KR20080055124A - Apparatus for evaporation - Google Patents

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KR20080055124A
KR20080055124A KR1020060128060A KR20060128060A KR20080055124A KR 20080055124 A KR20080055124 A KR 20080055124A KR 1020060128060 A KR1020060128060 A KR 1020060128060A KR 20060128060 A KR20060128060 A KR 20060128060A KR 20080055124 A KR20080055124 A KR 20080055124A
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이상근
황순재
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

An evaporation apparatus is provided to prevent color mixing between adjacent light emitting layers by moving only a shutter to be aligned with a shadow mask while arranging a substrate and the shadow mask at fixed positions. An evaporation apparatus(200) includes a chamber(210), a source(220), a shadow mask(240), and a shutter(250). The source is placed inside the chamber, receives evaporation material, and discharges the evaporation material with uniform concentration. The shadow mask is placed between the source and a substrate(230) facing each other and has patterns of an opening unit and a blocking unit to selectively expose a part of the substrate. The shutter is placed between the shadow mask and the source and has patterns of an opening unit and a blocking unit to selectively expose a part of the opening unit of the shadow mask.

Description

증착 장치{Apparatus for evaporation} Deposition {Apparatus for evaporation}

도 1a는 종래 증착 장치의 구조를 도시한 모식도. Figure 1a shows a conceptual view of a structure of a conventional deposition apparatus.

도 1b는 도 1a 상의 A1영역의 부분 확대도. Figure 1b is a partial enlarged view of a region A1 on Fig. 1a.

도 2a는 본 발명의 일실시예에 따른 증착 장치의 구조를 도시한 모식도. Figure 2a is a schematic diagram showing the structure of a deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2b는 도 2a 상의 A2영역의 부분 확대도. Figure 2b is a partially enlarged view of a region A2 on Figure 2a.

도 2c는 도 2a 상의 증착 장치에 포함되는 고정 수단의 구조를 도시한 모식도. Figure 2c is a schematic diagram showing the structure of the holding means included in the evaporation apparatus on Figure 2a.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* * Description of the Related Art *

200 : 증착 장치 210 : 챔버 200: deposition apparatus 210: chamber

220 : 소스(source) 230 : 기판 220: the source (source) 230: substrate

240 : 섀도우 마스크 250 : 셔터 240: 250 Shadow Mask: Shutters

280 : 제 1 고정 수단 280a : 고정축 280: first holding means 280a: fixed shaft

280b : 척(chuck) 구조 290 : 제 2 고정수단 280b: chuck (chuck) gujo 290: second holding means

본 발명은 증착 장치 및 그를 이용한 증착 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a deposition method using a deposition apparatus and him.

최근 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판표시장치들이 대두되고 있다. Recently tube that are emerging (Cathode Ray Tube) various flat panel display devices that can be reduced weight and volume. 이러한 평판표시장치로는 액정 표시장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display), 플라즈마 표시패널(Plasma Display Panel) 및 전계발광소자(Light Emitting Device)등이 있다. Such flat panel display devices include liquid crystal display (Liquid Crystal Display), field emission display (Field Emission Display), PDP (Plasma Display Panel), and electroluminescence devices (Light Emitting Device). 그 중 전계발광소자는 응답속도가 1ms 이하로서 고속의 응답속도를 가지며, 낮은 소비 전력, 넓은 시야각 및 높은 콘트라스트(Contrast) 등의 특성으로 차세대 디스플레이로서 연구되고 있다. Electroluminescent device of which has a fast response time of 1ms or less as a response speed, it has been studied as a next generation display characteristics such as low power consumption, wide viewing angle, and high contrast (Contrast).

일반적으로 전계발광소자는 기판, 기판 상에 위치한 애노드(anode), 애노드 상에 위치한 발광층(emission layer; EML), 발광층 상에 위치한 캐소드(cathode)로 이루어진다. It comprises a cathode (cathode) located in the; (EML emission layer), a light emitting layer in the EL device generally includes an anode (anode), in the light emitting layer on the anode is located on the substrate, the substrate. 이러한 전계발광소자에 있어서, 애노드와 캐소드 간에 전압을 인가하면, 정공과 전자가 발광층 내로 주입되고, 발광층내로 주입된 정공과 전자는 발광층에서 재결합하여 엑시톤(exiton)을 생성하고, 이러한 엑시톤이 여기 상태에서 기저 상태로 전이하면서 빛을 방출하게 된다. In this EL device, when a voltage is applied between the anode and the cathode, holes and electrons are injected into the light emitting layer, the holes and electrons injected into the light-emitting layer are recombined in the light emitting layer generate excitons (exiton), and such excitons excited state while the transition from the ground state thereby emitting light.

상기와 같은 전계발광소자는 풀컬러 디스플레이를 구현하기 위해서, 레드, 그린 및 블루(R,G,B)를 구현하는 서브 픽셀 영역들을 포함하거나, 레드, 그린 및 블루(R,G,B)를 구현하는 발광층을 선택적으로 포함하는 픽셀 영역들을 포함할 수 있었다. Electroluminescent element as described above to, red, green and blue (R, G, B) comprises a sub-pixel area, or red, green and blue (R, G, B) to implement in order to implement a full-color display optionally including the implementation of the light-emitting layer could comprise pixel region. 이와 같은 서브 픽셀 영역들 또는 픽셀 영역들은 섀도우 마스크(Shadow Mask)를 사용하여 각각의 발광층을 증착하여 형성할 수 있었다. Such sub-pixel regions or pixel regions could be formed by depositing each of the light-emitting layer using the shadow mask (Shadow Mask).

도 1a는 종래 증착 장치의 구조를 도시한 모식도이다. Figure 1a is a schematic diagram showing a structure of a conventional deposition apparatus. 또한, 도 1b는 도 1a 상의 A1영역의 부분 확대도이다. Further, Fig. 1b is a partially enlarged view of a region A1 on Fig. 1a.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 챔버(110) 내부에는 증착 재료를 수용하고, 일정 농도로 증착 재료를 배출시키는 소스(120)가 위치하였다. When Fig. 1a and FIG. 1b, the source 120 was located to within the chamber 110 accommodating a deposition material, and discharging the deposition material at a constant concentration.

기판(130)은 증착 영역이 소스(120)와 대향하도록 배치되었다. The substrate 130 is a deposition area has been arranged so as to face the source 120. 미도시되었으나, 기판(130)은 척(Chuck)구조를 포함하는 고정 수단에 의해 챔버(110) 내부에 고정 배치될 수 있었다. Although not shown, the substrate 130 could be arranged fixed to the inner chamber (110) by a fixing means including a nine trillion (Chuck).

소스(120)와 기판(130) 사이에는 섀도우 마스크(140)가 위치할 수 있었다. Between the source 120 and the substrate 130, it could be a shadow mask 140 is located. 섀도우 마스크(140)는 일정 패턴의 개구부(140a) 및 차단부(140b)를 포함하여 기판(130) 상의 증착 영역을 선택적으로 노출시켰다. Shadow mask 140 was selectively exposed to a deposition region on the substrate 130, including an opening (140a) and a shielding portion (140b) of certain patterns. 예를 들어, 섀도우 마스크(140)는 개구부(140a)의 패턴을 조절하여, 기판(130) 상에 형성될 전계발광소자의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 발광층의 패턴에 따라 어느 하나의 색을 구현하는 발광층의 위치만을 선택적으로 노출시킬 수 있었다. For example, the shadow mask 140 has a pattern of red (R) of the EL device, a green (G), and blue (B) emission layer to be formed on by controlling the pattern of the opening (140a), the substrate 130 depending was possible to selectively expose only the location of the light emitting layer to implement any of the colors.

이러한 섀도우 마스크(140)는 기판(130) 상의 증착 영역에 개구부 패턴이 대응되도록 얼라인되는 과정에서 마그넷이 적용될 수 있었다. This shadow mask 140 could be a magnet applied in the process of being aligned such that the opening pattern corresponding to a deposition region on the substrate 130.

이상과 같은 구조의 종래 증착 장치(100)를 통해 기판(130) 상에 서로 다른 색을 구현하는 다수의 발광층을 형성할 경우, 그 구현하는 색의 종류만큼 섀도우 마스크(140)의 얼라인 과정이 필요하였다. When forming at least the number of light-emitting layers to implement the different colors on the substrate 130 via a conventional deposition apparatus 100 of the above structure, the alignment process of the implementation shadow mask by type of color (140) It was needed. 이를 도 1b를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. Described in detail with reference to FIG 1b as follows. 종래 증착 장치(100)를 이용하여 기판(130) 상에 적색, 녹색 발광층(R, G)을 형성한 뒤, 적색, 녹색 발광층(R, G)과 인접한 청색 발광층(B)을 형성 하는 과정에서 섀도우 마스크(140)의 개구부(140a)와 청색 발광층(B)이 증착될 영역이 일정 오차 범위 내에서 미스 얼라인될 수 있었다. A conventional vapor deposition apparatus 100, the red, the green light-emitting layer on the substrate 130 using the back to form a (R, G), in the process of forming a red color, a green light-emitting layer (R, G) and the adjacent blue light-emitting layer (B) the opening (140a) and the blue light emitting layer (B) is a region to be deposited on the shadow mask 140 could be a miss alignment within a certain margin of error. 그에 따라 청색 발광층(B)과 녹색 발광층(G) 간의 혼색 영역(C)이 발생하였다. Whereby the mixing zone (C) between the blue light-emitting layer (B) and green light-emitting layer (G) were generated in accordance. 이와 같이 이웃한 발광층 간에 발생하는 혼색 문제는 종래 증착 방법을 통해 제작되는 전계발광소자를 포함하는 평판표시소자들에 있어 디스플레이 상의 정확한 색상 구현 및 이미지 구현을 저해하는 요인이 되었고, 종래 증착 방법의 공정 수율이 저하되는 문제로 이어졌다. Thus, color mixing problems that occur between the neighboring light emitting layer here was a factor that inhibits the accurate color implementation and image implemented on the display on the flat panel display device including an electroluminescent element is produced through the conventional deposition method, a step of the conventional deposition method It led to the problem that the yield is lowered.

따라서, 본 발명은 평판표시소자의 이웃한 발광층 간의 혼색 문제를 방지할 수 있고, 증착 공정의 수율을 향상시킬 수 있는 증착 장치 및 증착 방법을 제공하는 데 그 목적이 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a deposition apparatus and a deposition method capable of capable of preventing the color mixing problem between the adjacent light-emitting layer of a flat panel display device, increase the yield of the deposition process.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 챔버, 챔버 내에 위치하며, 증착 재료를 수용하고 일정 농도로 증착 재료를 배출시키는 소스, 소스와 대향하도록 배치되는 기판과 소스 사이에 위치하며, 기판의 일부를 선택적으로 노출시키는 개구부 및 차단부의 패턴을 포함하는 섀도우 마스크, 및 섀도우 마스크와 소스 사이에 위치하며, 섀도우 마스크의 개구부 중 일부를 선택적으로 노출시키는 개구부 및 차단부의 패턴을 포함하는 셔터를 포함하는 증착 장치를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention is located between a chamber, located within the chamber, a source for receiving an evaporation material, and discharging the deposition material at a constant concentration, a substrate and a source that is disposed opposite to the source, a portion of the substrate optionally positioned between exposure to the opening and block the shadow mask including a pattern portion, and the shadow mask and the source and the deposition device including a shutter including a pattern opening portion and the blocking portion to selectively expose some of the openings of the shadow mask It provides.

셔터는 외부 구동부와 연결되어 섀도우 마스크와 평행을 유지하며 위치가 조정될 수 있다. The shutter is connected to the external driving section remain parallel with the shadow mask, and may be adjusted to be located.

섀도우 마스크와 셔터 사이는 0 초과 50㎛ 범위로 이격될 수 있다. Between the shadow mask and the shutter it may be spaced apart by more than 0 50㎛ range.

섀도우 마스크의 개구부는 기판 상에 형성될 전계발광소자의 서로 다른 색을 구현하는 발광층들 각각의 위치가 구분되도록 기판을 노출시킬 수 있다. The opening of the shadow mask may expose the substrate such that the light emitting layer in each of the positions are separated to implement the different colors of the EL device to be formed on the substrate.

셔터의 개구부는 서로 다른 색을 구현하는 발광층들 중 어느 하나의 색을 구현하는 발광층과 대응되는 섀도우 마스크의 개구부들을 선택적으로 노출시킬 수 있다. The opening of the shutter may be selectively exposed to the openings of the shadow mask with each other corresponds to the light emitting layer to implement any of the colors of the light-emitting layer for implementing a different color.

다른 측면에서, 본 발명은 내부 일측에 증착 재료를 수용하고 일정 농도로 증착 재료를 배출시키는 소스를 포함하는 챔버에 기판을 제공하는 단계, 기판을 소스와 대향하도록 배치하는 단계, 기판과 소스 사이에 기판의 일부 영역을 선택적으로 노출시키도록 개구부를 포함하는 섀도우 마스크를 배치하는 단계, 섀도우 마스크와 소스 사이에 섀도우 마스크의 개구부 중 일부를 선택적으로 노출시키도록 개구부를 포함하는 셔터를 배치하는 단계를 포함하는 증착 방법을 제공한다. Between another aspect, the present invention comprises the steps of arranged to receive the deposition material on one side of the inside and comprising: providing a substrate in a chamber containing the source for discharging an evaporation material at a constant concentration, facing the substrate source, the substrate and the source includes placing a shutter that includes an opening so as to selectively expose a portion of the aperture of the shadow mask between the step of placing a shadow mask comprises an opening so as to selectively expose a portion of the substrate, the shadow mask and the source It provides a vapor deposition process.

셔터는 외부 구동부와 연결되어 섀도우 마스크와 평행을 유지하며 위치가 조정될 수 있다. The shutter is connected to the external driving section remain parallel with the shadow mask, and may be adjusted to be located.

섀도우 마스크와 셔터 사이는 0 초과 50㎛ 범위로 이격될 수 있다. Between the shadow mask and the shutter it may be spaced apart by more than 0 50㎛ range.

섀도우 마스크의 개구부는 기판 상에 형성될 전계발광소자의 서로 다른 색을 구현하는 발광층들 각각의 위치가 구분되도록 기판을 노출시킬 수 있다. The opening of the shadow mask may expose the substrate such that the light emitting layer in each of the positions are separated to implement the different colors of the EL device to be formed on the substrate.

셔터의 개구부는 서로 다른 색을 구현하는 발광층들 중 어느 하나의 색을 구현하는 발광층과 대응되는 섀도우 마스크의 개구부들을 선택적으로 노출시킬 수 있다. The opening of the shutter may be selectively exposed to the openings of the shadow mask with each other corresponds to the light emitting layer to implement any of the colors of the light-emitting layer for implementing a different color.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 증착 장치 및 그를 이용한 증착 방법에 대하여 상세히 설명하도록 한다. Shall be described in detail with respect to the deposition apparatus and a deposition method using the same according to one embodiment described below, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2a는 종래 증착 장치의 구조를 도시한 모식도이다. Figure 2a is a schematic diagram showing a structure of a conventional deposition apparatus. 도 2b는 도 2a 상의 A2영역의 부분 확대도이다. Figure 2b is a partially enlarged view of a region A2 on Figure 2a.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 챔버(210) 내부에는 증착 재료를 수용하고, 일정 농도로 증착 재료를 배출시키는 소스(220)가 위치한다. If Figures 2a and FIG. 2b, and a source 220 to a chamber 210 inside the accommodating a deposition material, and discharging the deposition material to a predetermined density position. 기판(230)은 증착 영역이 소스(220)와 대향하도록 배치된다. The substrate 230 is a deposition area is arranged to face the source (220). 미 도시되었으나, 기판(230)은 척(chuck) 구조를 갖는 고정 수단에 의해 챔버(210) 내부에 고정 배치될 수 있다. Although not shown, the substrate 230 can be arranged fixed in the chamber 210 by a fixing means having a nine trillion (chuck).

소스(220)와 기판(230) 사이에는 섀도우 마스크(240)가 위치할 수 있다. Between the source 220 and the substrate 230 may be a shadow mask 240 is located. 섀도우 마스크(240)는 일정 패턴의 개구부(240a) 및 차단부(240b)를 포함하여 기판(230) 상의 증착 영역을 선택적으로 노출시켰다. Shadow mask 240 was selectively exposed to a deposition region on the substrate 230, including an opening (240a) and a shielding portion (240b) of certain patterns. 예를 들어, 섀도우 마스크(240)는 개구부(240a)의 패턴을 조절하여, 기판(230) 상에 형성될 전계발광소자의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 발광층의 패턴에 따라 서로 다른 색을 구현하는 발광층 각각의 위치를 구분되게 노출시킬 수 있다. For example, the shadow mask 240 to the pattern of the red color of the light-emitting diode (R), green (G), and blue (B) emission layer to be formed on by controlling the pattern of the opening (240a), the substrate (230) depending can be exposed to be separated position of the light-emitting layer, respectively, which each implement a different color. 이러한 섀도우 마스크(240)는 기판(230) 상의 증착 영역에 개구부(240a) 패턴이 대응되도록 얼라인되는 과정에서 마그넷이 적용될 수 있다. The shadow mask 240 has a magnet may be applied in the process of being aligned to the opening (240a) corresponds to pattern the deposition region on the substrate 230.

또한, 섀도우 마스크(240)와 소스(220) 사이에는 셔터(shutter, 250)가 위치한다. Further, between the shadow mask 240 and the source 220, the shutter (shutter, 250) position. 셔터(250)는 개구부(250a) 및 차단부(250b)의 패턴에 의해 섀도우 마스크(240)의 개구부(240a) 중 일부를 선택적으로 노출시킬 수 있다. Shutter 250 may be selectively exposed to a portion of the opening (240a) of the shadow mask 240 by the pattern of the opening (250a) and a shielding portion (250b).

도 2b를 참조하여 상세히 설명하면, 기판(230) 상에는 섀도우 마스크(240)의 개구부(240a) 및 차단부(240b) 패턴에 의해 적색, 녹색, 청색 발광층(R,G,B)이 패터닝된다. Reference to Figure 2b and will now be described in detail, the substrate 230, the opening (240a) and a shielding portion (240b), red, green, and blue light-emitting layer by the pattern of the shadow mask (240) (R, G, B) is patterned On. 섀도우 마스크(240)는 기판(230) 상의 발광층(R,G,B)의 패턴에 따라 모든 적색, 녹색, 청색 발광층(R,G,B)의 증착 영역이 구분되어 섀도우 마스크(240)의 개구부(240a)을 통해 노출되도록 기판(230)과 얼라인되어 챔버(도 2a의 210) 내에 고정 배치된다. The opening of the shadow mask 240 includes a substrate 230, a light emitting layer all the red, green and blue light emitting layer is divided the deposition area shadow masks 240 of the (R, G, B) according to the pattern of the (R, G, B) on the is a (240a) and the substrate 230 exposed through alignment is fixedly arranged in the chamber (210 of FIG. 2a). 또한, 셔터(250)는 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 발광층 중 어느 하나와 대응되는 섀도우 마스크(240)의 개구부(240a)를 선택적으로 노출시키도록 섀도우 마스크(240)와 얼라인되며, 발광층이 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 세 가지로 구분되므로 세 번 위치가 변경되어 얼라인 배치된다. Further, the shutter 250 includes red (R), green (G), and blue (B) the shadow mask so as to selectively expose an opening (240a) of the shadow mask (240) corresponding with one of a light-emitting layer 240 aligned and, since the light-emitting layer is a red (R), green (G), and blue (B) are divided into three three-position change is aligned arrangement.

도 2c는 도 2a 상의 증착 장치에 포함되는 고정 수단의 구조를 도시한 모식도이다. 2c is a schematic diagram showing the structure of the holding means included in the evaporation apparatus on Figure 2a. 도 2c를 참조하여 기판(230) 및 섀도우 마스크(240)와 셔터(250)의 위치관계를 상세히 설명하면 다음과 같다. Reference to Figure 2c, is described the positional relationship between the substrate 230 and shadow mask 240 and the shutter 250 is in detail as follows.

기판(230) 및 섀도우 마스크(240)는 제 1 고정 수단(280)에 의해 챔버(도 2a의 210 참조) 내 고정 배치될 수 있다. Substrate 230 and shadow mask 240 may be disposed within the fixed first holding means (280) chamber (see 210 of Fig. 2a) by. 제 1 고정 수단(280)은 외부 구동부와 연결되는 고정축(280a) 및 기판(230)과 섀도우 마스크(240)의 위치를 고정하는 척구조(280b)를 포함할 수 있다. First securing means 280 may include a chuck for fixing the position of the fixed shaft (280a) and the substrate 230 and shadow mask 240, which is connected to the external drive structure (280b).

셔터(250)는 제 2 고정 수단(290)에 의해 챔버 내 배치된다. Shutter 250 is disposed within the chamber by a second fastening means (290). 미 도시되었으나, 제 2 고정 수단(290)은 외부 구동부와 연결되어 셔터(250)와 섀도우 마스크(240)의 평행을 유지한 상태로 상하 좌우로 이동이 가능하다. Although not shown, the second holding means 290 is capable of moving up, down, left, and right while maintaining a parallel connected to the external driving section shutter 250 and the shadow mask 240 state. 이때, 섀도우 마스크(240)와 셔터(250)는 0 초과 50㎛ 범위 내에서 상호 간 이격될 수 있다. At this time, the shadow mask 240 and the shutter 250 may be spaced between each other in the range from greater than 0 50㎛. 이는 섀 도우 마스크(240)와 셔터(250) 간의 접촉에 의한 손상을 방지하고, 증착 공정의 정밀도 및 균일도를 확보할 수 있는 조건이다. This is a condition that can be prevented from being damaged due to the contact between the chassis shadow mask 240 and the shutter 250, and securing the accuracy and uniformity of the deposition process.

이상과 같은 본 발명의 일실시예에 따른 증착 장치(200)는 제 1 및 제 2 고정 수단(280, 290)의 구조에 따라, 셔터(240)의 위치 이동만으로 증착 공정을 수행할 수 있다. Deposition apparatus 200 in accordance with one embodiment of the present invention as described above can perform a deposition process with only the movement of a shutter 240 according to the structure of the first and second fixing means (280, 290). 따라서, 본 발명의 일실시예에 따른 증착 장치(200)는 위에서 설명한 바와 같이 기판(230)과 섀도우 마스크(240)의 위치가 고정 배치된 상태에서, 증착 공정의 순서에 따라 셔터(250)만 위치 이동하여 섀도우 마스크(240)와 얼라인되므로, 종래 증착 장치에서 기판(도 1b의 130)과 섀도우 마스크(도 1b의 140) 간의 미스 얼라인으로 인해 발생하였던 기판(도 1b의 130) 상의 이웃한 발광층 간의 혼색 문제를 해결할 수 있다. Therefore, only the vapor deposition apparatus 200 is in the position of the substrate 230 and shadow mask 240 fixed arrangement, as described above, the shutter 250 is in the order of the deposition process according to an embodiment of the present invention positioning the, so the alignment and the shadow mask 240, a neighborhood of the substrate (130 in Fig. 1b) who caused the miss alignment between the conventional deposition device substrate (130 in Fig. 1b) and a shadow mask (140 in Fig. 1b) from It can solve mixing problems between a light-emitting layer. 또한, 서로 다른 패턴의 발광층을 적층하기 위해 섀도우 마스크를 교체할 필요가 없으므로, 공정 시간(tact time)이 크게 단축될 수 있다. Further, since it is not necessary to replace a shadow mask, the process time (tact time) can be shortened significantly in order to laminate a light emitting layer in different patterns.

이하, 도 2a 및 도 2b를 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 증착 방법을 설명하면 다음과 같다. Referring to the deposition method according to the following, one embodiment of the present invention will be described with reference to Figures 2a and 2b as follows.

일측에 소스(220)가 위치하는 챔버(210) 내부에 기판(230)을 제공한다. Within the chamber 210, which is the source (220) positioned on one side it provides a substrate (230). 다음, 소스(220)와 증착 영역이 대향하도록 기판(230)을 고정 배치한다. Next, the fixed arrangement of the substrate 230 to the source 220 and the deposition area opposite.

기판(230)과 소스(220) 사이에는 섀도우 마스크(240)를 배치하되, 섀도우 마스크(240)의 개구부(240a)가 기판(230) 상의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 발광층의 패턴과 대응되도록 고정 배치한다. Substrate 230 and source 220, between, the red (R) on, but placing the shadow mask 240, the substrate 230, the opening (240a) of the shadow mask 240, the green (G), and blue (B) the fixed arrangement so as to correspond to the pattern of the light-emitting layer.

섀도우 마스크(240)와 소스(220) 사이에는 셔터(250)를 배치한다. The arrangement has the shutter 250 between the shadow mask 240 and the source 220. 셔터(250)는 기판(230) 상의 각 발광층(R, G, B)의 구분되는 패턴에 따라 선택적으로 섀도우 마스크(240)의 개구부(240a) 패턴과 셔터(250)의 개구부(250a) 패턴이 대응되도록 위치가 조정된다. Each light emitting layer the opening (250a), the pattern of the opening (240a) pattern and the shutter 250 of the selective to the shadow mask 240 according to a pattern, separated the (R, G, B) on the shutter (250) substrate 230 is the position is adjusted so as to correspond. 즉, 적색, 녹색, 청색 발광층(R,G,B) 중 어느 하나의 발광층만이 노출되도록 섀도우 마스크(240)의 개구부(240a)와 셔터(250)의 개구부(250a)의 위치가 얼라인된다. That is, red, green, and blue light-emitting layer (R, G, B) any one of the light-emitting layer only and the location of the opening (250a) of the opening (240a) and the shutter 250 of the shadow mask 240, so as to be exposed is aligned in .

이때, 섀도우 마스크(240)와 셔터(250)는 상호 대향하는 측면이 평행을 유지하는 상태에서 0 초과 50㎛ 범위 내에서 상호 간 이격될 수 있다. At this time, the shadow mask 240 and the shutter 250 may be spaced between each other in the range from greater than 0 50㎛ while maintaining the side in parallel to face each other. 이는 섀도우 마스크(240)와 셔터(250) 간의 접촉에 의한 손상을 방지하고, 증착 공정의 정밀도 및 균일도를 확보할 수 있는 조건이다. This is a condition that can be prevented from being damaged due to the contact between the shadow mask 240 and the shutter 250, and securing the accuracy and uniformity of the deposition process.

위에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 증착 방법은 셔터(250)의 이동만으로 다양한 패턴의 발광층의 증착을 수행할 수 있으므로, 종래 증착 장치를 이용한 증착 방법에서 발생했던 이웃한 발광층 간의 혼색 문제를 해결할 수 있다. As described above, since the vapor deposition method according to an embodiment of the present invention is to perform the deposition of the various patterns the light emitting layer only by movement of the shutter 250, the color mixture between the adjacent light-emitting layer which have occurred in the deposition method using the conventional deposition device, you can solve the problem.

이상 본 발명의 일실시예에서는 기판(210) 상에 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 세 가지 종류의 발광층이 패터닝되는 경우로 예를 들어 설명하였으나 본 발명은 이에 국한되지 않는다. At least one embodiment of the present invention, has been described for example in the case that the three kinds of light-emitting layers of red (R), green (G), and blue (B) patterned on the substrate 210, the present invention is not limited to, no. 따라서, 본 발명은 기판 상에 둘 이상의 발광층을 패터닝하는 모든 증착 공정에 적용될 수 있다. Accordingly, the present invention can be applied to all the deposition process to pattern the two or more light-emitting layer on the substrate.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다 는 것을 이해할 수 있을 것이다. Although above it described embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings, the above-described technical construction of the present invention in other specific forms by those skilled in the art without changing the technical spirit or essential features of the invention can be carried out it will be appreciated. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. Therefore, the embodiment described in the above example are to be understood as exemplary rather than limiting in all aspects. 아울러, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. In addition, the scope of the present invention is represented by the claims below rather than the foregoing description. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다. Further, to be construed as a meaning and scope, and all such modifications as derived from the equivalent concepts of the claims fall within the scope of the invention.

위에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 평판표시소자의 이웃한 발광층 간의 혼색 문제를 방지할 수 있고, 증착 공정의 수율을 향상시킬 수 있는 증착 장치 및 증착 방법을 제공할 수 있다. As described above, the present invention can provide a deposition apparatus and a deposition method capable of capable of preventing the color mixing problem between the adjacent light-emitting layer of a flat panel display device, increase the yield of the deposition process.

Claims (10)

  1. 챔버; chamber;
    상기 챔버 내에 위치하며, 증착 재료를 수용하고 일정 농도로 상기 증착 재료를 배출시키는 소스; Source that is located in the chamber, receiving an evaporation material, and discharging the deposition material to a predetermined density;
    상기 소스와 대향하도록 배치되는 기판과 상기 소스 사이에 위치하며, 상기 기판의 일부를 선택적으로 노출시키는 개구부 및 차단부의 패턴을 포함하는 섀도우 마스크; The shadow mask including a pattern opening portion and the blocking portion for positioning, and selectively exposing a portion of the substrate between the substrate and the source is arranged to face the source; And
    상기 섀도우 마스크와 상기 소스 사이에 위치하며, 상기 섀도우 마스크의 개구부 중 일부를 선택적으로 노출시키는 개구부 및 차단부의 패턴을 포함하는 셔터를 포함하는 증착 장치. Is positioned between the shadow mask and the source, the deposition apparatus including a shutter that includes an opening pattern and the block portion to selectively expose a portion of the aperture of the shadow mask.
  2. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 셔터는 외부 구동부와 연결되어 상기 섀도우 마스크와 평행을 유지하며 위치가 조정되는 증착 장치. The shutter is connected to the external driving deposition apparatus is maintained and the position is adjusted in line with the shadow mask.
  3. 제 2항에 있어서, 3. The method of claim 2,
    상기 섀도우 마스크와 상기 셔터 사이는 0 초과 50㎛ 범위로 이격되는 증착 장치. Deposition between the shadow mask and the shutter which are spaced apart by more than 0 50㎛ range.
  4. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 섀도우 마스크의 개구부는 상기 기판 상에 형성될 전계발광소자의 서로 다른 색을 구현하는 발광층들 각각의 위치가 구분되도록 상기 기판을 노출시키는 증착 장치. Opening of the shadow mask deposition apparatus exposing the substrate to the light-emitting layer in each of the positions are separated to implement the different colors of the EL device to be formed on the substrate.
  5. 제 4항에 있어서, 5. The method of claim 4,
    상기 셔터의 개구부는 상기 서로 다른 색을 구현하는 발광층들 중 어느 하나의 색을 구현하는 발광층과 대응되는 상기 섀도우 마스크의 개구부들을 선택적으로 노출시키는 증착 장치. The opening of the shutter is a deposition apparatus for selectively exposing the openings of the shadow mask which is a light emitting layer and corresponding to implement any of the colors of the light-emitting layer for implementing the different colors.
  6. 내부 일측에 증착 재료를 수용하고 일정 농도로 상기 증착 재료를 배출시키는 소스를 포함하는 챔버에 기판을 제공하는 단계; Providing a substrate in a chamber containing the source to discharge the deposition materials to accommodate the deposition material on the inner side, and a certain concentration;
    상기 기판을 상기 소스와 대향하도록 배치하는 단계; Placing the substrate to be opposite to the source;
    상기 기판과 상기 소스 사이에 상기 기판의 일부 영역을 선택적으로 노출시키도록 개구부를 포함하는 섀도우 마스크를 배치하는 단계; Placing a shadow mask comprises an opening so as to selectively expose a portion of the substrate between the substrate and the source;
    상기 섀도우 마스크와 상기 소스 사이에 상기 섀도우 마스크의 개구부 중 일부를 선택적으로 노출시키도록 개구부를 포함하는 셔터를 배치하는 단계를 포함하는 증착 방법. Depositing comprises the step of placing the shutter between the shadow mask and the source includes an opening so as to selectively expose a portion of the aperture of the shadow mask.
  7. 제 6항에 있어서, 7. The method of claim 6,
    상기 셔터는 외부 구동부와 연결되어 상기 섀도우 마스크와 평행을 유지하며 위치가 조정되는 증착 방법. The shutter is connected to the external driving deposited is maintained and the position is adjusted in line with the shadow mask.
  8. 제 7항에 있어서, The method of claim 7,
    상기 섀도우 마스크와 상기 셔터 사이는 0 초과 50㎛ 범위로 이격되는 증착 방법. Between the shadow mask and the deposition shutter is spaced by more than 0 50㎛ range.
  9. 제 6항에 있어서, 7. The method of claim 6,
    상기 섀도우 마스크의 개구부는 상기 기판 상에 형성될 전계발광소자의 서로 다른 색을 구현하는 발광층들 각각의 위치가 구분되도록 상기 기판을 노출시키는 증착 방법. Opening of the shadow mask deposition process to expose the substrate such that the light emitting layer in each of the positions are separated to implement the different colors of the EL device to be formed on the substrate.
  10. 제 9항에 있어서, 10. The method of claim 9,
    상기 셔터의 개구부는 상기 서로 다른 색을 구현하는 발광층들 중 어느 하나의 색을 구현하는 발광층과 대응되는 상기 섀도우 마스크의 개구부들을 선택적으로 노출시키는 증착 방법. The opening of the shutter is the deposition method of selectively exposing the openings of the shadow mask which is a light emitting layer and corresponding to implement any of the colors of the light-emitting layer for implementing the different colors.
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