KR20080044579A - 액정 표시 패널 및 이의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 컬러 필터 기판 상에 투명 도전층을 형성하여 정전기성 불량을 방지할 수 있는 액정 표시 패널에 관한 것이다.
본 발명은 박막 트랜지스터 어레이, 공통 전극 및 화소 전극이 형성된 박막 트랜지스터 기판; 일면에는 컬러 필터 어레이가 형성되고, 타면에는 투명 도전층이 형성된 컬러 필터 기판; 및 상기 박막 트랜지스터 기판과 상기 컬러 필터 기판 사이에 형성된 액정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널에 관한 것이다.
PLS 모드, 횡전계, 정전기, 도전층

Description

액정 표시 패널 및 이의 제조 방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND A FABRICATING METHOD WITH THE SAME}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 패널을 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 패널의 단면을 나타낸 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 패널의 단면을 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제1 및 제2 실시예에 따른 투명 도전층의 구조를 나타낸 단면도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
20 : 액정 표시 패널 30 : 액정
40 : 박막 트랜지스터 기판 100 : 컬러 필터 기판
120 : 블랙 매트릭스 125 : 컬럼 스페이서
130 : 컬러 필터 140 : 화소 전극
145 : 공통 전극 150 : 투명 도전층
155 : 게이트 전극 156 : 게이트 절연막
157 : 반도체층 158,159 : 불순물 도핑된 반도체층
160 : 소스 전극 161 : 드레인 전극
165 : 보호막 166 : 콘택홀
본 발명은 액정 표시 패널에 관한 것으로, 특히 컬러 필터 기판 상에 투명 도전층을 형성하여 컬러 필터 기판에 공통 전극이 없는 구조에서 발생하는 정전기성 불량을 방지하기 위한 액정 표시 패널에 관한 것이다.
액정 표시 장치는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시하는 장치이다. 이를 위하여 액정 표시 패널은 액정을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 컬러 필터 기판 및 박막 트랜지스터 기판을 구비한다. 그런 다음, 두 기판 사이의 전극에 전압을 인가하여 생성되는 자기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의한 화상을 표시하는 장치이다.
이러한 액정 표시 장치는 액정 분자의 배열에 따라 다양한 표시 모드가 존재하는데, 응답속도가 빠르고 구동전압이 낮다는 장점 때문에 주로 TN(Twisted Nematic), PVA(Patterned Vertical Alignment), ECB(Electrically Controlled Birefringence) 모드가 많이 사용되고 있다. TN, PVA, ECB 모드 액정 표시 장치는 기판과 수평하게 배향된 액정 분자가 전압이 인가될 때 기판과 거의 수직으로 배향되는 수직 배향 모드이다. 따라서, 액정 분자의 굴절율 이방성(refractive anisotropy)에 의해 전압의 인가시 시야각이 좁아지는 문제점이 있었다.
이러한 시야각 문제를 해결하기 위해, 근래 광시야각특성르 갖는 각종 모드의 액정 표시소자가 제안되고 있는데, 그 중에서도 IPS(In Plane Switching) 모드 및 PLS(Plane to Line Switching) 모드가 대표적이다. IPS 모드는 화소내에 평행으로 배열된 적어도 한쌍의 전극을 형성하여 기판과 실질적으로 평행한 횡전계를 형성함으로써 액정 분자를 평면상으로 배향시키는 것이다. PLS 모드는 각 화소 영역에 절연막을 사이에 둔 공통 전극과 화소 전극을 구비하여 프린지 전계를 형성하여 상하부 기판 사이에 채워진 액정 분자들이 각 화소 영역에서 모두 동작되게 함으로써 수직 및 수평 전계를 형성하게 되어 개구율 및 투과육을 향상시키게 된다.
다시 말해, 박막 트랜지스터 기판에 공통 전압과 화소 전극의 전계를 이용하는 수직 및 수평 전계를 이용하는 구조이므로, 컬러 필터 기판에 공통 전극이 없다.
이러한 IPS 및 PLS 모드는 정전기에 취약한 구조이다. 따라서, 종래에 컬러 필터 기판 배면에 공통 전극 층을 형성하여 정전기를 개선하고자 했다.
그러나, 공통 전극 층이 컬러 필터 배면에 배치됨으로 인해, 공정 진행상 기판 반송용 롤러에 의한 스크래치, 기타 얼룩, 화학 약품 등에 의해 불량이 발생할 가능성이 크다.
따라서, 본 발명의 기술적 과제는 컬러 필터 기판에 공통 전극이 없는 IPS 및 PLS 모드 등에서, 박막 트랜지스터 기판과 컬러 필터 기판을 합착한 후에 컬러 필터 기판 상부에 투명 도전층을 형성하여 정전기성 불량을 방지하기 위한 액정 표시 패널을 제공하는데 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 액정 표시 패널은 박막 트랜지스터 어레이, 공통 전극 및 화소 전극이 형성된 박막 트랜지스터 기판; 일면에는 컬러 필터 어레이가 형성되고, 타면에는 투명 도전층이 형성된 컬러 필터 기판; 및 상기 박막 트랜지스터 기판과 상기 컬러 필터 기판 사이에 형성된 액정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 투명 도전층은 고분자 물질로 형성된 것을 특징으로 한다.
상기 고분자 물질의 재질은 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리스틸렌, 폴리비닐 알코올, 폴리메탈 메타크릴레이트, 나일론 등의 화합물 중에서 선택된 적어도 어느 하나의 물질로 형성된 것을 특징으로 한다.
상기 투명 도전층은 인튬 틴 옥사이드, 인듐 징크 옥사이드 및 틴 옥사이드로 구성된 일군으로부터 선택된 어느 하나의 물질인 것을 특징으로 한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 액정 표시 패널의 제조 방 법은 박막 트랜지스터 어레이, 화소 전극 및 공통 전극이 형성된 박막 트랜지스터 기판을 마련하는 단계; 컬러 필터 기판을 마련하는 단계; 상기 박막 트랜지스터 기판과 상기 컬러 필터 기판 사이에 액정을 형성 및 상기 박막 트랜지스터 기판과 상기 컬러 필터 기판을 합착하는 단계; 및 합착된 상기 컬러 필터 기판 상에 투명 도전층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 투명 도전층을 형성하는 단계는 라미네이션 방식으로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 투명 도전층을 형성하는 단계는 상기 박막 트랜지스터 기판과 상기 컬러 필터 기판을 합착한 후에 상기 컬러 필터 기판을 세정하는 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 일실시예에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 패널을 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 패널의 단면을 나타낸 단면도이다.
본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 패널(20)은 PLS 모드로 수직 및 수평 전계 방식이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 액정 표시 패널(20)은 액정(30)을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 박막 트랜지스터 기판(40) 및 컬러 필터 기판(100)을 구비한 다.
액정(30)은 유전율 이방성 및 굴절률 이방성을 갖는 물질로 이루어짐과 아울러 박막 트랜지스터 기판(40)의 공통 전극(145)과 화소 전극(140) 간에 형성되는 수평 전계에 의해 수평 방향으로 배열된다.
박막 트랜지스터 기판(40)은 하부 기판(50) 상에 게이트 전극(155), 공통 전극(145), 게이트 절연막(156), 반도체층(157), 불순물이 도핑된 반도체층(158,159), 소스 전극(160), 드레인 전극(161), 보호막(165), 화소 전극(140)을 구비한다.
하부 기판(50) 상에 형성된 게이트 전극(155) 및 공통 전극(145)은 게이트 전극(155) 및 공통 전극(145)과 데이터 전극과의 절연을 위해 게이트 절연막(156)이 형성되어 있다. 게이트 절연막(156)은 SiNx나 SiOx 등과 같은 무기막으로 형성된다.
게이트 절연막(156) 위에는 박막 트랜지스터(TFT)의 전하 이동경로인 채널을 형성하는 반도체층(157)이 형성되어 있으며 그 위에 전기적 저항층인 불순물이 도핑된 반도체층(158,159)이 형성되어 있다. 이때, 반도체층(157) 및 불순물이 도핑된 반도체층(158,159)은 비정질 반도체 또는 결정질 반도체일 수 있다.
불순물이 도핑된 반도체층(158,159) 위에는 데이터 라인을 통해 데이터 전압을 인가받는 소스 전극(160) 및 데이터 전압을 화소 전극(140)에 전달하는 드레인 전극(161)이 형성되어 있다. 소스 전극(160)과 드레인 전극(161)은 Cr 또는 Cr합금, Al합금, Mo 또는 Mo합금, Cu 또는 Cu합금 등의 금속으로 단일층 또는 이중층 이상으로 형성한다.
소스 전극(160), 드레인 전극(161), 반도체층(157), 게이트 절연막(156) 위에는 박막 트랜지스터(TFT)의 채널부를 보호하기 위한 절연층인 보호막(165)이 형성되어 있다. 보호막(165)은 SiNx 등의 단일막 또는 무기막 및 유기 절연막 등의 이중막 이상으로 형성한다.
보호막(165) 위에는 액정(30)에 화소 전압을 인가하는 화소 전극(140)이 형성되어 있다. 화소 전극(140)은 ITO(Induim Tin Oxide)나 IZO(Induim Zinc Oxide) 등과 같은 투명한 금속으로 형성하며 보호막(165)에 형성된 콘택홀(166)을 통해 드레인 전극(160)과 전기적으로 연결되어 데이터 전압을 인가받는다.
화소 전극(140)은 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(161)과 접속되며, 각 화소 영역에서 게이트 절연막(156) 및 보호막(165)을 사이에 두고 공통 전극(145)이 중첩되어 형성된다. 공통 전극(145)은 화소 전극(140)과 마찬가지로 ITO나 IZO 등과 같은 투명한 금속으로 형성하여 공통 전극 배선을 통해 공통 전압을 인가받는다. 이러한 공통 전극(145)은 화소 전극(140)과 프린지 필드를 형성하여 결과적으로 수평 및 전계를 형성한다.
컬러 필터 기판(100)은 상부 기판(110)에 블랙 매트릭스(120), 적색, 녹색, 청색 컬러 필터(130), 컬럼 스페이서(125)를 구비한다.
상부 기판(110) 위에 외부광 차단 및 박막 트랜지스터(TFT)의 광누설전류를 막기 위한 블랙 매트릭스(120)가 형성되어 있다. 블랙 매트릭스(120)는 Cr 등과 같은 금속이나 고분자 수지 등을 이용하여 형성하며 단일층 또는 이중층 이상으로 형 성한다.
블랙 매트릭스(120) 위에는 디스플레이의 색을 표현하기 위한 적색, 녹색, 청색 컬러 필터(130)가 형성되어 있다.
이러한 블랙 매트릭스(120)가 Cr 등과 같은 금속층으로 형성되었을 경우에는 컬러 필터(130)와 컬럼 스페이서(125)를 형성한 후, 컬러 필터(130)의 상부 영역을 평탄화하기 위해 오버코트(overcoat)층을 형성하는 것이 바람직하다. 그러나, 블랙 매트릭스(120)가 고분자 수지로 형성되었을 경우에는 오버코트층을 형성하지 않을 수 있다.
또한, 박막 트랜지스터 기판(40) 상에 공통 전극(145)이 형성되어 있기 때문에 컬러 필터 기판(100)에는 공통 전극(145)이 없다.
도 4는 본 발명의 제1 및 제2 실시예에 따른 투명 도전층의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 4를 참조하면, 베이스 필름(149) 상에 투명 도전층(150), 및 투명 도전층(150)을 보호하기 위한 보호 필름(151)을 구비한다.
이러한 투명 도전층(150)은 베이스 필름(149) 상에 도전성을 가진 고분자 물질이 코팅된다. 구체적으로, 도전성을 가진 고분자 물질의 재질로는 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리스틸렌, 폴리비닐 알코올, 폴리메탈 메타크릴레이트, 나일론 등의 화합물 중에서 선택된 적어도 어느 하나의 물질로 형성된다.
투명 도전층(150)을 고분자 물질로 형성할 경우, 투명 도전층(150)의 두께는 50 ~ 500um로 형성하는 것이 바람직하다.
베이스 필름(149) 상에 적층된 투명 도전층(150)은 보호 필름(151)으로 커버된다.
본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 패널(20)의 제조 방법은 박막 트랜지스터(TFT) 어레이, 화소 전극(140) 및 공통 전극(145)이 형성된 박막 트랜지스터 기판(40)을 마련하는 단계와, 컬러 필터 기판(100)을 마련하는 단계와, 박막 트랜지스터 기판(40)과 컬러 필터 기판(100) 사이에 액정(30)을 형성하는 단계와, 박막 트랜지스터 기판(40)과 컬러 필터 기판(100)을 합착하는 단계와, 합착된 컬러 필터 기판(100) 상에 투명 도전층(150)을 형성하는 단계를 거친다.
여기서, 투명 도전층(150)은 라미네이션 방식으로 형성한다.
또한, 박막 트랜지스터 기판(40)과 컬러 필터 기판(100)을 합착하고, 투명 도전층(150)을 형성하기 전에 컬러 필터 기판(100)을 세정하는 하는 단계를 더 포함한다.
상술한 바와 같이, 화소 전극(140) 및 공통 전극(145)이 형성된 박막 트랜지스터 기판(40)과, 컬러 필터 기판(100)을 마련한다. 두 기판(40,100) 사이에 액정(30)을 형성하고, 두 기판(40,100)을 합착한다.
컬러 필터 기판(100) 상에 투명 도전층(150)을 형성하기 전에, 컬러 필터 기판(100)을 세정한다. 이때, 세정은 컬러 필터 기판(100) 상에 존재하는 유기물을 제거하기 위한 것이다. 따라서, 세정액으로는 H2SO4와 H2O2를 4:1의 비율로 하여 사용하는 것이 바람직하다.
그런 다음, 투명 도전층(150)의 보호 필름(151)을 제거하여 투명 도전 층(150)이 노출된 면을 컬러 필터 기판(100) 상에 압착한다. 이때, 라미네이션(Lamination) 방식으로 열과 압력을 가하여 압착한다. 다음으로, 도전성 필름(150) 상부에 남아있는 있는 베이스 필름(149)을 제거하여 액정 표시 패널(20)을 완성한다.
또한, 투명 도전층(150)은 공통 전극(145)과 같은 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 투명 도전층(150)은 인튬 틴 옥사이드, 인듐 징크 옥사이드 및 틴 옥사이드로 구성된 일군으로부터 선택된 어느 하나의 물질로 형성된다.
투명 도전층(150)을 공통 전극(145)과 같은 재질로 형성할 경우, 투명 도전층(150)의 두께는 1000Å ~ 2000Å으로 형성하는 것이 바람직하다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 패널의 단면을 나타낸 단면도이다.
본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 패널(20)은 IPS 또는 FFS(Fringe Field Switching) 모드 등의 횡전계 방식이다.
도 3을 참조하면, 액정 표시 패널(20)은 박막 트랜지스터 기판(40)과 컬러 필터 기판(100) 및 두 기판(40,100) 사이에 액정(30)을 구비한다.
박막 트랜지스터 기판(40)은 하부 기판(50) 상에 게이트 전극(155), 게이트 절연막(156), 반도체층(157), 불순물이 도핑된 반도체층(158,159), 소스 전극(160), 드레인 전극(161), 보호막(165), 화소 전극(140)을 구비한다.
하부 기판(50), 게이트 전극(155), 게이트 절연막(156), 비정질 반도체층(157), 불순물이 도핑된 반도체층(158,159), 소스 전극(160), 드레인 전극(161), 보호막(165), 화소 전극(140)은 제1 실시예와 동일하다.
보호막(165) 위에는 액정(30)에 화소 전압을 인가하는 화소 전극(140)이 형성되어 있다. 화소 전극(140)은 ITO(Induim Tin Oxide)나 IZO(Induim Zinc Oxide) 등과 같은 투명한 금속으로 형성하며 보호막(165) 상에 형성된 콘택홀(166)을 통해 소스 전극(160)과 전기적으로 연결되어 데이터 전압을 인가받는다.
한편, 보호막(165) 위에는 화소 전극(140)에 대응하여 액정(30)에 공통 전압을 인가하는 공통 전극(145)이 형성되어 있다. 공통 전극(145)은 화소 전극(140)과 마찬가지로 ITO나 IZO 등과 같은 투명한 금속으로 형성하여 공통 전극 배선을 통해 공통 전압을 인가받는다. 이 공통 전극(145)은 화소 전극(140)과 나란하게 형성되어 수평 전계를 형성한다.
컬러 필터 기판(100)은 상부 기판(110) 상에 블랙 매트릭스(120), 적색, 녹색, 청색 컬러 필터(130), 컬럼 스페이서(125)를 구비한다.
상부 기판(110), 블랙 매트릭스(120), 적색, 녹색, 청색 컬러 필터(130), 컬럼 스페이서(125)는 제1 실시예와 동일하다. 또한, 박막 트랜지스터 기판(40) 상에 공통 전극(145)이 형성되어 있기 때문에 컬러 필터 기판(100)에는 공통 전극(145)이 없다.
이러한 컬러 필터 기판(100) 상에 투명 도전층(150)이 형성된다.
투명 도전층(150)의 재질 및 형성 방법은 제1 실시예와 동일하다.
도 4를 참조하면, 베이스 필름(149) 상에 투명 도전층(150), 및 투명 도전층(150)을 보호하기 위한 보호 필름(151)을 구비한다.
이러한 투명 도전층(150)은 베이스 필름(149) 상에 도전성을 가진 고분자 물질이 코팅된다. 구체적으로, 도전성을 가진 고분자 물질의 재질로는 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리스틸렌, 폴리비닐 알코올, 폴리메탈 메타크릴레이트, 나일론 등의 화합물 중에서 선택된 적어도 어느 하나의 물질로 형성된다.
투명 도전층(150)을 고분자 물질로 형성할 경우, 투명 도전층(150)의 두께는 50 ~ 500um로 형성하는 것이 바람직하다.
베이스 필름(149) 상에 적층된 투명 도전층(150)은 보호 필름(151)으로 커버된다.
본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 패널(20)의 제조 방법은 박막 트랜지스터(TFT) 어레이, 화소 전극(140) 및 공통 전극(145)이 형성된 박막 트랜지스터 기판(40)을 마련하는 단계와, 컬러 필터 기판(100)을 마련하는 단계와, 박막 트랜지스터 기판(40)과 컬러 필터 기판(100) 사이에 액정(30)을 형성하는 단계와, 박막 트랜지스터 기판(40)과 컬러 필터 기판(100)을 합착하는 단계와, 합착된 컬러 필터 기판(100) 상에 투명 도전층(150)을 형성하는 단계를 거친다.
여기서, 투명 도전층(150)은 라미네이션 방식으로 형성한다.
또한, 박막 트랜지스터 기판(40)과 컬러 필터 기판(100)을 합착하고, 투명 도전층(150)을 형성하기 전에 컬러 필터 기판(100)을 세정하는 하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 패널(20)의 제조 방법은 상술한 제1 실시예에 따른 액정 표시 패널(20)의 제조 방법과 동일하다.
또한, 투명 도전층(150)은 공통 전극(145)과 같은 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 투명 도전층(150)은 인튬 틴 옥사이드, 인듐 징크 옥사이드 및 틴 옥사이드로 구성된 일군으로부터 선택된 어느 하나의 물질로 형성된다.
투명 도전층(150)을 공통 전극(145)과 같은 재질로 형성할 경우, 투명 도전층(150)의 두께는 1000Å ~ 2000Å으로 형성하는 것이 바람직하다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정 표시 패널은 컬러 필터 기판에 공통 전극이 없는 횡전계 방식 및 PLS 모드에서, 박막 트랜지스터 기판과 컬러 필터 기판을 합착한 후에 컬러 필터 기판 상부에 투명 도전층을 형성하는 것으로 정전기성 불량을 방지할 수 있다.
또한, 투명 도전층을 필름 타입으로 형성하기 때문에 제조 공정이 용이하고
이상에서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음이 자명하다.

Claims (7)

  1. 박막 트랜지스터 어레이, 공통 전극 및 화소 전극이 형성된 박막 트랜지스터 기판;
    일면에는 컬러 필터 어레이가 형성되고, 타면에는 투명 도전층이 형성된 컬러 필터 기판; 및
    상기 박막 트랜지스터 기판과 상기 컬러 필터 기판 사이에 형성된 액정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 투명 도전층은 고분자 물질로 형성된 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 고분자 물질의 재질은 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리스틸렌, 폴리비닐 알코올, 폴리메탈 메타크릴레이트, 나일론 등의 화합물 중에서 선택된 적어도 어느 하나의 물질로 형성된 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 투명 도전층은 인튬 틴 옥사이드, 인듐 징크 옥사이드 및 틴 옥사이드 로 구성된 일군으로부터 선택된 어느 하나의 물질인 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.
  5. 박막 트랜지스터 어레이, 화소 전극 및 공통 전극이 형성된 박막 트랜지스터 기판을 마련하는 단계;
    컬러 필터 기판을 마련하는 단계;
    상기 박막 트랜지스터 기판과 상기 컬러 필터 기판 사이에 액정을 형성 및 상기 박막 트랜지스터 기판과 상기 컬러 필터 기판을 합착하는 단계; 및
    합착된 상기 컬러 필터 기판 상에 투명 도전층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 투명 도전층을 형성하는 단계는
    라미네이션 방식으로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널의 제조 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 투명 도전층을 형성하는 단계는
    상기 박막 트랜지스터 기판과 상기 컬러 필터 기판을 합착한 후에 상기 컬러 필터 기판을 세정하는 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패 널의 제조 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US10281781B2 (en) 2016-06-16 2019-05-07 Samsung Display Co., Ltd. Display device and method for manufacturing the same

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