, the better the heating efficiency. It should be excellent in heat resistance and strength.

또한 하부 베이스는 코일을 고정시키기 위한 기능과 작업공간을 마련해 주는 역할을 하게 되는데 재질은 전류가 흐를 수 없는 비도체, 반자성체를 사용하는 것이 바람직하다.In addition, the lower base serves to provide a function and a work space for fixing the coil, and the material is preferably a non-conductive or diamagnetic material through which current cannot flow.

상부 베이스는 슬라이드 가이드 바에 의해서 수직방향으로만 이동하며 금속스탬프를 가압하는 역할을 하게 되는데 코일의 상부가 삽입되어 이동할 수 있도록 하단이 개구된 다수의 홈이 형성되며, 재질은 전류가 흐를 수 없는 비도체, 반자성체를 사용하는 것이 바람직하고, 상부베이스의 이동은 프레스의 상형의 이동과 같은 종래의 공지된 기술을 사용하여 실현하도록 한다. The upper base moves only in the vertical direction by the slide guide bar and serves to pressurize the metal stamp. A plurality of grooves having a lower opening are formed to insert and move the upper portion of the coil. It is preferable to use a conductor, a diamagnetic material, and the movement of the upper base is realized using conventionally known techniques such as the movement of the upper die of the press.

또한 슬라이드 가이드 바는 하부베이스를 기반으로 상부 베이스는 상하 이동 을 하며 이를 가이드 해주는 역할을 하게 되는데 재질은 전류가 흐를 수 없는 비도체, 반자성체를 사용하는 것이 바람직하다. In addition, the slide guide bar is based on the lower base, the upper base is moved up and down to guide it, it is preferable to use a non-conductive, diamagnetic material that can not flow current.

냉각수가 내부에 순환되는 상부 및 하부 지지판은 금속스탬프와 고분자 레지스트를 균일하게 누르기 위해 사용되고, 금속 스탬프와 금속 지지판을 냉각시켜주는 지지판으로 재질은 전류가 흐를 수 없는 비도체이고, 열전도가 비교적 좋은 재질, 반자성체를 사용하는 것이 바람직하다. The upper and lower support plates, through which the coolant is circulated, are used to uniformly press the metal stamp and the polymer resist, and the support plate cools the metal stamp and the metal support plate. The material is a non-conductor that cannot flow current and has a relatively good thermal conductivity. It is preferable to use diamagnetic material.

금속스탬프는 나노 또는 마이크로 스케일의 원하는 패턴을 가지는 것으로서 재질은 니켈과 같이 양호한 자성체, 전기전도체, 열전도체의 성질을 갖는 재질로 제작하는 것이 바람직하다.The metal stamp has a desired pattern of nano or micro scale, and the material is preferably made of a material having good magnetic properties, electrical conductors, and thermal conductors such as nickel.

금속지지판은 금속스탬프와 같은 소재, 같은 크기의 금속판으로 제작하는 것이 바람직한데 금속스탬프와 같은 온도로 가열되어 일측만이 가열됨에 따른 고분자 레지스트의 휨을 방지한다.The metal support plate is preferably made of a material such as a metal stamp, a metal plate of the same size, but is heated to the same temperature as the metal stamp to prevent bending of the polymer resist as only one side is heated.

고분자 레지스트 공급수단은 챔버내에 웨이퍼를 공급하는 로봇이나 공급 콘베이어 등 종래의 공지된 기술등을 사용하도록 한다.The polymer resist supply means uses a conventionally known technique such as a robot or a supply conveyor for supplying a wafer into the chamber.

이하 실시예인 구성과 그 작용을 첨부도면에 연계시켜 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the configuration and the operation of the embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 는 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치의 평판가열 코일 형상을 나타낸 사시도, 도 3 는 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치의 평판가열 코일 형상을 나타낸 평면도 및 측면도,도 4 는 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치의 유도가열시 금속 스탬프의 측정위치별 온도이력을 나타낸 그래프,도 5 는 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치를 나타낸 사시도, 도 6 은 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치를 나타낸 단면도,도 7 은 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치의 코일 내부 각 용도별 판재들을 나타낸 단면도 이다.2 is a perspective view showing the shape of a flat plate heating coil of the present invention rapidly forming fine imprint lithography apparatus, FIG. 3 is a plan view and a side view showing the shape of the plate heating coil of the present invention rapidly forming fine imprint lithography apparatus, FIG. 5 is a graph showing a temperature history of each metal stamp at a measurement position during induction heating of a microimprint lithography apparatus capable of rapid molding, FIG. 5 is a perspective view of a microimprint lithography apparatus capable of rapid molding according to the present invention, and FIG. A cross-sectional view showing a possible fine imprint lithography apparatus, and FIG. 7 is a cross-sectional view showing plate materials for respective applications in the coil of the present invention, which can be rapidly formed.

도면에서 보는 바와 같이 미세 임프린팅용 금속 스탬프를 급속으로 가열함에 있어서, 유도가열을 할 수 있도록 나선형으로 구성되어 있는 코일(40)을 구비하는 유도가열수단과, 상기 코일을 고정시키고 작업공간을 마련해주기 위한 하부 베이스(61)와, 하부 베이스를 기반으로 상부 베이스를 수직방향으로 이동시켜줄 수 있는 슬라이드 가이드 바(63)와, 상하 방향으로 이동이 가능하며 코일이 삽입될 수 있는 홈이 형성되어 있는 상부 베이스(62)와, 하부 베이스 상부에 설치되어 성형물 올려놓을 수 있도록 하고 고분자 레지스트의 휨을 방지하고 코일(40)에 의해 가열되는 금속지지판(xx)을 구비한 하부 지지판(64)과, 금속스탬프를 균일하게 누르기 위해 사용되며 코일(40)에 의해 가열되는 금속스탬프(10)를 구비하는 상부 지지판(65)으로 구성되어 있다. 또한 가압단계 후 냉각 단계에서 냉각수가 내부에 순환되는 상부 지지판(65)와 하부 지지판(64)는 가열된 금속스탬프(10)와 금속지지판(70)을 냉각시켜 준다.As shown in the drawing, in the rapid heating of the metal stamp for fine imprinting, induction heating means having a coil 40 which is spirally configured for induction heating, and fixing the coil to provide a working space A lower base 61 for giving, a slide guide bar 63 capable of moving the upper base in a vertical direction based on the lower base, and a groove in which the coil can be inserted and movable in the vertical direction A lower support plate 64 provided with an upper base 62 and a metal support plate xx installed on the lower base to prevent molding of the polymer resist and preventing bending of the polymer resist and heated by the coil 40, and a metal stamp. It is composed of an upper support plate (65) having a metal stamp (10) which is used to uniformly press and is heated by the coil (40). In addition, the upper support plate 65 and the lower support plate 64 in which the coolant is circulated therein in the cooling step after the pressurization step cool the heated metal stamp 10 and the metal support plate 70.

상기 유도가열수단은 금속스탬프(10)를 감싸듯이 회전하는 사각 스프링 형상의 나선형으로 형성된 코일(40)을 구비하고 있으며, 코일(40)의 각 권은 하부 베이 스(61)를 관통하여 고정되어 있다. The induction heating means is provided with a coil 40 formed in a spiral of a rectangular spring shape that rotates as if it surrounds the metal stamp 10, each winding of the coil 40 is fixed through the lower base 61 have.

한편, 도 8 은 본 발명인 급속 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치의 코일 내부 금속스탬프의 온도분포 검증을 위한 측정위치를 나타내는 평면도이고, 도 9 는 균일한 간격의 유도가열 코일을 갖는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치를 나타낸 사진이다.FIG. 8 is a plan view showing a measurement position for verifying a temperature distribution of a metal stamp inside a coil of an imprint lithography apparatus of the present invention, and FIG. 9 is a fine imprint capable of rapid forming having induction heating coils having a uniform interval. A photograph showing a lithographic apparatus.

도 8 에서 보는 바와 같이, 코일의 수직방향 온도분포도와 수평방향 온도분포를 파악하기 위하여 피 가열물인 금속스탬프에 온도센서를 설치하여 온도를 측정하였고, 이에 대한 온도분포 그래프가 도 10 에 나타나 있다. As shown in FIG. 8, in order to grasp the vertical temperature distribution and the horizontal temperature distribution of the coil, a temperature sensor was installed on the metal stamp, which is the object to be heated, and the temperature was measured. The graph of the temperature distribution is shown in FIG. 10.

도 10 을 보면 전체적인 온도분포에서 몰드의 바깥쪽 부분에서 수직방향과 수평방향의 온도편차가 조금 나타나는 것을 볼 수 있다. Looking at Figure 10 it can be seen that the temperature deviation in the vertical direction and the horizontal direction slightly appears in the outer portion of the mold in the overall temperature distribution.

이를 개선하기 위한 다른 실시 예를 도 11 에 나타내었으며, 도 11 과 같은 실시 예에 대한 온도분포 측정 그래프를 도 12 에 나타내었다. Another embodiment for improving this is shown in FIG. 11, and a temperature distribution measurement graph for the same embodiment as shown in FIG. 11 is shown in FIG. 12.

도 11 에서 보는 바와 같이 유도가열을 하기 위한 코일을 배치하되 코일 양 끝단에서의 각 코일의 권선의 간격을 좁게 설치하였다. 이에 따른 온도분포를 측정한 그래프를 도 12 에서 살펴보면 도 10 에 나타나 있는 온도분포와는 달리 온도편차가 현저히 줄어든 것을 볼 수 있다. As shown in FIG. 11, the coils for induction heating were arranged, but the windings of the coils at both ends of the coils were narrowed. Referring to the graph measuring the temperature distribution according to this in Figure 12, unlike the temperature distribution shown in Figure 10 it can be seen that the temperature deviation is significantly reduced.

즉, 온도편차가 많이 나는 방향의 권선 간격을 좁게 함으로써 온도편차를 줄일 수 있는 것이다. That is, the temperature deviation can be reduced by narrowing the winding interval in the direction where the temperature deviation is high.

상기 슬라이드 가이드 바(63)는 상부 베이스의 모서리에 각각 설치되어 있으며 상하 수직방향으로 이동이 가능하도록 되어 있다. The slide guide bar 63 is provided at each corner of the upper base and is movable up and down vertically.

상기 상부 베이스(62)는 상하이동할 수 있도록 되어 있으며, 코일을 지나 이동할 수 있도록 코일의 각 권이 삽입될 수 있도록 다수의 홈을 형성하여 코일(40)에 영향을 받지 않고 상부 지지판(65)을 가압 할 수 있도록 한다. The upper base 62 is capable of moving up and down, and forms a plurality of grooves so that each winding of the coil can be inserted so as to move past the coil so that the upper support plate 65 is not affected by the coil 40. To be pressurized.

상기 하부 지지판(64)은 하부 베이스(61)의 중앙부 상단에 설치되며, 상부 지지판(65)에는 코일(40)에 의해 가열되어 고분자 레지스트(20)를 성형시켜 줄 수 있도록 하는 금속 스탬프(10)가 설치되어 있으며 가열된 금속 스탬프(10)가 고분자 레지스트(20)의 표면에 순간적으로 열이 전도되고 이어 압력을 가하여 성형을 할 수 있도록 한다. 상하부 지지판(65)은 가이드핀(도면 미도시)으로 결합되어 있어 금속스탬프와 고분자 레지스트, 금속 지지판을 정위치하도록 되어 있고 이들 상,하부 지지판은 성형시 금속스탬프와 금속 지지판재의 압력을 균일하게 하고 냉각단계에서는 냉각수가 내부에 순환되어 금속스탬프와 금속 지지판재의 열을 빼앗는 역할을 한다.The lower support plate 64 is installed at the upper end of the central portion of the lower base 61, the upper support plate 65 is heated by the coil 40 to the metal stamp 10 to form a polymer resist (20) Is installed and the heated metal stamp 10 is instantaneously conducts heat to the surface of the polymer resist 20 and then pressurized to enable molding. The upper and lower support plates 65 are coupled with guide pins (not shown) so that the metal stamp, the polymer resist, and the metal support plate are in place. The upper and lower support plates uniformly press the pressure of the metal stamp and the metal support plate during molding. In the cooling step, the coolant is circulated inside to take heat from the metal stamp and the metal support plate.

한편, 도 4 에서의 그래프의 각 색은 금속몰드의 각 측정위치마다의 온도를 나타낸 것으로, 온도분포가 전체적으로 일정한 것을 알 수 있다. In addition, each color of the graph in FIG. 4 shows the temperature of each measuring position of a metal mold, and it turns out that a temperature distribution is uniform throughout.

이하 본 발명인 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치를 사용하여 고분자 레지스트의 표면에 패턴을 전사하는 방법에 대하여 살펴보면 다음과 같다. Hereinafter, a method of transferring a pattern onto a surface of a polymer resist using a microimprint lithography apparatus capable of rapid molding will be described below.

먼저 상부 베이스를 상승시켜서 상부베이스와 하부베이스 사이에 공간을 형성 시키는 단계, 패턴이 기록될 고분자 레지스트를 기판 공급수단에 의해 금속스탬프와 지지판재 사이에 안치시키는 단계, 압력조절수단을 가동하여 챔버의 압력(진 공도)을 조절하는 단계, 사각 스프링형상의 나선형 코일에 고주파를 흘려 금속스탬프와 금속 지지판을 급속 가열하는 단계, 가열된 금속스탬프와 금속 지지판재에 의해서 고분자 레지스트가 순간적으로 표면만 가열된 상태에서 금속스탬프와 금속 지지판재를 가압함으로써 금속스탬프에 기록된 패턴이 고분자 레지스트에 전사되는 단계, 가열 가압 후 코일의 전류를 차단하고 상부 및 하부 지지판에 냉각수를 흘려 금속스탬프와 금속지지판을 냉각하여 고분자 레지스트를 냉각하는 단계, 상부베이스를 상승시키는 단계, 금속스탬프와 지지판재를 열고 성형물을 추출하는 단계로 이루어져 있다.First raising the upper base to form a space between the upper base and the lower base, placing a polymer resist on which the pattern is to be recorded between the metal stamp and the support plate material by the substrate supply means, and operating the pressure regulating means of the chamber. Adjusting the pressure (vacuum), rapidly heating the metal stamp and the metal support plate by flowing a high frequency in the square spring spiral coil, and heating the surface of the polymer resist by the heated metal stamp and the metal support plate. By pressing the metal stamp and the metal support plate in the state, the pattern recorded on the metal stamp is transferred to the polymer resist. After heating and pressing, the electric current of the coil is cut off and the cooling water flows to the upper and lower support plates to cool the metal stamp and the metal support plate. Cooling the polymer resist, upon raising the upper base Opens the step, the metal stamp and the support plate consists of a step of extracting the molded article.

이러한 공정은 금속스탬프와 금속 지지판이 상,하부 지지판에 고정되 고분자 레지스트를 공급하는 형태로 설명하였으나 금속스탬프 및 고분자 레지스트, 금속 지지판재를 함께 공급하여도 된다.Such a process has been described in that the metal stamp and the metal support plate are fixed to the upper and lower support plates to supply the polymer resist, but the metal stamp and the polymer resist and the metal support plate may be supplied together.

즉, 상부 베이스를 상승시키고 상부 지지판을 들어올려 상부 지지판과 하부 지지판 사이에 금속 지지판, 고분자 레지스트, 금속스탬프를 올려놓아도 된다.That is, the upper base may be raised and the upper support plate may be raised to place a metal support plate, a polymer resist, and a metal stamp between the upper support plate and the lower support plate.

본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다. The present invention is not limited to the above-described specific preferred embodiments, and various modifications can be made by those skilled in the art without departing from the gist of the present invention as claimed in the claims. Of course, such changes will fall within the scope of the claims.

상기와 같은 구성 및 작용에 의해 기대할 수 있는 본 발명의 효과는 다음과 같다.The effects of the present invention that can be expected by the configuration and action as described above are as follows.

고주파유도가열을 사용하여 금속 스탬프를 급속도로 가열시킬 수 있도록 하여 종래의 가열방식에 비해 국부적인 가열이 가능하여 에너지를 절약하고, 높은 주파수에서 발생하는 표피효과(skin effect)를 이용하여 금속 스탬프의 표면만을 급속 가열함으로써 가열 및 냉각하는 시간과 비용을 줄여 생산성을 향상시키고, 급속으로 가열된 금속몰드는 고분자 레지스트의 표면만 순간적으로 유리전이온도(Tg)이상으로 가열시켜 이미 금속몰드에 각인된 미세패턴을 고분자 레지스트에 가압하여 성형함으로써 가열 및 냉각 시간을 절약하는 효과가 있으며, 고분자 레지스트를 금속스탬프와 금속지지판으로 감싼 상태로 가열할 수 있어 플라스틱 판재의 휨을 막을 수 있으며 나선형 코일을 사용하여 금속스탬프와 금속 지지판을 감싸도록 형성함으로써 온도 균일도를 높일 수 있어 대면적화에도 유리하여 양산화 과정을 거쳐 대량생산을 가능하게 하는 기술적 효과가 있으며, 코일안으로는 냉각수를 흘려 코일 자체의 온도 상승을 억제해 주고, 상부 및 하부 지지판의 내부에 냉각 채널이 형성되어 있어 냉각수를 통과시켜 가열 과정에서 온도가 상승된 금속 스탬프와 금속 지지판을 직접 냉각하게 됨으로써 성형된 고분자 레지스트의 냉각 시간을 줄여서 생산성을 높여 주게 된다.High frequency induction heating allows the metal stamp to be heated rapidly, allowing local heating compared to the conventional heating method, saving energy, and using the skin effect generated at high frequency. Rapid heating only the surface reduces the time and cost of heating and cooling to improve productivity, and rapidly heated metal molds only heat the surface of the polymer resist instantaneously above the glass transition temperature (Tg) to make fine By pressing and molding the pattern on the polymer resist, it saves the heating and cooling time.The polymer resist can be heated with the metal stamp and the metal support plate to prevent warpage of the plastic plate and the metal stamp using the spiral coil. The temperature uniformity by forming a metal support plate It is possible to increase the degree, which is advantageous for large area, and has the technical effect of enabling mass production through mass production process.It also suppresses the temperature rise of the coil itself by flowing coolant into the coil, and cooling channels are provided inside the upper and lower support plates. Is formed to pass through the cooling water to directly cool the metal stamp and the metal support plate of the elevated temperature during the heating process to increase the productivity by reducing the cooling time of the molded polymer resist.

Claims (6)

고분자 레지스트 표면에 미세 패턴을 급속으로 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치에 있어서,An imprint lithography apparatus capable of rapidly forming a fine pattern on a surface of a polymer resist, 장치의 내부 하측에 마련되며, 그 상부에 금속 지지판이 위치되는 하부 베이스; A lower base provided inside the apparatus and having a metal support plate positioned thereon; 장치의 내부 상측에 마련되며, 그 하부에 금속 스탬프가 위치되며 하방에 다수의 삽입홈이 형성된 상부 베이스; An upper base provided above the inside of the apparatus, the metal stamp being positioned at the bottom thereof, and having a plurality of insertion grooves formed at the bottom thereof; 상기 하부 베이스를 기반으로 상부 베이스를 상하 이동을 하며 이를 가이드 해주는 역할을 하는 슬라이드 가이드 바를 포함하는 상부베이스 수직 이동수단; An upper base vertical movement means including a slide guide bar that moves the upper base up and down based on the lower base and guides the upper base; 하부 베이스에 일측이 고정되고 상기 상부 베이스에 형성된 삽입 홈에 코일의 각 권이 삽입될 수 있도록 설치되며 금속스탬프를 감싸듯이 회전하는 스프링 형상의 사각 나선형 코일;A spring-shaped square spiral coil fixed to one side of the lower base and installed so that each winding of the coil can be inserted into an insertion groove formed in the upper base, and rotating like a metal stamp; 상부 지지판 및 하부 지지판 사이에 설치되는 나노 또는 마이크로 스케일의 원하는 패턴을 가지는 금속 스탬프, 상기 금속 스탬프와 동일한 재질의 금속 지지판, 상기 금속 스탬프와 지지판재 사이에 안치되는 고분자 레지스트, 상기 고분자 레지스트를 공급하는 소재공급수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치.Supplying a metal stamp having a desired pattern of nano or micro-scale installed between the upper support plate and the lower support plate, a metal support plate of the same material as the metal stamp, a polymer resist placed between the metal stamp and the support plate material, the polymer resist Microimprint lithography apparatus capable of rapid molding, characterized in that it comprises a material supply means. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 나선형 코일의 양 끝단의 권선간격을 중앙부보다 좁게 하여 온도편차를 줄일 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치.Rapid narrowing imprint lithography apparatus, characterized in that for reducing the temperature deviation by narrowing the winding distance between both ends of the spiral coil than the central portion. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 코일의 안으로는 냉각수가 흘러서 코일 자체의 온도 상승을 억제해 주도록 하는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치.Cooling water flows into the coil to suppress the temperature rise of the coil itself, characterized in that the rapid molding fine imprint lithography apparatus. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 상부베이스와 하부베이스 사이에는 성형시 금속스탬프와 금속 지지판의 압력을 균일하게 하고 내부에 냉각채널이 형성되어 냉각수를 통과시켜 가열된 금속 스탬프와 금속 지지판을 냉각시켜주는 상후 지지판 및 하부 지지판이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치.Between the upper base and the lower base, the upper and lower support plates and the lower support plate which equalize the pressure of the metal stamp and the metal support plate during molding and have a cooling channel formed therein to cool the heated metal stamp and the metal support plate through the cooling water are further formed. Microimprint lithography apparatus capable of rapid molding, characterized in that it is included. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 하부 베이스, 상부 베이스, 슬라이드 가이드 바, 상부 지지판, 하부 지지판은 비도체로 소재를 사용하는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치.And the lower base, the upper base, the slide guide bar, the upper support plate, and the lower support plate use a material as a non-conductor. 고분자 레지스트에 미세 패턴을 급속으로 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 방법에 있어서, 상부 베이스를 상승시켜서 상부베이스와 하부베이스 사이에 공간을 형성 시키는 단계, 패턴이 기록될 고분자 레지스트를 공급수단에 의해 금속스탬프와 금속 지지판 사이에 안치시키는 단계, 압력조절수단을 가동하여 챔버내부의 압력을 조절하여 진공화하는 단계, 스프링형상의 나선형 코일에 고주파를 흘려 금속스탬프와 금속 지지판재를 급속 가열하는 단계, 가열된 금속스탬프와 금속 지지판에 의해서 고분자 레지스트의 표면이 순간적으로 가열된 상태에서 금속스탬프를 가압함으로써 금속스탬프에 각인된 미세 패턴이 고분자 레지스트에 전사되는 단계, 가열 가압 후 코일의 전류를 차단하고 상부 및 하부 지지판에 냉각수를 흘려 금속스탬프와 금속 지지판을 냉각시켜 고분자 레지스트를 냉각하는 단계, 상부베이스를 상승시키는 단계, 금속스탬프와 금속 지지판을 열고 성형물을 추출하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 가열방법.An imprint lithography method capable of rapidly forming a fine pattern on a polymer resist, comprising: raising a top base to form a space between the top base and a bottom base, and supplying the polymer resist to be recorded with the metal stamp and the metal by the supply means. Placing between the support plates, operating the pressure regulating means to adjust the pressure inside the chamber to evacuate, rapidly heating the metal stamp and the metal support plate material by flowing a high frequency in the spring-shaped spiral coil, and heating the metal stamp. And pressurizing the metal stamp while the surface of the polymer resist is instantaneously heated by the metal support plate to transfer the fine pattern imprinted on the metal stamp to the polymer resist, cutting off the current in the coil after heating and pressing the upper and lower support plates. Cooling water flowing through metal stamp and metal Cooling the support plate to cool the polymer resist, raising the upper base, opening the metal stamp and the metal support plate and extracting the molding, characterized in that the rapid molding fine imprint lithography heating method.
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