KR20080073265A - Fringe field switching mode liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

An FFS(Fringe Field Switching) mode LCD(Liquid Crystal Display) is provided to increase an aperture ratio even without a light-shielding film by controlling arrangement of a data line, a transparent common electrode, and a transparent pixel electrode. A gate line(G) and a data line(600) vertically cross each other to define a unit pixel region on a lower substrate. A transparent pixel electrode(800) and a transparent common electrode(400) are disposed within the unit pixel region such that a portion of the transparent common electrode overlaps with the transparent pixel electrode with an insulating layer therebetween. The transparent pixel electrode is disposed on the same layer as the data line. A color filter is formed on an upper substrate correspondingly to the unit pixel region. The transparent common electrode has a plurality of comb teeth, wherein one of the comb teeth is disposed above the data line so that a light-shielding film needs not to be disposed above the data line.

Description

에프에프에스 모드 액정표시장치{FRINGE FIELD SWITCHING MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}F-S mode liquid crystal display {FRINGE FIELD SWITCHING MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}

본 발명은 FFS 모드 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 특별한 공정 개발 없이 최소 비용으로 투과 및 개구율이 증가된 디자인이 가능한 FFS 모드 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an FFS mode liquid crystal display device, and more particularly, to an FFS mode liquid crystal display device capable of a design having increased transmission and aperture ratio at a minimum cost without special process development.

일반적으로, FFS 모드(Fringe Field Switching Mode; FFS Mode) 액정표시장치는 아이피에스 모드(In-Plane Switching Mode; IPS Mode) 액정표시장치의 낮은 개구율 및 투과율을 개선시키기 위하여 제안되었고, 이에 대하여 대한민국 특허출원 제1998-0009243호로 출원되었다.In general, a FFS mode (Fringe Field Switching Mode; FFS) liquid crystal display has been proposed to improve the low aperture ratio and transmittance of an In-Plane Switching Mode (IPS Mode) liquid crystal display, and a Korean patent application has been proposed. Filed in US Pat. No. 1998-0009243.

이와 같은 FFS 모드 액정표시장치는 상대전극과 화소전극을 투명한 전도체로 형성하여, IPS 모드 액정표시장치에 비해 개구율 및 투과율을 높이면서, 상대전극과 화소 전극 사이의 간격을 상/하부 유리 기판들 간의 간격보다 좁게 형성하는 것에 의하여 공통전극과 화소전극 사이에서 프린지 필드가 형성되도록 함으로써, 전 극들 상부에 존재하는 액정 분자들까지도 모두 동작되도록 하여 보다 향상된 투과율을 얻는다.The FFS mode liquid crystal display device forms a counter electrode and a pixel electrode with a transparent conductor, and increases the aperture ratio and transmittance as compared to the IPS mode liquid crystal display device, while maintaining a gap between the counter electrode and the pixel electrode between the upper and lower glass substrates. By forming the fringe field between the common electrode and the pixel electrode by forming the gap smaller than the interval, even the liquid crystal molecules existing on the electrodes are operated to obtain a more improved transmittance.

도 1은 종래 기술에 따른 FFS 모드 액정표시장치를 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a conventional FFS mode liquid crystal display device.

도 1을 참조하면, 먼저, 하부기판(1)의 상부에 투명도전막을 형성한 다음, 제1 포토리쏘그라피 공정에 의해 제1 투명도전막을 식각하여 투명 공통전극(2)을 형성한다. 그 다음, 투명 공통전극(2)이 형성된 하부기판(1)의 상부에 금속막을 형성한 후, 제2 포토리쏘그라피 공정에 의해 게이트 전극(미도시)을 형성한다.Referring to FIG. 1, first, a transparent conductive film is formed on an upper portion of a lower substrate 1, and then a transparent common electrode 2 is formed by etching the first transparent conductive film by a first photolithography process. Next, a metal film is formed on the lower substrate 1 on which the transparent common electrode 2 is formed, and then a gate electrode (not shown) is formed by a second photolithography process.

이어서, 투명 공통전극(2) 및 게이트 전극을 포함한 하부기판(1)의 전면에 게이트 절연막(3)을 증착한다. 그 다음, 게이트 절연막(3)의 상부에 채널용 비정질 실리콘막 및 도핑된 비정질 실리콘막을 적층한 후, 제3 포토리쏘그라피 공정에 의해 상기 도핑된 비정질 실리콘막과 채널용 비정질 실리콘막을 식각하여 액티브 패턴(미도시)을 형성한다. 이어서, 상기의 결과물 상부에 금속막을 증착한 다음, 제4 포토리쏘그라피 공정에 의해 금속막을 식각하여 소오스/드레인 전극(미도시) 및 데이터 라인(4)을 형성한다.Subsequently, a gate insulating film 3 is deposited on the entire surface of the lower substrate 1 including the transparent common electrode 2 and the gate electrode. Subsequently, a channel amorphous silicon film and a doped amorphous silicon film are stacked on the gate insulating layer 3, and then the doped amorphous silicon film and the channel amorphous silicon film are etched by a third photolithography process to form an active pattern. (Not shown) is formed. Subsequently, a metal film is deposited on the resultant, and the metal film is etched by a fourth photolithography process to form a source / drain electrode (not shown) and a data line 4.

그 다음, 상기 소오스/드레인 전극 및 데이터 라인(4)이 형성된 기판 상에 보호막(5)을 형성한 후, 제5 포토리쏘그라피 공정에 의해 보호막(5)을 식각하여 소오스 전극이 소정 부분 노출된 콘택홀(미도시)을 형성한다.Next, after forming the passivation layer 5 on the substrate on which the source / drain electrode and the data line 4 are formed, the passivation layer 5 is etched by a fifth photolithography process to expose a predetermined portion of the source electrode. Contact holes (not shown) are formed.

이후에, 보호막(5)의 상부에 투명도전막을 형성한 다음, 제6 포토리쏘그라피 공정에 의해 투명도전막을 식각하여 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 연결 되는 화소전극(6)을 형성한다. 미설명된 도면부호 7은 상부기판을, 도면부호 8은 차광막을 각각 나타낸 것이다.Thereafter, a transparent conductive film is formed on the passivation layer 5, and then the transparent conductive film is etched by the sixth photolithography process to form the pixel electrode 6 connected to the drain electrode through the contact hole. Unexplained reference numeral 7 denotes an upper substrate, and reference numeral 8 denotes a light shielding film.

그러나, 상기와 같은 구조의 FFS 모드 액정표시장치의 경우, 도 1에 도시한 바와 같이 통상적으로 데이터 라인(4)의 상부에 빛을 차단하는 차광막(8)을 형성하게 되는데, 이는 개구율을 감소시키게 되는 문제점이 있었다.However, in the case of the FFS mode liquid crystal display having the above structure, as shown in FIG. 1, a light shielding film 8 that blocks light is typically formed on the upper portion of the data line 4, which reduces the aperture ratio. There was a problem.

그러나, 차광막(8)을 제거하게 되면 빛샘 현상에 의해 CR(Contrast Ratio)이 떨어지는 문제점이 있어 차광막(8)을 제거할 수도 없는 실정이다.However, when the light shielding film 8 is removed, there is a problem in that a contrast ratio (CR) falls due to light leakage, and thus the light shielding film 8 cannot be removed.

상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 데이터 라인 근처에서의 액정구동과 화소 영역 중심에서의 액정구동이 각기 다른 액정구동 모드로 구동되도록 함으로써 데이터 라인 상부에 형성된 차광막을 제거하는 한편, 빛샘 현상을 방지할 수도 있도록 한 FFS 모드 액정표시장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to eliminate the light blocking film formed on an upper portion of a data line by causing the liquid crystal driving near the data line and the liquid crystal driving at the center of the pixel region to be driven in different liquid crystal driving modes. Meanwhile, an object of the present invention is to provide an FFS mode liquid crystal display device capable of preventing light leakage.

본 발명의 다른 목적은 데이터 라인, 투명 공통전극, 및 투명 화소전극의 폭, 배치 관계 등을 조절함으로써 특별한 공정 개발 없이 최소 비용으로 개구율이 증가된 FFS 모드 액정표시장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide an FFS mode liquid crystal display device having an increased aperture ratio at a minimum cost without special process development by adjusting the width, arrangement, and the like of data lines, transparent common electrodes, and transparent pixel electrodes.

전술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제1 측면은 하부기판, 상부기판, 및 상기 기판들 사이에 삽입된 액정층을 포함하고, 상기 하부기판에는 상호 교차하는 방향으로 형성되는 게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 각 화소 영역이 규정되며, 상기 게이트 라인 및 데이터 라인들의 교차부에는 스위칭 소자가 배치되어 있는 FFS 모드 액정표시장치에 있어서, 액정층에 전계를 인가하여 광 투과량을 조절하기 위하여 화소 영역 내에는 투명 화소전극과, 절연층을 사이에 두고 상기 투명 화소전극과 소정 영역 중첩되게 이격 배치되는 투명 공통전극을 구비하고, 상기 투명 공통전극은 데이터 라인과 실질적으로 평행한 방향으로 소정 폭을 갖는 복수 개의 빗살들을 구비하며, 상기 투명 공통전극은 상기 절연층을 사이에 두고 데이터 라인을 덮는 구조로 형성되는 제1 빗살과 상기 제1 빗살과 이웃하며 상기 화소 영역 중앙부 쪽에 형성되는 제2 빗살을 구비하되, 상기 데이터 라인 상부에 형성되는 차광막이 제거되며, 상기 제1 및 제2 빗살 사이의 거리는 화소 내부에 형성된 빗살들 사이의 거리 보다 큰 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치를 제공한다.In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention includes a lower substrate, an upper substrate, and a liquid crystal layer interposed between the substrates, and the lower substrate has gate lines and data formed in directions crossing each other. In the FFS mode liquid crystal display in which each pixel region is defined by lines, and a switching element is disposed at the intersection of the gate line and the data lines, the pixel region is applied to control an amount of light transmission by applying an electric field to the liquid crystal layer. And a transparent common electrode disposed to be spaced apart from the transparent pixel electrode by a predetermined region with an insulating layer interposed therebetween, wherein the transparent common electrode has a predetermined width in a direction substantially parallel to the data line. A plurality of combs and a structure in which the transparent common electrode covers the data line with the insulating layer interposed therebetween A first comb to be formed and a second comb to be adjacent to the first comb and formed at the center of the pixel area, wherein the light shielding film formed on the data line is removed, and the distance between the first and second comb is Provided is an FFS mode liquid crystal display device characterized in that the distance between the combs formed therein is greater.

바람직하게는, 상기 데이터 라인을 덮는 상기 투명 공통전극의 제1 빗살의 폭은 이웃하는 상기 투명 공통전극의 제2 빗살의 폭 보다 넓고, 바람직하게는 상기 데이터 라인과 동일한 층에 형성되거나 상기 절연층을 사이에 두고 배치되는 투명 화소전극이 구비된다.Preferably, the width of the first comb of the transparent common electrode covering the data line is wider than the width of the second comb of the neighboring transparent common electrode, preferably formed on the same layer as the data line or the insulating layer. A transparent pixel electrode disposed between the gaps is provided.

또한, 상기 투명 화소전극의 일 단부가 상기 데이터 라인을 덮는 상기 투명 공통전극의 제1 빗살과 이웃하는 제2 빗살 사이에 배치되는 것이 바람직하고, 상기 투명 화소전극의 일 단부는 상기 제1 및 제2 빗살 중에서 상기 제1 빗살에 더 인접한 것이 더욱 바람직하고, 상기 투명 화소전극의 일 단부가 상기 제1 및 제2 빗살 사이의 중앙부에 위치하는 것이 더더욱 바람직하다.In addition, one end of the transparent pixel electrode may be disposed between a first comb of the transparent common electrode covering the data line and a second comb adjacent to each other, and one end of the transparent pixel electrode may be disposed between the first and the second combs. More preferably, the second comb is further adjacent to the first comb, and more preferably, one end of the transparent pixel electrode is positioned at the center between the first and second combs.

또한, 상기 데이터 라인을 기준으로 양쪽 화소영역의 광 투과량의 최저점이 모두 상기 데이터 라인의 폭 내부에 포함되면, 상기 데이터 라인 상부의 차광막이 존재하지 않더라도 데이터 라인 상부를 효과적으로 차광할 수 있게 된다.In addition, when the lowest point of the light transmittance of both pixel areas is included in the width of the data line with respect to the data line, the upper portion of the data line can be effectively shielded even if the light blocking film on the data line does not exist.

한편, 상기 투명 화소전극은 플레이트 형상 또는 빗살 형상일 수 있다.The transparent pixel electrode may have a plate shape or a comb tooth shape.

바람직하게는, 상기 투명 공통전극은 각 화소 영역들이 서로 연결되어 동일한 전압이 인가되는 구조로 하면 전체 저항을 감소할 수 있게 된다.Preferably, the transparent common electrode can reduce the overall resistance when the pixel areas are connected to each other to apply the same voltage.

바람직하게는, 상기 제1 및 제2 빗살 사이의 거리는 상기 상부 및 하부기판 사이의 거리보다 크거나 같고, 상기 제2 빗살 및 상기 제2 빗살과 화소영역 중앙 쪽으로 이웃하는 제3 빗살 사이의 거리는 상기 상부 및 하부기판 사이의 거리보다 작거나 같도록 구성한다.Preferably, the distance between the first and second comb teeth is greater than or equal to the distance between the upper and lower substrates, and the distance between the second comb and the second comb and a third comb neighboring toward the center of the pixel area is It is configured to be smaller than or equal to the distance between the upper and lower substrates.

본 발명의 제2 측면은 하부기판, 상부기판, 및 상기 기판들 사이에 삽입된 액정층을 포함하고, 상기 하부기판에는 상호 교차하는 방향으로 형성되는 게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 각 화소 영역이 규정되며, 상기 게이트 라인 및 데이터 라인들의 교차부에는 스위칭 소자가 배치되어 있는 FFS 모드 액정표시장치에 있어서, 액정층에 전계를 인가하여 광 투과량을 조절하기 위하여 화소 영역 내에는 투명 화소전극과, 절연층을 사이에 두고 투명 화소전극과 소정 영역 중첩되게 이격 배치되는 투명 공통전극을 구비하고, 상기 투명 공통전극은 데이터 라인과 평행한 방향으로 소정 폭을 가지며, 복수개의 빗살들을 구비하며, 상기 복수개의 빗살들 중 적어도 하나는 데이터 라인의 일부 또는 전부를 절연되게 덮는 구조로 형성되며, 상기 데이터 라인을 포함한 영역에서는 제1 모드의 액정구동모드로 구동하고, 상기 화소 영역의 중심부 영역에서는 제2 모드의 액정구동모드로 구동함으로써 상기 데이터 라인의 상부에는 차광막이 제거되되, 상기 제2 모드는 상기 제1 모드에 비해 수직 전계 성분이 더 큰 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치를 제공한다.A second aspect of the present invention includes a lower substrate, an upper substrate, and a liquid crystal layer interposed between the substrates, and each pixel region is formed in the lower substrate by gate lines and data lines which are formed to cross each other. In the FFS mode liquid crystal display device in which a switching element is disposed at the intersection of the gate line and the data line, a transparent pixel electrode is provided in the pixel region to apply an electric field to the liquid crystal layer to control light transmission amount; And a transparent common electrode spaced apart from the transparent pixel electrode so as to overlap a predetermined region with an insulating layer interposed therebetween, wherein the transparent common electrode has a predetermined width in a direction parallel to the data line and includes a plurality of combs. At least one of the four comb teeth is formed to have a structure to insulate a part or all of the data line, the data line The light blocking film is removed from the upper portion of the data line by driving in the liquid crystal driving mode of the first mode in the region including the and driving in the liquid crystal driving mode of the second mode in the central region of the pixel region. An FFS mode liquid crystal display device is characterized in that a vertical electric field component is larger than that of one mode.

각 모드들에 대한 설명은 동 출원인에 의해 기 출원되고 등록된 미국특허 제 5,914,762호, 제5,886,762로, 및 제6,233,034호에 개시된 사항을 참고할 수 있다. 예를 들어, FFS 모드의 경우는 투명전극의 각 빗살들 사이의 거리가 상부기판과 하부기판 사이의 거리 보다 작거나 같게 형성되는 반면, IPS 모드의 경우는 투명전극의 각 빗살들 사이의 거리가 상부기판과 하부기판 사이의 거리 보다 크게 형성되는 것이 일반적이다. 다른 예를 해석하면, FFS 모드의 경우는 투명전극의 각 빗살들의 폭이 각 빗살들 사이의 거리 보다 크거나 같은 반면, IPS 모드의 경우는 투명전극의 각 빗살들의 폭이 투명전극의 각 빗살들 사이의 거리 보다 작거나 같게 형성되는 것이 일반적이다.For descriptions of each mode, reference may be made to the contents disclosed in US Patent Nos. 5,914,762, 5,886,762, and 6,233,034, previously filed and registered by the applicant. For example, in the FFS mode, the distance between each comb of the transparent electrode is formed to be smaller than or equal to the distance between the upper substrate and the lower substrate, whereas in the IPS mode, the distance between each comb of the transparent electrode is It is generally formed larger than the distance between the upper substrate and the lower substrate. In another example, in the FFS mode, the width of each comb of the transparent electrode is greater than or equal to the distance between the combs, whereas in the IPS mode, the width of each comb of the transparent electrode is the comb of the transparent electrode. It is common to form less than or equal to the distance between.

다만, 위에서는 FFS 모드와 IPS 모드에 대해 예를 들어 설명하였을 뿐, 횡전계를 이용하여 실질적으로 액정을 구동하는 개념이 포함된다면 어떠한 개념 정의도 추가로 가능하다.However, only the FFS mode and the IPS mode have been described above. For example, if the concept of substantially driving the liquid crystal using a transverse electric field is included, any conceptual definition may be additionally included.

한편, 상기 투명 화소전극과 투명 공통전극에 인가되는 전압의 조절과 각 전극들의 배치 관계를 조절하면, 데이터 라인과 그 인접한 영역에서 투과율이 현저히 줄어들어 그 상부의 차광막을 제거할 수 있고 디스클리네이션도 발생하지 않도록 유도할 수 있는 것이다.On the other hand, by adjusting the voltage applied to the transparent pixel electrode and the transparent common electrode and the arrangement relationship of each electrode, the transmittance is significantly reduced in the data line and its adjacent area, so that the light shielding film on the upper part can be removed, It can be induced not to occur.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 FFS 모드 액정표시장치에 따르면, 기존에 빛을 차단하는 역할을 하는 차광막 중 데이터 라인 상부에 형성되는 차광막을 제거하고도 빛샘 현상이나 디스클리네이션 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the FFS mode liquid crystal display device of the present invention as described above, even if the light-shielding film formed on the upper data line of the light-shielding film that serves to block the light can be removed, the light leakage phenomenon or the declining phenomenon can be prevented. It works.

또한, 본 발명은 데이터 라인, 투명 공통전극, 및 투명 화소전극의 폭, 배치 관계 등을 조절함으로써 특별한 공정 개발 없이 최소 비용으로 개구율이 증가시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention has an effect that the aperture ratio can be increased at a minimum cost without special process development by adjusting the width, arrangement, and the like of the data line, the transparent common electrode, and the transparent pixel electrode.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나, 다음에 예시하는 본 발명의 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 상술하는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되어지는 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, embodiments of the present invention illustrated below may be modified in many different forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. The embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.

FFS 모드 액정표시장치는 하부기판, 상부기판, 및 기판들에 삽입된 액정층을 포함하고, 상기 하부기판에는 상호 교차하는 방향으로 형성되는 게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 각 화소 영역이 규정되고, 상기 게이트 라인 및 데이터 라인들의 교차부에는 스위칭 소자가 배치되어 있으며, 상기 액정층에 전압을 인가하여 광 투과량을 조절하기 위하여 화소 영역 내에는 투명 화소전극과 상기 투명 화소전극과 절연층을 사이에 두고 소정 영역 중첩되게 이격 배치되는 투명 공통전극을 구비한다.The FFS mode liquid crystal display device includes a lower substrate, an upper substrate, and a liquid crystal layer inserted into the substrates, each pixel region being defined by gate lines and data lines formed in cross directions. A switching element is disposed at an intersection of the gate line and the data line, and a transparent pixel electrode, a transparent pixel electrode, and an insulating layer are interposed between the transparent pixel electrode and the pixel layer in order to adjust a light transmission amount by applying a voltage to the liquid crystal layer. It is provided with a transparent common electrode spaced apart from each other and overlapping a predetermined area.

도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 FFS 모드 액정표시장치의 하부기판에서 화소 영역 일부가 제조과정에 따라서 형성된 평면도이고, 도 2b 내지 도 2e는 각 층들이 단계적으로 형성되어 중첩되어 가는 상황을 차례로 도시하고 있는 평면도들이며, 도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ' 선에 따른 단면도이며, 도 4는 도 2의 Ⅱ-Ⅱ' 선에 따른 단면도이다.FIG. 2A is a plan view of a portion of a pixel region formed in accordance with a manufacturing process in a lower substrate of an FFS mode liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIGS. 2B to 2E illustrate a situation in which each layer is formed step by step. 3 are cross-sectional views taken along line II ′ of FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line II-II ′ of FIG. 2.

도 2a 내지 도 2e, 도 3, 및 도 4를 참조하면, 하부기판(100)에는 불투명 금속으로 된 게이트 라인(G)과 데이터 라인(600)이 수직 교차하도록 배열되어 단위 화소를 형성하고, 이러한 단위 화소 영역 내에는 투명 공통전극(800)과 투명 화소전극(400)이 절연층(700)의 개재 하에 배치되는데, 투명 화소전극(400)은 예컨대, 플레이트 형태로 데이터 라인(600)과 동일 층에 배치되고, 투명 공통전극(800)은 절연층(700) 상에 증착된 투명 도전층의 패터닝에 의하여 다수의 빗살들을 갖는 형태로 마련되어 투명 화소전극(400)과 소정 영역 중첩된다.Referring to FIGS. 2A through 2E, 3, and 4, in the lower substrate 100, a gate line G made of an opaque metal and a data line 600 are arranged to vertically intersect to form a unit pixel. In the unit pixel area, the transparent common electrode 800 and the transparent pixel electrode 400 are disposed under the insulating layer 700. The transparent pixel electrode 400 is formed on the same layer as the data line 600 in the form of a plate, for example. The transparent common electrode 800 is formed in a form having a plurality of combs by patterning the transparent conductive layer deposited on the insulating layer 700 and overlaps a predetermined region with the transparent pixel electrode 400.

게이트 라인(G) 중 게이트 전극(200) 상에는 게이트 절연막(300)의 개재 하에 a-Si막과 n+ a-Si막이 차례로 증착된 액티브 패턴(500)과, 소오스/드레인 전극(600a,600b)이 마련되어 박막 트랜지스터(TFT)(T)를 형성한다. 드레인 전극(600b)은 투명 화소전극(400)과 전기적으로 접속되어 단위 화소에 데이터 신호가 인가된다.The active pattern 500 and the source / drain electrodes 600a and 600b in which an a-Si film and an n + a-Si film are sequentially deposited on the gate electrode 200 are interposed on the gate electrode 200 among the gate lines G. To form a thin film transistor (TFT) (T). The drain electrode 600b is electrically connected to the transparent pixel electrode 400 to apply a data signal to the unit pixel.

한편, 상기 상부기판에는 하부기판(100)에 형성된 화소 영역 각각에 대응하여 화면의 색상을 나타내는 컬러 필터(미도시)가 마련되고, 데이터 라인(600)의 상부에는 종래 기술과는 달리 차광막이 형성되지 않는다. 또한, 종래 기술에 의하면 투명 공통전극(800)은 데이터 라인(600) 상부에는 형성되지 않지만, 본 발명의 일 실시예에서는 데이터 라인(600)의 상부에도 투명 공통전극(800)이 형성되어 있다.On the other hand, the upper substrate is provided with a color filter (not shown) indicating the color of the screen corresponding to each of the pixel areas formed on the lower substrate 100, the light shielding film is formed on the upper portion of the data line 600, unlike the prior art It doesn't work. In addition, according to the related art, the transparent common electrode 800 is not formed on the data line 600, but in the exemplary embodiment of the present invention, the transparent common electrode 800 is formed on the data line 600.

다음으로, 도 2a 내지 도 2e, 도 3, 및 도 4를 참조하여 본 발명의 FFS 모드 액정표시장치의 제조방법에 대해서 상세하게 설명한다.Next, the manufacturing method of the FFS mode liquid crystal display device of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2A to 2E, 3, and 4.

도 2a 내지 도 2e, 도 3, 및 도 4를 참조하면, 하부기판(100) 상에 게이트 전극(200)을 포함한 게이트 라인(G)을 형성한다. 즉, 하부기판(100) 상에 불투명 금속막의 증착 및 이에 대한 패터닝을 통해 박막 트랜지스터(TFT)(T) 형성부의 하부기판(100) 부분 상에 게이트 전극(200)을 포함한 게이트 라인(G)을 형성한다.2A through 2E, 3, and 4, the gate line G including the gate electrode 200 is formed on the lower substrate 100. That is, the gate line G including the gate electrode 200 is formed on the lower substrate 100 portion of the TFT (T) formation part by depositing and patterning an opaque metal film on the lower substrate 100. Form.

그런 다음, 게이트 전극(200)을 포함한 게이트 라인(G)을 덮도록 하부기판(100)의 전체 상부에 게이트 절연막(300)을 증착한 후, 게이트 절연막(300) 상에 투명 도전층의 증착 및 패터닝을 통해 각 화소영역 내에 배치되게 플레이트형 투명 화소전극(400)을 형성한다.Then, after the gate insulating film 300 is deposited on the entire upper substrate 100 to cover the gate line G including the gate electrode 200, the transparent conductive layer is deposited on the gate insulating film 300, and The plate-type transparent pixel electrode 400 is formed to be disposed in each pixel region through patterning.

다음으로, 기판 결과물 상에 a-Si막과 n+ a-Si막을 차례로 증착한 상태에서 이들을 패터닝하여 게이트 전극(200) 상부의 게이트 절연막(200) 부분 상에 액티브 패턴(500)을 형성한다.Next, the a-Si film and the n + a-Si film are sequentially deposited on the substrate resultant and then patterned to form an active pattern 500 on the gate insulating film 200 on the gate electrode 200.

그런 다음, 소오스/드레인(Source/Drain)용 금속막을 증착한 후, 이를 패터닝해서 소오스/드레인 전극(600a,600b)을 포함한 데이터 라인(600)을 형성하고, 이를 통해, 박막 트랜지스터(TFT)(T)를 구성한다. 이때, 드레인 전극(600b)은 화소전극(400)과 전기적으로 접속되도록 형성한다.Thereafter, a metal film for source / drain is deposited and then patterned to form a data line 600 including the source / drain electrodes 600a and 600b, and through this, a thin film transistor TFT ( Constitute T). In this case, the drain electrode 600b is formed to be electrically connected to the pixel electrode 400.

이어서, 박막 트랜지스터(T)가 형성된 결과 구조물 상에 예컨대 SiNx 재질의 절연층(700)을 도포한 후, 투명 화소전극(400)과 적어도 일부가 중첩하도록 빗살 형태를 가진 투명 공통전극(800)을 형성한다. 이후, 도시하지는 않았으나, 공통전극(800)이 형성된 기판 결과물의 최상부에 배향막을 도포하여 어레이 기판의 제조를 완성한다.Subsequently, after the insulating layer 700, for example, of SiNx material, is coated on the resultant structure in which the thin film transistor T is formed, a transparent common electrode 800 having a comb shape is formed to overlap at least a portion of the transparent pixel electrode 400. Form. Subsequently, although not illustrated, an alignment layer is coated on the top of the substrate resultant on which the common electrode 800 is formed to complete the fabrication of the array substrate.

한편, 상기 상부기판에는 컬러 필터를 선택적으로 형성하고, 그 상부에 배향막을 형성한다. 상기 상부기판과 하부기판(100)은 액정층의 개재하에 합착시켜 본 발명의 일 실시예에 따른 FFS 모드 액정표시장치의 제조를 완성한다. 물론, 기판 합착 후에는 각 기판의 외측면에 편광판을 부착시킴이 바람직하다.Meanwhile, a color filter is selectively formed on the upper substrate, and an alignment layer is formed on the upper substrate. The upper substrate and the lower substrate 100 are bonded to each other under the interposition of the liquid crystal layer to complete the manufacture of the FFS mode liquid crystal display device according to the exemplary embodiment of the present invention. Of course, it is preferable to attach a polarizing plate to the outer side surface of each board | substrate after bonding a board | substrate.

이하, 도 4 및 도 5를 참조하여, 본 발명의 일 실시예를 좀 더 상세히 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 4 and 5.

투명 공통전극(800)은 데이터 라인(600)과 실질적으로 평행한 방향으로 소정 폭을 갖는 복수개의 빗살들을 구비하고, 투명 공통전극(800)의 제1 빗살(C1)은 데이터 라인(600) 전체를 덮는 구조로 형성되어 데이터 라인(600)의 상부에는 종래 기술에서 적용된 차광막이 제거될 수 있게 된다.The transparent common electrode 800 includes a plurality of combs having a predetermined width in a direction substantially parallel to the data line 600, and the first comb C 1 of the transparent common electrode 800 is the data line 600. The light shielding film applied in the related art may be removed from the upper portion of the data line 600 by forming a structure covering the entirety.

즉, 데이터 라인(600) 상부에 제1 빗살(C1)을 배치함으로써 디스클리네이션을 줄이고 광 투과율을 증가시킬 수 있게 된다. 이 경우, 제1 빗살(C1)의 폭(L1)은 데이터 라인(600)의 폭(L3) 보다 더 크거나 같게 형성하여 데이터 라인(600)의 전체를 덮는 구조로 형성하는 것이 효과적이다.That is, by disposing the first comb teeth C 1 on the data line 600, it is possible to reduce disclination and increase light transmittance. In this case, it is effective to form the width L 1 of the first comb C 1 to be greater than or equal to the width L 3 of the data line 600 to cover the entire data line 600. to be.

투명 공통전극(800)의 제1 빗살(C1)과 이웃하는 제2 빗살(C2) 사이의 거리(D1)는 화소 내부에 형성된 빗살들 사이의 거리(D2) 보다 크거나 같게 형성한다.The distance D 1 between the first comb C 1 and the neighboring second comb C 2 of the transparent common electrode 800 is greater than or equal to the distance D 2 between the combs formed inside the pixel. do.

또한, 제2 빗살(C2)의 폭(L2)은 제1 빗살(C1)과 제2 빗살(C2) 사이의 거리(D1)보다 작거나 같게, 제2 빗살(C2) 및 제2 빗살(C2)과 화소영역 쪽으로 이웃하는 제3 빗살(C3) 사이의 거리 보다는 크거나 같게 형성됨이 바람직하다.Further, the second comb (C 2) a width of (L 2) has a first comb (C 1) and the second comb (C 2) distance equal to less than or (D 1) between the second teeth (C 2) And a distance greater than or equal to the distance between the second comb C 2 and the third comb C 3 adjacent to the pixel area.

이러한 구조에 의하여 데이터 라인(600)을 포함한 영역(B)에서 발생하는 전계는 화소 영역의 중심부 영역(A)에서 발생하는 전계보다 수직 전계 성분이 작게 되며, 영역(A)과 영역(B)은 각기 다른 액정구동모드로 액정을 구동하게 된다. 이러한 구조에 의하면, 데이터 라인(600)의 상부에 불투과 영역이 형성되어 데이터 라인(600)의 상부에서 종래 기술에서 적용된 차광막을 제거하더라도 차광 효과를 얻을 수 있다.Due to this structure, the electric field generated in the region B including the data line 600 has a smaller vertical electric field component than the electric field generated in the central region A of the pixel region, and the regions A and B are The liquid crystal is driven in different liquid crystal driving modes. According to such a structure, an opaque region is formed on the data line 600, so that a light shielding effect can be obtained even if the light shielding film applied in the prior art is removed from the data line 600.

한편, 도 2에서는 투명 화소전극(300)을 플레이트 형상으로 도시하고 있으나, 빗살 형상 등도 가능함은 물론이다.Meanwhile, although the transparent pixel electrode 300 is illustrated in a plate shape in FIG. 2, the shape of the comb teeth may be of course.

또한, 도 5를 참조하면, 다수의 빗살들로 형성된 투명 공통전극(800)은 박막 트랜지스터(TFT)(T, 도 2a 및 도 3 참조)가 형성되는 영역을 제외한 전체 부분을 덮고 별도의 배선 없이 각 화소 영역이 서로 전기적으로 연결된 구조를 가진다.In addition, referring to FIG. 5, the transparent common electrode 800 formed of a plurality of combs covers an entire portion except for a region where a thin film transistor TFT (see FIGS. 2A and 3) is formed and does not have a separate wiring. Each pixel region has a structure electrically connected to each other.

투명 화소전극(400)의 일 단부(E)가 데이터 라인(600)을 덮는 투명 공통전극(800)의 제1 빗살(C1)과 이와 이웃하는 제2 빗살(C2) 사이에 배치되고, 투명 화소 전극(400)의 일 단부(E)는 제1 빗살(C1)과 제2 빗살(C2) 사이의 중앙부에 위치하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 제1 빗살(C1)과 제2 빗살(C2) 중에서 제1 빗살(C1)에 더 인접한 것이 더 바람직하다.One end E of the transparent pixel electrode 400 is disposed between the first comb C 1 of the transparent common electrode 800 covering the data line 600 and the second comb C 2 adjacent thereto. One end E of the transparent pixel electrode 400 is preferably positioned at a central portion between the first comb C 1 and the second comb C 2 , more preferably, the first comb C 1 and the first comb C 1 . More preferably, the second comb C 2 is further adjacent to the first comb C 1 .

도 6은 본 발명의 일 실시예에서 투명 화소전극(400)의 일 단부(E)가 제1 빗살(C1)과 제2 빗살(C2) 사이에 위치하는 지점에 따라서 변화하는 광 투과율을 비교하기 위한 시뮬레이션 결과 도면이다.FIG. 6 illustrates light transmittance that changes according to a point where one end E of the transparent pixel electrode 400 is positioned between the first comb C 1 and the second comb C 2 . A diagram of simulation results for comparison.

도 2 내지 도 6을 참조하면, 투명 화소전극(400)의 일 단부(E)가 데이터 라인(600) 상부에 있는 제1 빗살(C1)과 이에 인접한 제2 빗살(C2) 사이의 중앙부에 배치되는 경우 33%의 광 투과율을 보이는 반면, 투명 화소전극(400)의 일 단부(E)가 제1 빗살(C1) 보다 제2 빗살(C2)에 인접하게 배치되는 경우 24%의 광 투과율을 보이고, 투명 화소전극(400)의 일 단부(E)가 제1 빗살(C1)에 인접하게 배치되는 경우 30.81%의 광 투과율을 보이며, 투명 화소전극(400)의 일 단부(E)가 제1 빗살(C1) 까지 연장된 경우는 31.23%의 광 투과율을 보이고 있다.2 to 6, a central portion between one end E of the transparent pixel electrode 400 is disposed between the first comb C 1 on the data line 600 and the second comb C 2 adjacent thereto. While the light emitting device exhibits a light transmittance of 33% when disposed on the substrate, when one end E of the transparent pixel electrode 400 is disposed closer to the second comb teeth C 2 than the first comb teeth C 1 , When the one end E of the transparent pixel electrode 400 is disposed adjacent to the first comb C 1 , it has a light transmittance of 30.81%, and one end E of the transparent pixel electrode 400. ) Is extended to the first comb (C 1 ), it shows a light transmittance of 31.23%.

하지만 상기 예시 중 투명 화소전극(400)의 일 단부(E)가 제1 빗살(C1)까지 연장된 경우에 있어서 광 투과율은 높지만 데이터 라인 상부에 불투과 영역이 적절히 형성되지 않아서 상부의 차광막을 제거할 수 없다.However, in the case where one end E of the transparent pixel electrode 400 extends to the first comb C 1 , the light transmittance is high, but an opaque region is not properly formed on the data line. It cannot be removed.

도 6에서 투명 화소전극(400), 제1 빗살(C1) 및 제2 빗살(C2)의 배치 구조 상부에 그려진 그래프는 광 투과율을 도시한 그래프이다.In FIG. 6, the graph drawn on the arrangement structure of the transparent pixel electrode 400, the first comb teeth C 1 , and the second comb teeth C 2 is a graph showing light transmittance.

따라서, 투명 화소전극(400)의 일 단부(E)는 제1 빗살(C1)과 제2 빗살(C2) 사이에 존재하되, 제1 빗살(C1)에 더 인접한 것 바람직하고, 투명 화소전극(400)의 일 단부(E)가 제1 빗살(C1)과 제2 빗살(C2)의 중심부에 위치하는 것이 더욱 바람직하다.Therefore, one end E of the transparent pixel electrode 400 is present between the first comb teeth C 1 and the second comb teeth C 2 , but is further adjacent to the first comb teeth C 1 , and is transparent. More preferably, one end E of the pixel electrode 400 is positioned at the center of the first comb teeth C 1 and the second comb teeth C 2 .

한편, 각 그림 상에 흰색 막대부분은 투명 공통전극(800)의 제1 및 제2 빗살(C1,C2)의 끝부분을 나타내며, 빨간색 막대부분은 투명 화소전극(400)의 일 단부(E)를 나타낸 것이다.On the other hand, the white bar portion on each figure represents the ends of the first and second comb teeth (C 1 , C 2 ) of the transparent common electrode 800, the red bar portion is one end ( E) is shown.

도 7은 데이터 라인(600)을 기준으로 양쪽의 광 투과량의 최저점을 도시한 그래프이다. 도 7을 참조하면, 데이터 라인(600)을 기준으로 좌측 광 투과율의 최저점은 X로 표시되어 있고, 데이터 라인을 기준으로 우측 광 투과율은 Y로 표시되어 있다.FIG. 7 is a graph showing the lowest points of the light transmittances on both sides of the data line 600. Referring to FIG. 7, the lowest point of the left light transmittance is denoted by X based on the data line 600, and the right light transmittance is denoted by Y based on the data line 600.

데이터 라인(600) 상부의 차광막을 제거하고 데이터 라인(600) 상부에 효율적으로 불투과 영역을 형성하기 위해서는 데이터 라인(600)을 기준으로 좌, 우측 광 투과율의 각각의 최저점(X,Y)이 모두 데이터 라인(600)의 폭(도 4의 L3) 내부에 포함되도록 구성한다.In order to remove the light blocking film on the data line 600 and to form an opaque region efficiently on the data line 600, the lowest points (X, Y) of the left and right light transmittances of the data line 600 are respectively defined. All are configured to be included in the width (L 3 of FIG. 4) of the data line 600.

전술한 본 발명에 따른 FFS 모드 액정표시장치에 대한 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.Although a preferred embodiment of the FFS mode liquid crystal display device according to the present invention has been described above, the present invention is not limited thereto, and the present invention is not limited thereto, and various modifications are made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. It is possible and this also belongs to the present invention.

도 1은 종래 기술에 따른 FFS 모드 액정표시장치를 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a conventional FFS mode liquid crystal display device.

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 FFS 모드 액정표시장치의 하부기판에서 화소 영역 일부가 제조과정에 따라서 각 레이어의 형성되는 상황을 도시하고 있는 평면도들이다.2A to 2E are plan views illustrating a situation in which a portion of a pixel area is formed in each layer in a lower substrate of an FFS mode liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 2a의 Ⅰ-Ⅰ' 선에 따른 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 2A.

도 4는 도 2a의 Ⅱ-Ⅱ' 선에 따른 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along line II-II 'of FIG. 2A.

도 5는 도 2a에서 일부층만 도시한 평면도이다.FIG. 5 is a plan view showing only a partial layer in FIG. 2A.

도 6은 본 발명의 일 실시예에서 투명 화소전극의 일 단부가 위치하는 지점에 따라서 변화하는 광 투과율을 비교하기 위한 시뮬레이션 결과 도면이다.FIG. 6 is a diagram illustrating a simulation result for comparing light transmittances that vary according to a point where one end of a transparent pixel electrode is positioned in an exemplary embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 일 실시예에서 데이터 라인을 기준으로 양쪽의 광 투과량의 최저점을 도시한 그래프이다.FIG. 7 is a graph showing the lowest points of the light transmittances on both sides of the data line in one embodiment of the present invention.

*** 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 ****** Explanation of symbols on the main parts of the drawing ***

100 : 하부기판, 200 : 게이트 전극,100: lower substrate, 200: gate electrode,

300 : 게이트 절연막, 400 : 투명 화소전극,300: gate insulating film, 400: transparent pixel electrode,

500 : 액티브 패턴, 600 : 데이터 라인,500: active pattern, 600: data line,

600a,600b : 소오스/드레인 전극, 700 : 절연층,600a, 600b: source / drain electrode, 700: insulating layer,

800 : 투명 공통전극800: transparent common electrode

Claims (21)

하부기판, 상부기판, 및 상기 기판들 사이에 삽입된 액정층을 포함하고, 상기 하부기판에는 상호 교차하는 방향으로 형성되는 게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 각 화소 영역이 규정되며, 상기 게이트 라인 및 데이터 라인들의 교차부에는 스위칭 소자가 배치되어 있는 FFS 모드 액정표시장치에 있어서,A lower substrate, an upper substrate, and a liquid crystal layer interposed between the substrates, wherein each pixel region is defined by gate lines and data lines formed in a direction crossing each other. And a switching element disposed at an intersection of data lines. 상기 액정층에 전계를 인가하여 광 투과량을 조절하기 위하여 상기 화소 영역 내에는 투명 화소전극과, 절연층을 사이에 두고 상기 투명 화소전극과 소정 영역 중첩되게 이격 배치되는 투명 공통전극을 구비하고,In order to control an amount of light transmission by applying an electric field to the liquid crystal layer, the pixel region includes a transparent pixel electrode and a transparent common electrode disposed to be spaced apart from the transparent pixel electrode by a predetermined region with an insulating layer interposed therebetween. 상기 투명 공통전극은 상기 데이터 라인과 실질적으로 평행한 방향으로 소정 폭을 갖는 복수개의 빗살들을 구비하며,The transparent common electrode has a plurality of combs having a predetermined width in a direction substantially parallel to the data line, 상기 투명 공통전극은 상기 데이터 라인을 덮는 구조로 형성되는 제1 빗살과 상기 제1 빗살과 이웃하며 상기 화소 영역 중앙부 쪽에 형성되는 제2 빗살을 구비함으로써 상기 데이터 라인 상부에 형성되는 차광막이 제거되며,The transparent common electrode includes a first comb formed in a structure covering the data line and a second comb formed adjacent to the first comb and formed at a central portion of the pixel region, thereby removing the light blocking film formed on the data line. 상기 제1 및 제2 빗살 사이의 거리는 화소 영역 내부에 형성된 빗살들 사이의 거리 보다 큰 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.The distance between the first and second comb teeth is greater than the distance between the comb teeth formed in the pixel area. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 데이터 라인을 덮는 상기 투명 공통전극의 제1 빗살의 폭은 이웃하는 상기 투명 공통전극의 제2 빗살의 폭 보다 넓은 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.The width of the first comb of the transparent common electrode covering the data line is wider than the width of the second comb of the adjacent transparent common electrode. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명 화소전극은 상기 데이터 라인과 동일 층 상에 배치되는 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.And the transparent pixel electrode is disposed on the same layer as the data line. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명 화소전극은 상기 데이터 라인과 상기 절연층을 사이에 두고 배치되는 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.And the transparent pixel electrode is disposed with the data line and the insulating layer interposed therebetween. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명 화소전극의 일 단부는 상기 데이터 라인을 덮는 상기 투명 공통전극의 제1 빗살과 이웃하는 제2 빗살 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.And an end portion of the transparent pixel electrode is disposed between a first comb of the transparent common electrode covering the data line and a neighboring second comb. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 투명 화소전극의 일 단부는 상기 제1 및 제2 빗살 중에서 상기 제1 빗살에 더 인접한 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.One end of the transparent pixel electrode may be further adjacent to the first comb among the first and second combs. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 투명 화소전극의 일 단부는 상기 제1 및 제2 빗살 사이의 중앙부에 위치하는 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.One end of the transparent pixel electrode is positioned in the center portion between the first and second comb teeth. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 데이터 라인을 기준으로 양쪽 화소영역 외각 부분의 광 투과량의 최저점이 모두 상기 데이터 라인의 폭 내부에 포함되는 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.And a lowest point of the light transmittance of the outer portions of both pixel regions with respect to the data line is included in the width of the data line. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명 화소전극은 플레이트 형상 또는 빗살 형상인 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.And the transparent pixel electrode has a plate shape or a comb tooth shape. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명 공통전극은 각 화소 영역들이 서로 연결되어 동일한 전압이 인가되는 구조인 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.The transparent common electrode of the FFS mode liquid crystal display, characterized in that each pixel region is connected to each other to apply the same voltage. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 및 제2 빗살 사이의 거리는 상기 상부 및 하부 기판 사이의 거리 보다 크고, 상기 제2 빗살 및 상기 제2 빗살과 화소 영역 쪽으로 이웃하는 제3 빗살 사이의 거리는 상기 상부 및 하부기판 사이의 거리 보다 작거나 같은 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.The distance between the first and second comb teeth is greater than the distance between the upper and lower substrates, and the distance between the second comb teeth and the second comb teeth and the neighboring third comb teeth toward the pixel area is the distance between the upper and lower substrates. FFS mode liquid crystal display device, characterized in that less than or equal. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명 공통전극의 제1 빗살의 폭은 상기 데이터 라인의 폭보다 크거나 같게 형성되는 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.The width of the first comb of the transparent common electrode is greater than or equal to the width of the data line FFS mode liquid crystal display device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2 빗살의 폭은 상기 제1 및 제2 빗살 사이의 거리 보다 작거나 같게, 상기 제2 빗살 및 상기 제2 빗살과 화소영역 쪽으로 이웃하는 제3 빗살 사이의 거리 보다는 크거나 같게 형성되는 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.The width of the second comb is formed to be less than or equal to the distance between the first and second comb, greater than or equal to the distance between the second comb and the second comb and the neighboring third comb toward the pixel area. An FFS mode liquid crystal display device. 하부기판, 상부기판, 및 상기 기판들 사이에 삽입된 액정층을 포함하고, 상기 하부기판에는 상호 교차하는 방향으로 형성되는 게이트 라인들과 데이터 라인들에 의해 각 화소 영역이 규정되며, 상기 게이트 라인 및 데이터 라인들의 교차부에는 스위칭 소자가 배치되어 있는 FFS 모드 액정표시장치에 있어서,A lower substrate, an upper substrate, and a liquid crystal layer interposed between the substrates, wherein each pixel region is defined by gate lines and data lines formed in a direction crossing each other. And a switching element disposed at an intersection of data lines. 상기 액정층에 전계를 인가하여 광 투과량을 조절하기 위하여 상기 화소 영역 내에는 투명 화소전극과, 절연층을 사이에 두고 상기 투명 화소전극과 소정 영역 중첩되게 이격 배치되는 투명 공통전극을 구비하고,In order to control an amount of light transmission by applying an electric field to the liquid crystal layer, the pixel region includes a transparent pixel electrode and a transparent common electrode disposed to be spaced apart from the transparent pixel electrode by a predetermined region with an insulating layer interposed therebetween. 상기 투명 공통전극은 상기 데이터 라인과 평행한 방향으로 소정 폭을 가지며, 복수개의 빗살들을 구비하며,The transparent common electrode has a predetermined width in a direction parallel to the data line and includes a plurality of combs. 상기 복수개의 빗살들 중 적어도 하나는 상기 데이터 라인의 일부 또는 전부를 절연되게 덮는 구조로 형성되며,At least one of the plurality of comb teeth is formed in a structure that covers a portion or all of the data line insulated, 상기 데이터 라인을 포함한 영역에서는 제1 모드의 액정구동모드로 구동하고, 상기 화소 영역의 중심부 영역에서는 제2 모드의 액정구동모드로 구동함으로써 상기 데이터 라인의 상부에는 차광막이 제거되되,In the region including the data line, the light-shielding film is removed on the data line by driving in the liquid crystal driving mode of the first mode and driving in the liquid crystal driving mode of the second mode in the central region of the pixel region. 상기 제2 모드는 상기 제1 모드에 비해 수직 전계 성분이 더 큰 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.And the second mode has a larger vertical electric field component than the first mode. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 데이터 라인의 적어도 일부 또는 전부를 덮도록 상기 투명 공통전극의 제1 빗살이 구비되고, 상기 화소 영역 내에는 상기 제1 빗살과 인접한 상기 투명 공통전극의 제2 빗살이 구비되는 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.A first comb of the transparent common electrode is provided to cover at least part or all of the data line, and the second comb of the transparent common electrode adjacent to the first comb is provided in the pixel area Mode liquid crystal display device. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 투명 화소전극의 일 단부는 상기 투명 공통전극의 제1 및 제2 빗살의 사이에 위치한 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.One end of the transparent pixel electrode is positioned between the first and second comb teeth of the transparent common electrode. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 투명 화소전극의 일 단부는 상기 제1 빗살에 더 인접한 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.And one end of the transparent pixel electrode is further adjacent to the first comb. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 투명 화소전극의 일 단부는 상기 제1 및 제2 빗살 사이의 중심부에 위 치하는 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.One end of the transparent pixel electrode is positioned in the center between the first and second comb teeth, the FFS mode liquid crystal display device. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 투명 화소전극은 플레이트 형상 또는 빗살 형상인 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.And the transparent pixel electrode has a plate shape or a comb tooth shape. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 투명 공통전극은 각 화소 영역들이 서로 연결되어 동일한 전압이 인가되는 구조인 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.The transparent common electrode of the FFS mode liquid crystal display, characterized in that each pixel region is connected to each other to apply the same voltage. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 데이터 라인을 기준으로 양쪽 화소영역 외각 부분의 광 투과량의 최저점이 모두 상기 데이터 라인의 폭 내부에 포함되는 것을 특징으로 하는 FFS 모드 액정표시장치.And a lowest point of the light transmittance of the outer portions of both pixel regions with respect to the data line is included in the width of the data line.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110070566A (en) * 2009-12-18 2011-06-24 엘지디스플레이 주식회사 Fringe field switchiig liquid crystal display device and method for fabricating the same
KR20130062818A (en) * 2011-12-05 2013-06-13 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6762816B1 (en) * 1999-06-11 2004-07-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Liquid crystal display with special electrode configurations and compositions and method for producing the same
KR100848210B1 (en) * 2006-01-13 2008-07-24 가부시키가이샤 히타치 디스프레이즈 Display unit

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110070566A (en) * 2009-12-18 2011-06-24 엘지디스플레이 주식회사 Fringe field switchiig liquid crystal display device and method for fabricating the same
USRE47455E1 (en) 2010-07-06 2019-06-25 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
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KR20130062818A (en) * 2011-12-05 2013-06-13 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display device and method of manufacturing the same

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