KR20080060403A - Dry apparatus for photoresist on large area substrate - Google Patents

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KR20080060403A
KR20080060403A KR1020060134403A KR20060134403A KR20080060403A KR 20080060403 A KR20080060403 A KR 20080060403A KR 1020060134403 A KR1020060134403 A KR 1020060134403A KR 20060134403 A KR20060134403 A KR 20060134403A KR 20080060403 A KR20080060403 A KR 20080060403A
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Abstract

A dry apparatus for photoresist of large sized substrate is provided to configure and keep a vacuum state easily by preventing circulation of air in the lower part of a chamber into the upper part thereof. A pedestal(20) is installed between the upper part and the lower part of a chamber. A support pin(21) is installed above the pedestal, and a large sized substrate settles thereon. A plurality of pin holes(22) are formed on the pedestal. A lift pin(30) is able to be moved vertically through the pin holes, and settles the substrate on the support pins by transferring the substrate, and closes the pin holes when the large sized substrate is settled on the plural support pins.

Description

대면적 기판의 포토레지스트 건조장치{Dry apparatus for photoresist on large area substrate}Dry apparatus for photoresist on large area substrate

도 1은 종래 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional photoresist drying apparatus for a large area substrate.

도 2는 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.Figure 2 is a block diagram according to a preferred embodiment of the photoresist drying apparatus of the present invention a large area substrate.

도 3과 도 4는 각각 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 적용되는 리프트핀의 다른 실시 구성도이다. 3 and 4 are another embodiment of the lift pin applied to the photoresist drying apparatus of the large-area substrate of the present invention, respectively.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

10:챔버 11:상부 챔버10: chamber 11: upper chamber

12:하부 챔버 20:안착대12: lower chamber 20: seating table

21:지지핀 22:핀홀21: support pin 22: pinhole

30:리프트핀 31:핀30: Lift pin 31: Pin

32:핀지지대 33:기밀유지부32: pin support 33: confidential holding unit

40:대면적 기판40: large area substrate

본 발명은 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 관한 것으로, 특히 용이하게 진공상태를 만들고 유지할 수 있는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photoresist drying apparatus for a large area substrate, and more particularly, to a photoresist drying apparatus for a large area substrate that can easily create and maintain a vacuum state.

일반적으로, 대면적의 평판 디스플레이 제조를 위해 대면적 기판에 특정한 박막을 증착하고, 이를 사진 식각공정으로 패터닝하는 기술이 이용된다. 이때 사진식각공정을 적용하기 위해서는 포토레지스트를 건조하는 과정이 필요하다.In general, a technique of depositing a specific thin film on a large area substrate and patterning it by a photolithography process for manufacturing a large area flat panel display is used. In this case, in order to apply the photolithography process, a process of drying the photoresist is required.

이와 같이 대면적 기판의 표면에 도포된 포토레지스트에 포함된 휘발성 용제를 제거하기 위하여 그 포토레지스트가 도포된 대면적 기판을 진공분위기에서 일정시간 유지시키는 공정이 필요하며, 이를 위해 대면적 기판의 포토레지스트 건조에 적당한 건조장치가 개발되었다.In order to remove the volatile solvent contained in the photoresist coated on the surface of the large-area substrate, a process of maintaining the large-area substrate coated with the photoresist in a vacuum atmosphere for a predetermined time is required. A drying apparatus suitable for resist drying has been developed.

그러나, 종래 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치는 원하는 정도의 진공을 만들고 이를 유지하기는 것이 용이하지 않았으며, 이와 같은 종래 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.However, the conventional photoresist drying apparatus of a large-area substrate was not easy to make and maintain a desired degree of vacuum, and the photoresist drying apparatus of the conventional large-area substrate is described in detail with reference to the accompanying drawings. Same as

도 1은 종래 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional photoresist drying apparatus for a large area substrate.

도 1을 참조하면, 상부 챔버(1)와 하부 챔버(2)로 구분되는 챔버(3)와, 상기 상부 챔버(1)와 하부 챔버(2)의 중앙부에 위치하는 안착대(5)와, 상기 안착대(5) 상에 고정 설치된 다수의 지지핀(4)과, 상기 안착대(5)에 마련된 다수의 리프트 홀(6)을 통해 상하 이동이 가능하여, 상기 상부 챔버(1)로 로딩된 대면적 기판(8)을 상기 안착대(5)의 지지핀(4) 상부에 안착시키는 리프트핀(7)을 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, a chamber 3 divided into an upper chamber 1 and a lower chamber 2, a seating table 5 positioned at the center of the upper chamber 1 and the lower chamber 2, It is possible to move up and down through a plurality of support pins 4 fixed on the seating table 5 and a plurality of lift holes 6 provided in the seating table 5, so as to be loaded into the upper chamber 1. And a lift pin 7 for seating the large-area substrate 8 on the support pin 4 of the seating table 5.

이하, 상기와 같이 구성된 종래 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 구성과 작용을 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the photoresist drying apparatus of the conventional large-area substrate configured as described above will be described in detail.

먼저, 챔버(3)는 상부 챔버(1)와 하부 챔버(2)로 구분된다.First, the chamber 3 is divided into an upper chamber 1 and a lower chamber 2.

상기 상부 챔버(1)는 실질적으로 공정이 이루어지는 챔버로서, 대면적 기판(8)이 로딩 및 언로딩되는 위치이며, 포토레지스트의 건조를 위해 건조공정 중에는 진공 상태가 유지되어야 한다.The upper chamber 1 is a chamber in which the process is substantially performed, and is a position where the large-area substrate 8 is loaded and unloaded, and a vacuum state must be maintained during the drying process to dry the photoresist.

상기 하부 챔버(2)는 건조공정과는 직접적인 영향이 없으며, 공정 중에는 상기 리프트핀(7)이 위치하는 공간을 제공하는 역할을 한다.The lower chamber 2 has no direct influence on the drying process, and serves to provide a space in which the lift pin 7 is located during the process.

이와 같은 상부 챔버(1)와 하부 챔버(2)의 경계부분에는 안착대(5)가 마련되어 있으며, 그 안착대(5)에는 다수의 핀홀(6)과 지지핀(4)이 위치한다.A seating table 5 is provided at a boundary portion of the upper chamber 1 and the lower chamber 2, and a plurality of pinholes 6 and support pins 4 are positioned in the seating table 5.

상기 지지핀(4)은 안착대(5)와 대면적 기판(8)의 사이에서 그 대면적 기판(8)을 지지하며, 안착대(5)와 대면적 기판(8)간의 면접촉을 방지하여 대면적 기판(8)의 전면이 고른 기류분포를 가지도록 한다.The support pin 4 supports the large-area substrate 8 between the seating table 5 and the large-area substrate 8 and prevents surface contact between the seating table 5 and the large-area substrate 8. Thus, the entire surface of the large-area substrate 8 has an even air flow distribution.

상기 핀홀(6)은 하부 챔버(2)에 위치하는 리프트핀(7)이 상부 챔버(1) 측으로 이동될 수 있도록 하는 홀이다.The pinhole 6 is a hole that allows the lift pin 7 located in the lower chamber 2 to move to the upper chamber 1 side.

이와 같은 구조에서 상기 상부 챔버(1)로 이송로봇에 의해 포토레지스트가 도포된 대면적 기판(8)이 로딩되면, 상기 리프트핀(7)이 상승하여 상부 챔버(1)에서 그 대면적 기판(8)의 저면을 지지한다.In this structure, when the large-area substrate 8 coated with the photoresist is loaded into the upper chamber 1 by the transfer robot, the lift pin 7 is raised to raise the large-area substrate in the upper chamber 1 ( Support the bottom of 8).

그 다음, 상기 이송로봇이 후퇴한 후, 상기 리프트핀(7)은 하강하여 하부 챔버(2) 내에 위치하게 되며, 그 과정에서 리프트핀(7)에 지지되어 하강하는 대면적 기판(8)은 상기 안착대(5)의 지지핀(4)에 안착된다.Then, after the transfer robot retreats, the lift pin 7 is lowered and positioned in the lower chamber 2, and in the process, the large area substrate 8 supported and lowered by the lift pin 7 is It is seated on the support pin 4 of the seating table (5).

이와 같이 안착대(5)의 지지핀(4) 상에 안착된 대면적 기판(8) 상의 포토레지스트를 건조시키기 위해 상기 상부 챔버(1)는 진공상태가 된다. 이를 위해 펌프를 구비할 수 있으며, 도면에서는 설명의 편의를 위해 생략하였다.As such, the upper chamber 1 is vacuumed to dry the photoresist on the large-area substrate 8 seated on the support pin 4 of the seating table 5. A pump may be provided for this purpose, and the drawings are omitted for convenience of description.

이와 같은 상태에서 상기 리프트핀(7)이 상부 챔버(1)와 하부 챔버(2)를 오 갈 수 있도록 하는 핀홀(6)은 열려있는 상태이다. 따라서 상부 챔버(1) 내에 진공분위기 생성시 핀홀(6)을 통해 하부 챔버(2)의 공기가 상부 챔버(1)로 유입됨으로써, 상기 상부 챔버(1)의 진공상태인 공정 분위기의 유지가 용이하지 않게 된다. 또한 그 공기의 유입으로 인한 핀홀(6) 주위의 온도가 타부분에 비해 저하되어 휘발성 용제의 균일한 제거가 용이하지 않게 된다.In this state, the pinhole 6 is opened to allow the lift pin 7 to move between the upper chamber 1 and the lower chamber 2. Therefore, when the vacuum atmosphere is generated in the upper chamber 1, the air in the lower chamber 2 flows into the upper chamber 1 through the pinhole 6, so that the process atmosphere in the vacuum state of the upper chamber 1 can be easily maintained. You will not. In addition, the temperature around the pinhole 6 due to the inflow of air is lowered compared to other parts, so that the uniform removal of the volatile solvent is not easy.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 상부 챔버에서 건조공정이 진행될 때 원하는 정도의 진공분위기의 생성 및 유지가 용이한 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치를 제공함에 그 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide a photoresist drying apparatus for a large-area substrate that is easy to generate and maintain a desired vacuum atmosphere when the drying process is performed in the upper chamber.

또한, 본 발명은 상부 챔버에서 건조공정이 이루어지는 동안 이상기류가 형성되어 온도 차가 발생되는 것을 방지할 수 있는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치를 제공함에 다른 목적이 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a photoresist drying apparatus for a large-area substrate that can prevent an abnormal airflow from being formed during the drying process in the upper chamber to prevent a temperature difference.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 상부 챔버와 하부 챔버의 사이에 마련된 안착대와, 상기 안착대의 상부에 마련되어 대면적 기판이 안착되는 다수의 지지핀과, 상기 안착대에 다수로 마련된 핀홀과, 상기 핀홀을 통해 상하 이동이 가능하여 상기 상부 챔버에 로딩된 대면적 기판을 지지 이동시켜 상기 다수의 지지핀에 안착시키되, 그 대면적 기판이 상기 다수의 지지핀 상에 안착되었을 때, 상기 핀홀을 통해 공기가 상기 상부 챔버로 유입되는 것을 방지하는 리프트핀을 포함한다.The present invention for achieving the above object is a seating table provided between the upper chamber and the lower chamber, a plurality of support pins are provided on the seating table to seat a large area, and a plurality of pinholes provided in the seating table And, it is possible to move up and down through the pinhole to move the large area substrate loaded in the upper chamber to be seated on the plurality of support pins, when the large area substrate is seated on the plurality of support pins, And a lift pin to prevent air from entering the upper chamber through the pinhole.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the present invention configured as described above are as follows.

도 2는 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.Figure 2 is a block diagram according to a preferred embodiment of the photoresist drying apparatus of the present invention a large area substrate.

도 2를 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 바람직한 실시예는 상부 챔버(11)와 하부 챔버(12)로 구분되는 챔버(10)와, 상기 챔버(10)의 내측에 설치되어 상부 챔버(11)와 하부 챔버(12)를 구분하며, 대면적 기판(40)을 지지하는 안착대(20)와, 상기 안착대(20)의 상부에 마련된 다수의 지지핀(21) 및 핀홀(22)과, 상기 안착대(20)의 핀홀(22)을 통해 상부 챔버(11)와 하부 챔버(12) 사이를 이동하며, 대면적 기판(40)을 상기 안착대(20)의 지지핀(21) 상에 안착시킴과 아울러 건조 공정이 진행되는 동안 상기 핀홀(22)의 기밀을 유지하는 리프트핀(30)으로 구성된다.Referring to FIG. 2, a preferred embodiment of the photoresist drying apparatus of the large-area substrate of the present invention is a chamber 10 divided into an upper chamber 11 and a lower chamber 12, and installed inside the chamber 10. And distinguishes the upper chamber 11 from the lower chamber 12, a seating table 20 for supporting the large-area substrate 40, a plurality of support pins 21 provided on the seating table 20, and It moves between the upper chamber 11 and the lower chamber 12 through the pinhole 22 and the pinhole 22 of the seating 20, and supports the large-area substrate 40 of the seating 20. The lift pin 30 is mounted on the pin 21 and maintains the airtightness of the pinhole 22 during the drying process.

상기 리프트핀(30)은 대면적 로딩되는 기판(40)의 저면을 지지하는 다수의 핀(31)과, 상기 다수의 핀(31)의 하부 위치하여 상하 구동력을 그 다수의 핀(31)에 전달하는 다수의 핀지지대(32)와, 상기 핀(31)에 인접한 하부 핀지지대(32)의 외주면에 위치하여 상기 핀(31)이 하강한 상태에서 상기 핀홀(22)의 상부주변부를 밀폐 시키는 기밀유지부(33)를 포함하여 구성된다.The lift pin 30 includes a plurality of pins 31 that support the bottom surface of the large-area loaded substrate 40, and a plurality of pins 31 positioned below the plurality of pins 31 to apply a vertical driving force to the plurality of pins 31. Located on the outer circumferential surface of the plurality of pin support 32 and the lower pin support 32 adjacent to the pin 31 to seal the upper peripheral portion of the pin hole 22 in the pin 31 is lowered The airtight holding part 33 is comprised.

이하, 상기와 같이 구성된 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 구성 및 작용을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the photoresist drying apparatus of the large-area substrate of the present invention configured as described above will be described in more detail.

먼저, 대면적 기판(40)의 이송 로봇에 의해 상부 챔버(11)로 이송되면, 리프트핀(30)이 상승하여 대면적 기판(40)의 저면을 지지한다. 이와 같은 상태에서 이송 로봇이 후퇴하면, 그 리프트핀(30)은 하강한다.First, when transferred to the upper chamber 11 by the transfer robot of the large-area substrate 40, the lift pin 30 is raised to support the bottom surface of the large-area substrate 40. When the transfer robot retreats in such a state, the lift pin 30 descends.

상기 리프트핀(30)은 상기 설명과 같이 핀(31)과 그 핀(31)을 지지하는 핀지지대(32) 및 핀홀(22)의 기밀을 유지할 수 있는 기밀유지부(33)로 구성되어 있으며, 상기 기밀유지부(33)는 적어도 상기 안착대(20)와의 접촉면은 기밀유지가 가능한 탄성체로 한다.The lift pin 30 is composed of a pin 31, a pin support 32 for supporting the pin 31 and an airtight holding part 33 capable of maintaining the airtightness of the pinhole 22 as described above. The airtight holding unit 33 is an elastic body capable of maintaining airtightness at least the contact surface with the seating table 20.

상기 기밀유지부(33)와 핀(31)의 높이의 합은 상기 안착대(20)의 지지핀(21)의 높이에 비하여 보다 낮은 것으로 한다.The sum of the heights of the airtight holding part 33 and the pins 31 is lower than the height of the support pins 21 of the seating table 20.

이와 같은 구조에서 상기 리프트핀(30)이 하강하는 과정에서 그 대면적 기판(40)의 저면은 상기 안착대(20)의 지지핀(21)에 접촉되어 그 안착대(20)에 안착된다.In this structure, the bottom surface of the large-area substrate 40 is in contact with the support pin 21 of the seat 20 in the process of the lift pin 30 is lowered to be seated on the seat 20.

이와 같이 대면적 기판(40)이 안착된 상태에서 상기 리프트핀(30)이 더욱 하강하면, 그 안착대(20)에 마련된 핀홀(22)의 주변에 상기 기밀유지부(33)가 접촉되며, 그 리프트핀(30)은 하강이 종료된다.When the lift pin 30 is further lowered in the state where the large-area substrate 40 is seated in this way, the airtight holding part 33 is in contact with the periphery of the pinhole 22 provided in the seating plate 20. The lift pin 30 is finished falling.

이와 같은 구조에서는 핀(31), 핀지지대(32) 및 기밀유지부(33)가 상호 일체로 결합된 것으로 설명하였으나, 그 핀지지대(32)가 분리되어 핀지지대(32)의 하강시 상기 기밀유지부(32) 및 핀(31)은 상부 챔버(11)에서 상기 핀홀(22)의 기밀을 유지하는 상태로 존재하고, 그 핀지지대(32)는 그 기밀유지부(32)와 분리된 상태로 하부 챔버(12)에 위치하는 상태로 하강이 종료되도록 할 수 있다.In this structure, the pin 31, the pin support 32 and the airtight holding part 33 are described as being integrally coupled to each other, but the pin support 32 is separated and the airtight when the pin support 32 is lowered. The holding part 32 and the pin 31 exist in the state which keeps the airtight of the said pinhole 22 in the upper chamber 11, The pin support 32 is isolate | separated from the airtight holding part 32 The lowering may be completed in the state located in the lower chamber 12.

이때, 상기 기밀유지부(32)의 하부에는 상기 핀지지대(32)가 삽입되는 삽입홈이 마련되어, 상기 핀지지대(32)가 상부 챔버(11) 측으로 상승할 때, 안정되게 그 기밀유지부(32) 및 핀(31)을 지지할 수 있도록 한다. In this case, an insertion groove into which the pin support 32 is inserted is provided in the lower portion of the airtight portion 32, and when the pin support 32 is raised to the upper chamber 11 side, the airtight portion ( 32) and pin 31 to be supported.

상기 기밀유지부(33)가 안착대(20)에 접촉된 상태에서는 상기 대면적 기판(40)은 지지핀(21)에 의해서만 지지되는 상태로, 상기 리프트핀(30)의 핀(31)과는 이격된 상태가 된다.In the state in which the airtight holding part 33 is in contact with the seating plate 20, the large-area substrate 40 is supported only by the support pins 21, and the pins 31 of the lift pins 30 Is spaced apart.

이와 같이 대면적 기판(40)이 안착대(20)의 지지핀(21) 상에 안착된 상태에서 상기 상부 챔버(11)는 진공의 공정분위기가 유지되며, 이때 상기 안착대(20)의 핀홀(22)을 통해 하부 챔버(12)의 공기가 상부 챔버(11)로 유입되는 것이 방지되어 그 진공 상태의 형성 및 유지가 보다 용이하게 된다.As such, the upper chamber 11 maintains a vacuum process atmosphere in a state in which the large-area substrate 40 is seated on the support pin 21 of the seat 20. At this time, the pinhole of the seat 20 is The air in the lower chamber 12 is prevented from entering the upper chamber 11 through the 22, making it easier to form and maintain the vacuum state.

도 3과 도 4는 각각 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 적용되는 리프트핀(30)의 다른 실시 구성도이다.3 and 4 are another embodiment of the lift pin 30 is applied to the photoresist drying apparatus of the large-area substrate of the present invention, respectively.

도 2 내지 도 4를 각각 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 적용되는 리프트핀(30)의 다른 실시예는 대면적 기판(40)의 저면에 접촉되는 핀(31)과, 상기 핀(31) 저면에 위치하여 상기 안착대(20)의 핀홀(22) 보다 직경이 더 큰 기밀유지부(34)와, 상기 기밀유지부(34)의 중앙 하부를 지지하며, 상하 구동력을 전달하는 지지핀(35)을 포함하여 구성된다.2 to 4, another embodiment of the lift pin 30 applied to the photoresist drying apparatus of the large-area substrate of the present invention is a pin 31 in contact with the bottom surface of the large-area substrate 40, Located on the bottom surface of the pin 31 and supporting the airtight holding portion 34 having a larger diameter than the pinhole 22 of the seating table 20, and the center lower portion of the airtight holding portion 34, and the vertical driving force It comprises a support pin 35 for transmitting.

상기 기밀유지부(34)는 원판형상의 본체(36)와 그 본체의 저면의 측면부에 접합된 탄성체(37)를 포함할 수 있다.The airtight holding part 34 may include a disc-shaped body 36 and an elastic body 37 bonded to the side surface of the bottom of the body.

또한, 본체(36)의 형상은 저면의 중앙부에 홈이 형성된 것일 수 있으며, 상기 탄성체(37)는 그 홈의 주변부에서 상대적으로 돌출된 부분에 접합된 것일 수 있다.In addition, the shape of the main body 36 may be a groove formed in the central portion of the bottom surface, the elastic body 37 may be bonded to a portion protruding relatively from the peripheral portion of the groove.

아울러 상기 기밀유지부(34)의 저면은 그 안착대(40)의 상부에 부착되는 자성체일 수 있으며, 이는 상기 핀홀(22)의 폐쇄를 보다 긴밀하게 할 수 있다.In addition, the bottom surface of the airtight holding part 34 may be a magnetic material attached to the upper portion of the seating table 40, which may further close the pinhole 22.

이와 같은 구조는 상기 핀홀(22)을 통해 하부 챔버(12)의 공기가 상부 챔버(11)로 유입되지 않도록 기밀시키는 구조이면, 그 구조에 의해 본 발명이 제한되지 않는다.Such a structure is hermetically sealed so that air in the lower chamber 12 does not flow into the upper chamber 11 through the pinhole 22, and the present invention is not limited by the structure.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.The present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the user.

상기한 바와 같이 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치는 대면적 기판을 안착시키는 리프트핀의 형상을 변경하여, 건조공정시 하부 챔버의 공기가 상부 챔버로 유입되는 것을 방지하여 건조공정을 위한 진공의 형성 및 유지가 용이한 효과가 있다. As described above, the photoresist drying apparatus of the large-area substrate of the present invention changes the shape of the lift pin for seating the large-area substrate, thereby preventing the air from the lower chamber from entering the upper chamber during the drying process, thereby vacuuming the drying process. It is easy to form and maintain.

또한, 본 발명은 건조의 진행시 핀홀을 통해 이상기류가 발생하여 온도의 불균일이 발생하는 것을 차단하여, 포토레지스트의 휘발성 용제를 균일하게 제거하여 건조공정의 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.In addition, the present invention has the effect of blocking the occurrence of abnormal air flow through the pinhole during the drying proceeds, the temperature non-uniform, by removing the volatile solvent of the photoresist uniformly to improve the reliability of the drying process.

Claims (7)

상부 챔버와 하부 챔버의 사이에 마련된 안착대;A seating plate provided between the upper chamber and the lower chamber; 상기 안착대의 상부에 마련되어 대면적 기판이 안착되는 다수의 지지핀;A plurality of support pins provided on an upper portion of the seating plate to accommodate a large area substrate; 상기 안착대에 다수로 마련된 핀홀; 및A plurality of pinholes provided in the seating plate; And 상기 핀홀을 통해 상하 이동이 가능하여 상기 상부 챔버에 로딩된 대면적 기판을 지지 이동시켜 상기 다수의 지지핀에 안착시키되, 그 대면적 기판이 상기 다수의 지지핀 상에 안착되었을 때, 상기 핀홀을 폐쇄하는 리프트핀을 포함하는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치.The pinhole may be moved up and down to support the large area substrate loaded in the upper chamber to be seated on the plurality of support pins, and when the large area substrate is seated on the plurality of support pins, A photoresist drying apparatus for a large area substrate comprising a closing pin for closing. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리프트핀은,The lift pin, 상기 상부 챔버에 로딩된 대면적 기판을 지지하는 핀;A pin supporting a large area substrate loaded in the upper chamber; 상기 핀의 하강시 핀홀의 기밀을 유지하는 기밀유지부; 및An airtight holding unit which maintains the airtightness of the pinhole when the pin is lowered; And 상기 기밀유지부 및 핀을 승하강 시키는 핀지지대를 포함하는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치.And a pin support for raising and lowering the hermetic holding portion and the pin. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 기밀유지부는,The confidentiality unit, 상기 핀지지대와 일체인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 포토레지스트 건 조장치.A photoresist drying apparatus for a large area substrate, wherein the photoresist is integral with the pin support. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 기밀유지부는,The confidentiality unit, 상기 핀지지대와 분리된 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치.Photoresist drying apparatus of a large area substrate, characterized in that separated from the pin support. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 기밀유지부는,The confidentiality unit, 그 저면부에 상기 핀지지대가 삽입되는 삽입홈이 마련된 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치.The photoresist drying apparatus for a large-area substrate, characterized in that an insertion groove into which the pin support is inserted is provided at a bottom portion thereof. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 기밀유지부의 저면은 상기 안착대에 부착되는 자성체인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장지.The bottom surface of the hermetic holding part is a photoresist drying pad of a large-area substrate, characterized in that the magnetic body attached to the seating table. 제2 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 2 to 5, 상기 기밀유지부는,The confidentiality unit, 상기 안착대와의 접촉부분이 탄성체인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치. A photoresist drying apparatus for a large area substrate, wherein the contact portion with the seating table is an elastic body.
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