KR20080072268A - Apparatus for conveying substrate - Google Patents

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Abstract

A substrate transfer apparatus is provided to prevent damage to a surface of a transfer roller due to chemicals by removing the chemicals remaining on the surface of the transfer roller by a cleaning solution of a cleaning box. A substrate transfer apparatus(10) includes rotary shafts(100), transfer rollers(110), and cleaning boxes(200). The transfer rollers are installed on the rotary shafts. The cleaning boxes are installed under the transfer rollers and contain a cleaning solution. At least a part of the transfer roller is in contact with the cleaning solution. The rotary shafts are arranged in parallel with each other in a first direction(y). The cleaning boxes are extended in a second direction(x) vertical to the first direction.

Description

기판 이송 장치{Apparatus for conveying substrate}Apparatus for conveying substrate

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 개략적인 평면도이다. 1 is a schematic plan view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 자른 단면도이다. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II ′ of FIG. 1.

도 3은 이송 롤러가 세정 용액에 의해 세정되는 방법을 설명하기 위한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view for explaining how the transfer roller is cleaned by the cleaning solution.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10: 기판 이송 장치 20: 기판10: substrate transfer apparatus 20: substrate

100: 회전 샤프트 110: 이송 롤러100: rotating shaft 110: feed roller

120: 마그네틱 기어 200: 클리닝 박스120: magnetic gear 200: cleaning box

210: 유체 공급관 220: 유체 배수관210: fluid supply pipe 220: fluid drain pipe

250: 세정 용액 280: 현상액250: washing solution 280: developer

300: 챔버 400: 구동 기어300: chamber 400: drive gear

본 발명은 기판 이송 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 회전 샤프트에 설치된 이송 롤러의 회전으로 기판을 이송시키는 기판 이송 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate transfer apparatus, and more particularly, to a substrate transfer apparatus for transferring a substrate by rotation of a transfer roller provided on a rotating shaft.

최근 들어 정보 처리 장치는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 처리된 정보를 외부로 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 디스플레이 장치로서, 현재 주목받고 있는 것은 액정 디스플레이 장치, 유기 EL 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 등과 같은 평판 디스플레이 장치이다. Recently, information processing devices have been rapidly developed to have various types of functions and faster information processing speeds. Such an information processing apparatus has a display device for displaying the processed information to the outside. As a display device, what is currently attracting attention is a flat panel display device such as a liquid crystal display device, an organic EL display device, a plasma display device and the like.

평판 디스플레이 장치는 다수의 처리 공정을 거친다. 예를 들어 기판 상에 박막 및/또는 패턴을 형성하기 위한 증착 공정, 베이킹 공정, 노광 공정, 현상 공정, 식각 공정 등이 그것이다. 상기 공정들은 대개 서로 다른 처리 장치에서 이루어진다. 따라서, 상기 다수의 처리 공정을 수행하기 위해, 또한 공정 자동화 및 효율성 제고 측면에서도, 상기 기판을 각 처리 장치로 이송시키는 기판 이송 장치의 사용이 필수적이다. 때때로, 하나의 처리 장치로부터 다른 처리 장치로의 기판 이송 뿐만 아니라, 하나의 처리 장치 내에서의 기판 이송도 필요하다. 후자의 경우는 기판의 이송과 동시에 처리 공정을 진행할 수 있으므로, 처리 속도 개선에 이바지한다.Flat panel display devices go through a number of processing processes. Examples thereof include a deposition process, a baking process, an exposure process, a developing process, an etching process, and the like, for forming a thin film and / or a pattern on a substrate. The processes usually take place in different processing units. Therefore, in order to perform the plurality of processing processes, and also in terms of process automation and efficiency, it is necessary to use a substrate transfer device for transferring the substrate to each processing device. Sometimes, not only substrate transfer from one processing apparatus to another processing apparatus, but also substrate transfer within one processing apparatus is required. In the latter case, the process can proceed simultaneously with the transfer of the substrate, contributing to the improvement of the process speed.

현재 일반적으로 널리 적용되고 있는 기판 이송 장치 중 하나는 다수개의 이송 롤러가 설치되어 있는 회전 샤프트를 이용하는 것이다. 상기 기판 이송 장치는 회전 샤프트를 회전시켜 그에 설치된 다수의 이송 롤러를 함께 회전시킨다. 이러한 이송 롤러의 회전력으로 기판을 특정 방향으로 이송하게 된다.One of the substrate transfer apparatuses currently widely applied is to use a rotating shaft provided with a plurality of transfer rollers. The substrate transfer device rotates a rotating shaft to rotate a plurality of transfer rollers installed thereon. The rotational force of the transfer roller transfers the substrate in a specific direction.

그런데, 상기한 이송 롤러가 기판이 처리 장치 내에 구비되어 있을 경우, 이송 롤러는 처리 장치에 공급되는 약액에 노출된다. 현상 공정을 수행하는 처리 장 치의 경우를 예를 들면, 이송 롤러는 처리되는 기판과 함께 현상액에 노출되며, 그에 따라 이송 롤러의 표면에도 현상액이 잔류하게 된다. 나아가, 현상 공정을 수행하는 처리 장치 내에 뿐만 아니라, 처리 장치 외부에 위치하는 이송 롤러의 경우에도 기판에 묻어 있는 현상액이 이송 롤러로 전사되어 이송 롤러 표면에 잔류할 수 있다. By the way, when the said transfer roller is equipped with the board | substrate in a processing apparatus, a transfer roller is exposed to the chemical liquid supplied to a processing apparatus. For example, in the case of a processing apparatus that performs the developing process, the transfer roller is exposed to the developing solution together with the substrate to be processed, so that the developing solution remains on the surface of the transfer roller. Furthermore, not only in the processing apparatus which performs the developing process but also in the case of the conveying roller located outside the processing apparatus, the developing solution buried in the board | substrate may be transferred to a conveying roller, and may remain on the conveying roller surface.

이송 롤러 표면에 장시간 동안 잔류하는 현상액은 이송 롤러의 표면을 손상시키는 원인이 된다. 또, 이송 롤러 표면의 현상액은 때때로 경화되어 이송 롤러의 표면을 불균일하게 만들 수 있다. 이와 같이 이송 롤러의 표면이 손상되거나, 불균일해지게 되면, 다수개의 이송 롤러가 기판을 평탄하게 지지하면서 이송하는 것이 어려워지게 된다. 그 결과, 기판 이송 불량이 초래될 수 있다. The developer remaining on the surface of the transfer roller for a long time causes damage to the surface of the transfer roller. In addition, the developer on the surface of the conveying roller may sometimes be hardened to make the surface of the conveying roller uneven. If the surface of the conveying roller is damaged or becomes uneven in this way, it becomes difficult for the plurality of conveying rollers to convey the substrate while flatly supporting it. As a result, substrate transfer failure may result.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이송 롤러 표면에 장시간의 약액 잔류가 억제된 기판 이송 장치를 제공하고자 하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to provide a substrate transfer apparatus in which the residual chemical liquid is suppressed for a long time on the surface of the transfer roller.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. Technical problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치는 회전 샤프트, 상기 회전 샤프트에 설치된 복수의 이송 롤러, 및 상기 이송 롤러의 아래에 배치된 클리닝 박스를 포함한다.A substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention for achieving the above technical problem includes a rotary shaft, a plurality of transfer rollers installed on the rotary shaft, and a cleaning box disposed below the transfer roller.

본 발명의 몇몇 실시예에서, 상기 클리닝 박스는 세정 용액을 포함할 수 있다. In some embodiments of the invention, the cleaning box may comprise a cleaning solution.

또한, 상기 이송 롤러는 적어도 일부분이 상기 세정 용액과 접촉하면서 회전할 수 있다. In addition, the transfer roller may be rotated while at least a portion thereof contacts the cleaning solution.

그리고, 상기 회전 샤프트는 복수개로서, 각각 제1 방향으로 서로 평행하게 배치되어 있고, 상기 클리닝 박스는 복수개로서, 각각 상기 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장되어 있을 수 있다. In addition, the plurality of rotating shafts may be arranged in parallel to each other in a first direction, and the plurality of cleaning boxes may extend in a second direction perpendicular to the first direction.

나아가, 상기 각 클리닝 박스의 상기 세정 용액은 상기 서로 다른 회전 샤프트에 설치된 이송 롤러와 접촉할 수 있다.Furthermore, the cleaning solution of each cleaning box may be in contact with a transfer roller installed on the different rotary shafts.

본 발명의 몇몇 실시예에서, 상기 세정액은 초순수일 수 있다.In some embodiments of the present invention, the cleaning liquid may be ultrapure water.

본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 이송 장치는 상기 클리닝 박스에 상기 세정 용액을 공급하는 유체 공급관, 및 상기 클리닝 박스로부터 상기 세정 용액을 배출하는 유체 배수관을 더 포함할 수 있다.The substrate transfer apparatus according to some embodiments of the present invention may further include a fluid supply pipe for supplying the cleaning solution to the cleaning box, and a fluid drain pipe for discharging the cleaning solution from the cleaning box.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알 려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

본 명세서에서는 본 발명에 따른 기판 이송 장치가 적용되는 기판으로서 투명한 유리, 플라스틱 등으로 이루어진 평판 디스플레이 장치용 기판이 예시된다. 그러나, 이에 제한되는 것은 아니며, 반도체 기판이나 기타 물리적 이송이 필요한 다양한 기판들에도 적용될 수 있음은 물론이다. In the present specification, a substrate for a flat panel display device made of transparent glass, plastic, or the like is exemplified as a substrate to which the substrate transfer device according to the present invention is applied. However, the present invention is not limited thereto, and may be applied to a semiconductor substrate or various substrates requiring physical transfer.

이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치에 대해 설명한다. Hereinafter, a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 개략적인 평면도이다. 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 자른 단면도이다. 1 is a schematic plan view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II ′ of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 기판 이송 장치(10)는 회전 샤프트(100), 복수의 이송 롤러(110) 및 클리닝 박스(200)를 포함한다. 1 and 2, the substrate transfer apparatus 10 includes a rotating shaft 100, a plurality of transfer rollers 110, and a cleaning box 200.

회전 샤프트(100)의 개수는 복수일 수 있다. 복수개의 회전 샤프트(100)는 각각 제1 방향(y)으로 서로 평행하게 배치될 수 있다. The number of the rotating shaft 100 may be a plurality. The plurality of rotation shafts 100 may be arranged in parallel with each other in the first direction y.

각 회전 샤프트(100)에는 복수의 이송 롤러(110)가 설치되어 있다. 각 이송 롤러(110)들은 회전 샤프트(100)에 예컨대, 고정 설치됨으로써, 회전 샤프트(100)의 회전에 따라 회전 운동할 수 있다. Each rotating shaft 100 is provided with a plurality of feed rollers 110. Each of the conveying rollers 110 may be rotated in accordance with the rotation of the rotating shaft 100, for example, by being fixedly installed on the rotating shaft 100.

각 이송 롤러(110)들의 예시적인 설치예는 각 회전 샤프트(100)에 모두 동수의 이송 롤러(110)가 동일한 간격으로 설치된 것을 포함한다. 이 경우, 서로 다른 회전 샤프트(100)에 설치되어 있는 이송 롤러(110)들은 도 1에 도시되어 있는 바와 같이, 제1 방향(y)에 수직인 제2 방향(x)을 따라 연장하는 가상의 직선 상에 실질적으로 정렬되어 배열될 수 있다. An exemplary installation example of each of the conveying rollers 110 includes the same number of the conveying rollers 110 installed at the same intervals on each of the rotating shafts 100. In this case, as illustrated in FIG. 1, the conveying rollers 110 installed on different rotation shafts 100 may extend in a second direction x perpendicular to the first direction y. It can be arranged substantially aligned on a straight line.

클리닝 박스(200)는 이송 롤러(110)들 아래에 위치한다. 클리닝 박스(200)의 개수는 도 1에 도시된 바와 같이 복수일 수 있다. 이때, 각 클리닝 박스(200)는 제2 방향(x)을 따라 연장되어 있을 수 있다. 하나의 클리닝 박스(200)는 상술한 제2 방향(x)을 따라 연장하는 하나의 가상의 직선 상에 배열되어 있는 이송 롤러(110)들에 대응되도록 배치될 수 있다. The cleaning box 200 is located under the transfer rollers 110. The number of cleaning boxes 200 may be plural as shown in FIG. 1. In this case, each of the cleaning boxes 200 may extend along the second direction x. One cleaning box 200 may be disposed to correspond to the transfer rollers 110 arranged on one virtual straight line extending along the above-described second direction x.

각 클리닝 박스(200)는 세정 용액(250)을 포함한다. 세정 용액(250)은 이송 롤러(110)에 잔류할 수 있는 현상액(280) 등과 같은 약액을 제거하는 역할을 한다. 따라서, 클리닝 박스(200)의 위치 및 그에 포함되는 세정 용액(250)의 수위는 이송 롤러(110)의 적어도 일부분이 세정 용액(250)과 접촉하는 범위 내에서 결정될 수 있다.Each cleaning box 200 includes a cleaning solution 250. The cleaning solution 250 serves to remove a chemical solution such as a developer 280 that may remain on the transfer roller 110. Therefore, the position of the cleaning box 200 and the level of the cleaning solution 250 included therein may be determined within a range in which at least a portion of the transfer roller 110 contacts the cleaning solution 250.

도 3은 이송 롤러가 세정 용액에 의해 세정되는 방법을 설명하기 위한 단면도이다. 이송 롤러(110)의 적어도 일부분은 세정 용액(250)에 담그어져 세정 용액(250)과 접촉하면서 회전하도록 배치된다. 도 3은 이송 롤러(110)의 하부의 일부분이 세정 용액(250)에 담그어지는 디핑 영역인 경우를 예시한다. 3 is a cross-sectional view for explaining how the transfer roller is cleaned by the cleaning solution. At least a portion of the transfer roller 110 is disposed to rotate while being immersed in the cleaning solution 250 and in contact with the cleaning solution 250. 3 illustrates a case where a portion of the lower portion of the transfer roller 110 is a dipping area immersed in the cleaning solution 250.

회전 샤프트(100)의 회전에 의해 이송 롤러(110)가 회전하게 되면, 세정 용액(250)보다 위쪽에 위치하였던 이송 롤러(110)의 표면이 디핑 영역으로 진입하였다가 다시 회전하여 세정 용액(250)의 위쪽으로 빠져나오게 된다. 디핑 영역으로 진입하기 전의 이송 롤러(110)의 표면은 현상액(280) 등에 노출되거나, 기판(20)에 묻어 있던 현상액(280) 등이 전사됨으로써, 현상액(280)이 잔류할 수 있지만, 디핑 영역으로 진입하게 되면 세정 용액(250)에 의해 세척되어 제거된다. 이송 롤러(110)가 회전하는 이상, 이송 롤러(100) 표면에 현상액(280)이 잔류하는 시점부터 이송 롤러(100) 표면이 디핑 영역에 진입하여 현상액(280)이 세정 용액(250)에 접촉하기까지 비교적 단시간이 소요됨은 자명하다. 즉, 현상액(280)이 이송 롤러(110)의 표면과 반응하여 표면을 손상시키거나, 이송 롤러(110)의 표면에서 경화될 만한 충분한 시간이 제공되지 않는다. 오히려, 그 이전에 현상액(280)이 세정 용액(250)에 의해 쉽게 제거될 수 있다. 도 3은 디핑 영역을 빠져 나온 이송 롤러(110)의 표면에서 현상액(280)이 제거된 경우를 예시하고 있다.When the transfer roller 110 is rotated by the rotation of the rotating shaft 100, the surface of the transfer roller 110, which is located above the cleaning solution 250, enters the dipping area and rotates again to rotate the cleaning solution 250. Will escape upward). Although the surface of the transfer roller 110 before entering the dipping area is exposed to the developer 280 or the like, or the developer 280 or the like that is buried in the substrate 20 is transferred, the developer 280 may remain, but the dipping area Upon entering, it is washed and removed by the cleaning solution 250. As long as the transfer roller 110 rotates, the surface of the transfer roller 100 enters the dipping area from the time when the developer 280 remains on the surface of the transfer roller 100, and the developer 280 contacts the cleaning solution 250. It is obvious that it takes a relatively short time to get there. That is, sufficient time is not provided for the developer 280 to react with the surface of the transfer roller 110 to damage the surface or to harden at the surface of the transfer roller 110. Rather, the developer 280 can be easily removed by the cleaning solution 250 before that. 3 illustrates a case where the developer 280 is removed from the surface of the transfer roller 110 exiting the dipping area.

상기의 관점에서 세정 용액(250)으로서 적용될 수 있는 용액은 이송 롤러(110)에 접촉하더라도 이송 롤러(110)의 표면을 변형하거나 손상하지 않고, 이송 롤러(110)의 표면에서 경화되지 않는 용액일 수 있다. 세정 용액(250)의 구체적인 예로는 초순수를 들 수 있지만, 이에 제한되지 않음은 물론이다.In view of the above, the solution that can be applied as the cleaning solution 250 may be a solution that does not deform or damage the surface of the conveying roller 110 even when it comes into contact with the conveying roller 110, and which does not harden on the surface of the conveying roller 110. Can be. Specific examples of the cleaning solution 250 may include, but are not limited to, ultrapure water.

클리닝 박스(200)에 포함된 세정 용액(250)에 의해 이송 롤러(110) 표면의 현상액(280)을 계속하여 반복적으로 제거하다 보면, 세정 용액(250) 내에 현상액(280)이 용해되어 누적된다. 누적된 현상액(280)은 이송 롤러(110)를 재오염시킬 수 있다. 따라서, 때때로 사용된 세정 용액(250)을 교체할 필요성이 있다. 이를 위하여, 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치는 도 2에 도시된 바와 같이 클리닝 박스(200)에 세정 용액(250)을 공급하는 유체 공급관(210) 및 클리닝 박스(200)로부터 세정 용액(250)을 배출하는 유체 배수관(220)을 더 포함할 수 있다. 경우에 따라서는 유체 공급관과 유체 배수관은 하나의 유체 공급/배수관으로 통합되어 적용될 수 있다.When the developer 280 on the surface of the transfer roller 110 is repeatedly removed by the cleaning solution 250 included in the cleaning box 200, the developer 280 is dissolved and accumulated in the cleaning solution 250. . The accumulated developer 280 may recontaminate the transfer roller 110. Thus, there is a need to replace the cleaning solution 250 that is sometimes used. To this end, the substrate transfer apparatus according to some embodiments of the present invention cleans from the fluid supply pipe 210 and the cleaning box 200 for supplying the cleaning solution 250 to the cleaning box 200 as shown in FIG. 2. The apparatus may further include a fluid drain pipe 220 for discharging the solution 250. In some cases, the fluid supply pipe and the fluid drain pipe may be integrated into one fluid supply / drain pipe.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치(10)는 상기한 바와 같은 회전 샤프트(100), 이송 롤러(110), 및 클리닝 박스(200)를 수용하는 챔버(300)를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 회전 샤프트(100)를 회전 구동시키는 구동 기어(400)는 챔버(300) 외부에 배치될 수 있으며, 구동 기어(400)에 대향하는 회전 샤프트(100)의 일측 말단에는 마그네틱 기어(120)가 구비될 수 있다. 이러한 구동 기어(400) 및 마그네틱 기어(120)에 의해 회전 샤프트(100)를 구동하는 구성 요소들 및 그 구체적인 방법은 본 기술 분야에서 공지되어 있으므로, 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 방지하기 위하여 상세한 설명은 생략한다.On the other hand, the substrate transfer apparatus 10 according to an embodiment of the present invention further includes a chamber 300 for receiving the rotary shaft 100, the transfer roller 110, and the cleaning box 200 as described above. Can be. In this case, the drive gear 400 for rotationally driving the rotary shaft 100 may be disposed outside the chamber 300, the magnetic gear 120 at one end of the rotary shaft 100 opposite to the drive gear 400. ) May be provided. Components for driving the rotary shaft 100 by such a drive gear 400 and the magnetic gear 120 and the specific method thereof are known in the art, so in order to prevent the invention from being ambiguously interpreted in detail Description is omitted.

이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.As mentioned above, embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the above embodiments, but can be manufactured in various forms, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. Those skilled in the art will appreciate that the present invention may be embodied in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

상술한 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치에 의하면, 이송 롤러 표면의 잔류할 수 있는 약액들이 클리닝 박스의 세정 용액에 의해 제거되므로, 이송 롤러 표면이 약액에 의해 손상되거나 불균일해지는 것을 방지할 수 있 다. 따라서, 기판 이송 불량을 감소시킬 수 있다. As described above, according to the substrate transfer apparatus according to the exemplary embodiment of the present invention, since the remaining chemical liquids on the surface of the transfer roller are removed by the cleaning solution of the cleaning box, the surface of the transfer roller may be damaged or uneven by the chemical liquid. This can be prevented. Therefore, substrate transfer failure can be reduced.

Claims (7)

회전 샤프트;Rotating shaft; 상기 회전 샤프트에 설치된 복수의 이송 롤러; 및A plurality of feed rollers installed on the rotating shaft; And 상기 이송 롤러의 아래에 배치된 클리닝 박스를 포함하는 기판 이송 장치.And a cleaning box disposed under the transfer roller. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 클리닝 박스는 세정 용액을 포함하는 기판 이송 장치.And the cleaning box includes a cleaning solution. 제2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 이송 롤러는 적어도 일부분이 상기 세정 용액과 접촉하면서 회전하는 기판 이송 장치.And the transfer roller rotates while at least a portion thereof contacts the cleaning solution. 제3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 회전 샤프트는 복수개로서, 각각 제1 방향으로 서로 평행하게 배치되어 있고,The rotating shaft is a plurality, arranged in parallel with each other in the first direction, 상기 클리닝 박스는 복수개로서, 각각 상기 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장되어 있는 기판 이송 장치.And a plurality of cleaning boxes, each of which extends in a second direction perpendicular to the first direction. 제4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 각 클리닝 박스의 상기 세정 용액은 상기 서로 다른 회전 샤프트에 설치된 이송 롤러와 접촉하는 기판 이송 장치.And the cleaning solution of each cleaning box is in contact with a transfer roller installed on the different rotary shafts. 제3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 세정 용액은 초순수인 기판 이송 장치.And the cleaning solution is ultrapure water. 제2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 클리닝 박스에 상기 세정 용액을 공급하는 유체 공급관; 및 A fluid supply pipe for supplying the cleaning solution to the cleaning box; And 상기 클리닝 박스로부터 상기 세정 용액을 배출하는 유체 배수관을 더 포함하는 기판 이송 장치.And a fluid drain pipe for discharging the cleaning solution from the cleaning box.
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