KR20080046340A - Multi layer polyimide film and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20080046340A
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임채현
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주식회사 코오롱
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Abstract

A multi-layered polyimide film and a manufacturing method thereof are provided to increase the adhesive strength of thermoplastic and non-thermoplastic polyimide films and to produce the multi-layered polyimide film having both thermoplastic and non-thermoplastic properties during a polyimide film manufacturing process. A method for manufacturing a multi-layered polyimide film comprises the steps of: pouring at least two kinds of polyamic acid solutions(15,25) into plural dies(10,20) installed in parallel; discharging each polyamic acid solution from plural dies through eject ports(11,21) and stacking each discharged polyamic acid solution on a support body(30) progressing in one direction, in order; and drying and thermally treating the polyamic acid solution. The temperature of the dies is kept below the temperature not to cause dehydration in molecules of polyamic acid resin.

Description

다층의 폴리이미드 필름 및 그 제조방법{Multi layer Polyimide Film and manufacturing method thereof}Multi-layer polyimide film and manufacturing method

도 1은 본 발명의 다층의 폴리이미드 필름을 제조하기 위한 장치의 일 형태를 도시한 사시도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a perspective view which shows one form of the apparatus for manufacturing the multilayer polyimide film of this invention.

* 도면의 주요부호의 설명* Explanation of the main symbols in the drawings

10 : 제1다이 11 : 제1토출구10: 1st die 11: 1st discharge outlet

15 : 제1폴리아믹산 용액 20 : 제2다이15 first polyamic acid solution 20 second die

21 : 제2토출구 25 : 제2폴리아믹산 용액21: second discharge port 25: the second polyamic acid solution

30 : 지지체30: support

본 발명은 다층의 폴리이미드 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a multilayer polyimide film and a method for producing the same.

폴리이미드는 열안정성이 우수하고, 기계적, 전기적 특성이 우수한 장점들을 갖고 있어, 전기전자용 내열필름, 액정배향막, 반도체용 소재, 성형부품용 소재, 접착제 등으로 사용되고 있다. 특히, 최근에는 전기전자용 내열필름으로서 FPCB(Flexible Printed Circuit Board, 연성인쇄회로기판), TAB(Tape Automated Bondings), 내열전열피복재로서 각광받고 있다. Polyimide is excellent in thermal stability and has excellent mechanical and electrical properties, and is used as a heat-resistant film for electronics, a liquid crystal alignment film, a material for semiconductors, a material for molding parts, and an adhesive. In particular, in recent years, it has been spotlighted as a flexible printed circuit board (FPCB), tape automated bonding (TAB), and a heat-resistant heat coating material as a heat-resistant film for electric and electronics.

이 중 FPCB는 3차원 회로구성 및 고밀도 배선이 가능하여 컴퓨터 및 주변기기, 통신장비, 의료장비 등에 널리 사용되고 있다. 이 때 FPCB의 핵심 소재인 FCCL(Flexible Copper Clad Laminate, 연성동박적층판)은 폴리이미드 필름을 주원료로 하고 있으며, 이를 절연층으로 사용할 때 폴리이미드 필름과 도체를 에폭시 등의 접착제를 이용하여 접착시켜 사용하여왔다. Among them, FPCB is widely used in computers and peripherals, communication equipment, and medical equipment because of its three-dimensional circuit configuration and high-density wiring. In this case, the core material of FPCB, FCCL (Flexible Copper Clad Laminate) is made of polyimide film as the main raw material, and when used as an insulating layer, the polyimide film and the conductor are bonded by using an adhesive such as epoxy. Has been.

그러나 폴리이미드 필름은 표면에 극성기가 없어 시간이 지날수록 접착제의 접착력이 떨어지게 되면 결국 도체와의 접착력이 떨어져 폴리이미드 필름과 도체가 분리되는 문제가 있어, 폴리이미드 필름의 접착력을 향상시키기 위한 노력을 하고 있다.However, the polyimide film has no polar group on the surface, and as time goes by, the adhesive strength of the adhesive decreases, and thus, the adhesive strength of the polyimide film is separated from the conductor, so that the polyimide film and the conductor are separated. Doing.

접착층을 형성하는 접착제로는 비교적 저온에서의 접착이 가능한 에폭시계, 아크릴계 등의 열경화성 접착제를 주로 이용하는데, 열경화성 접착제가 내열성이 낮고 전기적 특성이 떨어지기 때문에 FCCL로써 요구되는 특성에 충분하게 대응되지 못하는 점이 있다.As the adhesive for forming the adhesive layer, a thermosetting adhesive such as epoxy or acrylic, which can be bonded at a relatively low temperature, is mainly used. However, since the thermosetting adhesive has low heat resistance and poor electrical properties, the adhesive does not sufficiently meet the characteristics required by FCCL. There is a point.

이에 접착력을 갖는 열가소성 폴리이미드 필름을 절연성의 폴리이미드 필름과 도체를 접착시키기 위한 접착층으로 사용하는 방법이 제안되고 있다. 즉, 절연 성을 갖는 비열가소성 폴리이미드 필름의 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드계 화합물 또는 그 전구체를 도포 및 건조하거나, 열가소성 폴리이미드 필름을 가열하여 접착하는 방법을 사용하여 접착층을 형성할 수 있다.Therefore, the method of using the thermoplastic polyimide film which has adhesive force as an adhesive layer for bonding an insulating polyimide film and a conductor is proposed. That is, an adhesive layer may be formed by applying and drying a thermoplastic polyimide compound or a precursor thereof on one or both surfaces of an insulating non-thermoplastic polyimide film, or by heating and bonding a thermoplastic polyimide film.

그러나 이 경우 비열가소성 폴리이미드 필름을 별도로 제조하고, 여기에 다시 별도로 제조한 열가소성 필름층을 접착시켜야 하므로 공정상 번거로운 불편이 있었다.In this case, however, a non-thermoplastic polyimide film is separately prepared, and thus, a separate thermoplastic film layer needs to be adhered thereto, thereby incurring inconvenience in process.

이에, 본 발명은 열가소성 폴리이미드 필름과 비열가소성 폴리이미드 필름의 접착력을 높이면서 각 필름을 별도로 제조하여 접착시키는 불편함을 없앨 수 있는 방안을 모색하던 중, 폴리이미드 필름의 제조단계에서 열가소성과 비열가소성을 동시에 갖는 다층의 폴리이미드 필름의 제조방법을 제공할 수 있음을 확인하고 본 발명을 완성하게 되었다.Thus, the present invention while seeking to eliminate the inconvenience of preparing each film separately while increasing the adhesion between the thermoplastic polyimide film and the non-thermoplastic polyimide film, the thermoplastic and non- thermoplastic in the manufacturing step of the polyimide film It was confirmed that the present invention can provide a method for producing a multilayer polyimide film having thermoplasticity at the same time.

따라서 본 발명의 목적은 서로 다른 특성을 갖는 다층의 폴리이미드 필름 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a multi-layered polyimide film having different properties and a method of manufacturing the same.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 적어도 2종 이상의 폴리아믹산 용액을 평행하게 설치된 다수의 다이에 각각 투입하는 단계; 상기 다수의 다이에서 각각의 토출구를 통하여 각각의 폴리아믹산 용액을 토출시키는 동시에, 토출된 각 각의 폴리아믹산 용액을 일 방향으로 진행되는 지지체 상에 차례로 적층하는 단계; 및 건조 · 열처리하는 단계를 포함하며, 상기 다이의 온도를 폴리아믹산 수지의 분자내 탈수반응을 일으키지 않는 온도 이하로 유지하도록 한 다층의 폴리이미드 필름의 제조방법을 제공한다.The present invention for achieving the above object comprises the steps of respectively injecting at least two or more polyamic acid solution to a plurality of die installed in parallel; Simultaneously discharging each polyamic acid solution through each discharge port from the plurality of dies, and sequentially stacking the discharged respective polyamic acid solutions on a support traveling in one direction; And drying and heat treatment, wherein the die temperature is maintained below a temperature at which the polyamic acid resin does not cause intramolecular dehydration.

상기 다이의 온도는 -20~30℃인 것임을 특징으로 한다.The die temperature is characterized in that -20 ~ 30 ℃.

상기 다수의 토출구에서 토출되는 폴리아믹산 용액은 점도가 500~20000 Poise인 것임을 특징으로 한다.The polyamic acid solution discharged from the plurality of discharge ports is characterized in that the viscosity is 500 ~ 20000 Poise.

상기 다수의 토출구는 토출구의 중심 축을 기준으로 하여 축과 축 사이의 거리가 500~5000mm이고, 지지체의 이동속도가 1~30m/min인 것임을 특징으로 한다.The plurality of discharge ports are characterized in that the distance between the axis and the axis is 500 ~ 5000mm based on the central axis of the discharge port, the movement speed of the support is 1 ~ 30m / min.

또한 본 발명은 상기의 제조방법으로 얻어지는 폴리이미드 필름, 및 적어도 1층 이상의 열가소성 폴리이미드 전구체층과, 적어도 1층 이상의 비열가소성 폴리이미드 전구체층이 적층된 상태로 동일한 조건 하에서 함께 이미드화되고, 열가소성 폴리이미드층으로 인해 층간접착되어 형성된 적어도 1층 이상의 열가소성 폴리이미드층과 적어도 1층 이상의 비열가소성 폴리이미드층을 포함하는 다층의 폴리이미드 필름을 제공한다.In addition, the present invention is imidized together under the same conditions in a state in which the polyimide film obtained by the above production method, at least one or more thermoplastic polyimide precursor layers, and at least one or more non-thermoplastic polyimide precursor layers are laminated. Provided is a multilayer polyimide film comprising at least one or more thermoplastic polyimide layers and at least one or more non-thermoplastic polyimide layers formed by interlayer adhesion due to a polyimide layer.

상기 폴리이미드 필름은 두께가 10~100㎛인 것임을 특징으로 한다.The polyimide film is characterized in that the thickness is 10 ~ 100㎛.

아울러 본 발명은 동박의 적어도 일면에, 상기의 제조방법에 의하여 얻어진 폴리이미드 필름을 포함하는 동박 폴리이미드 적층체를 제공한다.Moreover, this invention provides the copper foil polyimide laminated body containing the polyimide film obtained by said manufacturing method on at least one surface of copper foil.

이와 같은 본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 더욱 상세하게 설명하면 다음 과 같다.Referring to the present invention as described in more detail with reference to the accompanying drawings as follows.

도 1은 본 발명의 다층의 폴리이미드 필름을 제조하기 위한 장치의 일 형태를 도시한 사시도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a perspective view which shows one form of the apparatus for manufacturing the multilayer polyimide film of this invention.

본 발명의 다층의 폴리이미드 필름을 제조하기 위하여, 도 1에서 볼 수 있듯이, 다수의 다이(10, 20)와 일 방향으로 진행되고 있는 지지체(30)를 포함하는 장치를 사용한다.In order to produce the multi-layered polyimide film of the present invention, as shown in FIG. 1, an apparatus including a plurality of dies 10 and 20 and a support 30 running in one direction is used.

제1다이(10)와 제2다이(20)는 평행하게 설치되어 있고, 여기에 서로 다른 조성의 폴리아믹산 용액을 각각 투입한다. 투입된 폴리아믹산 용액은 각각의 다이(10, 20)의 토출구(11, 21)를 통하여 토출되며, 제1다이(10) 및 제2다이(20)는 온도가 폴리아믹산 수지의 분자내 탈수반응을 일으키지 않는 온도 이하로 유지하도록 하여 토출되는 용액의 점도가 저하되도록 한다. 서로 다른 조성의 폴리아믹산 용액은 중합도나 점도 등의 특성이 다르며, 따라서 각 다이(10, 20)의 온도 등의 조건 제어를 다르게 해줄 필요가 있다. 상기 각 다이(10, 20)는 온도, 토출 속도를 제어할 수 있는 수단(미도시됨)을 별도로 구비하고 있어, 각 다이(10, 20)에 투입되는 용액의 특성에 따라 별도로 조건을 조절할 수 있다. 따라서 다이(10, 20)에 따라서 각 부분의 온도와 두께 및 토출양을 조절할 수 있다. The first die 10 and the second die 20 are provided in parallel, and polyamic acid solutions of different compositions are added thereto. The injected polyamic acid solution is discharged through the discharge ports 11 and 21 of the dies 10 and 20, and the first die 10 and the second die 20 are subjected to intramolecular dehydration of the polyamic acid resin. The viscosity of the discharged solution is lowered by keeping it below a temperature which does not occur. Polyamic acid solutions having different compositions have different characteristics such as degree of polymerization, viscosity, and the like, and therefore, it is necessary to control conditions such as temperatures of the dies 10 and 20 differently. Each of the dies 10 and 20 is provided with means (not shown) for controlling the temperature and the discharge rate separately, so that the conditions can be separately adjusted according to the characteristics of the solution introduced into each of the dies 10 and 20. have. Therefore, the temperature, thickness and discharge amount of each part can be adjusted according to the dies 10 and 20.

상기 다이(10, 20)의 온도는 -20~30℃로 유지하는 것이 바람직한데, 온도가 30℃ 초과인 경우 폴리아믹산 수지의 분자내 탈수반응이 진행되어 필름 또는 겔화가 일어날 수 있고, -20℃ 미만인 경우 점도가 너무 커져 평평하게 펴지지 않고 뭉 치거나 토출압이 급격하게 상승할 우려가 있다.The temperature of the die 10, 20 is preferably maintained at -20 ~ 30 ℃, if the temperature is more than 30 ℃ intramolecular dehydration reaction of the polyamic acid resin may proceed to film or gelation, -20 If the temperature is less than 0 ° C., the viscosity may be so large that it may not be flattened or may be swollen or the discharge pressure may increase rapidly.

상기 다이(10, 20)를 폴리아믹산 수지의 분자내 탈수반응을 일으키지 않는 온도 이하로 유지하도록 하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니나, 각 다이(10, 20)의 외부에 냉매가 관통하고 있는 장치를 휘감거나, 미리 각 다이(10, 20)를 냉각시켜 폴리아믹산 용액을 투입하는 방법 등을 사용할 수 있다. The method of maintaining the dies 10 and 20 below a temperature at which the intramolecular dehydration reaction of the polyamic acid resin does not occur is not particularly limited, but a device in which a refrigerant penetrates outside the dies 10 and 20 is used. A method of enclosing or cooling the dies 10 and 20 in advance and adding a polyamic acid solution may be used.

제1폴리아믹산 용액(15) 및 제2폴리아믹산 용액(25)은 상기 토출구(11, 21)에서 일정 간격으로 이격된 하방에 위치하는 지지체(30)상에 토출된다. 상기 지지체(30)는 제1다이(10) 및 제2다이(20)가 설치된 일 방향으로 진행하고 있으며, 진행방향에서 후방에 위치한 제1토출구(11)에서 토출된 제1폴리아믹산 용액(15)이 지지체(30)에 토출되면서 진행방향을 따라서 흐르게 되고, 그 상부에 제2토출구(21)에서 토출된 제2폴리아믹산 용액(25)이 적층된다. 상기 제1폴리아믹산 용액(15) 및 제2폴리아믹산 용액(25)은 점도가 저하된 겔상태이므로 토출된 상태의 형상을 일정정도 유지하게 되므로 각 용액(15, 25)이 혼합되지 않는다. The first polyamic acid solution 15 and the second polyamic acid solution 25 are discharged onto the support 30 positioned below and spaced apart from the discharge ports 11 and 21 at regular intervals. The support 30 is traveling in one direction in which the first die 10 and the second die 20 are installed, and the first polyamic acid solution 15 discharged from the first discharge port 11 located rearward in the traveling direction. ) Is discharged to the support 30 and flows along the traveling direction, and the second polyamic acid solution 25 discharged from the second discharge port 21 is stacked thereon. Since the first polyamic acid solution 15 and the second polyamic acid solution 25 are in a gel state in which the viscosity is reduced, each of the solutions 15 and 25 is not mixed because the shape of the discharged state is maintained.

상기 지지체(30)는 토출된 용액(15, 25)을 운반 및 적층시 받침대 역할을 하는 것으로, 열에 강하고 폴리아믹산과 반응하지 않으며, 추후 건조된 폴리아믹산 용액(15, 25)이 용이하게 탈착될 수 있는 소재를 사용하며, 예컨대, 강철, 스테인리스 강(SUS, steel use stainless) 등을 사용할 수 있다.The support 30 serves as a support for transporting and stacking the discharged solutions 15 and 25, and is resistant to heat, does not react with the polyamic acid, and the dried polyamic acid solutions 15 and 25 can be easily detached. It can be used, for example, steel, stainless steel (SUS, steel use stainless) and the like can be used.

최종 폴리이미드 필름의 두께는 10~100㎛인 것이 FCCL 적용을 위해 바람직하며, 이를 고려하여 적층되는 폴리아믹산 용액(15, 25)의 두께를 조절하도록 한다. 각각의 폴리아믹산 용액(15, 25)의 두께는 각 토출구(11, 21)에서 토출되는 용 액(15, 25)의 점도, 지지체(30)의 이동속도 등에 따라 달라질 수 있으며, 지지체(30)의 이동속도가 1~30m/min, 토출되는 용액(15, 25)의 점도가 500~20000Poise의 범위인 것이 목적하는 두께의 필름을 얻기 위해 바람직하다. The thickness of the final polyimide film is preferably 10 ~ 100㎛ for FCCL application, in consideration of this to adjust the thickness of the polyamic acid solution (15, 25) laminated. The thickness of each of the polyamic acid solutions 15 and 25 may vary depending on the viscosity of the solutions 15 and 25 discharged from the respective discharge ports 11 and 21, the moving speed of the support 30, and the like. It is preferable that the moving speed of 1-30 m / min and the viscosity of the solution 15, 25 discharged are 500-20000Poise in order to obtain the film of the target thickness.

제1다이(10)와 제2다이(20) 사이의 거리는 특별히 한정되는 것은 아니나, 각 토출구(11, 21)의 중심 축을 기준으로 한 각 토출구(11, 21)의 축과 축 사이의 거리(a)가 50~5000mm인 것이 바람직하다. 제1토출구(11) 및 제2토출구(21)에서 폴리아믹산 용액은 동시에 토출되지만, 이에 한정되지 않고 상기 거리(a)와 토출 속도와의 관계를 고려하여 제1토출구(11) 및 제2토출구(21)에서 폴리아믹산 용액이 토출되는 시점을 다르게 조절할 수도 있다. 이 경우에는 상기 거리(a)를 고려하여 각 토출구(11, 21)에서의 토출 시점은 지지체의 진행방향을 따라 순차적으로 토출하도록 한다.The distance between the first die 10 and the second die 20 is not particularly limited, but the distance between the axis and the axis of each of the discharge ports 11 and 21 based on the center axis of each of the discharge holes 11 and 21 ( It is preferable that a) is 50-5000 mm. The polyamic acid solution is simultaneously discharged from the first discharge port 11 and the second discharge port 21, but is not limited thereto. The first discharge port 11 and the second discharge port are considered in consideration of the relationship between the distance a and the discharge speed. At 21, the timing at which the polyamic acid solution is discharged may be adjusted differently. In this case, the discharge timings at the discharge ports 11 and 21 are sequentially discharged along the advancing direction of the support in consideration of the distance a.

두 층으로 적층된 폴리아믹산 용액(15, 25)은 통상적인 폴리이미드 필름 제조방법과 같이 건조 및 열처리를 거쳐 이미드화되어 폴리이미드 필름으로 제조된다. 이 때 두 층 상태의 폴리아믹산 용액(15, 25)에서 용매가 건조되어 증발하면서 서로 단단히 접착하게 되며, 이미드화를 거치면서 한 장의 필름으로 완성된다. Polyamic acid solution (15, 25) laminated in two layers is dried and heat-treated and imidized to produce a polyimide film as in the conventional polyimide film production method. At this time, the solvent in the two-layer polyamic acid solution (15, 25) is dried and firmly adhered to each other while evaporating, it is completed as a single film through the imidization.

한편, 폴리아믹산 용액은 통상적으로 알려져 있는 바와 같이 방향족 디아민 성분과 방향족 디안하이드라이드 성분을 용매에 용해 및 중합하여 얻는다. On the other hand, a polyamic acid solution is obtained by melt | dissolving and polymerizing an aromatic diamine component and an aromatic dianhydride component in a solvent, as is commonly known.

상기 방향족 디아민 성분 및 방향족 디안하이드라이드 성분은 특별히 한정되 는 것은 아니며, 통상적으로 알려진 성분을 사용한다. 예컨대, 상기 방향족 디안하이드라이드 성분으로서 피로멜리트산이무수물(PMDA) 또는 비페닐테트라카르복실산이무수물(BPDA) 등을 사용할 수 있고, 방향족 디아민 성분으로서는 옥시디아닐린(ODA) 또는 p-페닐렌디아민(p-PDA) 등을 사용할 수 있다. The aromatic diamine component and aromatic dianhydride component are not particularly limited, and commonly known components are used. For example, pyromellitic dianhydride (PMDA) or biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) can be used as the aromatic dianhydride component, and oxydianiline (ODA) or p-phenylenediamine is used as the aromatic diamine component. (p-PDA) and the like can be used.

이 때 서로 다른 특성의 폴리아믹산 용액, 즉 비열가소성 폴리이미드계 화합물의 전구체인 폴리아믹산 용액과, 열가소성 폴리이미드계 화합물의 전구체인 폴리아믹산 용액에 대하여도 특별히 한정되는 것이 아니고 공지의 모든 폴리아믹산 용액을 이용할 수 있으며, 제법에 있어서도 공지된 원료 및 반응조건 등을 이용할 수 있다. 또한 필요에 따라 이미드화 촉매, 경화제 등의 첨가제를 사용할 수 있다.At this time, the polyamic acid solution having different properties, that is, the polyamic acid solution that is a precursor of the non-thermoplastic polyimide compound and the polyamic acid solution that is the precursor of the thermoplastic polyimide compound are not particularly limited, and all known polyamic acid solutions Can be used, and well-known raw materials, reaction conditions, etc. can also be used also in a manufacturing method. Moreover, additives, such as an imidation catalyst and a hardening | curing agent, can be used as needed.

여기서 열가소성 폴리이미드계 수지는 방향족환 사이에 -O-, -CO-, -NHCO-, -S-, -SO2-, -CO-O-, -CH2-, -C(CH3)2-의 사슬을 포함하는 연성 단량체인 산이무수물 및 디아민의 중합을 통해 얻을 수 있다. 예를 들면 산이무수물로서 ODPA(4,4'-옥시디(프탈산무수물)), BTDA(3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산이무수물), BPADA(비스페놀A이무수물), DPSDA(3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산이무수물), TMEG(에틸렌글리콜 비스(안하이드로 트리멜리테이트)) 등이 있으며, 디아민으로서 DDE, DABA(4,4'-디아미노벤즈아닐리드), APB(1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠), PDPDA(4,4'-(1,3-페닐렌디이소프로필리덴)디아닐린), BAPP(2,2-비스[-4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, BAPSM(비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰), DDS(3,3'-디아미노디페닐술폰) 등이 있다. Here, the thermoplastic polyimide resin is -O-, -CO-, -NHCO-, -S-, -SO 2- , -CO-O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2 between the aromatic rings. It can be obtained through the polymerization of diamines and acid dianhydrides, which are soft monomers containing a chain of-. For example, ODPA (4,4'- oxydi (phthalic anhydride)), BTDA (3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride), BPADA (bisphenol A dianhydride), DPSDA as an acid dianhydride (3,3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride), TMEG (ethylene glycol bis (anhydro trimellitate)), and the like, and as diamines, DDE, DABA (4,4'-diamino Benzanilide), APB (1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene), PDPDA (4,4 '-(1,3-phenylenediisopropylidene) dianiline), BAPP (2,2-bis [-4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, BAPSM (bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone), DDS (3,3'-diaminodiphenyl sulfone), and the like.

또한 상기 열가소성 폴리이미드계 수지는 만약 열가소성 폴리이미드계 수지로서의 기술적 목적을 달성할 수 있다면 분자구조상 경성 단량체가 포함되어도 무방하다. 경성 단량체라 함은 구체적으로는 방향족 환의 사이에 -O-, -CO-, -NHCO-, -S-, -SO2-, -CO-O-, -CH2-, -C(CH3)2- 사슬, 즉 연성 사슬이 존재하지 않은 단량체로서 정의되어질 수 있다. In addition, the thermoplastic polyimide resin may include a hard monomer in molecular structure if it can achieve the technical purpose as a thermoplastic polyimide resin. The hard monomer is specifically -O-, -CO-, -NHCO-, -S-, -SO 2- , -CO-O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) between aromatic rings. It can be defined as a two -chain, ie a monomer in which no soft chain is present.

이상에서는 도 1에 도시된 도면을 참조하여 설명하였으나, 이에 한정되는 것이 아니고 기술적 사상을 벗어나지 않는 범주 내에서 다양하게 변경할 수 있음은 당업자에게 자명한 것이다.In the above described with reference to the drawings shown in Figure 1, it is not limited to this, it will be apparent to those skilled in the art that various changes can be made within the scope without departing from the spirit.

이하, 본 발명을 실시예에 의거 상세히 설명하면 다음과 같은바, 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited by the Examples.

<합성예 1> 비열가소성 폴리아믹산 용액의 합성Synthesis Example 1 Synthesis of Non-thermoplastic Polyamic Acid Solution

반응기에 용매로서 N,N-디메틸포름아미드(DMF) 580g을 넣고, 여기에 4,4-디아미노디페닐에테르(ODA) 55.8g과 파라페닐렌디아민(p-PDA) 10.3g을 가하고, 20℃에서 교반함으로써 디아민 용액을 제조하였다. 여기에 피로멜리트산이무수물(PMDA) 86.8g을 첨가하여 완전히 용해되기까지 4시간 교반시켜 비열가소성 폴리아믹산 용액(점도 : 3120Poise, 30℃)을 얻었다.580 g of N, N-dimethylformamide (DMF) was added to the reactor as a solvent, 55.8 g of 4,4-diaminodiphenyl ether (ODA) and 10.3 g of paraphenylenediamine (p-PDA) were added thereto. Diamine solution was prepared by stirring at ° C. 86.8 g of pyromellitic dianhydride (PMDA) was added thereto, followed by stirring for 4 hours until complete dissolution, thereby obtaining a non-thermoplastic polyamic acid solution (viscosity: 3120Poise, 30 ° C).

<합성예 2> 열가소성 폴리아믹산 용액의 합성Synthesis Example 2 Synthesis of Thermoplastic Polyamic Acid Solution

반응기에 N,N-디메틸포름아미드(DMF) 300g 및 1,3 비스(4-페녹시)벤젠디아민(vis(4-phenoxy) benzene diamine) 28.5g을 질소분위기하에서 교반하면서, 2,3, 3′,4′-비페닐 테트라 카르복실산 이무수물(BPDA) 29.1g 첨가하였다. 위 용액이 완전히 용해될 때까지 가하고 4시간 교반하여 열가소성 폴리아믹산 용액(점도 : 7120Poise, 30℃)을 얻었다.300 g of N, N-dimethylformamide (DMF) and 28.5 g of 1,3 bis (4-phenoxy) benzenediamine were stirred in a nitrogen atmosphere in a reactor. 29.1 g of ', 4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride (BPDA) was added. The solution was added until completely dissolved and stirred for 4 hours to obtain a thermoplastic polyamic acid solution (viscosity: 7120Poise, 30 ° C).

<실시예 1><Example 1>

도 1의 장치를 이용하고, 합성예 1에서 제조된 비열가소성 폴리아믹산 용액 120g에 경화제로써 이소퀴놀린(isoquinoline)를 31.5g을 첨가하여 교반한 용액을 제1다이에 투입하였다.Using the apparatus of FIG. 1, 31.5 g of isoquinoline was added as a curing agent to 120 g of the non-thermoplastic polyamic acid solution prepared in Synthesis Example 1, and the stirred solution was added to the first die.

합성예 2에서 제조된 열가소성 폴리아믹산 용액 100g에 DMF를 250g을 첨가하여 교반한 용액을 제2다이에 투입하였다.250 g of DMF was added to 100 g of the thermoplastic polyamic acid solution prepared in Synthesis Example 2, and the stirred solution was added to a second die.

제1다이와 제2다이 사이의 거리는 제1토출구 및 제2토출구의 중심 축을 기준으로 한 거리(a)가 1000 mm가 되도록 하여, 제1토출구에서 비열가소성 폴리아믹산 용액이 토출되고 제막 커튼의 안정화가 이루어진 후 제2토출구에서 열가소성 폴리아믹산 용액이 토출되도록 하였다. The distance between the first die and the second die is such that the distance (a) based on the central axis of the first discharge port and the second discharge port is 1000 mm, so that the non-thermoplastic polyamic acid solution is discharged from the first discharge port and stabilization of the film forming curtain is achieved. After being made, the thermoplastic polyamic acid solution was discharged from the second discharge port.

상기 제1다이는 0℃, 제2다이는 5℃로 유지하였다. The first die was maintained at 0 ° C. and the second die at 5 ° C.

제1토출구에서 토출되는 비열가소성 폴리아믹산 용액의 점도는 4500Poise였으며, 제2토출구에서 토출되는 열가소성 폴리아믹산 용액의 점도는 8100Poise였다.The viscosity of the non-thermoplastic polyamic acid solution discharged from the first discharge port was 4500Poise, and the viscosity of the thermoplastic polyamic acid solution discharged from the second discharge port was 8100Poise.

일 방향으로 진행되고 있는 SUS 기판 상에 비열가소성 폴리아믹산 용액이 두께 150㎛로 토출되어 평평하게 진행되고, 그 상부에 열가소성 폴리아믹산 용액이 두께 60㎛로 토출되어 적층되었다.A non-thermoplastic polyamic acid solution was discharged to a thickness of 150 μm on a SUS substrate running in one direction, and then flattened, and a thermoplastic polyamic acid solution was discharged to a thickness of 60 μm and stacked on top thereof.

이후 300℃에서 2시간 동안 건조시키고, 두 층의 건조된 막을 SUS 기판에서 탈착시켜 지지프레임에 고정시킨 후 200℃에서 10분, 300℃에서 20분, 400℃에서 1분 건조 및 열처리하여 두께 37㎛의 폴리이미드 필름을 얻었다.After drying for 2 hours at 300 ℃, two layers of dried film is fixed on the support frame by desorption from the SUS substrate, and then dried and heat treated at 200 ℃ for 10 minutes, 20 minutes at 300 ℃, 1 minute at 400 ℃ 37 A polyimide film of μm was obtained.

<실시예 2><Example 2>

실시예 1에서 제1다이의 온도를 -10℃로 하고 제2다이는 20℃로 유지하였을 때, 토출되는 비열가소성 폴리아믹산 용액의 점도가 5200Poise 였으며, 제2토출구에서 토출되는 열가소성 폴리아믹산 용액의 점도는 6100Poise인 것을 제외하고 동일한 방법으로 폴리이미드 필름을 제조하였다.In Example 1, when the temperature of the first die was kept at −10 ° C. and the second die was kept at 20 ° C., the viscosity of the non-thermoplastic polyamic acid solution discharged was 5200 Poise, and the temperature of the thermoplastic polyamic acid solution discharged from the second discharge port was increased. A polyimide film was prepared in the same manner except that the viscosity was 6100 Poise.

<실시예 3> <Example 3>

실시예 1에서 제1토출구와 제2토출구에서의 토출량을 조절하여 토출되는 겔 상태의 비열가소성 필름의 두께가 50㎛, 열가소성 폴리이미드필름 두께가 20㎛인 것을 제외하고 동일한 방법으로 폴리이미드 필름을 제조하였다.The polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the non-thermoplastic film in the gel state discharged by adjusting the discharge amounts at the first discharge port and the second discharge port was 50 μm and the thickness of the thermoplastic polyimide film was 20 μm. Prepared.

<비교예 1>Comparative Example 1

합성예 1에서 제조된 비열가소성 폴리아믹산 용액을 SUS 판 상에 도포하여 100℃에서 5분동안 건조시켰다. 겔 필름 상태의 도막을 SUS 판에서 박리하여 지지프레임에 고정시킨 후 200℃에서 10분, 300℃에서 20분, 400℃에서 1분 건조 및 열처리하여 두께 25㎛의 비열가소성 폴리이미드 필름을 얻었다.The non-thermoplastic polyamic acid solution prepared in Synthesis Example 1 was applied on an SUS plate and dried at 100 ° C. for 5 minutes. After peeling the coating film of the gel film state from the SUS plate and fixed to the support frame, a non-thermoplastic polyimide film having a thickness of 25 μm was obtained by drying and heat treatment at 200 ° C. for 10 minutes, at 300 ° C. for 20 minutes, and at 400 ° C. for 1 minute.

합성예 2에서 제조된 열가소성 폴리아믹산 용액을 SUS 판상에 도포하여 100℃에서 5분동안 건조시켰다. 겔 필름 상태의 도막을 SUS 판에서 박리하여 지지프레임에 고정시킨 후 200℃에서 10분, 300℃에서 20분, 400℃에서 1분 건조 및 열처리하여 두께 12㎛의 열가소성 폴리이미드 필름을 얻었다.The thermoplastic polyamic acid solution prepared in Synthesis Example 2 was applied on an SUS plate and dried at 100 ° C. for 5 minutes. The coating film of the gel film state was peeled off from the SUS plate and fixed to the support frame, followed by drying and heat treatment at 200 ° C. for 10 minutes, 300 ° C. for 20 minutes, and 400 ° C. for 1 minute to obtain a thermoplastic polyimide film having a thickness of 12 μm.

상기 두 필름을 200℃에서 30분간 30kg/㎠의 압력으로 열압착하여 접착하였다.The two films were bonded by thermocompression bonding at a pressure of 30 kg / cm 2 at 200 ° C. for 30 minutes.

<실험예>Experimental Example

상기 실시예 및 비교예에 따라 얻어진 폴리이미드 필름에서 열가소성 폴리이 미드 측면을 동박(Mitsui사, Sec-Ⅲ, 1/2 Oz)과 접합시켜 300℃에서 30kgf/㎠에서 10분간 라미네이팅하여 동박적층체를 제조하였으며, 만능 시험기(Instrone)을 사용하여 ASTM 1876-72에 준하여 박리접착강도를 측정하였다. 그 결과는 다음 표 1과 같다.In the polyimide film obtained according to the above Examples and Comparative Examples, the thermoplastic polyimide side was bonded to copper foil (Mitsui Co., Sec-III, 1/2 Oz) and laminated at 300 kg for 30 minutes at 30 kg f / cm 2 for copper foil laminate. Was prepared, and the peel adhesion strength was measured according to ASTM 1876-72 using a universal testing machine (Instrone). The results are shown in Table 1 below.

박리 강도(kgf/cm)Peel Strength (kgf / cm) 실시예 1Example 1 2.02.0 실시예 2Example 2 1.81.8 실시예 3Example 3 1.91.9 비교예 1Comparative Example 1 1.61.6

상기 결과로부터, 동박과의 접착력은 비교예의 경우와 동등 이상이면서도 제조공정이 훨씬 단축되어 효율적이며, 제조원가가 절감될 수 있음을 알 수 있다.From the above results, it can be seen that the adhesive force with the copper foil is equal to or greater than that of the comparative example, but the manufacturing process is much shorter and more efficient, and the manufacturing cost can be reduced.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명은 다른 특성을 갖는 폴리이미드 필름을 별도로 제조하여 접착하지 않고 단일 공정을 통하여 동시에 다른 특성을 갖는 다층의 폴리이미드 필름 및 그 제조방법을 제공할 수 있다.As described in detail above, the present invention can provide a multi-layered polyimide film having different properties at the same time through a single process without separately preparing and bonding a polyimide film having different properties and a method of manufacturing the same.

또한 본 발명은 동박과의 접착력이 우수한 폴리이미드 필름 및 그 제조방법을 제공할 수 있다. Moreover, this invention can provide the polyimide film excellent in the adhesive force with copper foil, and its manufacturing method.

Claims (10)

적어도 2종 이상의 폴리아믹산 용액을 평행하게 설치된 다수의 다이에 각각 투입하는 단계;Injecting at least two or more polyamic acid solutions into a plurality of dies installed in parallel; 상기 다수의 다이에서 각각의 토출구를 통하여 각각의 폴리아믹산 용액을 토출시키는 동시에, 토출된 각각의 폴리아믹산 용액을 일 방향으로 진행되는 지지체 상에 차례로 적층하는 단계; 및Simultaneously discharging each of the polyamic acid solutions from the plurality of dies through respective discharge ports, and sequentially stacking the discharged polyamic acid solutions on a support running in one direction; And 건조 · 열처리하는 단계를 포함하며, 상기 다이의 온도를 폴리아믹산 수지의 분자내 탈수반응을 일으키지 않는 온도 이하로 유지하도록 한 다층의 폴리이미드 필름의 제조방법.A method for producing a multi-layer polyimide film, comprising the steps of drying and heat treatment, wherein the temperature of the die is kept below a temperature at which no intramolecular dehydration reaction of the polyamic acid resin occurs. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 다이의 온도는 -20~30℃인 것임을 특징으로 하는 다층의 폴리이미드 필름의 제조방법.The temperature of die | dye is -20-30 degreeC, The manufacturing method of the multilayer polyimide film characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 다수의 토출구에서 토출되는 폴리아믹산 용액은 점도가 500~20000 Poise인 것임을 특징으로 하는 다층의 폴리이미드 필름의 제조방법. Polyamic acid solution discharged from a plurality of discharge port is a manufacturing method of a multi-layer polyimide film, characterized in that the viscosity is 500 ~ 20000 Poise. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 다수의 토출구는 토출구의 중심 축을 기준으로 하여 축과 축 사이의 거리가 50~5000mm인 것임을 특징으로 하는 다층의 폴리이미드 필름의 제조방법. A plurality of discharge port is a method of producing a multi-layer polyimide film, characterized in that the distance between the axis and the axis 50 to 5000mm based on the central axis of the discharge port. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 지지체의 이동속도가 1~30m/min인 것임을 특징으로 하는 다층의 폴리이미드 필름의 제조방법. Method of producing a multi-layer polyimide film, characterized in that the movement speed of the support is 1 ~ 30m / min. 제 1 항의 제조방법으로 얻어지는 폴리이미드 필름.The polyimide film obtained by the manufacturing method of Claim 1. 적어도 1층 이상의 열가소성 폴리이미드 전구체층과, 적어도 1층 이상의 비열가소성 폴리이미드 전구체층이 적층된 상태로 동일한 조건 하에서 함께 이미드화되고, 열가소성 폴리이미드층으로 인해 층간접착되어 형성된 적어도 1층 이상의 열가소성 폴리이미드층과 적어도 1층 이상의 비열가소성 폴리이미드층을 포함하는 다층의 폴리이미드 필름.At least one or more thermoplastic polyimide precursor layers and at least one or more non-thermoplastic polyimide precursor layers are imidized together under the same conditions in a laminated state, and at least one or more thermoplastic polyimide formed by interlayer adhesion due to the thermoplastic polyimide layer A multilayer polyimide film comprising a mid layer and at least one non-thermoplastic polyimide layer. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, The method according to claim 6 or 7, 두께가 10~100㎛인 것임을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.Polyimide film, characterized in that the thickness is 10 ~ 100㎛. 동박의 적어도 일면에, 제 1 항의 제조방법에 의하여 얻어진 폴리이미드 필름을 포함하는 동박 폴리이미드 적층체.The copper foil polyimide laminated body containing the polyimide film obtained by the manufacturing method of Claim 1 on at least one surface of copper foil. 동박의 적어도 일면에, 제 7 항의 폴리이미드 필름을 포함하는 동박 폴리이미드 적층체.The copper foil polyimide laminated body containing the polyimide film of Claim 7 on at least one surface of copper foil.
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