KR20080057908A - Lapping apparatus - Google Patents

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KR20080057908A
KR20080057908A KR1020060131809A KR20060131809A KR20080057908A KR 20080057908 A KR20080057908 A KR 20080057908A KR 1020060131809 A KR1020060131809 A KR 1020060131809A KR 20060131809 A KR20060131809 A KR 20060131809A KR 20080057908 A KR20080057908 A KR 20080057908A
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이제섭
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

A lapping apparatus is provided to reduce the thickness of a glass substrate by lapping the surface of the glass substrate used for an LCD(Liquid Crystal Display). A lapping apparatus includes a lapping unit(50) and a dressing carrier managing unit(60). The lapping unit laps the surface of substrates. The dressing carrier managing unit is provided at one side of the lapping unit. The dressing carrier managing unit loads or unloads a dressing carrier(57) to or from the lapping unit in order to remove partial abrasion of the lapping unit. The dressing carrier managing unit includes a box(61), a driver(62), and an arm(63). The box includes the dressing carrier. The driver elevates the dressing carrier. The arm transfers the dressing carrier between the box and the lapping unit.

Description

래핑장치{LAPPING APPARATUS}Lapping Device {LAPPING APPARATUS}

도 1은 일반적인 액정표시장치의 액정패널을 나타낸 예시도.1 is an exemplary view showing a liquid crystal panel of a general liquid crystal display device.

도 2는 종래의 래핑장치에서의 하정반의 편마모 상태를 나타낸 예시도.Figure 2 is an exemplary view showing the uneven wear state of the lower plate in the conventional lapping apparatus.

도 3은 본 발명에 따른 래핑장치의 일실시예 구성도.Figure 3 is a configuration diagram of one embodiment of a wrapping apparatus according to the present invention.

도 4는 도 3에 도시된 래핑장치의 일실시예 측면도.4 is a side view of an embodiment of the wrapping apparatus shown in FIG.

도 5는 도 3에 도시된 래핑장치의 일실시예 평면도.5 is a plan view of an embodiment of the wrapping apparatus shown in FIG.

도 6은 도 3에 도시된 래핑장치에서 드레싱 캐리어가 하정반으로 이송되는 상태를 나타낸 예시도.Figure 6 is an exemplary view showing a state in which the dressing carrier is transferred to the lower plate in the lapping apparatus shown in FIG.

도 7은 도 3에 도시된 래핑장치에서 드레싱 캐리어가 하정반으로부터 적재함으로 이송되는 상태를 나타낸 예시도.7 is an exemplary view showing a state in which the dressing carrier is transported from the lower plate to the stacker in the lapping apparatus shown in FIG. 3.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

10 : 액정패널 11 : 하부기판10: liquid crystal panel 11: lower substrate

12 : 상부기판 13 : 액정층12: upper substrate 13: liquid crystal layer

50 : 연마부 60 : 드레싱 캐리어 관리부50: grinding unit 60: dressing carrier management unit

본 발명은 유리기판의 표면을 가공하는 장치에 관한 것으로서, 특히 액정표시장치에 적용되는 유리기판의 표면을 연마하여 유리기판의 두께를 줄이기 위한 래핑장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for processing a surface of a glass substrate, and more particularly, to a wrapping device for reducing the thickness of a glass substrate by polishing a surface of a glass substrate applied to a liquid crystal display device.

액정표시장치(Liquid Crystal Display ; 이하 "LCD"라 함)는 영상신호에 대응하도록 광빔의 투과량을 조절함에 의해 화상을 표시하는 대표적인 평판 표시장치이다. 특히, LCD는 경량화, 박형화, 저소비 전력구동 등의 특징으로 인해 그 응용범위가 점차 넓어지고 있는 추세에 있으며, 이러한 추세에 따라 LCD는 사무자동화(Office Automation) 장치 및 노트북 컴퓨터의 표시장치로 이용되고 있다. Liquid crystal displays (hereinafter referred to as "LCDs") are representative flat panel displays that display an image by adjusting the amount of light beams transmitted to correspond to an image signal. In particular, LCDs are becoming more and more widespread due to light weight, thinness, and low power consumption. As such, LCDs are used as display devices for office automation devices and notebook computers. have.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 액정패널을 나타낸 예시도이다. 또한, 도 2는 종래의 래핑장치에서의 하정반의 편마모 상태를 나타낸 예시도이다.1 is an exemplary view showing a liquid crystal panel of a general liquid crystal display device. 2 is an exemplary view showing the uneven wear state of the lower plate in the conventional lapping apparatus.

액정표시장치는 액정셀들이 매트릭스 형태로 배열되어진 액정패널(10) 및 상기 액정패널에 빛을 조사하기 위한 백라이트 유닛(미도시)을 포함하며 상기 액정패널 및 상기 백라이트 유닛은 서포트 메인 등의 체결기구(미도시)에 의해 결합된다.The LCD includes a liquid crystal panel 10 in which liquid crystal cells are arranged in a matrix, and a backlight unit (not shown) for irradiating light to the liquid crystal panel, wherein the liquid crystal panel and the backlight unit are fastening mechanisms such as a support main. (Not shown).

상기 액정패널(10)은 도 1에 도시된 바와 같이, 구동신호를 입력받는 박막트랜지스터 기판(TFT 기판)(이하, 간단히 '하부기판'이라 함)(11), 칼라필터층을 포함한 칼라필터기판(C/F 기판)(이하, 간단히 '상부기판'이라 함)(12) 및 상부기판과 하부기판 사이에 개재된 액정층(13)으로 구성된다.As shown in FIG. 1, the liquid crystal panel 10 includes a thin film transistor substrate (TFT substrate) (hereinafter, simply referred to as a 'lower substrate') 11 for receiving a driving signal, and a color filter substrate including a color filter layer ( C / F substrate) (hereinafter, simply referred to as an upper substrate) 12 and a liquid crystal layer 13 interposed between the upper substrate and the lower substrate.

한편, 상기와 같은 액정패널(10)을 포함하는 액정표시장치의 제조공정은 크게 기판 제조공정, 액정패널 제조공정 및 모듈 공정의 세 가지 공정으로 나뉘어진다.Meanwhile, the manufacturing process of the liquid crystal display device including the liquid crystal panel 10 as described above is largely divided into three processes, a substrate manufacturing process, a liquid crystal panel manufacturing process, and a module process.

기판 제조공정은 세정된 유리기판을 사용하여 하부기판(11)을 제조하는 공정 및 상부기판(12)을 제조하는 공정이고, 액정패널 공정은 하부기판(11)과 상부기판(12)을 합착하고 그 사이에 액정을 주입하여 액정패널을 제조하는 공정이며, 모듈공정은 액정패널과 신호처리 회로부를 연결시켜 액정표시장치를 완성하는 과정을 말한다.The substrate manufacturing process is a process of manufacturing the lower substrate 11 and the upper substrate 12 by using the cleaned glass substrate, the liquid crystal panel process is bonded to the lower substrate 11 and the upper substrate 12 The process of manufacturing a liquid crystal panel by injecting a liquid crystal in the meantime, the module process refers to the process of completing the liquid crystal display device by connecting the liquid crystal panel and the signal processing circuit.

상기한 바와 같은 공정에 의해 제작된 액정표시장치는 TV, 노트북 컴퓨터, 모니터, 핸드폰, PDA, PMP, MP3 플레이어 등 다양한 종류의 전자제품에 이용되고 있다.The liquid crystal display device manufactured by the above process is used for various kinds of electronic products such as TV, notebook computer, monitor, mobile phone, PDA, PMP, MP3 player.

특히, 핸드폰, PDA, PMP, MP3 플레이어 등과 같은 전자제품의 두께가 점점더 작아짐에 따라, 상기 전자제품들에 적용되는 액정표시장치의 두께 역시 점점더 작은 크기를 갖도록 요구되고 있다. 상기 액정표시장치의 두께는 특히 상기 상부기판 및 하부기판을 구성하는 유리기판의 두께에 크게 좌우되고 있으므로, 상기와 같은 전자제품에 적용되는 액정표시장치의 두께를 줄이기 위해 유리기판의 두께를 줄이는 방법이 주로 이용되고 있다.In particular, as the thickness of electronic products such as mobile phones, PDAs, PMPs, MP3 players, and the like becomes smaller and smaller, the thicknesses of liquid crystal displays applied to the electronic products are also required to have smaller and smaller sizes. Since the thickness of the liquid crystal display device is particularly dependent on the thickness of the glass substrate constituting the upper substrate and the lower substrate, a method of reducing the thickness of the glass substrate to reduce the thickness of the liquid crystal display device applied to the electronic products as described above. This is mainly used.

유리기판의 두께를 줄이는 방법으로는, 상기 기판 제조공정에 투입되는 유리기판 자체의 두께를 줄이는 방법이 있다. 즉, 상기 방법은 유리기판의 생산단계에서 유리기판 자체의 두께를 줄이는 방법으로서, 이론적으로는 가능한 방법이나, 생 산 과정이 어려울 뿐만 아니라, 생산된 유리기판을 이송하기 어렵기 때문에 널리 이용되고 있지 못하다.As a method of reducing the thickness of the glass substrate, there is a method of reducing the thickness of the glass substrate itself introduced into the substrate manufacturing process. That is, the above method is a method of reducing the thickness of the glass substrate itself in the production stage of the glass substrate, which is theoretically possible, but is not widely used because the production process is difficult and it is difficult to transport the produced glass substrate. Can not do it.

유리기판의 두께를 줄이는 또 다른 방법으로는, 상기 액정패널 제조공정을 거친 액정패널의 상하부 유리기판을 화학적 방법으로 식각하는 방법이 있다. 즉, 상부기판(12) 및 하부기판(11)이 결합된 상태의 액정패널의 양쪽 표면을 화학용액이 담겨진 용기에 담궈, 상기 상부기판 및 하부기판을 구성하는 유리기판을 화학반응에 의해 소정의 두께만큼 식각시키는 방법이다. 그러나, 상기 방법은 화학용품이 사용될 뿐만 아니라, 복잡한 공정장비들이 요구되므로 널리 이용되고 있지 못하다.As another method of reducing the thickness of the glass substrate, there is a method of etching the upper and lower glass substrates of the liquid crystal panel through the liquid crystal panel manufacturing process by a chemical method. That is, both surfaces of the liquid crystal panel in which the upper substrate 12 and the lower substrate 11 are combined are immersed in a container containing a chemical solution, and the glass substrates constituting the upper substrate and the lower substrate are chemically reacted. It is etched by thickness. However, the method is not widely used because not only chemical products are used, but complicated process equipment is required.

유리기판의 두께를 줄이는 또 다른 방법으로는, 상기 액정패널 제조공정을 거친 액정패널의 상하부 유리기판을 물리적인 방법으로 식각하는 방법이 있다. 물리적인 방법에 의해 액정패널의 상하부 유리기판을 식각하는 장치로는 래핑(Lapping)장치가 이용되고 있다.As another method of reducing the thickness of the glass substrate, there is a method of physically etching the upper and lower glass substrates of the liquid crystal panel through the liquid crystal panel manufacturing process. A lapping apparatus is used as an apparatus for etching the upper and lower glass substrates of the liquid crystal panel by a physical method.

상기 래핑장치는 액정패널이 놓여지며 상기 액정패널 하부의 유기기판을 연마하기 위해 미세한 래핑입자들이 형성되어 있는 하정반(21), 상기 하정반에 놓여진 상기 액정패널을 고정시킨 상태에서 상기 하정반의 회전에 의해 회전운동을 하는 캐리어, 상기 하정반을 회전운동시키는 회전축(22), 상기 액정패널 상부의 유리기판을 연마하기 위해 미세한 래핑입자들이 형성되어 있으며 상기 회전축과 결합되어 회전되면서 상기 하정반과 함께 상기 액정패널을 가압하는 상정반을 포함하여 구성되어 있다.The lapping apparatus includes a lower panel 21 in which a liquid crystal panel is placed and fine lapping particles are formed to polish the organic substrate under the liquid crystal panel, and the lower panel is rotated while the liquid crystal panel placed on the lower panel is fixed. Carrier to rotate by the rotation, the rotary shaft 22 for rotating the lower plate, fine lapping particles are formed to polish the glass substrate on the upper portion of the liquid crystal panel is combined with the rotating shaft and rotated together with the lower plate It is comprised including the upper plate which presses a liquid crystal panel.

상기 상정반 및 하정반(21)은 일반적으로 주철로 제조되며, 상기 상정반 및 하정반의 표면에는 미세한 래핑입자들이 돌출되어 있어서 상기 유리기판의 표면을 연마(Lapping)하게 된다.The upper and lower plates 21 are generally made of cast iron, and fine lapping particles protrude from the surfaces of the upper and lower plates, thereby laminating the surface of the glass substrate.

한편, 상기 상정반 및 하정반은 상기한 바와 같이 유리기판의 표면을 연마하는 기능을 수행하지만, 반복되는 연마 기능에 의해 상기 상정반 및 하정반(21)의 표면 역시 마모될 수 있다. 특히, 상기 상정반 및 하정반은 상기 회전축(22)에 의해 회전되는 원형으로 구성되어 있는바, 각 부분에서의 회전 각속도, 회전속도, 회전반경 등의 차이로 인해, 도 2에 도시된 바와 같이, 하정반(21) 또는 상정반에 편마모가 발생될 수 있다. 따라서, 편마모된 상정반 또는 하정반의 편마모를 제거하기 위한 드레싱(Dressing) 공정이 주기적으로 수행되고 있다.On the other hand, the top plate and the bottom plate performs the function of polishing the surface of the glass substrate as described above, but the surface of the top plate and the lower plate 21 may also be worn by the repeated polishing function. In particular, the upper and lower plates are formed in a circle that is rotated by the rotating shaft 22, due to the difference in the rotational angular velocity, rotational speed, rotation radius, etc. in each portion, as shown in Figure 2 On the lower plate 21 or the upper plate, uneven wear may occur. Therefore, a dressing process for removing uneven wear of the uneven upper and lower plates is periodically performed.

드레싱 공정은 상기 캐리어 및 액정패널이 제거된 상태의 하정반(21)에 드레싱 캐리어를 안착시킨 후에 상기 상정반으로 상기 드레싱 캐리어을 가압하므로써, 상기 드레싱 캐리어가 상기 상정반 및 하정반의 표면을 연마하도록 하여 상기 상정반 및 하정반의 표면에 형성된 편마모를 제거하는 공정이다.The dressing process presses the dressing carrier onto the top plate after seating the dressing carrier on the bottom plate 21 in which the carrier and the liquid crystal panel are removed so that the dressing carrier polishes the surfaces of the top plate and the bottom plate. It is a process of removing uneven wear formed on the surfaces of the upper and lower plates.

상기 드레싱 공정을 위해서는 상기 드레싱 캐리어가 구비되어야 하는데, 종래에는 상기 드레싱 캐리어를 사용자가 직접 운반하는 방법이 이용되었다. 그러나, 액정패널이 대형화됨에 따라 상기 래핑장치 역시 대형화되고 있고, 상기 드레싱 캐리어 또한 대형화되고 있기 때문에, 더 이상 사용자가 직접 상기 드레싱 캐리어를 운반하는 것은 어렵게 되었다.The dressing carrier has to be provided for the dressing process. In the related art, a method of directly transporting the dressing carrier has been used. However, as the liquid crystal panel is enlarged, the lapping apparatus is also enlarged, and the dressing carrier is also enlarged, so that it is difficult for a user to carry the dressing carrier directly.

또한, 상기 상정반은 2톤 이상의 무게를 가지고 있는 장치로서, 이러한 상정반 아래에서 사용자가 상기 드레싱 캐리어 운반을 위한 작업을 한다는 것은 매우 위험하기 때문에 작업상의 안전문제가 대두되고 있다.In addition, the top plate is a device having a weight of 2 tons or more, and the safety problem is raised because it is very dangerous for the user to work for transporting the dressing carrier under the top plate.

따라서, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 드레싱 캐리어를 적재하고 있는 한편, 아암에 의해 드레싱 캐리어를 하정반으로 이송시킬 수 있는 래핑장치를 제공하는 것이다. Accordingly, an object of the present invention for solving the above problems is to provide a wrapping apparatus capable of transferring a dressing carrier to a lower plate by an arm while loading the dressing carrier.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 래핑장치는, 기판의 표면을 연마하는 연마부; 및 상기 연마부의 일측에 형성되며, 상기 연마부의 편마모를 제거하기 위한 드레싱 캐리어를 상기 연마부로 로딩하거나 상기 연마부로부터 언로딩하여 관리하는 드레싱 캐리어 관리부를 포함한다.In order to achieve the above object, the lapping apparatus according to the present invention, the polishing unit for polishing the surface of the substrate; And a dressing carrier management unit formed at one side of the polishing unit and configured to load or unload the dressing carrier for removing uneven wear of the polishing unit from or to the polishing unit.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시예의 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예가 상세히 설명된다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 래핑장치의 일실시예 구성도이다. 또한, 도 4는 도 3에 도시된 래핑장치의 일실시예 측면도이며, 도 5는 도 3에 도시된 래핑장치의 일실시예 평면도이다.3 is a configuration diagram of an embodiment of a wrapping apparatus according to the present invention. 4 is a side view of an embodiment of the wrapping apparatus shown in FIG. 3, and FIG. 5 is a plan view of an embodiment of the wrapping apparatus illustrated in FIG. 3.

본 발명에 따른 래핑장치는 액정패널의 상부와 하부의 표면을 연마하는 연마 부(50) 및 상기 연마부의 일측에 형성되며 상기 연마부의 편마모를 제거하기 위한 드레싱 캐리어를 상기 연마부로 로딩하거나 상기 연마부로부터 언로딩하여 관리하는 드레싱 캐리어 관리부(60)를 포함하여 구성되어 있다. Lapping apparatus according to the present invention is formed on one side of the polishing portion 50 and the polishing portion for polishing the upper and lower surfaces of the liquid crystal panel and loading the dressing carrier for removing uneven wear of the polishing portion to the polishing portion or the polishing portion It is comprised including the dressing carrier management part 60 which manages by unloading.

상기 연마부(50)는, 액정패널이 놓여지며 상기 액정패널 하부의 유기기판을 연마하기 위해 미세한 래핑입자들이 형성되어 있는 하정반(51), 상기 액정패널을 내부에 고정시킨 상태에서 상기 하정반에 놓여지는 캐리어(미도시), 상기 액정패널 상부의 유리기판을 연마하기 위해 미세한 래핑입자들이 형성되어 있으며 상기 하정반과 함께 상기 액정패널을 가압하는 상정반(53), 상기 하정반의 외곽을 형성하는 외곽부(54), 상기 외곽부 안쪽에 형성되어 있으며 승하강 이동이 가능한 제1 승하강부(55), 상기 회전축(52)의 외곽에서 승하강 이동이 가능하도록 형성된 제2 승하강부(56) 및 상기 제1 승하강부 또는 제2 승하강부를 회전시키는 회전축(52)을 포함한다.The polishing unit 50 includes a lower plate 51 in which a liquid crystal panel is placed and fine lapping particles are formed to polish the organic substrate under the liquid crystal panel, and the lower plate in a state in which the liquid crystal panel is fixed therein. Fine wrapping particles are formed to polish the glass substrate on the upper side of the carrier (not shown) and the upper surface of the liquid crystal panel, and the upper surface plate 53 for pressing the liquid crystal panel together with the lower surface plate to form an outer portion of the lower surface plate. An outer portion 54, a first elevating portion 55 formed inside the outer portion and capable of elevating movement, a second elevating portion 56 formed to enable the elevating movement in the outer periphery of the rotation shaft 52; It includes a rotation shaft 52 for rotating the first lifting unit or the second lifting unit.

상기 연마부(50)는 액정표시장치의 제조공정 중 액정패널 제조공정을 거친 액정패널의 상하부 유리기판을 물리적인 방법으로 식각하는 부분으로서, 상기 하정반(51)에 놓여진 상기 캐리어 내부에 액정패널을 고정시킨 상태에서, 상기 상정반(53)을 하강이동시켜 액정패널이 상기 상정반(53)과 하정반(51)의 표면과 밀착되도록 한다. 상기 제2 승하강부(56)의 외곽에는 톱니가 형성되어 있고, 상기 제1 승하강부(55)의 외곽에도 톱니가 형성되어 있으며, 상기 캐리어(미도시)의 외곽에는 상기 제1 승하강부(55)의 톱니 및 상기 제2 승하강부(56)의 톱니와 맞물리는 톱니가 형성되어 있다. 따라서, 상기 회전축(52)의 회전에 의해 상기 제1 승하강부(55) 또는 제2 승하강부(56)가 회전되므로써, 상기 캐리어(미도시)가 상기 제1 및 제2 승하강부(55, 56) 주위를 회전하며, 상기 캐리어의 회전에 의해 상기 캐리어에 의해 고정되어 있는 액정패널이 상기 상정반(53) 및 하정반(51)의 표면과 접촉되면서 마모된다. 상기에서는 상기 회전축(52)에 의해 상기 제1 및 제2 승하강부(55, 56)가 회전되는 것으로 설명되어 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 본 발명은 상기 회전축(52), 제1 및 제2 승하강부(55, 56) 중 적어도 어느 하나의 회전에 의해 상기 캐리어가 상기 제1 및 제2 승하강부(55, 56)의 톱니와 맞물려 회전되도록 구성될 수 있다. 액정패널이 상기 상정반(53) 및 하정반(51)과 접촉되기 위해서는 상기 캐리어의 두께가 상기 액정패널의 두께보다 작아야 한다. 상기 상정반(53) 및 하정반(51)은 주철로 제조되며, 상기 상정반(53) 및 하정반(51)의 표면에는 미세한 래핑입자들이 돌출되어 있어서 상기 유리기판의 표면을 연마(Lapping)하게 된다. 상기 연마부(50)의 구동은 미도시된 제어부에 의해 제어된다.The polishing unit 50 is a part of etching the upper and lower glass substrates of the liquid crystal panel, which have undergone the liquid crystal panel manufacturing process, of the liquid crystal display device. The liquid crystal panel is disposed inside the carrier placed on the lower plate 51. In a fixed state, the upper plate 53 is moved downward so that the liquid crystal panel is in close contact with the surfaces of the upper plate 53 and the lower plate 51. A tooth is formed on an outer side of the second elevating unit 56, a tooth is formed on an outer side of the first elevating unit 55, and a first elevating unit 55 is formed on an outer side of the carrier (not shown). ) And teeth that engage with the teeth of the second elevating portion 56 are formed. Therefore, the first elevating portion 55 or the second elevating portion 56 is rotated by the rotation of the rotary shaft 52, so that the carrier (not shown) is the first and second elevating portions 55, 56. The liquid crystal panel, which is fixed by the carrier by the rotation of the carrier, wears while being in contact with the surfaces of the upper plate 53 and the lower plate 51. In the above, the first and second lifting units 55 and 56 are rotated by the rotation shaft 52, but the present invention is not limited thereto. Therefore, in the present invention, the carrier is rotated by at least one of the rotation shaft 52, the first and the second lifting units 55 and 56, and the teeth of the first and the second lifting units 55 and 56. It may be configured to engage and rotate. In order for the liquid crystal panel to contact the upper plate 53 and the lower plate 51, the thickness of the carrier must be smaller than the thickness of the liquid crystal panel. The upper plate 53 and the lower plate 51 are made of cast iron, and fine lapping particles protrude from the surfaces of the upper plate 53 and the lower plate 51, thereby laminating the surface of the glass substrate. Done. The driving of the polishing unit 50 is controlled by a controller not shown.

한편, 상기 상정반(53) 및 하정반(51)은 상기한 바와 같이 유리기판의 표면을 연마하는 기능을 수행하지만, 반복되는 연마 기능에 의해 상기 상정반 및 하정반의 표면 역시 마모될 수 있다. 특히, 상기 상정반 및 하정반은 원형으로 구성되어 있는바, 각 부분에서의 회전 각속도, 회전속도, 회전반경 등의 차이로 인해, 편마모가 발생될 수 있다. 따라서, 편마모된 상정반 또는 하정반의 편마모를 제거하기 위한 드레싱(Dressing) 공정이 주기적으로 수행되어야 하며, 상기 드레싱 공정에는 드레싱 캐리어(57)가 이용된다. 즉, 드레싱 공정은 상기 캐리어 및 액정패널 이 제거된 상태의 하정반(51)에 드레싱 캐리어(57)를 안착시킨 후에 상기 상정반(53)으로 상기 드레싱 캐리어(57)를 가압하므로써, 상기 드레싱 캐리어가 상기 상정반 및 하정반의 표면을 연마하도록 하여 상기 상정반 및 하정반의 표면에 형성된 편마모를 제거하는 공정이다.On the other hand, the upper surface plate 53 and the lower surface plate 51 performs the function of polishing the surface of the glass substrate as described above, the surface of the upper surface and the lower surface plate may also be worn by the repeated polishing function. In particular, the upper and lower plate is formed in a circular bar, due to the difference in the rotational angular velocity, rotational speed, rotation radius, etc. in each part, uneven wear may occur. Therefore, a dressing process for removing uneven wear of the unweared upper and lower surfaces should be performed periodically, and the dressing carrier 57 is used for the dressing process. That is, in the dressing process, the dressing carrier 57 is pressed on the top plate 53 after the dressing carrier 57 is seated on the lower plate 51 in which the carrier and the liquid crystal panel are removed. Is a step of removing the uneven wear formed on the surfaces of the upper and lower plates by polishing the surfaces of the upper and lower surfaces.

본 발명은 상기 드레싱 캐리어(57)를 보관하는 한편, 드레싱 공정을 위해 상기 드레싱 캐리어(57)를 상기 하정반(51)으로 이송(로딩)하거나 또는 드레싱 공정을 마친 상기 드레싱 캐리어(57)를 상기 하정반(51)으로부터 이송(언로딩)해 오기 위한 드레싱 캐리어 관리부(60)를 구비한다.According to the present invention, the dressing carrier 57 is stored, while the dressing carrier 57 is transferred (loaded) to the lower plate 51 for the dressing process or the dressing carrier 57 is finished. The dressing carrier management part 60 for conveying (unloading) from the lower surface plate 51 is provided.

상기 드레싱 캐리어 관리부(60)는 적어도 하나 이상의 드레싱 캐리어(57)가 적재되어 있는 적재함(61), 상기 적재함에 적재되어 있는 상기 드레싱 캐리어(57)를 승하강 시키는 구동기(62), 상기 구동기(62)에 의해 상기 적재함의 상단에 놓여져 있는 상기 드레싱 캐리어(57)를 상기 하정반(51)으로 이송하거나 상기 하정반(51)에 놓여져 있는 상기 드레싱 캐리어(57)를 상기 하정반(51)으로부터 상기 적재함으로 이송해 오기 위한 아암(63) 및 상기 구동기와 아암의 동작을 제어하기 위한 제어기(64)를 포함하고 있습니다.The dressing carrier management unit 60 includes a loading box 61 in which at least one dressing carrier 57 is loaded, a driver 62 for raising and lowering the dressing carrier 57 loaded in the loading box, and the driver 62. The dressing carrier 57 placed on the upper end of the loading box to the lower platen 51 or the dressing carrier 57 placed on the lower platen 51 from the lower plate 51. It includes an arm (63) for transporting to the stacker and a controller (64) for controlling the operation of the driver and the arm.

상기 아암(63)은 상기 적재함(61)으로부터 상기 하정반(51)까지 이동될 수 있도록 다관절로 형성되는 것이 바람직하나 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 아암(63)의 끝 부분에는 상기 드레싱 캐리어(57)를 실질적으로 밀거나 당길 수 있는 고리(65)가 형성되어 있다.The arm 63 is preferably formed in multiple joints so that the arm 63 can be moved from the loading box 61 to the lower plate 51, but is not limited thereto. In addition, an end portion of the arm 63 is formed with a ring 65 for pushing or pulling the dressing carrier 57 substantially.

상기 제어기(64)는 상기한 바와 같이 아암 및 구동기 동작을 제어하기 위한 것이나, 상기 연마부의 동작을 함께 제어할 수 있도록 구성될 수도 있다. 즉, 상기 설명에서는 상기 연마부(50)에 대한 제어를 위해 제어부(미도시)가 구비된다고 하였으나, 상기 제어기(64)가 상기 제어부의 기능을 포함할 수도 있다.The controller 64 is for controlling the operation of the arm and the driver as described above, or may be configured to control the operation of the polishing unit together. That is, in the above description, a controller (not shown) is provided to control the polishing unit 50, but the controller 64 may include a function of the controller.

한편, 상기 드레싱 캐리어 관리부(60)와 연마부(50)가 인접되어 있는 곳에는 도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이 상기 외곽부(54)가 형성되어 있지 않으며, 상기 제1 승하강부(55)는 승하강이 가능하도록 구성되어 있기 때문에, 상기 드레싱 캐리어(57)는 상기 드레싱 캐리어 관리부(60)로부터 상기 하정반(51)으로 이송될 수 있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 따라서, 상기 외곽부(54) 역시 승하강이 가능하도록 구성될 수 있다. 즉, 상기 드레싱 캐리어(57)가 상기 아암(63)에 의해 상기 하정반(51)으로 이송되는 경우, 상기 외곽부(54) 및 제1 승하강부(55)가 하강되므로써, 상기 드레싱 캐리어(57)의 이동 경로가 확보될 수 있다. On the other hand, where the dressing carrier management unit 60 and the polishing unit 50 are adjacent to each other, as shown in FIGS. 3 and 5, the outer portion 54 is not formed, and the first elevating unit 55 is not formed. ) Is configured to move up and down, the dressing carrier 57 may be transferred from the dressing carrier management unit 60 to the lower plate 51. However, the present invention is not limited thereto, and therefore, the outer portion 54 may also be configured to be descended. That is, when the dressing carrier 57 is transferred to the lower plate 51 by the arm 63, the outer portion 54 and the first raising and lowering portion 55 are lowered, whereby the dressing carrier 57 ) Can be secured.

도 6은 도 3에 도시된 래핑장치에서 드레싱 캐리어가 하정반으로 이송되는 상태를 나타낸 예시도이다.6 is an exemplary view showing a state in which the dressing carrier is transferred to the lower plate in the lapping apparatus shown in FIG. 3.

상기 드레싱 캐리어(57)는 도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이 원형으로 구성되어 있으며, 그 외곽에는 톱니가 형성되어 있다. 또한, 상기 드레싱 캐리어(57)는 그 안쪽 공간(57-1)이 비어있는 형태로 구성되어 있어서, 상기 아암(63)의 고리(65)가 상기 안쪽 공간에 걸릴 수 있도록 구성되어 있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니므로, 상기 드레싱 캐리어(57)가 상기 고리(65)에 의해 이동될 수 있도록 상기 드레싱 캐리어(57)의 표면에 홈이 형성되어 있을 수도 있다.The dressing carrier 57 is configured in a circular shape as shown in Figs. 3 to 5, and teeth are formed on the outer side thereof. In addition, the dressing carrier 57 is configured such that the inner space 57-1 is empty, and the ring 65 of the arm 63 is configured to be caught in the inner space. However, the present invention is not limited thereto, and grooves may be formed on the surface of the dressing carrier 57 so that the dressing carrier 57 can be moved by the ring 65.

상기 드레싱 캐리어(57)를 상기 하정반(51)으로 이송하기 위해, 사용자로부 터 상기 제어기(64)로 이송 명령 신호가 입력되면, 상기 제어기(64)는 상기 구동기(61)를 구동하여 상기 적재함(61)에 적재되어 있는 드레싱 캐리어(57)를 상기 적재함(61)의 표면으로 노출시키게 된다.When the transfer command signal is input from the user to the controller 64 to transfer the dressing carrier 57 to the lower plate 51, the controller 64 drives the driver 61 to The dressing carrier 57 loaded in the stacking box 61 is exposed to the surface of the stacking box 61.

상기 드레싱 캐리어(57)가 상기 적재함의 표면(61)에 노출되면, 상기 제어기(64)는 상기 아암(63)을 이동시켜 상기 아암(63)의 끝단에 형성된 상기 고리(65)가 상기 드레싱 캐리어(57)에 고정되도록 한다. 즉, 상기 고리(65)는 상기 드레싱 캐리어(57)의 안쪽 공간(57-1)으로 삽입되므로써, 상기 드레싱 캐리어(57)를 하정반(51) 쪽으로 이동시키게 된다.When the dressing carrier 57 is exposed to the surface 61 of the loading box, the controller 64 moves the arm 63 so that the ring 65 formed at the end of the arm 63 is the dressing carrier. To (57). That is, the ring 65 is inserted into the inner space 57-1 of the dressing carrier 57, thereby moving the dressing carrier 57 toward the lower plate 51.

상기와 같은 드레싱 캐리어(57)의 이동 중에, 상기 제1 승하강부(55)는 하강되므로써, 상기 드레싱 캐리어(57)는 상기 외곽부(54)의 단절된 부분과 상기 제1 승하강부(55)의 상단을 통과하여 상기 하정반(51)으로 이동될 수 있다. 그러나, 상기한 바와 같이 상기 외곽부(54) 및 제1 승하강부(55) 모두가 하강되어 상기 드레싱 캐리어(57)의 이동경로가 확보될 수도 있다.During the movement of the dressing carrier 57 as described above, the first raising and lowering portion 55 is lowered, so that the dressing carrier 57 is cut off of the outer portion 54 and the first raising and lowering portion 55. It can be moved to the lower plate 51 through the upper end. However, as described above, both the outer portion 54 and the first elevating portion 55 may be lowered to secure a movement path of the dressing carrier 57.

도 7은 도 3에 도시된 래핑장치에서 드레싱 캐리어가 하정반으로부터 적재함으로 이송되는 상태를 나타낸 예시도이다.7 is an exemplary view showing a state in which the dressing carrier is transferred from the lower plate to the stacker in the lapping apparatus shown in FIG. 3.

상기 드레싱 캐리어(57)를 상기 하정반(51)으로부터 적재함(61)으로 이송하기 위해, 사용자로부터 상기 제어기(64)로 이송 명령 신호가 입력되면, 상기 제어기(64)는 상기 아암(63)을 구동하여 상기 아암(63)의 끝부분에 형성되어 있는 상기 고리(65)가 상기 하정반(51)에 놓여져 있는 드레싱 캐리어(57)의 외곽부분에 걸치도록 한다. 이를 위해 상기 제2 승하강부(56)는 하강되어야 한다. When a transfer command signal is input from the user to the controller 64 to transfer the dressing carrier 57 from the lower plate 51 to the loading box 61, the controller 64 moves the arm 63. By driving, the ring 65 formed at the end of the arm 63 extends over the outer portion of the dressing carrier 57 placed on the lower plate 51. To this end, the second lifting unit 56 should be lowered.

즉, 상기 고리(65)가 상기 드레싱 캐리어(57)를 잡아당기기 위해서는, 상기 회전축(52)에 인접해 있는 드레싱 캐리어(57)의 외곽부에 상기 고리(65)가 걸쳐져야 하며, 이를 위해 상기 제2 승하강부(56)가 하강되면, 상기 제2 승하강부(56)가 상승되어 있었던 위치로 상기 고리(65)가 삽입되어 상기 드레싱 캐리어(57)를 잡아당기게 된다. That is, in order for the ring 65 to pull the dressing carrier 57, the ring 65 must be hung on the outer portion of the dressing carrier 57 adjacent to the rotating shaft 52. When the second lifting unit 56 is lowered, the ring 65 is inserted into the position where the second lifting unit 56 is raised to pull the dressing carrier 57.

상기 고리(65)가 상기 드레싱 캐리어(57)의 외곽부에 밀착된 상태에서 상기 아암(63)의 길이가 줄어들면 상기 드레싱 캐리어(57)는 상기 하정반(51)으로부터 적재함(61) 쪽으로 이송된다.When the length of the arm 63 is reduced while the ring 65 is in close contact with the outer portion of the dressing carrier 57, the dressing carrier 57 is transferred from the lower plate 51 toward the loading box 61. do.

상기와 같은 드레싱 캐리어(57)의 이동 중에, 상기 제1 승하강부(55)는 하강되므로써, 상기 드레싱 캐리어(57)는 상기 외곽부(54)의 단절된 부분과 상기 제1 승하강부(55)의 상단을 통과하여 상기 하정반(51)으로 이동될 수 있다. 그러나, 상기한 바와 같이 상기 외곽부(54) 및 제1 승하강부(55) 모두가 하강되어 상기 드레싱 캐리어(57)의 이동경로가 확보될 수도 있다.During the movement of the dressing carrier 57 as described above, the first raising and lowering portion 55 is lowered, so that the dressing carrier 57 is cut off of the outer portion 54 and the first raising and lowering portion 55. It can be moved to the lower plate 51 through the upper end. However, as described above, both the outer portion 54 and the first elevating portion 55 may be lowered to secure a movement path of the dressing carrier 57.

상기 드레싱 캐리어(57)가 상기 적재함의 표면(61)으로 이송되면, 상기 제어기(64)는 상기 구동기(62)를 하강시켜, 상기 드레싱 캐리어(57)가 상기 적재함(61)의 내부에 적재되도록 한다.When the dressing carrier 57 is transported to the surface 61 of the stacker, the controller 64 lowers the driver 62 so that the dressing carrier 57 is loaded inside the stacker 61. do.

상술된 바와 같은 본 발명에 따른 래핑장치는 래핑공정을 위한 드레싱 캐리어의 로딩 및 언로딩 시간을 감소시킬 뿐만 아니라, 로딩 및 언로딩을 위한 인력을 절감시킬 수 있다는 우수한 효과가 있다.The lapping apparatus according to the present invention as described above has an excellent effect of not only reducing the loading and unloading time of the dressing carrier for the lapping process, but also reducing the manpower for loading and unloading.

또한, 본 발명은 자동으로 드레싱 캐리어를 로딩 및 언로딩하므로써, 사용자의 작업 안정성을 향상시킬 수 있다는 우수한 효과가 있다.In addition, the present invention has an excellent effect of improving the working stability of the user by automatically loading and unloading the dressing carrier.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (8)

기판의 표면을 연마하는 연마부; 및 Polishing unit for polishing the surface of the substrate; And 상기 연마부의 일측에 형성되며, 상기 연마부의 편마모를 제거하기 위한 드레싱 캐리어를 상기 연마부로 로딩하거나 상기 연마부로부터 언로딩하여 관리하는 드레싱 캐리어 관리부를 포함하는 래핑장치.And a dressing carrier management unit formed on one side of the polishing unit and configured to load or unload the dressing carrier for removing uneven wear of the polishing unit from or to the polishing unit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 드레싱 캐리어 관리부는,The dressing carrier management unit, 상기 드레싱 캐리어가 적재되어 있는 적재함;A loading box in which the dressing carrier is loaded; 상기 적재함에 적재되어 있는 상기 드레싱 캐리어를 승하강 시키는 구동기;An actuator for elevating and lowering the dressing carrier loaded in the stacking box; 상기 구동기에 의해 상기 적재함의 상단에 놓여져 있는 상기 드레싱 캐리어를 상기 연마부로 이송하거나 상기 연마부에 놓여져 있는 상기 드레싱 캐리어(57)를 상기 연마부로부터 상기 적재함으로 이송해 오는 아암; 및 An arm for transferring the dressing carrier placed on the upper end of the loading box by the driver to the polishing unit or transferring the dressing carrier 57 placed on the polishing unit from the polishing unit to the loading bin; And 상기 구동기와 아암의 동작을 제어하기 위한 제어기를 포함하는 래핑장치.And a controller for controlling the operation of the driver and the arm. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 아암은,The arm is, 상기 적재함으로부터 상기 연마부까지 이동될 수 있도록 다관절로 형성되는 것을 특징으로 하는 래핑장치.Lapping apparatus characterized in that formed in multiple joints to be moved from the loading box to the polishing unit. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 아암의 끝 부분에는 상기 드레싱 캐리어를 밀거나 당길 수 있는 고리가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 래핑장치.Wrapping device, characterized in that the end of the arm is formed with a ring that can push or pull the dressing carrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 연마부는, The polishing unit, 상기 기판의 하부면을 연마하기 위해 미세한 래핑입자들이 형성되어 있는 하정반;A lower plate in which fine lapping particles are formed to polish the lower surface of the substrate; 상기 기판을 고정시킨 상태에서 상기 하정반에 놓여지는 캐리어;A carrier placed on the lower plate while the substrate is fixed; 상기 기판의 상부면을 연마하기 위해 미세한 래핑입자들이 형성되어 있으며 상기 하정반과 함께 상기 기판을 가압하는 상정반;An upper surface plate having fine lapping particles formed thereon to polish the upper surface of the substrate and pressurizing the substrate together with the lower surface plate; 상기 하정반의 외곽을 형성하는 외곽부;An outer portion forming an outer portion of the lower plate; 상기 외곽부 안쪽에 형성되어 있으며 승하강 이동이 가능한 제1 승하강부; A first elevating portion formed inside the outer portion and capable of moving up and down; 상기 회전축의 외곽에서 승하강 이동이 가능하도록 형성된 제2 승하강부; 및A second elevating unit configured to move up and down at an outer side of the rotary shaft; And 상기 제1 승하강부, 제2 승하강부 및 상기 하정반의 중심에서 축을 형성하며 회전되는 회전축을 포함하는 래핑장치.Lapping apparatus including a rotating shaft which is rotated to form an axis in the center of the first lifting unit, the second lifting unit and the lower plate. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 드레싱 캐리어 관리부로부터 상기 연마부로 상기 드레싱 캐리어가 이동 되는 이동경로상에는 상기 외곽부가 형성되어 있지 않은 것을 특징으로 하는 래핑장치.Lapping apparatus, characterized in that the outer portion is not formed on the movement path to move the dressing carrier from the dressing carrier management unit to the polishing unit. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 외곽부는 승하강 이동이 가능하도록 형성된 것을 특징으로 하는 래핑장치.Lapping apparatus, characterized in that the outer portion is formed to be moved up and down. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 7, 상기 기판은, The substrate, 상부기판 및 하부기판이 결합되고 그 사이에 액정이 주입되어 있는 액정패널인 것을 특징으로 하는 래핑장치.A lapping apparatus, wherein the upper substrate and the lower substrate are coupled to each other, and a liquid crystal panel in which liquid crystal is injected therebetween.
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CN103240666A (en) * 2013-05-15 2013-08-14 中锗科技有限公司 Grinding method for solar battery germanium substrate slices
KR101377538B1 (en) * 2009-03-06 2014-03-26 주식회사 엘지화학 Lower Unit for Glass Polishing System and Polishing method utilizing the same

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