KR20080062776A - 포토공정 시스템 및 그의 운용방법 - Google Patents

포토공정 시스템 및 그의 운용방법 Download PDF

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Abstract

불량 발생을 최소화할 수 있는 포토공정 시스템이 개시된다.
본 발명에 따른 포토공정 시스템은 포토 레지스트를 기판 상에 코팅하는 코팅부와, 상기 코팅부로부터 포토 레지스트가 코팅된 기판을 제공받아 상기 포토 레지스트의 용제를 제거하는 베이커부와, 상기 베이커부의 후공정 위치에 구비되며, 인-포트와 아웃-포트를 구비하여 상기 인-포트로부터 상기 베이커부로부터 반출된 기판을 제공받아 원하는 패턴으로 노광하여 상기 아웃-포트로 반출하는 노광부 및 상기 노광부의 후공정 위치에 구비되며, 상기 원하는 패턴으로 노광된 기판을 제공받아 현상액으로 현상하는 현상부를 포함하고, 상기 노광부의 인-포트와 인접하며 일정 각도로 회전되어 상기 베이커부로부터 반출된 기판을 상기 노광부의 인-포트로 이동시키는 제 1 회전수단 및 상기 노광부의 아웃-포트와 인접하며 일정 각도로 회전되어 상기 현상부로 원하는 패턴으로 노광된 기판을 이동하는 제 2 회전수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.
포토공정, 노광기, 현상기, 회전장치

Description

포토공정 시스템 및 그의 운용방법{Photo lithography process system and method application of the same}
도 1은 종래의 포토공정 시스템을 나타낸 도면.
도 2는 본 발명에 따른 포토공정 시스템을 나타낸 도면.
도 3은 도 2의 포토공정 시스템의 동작을 순서대로 나타낸 순서도.
<도면의 주요부분에 대한 간단한 설명>
100:포토공정 시스템 110:세정기
114:코팅기 118:진공 건조기
122:프리 베이커부 126:노광기
126a:로봇 130:현상기
134:패턴 검사기 138:쿨링기
142:오븐기 146a, 146b:제 1 및 제 2 회전장치
150a ~ 150e:제 1 내지 제 5 로봇
본 발명은 포토공정 시스템에 관한 것으로, 특히 불량발생을 최소화할 수 있 는 포토공정 시스템 및 그의 운용방법에 관한 것이다.
일반적으로, 액정표시장치는 저전압 구동, 저소비 전력, 풀 칼라 구현, 경박 단소 등의 특징을 가지며, 시계, 계산기, PC용 모니터, 노트북 등으로부터 항공용 모니터, 개인 휴대용 단말기 등에 다양하게 적용되고 있다. 이러한 액정표시장치는 크게 화상을 표시하는 액정패널과 상기 액정패널을 구동하는 구동 회로부로 나누어진다. 여기서, 상기 액정패널은 박막트랜지스터 어레이가 형성된 제 1 기판, 컬러필터 어레이가 형성된 제 2 기판 그리고 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 형성된 액정층으로 이루어진다.
상기 박막트랜지스터 어레이가 형성된 제 1 기판에는, 일정 간격을 가지고 일 방향으로 배열되는 복수의 게이트라인, 화소영역을 정의하기 위하여 상기 게이트라인에 교차하여 배열된 복수의 데이터라인, 상기 화소영역에 형성되어 화상을 표시하는 복수의 화소 전극, 상기 게이트라인과 데이터라인이 교차하는 부분의 화소영역에 형성되며, 상기 게이트라인의 구동신호에 의해 온/오프 되어 상기 데이터라인의 화상 신호를 각 화소전극에 전달하는 복수의 박막트랜지스터가 구비된다.
상기 컬러필터 어레이가 형성된 제 2 기판에는, 상기 화소 영역을 제외한 부분에 빛을 차단하는 블랙 매트릭스층, 상기 화소영역에 상응하는 부분에 형성되어 색상을 구현하는 R, G, B 컬러필터층, 그리고 상기 컬러필터층을 포함한 전면에 형성된 공통전극이 구비된다. 물론, 횡전계(IPS) 모드의 액정패널에서는 상기 공통전극이 상기 제 1 기판에 형성되기도 한다.
상기와 같이 구성되는 액정표시장치의 제조공정은, 기판 상에 배선패턴이나 박막트랜지스터(TFT)등의 스위칭 소자등을 형성하는 어레이 공정, 배향처리나 스페이서 배치 및 대향하는 기판 사이에 액정을 봉입하는 셀 공정, 그리고 드라이버 IC의 부착이나 백라이트 유닛 장착 등을 하는 모듈(Module) 공정에 의하여 제작된다.
상기 액정표시장치는 전술한 바와 같이, 어레이 공정, 셀 공정 그리고 모듈 공정에 의하여 제작되며, 상기 어레이 공정은 상기 기판 상부에 패턴을 형성시키는 포토공정(Photo lithography)과 식각공정을 포함하여 이루어진다. 상기 포토공정은 상기 기판 위에 형성하고자 하는 패턴물질과 감광성수지(Photo Resist:이하 P이라 함)를 일정한 두께로 증착하는 코팅공정, 상기 PR이 도포된 기판과 원하는 패턴이 그려져 있는 마스크를 정렬시키고, 상기 정렬된 마스크 위에 광원을 비추어 상기 PR을 감광시키는 노광공정, 상기 선택적으로 감광된 PR을 현상액을 이용하여 선택적으로 녹임으로써, PR 패턴을 형성시키는 현상공정을 포함하여 이루어진다.
도 1은 종래의 포토공정 시스템을 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 포토공정 시스템(1)은 크게 기판상에 PR을 코팅하는 코팅기(14)와, 상기 기판의 코팅된 PR을 노광시키는 노광기(26)와, 현상기(30)로 이루어져 있다.
상기 포토공정 시스템(1)은 상기 코팅기(14)에 의한 코팅 공정의 전에 상기 포토공정 시스템에 투입된 기판을 세정하는 세정기(10)와 열을 가하여 잔여 세정액을 제거하는 건조장치(미도시)를 포함한다. 또한, 상기 포토공정 시스템(1)은 상기 코팅기(14)와 노광기(26) 사이에 위치하며 상기 코팅기(14)로부터 PR이 코팅된 기판을 진공 건조시키는 진공 건조기(18)와, 노광공정 전에 가열에 의하여 상기 코팅 된 PR의 용제(Solvent:이하 솔벤트)를 제거하는 프리 베이커부(22)를 포함한다. 그리고 상기 포토공정 시스템(1)은 상기 현상기(30)에서 기판이 현상된 후에 상기 기판 상에 현상된 패턴을 검사하는 패턴 검사기(34)와 상기 현상된 기판을 열처리 하는 오븐기(38) 및 상기 오븐기(38)에서 열처리된 기판을 식혀주는 쿨링기(42)를 더 포함한다.
상기 포토공정 시스템(1)의 동작은 다음과 같다.
먼저, 상기 포토공정 시스템(1)에 단위패널들이 형성된 기판이 투입되면, 상기 세정기(10)에서 이물질이 제거된후, 상기 건조장치(미도시)로 투입되어 가열에 의해 상기 기판 상의 잔여 세정액이 제거된다. 상기와 같이 이물질이 제거된 기판은 제 1 로봇(50a)에 의해 상기 코팅기(14)로 이동된다. 상기 코팅기(14)로 이동된 기판은 상기 코팅기(14)에서 PR로 코팅된 후, 제 2 로봇(50b)을 통해 상기 진공 건조기(18)로 이동한다. 상기 진공 건조기(18)로 이동된 기판은 진공 건조된 후 제 3 로봇(50c)에 의해 상기 프리 베이커부(22)로 이동한다. 상기 프리 베이커부(22)로 이동된 기판은 가열에 의해 상기 기판상에 코팅된 PR내의 솔벤트를 제거하는 공정을 거친다.
다음으로, 상기 프리 베이커부(22)에서 PR내의 솔벤트가 제거된 기판은 상기 제 3 로봇(50c)에 의해 회전장치(46)로 이동한다. 상기 회전장치(46)는 상기 프리 베이커부(22)로부터 PR내의 솔벤트가 제거된 기판을 상기 노광기(26) 앞에 위치한 제 4 로봇(50d)으로 이동시키는 역할을 한다.
상기 제 3 로봇(50c) 및 프리 베이커부(22)로부터 상기 회전장치(46)로 이동 한 기판은 상기 회전장치(46)가 상기 제 4 로봇(50d) 쪽으로 일정각도 회전됨에 따라 상기 제 4 로봇(50d)으로 이동된다.
상기 제 4 로봇(50d)으로 이동된 기판은 상기 제 4 로봇(50d)에 의해 상기 노광기(26)의 투입구 쪽으로 이동된다. 상기 노광기(26)로 이동된 기판은 상기 노광기(26)에서 상기 기판 상에 코팅된 PR을 노광시키는 공정을 거친다. 상기 노광기(26)에서 PR을 노광시키는 공정을 거친 기판은 상기 노광기(26)의 투입구 앞에 위치한 상기 제 4 로봇(50d)으로 다시 이동하게 된다. 상기 노광기(26)로부터 반출된 기판을 지지한 제 4 로봇(50d)은 상기 현상기(46) 쪽으로 주행한다. 상기 현상기(46) 쪽으로 주행한 제 4 로봇(50d)은 상기 제 4 로봇(50d)에 지지된 기판을 상기 현상기(46)로 이동시킨다. 상기 현상기(46)로 이동된 기판은 현상액에 의하여 현상된 후 제 5 로봇(50e)에 의해 상기 패턴 검사기(34)와 오븐기(38) 또는 쿨링기(42)를 거쳐 상기 포토공정 시스템에서 인출된다.
한편, 상기 제 4 로봇(50d)이 기판을 지지한채 상기 노광기(26)와 상기 현상기(30) 사이를 주행함에 따라 주행하는 과정에서 이물질이 발생하는 경우가 종종 발생된다. 상기 이물질이 상기 제 4 로봇(50d)에 지지된 기판상에 부착되면 상기 기판의 불량을 초래하게 된다. 또한, 이물질이 부착된 기판을 확인 할 수가 없기 때문에 최종적으로 포토공정 시스템(1)에서 인출된 기판을 보고 불량을 판별해야 하는 어려움이 발생하게 된다. 따라서, 이물질을 최소화 하기 위한 포토공정 시스템에 대한 연구가 시급하다.
본 발명은 불량발생을 최소화할 수 있는 포토공정 시스템 및 그의 운용방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 포토공정 시스템은 포토 레지스트를 기판 상에 코팅하는 코팅부와, 상기 코팅부로부터 포토 레지스트가 코팅된 기판을 제공받아 상기 포토 레지스트의 용제를 제거하는 베이커부와, 상기 베이커부의 후공정 위치에 구비되며, 인-포트와 아웃-포트를 구비하여 상기 인-포트로부터 상기 베이커부로부터 반출된 기판을 제공받아 원하는 패턴으로 노광하여 상기 아웃-포트로 반출하는 노광부 및 상기 노광부의 후공정 위치에 구비되며, 상기 원하는 패턴으로 노광된 기판을 제공받아 현상액으로 현상하는 현상부를 포함하고, 상기 노광부의 인-포트와 인접하며 일정 각도로 회전되어 상기 베이커부로부터 반출된 기판을 상기 노광부의 인-포트로 이동시키는 제 1 회전수단 및 상기 노광부의 아웃-포트와 인접하며 일정 각도로 회전되어 상기 현상부로 원하는 패턴으로 노광된 기판을 이동하는 제 2 회전수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 포토 공정 시스템의 운용방법은 기판 상에 포토 레지스트를 형성하는 단계와, 상기 포토 레지스트가 형성된 기판을 진공건조하는 단계와, 상기 진공건조 단계를 거친 기판을 제 1 회전장치로 이동하는 단계와, 상기 제 1 회전장치 상에 지지되어 이동된 기판을 노광하여 반출하는 단계와, 상기 노광하여 반출된 기판을 제 2 회전장치로 이동하는 단계 및 상기 제 2 회전장치 상에 지지되어 이동된 기판을 현상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 설명한다.
일반적으로 기판상에 소정의 패턴을 형성하기 위한 포토 공정(Photo Lithography)은 포토공정 시스템에 의하여 진행된다. 상기 포토공정은 코팅기에 의하여 소정의 패턴물질과 PR이 일정한 두께로 상기 기판 상에 도포된다. 여기서, 상기 패턴물질은 상기 기판과 상기 PR 사이에 형성된다. 물론, 상기 패턴이 컬럼 스페이서와 같이 갭 유지 이외에 특별한 기능, 예를 들면 전기적 기능을 하지 아니하는 경우에는 상기 PR만이 코팅되어 상기 PR로 패턴을 형성할 수도 있다.
상기와 같이 패턴 물질과 PR(또는 PR만)이 형성된 기판은 노광기로 투입되어 노광공정이 이루어지게 된다. 상기 노광공정은 원하는 패턴이 그려져 있는 마스크를 상기 PR이 도포된 유리기판의 상부에 정렬시키고, 상기 정렬된 마스크 위에서 광원을 조사하여, 상기 PR을 선택적으로 감광시키는 공정이다. 이와 같이 상기 노광기에 의해 상기 PR이 노광된 기판은 현상기로 투입된다. 상기 현상기로 투입된 기판의 상부, 즉 상기 PR의 상부에는 노즐에 의하여 분사된 현상액이 도포되어 상기 마스크에 의해 형성된 패턴으로 상기 PR이 선택적으로 용해된다.
도 2는 본 발명에 따른 포토공정 시스템을 나타낸 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 포토공정 시스템(100)은 크게 기판상에 PR을 코팅하는 코팅기(114)와, 상기 기판의 코팅된 PR을 노광시키는 노광기(126)와, 현상기(130)로 이루어져 있다.
보다 상세하게 설명하면, 상기 포토공정 시스템(100)은 상기 코팅기(114)에 의한 코팅 공정의 전에 상기 포토공정 시스템에 투입된 기판을 세정하는 세정기(110)와 열을 가하여 잔여 세정액을 제거하는 건조장치(미도시)를 포함한다. 상기 포토공정 시스템(100)은 상기 코팅기(114)와 노광기(126) 사이에 위치하며 상기 코팅기(114)로부터 PR이 코팅된 기판을 진공 건조시키는 진공 건조기(118)와, 노광공정 전에 가열에 의하여 상기 코팅된 PR의 용제(Solvent:이하 솔벤트)를 제거하는 프리 베이커(122)를 포함한다. 그리고 상기 포토공정 시스템(100)은 상기 현상기(130)에서 기판이 현상된 후에 상기 기판 상에 현상된 패턴을 검사하는 패턴 검사기(134)와 상기 현상된 기판을 열처리 하는 오븐기(138) 및 상기 오븐기(138)에서 열처리된 기판을 식혀주는 쿨링기(142)를 더 포함한다.
상기 노광기(126)에는 기판이 투입되는 인-포트, 기판이 인출되는 아웃-포트 그리고 상기 인-포트의 기판을 상기 노광기(126) 내부의 기판 안착부(미도시)에 투입하고, 노광이 완료된 기판을 상기 아웃-포트로 인출하는 로봇(126a)이 구비된다.
또한, 상기 포토공정 시스템(100)은 상기 노광기(126)의 일측 및 타측면에 위치하며 일정각도로 회전이 가능한 제 1 및 제 2 회전장치(146a, 146b)와, 기판을 이전 공정에서 다음 공정으로 이동시키기 위한 복수의 로봇들(150a ~ 150e)을 더 포함한다.
상기 복수의 로봇들(150a ~ 150e) 중 제 1 로봇(150a)은 상기 세정기(110)와 상기 코팅기(114) 사이에 위치하며 상기 세정기(110)에 의해 세정된 기판이 다음 공정을 수행하도록 상기 기판을 상기 코팅기(114)로 이동하는 역할을 한다. 상기 복수의 로봇들(150a ~ 150e) 중 제 2 로봇(150b)은 상기 코팅기(114)와 상기 진공 건조기(118) 사이에 위치하며 상기 코팅기(114)에 의해 포토 레지스트(PR)가 코팅된 기판이 다음 공정을 수행하도록 상기 기판을 상기 진공 건조기(118)로 이동하는 역할을 한다. 상기 복수의 로봇들(150a ~ 150e) 중 제 3 로봇(150c)은 상기 진공 건조기(118)와 상기 프리 베이커(122) 사이에 위치하며 상기 진공 건조기(118)에 의해 건조된 기판이 다음 공정을 수행하도록 상기 기판을 상기 프리 베이커(122)로 이동하는 역할을 한다.
또한, 상기 복수의 로봇들(150a ~ 150e) 중 제 4 로봇(150d)은 상기 프리 베이커(122)와 상기 노광기(126) 사이에 위치하며 상기 프리 베이커부(122)에 의해 상기 포토 레지스트(PR) 내의 솔벤트가 제거된 기판이 다음 공정을 수행하도록 상기 기판을 상기 노광기(126)로 이동하는 역할을 한다.
상기 복수의 로봇들(150a ~ 150e) 중 제 5 로봇(150e)은 상기 현상기(130)와 오븐기(142) 사이에 위치하여 상기 현상기(130)에 의해 현상된 기판이 다음 공정을 수행하도록 상기 기판을 상기 오븐기(142)로 이동하는 역할을 한다. 상기 복수의 로봇들(150a ~ 150e)은 제 1 및 제 2 회전장치(146a, 146b)의 동작으로 인해 주행을 하지 않은 채, 이전 공정을 거친 기판을 다음 공정으로 이동시킨다.
이때, 상기 제 4 로봇(150d)은 상기 프리 베이커부(122)에서 반출된 기판을 상기 제 4 로봇(150d)과 인접해 있는 제 1 회전장치(146a)로 반송한다. 상기 제 1 회전장치(146a)는 기판을 지지한채 상기 노광기(126)의 인-포트 쪽으로 일정각도 회전된다. 상기 제 1 회전장치(146a)가 상기 노광기(126)의 인-포트 쪽으로 회전됨에 따라 상기 제 1 회전장치(146a)에 지지된 기판이 상기 노광기(126)의 인-포트로 이동된다. 상기 노광기(126)의 인-포트로 이동된 기판은 상기 로봇(126a)에 의해 상기 노광기(126) 내의 노광장치로 이동하여 노광 공정을 거치게 된다. 상기 노광 공정을 거친 기판은 상기 로봇(126a)에 의해 상기 노광기(126)의 아웃-포트로 이동된다. 상기 노광기(126)의 아웃-포트로 이동한 기판은 상기 아웃-포트와 인접한 제 2 회전장치(146b)로 이동된다.
상기 제 2 회전장치(146b)는 기판을 지지한채, 상기 현상기(130) 쪽으로 일정각도 회전된다. 상기 제 2 회전장치(146b)가 상기 현상기(130) 쪽으로 회전됨에 따라 상기 제 2 회전장치(146b)에 지지된 기판이 상기 현상기(130) 쪽으로 이동되어 현상 공정을 거치게 된다.
상기 포토공정 시스템(100)의 동작은 다음과 같다.
먼저, 상기 포토공정 시스템(100)에 단위패널들이 형성된 기판이 투입되면, 상기 세정기(110)에서 상기 기판의 이물질을 제거한다. 상기 세정기(110)에 의해 이물질이 제거된 기판은 도시되지 않은 건조장치로 투입된다. 상기 건조장치로 투입된 기판은 상기 건조장치 내에서 가열되고, 이로인해 상기 기판 상의 남아있을지 모르는 잔여 세정액이 제거된다. 상기와 같이 이물질이 제거된 기판은 제 1 로봇(150a)에 의해 상기 코팅기(114)로 이동된다.
상기 코팅기(114)로 이동된 기판은 상기 코팅기(114)에서 포토 레지스트(PR)가 코팅된다. 상기 코팅기(114)에서 포토 레지스트(PR)가 코팅된 기판은 제 2 로봇(150B)에 의해 상기 진공 건조기(118)로 이동된다. 상기 진공 건조기(118)로 이동된 기판은 진공 건조된 후 제 3 로봇(150c)에 의해 상기 프리 베이커(122)로 이 동한다. 이때, 상기 진공 건조기(118)는 대략 3토르(torr) 정도의 저진공 상태로 단시간 동안 건조가 진행되도록 설정될 수 있다. 상기 프리 베이커부(122)로 이동된 기판은 가열에 의해 상기 기판 상에 코팅된 포토 레지스트(PR)내의 솔벤트를 제겅하는 공정을 거친다.
다음으로, 상기 프리 베이커부(122)에서 포토 레지스트(PR) 내의 솔벤트가 제거된 기판은 상기 제 4 로봇(150d)에 이동되어 상기 노광기(126)의 인-포트에 인접한 상기 제 1 회전장치(146a)로 이동된다. 상기 제 1 회전장치(146a)는 상기 노광기(126)의 인-포트 쪽으로 일정각도 회전하여 상기 제 1 회전장치(146a) 상에 지지된 기판을 상기 노광기(126)의 인-포트로 이동시킨다. 상기 노광기(126)의 인-포트로 이동된 기판은 상기 노광기(126) 내의 로봇(126a)에 의해 노광장치로 이동되어 노광공정을 거치게 된다.
상기 노광기(126)의 노광장치에 의해 포토 레지스트(PR)가 노광된 기판은 다시 로봇(126b)에 의해 상기 노광기(126)의 아웃-포트 쪽으로 이동된다. 상기 노광기(126)의 아웃-포트 쪽으로 이동한 기판은 상기 노광기(126)의 아웃-포트와 인접한 제 2 회전장치(146b)로 이동된다. 상기 제 2 회전장치(146b)는 상기 노광기(126)의 아웃-포트 쪽으로부터 기판이 반출되면 상기 기판을 지지한 채, 상기 현상기(130) 쪽으로 일정각도 회전하여 지지한 기판을 상기 현상기(130)로 이동시킨다. 상기 현상기(130)로 이동된 기판은 현상액에 의하여 현상된 후 제 5 로봇(150e)에 의해 상기 패턴 검사기(134)와 오븐기(142) 또는 쿨링기(138)를 거쳐 상기 포토공정 시스템에서 인출된다.
앞서 서술한 바와 같이, 상기 프리 베이커부(122)에서 포토 레지스트(PR) 내의 솔벤트가 제거된 기판은 제 4 로봇(150d)에 의해 제 1 회전장치(146a)로 이동된다. 상기 제 1 회전장치(146a)은 상기 제 1 회전장치(146a)로 이동된 기판을 지지하여 상기 노광기(126)의 인-포트 쪽으로 일정각도 회전한다. 상기 제 1 회전장치(146a)가 상기 노광기(126)의 인-포트 쪽으로 회전하면 상기 노광기(126) 내의 로봇(126a)이 상기 제 1 회전장치(146a)에 지지된 기판을 상기 노광기(126)내의 노광장치(도시하지 않음)로 이송한다. 상기 노광장치로 이송된 기판은 상기 노광장치에 의해 노광된다. 상기 노광장치에 의해 노광된 기판은 상기 노광기(126) 내의 로봇(126a)에 의해 상기 노광기(126)의 아웃-포트 쪽으로 반송된다. 상기 노광기(126)의 아웃-포트 쪽으로 반송된 기판은 상기 제 2 회전장치(146b)로 이동된다. 상기 제 2 회전장치(146b)는 상기 제 2 회전장치(146b)로 이동된 기판을 지지하여 상기 현상기(130) 쪽으로 일정각도 회전한다. 상기 제 2 회전장치(146b)가 상기 현상기(130)로 회전하면서 상기 현상기(130) 내부로 상기 기판을 이동한다.
이와 같이, 본 발명에 따른 포토공정 시스템의 상기 프리 베이커부(122)에서 반출된 기판이 상기 제 1 회전장치(146a)에 의해 상기 노광기(126)로 이동되어 노광공정을 거친후 상기 제 2 회전장치(146b)에 의해 상기 현상기(130)로 이동됨에 따라 종래의 포토공정 시스템에 비해 공정을 위한 준비단계가 단순해질 수 있다.
본 발명에 따른 포토공정 시스템은 상기 제 1 회전장치(146a)를 통해 상기 노광기(126)로 이동된 기판이 상기 노광기(126)에서 노광공정을 거치고 상기 노광공정을 거친 기판이 제 2 회전장치(146b)를 통해 상기 현상기(130)로 이동됨에 따 라, 상기 노광기(126)와 현상기(130) 사이를 주행하는 로봇으로 인해 이물질이 발생하여 기판 불량을 초래한 종래의 포토공정 시스템과 달리 공정중에 발생하는 이물질을 방지할 수 있다.
도 3은 도 2의 포토공정 시스템의 동작을 순서대로 나타낸 순서도이다.
도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 포토공정 시스템(100)에서 포토공정 단계는 크게 포토 레지스트(PR) 형성 단계, 건조 단계, 경화 단계, 노광 및 현상 단계가 포함되어 순차적으로 이루어진다.
여기서, 상기 포토 레지스트(PR) 형성 단계는 상기 코팅기(114)를 이용하여 기판의 표면에 포토 레지스트(PR)를 코팅하는 일련의 과정이다. 즉, 상기 기판을 상기 세정기(110)에 의해 세정한 후(S1) 상기 코팅기(114)로 전달하게 되면 상기 코팅기(114)에서는 상기 세정된 기판을 제공받아 그 표면에 포토 레지스트(PR)를 형성하게 된다.(S2) 이때, 상기 기판 상에 형성된 포토 레지스트(PR)에는 다량의 솔벤트가 함유되어 있다. 따라서, 상기 포토 레지스트(PR)를 노광하기 전에 상기 다량의 솔벤트를 제거하는 일련의 과정이 수행되어야 하며, 이는 후술하는 기판 진공건조 단계에 의해 이루어진다.
상기 기판 진공건조 단계에서는 상기 코팅기(114)에 의해 포토 레지스트(PR)가 형성된 기판을 상기 진공 건조기(118) 및 프리 베이커(122)에 의해 진공 건조함으로써, 상기 기판의 포토 레지스트(PR)에 함유된 솔벤트를 휘발시키게 된다.(S3) 상기 포토 레지스트(PR)의 솔벤트가 휘발된 기판은 상기 노광기(126)로 전달된다. 상기 노광기(126)로 제공된 기판은 상기 노광기(126)에 의해 노광된다.(S4) 상기 노광기(126)에서 노광된 기판은 상기 현상기(130)로 전달된다. 상기 현상기(130)로 제공된 기판은 상기 현상기(130)에 의해 현상된다.(S5)
상기 현상기(130)에서 현상된 기판은 상기 패턴 검사기(134)로 전달된다. 상기 패턴 검사기(134)로 제공된 기판은 상기 패턴 검사기(134)에 의해 패턴 검사된다.(S6) 상기 패턴 검사기(134)에서 패턴 검사된 기판은 상기 오븐기(142)로 전달된다. 상기 오븐기(142)로 제공된 기판은 상기 오븐기(142)에 의해 열처리 된다.(S7) 상기 오븐기(142)에서 열처리된 기판은 인출된다.(S8)
이와 같은 동작을 하는 본 발명에 따른 포토공정 시스템(100)은 앞서 서술한 바와 같이, 상기 노광기(126)의 일측면 및 타측면에 제 1 및 제 2 회전장치(146a, 146b)를 구비하여 상기 제 1 및 제 2 회전장치(146a, 146b)를 이용하여 상기 노광기(126)로부터 상기 현상기(130)로 기판을 이동시킴에 따라 종래의 포토공정 시스템에서 상기 노광기(126)와 현상기(130) 사이를 주행하며 기판을 이동시킨 로봇에 의해 발생한 이물질에 의한 불량을 최소화할 수 있다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 포토공정 시스템은 노광기의 일측면 및 타측면에 종래의 포토공정 시스템의 주행하는 로봇을 대신하는 제 1 및 제 2 회전장치를 구비하여 상기 제 1 및 제 2 회전장치를 이용하여 상기 노광기(126)로부터 상기 현상기(130)로 기판을 이동시킴에 따라 종래의 포토공정 시스템에서 주행하는 로봇에 의해 발생한 이물질에 의한 기판 불량을 최소화할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 포토공정 시스템은 기판을 이전 공정에서 다음 공정으 로 이동시키는 단계를 간략하게 할 수 있다.
본 발명은 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (5)

  1. 포토 레지스트를 기판 상에 코팅하는 코팅부;
    상기 코팅부로부터 포토 레지스트가 코팅된 기판을 제공받아 상기 포토 레지스트의 용제를 제거하는 베이커부;
    상기 베이커부의 후공정 위치에 구비되며, 인-포트와 아웃-포트를 구비하여 상기 인-포트로부터 상기 베이커부로부터 반출된 기판을 제공받아 원하는 패턴으로 노광하여 상기 아웃-포트로 반출하는 노광부; 및
    상기 노광부의 후공정 위치에 구비되며, 상기 원하는 패턴으로 노광된 기판을 제공받아 현상액으로 현상하는 현상부를 포함하고,
    상기 노광부의 인-포트와 인접하며 일정 각도로 회전되어 상기 베이커부로부터 반출된 기판을 상기 노광부의 인-포트로 이동시키는 제 1 회전수단; 및
    상기 노광부의 아웃-포트와 인접하며 일정 각도로 회전되어 상기 현상부로 원하는 패턴으로 노광된 기판을 이동하는 제 2 회전수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토공정 시스템.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 코팅부, 베이커부, 노광부 및 현상부의 각 구성요소들로 기판을 반입 혹은 반출하는 적어도 하나 이상의 로봇을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토공정 시스템.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1 회전수단은 상기 베이커부로부터 반출된 기판을 지지하고 상기 노광부의 인-포트 쪽으로 일정각도 회전되어 상기 지지한 기판을 상기 노광기로 이동시키는 것을 특징으로 하는 포토공정 시스템.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 제 2 회전수단은 상기 노광기의 아웃 포트로부터 반출된 기판을 지지하고 상기 현상기 쪽으로 일정각도 회전되어 상기 지지한 기판을 상기 현상기로 이동시키는 것을 특징으로 하는 포토공정 시스템.
  5. 기판 상에 포토 레지스트를 형성하는 단계:
    상기 포토 레지스트가 형성된 기판을 진공건조하는 단계:
    상기 진공건조 단계를 거친 기판을 제 1 회전장치로 이동하는 단계;
    상기 제 1 회전장치 상에 지지되어 이동된 기판을 노광하여 반출하는 단계;
    상기 노광하여 반출된 기판을 제 2 회전장치로 이동하는 단계; 및
    상기 제 2 회전장치 상에 지지되어 이동된 기판을 현상하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 공정 시스템의 운용방법.
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