KR20080041105A - 패턴 묘화 장치 및 패턴 묘화 방법 - Google Patents

Abstract

패턴 묘화 장치가 복수의 묘화 대상 영역을 갖는 기판을 대상으로 하는 경우 에 있어서의 노광 주사의 회수를 저감시키는 것으로서, 패턴 묘화 장치에서는, 복수의 노광 헤드를 기판에 대해 주 주사 방향과 부 주사 방향으로 상대 이동시킴으로써, 기판(9) 상의 개시 위치(Ps)로부터 부 주사 방향으로 소정폭(w)마다 규정되는 복수의 주사 영역(As)의 각각을 담당하는 주 주사 방향에 따른 노광 주사가 행해진다. 개시 위치(Ps)는, 소정폭(w) 및, 간극 영역(Av)의 간극 거리(La) 및 간극 폭(Ld)에 의거해, 주사 영역(As)의 경계 중 어느곳이 간극 영역(Av)에 위치하도록 결정된다. 따라서, 하나의 주사 영역(As)에 두개의 묘화 대상 영역(At)의 일부가 포함되는 일이 없어진다. 그 결과, 복수의 묘화 대상 영역(At)을 갖는 기판(9)을 처리 대상으로 하는 경우라도, 동일한 주사 영역(As)에 대해 두번의 노광 주사를 행할 필요가 없어져, 노광 주사의 회수를 저감할 수 있다.

Description

패턴 묘화 장치 및 패턴 묘화 방법 {Pattern drawing apparatus and pattern drawing method}

본 발명은, 감광 재료가 형성된 기판의 복수의 묘화 대상 영역의 각각에 규칙적인 패턴을 묘화하는 기술에 관한 것이다.

종래부터, 액정 표시 장치에 구비되는 컬러 필터용 기판, 액정 표시 장치나 플라즈마 표시 장치 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD)용 유리 기판, 반도체 기판, 프린트 기판 등의 기판의 제조 공정에 있어서는, 감광 재료가 형성된 기판에 광을 조사함으로써, 기판의 표면에 규칙적인 패턴을 묘화하는 패턴 묘화 장치가 사용되고 있다.

이러한 패턴 묘화 장치로서, 예를 들면 특허문헌 1에 기재된 것이 알려져 있다. 특허문헌 1의 패턴 묘화 장치는, 마스크의 개구부를 통과한 광원으로부터의 광을 기판에 조사하여 기판을 노광하는 노광 헤드를 구비하고, 이 노광 헤드로부터 광을 조사시키면서 기판에 대해 노광 헤드를 소정의 주 주사 방향으로 상대 이동시킴으로써, 기판에 규칙적인 패터닝을 묘화하도록 되어 있다.

＜특허문헌1＞ 일본국 특허공개 2006－145745호 공보

상기와 같은 패턴 묘화 장치에 있어서는, 기판에 대한 묘화를, 주 주사 방향으로의 한번의 노광 주사에 의해서 행하는 것이 아니라, 비교적 컴팩트한 노광 헤드를 이용한 주 주사 방향으로의 복수회의 노광 주사에 의해서 행하는 것이 제안되어 있다. 이 경우는, 기판 상의 영역을, 부 주사 방향(주 주사 방향에 직교하는 방향)으로 소정폭마다 분할하고, 그 분할에 의해서 형성되는 복수의 주사 영역의 각각을 담당하도록, 노광 헤드가 주 주사 방향에 따른 노광 주사를 행하게 된다.

그런데, 패턴 묘화 장치가 처리 대상으로 하는 기판에 있어서는, 하나의 최종 제품에 해당하는 패턴을 묘화해야 할 묘화 대상 영역이 복수 설정되는 경우가 있다. 이와 같이 복수의 묘화 대상 영역이 설정된 기판에 관한 묘화를, 주 주사 방향으로의 복수회의 노광 주사에 의해서 행하는 경우에 있어서는, 하나의 주사 영역내에, 인접하는 두개의 묘화 대상 영역 각각의 일부가 포함되는 경우가 있다. 이 경우에는, 이들 두개의 묘화 대상 영역의 쌍방에 대해, 한번의 노광 주사에 의해서 패턴의 묘화를 행할 수 없다. 이 때문에, 해당 주사 영역에 관해서는, 두번의 노광 주사를 행하고, 첫번째의 노광 주사에서 한쪽 묘화 대상 영역의 패턴을 묘화하고, 두번째의 노광 주사에서 다른쪽 묘화 대상 영역의 패턴을 묘화한다고 하는 예외 처리를 행할 필요가 있다. 이러한 동일한 주사 영역에 대한 두번의 노광 주사는, 스루 풋의 저하로 연결된다.

본 발명은, 상기 과제에 비추어 이루어진 것으로서, 복수의 묘화 대상 영역 을 갖는 기판을 대상으로 하는 경우라도 노광 주사의 회수를 저감할 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해서, 청구항 1의 발명은, 감광 재료가 형성된 기판의 복수의 묘화 대상 영역의 각각에 규칙적인 패턴을 묘화할 수 있는 패턴 묘화 장치로서, 광원으로부터의 광을 상기 기판에 조사하고, 상기 기판을 노광하여 상기 패턴을 묘화하는 노광 수단과, 상기 노광 수단을 상기 기판에 대해 서로 직교하는 주 주사 방향과 부 주사 방향으로 상대 이동시켜, 상기 기판 상의 개시 위치로부터 상기 부 주사 방향으로 소정폭마다 규정되는 복수의 주사 영역의 각각을 담당하는 상기 주 주사 방향에 따른 노광 주사를, 상기 노광 수단에 행하게 하는 주사 기구와, 상기 소정폭 및 상기 부 주사 방향에 인접하는 상기 묘화 대상 영역의 간극 영역의 위치 정보에 의거해, 인접하는 상기 주사 영역의 경계중 어느 곳이 상기 간극 영역에 위치하도록 상기 개시 위치를 결정하는 결정 수단을 구비하고 있다.

또한, 청구항 2의 발명은, 청구항 1에 기재의 패턴 묘화 장치에 있어서, 상기 노광 수단은, 상기 소정폭의 자연수배의 피치로 상기 부 주사 방향으로 배열된 복수의 노광 헤드를 구비한다.

또한, 청구항 3의 발명은, 감광 재료가 형성된 기판의 복수의 묘화 대상 영역의 각각에 규칙적인 패턴을 묘화하는 패턴 묘화 방법으로서, 광원으로부터의 광을 상기 기판에 조사하고, 상기 기판을 노광하여 상기 패턴을 묘화하는 노광 수단을, 상기 기판에 대해 서로 직교하는 주 주사 방향과 부 주사 방향으로 상대 이동 시켜, 상기 기판 상의 개시 위치로부터 상기 부 주사 방향으로 소정폭마다 규정되는 복수의 주사 영역의 각각을 담당하는 상기 주 주사 방향에 따른 노광 주사를, 상기 노광 수단에 행하게 하는 주사 공정과, 상기 주사 공정의 전에, 상기 소정폭, 및, 상기 부 주사 방향에 인접하는 상기 묘화 대상 영역의 간극 영역의 위치 정보에 의거해, 인접하는 상기 주사 영역의 경계 중 어느 곳이 상기 간극 영역에 위치하도록 상기 개시 위치를 결정하는 결정 공정을 구비한다.

또한, 청구항 4의 발명은, 청구항 1에 기재의 패턴 묘화 장치에 있어서, 상기 결정 수단은, 미리 정해진 기준 위치로부터 상기 간극 영역의 종단측까지의 거리를 La, 상기 간극 영역의 부 주사 방향의 폭을 Ld, 상기 노광 수단을 상기 기준 위치보다 부 주사 방향 반대측으로 이동시키는 양을 Lo, 및 상기 노광 수단의 상기 부 주사 방향의 폭을 w로 한 경우,

Lb = La＋ Lo … 식(1)

r=Lb MOD w(단, “MOD”는 나눗셈을 중단하고 잉여를 되돌려주는 함수) … 식(2)

r＜Ld … 식(3)을 만족하는 Lo를 산출함으로써, 상기 개시 위치를 결정하는 것을 특징으로 한다.

또한, 청구항 5의 발명은, 청구항 3에 기재의 패턴 묘화 방법에 있어서, 상기 결정 공정은, 미리 정해진 기준 위치로부터 상기 간극 영역의 종단측까지의 거리를 La, 상기 간극 영역의 부주사 방향의 폭을 Ld,

상기 노광 수단을 상기 기준 위치보다 부 주사 방향 반대측으로 이동시키는 양을 Lo, 및 상기 노광 수단의 상기 부주사 방향의 폭을 w로 한 경우,

Lb = La ＋ Lo … 식(4)

r=Lb MOD w(단,“MOD”는 나눗셈을 중단하고 잉여를 되돌려주는 함수)… 식(5)

r＜ Ld … 식(6)을 만족하는 Lo를 산출함으로써, 상기 개시 위치를 결정하는 것을 특징으로 한다.

청구항 1 내지 청구항 5의 발명에 의하면, 주사 영역의 경계가 간극 영역에 위치하므로, 하나의 주사 영역에 두개의 묘화 대상 영역의 일부가 포함되는 일이 없어진다. 이에 따라, 복수의 묘화 대상 영역을 갖는 기판을 대상으로 하는 경우라도, 동일한 주사 영역에 대해 노광 주사를 중복하여 행할 필요가 없어져, 노광 주사의 회수를 저감할 수 있다.

또한, 특히 청구항 2의 발명에 의하면, 복수의 주사 영역의 각각을 담당하는 노광 주사를 복수의 노광 헤드로 분담할 수 있으므로, 노광 주사의 회수를 더욱 저감할 수 있다.

이하, 도면을 참조하면서, 본 발명의 실시의 형태에 관해서 설명한다.

＜1.구성＞

도 1 및 도 2는, 본 발명의 실시의 형태에 관한 패턴 묘화 장치(1)의 구성을 도시하는 도면이고, 도 1은 측면도, 도 2는 상면도이다. 이 패턴 묘화 장치(1)는, 액정 표시 장치의 컬러 필터를 제조하는 공정에 있어서, 감광 재료(본 실시의 형태에서는 컬러 레지스트)가 형성된 컬러 필터용의 유리 기판(이하, 간단히「기판」 이라고 한다)(9)에, 소정의 패턴을 묘화하기 위한 장치이다. 도 1 및 도 2에 도시하는 바와같이, 패턴 묘화 장치(1)는 주로, 기대(11)와, 기판(9)을 유지하기 위한 스테이지(10)와, 기대(11)에 대해 스테이지(10)를 구동하는 구동부(20)와, 복수의 노광 헤드(30)를 구비한다.

또한, 이하의 설명에 있어서는, 방향 및 방면을 표시할 때, 적절히, 도면 중에 표시하는 3차원의 XYZ 직교 좌표를 이용한다. 이 XYZ축은 기대(11)에 대해 상대적으로 고정된다. 여기서, X축 및 Y축 방향은 수평 방향, Z축 방향은 연직 방향이다. 패턴 묘화 장치(1)에 있어서의 주 주사 방향은 Y축 방향에 대응하고, 부 주사 방향은 X축 방향에 대응한다.

스테이지(10)는, 평판상의 외형을 가지고, 그 상면에 적재된 기판(9)을 대략 수평 자세로 유지하는 유지부로서 기능한다. 스테이지(10)의 상면에는, 복수의 흡인 구멍(도시 생략)이 형성되어 있다. 이들 흡인 구멍의 흡인압에 의해, 스테이지(10) 상에 적재된 기판(9)은, 스테이지(10)의 상면에 고정 지지된다.

구동부(20)는, 기대(11)에 대해 스테이지(10)를 주 주사 방향(Y축 방향),부 주사 방향(X축 방향) 및 회전 방향(Z축 주위의 회전 방향)으로 이동시키기 위한 구동 장치이다. 구동부(20)는, 스테이지(10)를 회전시키는 회전 기구(21)와, 스테이지(10)를 하면측에서 지지하는 지지 플레이트(22)와, 지지 플레이트(22)를 부 주사 방향으로 이동시키는 부 주사 기구(23)와, 부 주사 기구(23)를 통해 지지 플레이 트(22)를 지지하는 베이스 플레이트(24)와, 베이스 플레이트(24)를 주 주사 방향으로 이동시키는 주 주사 기구(25)를 가진다.

회전 기구(21)는, 스테이지(10)의 －Y측 단부에 부착된 이동자와, 지지 플레이트(22)의 상면에 설치된 고정자에 의해 구성된 리니어 모터(21a)를 가지고 있다. 또한, 회전 기구(21)는, 스테이지(10)의 중앙부 하면측과 지지 플레이트(22)의 사이에, 회전축(21b)을 가진다. 이 때문에, 리니어 모터(21a)를 동작시키면, 고정자에 따라 이동자가 X축 방향으로 이동하고, 지지 플레이트(22) 상의 회전축(21b)을 중심으로 하여 스테이지(10)가 소정 각도의 범위 내에서 회전한다.

부 주사 기구(23)는, 지지 플레이트(22)의 하면에 부착된 이동자와 베이스 플레이트(24)의 상면에 설치된 고정자에 의해 구성된 리니어 모터(23a)를 갖고 있다. 또한, 부 주사 기구(23)는, 지지 플레이트(22)와 베이스 플레이트(24)와의 사이에, 부 주사 방향으로 연장되는 한쌍의 가이드부(23b)를 가진다. 이 때문에, 리니어 모터(23a)를 동작시키면, 베이스 플레이트(24) 상의 가이드부(23b)에 따라 지지 플레이트(22)가 부 주사 방향으로 이동한다. 스테이지(10)는 지지 플레이트(22)에 지지되므로, 부 주사 기구(23)는, 기대(11)에 대해 스테이지(10)를 부 주사 방향으로 이동시키게 된다.

주 주사 기구(25)는, 베이스 플레이트(24)의 하면에 부착된 이동자와 기대(11) 상에 설치된 고정자에 의해 구성된 리니어 모터(25a)를 가진다. 또한, 주 주사 기구(25)는, 베이스 플레이트(24)와 기대(11)와의 사이에, 주 주사 방향으로 연장되는 한쌍의 가이드부(25b)를 가진다. 이 때문에, 리니어 모터(25a)를 동작시 키면, 기대(11) 상의 가이드부(25b)에 따라 베이스 플레이트(24)가 주 주사 방향으로 이동한다. 스테이지(10)는 지지 플레이트(22) 및 베이스 플레이트(24)에 지지되므로, 주 주사 기구(25)는, 기대(11)에 대해 스테이지(10)를 주 주사 방향으로 이동시키게 된다.

복수의 노광 헤드(30)는, 스테이지(10) 상에 적재된 기판(9)의 상면에 펄스광을 조사하고, 기판(9)을 노광하여 규칙적인 패턴을 묘화하는 것이다. 기대(11)에는, 부 주사 방향을 따라 기대(11)의 －X측 및 ＋X측 단부에 걸치고, 또한, 스테이지(10) 및 구동부(20)를 타넘는 가교 구조의 프레임(31)이 고정 설치되어 있다. 복수의 노광 헤드(30)는, 이 프레임(31)에 대해, 부 주사 방향을 따라서 동일 피치로 배열하여 부착된다. 따라서, 복수의 노광 헤드(30)의 위치는, 기대(11)에 대해 고정된다.

상술한 바와 같이, 구동부(20)의 주 주사 기구(25) 및 부 주사 기구(23)는, 기대(11)에 대해 스테이지(10)를 이동시킨다. 이 때문에, 주 주사 기구(25)를 구동시키면 스테이지(10) 상에 적재된 기판(9)에 대해 복수의 노광 헤드(30)가 주 주사 방향으로 상대적으로 이동하고, 부 주사 기구(23)를 구동시키면 스테이지(10) 상에 적재된 기판(9)에 대해 복수의 노광 헤드(30)가 부 주사 방향으로 상대적으로 이동하게 된다.

각 노광 헤드(30)에는, 조명 광학계(32)를 통해 펄스광의 광원인 1개의 레이저 발진기(33)가 접속되고, 또한, 레이저 발진기(33)에는 레이저 구동부(34)가 접속되어 있다. 이 때문에, 레이저 구동부(34)를 동작시키면, 레이저 발진기(33)로 부터 펄스광이 발진되고, 발진된 펄스광은 조명 광학계(32)를 통해 각 노광 헤드(30) 내로 안내된다.

각 노광 헤드(30)의 내부에는, 조명 광학계(32)에 의해 안내된 펄스광을 아래쪽을 향해 출사하기 위한 출사부(35)와, 펄스광을 부분적으로 차광하여 소정 형상의 광속을 형성하기 위한 애퍼처부(36)와, 해당 광속을 기판(9)의 상면에 조사하기 위한 투영 광학계(37)와, 애퍼처부(36)에 조사하는 펄스광을 부분적으로 차광하는 셔터 기구(38)가 설치된다.

출사부(35)로부터 출사된 펄스광은, 애퍼처부(36)를 통과할 때에 복수의 슬롯을 갖는 마스크에 의해서 부분적으로 차광되고, 소정 형상의 광속으로 성형되어 투영 광학계(37)로 입사한다. 그리고, 투영 광학계(37)를 통과한 소정 형상의 펄스광이 기판(9)의 상면에 조사됨으로써, 기판(9)에 도포된 감광 재료가 감광하여, 기판(9)에 패턴이 묘화된다. 또한, 셔터 기구(38)는, 출사부(35)와 애퍼처부(36)와의 사이에 배치되고, 애퍼처부(36)에 조사되는 펄스광을 부 주사 방향의 단부로부터 부분적으로 차광하여, 기판(9) 상에 있어서 패턴을 묘화하는 영역의 부 주사 방향의 폭을 조정한다.

도 3은 애퍼처부(36)가 갖는 마스크(361)의 일례를 도시하는 도면이다. 마스크(361)는, 광을 차단하는 가공이 실시된 유리판이나 금속판 등으로 구성된다. 도면에 도시하는 바와같이, 마스크(361)에는, 광을 통과하는 개구부인 다수의 슬롯(SL)이, 부 주사 방향을 따라서 등간격으로 배열하여 형성되어 있다. 각 슬롯(SL)은, 주 주사 방향을 길이 방향으로 하는 직사각형 형상을 갖고 있다. 이들 슬롯(SL)을 통과한 펄스광이 기판(9)에 조사됨으로써, 기판(9)에는 부 주사 방향을 따라서 직사각형 형상의 다수의 패턴이 묘화된다. 또한, 애퍼처부(36)는, 마스크(361)를 주 주사 방향 및 부 주사 방향으로 미소하게 변위시키는 구동부(도시 생략)를 구비하고 있고, 기판(9) 상에 있어서 패턴을 묘화하는 위치를 미세 조정할 수 있도록 되어 있다.

도 4는, 셔터 기구(38)의 구성을 도시하는 도면이다. 도면에 도시하는 바와같이, 셔터 기구(38)는, 셔터 개구(381)를 중앙에 갖는 셔터(382)와, 셔터(382)를 지지하는 지지부(383)와, 셔터(382)를 부 주사 방향으로 이동하는 셔터 구동부(384)를 구비한다.

셔터(382)는, 셔터 개구(381)를 제외하는 부위에 광을 차단하는 가공이 실시된 유리판이나 금속판 등으로 구성된다. 셔터(382)는, －Y측 단부 및 ＋Y측 단부에 있어서 지지부(383)에 지지되어 있다. 셔터 구동부(384)는, 부 주사 방향으로 연장되는 한쌍의 가이드부(385)와, 리니어 모터(386)를 구비하고, 리니어 모터(386)의 이동자가 지지부(383)에 접속되어 있다. 이에 따라, 리니어 모터(386)를 동작시키면, 가이드부(385)에 따라, 지지부(383)와 이에 지지된 셔터(382)가 부 주사 방향으로 이동한다.

셔터 기구(38)에 있어서는, 셔터(382)의 셔터 개구(381)에 조사된 펄스광만이 통과하여, 애퍼처부(36)의 마스크(361)에 조사된다. 셔터(382)를 부 주사 방향으로 이동하면, 마스크(361)에 펄스광이 조사되는 영역도 부 주사 방향으로 이동한다. 이에 따라, 마스크(361)의 ＋X측 단부 혹은 －X측 단부에 있어서의 일부 슬 롯(SL)에의 펄스광이 차광된다. 그 결과, 펄스광이 통과하는 슬롯(SL)의 개수가 감소하고, 기판(9) 상에 있어서 묘화되는 패턴의 수도 감소한다. 셔터 기구(38)는, 이러한 셔터(382)의 이동에 의해, 노광 헤드(30)가 한번의 펄스광의 조사에 의해 기판(9) 상에 패턴을 묘화하는 영역(노광하는 영역)의 부 주사 방향의 폭을 조정한다.

또한, 패턴 묘화 장치(1)는, 장치 전체를 제어하는 동시에, 각종 연산 처리를 행하는 제어부(50)를 구비한다. 도 5는, 제어부(50)를 포함한 패턴 묘화 장치(1)의 구성을 개념적으로 도시하는 블록도이다. 제어부(50)는, CPU 및 메모리 등을 구비한 컴퓨터에 의해서 구성되고, 미리 메모리에 기억된 프로그램에 따라서 CPU가 연산 처리를 행함으로써, 장치 각 부의 제어 기능이나 각종 연산 기능이 실현된다.

도 5에 도시하는 바와같이, 상술한 주 주사 기구(25), 부 주사 기구(23), 회전 기구(21), 레이저 구동부(34) 및 셔터 구동부(384) 등은, 제어부(50)에 전기적으로 접속되고, 제어부(50)의 제어 하에서 동작한다.

또한, 패턴 묘화 장치(1)는, 사용자의 각종 조작을 접수하는 조작부(51)와, 패턴의 묘화에 필요한 묘화 데이터를 입력하는 데이터 입력부(52)를 더 구비한다. 데이터 입력부(52)는 예를 들면, 기록 매체를 읽어내는 독해 장치나, 외부 장치와의 사이에서 데이터 통신을 행하는 통신 장치 등으로서 구성된다. 이들 조작부(51) 및 데이터 입력부(52)도 제어부(50)에 전기적으로 접속되고, 조작부(51)의 조작 내용은 신호로서 제어부(50)에 입력되는 동시에, 데이터 입력부(52)에 입력된 묘화 데이터는 제어부(50)의 메모리에 기억된다. 묘화 데이터에는, 처리 대상의 기판(9)에 있어서의 패턴을 묘화해야 할 영역인 묘화 대상 영역의 위치를 나타내는 위치 정보 등이 표시된다.

도 6 내지 도 8은 패턴 묘화 장치(1)가 처리 대상으로 하는 기판(9)에 설정되는 묘화 대상 영역의 위치의 예를 도시하는 도면이다. 이들 도면에 있어서, 부호 At로 표시하는 영역은, 패턴을 묘화해야 할 묘화 대상 영역을 표시한다. 이들의 묘화 대상 영역(At)의 각각은, 각종 제조 공정을 거쳐, 최종적으로 하나의 컬러 필터(최종 제품)로 되게 된다.

패턴 묘화 장치(1)에서는, 도 6과 같이 하나의 기판(9)에 하나의 묘화 대상 영역(At)이 설정되는 경우는 물론, 도 7 및 도 8에 도시하는 바와같이 하나의 기판(9)에 복수의 묘화 대상 영역(At)이 이차원적으로 배열하여 설정되는 경우에 있어서도, 각각의 묘화 대상 영역(At)에 대해 패턴의 묘화을 행하는 것이 가능해진다.

＜2. 패턴의 묘화 동작＞

다음에, 상기 구성을 갖는 패턴 묘화 장치(1)에 있어서, 기판(9)의 상면에 패턴을 묘화하는 공정의 동작에 대해서 설명한다. 도 9는, 패턴을 묘화하는 공정의 동작 과정에 있어서의, 기판(9)에 설정된 하나의 묘화 대상 영역(At)에 관한 상태의 천이를 도시하는 도면이다.

도 9에 있어서, 부호 40으로 표시하는 직사각형의 범위는, 하나의 노광 헤드(30)가 한번의 펄스광의 조사에 의해 패턴을 묘화 가능한 범위(노광 가능한 범 위) (이하, 「묘화 가능 범위」라고 한다)를 나타낸다. 이 묘화 가능 범위(40)의 부 주사 방향의 폭은, 소정폭 w(본 실시의 형태에서는, 예를 들면 50㎜)로 되어 있다.

상술한 바와 같이, 복수의 노광 헤드(30)는 부 주사 방향에 따라서 동일 피치(H)로 배열되는데, 이 피치(H)는 소정폭(w)의 4배(본 실시의 형태에서는, 예를 들면 200㎜)로 되어 있다. 복수의 노광 헤드(30)의 각각에 대응하는 복수의 묘화 가능 범위(40)도, 부 주사 방향에 따라서 이와 동일한 피치(H)(예를들면 200㎜)로 배열된다. 각 노광 헤드(30)는, ＋X측에 인접하는 노광 헤드(30)까지의 기판(9) 상의 폭(H)의 영역을 4회로 나누어 주사하게 된다.

즉, 스테이트(St1)를 초기 상태로 하고 우선, 노광 헤드(30)로부터 펄스광을 시간 주기적으로 조사하면서, 기판(9)에 대해 노광 헤드(30)(즉, 묘화 가능 범위(40))를 주 주사 방향의 ＋Y측으로 일정 속도로 상대이동시킨다. 이에 따라, 기판(9) 상에 있어서 주 주사 방향으로 연장되고, 또한, 부 주사 방향의 폭이 소정폭(w)이 되는 하나의 주사 영역(As)에 대한 노광 주사가, 하나의 노광 헤드(30)마다 행해진다(스테이트 St2). 이 노광 주사에 의해 묘화 가능 범위(40)가 통과한 주사 영역(As)에는, 규칙적인 패턴이 묘화된다. 도 9 중에 있어서는, 패턴이 묘화된 영역을 사선 해칭을 붙여 나타낸다.

한번의 주 주사 방향으로의 노광 주사가 종료하면, 기판(9)에 대해 노광 헤드(30)(즉, 묘화 가능 범위(4O))를 소정폭(w)만큼 부주사 방향의 ＋X측으로 상대 이동시킨다. 계속해서, 기판(9)에 대해 노광 헤드(30)(즉, 묘화 가능 범위(40))를 주 주사 방향의 －Y측으로 일정 속도로 상대 이동시킴으로써, 전회의 노광 주사가 이루어진 주사 영역(As)의 ＋X측에 인접하는 하나의 주사 영역(As)에 대해 노광 주사가 행해진다(스테이트 St3).

동일하게 하여, 노광 헤드(30)를 기판(9)에 대해 소정폭(w)씩 부 주사 방향으로 이동시키면서, 주 주사 방향으로의 노광 주사가 다시 두번(1왕복) 반복된다(스테이트 St4). 이에 따라, 각 노광 헤드(30)는, ＋Y측에 인접하는 노광 헤드(30)까지의 폭(H)의 영역을 분할한 4개의 주사 영역(As)의 각각에 관해서 노광 주사를 행하여, 패턴을 묘화하게 된다.

복수의 주사 영역(As)은, 가장 가까운 －X측에 배치된 노광 헤드(30)가 노광주사를 개시하는 개시 위치(Ps)로부터, 부 주사 방향으로 소정폭(w)마다 규정된다. 그리고, 이 복수의 주사 영역(As)의 각각을 담당하는 주 주사 방향에 따른 노광 주사가 노광 헤드(30)에 의해 행해지고, 이에 따라 각 주사 영역(As)에 패턴이 묘화되게 된다.

패턴은 각 주사 영역(As)의 전체에 묘화되는 것이 아니라, 주사 영역(As)에 포함되는 묘화 대상 영역(At)에 대해 묘화된다. 따라서, 도 9에 있어서의 주사 영역(As1, As2) 등과 같이, 부 주사 방향의 일부에만 묘화 대상 영역(At)이 포함되는 주사 영역(As)의 노광 주사를 노광 헤드(30)가 담당하는 경우는, 묘화 가능 범위(40)의 일부를 차광하도록, 해당 노광 헤드(30) 내의 셔터 기구(38)가 부 주사 방향으로 이동된다. 이에 따라, 노광 헤드(30)가 패턴을 묘화하는 범위가 조정되어, 주사 영역(As)의 ＋X측 단부 및 －X측 단부 중 어느 한쪽을 포함하는 일부 영 역에만 패턴이 묘화되게 된다.

이와같이 하여 기판(9)에 묘화된 각 패턴은, 후의 공정에서 현상되어 R,G,B 중 어느 하나의 색을 가지는 서브 화소로 된다. 그리고, 각 묘화 대상 영역(At)은, 기판(9)으로부터 잘라내어져, 한개의 컬러 필터로 된다.

＜3. 개시 위치의 결정＞

그런데, 도 10에 도시하는 바와같이, 하나의 기판(9)에 복수의 묘화 대상 영역(At)이 설정되어 있는 경우에 있어서는, 인접하는 묘화 대상 영역(At)의 상호간의 영역인 간극 영역(Av, Aw)에는, 패턴의 묘화가 불필요하다. 주 주사 방향에 인접하는 묘화 대상 영역(At)의 간극 영역(Aw)에 관해서는, 노광 주사 중에 펄스광의 조사를 정지함으로써, 용이하게 패턴의 묘화를 행하지 않도록 할 수 있다.

한편, 부 주사 방향에 인접하는 묘화 대상 영역(At)의 간극 영역(Av)에 관해서는, 노광 헤드(30) 내의 셔터 기구(38)의 이동에 의해, 패턴을 묘화하는 범위를 조정함으로써 대응하게 된다. 그러나, 셔터 기구(38)는, 묘화 가능 범위(40)를, 그 ＋X측 단부 혹은 －X측 단부로부터 임의의 폭으로 차광하는 것이 가능한데, 그 중앙부를 임의의 폭으로 차광하는 것은 불가능하다.

이 때문에, 도 10에 도시하는 주사 영역(As3)과 같이, 하나의 주사 영역(As) 내에, 부 주사 방향에 인접하는 두개의 묘화 대상 영역 각각의 일부가 포함되는 경우(즉, 하나의 주사 영역(As)에 간극 영역(Av)의 전체가 포함되는 경우)에는, 한번의 노광 주사에 의해서 두개의 묘화 대상 영역(At)의 쌍방에 대해 패턴의 묘화를 행하는 것은 불가능하고, 두번의 노광 주사를 행하는 예외 처리가 필요해진다.

이에 대응하기 위해서, 패턴 묘화 장치(1)에 있어서는, 도 11에 도시하는 바와같이, 기판(9) 상의 개시 위치(Ps)의 위치를, 미리 정해진 기준 위치(Pd)에서 부 주사 방향으로 이동시킴으로써, 복수의 주사 영역(As)의 전체 위치를 부 주사 방향으로 이동시키고, 이에 따라, 인접하는 주사 영역(As)의 경계중 어느곳을 간극 영역(Av)에 위치시키도록 한다. 그 결과, 하나의 주사 영역(As)에는 하나의 묘화 대상 영역(At)만이 포함되게 되고, 동일한 주사 영역에 대해 두번의 노광 주사를 행할 필요가 없어지게 된다. 도 11의 예에서는, 주사 영역(As3)과 주사 영역(As4)의 경계가 간극 영역(Av)에 위치하여, 주사 영역(As3) 및 주사 영역(As4)에는 각각 하나의 묘화 대상 영역(At)만이 포함된다.

이러한 개시 위치(Ps)는, 패턴을 묘화하는 공정 전에, 제어부(50)에 의해 행해지는 개시 위치 결정 처리에 있어서 결정된다. 이하, 기준 위치(Pd)에 대해 개시 위치(Ps)를 이동시키는 거리를 「오프셋량」으로 칭하고, 기호 Lo를 이용한다. 오프셋량(Lo)은, 기준 위치(Pd)에 대해 개시 위치(Ps)를 －X측으로 이동시키는 경우는 정의 값으로 하고, 기준 위치(Pd)에 대해 개시 위치(Ps)를 ＋X측으로 이동시키는 경우는 부의 값으로 한다. 예를 들면, 기준 위치(Pd)에 대해 개시 위치(Ps)를 －X측으로 5㎜ 이동시키는 경우는, 오프셋량(Lo)은 「＋5」㎜로 된다.

개시 위치 결정 처리는, 이 오프셋량(Lo)을 결정하는 처리라고도 할 수 있다. 개시 위치 결정 처리에서는, 「－25」㎜에서 「＋25」㎜까지의 50㎜의 범위 내에서 연산 상의 오프셋량(Lo)을 1㎜마다 변경하고, 각 오프셋량(Lo)에 있어서 간극 영역(Av)에 주사 영역(As)의 경계가 위치하는지 여부의 판정이 이루어진다. 이 오프셋량을 변경하는 범위의 폭인 50㎜는 하나의 주사 영역(As)의 폭인 소정폭(w)과 일치한다. 이는 복수의 주사 영역(As)을 소정폭(w) 이동시키면, 복수의 주사 영역(As)의 배치 위치가 이동 전의 배치 위치와 동일하게 되기 때문이다.

도 12는 개시 위치 결정 처리의 흐름을 도시하는 도면이다. 또한, 도 13 및 도 14는, 개시 위치 결정 처리에 이용되는 각종 변수를 설명하기 위한 개념도이다. 이하, 도 12 내지 도 14를 참조하여, 개시 위치 결정 처리의 흐름을 설명한다.

우선, 제어부(50) 내의 메모리로부터 묘화 데이터가 판독된다. 그리고, 묘화 데이터로부터 처리의 대상으로 하는 기판(9)에 설정되는 각 묘화 대상 영역(At)에 관한 위치 정보, 구체적으로는, 기준 위치(Pd)를 기준으로 한 －X측 단부 및 ＋X측 단부 각각의 부 주사 방향의 위치(기준 위치(Pd)로부터의 거리)가 취득된다. 기판(9)에 복수의 묘화 대상 영역(At)이 설정되는 경우는, 복수의 묘화 대상 영역(At)의 각각에 대한 위치 정보가 취득된다. 또한, 기판(9)에 하나의 묘화 대상 영역(At)만이 설정되어 있는 경우는, 개시 위치(Ps)를 기준 위치(Pd)로 해도 문제없으므로, 개시 위치(Ps)가 기준 위치(Pd)로 결정되어 이후의 처리는 캔슬된다.

다음에, 취득된 각 묘화 대상 영역(At)의 위치 정보에 의거해, 부 주사 방향에 인접하는 묘화 대상 영역(At)의 간극 영역(Av)의 위치 정보가 취득된다. 구체적으로는, 기준 위치(Pd)로부터 간극 영역(Av)의 ＋X측 단부(이하, 「간극 단」이라고 한다)(Pv)까지의 부 주사 방향의 거리(이하, 「간극 단 거리」라고 하고, 기호 La를 이용한다) 및 간극 영역(Av)의 부 주사 방향의 폭(이하, 「간극 폭」 이라고 하고, 기호 Ld를 이용한다)가 취득된다. 간극 단 거리(La)는, 기준 위치(Pd)를 기준으로 한 간극 영역(Av)의 간극 단(Pv)의 위치라고도 할 수 있고, 간극 영역(Av)의 ＋X측에 인접하는 묘화 대상 영역(At)의 －X측 단부의 위치에 의거해 취득된다. 또한, 간극 폭(Ld)은, 상기 간극 영역(Av)의 ＋X측에 인접하는 묘화 대상 영역(At)의 －X측 단부의 위치와, －X측에 인접하는 묘화 대상 영역(At)의 ＋X측 단부의 위치 사이의 길이에 의해서 주어진다.

부 주사 방향에 인접하는 묘화 대상 영역(At)의 간극 영역(Av)은, 도 7에 도시하는 바와같이 기판(9)에 하나만 존재하는 경우도 있고, 도 8에 도시하는 바와같이 기판(9)에 복수 존재하는 경우도 있다. 복수의 간극 영역(Av)이 존재하는 경우는, 복수의 간극 영역(Av)의 각각에 대한 위치 정보가 취득된다(단계 S1).

다음에, 연산상의 오프셋량(Lo)에 「－25」㎜가 설정치로서 설정된다(단계 S2). 다음에, 하나의 간극 영역(Av)이 처리의 대상인 「주목 간극 영역」으로서 결정된다(단계 S3). 그리고, 오프셋량(Lo)을 그 시점의 설정값으로 한 경우에, 주목 간극 영역(Av)에 주사 영역(As)의 경계가 위치하는지 여부가 판정된다(단계 S4).

구체적으로는, 우선, 연산상의 오프셋량(Lo) 및 주목 간극 영역(Av)의 간극 단 거리(La)를 이용해, 다음 식(7)에 의해, 오프셋량(Lo)에 의거하는 개시 위치(Ps)로부터, 주목 간극 영역(Av)의 간극 단(Pv)까지의 거리(Lb)가 도출된다(도 13, 도 14 참조).

Lb = La ＋ Lo … 식(7)

계속해서, 다음 식(8)에 의해, 거리(Lb)를 소정폭(w)로 나누었을 때의 잉여 가 잉여폭(r)으로서 도출된다.

r = Lb MOD w

(단, “MOD”는 나눗셈을 중단하고 잉여를 되돌려주는 함수)… 식(8)

그리고, 이 잉여폭(r)과 주목 간극 영역(Av)의 간극폭(Ld)이 비교되어, 다음 식 (9)를 만족하는지 여부가 판정된다.

r ＜ Ld … 식(9)

잉여폭(r)이 간극폭(Ld)보다도 작은 경우는, 도 13에 도시하는 바와같이, 주목 간극 영역(Av)에 주사 영역(As)의 경계가 위치한다. 한편, 잉여폭(r)이 간극폭(Ld)보다도 큰 경우는, 도 14에 도시하는 바와같이, 주목 간극 영역에 주사 영역(As)의 경계는 위치하지 않는다.

따라서, 식(9)를 만족하면, 주목 간극 영역(Av)에 주사 영역(As)의 경계가 위치한다고 판정되고, 식(9)를 만족하지 않으면, 주목 간극 영역(Av)에 주사 영역(As)의 경계가 위치하지 않는다고 판정된다. 바꾸어 말하면, 식(9)를 만족하면, 주목 간극 영역(Av)을 포함하는 주사 영역(As)을 한번의 노광 처리로 묘화 가능하다고 판정되고, 식(9)을 만족하지 않으면, 주목 간극 영역(Av)을 포함하는 주사 영역(As)을 한번의 노광 처리로는 묘화 불가능하다고 판정된다고도 할 수 있다. 또한, 소정폭(w)(＞ 잉여폭 r)이 간극폭(Ld)보다도 작은 경우는, 식(9)를 반드시 만족하므로, 상기 연산을 행하지 않아도 된다.

이와같이 하여 주목 간극 영역(Av)에 관한 판정이 완료하면, 판정 결과가 제어부(50)의 메모리에 기억된다. 이와 함께, 판정 미완료의 간극 영역(Av)이 존재 하는지 여부가 판단된다(단계 S5). 존재한 경우는(단계 S5에서 Yes), 판정이 미완료인 간극 영역(Av) 중의 하나가 다음 주목 간극 영역(Av)으로서 결정된다(단계 S3). 그리고, 상기와 동일하게 하여, 주목 간극 영역(Av)에 주사 영역(As)의 경계가 위치하는지 여부가 판정된다. 이 처리가 반복되어, 모든 간극 영역(Av)에 관한 판정이 행해진다.

계속해서, 연산상의 오프셋량(Lo)에, 그 시점의 설정값에 1㎜ 가산된 값이 새로운 설정값으로서 설정된다(단계 S7). 그리고, 다시, 처리는 단계 S3으로 되돌아가, 상기와 같은 처리(단계 S3∼S5)가 반복된다. 이러한 처리가 반복됨으로써, 「－25」㎜에서 「＋25」㎜까지의 범위 내에서 연산상의 오프셋량(Lo)이 1㎜마다 변경하여 설정되고(단계 S6, S7), 각 오프셋량(Lo)에 관해서 상기와 동일한 판정이 행해지고, 그 판정 결과가 제어부(50)의 메모리에 기억되게 된다.

연산상의 오프셋량(Lo)을 「＋25」㎜로 설정한 판정이 완료하면(단계 S6에서 Yes), 이상의 판정 결과에 의거해 실제의 오프셋량(Lo)이 결정된다. 구체적으로는, 기판(9)에 존재하는 간극 영역(Av)의 전체에 관한 주사 영역(As)의 경계가 위치하게 되는 오프셋량(Lo)이 선택되게 된다(단계 S8).

도 15는 기판(9)에 세개의 간극 영역(Av)이 존재하는 경우에 있어서의 판정 결과의 예를 모식적으로 도시하는 도면이다. 도면 중에 있어서, 가로축은 오프셋량(Lo)을 도시한다. 또한, 세개의 간극 영역(Av)(제1∼제3 간극 영역)의 각각에 관해서, 주사 영역(As)의 경계가 위치하지 않는다고 판정된 오프셋량(Lo)에 대응하는 부분을 해칭으로 나타낸다.

도 15에 도시하는 예의 경우, 화살표 Ar1 및 화살표 Ar2로 나타내는 범위의 오프셋량(Lo)에 있어서는, 세개의 간극 영역(Av)의 전체에 관해서 주사 영역(As)의 경계가 위치한다고 판정된다. 즉, 세개의 간극 영역(Av)의 전체에 관해, 해당 간극 영역(Av)을 포함하는 주사 영역(As)을 한번의 노광 처리로 처리 가능하게 된다. 이 때문에, 화살표 Ar1 및 화살표 Ar2로 표시하는 범위에 포함되는 오프셋량(Lo) 중 어느 하나가, 실제의 오프셋량(Lo)으로서 결정된다. 오프셋량(Lo)의 후보가 다수 존재하는 경우는, 예를 들면, 오프셋량(Lo)의 절대치가 최소인 것을 선택하면 된다.

또한, 기판(9)에 존재하는 간극 영역(Av)의 전체에 관해서 주사 영역(As)의 경계가 위치하게 되는 오프셋량(Lo)이 존재하지 않는 경우는, 주사 영역(As)의 경계가 위치한다고 판정된 간극 영역(Av)의 수가 가장 많아지는 오프셋량(Lo)을 선택하면 된다. 단, 이 경우는, 일부 간극 영역(Av)에 관해서는 예외 처리가 필요해진다.

이와같이 하여, 오프셋량(Lo)이 결정되면, 결정된 오프셋량(Lo)에 의거해 개시 위치(Ps)가 결정된다(단계 S9). 그리고, 이후에 실시되는 패턴을 묘화하는 공정에서, 이 결정된 개시 위치(Ps)에 ＋X측 단부의 노광 헤드(30)가 구동부(20)에 의해 이동되고, 이 개시 위치(Ps)에서 노광 주사가 행해지게 된다.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태의 패턴 묘화 장치(1)에 있어서는, 복수의 노광 헤드(30)를 기판(9)에 대해 주 주사 방향과 부 주사 방향으로 상대 이동시키는 구동부(20)가 설치된다. 그리고, 기판(9) 상의 개시 위치(Ps)에서 부 주사 방향으로 소정폭(w)마다 규정되는 복수의 주사 영역(As)의 각각을 담당하는 주 주사 방향에 따른 노광 주사가, 노광 헤드(30)에 의해 행해진다. 개시 위치(Ps)는, 소정폭(w), 및, 간극 영역(Av)의 간극 단 거리(La) 및 간극폭(Ld)에 의거해, 인접하는 주사 영역(As)의 경계중 어느 곳이 간극 영역(Av)에 위치하도록 결정된다. 따라서, 하나의 주사 영역(As)에 2개의 묘화 대상 영역(At)의 일부가 포함되는 일이 없어진다. 그 결과, 복수의 묘화 대상 영역(At)을 갖는 기판(9)을 처리 대상으로 하는 경우라도, 동일한 주사 영역(As)에 대해 두번의 노광 주사를 행할 필요가 없어져, 노광 주사의 회수를 저감할 수 있게 된다.

＜4. 다른 실시의 형태＞

이상, 본 발명의 실시의 형태에 대해서 설명했는데, 본 발명은 상기 실시의 형태에 한정되지 않고 다양한 변형이 가능하다. 이하에서는, 이러한 다른 실시의 형태에 대해서 설명한다. 물론, 이하에 설명하는 형태를 적당히 조합해도 된다.

예를 들면, 상기 실시의 형태에서는, 복수의 주사 영역의 각각을 담당하는 노광 주사를 복수의 노광 헤드(30)로 분담했는데, 하나의 노광 헤드(30)로 모든 주사 영역에 관한 노광 주사를 담당하도록 해도 된다. 단, 노광 주사의 회수를 대폭 저감할 수 있으므로, 상기 실시의 형태와 같이 복수의 노광 헤드(30)로 분담시키는 것이 바람직하다.

또한, 상기 실시의 형태에서는, 복수의 노광 헤드(30)는, 소정폭(w)의 4배의 피치(H)로 배열되어 있는데, 4배가 아니어도, 소정폭(w)의 자연수배의 피치이면 된다.

또한, 상기 실시의 형태의 개시 위치 결정 처리에서는, 「－25」㎜에서 「＋25」㎜까지의 범위의 전체 오프셋량(Lo)에 관해서 판정을 행하도록 하고 있는데, 모든 간극 영역(Av)에 관해서 주사 영역(As)의 경계가 위치하지 않는 오프셋량(Lo)이 판명된 시점에서, 개시 위치 결정 처리를 종료해도 된다. 또한, 상기 실시의 형태의 개시 위치 결정 처리에서는, 오프셋량(Lo)을 1㎜의 간격으로 변경하고 있는데, 1㎜ 이상 혹은 1㎜m 이하의 간격으로 변경해도 된다.

또한, 상기 실시의 형태에서는, 각 부의 구동 기구로서 리니어 모터가 사용되었는데, 리니어 모터 이외의 공지의 구동 기구를 사용해도 된다. 예를 들면, 모터의 구동력을 볼 나사를 통해 직동 운동으로 변환하는 기구를 사용해도 된다.

또한, 상기 실시의 형태에서는, 컬러 필터용의 유리 기판(9)을 처리 대상으로 설명을 했는데, 반도체 기판, 프린트 기판, 플라즈마 표시 장치용 유리 기판 등의 다른 기판을 처리 대상으로 한 것이어도 된다.

도 1은 패턴 묘화 장치의 구성을 도시하는 측면도이다.

도 2는 패턴 묘화 장치의 구성을 도시하는 상면도이다.

도 3은 애퍼처부가 갖는 마스크의 일례를 도시하는 도면이다.

도 4는 셔터 기구의 구성을 도시하는 도면이다.

도 5는 패턴 묘화 장치의 구성을 개념적으로 도시하는 블록도이다.

도 6은 기판에 설정되는 묘화 대상 영역의 위치의 예를 도시하는 도면이다.

도 7은 기판에 설정되는 묘화 대상 영역의 위치의 예를 도시하는 도면이다.

도 8은 기판에 설정되는 묘화 대상 영역의 위치의 예를 도시하는 도면이다.

도 9는 패턴을 묘화하는 동작 과정에 있어서의 기판의 상태의 천이를 도시하는 도면이다.

도 10은 묘화 대상 영역의 간극 영역과 주사 영역의 위치 관계의 일례를 도시하는 도면이다.

도 11은 묘화 대상 영역의 간극 영역과 주사 영역의 위치 관계의 일례를 도시하는 도면이다.

도 12는 개시 위치 결정 처리의 흐름을 도시하는 도면이다.

도 13은 개시 위치 결정 처리에 이용되는 변수를 설명하기 위한 개념도이다.

도 14는 개시 위치 결정 처리에 이용되는 변수를 설명하기 위한 개념도이다.

도 15는 판정 결과의 예를 모식적으로 도시하는 도면이다.

<부호의 설명>

9 : 기판 23 : 부 주사 기구

25 : 주 주사 기구 30 : 노광 헤드

36 : 애퍼처부 38 : 셔터 기구

4O : 묘화 가능 범위 As : 주사 영역

Av : 간극 영역 Ps : 개시 위치

Claims (5)

1. 감광 재료가 형성된 기판의 복수의 묘화 대상 영역의 각각에 규칙적인 패턴을 묘화할 수 있는 패턴 묘화 장치로서,

   광원으로부터의 광을 상기 기판에 조사하고, 상기 기판을 노광하여 상기 패턴을 묘화하는 노광 수단과,

   상기 노광 수단을 상기 기판에 대해 서로 직교하는 주 주사 방향과 부 주사 방향으로 상대 이동시키고, 상기 기판상의 개시 위치로부터 상기 부 주사 방향으로 소정폭마다 규정되는 복수의 주사 영역의 각각을 담당하는 상기 주 주사 방향에 따른 노광 주사를, 상기 노광 수단에 행하게 하는 주사 기구와,

   상기 소정폭 및 상기 부 주사 방향에 인접하는 상기 묘화 대상 영역의 간극 영역의 위치 정보에 의거해, 인접하는 상기 주사 영역의 경계 중 어느 하나가 상기 간극 영역에 위치하도록 상기 개시 위치를 결정하는 결정 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 묘화 장치.
2. 청구항 1에 있어서,

   상기 노광 수단은, 상기 소정폭의 자연수배의 피치로 상기 부 주사 방향으로 배열된 복수의 노광 헤드를 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 묘화 장치.
3. 감광 재료가 형성된 기판의 복수의 묘화 대상 영역의 각각에 규칙적인 패턴 을 묘화하는 패턴 묘화 방법으로서,

   광원으로부터의 광을 상기 기판에 조사하고, 상기 기판을 노광하여 상기 패턴을 묘화하는 노광 수단을, 상기 기판에 대해 서로 직교하는 주 주사 방향과 부 주사 방향으로 상대 이동시키고, 상기 기판 상의 개시 위치로부터 상기 부 주사 방향으로 소정폭마다 규정되는 복수의 주사 영역의 각각을 담당하는 상기 주 주사 방향에 따른 노광 주사를, 상기 노광 수단에 행하게 하는 주사 공정과,

   상기 주사 공정 전에, 상기 소정폭 및 상기 부 주사 방향에 인접하는 상기 묘화 대상 영역의 간극 영역의 위치 정보에 의거해, 인접하는 상기 주사 영역의 경계중 어느 하나가 상기 간극 영역에 위치하도록 상기 개시 위치를 결정하는 결정 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 묘화 방법.
4. 청구항 1에 있어서, 상기 결정 수단은,

   미리 정해진 기준 위치로부터 상기 간극 영역의 종단측까지의 거리를 La,

   상기 간극 영역의 부 주사 방향의 폭을 Ld,

   상기 노광 수단을 상기 기준 위치보다 부 주사 방향 반대측으로 이동시키는 양을 Lo, 및

   상기 노광 수단의 상기 부 주사 방향의 폭을 w로 한 경우,

   Lb = La ＋ Lo … 식(1)

   r = Lb MOD w(단,“MOD”는 나눗셈을 중단하고 잉여를 되돌려주는 함수)… 식(2)

   r ＜ Ld … 식(3)

   을 만족하는 Lo를 산출함으로써, 상기 개시 위치를 결정하는 것을 특징으로 하는 패턴 묘화 장치.
5. 청구항 3에 있어서,

   상기 결정 공정은, 미리 정해진 기준 위치로부터 상기 간극 영역의 종단측까지의 거리를 La,

   상기 간극 영역의 부 주사 방향의 폭을 Ld,

   상기 노광 수단을 상기 기준 위치보다 부 주사 방향 반대측으로 이동시키는 양을 Lo, 및

   상기 노광 수단의 상기 부 주사 방향의 폭을 w로 한 경우,

   Lb = La ＋ Lo … 식(4)

   r = Lb MOD w(단,“MOD”는 나눗셈을 중단하고 잉여를 되돌려주는 함수) … 식(5)

   r ＜ Ld … 식(6)

   을 만족하는 Lo를 산출함으로써, 상기 개시 위치를 결정하는 것을 특징으로 하는 패턴 묘화 방법.

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