KR20080037583A - Colored curable composition for color filter, color filter and process for producing the same - Google Patents
Colored curable composition for color filter, color filter and process for producing the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20080037583A KR20080037583A KR1020070107960A KR20070107960A KR20080037583A KR 20080037583 A KR20080037583 A KR 20080037583A KR 1020070107960 A KR1020070107960 A KR 1020070107960A KR 20070107960 A KR20070107960 A KR 20070107960A KR 20080037583 A KR20080037583 A KR 20080037583A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- curable composition
- group
- compound
- colored curable
- pigment
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D215/20—Oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/41—Compounds containing sulfur bound to oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
- C09B23/10—The polymethine chain containing an even number of >CH- groups
- C09B23/107—The polymethine chain containing an even number of >CH- groups four >CH- groups
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 액정표시소자(LCD)나 고체촬상소자(CCD, CMOS 등) 등에 이용되는 컬러필터용 착색 경화성 조성물, 컬러필터 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to color curable compositions for color filters, color filters, and manufacturing methods thereof used in liquid crystal display devices (LCDs), solid state imaging devices (CCDs, CMOS, etc.).
컬러필터는 액정 디스플레이에 불가결한 구성부품이다.Color filters are an essential component of liquid crystal displays.
액정 디스플레이는 표시장치로서 CRT와 비교하면, 콤팩트하고, 또한, 성능면에서는 동등이상인 점에서 텔레비젼 화면, PC 화면, 그 밖의 표시장치로서 CRT에 대체되고 있다. 또한 최근에는 액정 디스플레이의 개발의 동향은 화면이 비교적 소면적이던 종래의 모니터 용도로부터 화면이 대형이며 고도의 화질이 요구되는 TV 용도의 추세를 보이고 있다.Liquid crystal displays are being replaced by CRTs as television screens, PC screens, and other display devices in that they are more compact than the CRTs as display devices and are equal or more in performance. In recent years, the trend of the development of liquid crystal displays shows a trend of TV applications in which a large screen and high image quality are required from conventional monitor applications in which the screen is relatively small.
TV 용도의 액정 디스플레이에서는 종래의 모니터 용도의 것에 비해 보다 고도의 화질이 요구되고 있다. 한편, 고체촬상소자용 컬러필터에 있어서는 보다나은 고정세화(高精細化)가 요구되고 있다.In liquid crystal displays for TV applications, higher image quality is demanded than in conventional monitor applications. On the other hand, in the color filter for a solid state image pickup device, a higher definition is required.
요즈음의 색재현율 향상에 따른 레지스트 안료의 고농도화 및 기판 사이즈 대형화에 따른 저노광량화(스루풋 향상)에 의해 충분한 패턴 형성성이 얻어지지 않아 패턴 결함이나 현상 잔사 등에 의한 패널 불량이 문제가 되고 있다.In recent years, sufficient pattern formability is not obtained due to the high concentration of the resist pigment due to the improvement of color reproducibility and the low exposure dose (throughput improvement) due to the enlargement of the substrate size, resulting in problems of panel defects due to pattern defects and developing residues.
노광 중합도의 향상을 위해 다관능 티올 등의 연쇄 이동제와 감광성 수지의 조합이 추장되고 있지만(특허문헌 1 참조), 이들 소재는 알칼리 용해성이 낮기 때문에 고감도화와 적정한 패턴 형성성의 양립이 곤란하다. 또한, 다관능 티올은 반응성이 높아 레지스트 경시 안정성의 확보가 어렵다.Although the combination of chain transfer agents, such as polyfunctional thiol, and photosensitive resin is recommended for the improvement of exposure polymerization degree (refer patent document 1), since these materials have low alkali solubility, it is difficult to make both high sensitivity and proper pattern formation property. In addition, polyfunctional thiols have high reactivity, making it difficult to secure stability over time with resist.
또 연쇄 이동제의 적성량을 규정함으로써 안료가 고농도라도 패턴 형성성이 좋은 착색 경화성 조성물이 제안되어 있지만(특허문헌 2 참조), 고감도화를 달성하기 위해 경화성 조성물에 있어서의 최적의 조성·비율을 제안하고 있다라고는 할 수 없다.Moreover, although the pigment | dye curable composition which is excellent in pattern formation property is proposed by defining the suitability of a chain transfer agent (refer patent document 2), even if a pigment is high concentration, in order to achieve high sensitivity, the optimal composition and ratio in a curable composition are proposed. It is not said that we do it.
(특허문헌1) 일본 특허 제3120547호 공보(Patent Document 1) Japanese Patent No. 3120547
(특허문헌2) 일본 특허 공개 2002-167404호 공보(Patent Document 2) Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-167404
본 발명은 종래에 있어서의 문제점을 고려해서 이루어진 것이며, 이하의 목적을 달성하는 것을 과제로 한다.This invention is made | formed in view of the problem in the prior art, and makes it a subject to achieve the following objectives.
즉, 본 발명의 목적은 컬러필터용의 양호한 착색 패턴을 형성할 수 있고, 우수한 프로세스 적성을 갖는 경화성 조성물을 제공하는 것에 있다.That is, an object of the present invention is to provide a curable composition capable of forming a good colored pattern for a color filter and having excellent process aptitude.
또한, 본 발명의 다른 목적은 본 발명의 경화성 조성물을 사용하여 이루어지는, 양호한 착색 패턴, 상기 착색 패턴을 구비하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 높은 생산성으로 제조할 수 있는 제조방법을 제공하는 것에 있다.Another object of the present invention is to provide a good coloring pattern, a color filter having the coloring pattern, and a manufacturing method capable of producing the color filter with high productivity, which are made of the curable composition of the present invention.
본 발명자는 예의 연구를 행한 결과, 본 발명의 컬러필터용 착색 경화성 조성물에 의해 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 찾아냈다. 즉 상기 과제를 해결하기 위한 수단은 이하와 같다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly researching, this inventor discovered that the said subject can be solved by the colored curable composition for color filters of this invention. That is, the means for solving the said subject is as follows.
<1>(a)에틸렌성 불포화 이중결합을 적어도 1개 갖는 화합물, (b)광중합 개시제 및 (c)착색제를 함유하고, (b)광중합 개시제는 (A)비이미다졸계 화합물, (B)증감색소, 및 (C)메르캅토 화합물을 함유하고, (A)+(B)+(C)의 함유량이 컬러필터용 착색 경화성 조성물의 총고형분에 대해서 질량%로 5%이상 15%이하인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 착색 경화성 조성물.<1> (a) A compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, (b) a photoinitiator and (c) a coloring agent, and (b) a photoinitiator (A) a biimidazole compound, (B) It contains a sensitizing dye and (C) mercapto compound, and the content of (A) + (B) + (C) is 5% or more and 15% or less in mass% with respect to the total solid of the colored curable composition for color filters. Colored curable composition for color filters to be used.
<2>(d)알칼리 가용성 수지를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 <1>에 기재된 컬러필터용 착색 경화성 조성물.The coloring curable composition for color filters as described in <1> characterized by further containing <2> (d) alkali-soluble resin.
<3>상기 (b)광중합 개시제에 있어서의 (A)+(B)의 함유량이 컬러필터용 착색 경화성 조성물의 총고형분에 대해서 질량%로 2%이상 10%이하인 것을 특징으로 하는 상기 <1>에 기재된 컬러필터용 착색 경화성 조성물.<3> Content of (A) + (B) in said (b) photoinitiator is 2% or more and 10% or less by mass% with respect to the total solid of the colored curable composition for color filters, The said <1> characterized by the above-mentioned. Colored curable composition for color filters of description.
<4>상기 (b)광중합 개시제에 있어서의 (A)+(B)의 총합에 대한 (C)의 함유량이 질량%로 10%이상 30%이하인 것을 특징으로 하는 상기 <1>에 기재된 컬러필터용 착색 경화성 조성물.<4> Content of (C) with respect to the sum total of (A) + (B) in said (b) photoinitiator is 10% or more and 30% or less by mass%, The color filter as described in said <1> characterized by the above-mentioned. Coloring curable composition.
<5>상기 (a)에틸렌성 불포화 이중결합을 적어도 1개 갖는 화합물과, 상기 (b)광중합 개시제의 질량비 (b)/(a)가 0.1이상 2.0이하인 것을 특징으로 하는 상기 <1> 내지 <4> 중 어느 한 항에 기재된 컬러필터용 착색 경화성 조성물.<5> The mass ratio (b) / (a) of the compound (a) having at least one ethylenically unsaturated double bond and the photopolymerization initiator (b) is 0.1 or more and 2.0 or less, wherein the <1> to < The colored curable composition for color filters in any one of 4>.
<6>상기 (c)착색제의 함유량이 컬러필터용 착색 경화성 조성물의 총고형분에 대해서 질량%로 35%이상 70%이하인 것을 특징으로 하는 상기 <1> 내지 <5> 중 어느 한 항에 기재된 컬러필터용 착색 경화성 조성물.<6> The color according to any one of <1> to <5>, wherein the content of the (c) coloring agent is 35% or more and 70% or less by mass% with respect to the total solid of the colored curable composition for color filters. Colored curable composition for filters.
<7>상기 (C)메르캅토 화합물이 하기 일반식(I)로 나타내어지는 화합물인 것을 특징으로 하는 상기 <1> 내지 <6> 중 어느 한 항에 기재된 컬러필터용 착색 경화성 조성물.<7> The said (C) mercapto compound is a compound represented by the following general formula (I), The colored curable composition for color filters in any one of said <1> to <6> characterized by the above-mentioned.
일반식(I)Formula (I)
(일반식(I)중, R은 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, A는 N=C-N과 함께 헤테로환을 형성하는 원자단을 나타낸다.)(In general formula (I), R represents an alkyl group or an aryl group, and A represents the atomic group which forms a heterocyclic ring with N = C-N.)
<8>기판 상에 상기 <1> 내지 <7> 중 어느 한 항에 기재된 착색 경화성 조성 물을 사용하여 이루어지는 착색 패턴을 갖는 것을 특징으로 하는 컬러필터.It has a coloring pattern formed on the <8> board | substrate using the colored curable composition in any one of said <1>-<7>. The color filter characterized by the above-mentioned.
<9>기판 상에 상기 <1> 내지 <7> 중 어느 한 항에 기재된 착색 경화성 조성물을 도포해서 착색 경화성 조성물층을 형성하는 공정과, 상기 착색 경화성 조성물을 마스크를 통해 노광하는 공정과, 노광후의 상기 착색 경화성 조성물층을 현상해서 착색 패턴을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.Applying the colored curable composition in any one of said <1>-<7> on a <9> board | substrate, and forming a colored curable composition layer, the process of exposing the said colored curable composition through a mask, and exposure And developing the said colored curable composition layer and forming a coloring pattern, The manufacturing method of the color filter characterized by the above-mentioned.
(발명의 효과)(Effects of the Invention)
본 발명에 의하면, 컬러필터용의 양호한 착색 패턴을 형성할 수 있고, 우수한 프로세스 적성을 갖는 경화성 조성물을 제공할 수 있다.According to this invention, the favorable coloring pattern for color filters can be formed and the curable composition which has the outstanding process suitability can be provided.
또한, 본 발명의 다른 목적은 본 발명의 경화성 조성물을 사용하여 이루어지는, 양호한 착색 패턴, 상기 착색 패턴을 구비하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 높은 생산성으로 제조할 수 있는 제조방법을 제공할 수 있다.Further, another object of the present invention can provide a good coloring pattern, a color filter having the coloring pattern, and a manufacturing method capable of producing the color filter with high productivity, which are made of the curable composition of the present invention.
이하, 본 발명의 컬러필터용 착색 경화성 조성물, 상기 컬러필터용 착색 경화성 조성물을 사용하여 이루어지는 컬러필터 및 그 제조방법에 대해서 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the color filter which uses the colored curable composition for color filters of this invention, the colored curable composition for color filters, and its manufacturing method are demonstrated in detail.
-컬러필터용 착색 경화성 조성물-Colored curable composition for color filters-
본 발명의 컬러필터용 착색 경화성 조성물은 (a)에틸렌성 불포화 이중결합을 적어도 1개 갖는 화합물(이하 적당하게, 특정 중합성 화합물이라고 칭하는 경우가 있다.),(b)광중합 개시제, (c)착색제, 및 (d)알칼리 가용성 수지를 함유하고, (b) 광중합 개시제는 (A)비이미다졸계 화합물, (B)증감색소, 및 (C)메르캅토 화합물을 함유하고, (A)+(B)+(C)의 함유량이 컬러필터용 착색 경화성 조성물의 총고형분에 대해서 질량%로 5%이상 15%이하인 것을 특징으로 한다.The colored curable composition for color filters of this invention (a) The compound which has at least one ethylenically unsaturated double bond (Hereinafter, it may be called a specific polymeric compound suitably.), (B) Photoinitiator, (c) A coloring agent, and (d) an alkali-soluble resin, (b) a photoinitiator contains (A) a biimidazole type compound, (B) a sensitizing dye, and (C) a mercapto compound, and (A) + ( The content of B) + (C) is 5% or more and 15% or less by mass% with respect to the total solid of the colored curable composition for color filters.
이하, 본 발명의 컬러필터용 착색 경화성 조성물(이하, 간단히 「경화성 조성물」이라고 칭하는 경우가 있다.)에 함유되는 각 성분에 대해서 순차 설명한다.Hereinafter, each component contained in the colored curable composition for color filters of this invention (Hereinafter, it may only be called a "curable composition.") Is demonstrated one by one.
<(a)특정 중합성 화합물><(a) specific polymerizable compound>
본 발명에 사용할 수 있는 (a)특정 중합성 화합물은 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 부가 중합성 화합물이며, 말단 에틸렌성 불포화 결합을 적어도 1개, 바람직하게는 2∼6개, 보다 바람직하게는 4∼6개 갖는 화합물로부터 선택된다. 이러한 화합물군은 해당 산업분야에 있어서 널리 알려지는 것이며, 본 발명에 있어서는 이들을 특별히 한정없이 사용할 수 있다. 또 특정 중합성 화합물은 단독으로 사용해도, 2종이상을 병용해도 좋다.The specific polymerizable compound (a) usable in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably 2 to 6, more preferably Preferably it is selected from the compound which has 4-6. Such compound groups are widely known in the industrial field, and in the present invention, these can be used without particular limitation. Moreover, a specific polymeric compound may be used independently or may use 2 or more types together.
이들은 예를 들면 모노머, 프리 폴리머, 즉 2량체, 3량체 및 올리고머 또는 이들의 혼합물 및 이들의 공중합체 등의 화학적 형태를 갖는다. 모노머 및 그 공중합체의 예로서는 불포화 카르복실산(예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 이소크로톤산, 말레인산 등)이나, 그 에스테르류, 아미드류를 들 수 있고, 바람직하게는, 불포화 카르복실산과 지방족 다가 알콜 화합물의 에스테르, 불포화 카르복실산과 지방족 다가 아민 화합물의 아미드류가 이용된다.These have, for example, chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers or mixtures thereof and copolymers thereof. As an example of a monomer and its copolymer, unsaturated carboxylic acid (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), its esters, and amides are preferable, Preferably it is Esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds and amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyamine compounds.
또한 히드록실기나 아미노기, 메르캅토기 등의 구핵성 치환기를 갖는 불포화 카르복실산 에스테르 또는 아미드류와 단관능 또는 다관능 이소시아네이트류 또는 에폭시류의 부가반응물 및 단관능 또는 다관능의 카르복실산과의 탈수 축합 반응물 등도 바람직하게 사용된다.In addition, the unsaturated carboxylic ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group, or a mercapto group, with an addition reaction product of a monofunctional or polyfunctional isocyanate or an epoxy and a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid Dehydration condensation reactants are also preferably used.
또한 이소시아네이트기나 에폭시기 등의 친전자성 치환기를 갖는 불포화 카르복실산 에스테르 또는 아미드류와 단관능 또는 다관능의 알콜류, 아민류, 티올류의 부가반응물, 또한 할로겐기나, 토실옥시기 등의 탈리성 치환기를 갖는 불포화 카르복실산 에스테르 또는 아미드류와 단관능 또는 다관능의 알콜류, 아민류, 티올류의 치환반응물도 바람직하다.Furthermore, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols, and a leaving group such as a halogen group or a tosyloxy group Substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols are also preferable.
또한 다른 예로서, 상기 불포화 카르복실산 대신에 불포화 포스폰산, 스티렌, 비닐에테르 등으로 치환된 화합물군을 사용하는 것도 가능하다.As another example, it is also possible to use a compound group substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.
지방족 다가 알콜 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 모노머의 구체예로서는, 아크릴산 에스테르로서 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,3-부탄디올디아크릴레이트, 테트라메틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(아크릴로일옥시프로필)에테르, 트리메티롤에탄트리아크릴레이트, 헥산디올디아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디올디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 펜타에리스리톨디아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨디아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 소르비톨트리아크릴레이트, 소르비톨테트라아크릴레이트, 소르비톨펜타아크릴레이트, 소르비톨헥사아크릴레이트, 트리(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 폴리에스테르아크릴레이트올리고 머, 이소시아누르산 EO 변성 트리아크릴레이트 등이 있다.Specific examples of ester monomers of aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, and propylene glycol as acrylic acid esters. Diacrylate, neopentylglycol diacrylate, trimetholpropane triacrylate, trimetholpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethol ethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4 -Cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylic Latex, sorbitol Tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid EO modified triacrylate and the like.
메타크릴산 에스테르로서는 테트라메틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 트리메티롤프로판트리메타크릴레이트, 트리메티롤에탄트리메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 1,3-부탄디올디메타크릴레이트, 헥산디올디메타크릴레이트, 펜타에리스리톨디메타크릴레이트, 펜타에리스리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨디메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사메타크릴레이트, 소르비톨트리메타크릴레이트, 소르비톨테트라메타크릴레이트, 비스〔p-(3-메타크릴옥시-2-히드록시프로폭시)페닐〕디메틸메탄, 비스-〔p-(메타크릴옥시에톡시)페닐〕디메틸메탄 등이 있다.As methacrylic acid ester, tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimetholpropane trimethacrylate, trimethol ethane trimethacrylate, ethylene glycol di Methacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, Dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethylmethane, bis- [p- (meta Krilloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane and the like.
이타콘산 에스테르로서는 에틸렌글리콜디이타코네이트, 프로필렌글리콜디이타코네이트, 1,3-부탄디올디이타코네이트, 1,4-부탄디올디이타코네이트, 테트라메틸렌글리콜디이타코네이트, 펜타에리스리톨디이타코네이트, 소르비톨테트라이타코네이트 등이 있다. 크로톤산 에스테르로서는 에틸렌글리콜디크로토네이트, 테트라메틸렌글리콜디크로토네이트, 펜타에리스리톨디크로토네이트 등이 있다. 이소크로톤산 에스테르로서는 에틸렌글리콜디이소크로토네이트, 펜타에리스리톨디이소크로토네이트, 소르비톨테트라이소크로토네이트 등이 있다. 말레인산 에스테르로서는 에틸렌글리콜디말레이트, 트리에틸렌글리콜디말레이트, 펜타에리스리톨디말레이트, 소르비톨테트라말레이트 등이 있다.As the itaconic acid ester, ethylene glycol dietaconate, propylene glycol dietaconate, 1,3-butanediol dietaconate, 1,4-butanediol dietaconate, tetramethylene glycol dietaconate, pentaerythritol dietaconate, sorbitol tetratacoate Nate and the like. Examples of the crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and the like. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, sorbitol tetramalate, and the like.
그 밖의 에스테르의 예로서 예를 들면 일본 특허공고 소51-47334, 일본 특허 공개 소57-196231에 기재된 지방족 알콜계 에스테르류나, 일본 특허공개 소59-5240, 일본 특허공개 소59-5241, 일본 특허공개 평2-226149에 기재된 방향족계 골격을 갖는 것, 일본 특허공개 평1-165613에 기재된 아미노기를 함유하는 것 등도 바람직하게 이용된다. 또한, 상술의 에스테르 모노머는 혼합물로서도 사용할 수 있다.Examples of other esters include, for example, the aliphatic alcohol esters described in Japanese Patent Publication No. 51-47334, Japanese Patent Publication No. 57-196231, Japanese Patent Publication No. 59-5240, Japanese Patent Publication No. 59-5241, and Japanese Patent The thing which has an aromatic skeleton of Unexamined-Japanese-Patent 2-226149, the thing containing the amino group of Unexamined-Japanese-Patent No. 1-165613, etc. are also used preferably. In addition, the above-mentioned ester monomer can be used also as a mixture.
또한 지방족 다가 아민 화합물과 불포화 카르복실산의 아미드 모노머의 구체예로서는, 메틸렌비스-아크릴아미드, 메틸렌비스-메타크릴아미드, 1,6-헥사메틸렌비스-아크릴아미드, 1,6-헥사메틸렌비스-메타크릴아미드, 디에틸렌트리아민트리스아크릴아미드, 크실릴렌비스아크릴아미드, 크실릴렌비스메타크릴아미드 등이 있다. 그 밖의 바람직한 아미드계 모노머의 예로서는 일본 특허공고 소54-21726에 기재된 시클로헥실렌 구조를 갖는 것을 들 수 있다.Moreover, as an example of the amide monomer of an aliphatic polyhydric amine compound and unsaturated carboxylic acid, methylenebis- acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1, 6- hexamethylene bis- acrylamide, 1, 6- hexamethylene bis- meta Krillamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide and the like. As an example of another preferable amide monomer, what has a cyclohexylene structure of Unexamined-Japanese-Patent No. 54-21726 is mentioned.
또한 이소시아네이트와 수산기의 부가반응을 이용하여 제조되는 우레탄계 부가 중합성 화합물도 바람직하며, 그러한 구체예로서는, 예를 들면 일본 특허공고 소48-41708호 공보중에 기재되어 있는 1분자에 2개이상의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물에 하기 일반식(A)로 나타내어지는 수산기를 함유하는 비닐 모노머를 부가시킨 1분자중에 2개이상의 중합성 비닐기를 함유하는 비닐우레탄 화합물 등을 들 수 있다.Moreover, the urethane type addition polymeric compound manufactured using addition reaction of an isocyanate and a hydroxyl group is also preferable, As such an example, it has two or more isocyanate groups in 1 molecule described in Unexamined-Japanese-Patent No. 48-41708, for example. The vinylurethane compound etc. which contain two or more polymerizable vinyl groups in 1 molecule which added the vinyl monomer containing the hydroxyl group represented by following General formula (A) to a polyisocyanate compound are mentioned.
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH…(A)CH 2 = C (R 4 ) COOCH 2 CH (R 5 ) OH. (A)
(단, 일반식(A)중, R4 및 R5는 H 또는 CH3을 나타낸다.)(However, in general formula (A), R 4 and R 5 represent H or CH 3. )
또한 일본 특허공개 소51-37193호, 일본 특허공고 평2-32293호, 일본 특허공고 평2-16765호에 기재되어 있는 우레탄 아크릴레이트류나, 일본 특허공고 소58-49860호, 일본 특허공고 소56-17654호, 일본 특허공고 소62-39417호, 일본 특허공고 소62-39418호 공보에 기재된 에틸렌옥사이드계 골격을 갖는 우레탄 화합물류도 바람직하다. 또한 일본 특허공개 소63-277653호, 일본 특허공개 소63-260909호, 일본 특허공개 평1-105238호에 기재되는, 분자내에 아미노 구조나 술피드 구조를 갖는 부가 중합성 화합물류를 사용하는 것에 의해서는 매우 감광 스피드가 우수한 광중합성 조성물을 얻을 수 있다.Furthermore, urethane acrylates described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-37193, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-32293, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-16765, and Japanese Patent Publication No. 58-49860, Japanese Patent Publication No. 56 Also preferred are urethane compounds having an ethylene oxide-based skeleton described in -17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418. In addition, the use of addition polymerizable compounds having an amino structure or sulfide structure in a molecule described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-277653, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-260909, and Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 1-105238 The photopolymerizable composition which is very excellent in the photosensitive speed can be obtained.
그 밖의 예로서는, 일본 특허공개 소48-64183호, 일본 특허공고 소49-43191호, 일본 특허공고 소52-30490호, 각 공보에 기재되어 있는 폴리에스테르아크릴레이트류, 에폭시수지와 (메타)아크릴산을 반응시킨 에폭시아크릴레이트류 등의 다관능의 아크릴레이트나 메타크릴레이트를 들 수 있다. 또한 일본 특허공고 소46-43946호, 일본 특허공고 평1-40337호, 일본 특허공고 평1-40336호 공보에 기재된 특정의 불포화 화합물이나, 일본 특허공개 평2-25493호에 기재된 비닐포스폰산계 화합물 등도 들 수 있다. 또한 어느 경우에는, 일본 특허공개 소61-22048호에 기재된 퍼플루오로알킬기를 함유하는 구조가 바람직하게 사용된다. 또한 일본 접착 협회지 vol.20, No.7, 300∼308페이지(1984년)에 광경화성 모노머 및 올리고머로서 소개되어 있는 것도 사용할 수 있다.As other examples, the polyester acrylates, epoxy resins, and (meth) acrylic acids described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-64183, Japanese Patent Publication No. 49-43191, and Japanese Patent Publication No. 52-30490 Polyfunctional acrylates and methacrylates, such as the epoxy acrylate which made the reaction react, are mentioned. Moreover, the specific unsaturated compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 46-43946, Unexamined-Japanese-Patent No. 1-40337, and Unexamined-Japanese-Patent No. 1-40336, and the vinyl phosphonic acid system of Unexamined-Japanese-Patent No. 2-25493 are mentioned. Compounds and the like. In any case, the structure containing the perfluoroalkyl group of Unexamined-Japanese-Patent No. 61-22048 is used preferably. Moreover, the thing introduce | transduced as a photocurable monomer and oligomer can also be used by Japanese adhesion association vol.20, No. 7, page 300-308 (1984).
이들 부가 중합성 화합물에 대해서, 그 구조, 단독 사용인지 병용인지, 첨가량 등의 사용방법의 상세는 경화성 조성물의 최종적인 성능설계에 맞춰서 임의로 설정할 수 있다. 예를 들면 다음과 같은 관점으로부터 선택된다.About these addition polymeric compounds, the detail of usage methods, such as the structure, single use, combined use, and addition amount, can be arbitrarily set according to the final performance design of a curable composition. For example, it selects from the following viewpoints.
감도의 점에서는 1분자당의 불포화기 함량이 많은 구조가 바람직하고, 대부분의 경우, 2관능이상이 바람직하다. 또한 경화막의 강도를 높게 하기 위해서는 3관능이상의 것이 좋고, 또한 다른 관능수·다른 중합성 기(예를 들면 아크릴산 에스테르, 메타크릴산 에스테르, 스티렌계 화합물, 비닐에테르계 화합물)의 것을 병용함으로써 감도와 강도 양쪽을 조절하는 방법도 유효하다.In terms of sensitivity, a structure having a high content of unsaturated groups per molecule is preferable, and in most cases, bifunctional or more is preferable. Moreover, in order to raise the intensity | strength of a cured film, what is more than trifunctional is good, and also it uses sensitivity and other polymerizable groups (for example, acrylic ester, methacrylic ester, styrene type compound, and vinyl ether type compound) together. The method of adjusting both strengths is also effective.
또한 경화성 조성물에 함유되는 다른 성분(예를 들면 광중합 개시제, 착색제(안료, 염료) 등, 바인더 폴리머 등)과의 상용성, 분산성에 대해서도 부가 중합 화합물의 선택·사용법은 중요한 요인이며, 예를 들면 저순도 화합물의 사용이나, 2종이상의 병용에 의해 상용성을 향상시킬 수 있는 것이 있다. 또한 기판 등과의 밀착성을 향상시키는 목적으로 특정의 구조를 선택할 수도 있다.In addition, the selection and use of the addition polymerization compound are also important factors in terms of compatibility and dispersibility with other components (eg, photopolymerization initiator, colorant (pigment, dye), binder polymer, etc.) contained in the curable composition. The compatibility can be improved by using a low-purity compound and using 2 or more types together. Moreover, a specific structure can also be selected for the purpose of improving adhesiveness with a board | substrate.
(a)특정 중합성 화합물과, 후술하는 (b)광중합 개시제의 질량비 (b)/(a)는 0.1이상 2.0이하이며, 바람직하게는 0.1이상 1.0이하이며, 특히 바람직하게는 0.1이상 0.5이하이다. 상기 범위내로 함으로써 패턴 형성성이 양호하며, 기판과의 밀착성이 우수하다. 또한 노광·현상후의 마스크 증가량이 충분해서 패턴 박리가 억제된다.(a) The mass ratio (b) / (a) of a specific polymeric compound and (b) photoinitiator mentioned later is 0.1 or more and 2.0 or less, Preferably it is 0.1 or more and 1.0 or less, Especially preferably, it is 0.1 or more and 0.5 or less. . By setting it as the said range, pattern formation property is favorable and it is excellent in adhesiveness with a board | substrate. Moreover, the mask increase amount after exposure and image development is enough, and pattern peeling is suppressed.
특정 중합성 화합물의 함유량은 경화성 조성물의 전고형분중, 5∼30질량%인 것이 바람직하고, 15∼30질량%인 것이 보다 바람직하고, 20∼30질량%인 것이 특 히 바람직하다.It is preferable that content of a specific polymeric compound is 5-30 mass% in the total solid of a curable composition, It is more preferable that it is 15-30 mass%, It is especially preferable that it is 20-30 mass%.
<(b)광중합 개시제><(b) Photoinitiator>
본 발명의 광중합 개시제는 (A)비이미다졸계 화합물, (B)증감색소, 및 (C)메르캅토 화합물을 함유하는 광중합 개시계를 가리킨다.The photoinitiator of this invention points out the photoinitiator containing the (A) biimidazole type compound, (B) sensitizing dye, and (C) mercapto compound.
광중합 개시제에 있어서 (A)+(B)+(C)의 함유량이 컬러필터용 착색 경화성 조성물의 총고형분에 대해서 질량%로 5%이상 15%이하이며, 보다 바람직하게는 5%이상 12%이하이며, 특히 바람직하게는 5%이상 10%이하이다.The content of (A) + (B) + (C) in the photopolymerization initiator is 5% or more and 15% or less, more preferably 5% or more and 12% or less, based on the total solids of the colored curable composition for color filters. Especially preferably, it is 5% or more and 10% or less.
상기 범위내로 함으로써 본 발명의 경화성 조성물은 고감도로 경화되어 양호한 패턴 형성성을 갖는다. 또한 미노광부의 알칼리 용해속도가 빨라 현상 잔사가 억제된다.By setting it in the said range, the curable composition of this invention is hardened with high sensitivity, and has favorable pattern formation property. In addition, the alkali dissolution rate of the unexposed portion is high, and the development residue is suppressed.
또 광중합 개시제에 있어서, (A)+(B)의 함유량이 컬러필터용 착색 경화성 조성물의 총고형분에 대해서 질량%로 2%이상 10%이하이며, 보다 바람직하게는 2%이상 8%이하이며, 특히 바람직하게는 4%이상 8%이하이다.Moreover, in a photoinitiator, content of (A) + (B) is 2% or more and 10% or less by mass% with respect to the total solid of the colored curable composition for color filters, More preferably, they are 2% or more and 8% or less, Especially preferably, it is 4% or more and 8% or less.
상기 범위내로 함으로써 본 발명의 경화성 조성물은 고감도로 경화되어 양호한 패턴 형성성을 갖는다. 또한 미노광부의 알칼리 용해속도가 빨라 현상 잔사가 억제된다. By setting it in the said range, the curable composition of this invention is hardened with high sensitivity, and has favorable pattern formation property. In addition, the alkali dissolution rate of the unexposed portion is high, and the development residue is suppressed.
또 광중합 개시제에 있어서, (A)+(B)의 총합에 대한 (C)의 함유량은 질량%로 10%이상 30%이하이며, 바람직하게는 10%이상 25%이하이며, 특히 바람직하게는 15%이상 25%이하이다.Moreover, in photoinitiator, content of (C) with respect to the sum total of (A) + (B) is 10% or more and 30% or less by mass%, Preferably it is 10% or more and 25% or less, Especially preferably, it is 15 It is more than 25%.
상기 범위내로 함으로써 본 발명의 경화성 조성물은 고감도로 경화되어 양호 한 패턴 형성성을 갖는다. 또한 미노광부의 알칼리 용해속도가 빨라 현상 잔사가 억제된다.By setting it in the said range, the curable composition of this invention is hardened with high sensitivity, and has favorable pattern formation property. In addition, the alkali dissolution rate of the unexposed portion is high, and the development residue is suppressed.
(A)비이미다졸계 화합물(광중합 개시제)(A) Biimidazole type compound (photoinitiator)
본 발명의 광중합 개시계에 있어서의 광중합 개시제는 광에 의해 분해되어 상술의 중합성 화합물의 중합을 개시, 촉진시키는 화합물이며, 파장 300∼500㎚의 영역에 흡수를 갖는 것이 바람직하다.The photoinitiator in the photoinitiator of the present invention is a compound which is decomposed by light to initiate and promote the polymerization of the above-mentioned polymerizable compound, and preferably has absorption in a region having a wavelength of 300 to 500 nm.
비이미다졸계 화합물로서는 예를 들면 헥사아릴비이미다졸 화합물 등이 바람직하다.As a biimidazole type compound, a hexaaryl biimidazole compound etc. are preferable, for example.
헥사아릴비이미다졸 화합물로서는, 예를 들면 일본 특허공고 평6-29285호 공보, 미국특허 제3,479,185호, 동 제4,311,783호, 동 제4,622,286호, 일본 특허공고 소45-37377호, 일본 특허공고 소44-86516호에 기재된 로핀다이머류, 구체적으로는, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-브로모페닐)4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o,p-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(m-메톡시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o,o'-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-니트로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-메틸페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-트리플루오로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸이 특히 바람직하다.As a hexaaryl biimidazole compound, for example, Unexamined-Japanese-Patent No. 6-29285, US Patent 3,479,185, 4,311,783, 4,622,286, Japan Patent Publication 45-37377, Japan Patent Publication Ropindimers described in 44-86516, specifically 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and 2,2'-bis (o-bromophenyl) 4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl Biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o' -Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluorophenyl) -4,4', 5, 5'- tetraphenylbiimidazole etc. are mentioned. Especially, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'- tetraphenyl biimidazole is especially preferable.
광중합 개시제로서는, 상기 비이미다졸계 화합물 이외에 예를 들면 유기 할 로겐화 화합물, 옥시디아졸 화합물, 카르보닐 화합물, 케탈 화합물, 벤조인 화합물, 아크리딘 화합물, 유기과산화 화합물, 아조 화합물, 쿠마린 화합물, 아지드 화합물, 메탈로센 화합물, 유기붕산 화합물, 디술폰산 화합물, 옥심에스테르 화합물, 오늄염 화합물, 아실포스핀(옥사이드) 화합물을 들 수 있다.As a photoinitiator, in addition to the said biimidazole type compound, it is an organic halogenated compound, an oxydiazole compound, a carbonyl compound, a ketal compound, a benzoin compound, an acridine compound, an organic peroxide compound, an azo compound, a coumarin compound, for example. And an azide compound, a metallocene compound, an organic boric acid compound, a disulfonic acid compound, an oxime ester compound, an onium salt compound, and an acylphosphine (oxide) compound.
유기 할로겐화 화합물로서는 구체적으로는 와카바야시 등, 「Bull Chem. Soc Japan」42, 2924(1969), 미국특허 제3,905,815호 명세서, 일본 특허공고 소46-4605호, 일본 특허공개 소48-36281호, 일본 특허공개 소55-32070호, 일본 특허공개 소60-239736호, 일본 특허공개 소61-169835호, 일본 특허공개 소61-169837호, 일본 특허공개 소62-58241호, 일본 특허공개 소62-212401호, 일본 특허공개 소63-70243호, 일본 특허공개 소63-298339호, 「M.P.Hutt "Jurnal of Heterocyclic Chemistry" 1(No3), (1970)」에 기재된 화합물을 들 수 있고, 특히, 트리할로메틸기가 치환된 옥사졸 화합물, s-트리아진 화합물을 들 수 있다.Specifically as an organic halogenated compound, Wakabayashi etc., "Bull Chem. Soc Japan '' 42, 2924 (1969), US Patent No. 3,905,815, Japanese Patent Publication No. 46-4605, Japanese Patent Publication No. 48-36281, Japanese Patent Publication No. 55-32070, Japanese Patent Publication No. 60- 239736, Japanese Patent Publication No. 61-169835, Japanese Patent Publication No. 61-169837, Japanese Patent Publication No. 62-58241, Japanese Patent Publication No. 62-212401, Japanese Patent Publication No. 63-70243, Japanese Patent The compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 63-298339 and "MPHutt" Jurnal of Heterocyclic Chemistry "1 (No3), (1970)" is mentioned, In particular, the oxazole compound substituted with the trihalomethyl group, s-triazine The compound can be mentioned.
s-트리아진 화합물로서 보다 바람직하게는 적어도 1개의 모노, 디 또는 트리할로겐 치환 메틸기가 s-트리아진환에 결합된 s-트리아진 유도체, 구체적으로는 예를 들면 2,4,6-트리스(모노클로로메틸)-s-트리아진, 2,4,6-트리스(디클로로메틸)-s-트리아진, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-n-프로필-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(α,α,β-트리클로로에틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3,4-에폭시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-클로로페 닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-〔1-(p-메톡시페닐)-2,4-부타디에닐〕-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-스티릴-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-i-프로필옥시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-나톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-페닐티오-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-벤질티오-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,4,6-트리스(디브로모메틸)-s-트리아진, 2,4,6-트리스(트리브로모메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리브로모메틸)-s-트리아진, 2-메톡시-4,6-비스(트리브로모메틸)-s-트리아진 등을 들 수 있다.As the s-triazine compound, more preferably an s-triazine derivative in which at least one mono, di or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring, specifically 2,4,6-tris (mono Chloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl)- 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4 , 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1- (p-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine, 2-styryl-4,6-bis (tree Roromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-nathoxynaphthyl) -4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4, 6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, etc. are mentioned.
옥시디아졸 화합물로서는 2-트리클로로메틸-5-스티릴-1,3,4-옥소디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(시아노스티릴)-1,3,4-옥소디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(나프토-1-일)-1,3,4-옥소디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(4-스티릴)스티릴-1,3,4-옥소디아졸 등을 들 수 있다.As the oxydiazole compound, 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (cyanostyryl) -1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (naphtho-1-yl) -1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-styryl) styryl-1,3,4- Oxodiazole, etc. may be mentioned.
카르보닐 화합물로서는 벤조페논, 미힐러케톤, 2-메틸벤조페논, 3-메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4-브로모벤조페논, 2-카르복시벤조페논 등의 벤조페논 유도체, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, α-히드록시-2-메틸페닐프로파논, 1-히드록시-1-메틸에틸-(p-이소프로필페닐)케톤, 1-히드록시-1-(p-도데실페닐)케톤, 2-메틸-(4'-(메틸티오)페닐)-2-모르폴리노-1-프로파논, 1,1,1-트리클로로메틸-(p-부틸페닐)케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-4-모르폴리노부틸로페논 등의 아세토페논 유도체, 티옥 산톤, 2-에틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤 유도체, p-디메틸아미노 안식향산 에틸, p-디에틸아미노 안식향산 에틸 등의 안식향산 에스테르 유도체 등을 들 수 있다.As the carbonyl compound, benzos such as benzophenone, Michler's ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, and 2-carboxybenzophenone Phenone derivatives, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropane, 1-hydroxy- 1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 '-(methylthio) phenyl) -2-morpholino Acetophenone derivatives such as -1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-4-morpholinobutyllophenone, thioxanthone, 2-ethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxane Thioxanthone derivatives such as tones, ethyl p-dimethylamino benzoate, p-diethylamino Benzoate ester derivatives, such as ethyl benzoate, etc. are mentioned.
케탈 화합물로서는, 벤질메틸케탈, 벤질-β-메톡시에틸에틸아세탈 등을 들 수 있다.As a ketal compound, benzyl methyl ketal, benzyl- (beta)-methoxy ethyl ethyl acetal, etc. are mentioned.
벤조인 화합물로서는 m벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인메틸에테르, 메틸o-벤조일벤조에이트 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin compound include mbenzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin methyl ether, methyl o-benzoylbenzoate and the like.
아크리딘 화합물로서는 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄 등을 들 수 있다.Examples of the acridine compound include 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, and the like.
유기 과산화 화합물로서는 예를 들면 트리메틸시클로헥사논퍼옥사이드, 아세틸아세톤퍼옥사이드, 1,1-비스(tert-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(tert-부틸퍼옥시)시클로헥산, 2,2-비스(tert-부틸퍼옥시)부탄, tert-부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필벤젠하이드로퍼옥사이드, 2,5-디메틸헥산-2,5-디하이드로퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸하이드로퍼옥사이드, tert-부틸쿠밀퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(tert-부틸퍼옥시)헥산, 2,5-옥사노일퍼옥사이드, 과산화 숙신산, 과산화 벤조일, 2,4-디클로로벤조일퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디-2-에틸헥실퍼옥시디카보네이트, 디-2-에톡시에틸퍼옥시디카보네이트, 디메톡시이소프로필퍼옥시카보네이트, 디(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시디카보네이트, tert-부틸퍼옥시아세테이트, tert-부틸퍼옥시피발레이트, tert-부틸퍼옥시네오데카노에이트, tert-부틸퍼옥시옥타노에이트, tert-부틸퍼옥시라울레이트, 터실카보네이트, 3,3',4,4'-테트라-(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라-(t-헥실퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라-(p-이소프로필쿠밀퍼옥시카르보닐)벤조페논, 카르보닐디(t-부틸퍼옥시2수소2프탈레이트), 카르보닐디(t-헥실퍼옥시2수소2프탈레이트) 등을 들 수 있다.Examples of the organic peroxide compound include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butylhydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzenehydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5 -Dihydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylhydroperoxide, tert-butylcumylperoxide, dicumylperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) Hexane, 2,5-oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl Peroxydicarbonate, dimethoxyisopropylperoxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydi Carbonate, tert-butylperoxyacetate, tert-butylperoxypivalate, tert-butylperoxy neodecanoate, tert-butylperoxyoctanoate, tert-butylperoxy laurate, tertylcarbonate, 3, 3 ', 4,4'-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ' , 4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxy2hydrogen2phthalate), carbonyldi (t-hexylperoxy2hydrogen2phthalate) ), And the like.
아조 화합물로서는 예를 들면 일본 특허공개 평8-108621호 공보에 기재된 아조 화합물 등을 들 수 있다.As an azo compound, the azo compound etc. which were described in Unexamined-Japanese-Patent No. 8-108621 are mentioned, for example.
쿠마린 화합물로서는 예를 들면 3-메틸-5-아미노-((s-트리아진-2-일)아미노)-3-페닐쿠마린, 3-클로로-5-디에틸아미노-((s-트리아진-2-일)아미노)-3-페닐쿠마린, 3-부틸-5-디메틸아미노-((s-트리아진-2-일)아미노)-3-페닐쿠마린 등을 들 수 있다.Examples of the coumarin compound include 3-methyl-5-amino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, 3-chloro-5-diethylamino-((s-triazine- 2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, 3-butyl-5-dimethylamino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, etc. are mentioned.
아지드 화합물로서는 미국특허 제2848328호 명세서, 미국특허 제2852379호 명세서 및 미국특허 제2940853호 명세서에 기재된 유기 아지드 화합물, 2,6-비스(4-아지드벤질리덴)-4-에틸시클로헥사논(BAC-E) 등을 들 수 있다.Examples of the azide compound include the organic azide compounds described in US Patent No. 2848328, US Patent No. 2852379, and US Patent No. 2940853, and 2,6-bis (4-azidebenzylidene) -4-ethylcyclohexa Rice (BAC-E) etc. are mentioned.
메탈로센 화합물로서는 일본 특허공개 소59-152396호 공보, 일본 특허공개 소61-151197호 공보, 일본 특허공개 소63-41484호 공보, 일본 특허공개 평2-249호 공보, 일본 특허공개 평2-4705호 공보, 일본 특허공개 평5-83588호 공보에 기재된 여러가지 티타노센 화합물, 예를 들면 디-시클로펜타디에닐-Ti-비스-페닐, 디-시클로펜타디에닐-Ti-비스-2,6-디플루오로페닐-1-일, 디-시클로펜타디에닐-Ti-비스- 2,4-디-플루오로페닐-1-일, 디-시클로펜타디에닐-Ti-비스-2,4,6-트리플루오로페닐-1-일, 디-시클로펜타디에닐-Ti-비스-2,3,5,6-테트라플루오로페닐-1-일, 디-시클로펜타디에닐-Ti-비스-2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐-1-일, 디-메틸시클로펜타디에닐-Ti-비스-2,6-디플루오로페닐-1-일, 디-메틸시클로펜타디에닐-Ti-비스-2,4,6-트리플루오로페닐-1-일, 디-메틸시클로펜타디에닐-Ti-비스-2,3,5,6-테트라플루오로페닐-1-일, 디-메틸시클로펜타디에닐-Ti-비스-2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐-1-일, 일본 특허공개 평1-304453호 공보, 일본 특허공개 평1-152109호 공보에 기재된 철-아레인 착체 등을 들 수 있다.As the metallocene compound, Japanese Patent Laid-Open No. 59-152396, Japanese Patent Laid-Open No. 61-151197, Japanese Patent Laid-Open No. 63-41484, Japanese Patent Laid-Open No. 2-249, and Japanese Patent Laid-Open No. 2 Various titanocene compounds disclosed in JP-A-4705 and JP-A-5-83588, for example, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2, 6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4 , 6-trifluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis -2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopenta Dienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-te Lafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl, Japanese Patent Laid-Open No. 1-304453, The iron-alein complex described in Unexamined-Japanese-Patent No. 1-52109 is mentioned.
유기 붕산염 화합물로서는 예를 들면 일본 특허공개 소62-143044호, 일본 특허공개 소62-150242호, 일본 특허공개 평9-188685호, 일본 특허공개 평9-188686호, 일본 특허공개 평9-188710호, 일본 특허공개 2000-131837, 일본 특허공개 2002-107916, 일본 특허 제2764769호, 일본 특허출원 2000-310808호 등의 각 공보, 및 Kunz, Martin "Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago" 등에 기재되는 유기 붕산염, 일본 특허공개 평6-157623호 공보, 일본 특허공개 평6-175564호 공보, 일본 특허공개 평6-175561호 공보에 기재된 유기 붕소 술포늄 착체 또는 유기 붕소 옥소술포늄 착체, 일본 특허공개 평6-175554호 공보, 일본 특허공개 평6-175553호 공보에 기재된 유기 붕소 요오드늄 착체, 일본 특허공개 평9-188710호 공보에 기재된 유기 붕소 포스포늄 착체, 일본 특허공개 평6-348011호 공보, 일본 특허공개 평7-128785호 공보, 일본 특허공개 평7-140589호 공보, 일본 특허공개 평7-306527호 공보, 일본 특허공개 평7-292014호 공보등의 유기 붕소 천이금속 배위착 체 등을 구체예로서 들 수 있다.As the organic borate compound, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 62-143044, Japanese Patent Laid-Open No. 62-150242, Japanese Patent Laid-Open No. 9-188685, Japanese Patent Laid-Open No. 9-188686, Japanese Patent Laid-Open No. 9-188710 Japanese Patent Laid-Open No. 2000-131837, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application No. 2000-310808, etc., and Kunz, Martin "Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, Organoborate salts described in "1998, Chicago" and the like, the organoboron sulfonium complexes or organoboron oxos described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, and JP-A-6-175561 Sulfonium complex, the organoboron iodonium complex described in JP-A-6-175554, JP-A-6-175553, the organoboron phosphonium complex described in JP-A-9-188710, and Japanese patent Japanese Patent Laid-Open No. 6-348011, Japanese Patent Laid-Open No. 7-128 Organic boron transition metal coordination complexes, such as 785, Unexamined-Japanese-Patent No. 7-140589, Unexamined-Japanese-Patent No. 7-306527, and Unexamined-Japanese-Patent No. 7-292014, etc. are mentioned as a specific example. .
디술폰 화합물로서는 일본 특허공개 소61-166544호 공보, 일본 특허출원 2001-132318호 명세서 등에 기재되는 화합물 등을 들 수 있다.As a disulfone compound, the compound etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 61-166544, Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-132318, etc. are mentioned.
옥심 에스테르 화합물로서는, J.C.S. Perkin II(1979)1653-1660), J.C.S. Perkin II(1979)156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232, 일본 특허공개 2000-66385호 공보에 기재된 화합물, 일본 특허공개 2000-80068호 공보, 일본 특허공표 2004-534797호 공보에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.As an oxime ester compound, it is J.C.S. Perkin II (1979) 1653-1660), J.C.S. Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, Compounds described in JP 2000-66385, JP 2000-80068, JP 2004-534797 The compound as described in the publication is mentioned.
오늄염 화합물로서는 예를 들면 S.I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 18,387(1974), T.S.Bal et al, Polymer, 21,423(1980)에 기재된 디아조늄염, 미국특허 제4,069,055호 명세서, 일본 특허공개 평4-365049호 등에 기재된 암모늄염, 미국특허 제4,069,055호, 동 4,069,056호의 각 명세서에 기재된 포스포늄염, 유럽특허 제104,143호, 미국특허 제339,049호, 동 제410,201호의 각 명세서, 일본 특허공개 평2-150848호, 일본 특허공개 평2-296514호의 각 공보에 기재된 요오드늄염 등을 들 수 있다.As the onium salt compound, for example, S.I. Schlesinger, Photogr. Sci. Diazonium salts described in Eng., 18,387 (1974), T. S. Bal et al, Polymer, 21,423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 4-365049, and US Pat. 4,069,055, 4,069,056, phosphonium salts described in each specification, European Patent No. 104,143, US Patent No. 339,049, Japanese Patent No. Hei 2-150848, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-296514 The iodonium salt etc. which were described in each publication are mentioned.
본 발명에 바람직하게 사용할 수 있는 요오드늄염은 디아릴요오드늄염이며, 안정성의 관점에서 알킬기, 알콕시기, 아릴옥시기 등의 전자공여성 기로 2개이상 치환되어 있는 것이 바람직하다. The iodonium salt which can be preferably used in the present invention is a diaryl iodonium salt, and from the viewpoint of stability, it is preferable that two or more of iodonium salts are substituted with an electron donating group such as an alkyl group, an alkoxy group or an aryloxy group.
본 발명에 바람직하게 사용할 수 있는 술포늄염으로서는 유럽특허 제370,693호, 동 390,214호, 동 233,567호, 동 297,443호, 동 297,442호, 미국특허 제 4,933,377호, 동 161,811호, 동 410,201호, 동 339,049호, 동 4,760,013호, 동 4,734,444호, 동 2,833,827호, 독일국 특허 제2,904,626호, 동 3,604,580호, 동 3,604,581호의 각 명세서에 기재된 술포늄염을 들 수 있고, 안정성의 감도점으로부터 바람직하게는 전자흡인성 기로 치환되어 있는 것이 바람직하다. 전자흡인성 기로서는 하멧값이 0보다 큰 것이 바람직하다. 바람직한 전자흡인성 기로서는 할로겐원자, 카르복실산 등을 들 수 있다.The sulfonium salts that can be preferably used in the present invention include European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, 297,442, US Patent 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049 , Sulfonium salts described in each specification of 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, 3,604,581, and are preferably electron-withdrawing groups from the sensitivity point of stability. It is preferable that it is substituted. The electron-withdrawing group is preferably one having a Hammett value greater than zero. Preferred electron withdrawing groups include halogen atoms, carboxylic acids and the like.
또한 그 밖의 바람직한 술포늄염으로서는 트리아릴술포늄염의 1개의 치환기가 쿠마린, 안트아퀴논 구조를 갖고, 300㎚이상으로 흡수를 갖는 술포늄염을 들 수 있다. 다른 바람직한 술포늄염으로서는 트리아릴술포늄염이 아릴옥시기, 아릴티오기를 치환기에 갖는 300㎚이상으로 흡수를 갖는 술포늄염을 들 수 있다.Moreover, as another preferable sulfonium salt, the sulfonium salt in which one substituent of a triaryl sulfonium salt has a coumarin and an aquinone structure, and has absorption in 300 nm or more is mentioned. As another preferable sulfonium salt, the sulfonium salt which has absorption in 300 nm or more in which a triaryl sulfonium salt has an aryloxy group and an arylthio group as a substituent is mentioned.
또한 오늄염 화합물로서는, J.V. Crivello et al, Macromolecules, 10(6), 1307(1977), J.V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17,1047(1979)에 기재된 셀레노늄염, C. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct(1988)에 기재된 아르소늄염 등의 오늄염 등을 들 수 있다.In addition, as an onium salt compound, Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), V. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Selenium salts described in Ed., 17, 1047 (1979), C. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Onium salts, such as the arsonium salt as described in Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), etc. are mentioned.
아실포스핀(옥사이드)화합물로서는 치바 스페셜티 케미컬즈사제의 일가큐아 819, 다로큐아 4265, 다로큐아 TPO 등을 들 수 있다.Examples of the acyl phosphine (oxide) compound include Ilgacua 819, Darocua 4265, and Darocua TPO manufactured by Chiba Specialty Chemicals.
본 발명에 사용되는 광중합 개시제로서는 고감도화의 관점에서 비이미다졸계 화합물, 트리할로메틸트리아진계 화합물, 옥심계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이 보다 바람직하고, 비이미다졸계 화합물이 가장 바 람직하다. 또한 광중합 개시제는 단독으로 또는 2종이상을 병용해서 사용할 수도 있다.As a photoinitiator used for this invention, at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of a biimidazole type compound, a trihalomethyl triazine type compound, and an oxime type compound from a viewpoint of high sensitivity is more preferable, and a biimidazole type Compounds are most preferred. In addition, a photoinitiator can also be used individually or in combination of 2 or more types.
(A)광중합 개시제의 함유량은 경화성 조성물의 전고형분중, 1∼15질량%인 것이 바람직하고, 2∼10질량%인 것이 보다 바람직하고, 2∼6질량%인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of (A) photoinitiator is 1-15 mass% in the total solid of a curable composition, It is more preferable that it is 2-10 mass%, It is especially preferable that it is 2-6 mass%.
(B)증감색소(B) dark dye
본 발명에 사용할 수 있는 증감색소로서는 라디칼 개시제에 대해서 전자 이동기구 또는 에너지 이동기구로 증감시키는 것이 바람직하다.As a sensitizing dye which can be used for this invention, it is preferable to sensitize with a radical initiator with an electron transfer mechanism or an energy transfer mechanism.
본 발명에 사용할 수 있는 증감색소로서는 이하에 열거하는 화합물류에 속하고 있고, 또한 300㎚∼450㎚의 파장영역에 흡수 파장을 갖는 것을 들 수 있다.Examples of the sensitizing dyes that can be used in the present invention include those belonging to the compounds listed below, and those having an absorption wavelength in the wavelength range of 300 nm to 450 nm.
바람직한 증감색소의 예로서는 이하의 화합물류에 속하고 있고, 또한 330㎚∼450㎚역에 흡수 파장을 갖는 것을 들 수 있다.Examples of preferred sensitizing dyes include those belonging to the following compounds, and those having an absorption wavelength in the 330 nm to 450 nm region.
예를 들면 다핵 방향족류(예를 들면 페난트렌, 안트라센, 피렌, 페릴렌, 트리페닐렌, 9,10-디알콕시안트라센), 크산텐류(예를 들면 플루오레세인, 에오신, 에리스로신, 로다민B, 로즈벵갈), 티옥산톤류(이소프로필티옥산톤, 디에틸티옥산톤, 클로로티옥산톤), 시아닌류(예를 들면 티아카르보시아닌, 옥사카르보시아닌), 메로시아닌류(예를 들면 메로시아닌, 카르보메로시아닌), 프탈로시아닌류, 티아진류(예를 들면 티오닌, 메틸렌 블루, 톨루이딘 블루), 아크리딘류(예를 들면 아크리딘 오렌지, 클로로플라빈, 아크리플라빈), 안트라퀴논류(예를 들면 안트라퀴논), 스쿠알륨류(예를 들면 스쿠알륨), 아크리딘 오렌지, 쿠마린류(예를 들면 7-디에틸아미노- 4-메틸쿠마린), 케토쿠마린, 페노티아진류, 페나진류, 스티릴벤젠류, 아조 화합물, 디페닐메탄, 트리페닐메탄, 디스티릴벤젠류, 카르바졸류, 포르피린, 스피로 화합물, 퀴나크리돈, 인디고, 스티릴, 피릴륨 화합물, 피로메텐 화합물, 피라졸로트리아졸 화합물, 벤조티아졸 화합물, 바르비투르산 유도체, 티오바르비투르산 유도체, 아세토페논, 벤조페논, 티옥산톤, 미힐러즈케톤 등의 방향족 케톤 화합물, N-아릴옥사졸리디논 등의 헤테로환 화합물 등을 들 수 있다. 증감색소는 1종 단독으로 사용해도 좋고, 2종이상을 병용해도 좋다.For example, polynuclear aromatics (e.g. phenanthrene, anthracene, pyrene, perylene, triphenylene, 9,10- dialkoxy anthracene), xanthenes (e.g. fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), thioxanthones (isopropyl thioxanthone, diethyl thioxanthone, chlorothioxanthone), cyanines (e.g., thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines ( For example, merocyanine, carbomerocyanine), phthalocyanines, thiazines (e.g. thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (e.g. acridine orange, chloroflavin, arc Riflavin), anthraquinones (e.g. anthraquinones), squariases (e.g. squalanes), acridine orange, coumarins (e.g. 7-diethylamino-4-methylcoumarins) Tocoumarin, phenothiazines, phenazines, styrylbenzenes, azo compounds, diphenylmethane, triphenyl Tan, distyrylbenzenes, carbazoles, porphyrins, spiro compounds, quinacridones, indigo, styryl, pyryllium compounds, pyrromethene compounds, pyrazolotriazole compounds, benzothiazole compounds, barbituric acid derivatives, thio Aromatic ketone compounds such as barbituric acid derivatives, acetophenone, benzophenone, thioxanthone, Michler's ketone, heterocyclic compounds such as N-aryloxazolidinone, and the like. A sensitizing dye may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
보다 바람직한 증감색소의 예로서는 하기 일반식(B-1)∼(B-4)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.As an example of a more preferable sensitizing dye, the compound represented by the following general formula (B-1)-(B-4) is mentioned.
(식(B-1)중, A1은 유황원자 또는 NR50을 나타내고, R50은 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, L1은 인접하는 A1 및 인접 탄소원자와 공동해서 색소의 염기성핵을 형성하는 비금속 원자단을 나타내고, R51, R52는 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 비금속 원자단을 나타내고, R51, R52는 서로 결합해서 색소의 산성핵을 형성해도 좋다. W는 산소원자 또는 유황원자를 나타낸다.)(In formula (B-1), A 1 represents a sulfur atom or NR 50 , R 50 represents an alkyl group or an aryl group, and L 1 forms a basic nucleus of a dye in combination with an adjacent A 1 and an adjacent carbon atom. Represents a nonmetallic atom group, R 51 and R 52 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atom group, and R 51 and R 52 may combine with each other to form an acidic nucleus of a dye. Indicates.)
(식(B-2)중, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 아릴기를 나타내고, -L2-에 의한 결합을 통해 연결되어 있다. 여기에서 L2는 -O- 또는 -S-를 나타낸다. 또한 W는 식(B-1)에 나타낸 것과 동의의다.)(In Formula (B-2), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group and are linked via a bond by -L 2- . Here, L 2 represents -O- or -S-. W is synonymous with that shown in the formula (B-1).)
(식(B-3)중, A2는 유황원자 또는 NR59를 나타내고, L3은 인접하는 A2 및 탄소원자와 공동해서 색소의 염기성핵을 형성하는 비금속 원자단을 나타내고, R53, R54, R55, R56, R57 및 R58은 각각 독립적으로 1가의 비금속 원자단의 기를 나타내고, R59는 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.)(Formula (B-3) of the, A 2 denotes a sulfur atom or NR 59, L 3 represents a non-metallic atomic group forming a basic nucleus of A 2 and common to pigments and carbon atom which are adjacent, R 53, R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 each independently represent a group of a monovalent nonmetallic atom group, and R 59 represents an alkyl group or an aryl group.)
(식(B-4)중, A3, A4는 각각 독립적으로 -S- 또는 -NR62- 또는 -NR63-을 나타내 고, R62, R63은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환의 알킬기, 치환 또는 비치환의 아릴기를 나타내고, L4, L5는 각각 독립적으로 인접하는 A3, A4 및 인접 탄소원자와 공동해서 색소의 염기성핵을 형성하는 비금속 원자단을 나타내고, R60, R61은 각각 독립적으로 1가의 비금속 원자단을 나타내거나, 또는 서로 결합해서 지방족성 또는 방향족성의 환을 형성할 수 있다.)(In Formula (B-4), A 3 and A 4 each independently represent -S- or -NR 62 -or -NR 63- , and R 62 and R 63 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, A substituted or unsubstituted aryl group, L 4 , L 5 each independently represent a non-metallic atom group that forms a basic nucleus of a dye in association with adjacent A 3 , A 4 and adjacent carbon atoms, and R 60 , R 61 each represent Independently represent a monovalent nonmetallic atom group or combine with each other to form an aliphatic or aromatic ring.)
또한 본 발명의 경화성 조성물에 함유할 수 있는 바람직한 증감색소로서는 상기 증감색소 외에 하기 일반식(IV)∼(VI)로 나타내어지는 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용해도 좋고, 2종이상을 병용해도 좋다.Moreover, as a preferable sensitizing dye which can be contained in the curable composition of this invention, at least 1 sort (s) chosen from the compound represented by the following general formula (IV)-(VI) besides the said sensitizing dye is mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
일반식(IV) 또는 일반식(V)중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, R3, R4, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 치환기를 나타낸다. n은 0∼5의 정수를 나타내고, n'은 0∼5의 정수를 나타내고, n 및 n'이 양쪽 모두 0이 되는 일은 없다. n이 2이상인 경우, 복수 존재하는 R1은 각각 동일해도 달 라도 좋다. n'이 2이상인 경우, 복수 존재하는 R2는 각각 동일해도 달라도 좋다.In formula (IV) or formula (V), R 1 and R 2 each independently represent a monovalent substituent, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. Indicates. n represents an integer of 0 to 5, n 'represents an integer of 0 to 5, and n and n' do not both become 0. When n is two or more, two or more R <1> may be same or different, respectively. When n 'is two or more, two or more R <2> may be same or different, respectively.
일반식(IV)로 나타내어지는 화합물로서는 감도 및 착색제를 함유하는 경우에 있어서의 착색성의 관점으로부터 하기 일반식(IV-1)로 나타내지는 화합물인 것이 바람직하다.As a compound represented by general formula (IV), it is preferable that it is a compound represented with the following general formula (IV-1) from a viewpoint of a sensitivity and the coloring at the time of containing a coloring agent.
일반식(IV-1)중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타낸다. n은 0∼5의 정수를 나타내고, n'은 1∼5의 정수를 나타낸다. n이 2이상인 경우, 복수 존재하는 R1은 각각 같아도 달라도 좋고, n'이 2이상인 경우, 복수 존재하는 R2는 각각 같아도 달라도 좋다.In General Formula (IV-1), R 1 and R 2 each independently represent a monovalent substituent. n represents the integer of 0-5, n 'represents the integer of 1-5. When n is two or more, two or more R <1> may be same or different, and when n 'is two or more, two or more R <2> may be same or different, respectively.
일반식(IV-1)에 있어서, R1 및 R2로 나타내지는 1가의 치환기는 상기 일반식(IV)에 있어서 R1 및 R2로 나타내지는 1가의 치환기와 동의이며, 바람직한 범위도 같다.In the formula (IV-1), R 1 and represented by a monovalent substituent in R 2 is represented by motion and the monovalent substituent in R 1 and R 2 in the general formula (IV), as a preferred range.
일반식(IV) 또는 일반식(V)로 나타내어지는 화합물로서는 파장 365㎚에 있어서의 몰 흡광계수(ε)가 500mol-1·L·cm-1이상인 것이 바람직하게, 파장 365㎚에 있 어서의 ε가 3000mol-1·L·cm-1이상인 것이 보다 바람직하고, 파장 365㎚에 있어서의 ε가 20000mol-1·L·cm-1이상인 것이 가장 바람직하다. 각 파장에서의 몰 흡광계수(ε)의 값이 상기 범위이면 광흡수효율의 관점으로부터 감도향상 효과가 높아 바람직하다.As a compound represented by general formula (IV) or general formula (V), it is preferable that molar extinction coefficient ((epsilon)) in wavelength 365nm is 500mol <-1> L * cm <-1> or more, Preferably it is in wavelength 365nm. it is most preferred that ε is not less than ε in the preferred, more preferably not less than the wavelength 365㎚ 3000mol -1 · L · cm -1 20000mol -1 · L · cm -1. If the value of the molar extinction coefficient (epsilon) in each wavelength is the said range, since a sensitivity improvement effect is high from a viewpoint of light absorption efficiency, it is preferable.
일반식(IV) 또는 일반식(V)로 나타내어지는 화합물의 바람직한 구체예를 이하에 예시하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Although the preferable specific example of a compound represented by general formula (IV) or general formula (V) is illustrated below, this invention is not limited to these.
또, 본 명세서에 있어서는 화학식은 간략구조식에 의해 기재하는 일도 있고, 특히 원소나 치환기의 명시가 없는 실선 등은 탄화수소기를 나타낸다. 또한 하기 구체예에 있어서, Me는 메틸기를, Et는 에틸기를, Bu는 부틸기를, n-Bu는 n-부틸기를, Ph는 페닐기를 나타낸다.In addition, in this specification, a chemical formula may be described by a simple structural formula, and the solid line etc. which do not specify an element and a substituent especially represent a hydrocarbon group. In the specific examples below, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Bu represents a butyl group, n-Bu represents an n-butyl group, and Ph represents a phenyl group.
일반식(VI)중, A는 치환기를 가져도 좋은 방향족환 또는 헤테로환을 나타내고, X는 산소원자, 유황원자 또는 -N(R3)-을 나타내고, Y는 산소원자, 유황원자 또 는 -N(R3)-을 나타낸다. R1, R2, 및 R3은 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 비금속 원자단을 나타내고, A, R1, R2, 및 R3은 각각 서로 결합해서 지방족성 또는 방향족성의 환을 형성해도 좋다.In the general formula (VI), A represents a great import FIG aromatic ring or heterocyclic ring substituents, X is an oxygen atom, a sulfur atom or -N (R 3) - represents the, Y is an oxygen atom, a sulfur atom, or - N (R 3 )-is represented. R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atom group, and A, R 1 , R 2 , and R 3 may be bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring.
일반식(VI)에 있어서, R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소원자 또는 1가의 비금속 원자단을 나타낸다. R1, R2 및 R3이 1가의 비금속원자를 나타내는 경우, 치환 혹은 비치환의 알킬기, 치환 혹은 비치환의 아릴기, 치환 혹은 비치환의 알케닐기, 치환 혹은 비치환의 방향족 복소환 잔기, 치환 혹은 비치환의 알콕시기, 치환 혹은 비치환의 알킬티오기, 히드록실기, 할로겐원자인 것이 바람직하다.In general formula (VI), R <1> , R <2> and R <3> represent a hydrogen atom or monovalent nonmetallic atom group each independently. When R 1 , R 2 and R 3 represent a monovalent non-metal atom, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic moiety, substituted or unsubstituted It is preferable that they are an alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, and a halogen atom.
일반식(VI)로 나타내어지는 화합물은 광중합 개시제의 분해 효율 향상의 관점으로부터 Y는 산소원자 또는 -N(R3)-이 바람직하다. R3은 각각 독립적으로, 수소원자 또는 1가의 비금속 원자단을 나타낸다. 또한 Y는 -N(R3)-인 것이 가장 바람직하다.Compound of formula (VI) is Y is an oxygen atom or -N (R 3) from the viewpoint of decomposition efficiency of the photopolymerization initiator is preferred. R 3 's each independently represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atom group. Also, Y is most preferably -N (R 3 )-.
(B)증감색소의 함유량은 경화성 조성물의 전고형분중, 0.1∼10.0질량%인 것이 바람직하고, 0.1∼5.0질량%인 것이 보다 바람직하고, 0.5∼5.0질량%인 것이 특히 바람직하다.(B) It is preferable that it is 0.1-10.0 mass% in the total solid of curable composition, as for content of (B) dark dye, it is more preferable that it is 0.1-5.0 mass%, and it is especially preferable that it is 0.5-5.0 mass%.
(C)메르캅토 화합물(C) mercapto compound
본 발명에 있어서의 메르캅토 화합물은 증감색소나 중합개시제의 활성 방사 선에 대한 감도를 한층 향상시키거나, 또는 산소에 의한 중합성 화합물의 중합저해를 억제하는 등의 작용을 갖는 공증감제이다.The mercapto compound in this invention is a co-sensitizer which has an effect | action which further improves the sensitivity to active radiation of a sensitizing dye and a polymerization initiator, or suppresses the polymerization inhibition of a polymeric compound by oxygen.
메르캅토 화합물로서 구체적으로는, 에틸렌글리콜비스티오프로피오네이트(EGTP), 부탄디올비스티오프로피오네이트(BDTP), 트리메티롤프로판트리스티오프로피오네이트(TMTP), 펜타에리스리톨테트라키스티오프로피오네이트(PETP), 하기 식으로 나타내어지는 THEIC-BMPA 등의 메르캅토프로피온산 유도체; 디(메르캅토에틸)에테르 등의 메르캅토에테르류; 헥산디올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오글리콜, 트리메티롤프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리스리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스히드록시에틸트리스티오프로피오네이트 등의 지방족 다관능 메르캅토 화합물, 메르캅토벤즈티아졸, 2-메르캅토벤즈옥사졸, 2-메르캅토벤즈이미다졸 등의 방향족 메르캅토 화합물, 2-메르캅토-4(3H)-퀴나졸린, β-메르캅토나프탈렌을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종이상을 조합해서 사용할 수 있다.Specific examples of the mercapto compound include ethylene glycol bisthiopropionate (EGTP), butanediol bisthiopropionate (BDTP), trimetholpropane tristyoplioionate (TMTP), and pentaerythritol tetrakistiopionopionate. (PETP) and mercaptopropionic acid derivatives such as THEIC-BMPA represented by the following formula; Mercapto ethers such as di (mercaptoethyl) ether; Aliphatic, such as hexanediol, decandithiol, 1, 4- dimethyl mercaptobenzene, butanediol bisthioglycol, trimetholol propane tristhioglycolate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, and tris hydroxyethyl tristyopiopioneate Aromatic mercapto compounds, such as a polyfunctional mercapto compound, mercapto benzthiazole, 2-mercapto benzoxazole, and 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazolin, (beta) -mer Captonaphthalene can be illustrated. These can be used individually or in combination of 2 or more types.
본 발명에서 사용하는 메르캅토 화합물은 헤테로환에 -SH기가 치환되어 있는 것이 바람직하고, 헤테로환에 함유되는 헤테로 원자로서는 질소, 유황이 바람직하고, 질소원자를 2개 갖는 경우가 보다 바람직하다.It is preferable that the mercapto compound used by this invention is substituted by the -SH group to a heterocyclic ring, As a hetero atom contained in a heterocyclic ring, nitrogen and sulfur are preferable, and it is more preferable to have two nitrogen atoms.
본 발명의 메르캅토 화합물은 하기 일반식(I)로 나타내어지는 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the mercapto compound of this invention is a compound represented with the following general formula (I).
(일반식(I)중, R은 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, A는 N=C-N과 함께 헤테로환을 형성하는 원자단을 나타낸다.)(In general formula (I), R represents an alkyl group or an aryl group, and A represents the atomic group which forms a heterocyclic ring with N = C-N.)
일반식(I)에 있어서, R은 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.In general formula (I), R represents an alkyl group or an aryl group.
상기 알킬기로서는, 탄소원자수가 1부터 20까지의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 알킬기를 들 수 있고, 탄소원자수 1부터 12까지의 직쇄상, 탄소원자수 3부터 12까지의 분기상, 및 탄소원자수 5부터 10까지의 환상의 알킬기가 보다 바람직하다.Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, straight chains having 1 to 12 carbon atoms, branched phases having 3 to 12 carbon atoms, and 5 carbon atoms. To 10 cyclic alkyl group is more preferable.
그 구체예로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리데실기, 헥사데실기, 옥타데실기, 에이코실기, 이소프로필기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, 1-메틸부틸기, 이소헥실기, 2-에틸헥실기, 2-메틸헥실기, 시클로헥실기, 시클로펜틸기, 2-노르보르닐기 등을 들 수 있다.Specific examples thereof include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, Eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group , Cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group and the like.
상기 아릴기로서는, 단환구조의 것에 추가해서 1개∼3개의 벤젠환이 축합환을 형성한 것, 벤젠환과 5원 불포화환이 축합환을 형성한 것 등을 들 수 있고, 구체예로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 인데닐기, 아세나프테닐기, 플루오레닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서는 페닐기, 나프틸기가 보다 바람직하다. Examples of the aryl group include those in which one to three benzene rings form a condensed ring in addition to those having a monocyclic structure, those in which a benzene ring and a five-membered unsaturated ring form a condensed ring, and the like, and specific examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. , Anthryl group, phenanthryl group, indenyl group, acenaphthenyl group, fluorenyl group, etc. are mentioned, Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.
이들 알킬기나 아릴기는 치환기를 더 갖고 있어도 좋고, 도입할 수 있는 치환기로서는 탄소원자수 1∼20의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 알킬기, 탄소원자수 2∼20의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 알케닐기, 탄소원자수 2∼20의 알키닐기, 탄소원자수 6∼20의 아릴기, 탄소원자수 1∼20의 아실옥시기, 탄소원자수 2∼20의 알콕시카르보닐옥시기, 탄소원자수 7∼20의 아릴옥시카르보닐옥시기, 탄소원자수 1∼20의 카르바모일옥시기, 탄소원자수 1∼20의 카르본아미드기, 탄소원자수 1∼20의 술폰아미드기, 탄소원자수 1∼20의 카르바모일기, 술파모일기, 탄소원자수 1∼20의 치환 술파모일기, 탄소원자수 1∼20의 알콕시기, 탄소원자수 6∼20의 아릴옥시기, 탄소원자수 7∼20의 아릴옥시카르보닐기, 탄소원자수 2∼20의 알콕시카르보닐기, 탄소원자수 1∼20의 N-아실술파모일기, 탄소원자수 1∼20의 N-술파모일카르바모일기, 탄소원자수 1∼20의 알킬술포닐기, 탄소원자수 6∼20의 아릴술포닐기, 탄소원자수 2∼20의 알콕시카르보닐아미노기, 탄소수 7∼20의 아릴옥시카르보닐아미노기, 아미노기, 탄소원자수 1∼20의 치환 아미노기, 탄소원자수 1∼20의 이미노기, 탄소원자수 3∼20의 암모니오기, 카르복실기, 술포기, 옥시기, 메르캅토기, 탄소수 1∼20의 알킬술피닐기, 탄소원자수 6∼20의 아릴술피닐기, 탄소원자수 1∼20의 알킬티오기, 탄소원자수 6∼20의 아릴티오기, 탄소원자수 1∼20의 우레이도기, 탄소원자수 2∼20의 헤테로환기, 탄소원자수 1∼20의 아실기, 술파모일아미노기, 탄소원자수 1∼2의 치환 술파모일아미노기, 탄소원자수 2∼20의 실릴기, 이소시아네이트 기, 이소시아니드기, 할로겐원자(예를 들면 불소원자, 염소원자, 브롬원자 등), 시아노기, 니트로기, 오늄기 등을 들 수 있다.These alkyl groups and aryl groups may further have a substituent, and examples of the substituents that can be introduced include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, linear, branched or cyclic alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms. , An alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, and an aryloxycarbon having 7 to 20 carbon atoms A carbonyloxy group, a carbamoyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, a carbonamide group having 1 to 20 carbon atoms, a sulfonamide group having 1 to 20 carbon atoms, a carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, a sulfamoyl group, A substituted sulfamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a carbon source N-acyl sulfamom of embroidery 1-20 N-sulfamoylcarbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, arylsulfonyl group having 6 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonylamino group having 2 to 20 carbon atoms, and 7 to 20 carbon atoms 20 aryloxycarbonylamino group, amino group, substituted amino group having 1 to 20 carbon atoms, imino group having 1 to 20 carbon atoms, ammonium group having 3 to 20 carbon atoms, carboxyl group, sulfo group, oxy group, mercapto group and carbon number 1-20 alkylsulfinyl groups, 6-20 carbon atoms, arylsulfinyl groups, 1-20 carbon atoms, arylthio groups 6-6 carbon atoms, 1-20 carbon atoms, 2 carbon atoms A heterocyclic group of -20, an acyl group of 1 to 20 carbon atoms, a sulfamoylamino group, a substituted sulfamoylamino group of 1 to 2 carbon atoms, a silyl group of 2 to 20 carbon atoms, an isocyanate group, an isocyanide group, a halogen atom ( For example, fluorine atom, chlorine source , A bromine atom, etc.), a cyano group, and the like can be mentioned a nitro group, o nyumgi.
또한 일반식(I)에 있어서, A는 N=C-N과 함께 헤테로환을 형성하는 원자단을 나타낸다.In general formula (I), A represents the atomic group which forms a heterocyclic ring with N = C-N.
이 원자단을 구성하는 원자로서는 탄소원자, 질소원자, 수소원자, 유황원자, 셀레늄원자 등을 들 수 있다.Examples of the atoms constituting the atomic group include carbon atoms, nitrogen atoms, hydrogen atoms, sulfur atoms, selenium atoms, and the like.
또, A와 N=C-N으로 형성되는 헤테로환은 치환기를 더 갖고 있어도 좋고, 도입할 수 있는 치환기로서는 상기 알킬기나 아릴기에 도입 가능한 치환기와 같은 것을 들 수 있다.Moreover, the heterocyclic ring formed from A and N = C-N may have a substituent further, and the substituents which can be introduce | transduced include the thing similar to the substituent which can be introduced into the said alkyl group and an aryl group.
공증감제의 다른 예로서는 티올 및 술피드류, 예를 들면 일본 특허공개 소53-702호 공보, 일본 특허공고 소55-500806호 공보, 일본 특허공개 평5-142772호 공보에 기재된 티올 화합물, 일본 특허공개 소56-75643호 공보의 디술피드 화합물 등을 들 수 있고, 구체적으로는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토-4(3H)-퀴나졸린, β-메르캅토나프탈렌 등을 들 수 있다.As another example of the sensitizer, thiols and sulfides, for example, the thiol compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-702, Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-500806, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-142772, and Japanese Patent The disulfide compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 56-75643, etc. are mentioned, Specifically, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercapto- 4 (3H) -quinazolin, (beta) -mercaptonaphthalene, etc. are mentioned.
그 중에서도, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토-4(3H)-퀴나졸린, β-메르캅토나프탈렌 등의 메르캅토 화합물이 바람직하다.Especially, mercapto compounds, such as 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercapto-4 (3H)-quinazoline, (beta) -mercaptonaphthalene, This is preferred.
다른 공증감제의 예로서는, 아민류, 예를 들면 M. R. Sander 등 저 「Jounal of Polymer Society」 제10권 3173페이지(1972), 일본 특허공고 소44-20189호 공보, 일본 특허공개 소51-82102호 공보, 일본 특허공개 소52-134692호 공보, 일본 특허공개 소59-138205호 공보, 일본 특허공개 소60-84305호 공보, 일본 특허 공개 소62-18537호 공보, 일본 특허공개 소64-33104호 공보, Research Disclosure 33825호에 기재된 화합물 등을 들 수 있고, 구체적으로는, 트리에탄올아민, p-디메틸아미노 안식향산 에틸에스테르, p-포르밀디메틸아닐린, p-메틸티오디메틸아닐린 등을 들 수 있다.As examples of other sensitizers, amines such as MR Sander et al., `` Ounal of Polymer Society, '' Volume 10, page 3173 (1972), Japanese Patent Publication No. 44-20189, Japanese Patent Publication No. 51-82102, Japanese Patent Laid-Open No. 52-134692, Japanese Patent Laid-Open No. 59-138205, Japanese Patent Laid-Open No. 60-84305, Japanese Patent Laid-Open No. 62-18537, Japanese Patent Laid-Open No. 64-33104, The compound described in Research Disclosure 33825, etc. are mentioned, Specifically, triethanolamine, p-dimethylamino benzoic acid ethyl ester, p-formyldimethylaniline, p-methylthiodimethylaniline, etc. are mentioned.
또한 공증감제의 다른 예로서는, 아미노산 화합물(예, N-페닐글리신 등), 일본 특허공고 소48-42965호 공보에 기재된 유기금속 화합물(예, 트리부틸주석 아세테이트 등), 일본 특허공고 소55-34414호 공보에 기재된 수소공여체, 일본 특허공개 평6-308727호 공보에 기재된 유황 화합물(예, 트리티안 등) 등을 들 수 있다.Other examples of the sensitizer include amino acid compounds (e.g., N-phenylglycine), organometallic compounds (e.g., tributyltin acetate, etc.) described in JP-A-48-42965, JP-A-55-34414 The hydrogen donor described in Unexamined-Japanese-Patent No. 6, the sulfur compound (for example, trithiane etc.) of Unexamined-Japanese-Patent No. 6-308727, etc. are mentioned.
또한 메르캅토 화합물로서, 보다 바람직하게는, 하기 일반식(II) 또는 일반식(III)으로 나타내어지는 것이다.Moreover, as a mercapto compound, More preferably, it is represented by the following general formula (II) or general formula (III).
일반식(II)중, R1은 아릴기를 나타내고, X는 수소원자, 할로겐원자, 알콕시기, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.In general formula (II), R <1> represents an aryl group and X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, or an aryl group.
일반식(III)중, R2는 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, X는 수소원자, 할로겐원자, 알콕시기, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.In general formula (III), R <2> represents an alkyl group or an aryl group, X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, or an aryl group.
일반식(II) 및 (III)에 있어서의 할로겐원자로서는 불소원자, 염소원자, 브로원자, 요오드원자가 바람직하다.As a halogen atom in general formula (II) and (III), a fluorine atom, a chlorine atom, a bro atom, and an iodine atom are preferable.
일반식(II) 및 (III)에 있어서의 알콕시기로서는 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 부틸옥시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 도데실옥시기, 벤질옥시기, 알릴옥시기, 페네틸옥시기, 카르복시에틸옥시기, 메톡시카르보닐에틸옥시기, 에톡시카르보닐에틸옥시기, 메톡시에톡시기, 페녹시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 모르폴리노에톡시기, 모르폴리노프로필옥시기, 아릴옥시에톡시에톡시기, 페녹시기, 톨릴옥시기, 크실릴옥시기, 메시틸옥시기, 쿠메닐옥시기, 메톡시페닐옥시기, 에톡시페닐옥시기, 클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 아세틸옥시기, 벤조일옥시기, 나프틸옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy group in the general formulas (II) and (III) include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butyloxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a dodecyloxy group, a benzyloxy group, Allyloxy group, phenethyloxy group, carboxyethyloxy group, methoxycarbonylethyloxy group, ethoxycarbonylethyloxy group, methoxyethoxy group, phenoxyoxy group, methoxyethoxyethoxy group, Methoxyethoxyethoxy group, morpholinoethoxy group, morpholinopropyloxy group, aryloxyethoxyethoxy group, phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, mesityloxy group, cumenyloxy group, meth Oxyphenyloxy group, ethoxyphenyloxy group, chlorophenyloxy group, bromophenyloxy group, acetyloxy group, benzoyloxy group, naphthyloxy group, etc. are mentioned.
일반식 (II) 및 (III)에 있어서의 알킬기는 일반식(I)의 R로 나타내어지는 알킬기와 동의이며, 그 바람직한 범위도 같다.The alkyl group in general formula (II) and (III) is synonymous with the alkyl group represented by R of general formula (I), and its preferable range is also the same.
또한 일반식 (II) 및 (III)에 있어서의 아릴기는 일반식(I)의 R로 나타내어지는 아릴기와 동의이며, 그 바람직한 범위도 같다.Moreover, the aryl group in general formula (II) and (III) is synonymous with the aryl group represented by R of general formula (I), and its preferable range is also the same.
일반식 (II) 및 (III)에 있어서의 각 기는 치환기를 더 갖고 있어도 좋고, 그 치환기로서는 일반식(I)의 R로 나타내어지는 알킬기나 아릴기에 도입 가능한 치환기로서 열거한 것과 같다.Each group in general formula (II) and (III) may further have a substituent, and as this substituent is the same as what was enumerated as a substituent which can be introduce | transduced into the alkyl group and aryl group represented by R of general formula (I).
이들 메르캅토 화합물은 J.Appl. Chem. 34, 2203-2207(1961)에 기재된 방법으로 합성할 수 있다.These mercapto compounds are J.Appl. Chem. 34, 2203-2207 (1961) can be synthesized by the method described.
(C)메르캅토 화합물의 함유량은 경화성 조성물의 전고형분중, 0.1∼10.0질량%인 것이 바람직하고, 0.1∼5.0질량%인 것이 보다 바람직하고, 0.5∼5.0질량%인 것이 특히 바람직하다.(C) It is preferable that content of a mercapto compound is 0.1-10.0 mass% in the total solid of a curable composition, It is more preferable that it is 0.1-5.0 mass%, It is especially preferable that it is 0.5-5.0 mass%.
본 발명의 경화성 조성물에 있어서, 일반식(I)로 나타내어지는 화합물은 1종 단독으로 사용해도, 2종이상을 병용해도 좋고, 또한 일반식(II)로 나타내어지는 화합물로부터 선택되는 화합물과, 일반식(III)로 나타내어지는 화합물로부터 선택되는 화합물로부터 선택되는 화합물을 각각 병용해도 좋다.In the curable composition of this invention, the compound represented by general formula (I) may be used individually by 1 type, may use 2 or more types together, and is a compound selected from the compound represented by general formula (II), and general You may use together the compound chosen from the compound chosen from the compound represented by Formula (III).
또, 본 발명의 중합 개시계에 있어서의 바람직한 조합은 광중합 개시제로서의 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 증감색소 및 메르캅토 화합물의 조합이며, 메르캅토 화합물로서는 하기 화합물 C1 또는 C2가 바람직하고, 특히 바람직하게는 C2이다.Moreover, the preferable combination in the polymerization initiator of this invention is 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'- tetraphenyl biimidazole, a sensitizing dye, and mer as a photoinitiator. It is a combination of a capto compound, As a mercapto compound, the following compound C1 or C2 is preferable, Especially preferably, it is C2.
<(c)착색제><(c) Colorant>
본 발명의 경화성 조성물은 착색제를 함유한다.The curable composition of this invention contains a coloring agent.
본 발명의 경화성 조성물에 함유되는 착색제에는 특별히 제한은 없고, 종래 공지의 여러가지 염료나 안료를 1종 또는 2종이상 혼합해서 사용할 수 있다. 상기 착색제로서는 내광성의 관점으로부터 안료인 것이 바람직하다.There is no restriction | limiting in particular in the coloring agent contained in the curable composition of this invention, A conventionally well-known various dye and pigment can be used 1 type or in mixture of 2 or more types. As said coloring agent, it is preferable that it is a pigment from a light resistant viewpoint.
본 발명의 경화성 조성물에 사용할 수 있는 안료로서는 종래 공지의 여러가지 무기안료 또는 유기안료를 사용할 수 있다. 또한 무기안료이든 유기안료이든 고투과율인 것이 바람직한 것을 고려하면, 되도록이면 가는 것의 사용이 바람직하고, 핸들링성도 고려하면 상기 안료의 평균 입자지름은 0.01㎛∼0.1㎛가 바람직하고, 0.01㎛∼0.05㎛가 보다 바람직하다. 또한 상기 무기안료로서는 금속 산화물, 금속 착염 등으로 나타내어지는 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는, 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 동, 티타늄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속 산화물 및 상기 금속의 복합 산화물을 들 수 있다.As a pigment which can be used for the curable composition of this invention, various conventionally well-known inorganic pigments or organic pigments can be used. In addition, considering that it is preferable to have a high transmittance, whether inorganic pigments or organic pigments, the use of thin ones is preferable, and in consideration of handling properties, the average particle diameter of the pigment is preferably 0.01 μm to 0.1 μm, and 0.01 μm to 0.05 μm. Is more preferable. Examples of the inorganic pigments include metal compounds represented by metal oxides, metal complex salts, and the like, and specifically, metal oxides such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, and antimony. And complex oxides of the above metals.
유기 안료로서는 예를 들면As an organic pigment, for example
C.I.피그먼트옐로11,24,31,53,83,93,99,108,109,110,138,139,147,150,151,154,155,167,180,185,199,;Pigment Yellow 11,24,31,53,83,93,99,108,109,110,138,139,147,150,151,154,155,167,180,185,199 ,;
C.I.피그먼트오렌지36,38,43,71;C.I. pigment orange 36,38,43,71;
C.I.피그먼트레드81,105,122,149,150,155,171,175,176,177,209,220,224,242,254,255,264,270;Pigment Red 81,105,122,149,150,155,171,175,176,177,209,220,224,242,254,255,264,270;
C.I.피그먼트바이올렛19,23,32,39;C.I. Pigment Violet 19,23,32,39;
C.I.피그먼트블루1,2,15,15:1,15:3,15:6,16,22,60,66;Pigment Blue 1,2,15,15: 1,15: 3,15: 6,16,22,60,66;
C.I.피그먼트그린7,36,37;C.I. pigment green 7,36,37;
C.I.피그먼트브라운25,28;C.I. Pigment Brown 25,28;
C.I.피그먼트블랙1,7;C.I. Pigment Black 1,7;
카본블랙 등을 들 수 있다.Carbon black etc. are mentioned.
본 발명에서는 특히 안료의 구조식중에 염기성의 N원자를 갖는 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 염기성의 N원자를 갖는 안료는 본 발명의 조성물중에서 양호한 분산성을 나타낸다. 그 원인에 대해서는 충분히 해명되어 있지 않지만, 경 화성 중합성분과 안료의 친화성의 우수함이 영향을 주고 있는 것이라고 추정된다.Especially in this invention, what has basic N atom in the structural formula of a pigment can be used preferably. Pigments having these basic N atoms exhibit good dispersibility in the compositions of the present invention. Although the cause is not fully elucidated, it is presumed that the excellence of the affinity between the curable polymerization component and the pigment has influenced.
본 발명에 있어서 바람직하게 사용할 수 있는 안료로서 이하의 것을 들 수 있다. 단, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.The following can be mentioned as a pigment which can be used preferably in this invention. However, this invention is not limited to these.
C.I.피그먼트옐로11,24,108,109,110,138,139,150,151,154,167,180,185,Pigment Yellow 11,24,108,109,110,138,139,150,151,154,167,180,185,
C.I.피그먼트오렌지36,71,Pigment orange 36,71,
C.I.피그먼트레드122,150,171,175,177,209,224,242,254,255,264,Pigment Red 122,150,171,175,177,209,224,242,254,255,264,
C.I.피그먼트바이올렛19,23,32,C.I. Pigment Violet 19,23,32,
C.I.피그먼트블루15:1,15:3,15:6,16,22,60,66,Pigment Blue 15: 1,15: 3,15: 6,16,22,60,66,
C.I.피그먼트그린7,36,37,Pigment Green 7,36,37,
C.I.피그먼트블랙C.I. pigment black
이들 유기안료는 단독 또는 색순도를 높이기 위해서 여러가지 조합해서 사용할 수 있다. 상기 조합의 구체예를 이하에 나타낸다. 예를 들면 적색의 안료로서 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 안료, 디케토피롤로피롤계 안료 단독 또는 이들의 적어도 1종과, 디스아조계 황색안료, 이소인도린계 황색안료, 퀴노프탈론계 황색안료 또는 페릴렌계 적색안료의 혼합 등을 사용할 수 있다. 예를 들면 안트라퀴논계 안료로서는 C.I.피그먼트레드177을 들 수 있고, 페릴렌계 안료로서는 C.I.피그먼트레드155, C.I.피그먼트레드224를 들 수 있고, 디케토피롤로피롤계 안료로서는 C.I.피그먼트레드254를 들 수 있고, 색재현성의 점에서 C.I.피그먼트옐로139와의 혼합이 바람직하다. 또한 적색안료와 황색안료의 질량비는 100:5∼100:50이 바람직하다. 상기 범위로 함으로써 400㎚∼500㎚의 광투과율을 억제할 수 있어 색순도를 높일 수 있다. 또 색재현성이 양호하게 된다. 특히, 상기 질량비로서는 100:10∼100:30의 범위가 최적이다. 또, 적색안료끼리의 조합의 경우에는 색도에 맞춰서 조정할 수 있다.These organic pigments can be used individually or in combination in order to raise color purity. The specific example of the said combination is shown below. For example, an anthraquinone pigment, a perylene pigment, a diketopyrrolopyrrole pigment alone or at least one of them as a red pigment, a disazo yellow pigment, an isoindolin yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment or Mixtures of perylene-based red pigments and the like can be used. For example, CI pigment red 177 is mentioned as an anthraquinone pigment, CI pigment red 155 and CI pigment red 224 are mentioned as a perylene pigment, CI pigment red 254 as a diketopyrrolopyrrole pigment. The mixing with CI pigment yellow 139 is preferable at the point of color reproducibility. In addition, the mass ratio of the red pigment and the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 50. By setting it as said range, the light transmittance of 400 nm-500 nm can be suppressed, and color purity can be improved. Moreover, color reproducibility becomes favorable. Especially as said mass ratio, the range of 100: 10-100: 30 is optimal. Moreover, in the case of the combination of red pigments, it can adjust to chromaticity.
또한 녹색의 안료로서는 할로겐화 프탈로시아닌계 안료를 단독으로 또는 이것과 디스아조계 황색안료, 퀴노프탈론계 황색안료, 아조메틴계 황색안료 또는 이소인도린계 황색안료의 혼합을 사용할 수 있다. 예를 들면 이러한 예로서는, C.I.피그먼트그린7, 36, 37과 C.I.피그먼트옐로83, C.I.피그먼트옐로138, C.I.피그먼트옐로139, C.I.피그먼트옐로150, C.I.피그먼트옐로180 또는 C.I.피그먼트옐로185의 혼합이 바람직하다. 녹색안료와 황색안료의 질량비는 100:5∼100:150이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 100:30∼100:120의 범위이다. 상기 범위로 함으로써 파장 400㎚∼450㎚의 광투과율을 억제하기 쉽고, 색순도를 높이기 쉽고, NTSC 목표색상으로부터의 어긋남을 작게 하기 쉽다.As the green pigment, a halogenated phthalocyanine pigment alone or a mixture of this and a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment or an isoindolin yellow pigment can be used. For example, CI Pigment Green 7, 36, 37 and CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 180 or CI Pigment Yellow Mixing of 185 is preferred. The mass ratio of green pigment and yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 150. More preferably, it is the range of 100: 30-100: 120. By setting it as the said range, it is easy to suppress the light transmittance of wavelength 400nm-450nm, it is easy to raise color purity, and it is easy to make the deviation from NTSC target color small.
청색안료로서는 프탈로시아닌계 안료를 단독으로, 혹은 이것과 디옥사딘계 보라색안료의 혼합을 사용할 수 있다. 예를 들면 C.I.피그먼트블루15:6과 C.I.피그먼트바이올렛23의 혼합이 바람직하다. 청색안료와 보라색안료의 질량비는 100:0∼100:30이 바람직하고, 보다 바람직하게는 100:10이하이다.As the blue pigment, a phthalocyanine pigment alone or a mixture of this and a dioxadine violet pigment can be used. For example, a mixture of C.I. Pigment Blue 15: 6 and C.I.Pigment Violet 23 is preferable. As for mass ratio of a blue pigment and a purple pigment, 100: 0-100: 30 are preferable, More preferably, it is 100: 10 or less.
또한 블랙 매트릭스용의 안료로서는 카본, 티타늄블랙, 산화철, 산화티탄 단독 또는 혼합이 이용된다.As the pigment for the black matrix, carbon, titanium black, iron oxide, titanium oxide alone or mixed is used.
본 발명에 있어서, 착색제가 염료인 경우에는 조성물중에 균일하게 용해되어 경화성 조성물을 얻을 수 있다.In the present invention, when the colorant is a dye, it is uniformly dissolved in the composition to obtain a curable composition.
본 발명의 경화성 조성물에 함유되는 착색제로서 사용할 수 있는 염료는 특별히 제한은 없고, 종래 컬러필터용으로서 공지의 염료를 사용할 수 있다. 예를 들면 일본 특허공개 소64-90403호 공보, 일본 특허공개 소64-91102호 공보, 일본 특허공개 평1-94301호 공보, 일본 특허공개 평6-11614호 공보, 일본 특허 등록 2592207호, 미국특허 제4,808,501호 명세서, 미국특허 제5,667,920호 명세서, 미국특허 제5,059,500호 명세서, 일본 특허공개 평5-333207호 공보, 일본 특허공개 평6-35183호 공보, 일본 특허공개 평6-51115호 공보, 일본 특허공개 평6-194828호 공보, 일본 특허공개 평8-211599호 공보, 일본 특허공개 평4-249549호 공보, 일본 특허공개 평10-123316호 공보, 일본 특허공개 평11-302283호 공보, 일본 특허공개 평7-286107호 공보, 일본 특허공개 2001-4823호 공보, 일본 특허공개 평8-15522호 공보, 일본 특허공개 평8-29771호 공보, 일본 특허공개 평8-146215호 공보, 일본 특허공개 평11-343437호 공보, 일본 특허공개 평8-62416호 공보, 일본 특허공개 2002-14220호 공보, 일본 특허공개 2002-14221호 공보, 일본 특허공개 2002-14222호 공보, 일본 특허공개 2002-14223호 공보, 일본 특허공개 평8-302224호 공보, 일본 특허공개 평8-73758호 공보, 일본 특허공개 평8-179120호 공보, 일본 특허공개 평8-151531호 공보 등에 개시되어 있는 색소를 사용할 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as dye which can be used as a coloring agent contained in the curable composition of this invention, A well-known dye can be used as a conventional color filter use. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 64-90403, Japanese Patent Laid-Open No. 64-91102, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 1-94301, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-11614, Japanese Patent Registration 2592207, United States Patent 4,808,501, US 5,667,920, US 5,059,500, Japanese Patent Laid-Open No. 5-333207, Japanese Patent Laid-Open No. 6-35183, Japanese Patent Laid-Open No. 6-51115, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-194828, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 8-211599, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 4-249549, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 10-123316, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 11-302283, Japanese Patent Laid-Open No. 7-286107, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-4823, Japanese Patent Laid-Open No. 8-15522, Japanese Patent Laid-Open No. 8-29771, Japanese Patent Laid-Open No. 8-146215, Japan Japanese Patent Laid-Open No. 11-343437, Japanese Patent Laid-Open No. 8-62416, Japanese Patent Laid-Open 20 02-14220, Japanese Patent Publication 2002-14221, Japanese Patent Publication 2002-14222, Japanese Patent Publication 2002-14223, Japanese Patent Publication No. 8-302224, Japanese Patent Publication No. 8-73758 The pigment | dye disclosed in Unexamined-Japanese-Patent No. 8-179120, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-151531, etc. can be used.
화학구조로서는, 피라졸아조계, 아닐리노아조계, 트리페닐메탄계, 안트라퀴논계, 안스라피리돈계, 벤질리덴계, 옥소놀계, 피라졸로트리아졸아조계, 피리돈아조계, 시아닌계, 페노티아진계, 피롤로피라졸아조메틴계, 크산텐계, 프탈로시아닌계, 벤조피란계, 인디고계 등의 염료를 사용할 수 있다.Examples of the chemical structure include pyrazole azo, anilinoazo, triphenylmethane, anthraquinone, anthrapyridone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, Dyestuffs, such as a pyrrolopyrazole azomethine series, a xanthene series, a phthalocyanine series, a benzopyran series, an indigo series, can be used.
또한, 물 또는 알칼리 현상을 행하는 레지스트계의 경우, 현상에 의해 광 미조사부의 바인더 및/또는 염료를 완전히 제거한다는 관점에서는 산성염료 및/또는 그 유도체를 바람직하게 사용할 수 있는 경우가 있다.Moreover, in the case of the resist system which performs water or alkali image development, an acidic dye and / or its derivative can be used preferably from a viewpoint of completely removing the binder and / or dye of a non-irradiated part by image development.
기타, 직접염료, 알칼리성 염료, 매염염료, 산성 매염염료, 아조익염료, 분산염료, 유용(油溶)염료, 식품염료 및/또는 이들의 유도체 등도 유용하게 사용할 수 있다.In addition, direct dyes, alkaline dyes, mordant dyes, acid mordant dyes, azoic dyes, disperse dyes, useful dyes, food dyes and / or derivatives thereof, and the like can also be usefully used.
산성염료는 술폰산이나 카르복실산 등의 산성기를 갖는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 유기용제나 현상액에 대한 용해성, 염기성 화합물과의 염형성성, 흡광도, 조성물중의 다른 성분과의 상호작용, 내광성, 내열성 등의 필요로 되는 성능 전체를 고려해서 선택된다.The acid dye is not particularly limited as long as it has an acid group such as sulfonic acid or carboxylic acid, but it is not particularly limited, solubility in organic solvents and developer, salt formation with basic compounds, absorbance, interaction with other components in the composition, light resistance and heat resistance. The overall performance is selected in consideration of the required performance.
이하에 산성염료의 구체예를 들지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면,Although the specific example of an acid dye is given to the following, it is not limited to these. For example,
acid alizarin violet N;acid black 1,2,24,48; acid blue 1,7,9,15,18,23,25,27,29,40,45,62,70,74,80,83,86,87,90,92,103,112,113,120,129,138,147,158,171,182,192,243,324:1; acid chrome violet K;acid Fuchsin;acid green 1,3,5,9,16,25,27,50;acid orange 6,7,8,10,12,50,51,52,56,63,74,95;acid red1,4,8,14,17,18,26,27,29,31,34,35,37,42,44,50,51,52,57,66,73,80,87,88,91,92,94,97,103,111,114,129,133,134,138,143,145,150,151,158,176,183,198,211,215,216,217,249,252,257,260,266,274;acid violet 6B,7,9,17,19;acid yellow 1,3,7,9,11,17,23,25,29,34,36,42,54,72,73,76,79,98,99,111,112,114,116,184,243 ;Food Yellow 3; 및 이들 염료의 유도체를 들 수 있다.acid alizarin violet N; acid black 1,2,24,48; acid blue 1,7,9,15,18,23,25,27,29,40,45,62,70,74,80,83,86,87,90,92,103,112,113,120,129,138,147,158,171,182,192,243,324: 1; acid chrome violet K; acid Fuchsin; acid green 1,3,5,9,16,25,27,50; acid orange 6,7,8,10,12,50,51,52,56,63,74, 95; acid red 1,4,8,14,17,18,26,27,29,31,34,35,37,42,44,50,51,52,57,66,73,80,87,88 , 91,92,94,97,103,111,114,129,133,134,138,143,145,150,151,158,176,183,198,211,215,216,217,249,252,257,260,266,274; acid violet 6B, 7,9,17,19; acid yellow 1,3,7,9,11,17,23,25,42,54 , 73,76,79,98,99,111,112,114,116,184,243; Food Yellow 3; and derivatives of these dyes.
이 중에서도 산성염료로서는 acid black 24; acid blue 23,25,29,62,80,86,87,92,138,158,182,243,324:1;acid orange 8,51,56,63,74; acid red 1,4,8,34,37,42,52,57,80,97,114,143,145,151,183,217; acid violet 7; acid yellow 17,25,29,34,42,72,76,99,111,112,114,116,184,243; acid green 25 등의 염료 및 이들 염료의 유도체가 바람직하다.Among these, acid dyes include acid black 24; acid blue 23,25,29,62,80,86,87,92,138,158,182,243,324: 1; acid orange 8,51,56,63,74; acid red 1,4,8,34,37,42,52,57,80,97,114,143,145,151,183,217; acid violet 7; acid yellow 17,25,29,34,42,72,76,99,111,112,114,116,184,243; Dyes such as acid green 25 and derivatives of these dyes are preferred.
또한 상기 이외의 아조계, 크산텐계, 프탈로시아닌계의 산성염료도 바람직하고, C.I.Solvent Blue 44,38; C.I.Solvent orange 45; Rhodamin B, Rhodamin 110 등의 산성염료 및 이들 염료의 유도체도 바람직하게 사용된다.Azo-based, xanthene-based, and phthalocyanine-based acid dyes other than those described above are also preferable, and C.I. Solvent Blue 44,38; C.I. Solvent orange 45; Acid dyes such as Rhodamin B and Rhodamin 110 and derivatives of these dyes are also preferably used.
그 중에서도, 착색제로서는 트리알릴메탄계, 안트라퀴논계, 아조메틴계, 벤질리덴계, 옥소놀계, 시아닌계, 페노티아진계, 피롤로피라졸아조메틴계, 크산텐계, 프탈로시아닌계, 벤조피란계, 인디고계, 피라졸아조계, 아닐리노아조계, 피라졸로트리아졸아조계, 피리돈아조계, 안스라피리돈계로부터 선택되는 착색제인 것이 바람직하다.Especially, as a coloring agent, triallyl methane type, anthraquinone type, azomethine type, benzylidene type, oxonol type, cyanine type, phenothiazine type, pyrrolopyrazole azomethine type, xanthene type, phthalocyanine type, benzopyran type, It is preferable that it is a coloring agent chosen from an indigo system, a pyrazole azo system, an anilino azo system, a pyrazolotriazole azo system, a pyridone azo system, and an anthrapyridone system.
본 발명에 있어서 사용할 수 있는 착색제는 염료, 혹은, 평균 입경(r)(단위 ㎚)은 20≤r≤300, 바람직하게는 25≤r≤250, 특히 바람직하게는 30≤r≤200을 충족시키는 안료가 바람직하다. 이러한 평균 입경(r)의 안료를 사용함으로써, 고콘트라스트비이며, 또한 높은 광투과율의 착색 화소를 얻을 수 있다. 여기에서 말하는 「평균 입경」이란 안료의 1차입자(단미결정)가 집합된 2차입자에 대한 평균 입경을 의미한다. The colorant that can be used in the present invention is a dye, or the average particle diameter (r) (unit nm) is 20≤r≤300, preferably 25≤r≤250, particularly preferably 30≤r≤200 Pigments are preferred. By using the pigment of such average particle diameter r, the coloring pixel of high contrast ratio and high light transmittance can be obtained. The "average particle diameter" here means the average particle diameter with respect to the secondary particle which the primary particle (single microcrystal) of a pigment aggregated.
또한 본 발명에 있어서 사용할 수 있는 안료의 2차입자의 입경분포(이하, 간단히 「입경분포」라고 한다.)는 (평균 입경±100)㎚에 들어가는 2차입자가 전체의 70질량%이상, 바람직하게는 80질량%이상인 것이 바람직하다.The particle size distribution of the secondary particles of the pigment which can be used in the present invention (hereinafter, simply referred to as "particle size distribution") is 70% by mass or more of the total secondary particles having an average particle diameter of ± 100 nm. It is preferable that it is 80 mass% or more.
상기한 평균 입경 및 입경분포를 갖는 안료는 시판의 안료를, 경우에 따라 사용되는 다른 안료(평균 입경은 통상, 300㎚를 초과한다.)와 함께 바람직하게는 분산제 및 용매와 혼합한 안료 혼합액으로서, 예를 들면 비드밀, 롤밀 등의 분쇄기를 이용하여 분쇄하면서 혼합·분산시킴으로써 조제할 수 있다. 이렇게 하여 얻어지는 안료는, 통상, 안료 분산액의 형태를 취한다.The pigment having the above average particle diameter and particle size distribution is preferably a pigment mixture mixed with commercially available pigments, with other pigments used in some cases (average particle diameters usually exceed 300 nm), preferably with a dispersant and a solvent. For example, it can prepare by mixing and disperse | distributing, grind | pulverizing using grinders, such as a bead mill and a roll mill. The pigment obtained in this way usually takes the form of a pigment dispersion liquid.
본 발명의 경화성 조성물에 함유되는 착색제의 함유량으로서는 경화성 조성물의 전고형분중 35∼70질량%인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 35∼60질량%이며, 40∼60질량%가 특히 바람직하다.As content of the coloring agent contained in the curable composition of this invention, it is preferable that it is 35-70 mass% in the total solid of a curable composition. More preferably, it is 35-60 mass%, and 40-60 mass% is especially preferable.
상기 범위로 함으로써 적당한 색도가 얻어지기 쉽고, 광경화가 진행되어 막강도나 알칼리 현상 래티튜드가 넓어지기 쉽다.By setting it as the said range, moderate chromaticity is easy to be obtained, photocuring advances, and film intensity | strength and alkali image development latitude tend to become wide.
<(d)알칼리 가용성 수지><(d) alkali-soluble resin>
본 발명에 있어서의 경화성 조성물은 알칼리 가용성 수지 (이하, 「본 발명에 따른 바인더」라고도 함)의 적어도 1종을 함유한다. 본 발명에 따른 바인더로서는 알칼리 가용성이면 특별히 한정되지 않지만, 내열성, 현상성, 입수성 등의 관점으로부터 선택되는 것이 바람직하다.The curable composition in this invention contains at least 1 sort (s) of alkali-soluble resin (henceforth a "binder concerning this invention"). Although it will not specifically limit, if it is alkali-soluble as a binder which concerns on this invention, What is chosen from a viewpoint of heat resistance, developability, water availability, etc. is preferable.
알칼리 가용성의 바인더로서는, 선상 유기 폴리머이며, 유기용제에 가용성이며, 약 알카리 수용액으로 현상할 수 있는 것이 바람직하다.The alkali-soluble binder is preferably a linear organic polymer, soluble in an organic solvent, and capable of being developed with a weak alkaline aqueous solution.
이러한 「선상 유기 폴리머」로서는 공지의 것을 임의로 사용할 수 있다. 바람직하게는 물현상 혹은 약알카리수 현상을 가능하게 하기 위해서 물 혹은 약알카리수에 가용성 또는 팽윤성인 선상 유기 폴리머가 선택된다. 선상 유기 폴리머는 피막 형성제로서 뿐만 아니라, 물, 약알카리수 혹은 유기용제 현상제로서의 용도에 따라 선택 사용된다.As such a "linear organic polymer", a well-known thing can be used arbitrarily. Preferably, a linear organic polymer is selected that is soluble or swellable in water or weakly alkaline water in order to enable water development or weakly alkaline water development. The linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent but also as a water, weak alkaline water or an organic solvent developer.
예를 들면 물가용성 유기 폴리머를 사용하면 물현상이 가능하게 된다. 이러한 선상 유기 폴리머로서는 측쇄에 카르복실산기를 갖는 라디칼 중합체, 예를 들면 일본 특허공개 소59-44615호, 일본 특허공고 소54-34327호, 일본 특허공고 소58-12577호, 일본 특허공고 소54-25957호, 일본 특허공개 소54-92723호, 일본 특허공개 소59-53836호, 일본 특허공개 소59-71048호에 기재되어 있는 것, 즉, 카르복실기를 갖는 모노머를 단독 혹은 공중합시킨 수지, 산무수물을 갖는 모노머를 단독 혹은 공중합시켜 산무수물 유닛을 가수분해 혹은 하프 에스테르화 혹은 하프 아미드화시킨 수지, 에폭시수지를 불포화 모노 카르복실산 및 산무수물로 변성시킨 에폭시아크릴레이트 등을 들 수 있다. 카르복실기를 갖는 모노머로서는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 말레인산, 푸말산, 4-카르복실스티렌 등을 들 수 있고, 산무수물을 갖는 모노머로서는 무수 말레인산 등을 들 수 있다.For example, the use of water-soluble organic polymers makes water development possible. As such linear organic polymers, radical polymers having a carboxylic acid group in the side chain, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-44615, Japanese Patent Publication No. 54-34327, Japanese Patent Publication No. 58-12577, and Japanese Patent Publication No. 54 -25957, Japanese Patent Laid-Open No. 54-92723, Japanese Patent Laid-Open No. 59-53836, Japanese Patent Laid-Open No. 59-71048, that is, a resin or acid copolymerized with a monomer having a carboxyl group alone or in an acid; And resins obtained by hydrolyzing, half esterifying or half amidating an acid anhydride unit by singly or copolymerizing monomers having anhydrides, and epoxy acrylates modified with epoxy resins with unsaturated monocarboxylic acids and acid anhydrides. Examples of the monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, and 4-carboxystyrene. Examples of the monomer having an acid anhydride include maleic anhydride and the like.
또 마찬가지로 측쇄에 카르복실산기를 갖는 산성 셀룰로오스 유도체가 있다. 이 밖에 수산기를 갖는 중합체에 환상 산무수물을 부가시킨 것 등이 유용하다.Similarly, there are acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, what added the cyclic acid anhydride to the polymer which has a hydroxyl group is useful.
알칼리 가용성 수지를 공중합체로서 사용하는 경우, 공중합시키는 화합물로서 앞서 열거한 모노머 이외의 다른 모노머를 사용할 수도 있다. 다른 모노머의 예 로서는 하기 (1)∼(12)의 화합물을 들 수 있다.When using alkali-soluble resin as a copolymer, you may use other monomers other than the monomer mentioned above as a compound to copolymerize. As an example of another monomer, the compound of following (1)-(12) is mentioned.
(1)2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트 등의 지방족 수산기를 갖는 아크릴산 에스테르류 및 메타크릴산 에스테르류.(1) 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl meth Acrylic esters and methacrylic acid esters which have aliphatic hydroxyl groups, such as a acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, and 4-hydroxybutyl methacrylate.
(2)아크릴산 메틸, 아크릴산 에틸, 아크릴산 프로필, 아크릴산 부틸, 아크릴산 이소부틸, 아크릴산 아밀, 아크릴산 헥실, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산 옥틸, 아크릴산 벤질, 아크릴산-2-클로로에틸, 글리시딜아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트, 비닐아크릴레이트, 2-페닐비닐아크릴레이트, 1-프로페닐아크릴레이트, 아릴아크릴레이트, 2-아릴옥시에틸아크릴레이트, 프로파르길아크릴레이트 등의 알킬아크릴레이트.(2) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, Alkyl acryls, such as 3, 4- epoxycyclohexyl methyl acrylate, a vinyl acrylate, 2-phenyl vinyl acrylate, 1-propenyl acrylate, an aryl acrylate, 2-aryloxy ethyl acrylate, and propargyl acrylate Rate.
(3)메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 프로필, 메타크릴산 부틸, 메타크릴산 이소부틸, 메타크릴산 아밀, 메타크릴산 헥실, 메타크릴산 2-에틸헥실, 메타크릴산 시클로헥실, 메타크릴산 벤질, 메타크릴산-2-클로로에틸, 글리시딜메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트, 비닐메타크릴레이트, 2-페닐비닐메타크릴레이트, 1-프로페닐메타크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 2-아릴옥시에틸메타크릴레이트, 프로파르길메타크릴레이트 등의 알킬메타크릴레이트.(3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, methacrylic acid Cyclohexyl, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, vinyl methacrylate, 2-phenylvinyl methacrylate, 1 Alkyl methacrylates such as propenyl methacrylate, allyl methacrylate, 2-aryloxyethyl methacrylate and propargyl methacrylate.
(4)아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-메티롤아크릴아미드, N-에틸아크릴아미드, N-헥실메타크릴아미드, N-시클로헥실아크릴아미드, N-히드록시에틸아크릴아미 드, N-페닐아크릴아미드, N-니트로페닐아크릴아미드, N-에틸-N-페닐아크릴아미드, 비닐아크릴아미드, 비닐메타크릴아미드, N,N-디알릴아크릴아미드, N,N-디알릴메타크릴아미드, 알릴아크릴아미드, 알릴메타크릴아미드 등의 아크릴아미드 또는 메타크릴아미드.(4) acrylamide, methacrylamide, N-metholacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acryl Amide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl-N-phenyl acrylamide, vinyl acrylamide, vinyl methacrylamide, N, N- diallyl acrylamide, N, N- diallyl methacrylamide, allyl acrylamide Acrylamide or methacrylamide, such as allyl methacrylamide.
(5)에틸비닐에테르, 2-클로로에틸비닐에테르, 히드록시에틸비닐에테르, 프로필비닐에테르, 부틸비닐에테르, 옥틸비닐에테르, 페닐비닐에테르 등의 비닐에테르류.(5) Vinyl ethers, such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(6)비닐아세테이트, 비닐클로로아세테이트, 비닐부틸레이트, 안식향산 비닐 등의 비닐에스테르류.(6) Vinyl esters, such as vinyl acetate, vinyl chloro acetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate.
(7)스티렌, α-메틸스티렌, 메틸스티렌, 클로로메틸스티렌, p-아세톡시스티렌 등의 스티렌류.(7) Styrene, such as styrene, (alpha) -methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, and p-acetoxy styrene.
(8)메틸비닐케톤, 에틸비닐케톤, 프로필비닐케톤, 페닐비닐페톤 등의 비닐케톤류.(8) Vinyl ketones, such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl petone.
(9)에틸렌, 프로필렌, 이소부틸렌, 부타디엔, 이소프렌 등의 올레핀류.(9) Olefins, such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene.
(10)N-비닐피롤리돈, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등.(10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(11)말레이미드, N-아크릴로일아크릴아미드, N-아세틸메타크릴아미드, N-프로피오닐메타크릴아미드, N-(p-클로로벤조일)메타크릴아미드 등의 불포화 이미드.(11) Unsaturated imides, such as maleimide, N-acryloyl acrylamide, N-acetyl methacrylamide, N-propionyl methacrylamide, and N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(12)α위치에 헤테로원자가 결합된 메타크릴산계 모노머. 예를 들면 일본 특허출원 2001-115595호 명세서, 일본 특허출원 2001-115598호 명세서 등에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.(12) A methacrylic acid monomer having a hetero atom bonded to an α position. For example, the compound described in JP 2001-115595 specification, JP 2001-115598 specification, etc. are mentioned.
이들 중에서, 측쇄에 알릴기나 비닐에스테르기와 카르복실기를 갖는 (메타)아크릴수지 및 일본 특허공개 2000-187322호 공보, 일본 특허공개 2002-62698호 공보에 기재되어 있는 측쇄에 이중결합을 갖는 알칼리 가용성 수지나, 일본 특허공개 2001-242612호 공보에 기재되어 있는 측쇄에 아미드기를 갖는 알칼리 가용성 수지가 막강도, 감도, 현상성의 밸런스가 우수하여 바람직하다.Among these, alkali-soluble resins having double bonds in the side chains described in (meth) acrylic resins having allyl groups, vinyl ester groups and carboxyl groups in the side chains and Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2000-187322 and 2002-62698; Alkali-soluble resin which has an amide group in the side chain described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-242612 is preferable because it is excellent in the balance of film strength, a sensitivity, and developability.
또한 일본 특허공고 평7-12004호, 일본 특허공고 평7-120041호, 일본 특허공고 평7-120042호, 일본 특허공고 평8-12424호, 일본 특허공개 소63-287944호, 일본 특허공개 소63-287947호, 일본 특허공개 평1-271741호, 일본 특허출원 평10-116232호 등에 기재되는 산기를 함유하는 우레탄계 바인더 폴리머나, 일본 특허공개 2002-107918에 기재되는 산기와 이중결합을 측쇄에 갖는 우레탄계 바인더 폴리머는 매우 강도가 우수하므로, 내쇄성·저노광 적성의 점에서 유리하다.Japanese Patent Publication No. 7-12004, Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Publication No. 63-287944, Japanese Patent Publication Urethane-based binder polymers containing acid groups described in 63-287947, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 1-271741, Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 10-116232, and the acid groups and double bonds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107918. Since the urethane type binder polymer which has is very excellent in strength, it is advantageous at the point of chain resistance and low exposure aptitude.
또한 유럽특허 993966, 유럽특허 1204000, 일본 특허공개 2001-318463 등에 기재된 산기를 갖는 아세탈 변성 폴리비닐알콜계 바인더 폴리머는 막강도, 현상성의 밸런스가 우수하여 바람직하다.In addition, an acetal modified polyvinyl alcohol-based binder polymer having an acid group described in European Patent 993966, European Patent 1204000, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-318463, etc. is preferable because of excellent balance between film strength and developability.
또한 이밖에 수용성 선상 유기 폴리머로서 폴리비닐피롤리돈이나 폴리에틸렌옥사이드 등이 유용하다. 또 경화 피막의 강도를 높이기 위해서 알콜 가용성 나일론이나 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판과 에피크롤로히드린의 폴리에테르 등도 유용하다.Moreover, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, etc. are useful as water-soluble linear organic polymer. Moreover, in order to raise the intensity | strength of a hardened film, alcohol-soluble nylon, the polyether of 2, 2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane, and epichlorohydrin is also useful.
본 발명에서 사용할 수 있는 알칼리 가용성 수지는 종래 공지의 방법에 의해 합성할 수 있다. 합성할 때에 이용되는 용매로서는 예를 들면 테트라히드로푸란, 에틸렌디크롤리드, 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 2-메톡시에틸아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 1-메톡시-2-프로판올, 1-메톡시-2-프로필아세테이트, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 톨루엔, 초산 에틸, 유산 메틸, 유산 에틸, 디메틸술폭시드, 물 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2종이상 혼합해서 사용된다.Alkali-soluble resin which can be used by this invention can be synthesize | combined by a conventionally well-known method. As a solvent used at the time of synthesis, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichromide, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl Acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate And ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvent are used individually or in mixture of 2 or more types.
본 발명에 있어서 사용할 수 있는 알칼리 가용성 수지를 합성할 때에 사용되는 라디칼 중합개시제로서는 아조계 개시제, 과산화물 개시제 등 공지의 화합물을 들 수 있다.As a radical polymerization initiator used when synthesize | combining alkali-soluble resin which can be used in this invention, well-known compounds, such as an azo initiator and a peroxide initiator, are mentioned.
상기 각종의 알칼리 가용성 수지 중 아크릴계 수지가 바람직하고, 상기 아크릴계 수지로서는 벤질(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴아미드 등으로부터 선택되는 모노머로 이루어지는 공중합체 및 KS레지스트-106(오사카 유키 카가쿠 고교(주)제), 사이크로마 P시리즈(다이셀 카가쿠 고교(주)제) 등이 바람직하다.Among the various alkali-soluble resins, an acrylic resin is preferable, and the acrylic resin is composed of a monomer selected from benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, and the like. Copolymer, KS resist-106 (manufactured by Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), cyclochrom P series (manufactured by Daicel Kagaku Kogyo Co., Ltd.), and the like are preferable.
상기 알칼리 가용성 수지는 중량 평균 분자량(GPC법으로 측정된 폴리스티렌 환산값)이 1000∼2×105의 중합체가 바람직하고, 2000∼1×105의 중합체가 더욱 바람직하고, 5000∼5×104의 중합체가 특히 바람직하다.The alkali-soluble resin preferably has a polymer having a weight average molecular weight (polystyrene equivalent value measured by the GPC method) of 1000 to 2 × 10 5 , more preferably 2000 to 1 × 10 5 , more preferably 5000 to 5 × 10 4 Polymers of are particularly preferred.
또한 이들 알칼리 가용성 수지는 랜덤 폴리머, 블록 폴리머, 그래프트 폴리머 등 어느 것이라도 좋다.These alkali-soluble resins may be any of random polymers, block polymers and graft polymers.
상기 알칼리 가용성 수지의 경화성 조성물중에 있어서의 함유량으로서는 상기 조성물의 전고형분에 대해서 1∼30질량%가 바람직하고, 1∼20질량%가 보다 바람직하고, 1∼10질량%가 특히 바람직하다.As content in the curable composition of the said alkali-soluble resin, 1-30 mass% is preferable with respect to the total solid of the said composition, 1-20 mass% is more preferable, 1-10 mass% is especially preferable.
본 발명의 경화성 조성물은 상기한 (a)∼(d)성분과 함께 필요에 따라 이하에 상세하게 설명하는 임의성분을 더 함유해도 좋다. 이하, 본 발명의 경화성 조성물이 함유할 수 있는 임의성분에 대해서 설명한다.The curable composition of this invention may further contain the optional component demonstrated in detail below as needed with the above-mentioned (a)-(d) component. Hereinafter, the arbitrary components which the curable composition of this invention can contain are demonstrated.
<용제><Solvent>
본 발명의 경화성 조성물은 적어도 1종류의 용제를 함유할 수 있다.The curable composition of this invention can contain at least 1 type of solvent.
구체적으로는 상기 용제는 글리콜에테르계 용제, 알콜계 용제, 에스테르계 용제, 케톤계 용제, 아미드계 용제 및 염소 함유 용제로부터 선택되는 것이 바람직하다.Specifically, the solvent is preferably selected from a glycol ether solvent, an alcohol solvent, an ester solvent, a ketone solvent, an amide solvent, and a chlorine-containing solvent.
상기 글리콜 에테르계 용제로서는 에틸셀로솔브(에틸렌글리콜모노에틸에테르), 메틸셀로솔브(에틸렌글리콜모노메틸에테르), 부틸셀로솔브(에틸렌글리콜모노부틸에테르), 메틸메톡시부탄올(3-메틸-3-메톡시부탄올), 부틸카르비톨(디에틸렌글리콜모노부틸에테르), 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-t-부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(1-메톡시-2-프로판올), 프로필렌글리콜모노에틸에테르(1-에톡시-2-프로판올), 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등이 바람직하다.Examples of the glycol ether solvents include ethyl cellosolve (ethylene glycol monoethyl ether), methyl cellosolve (ethylene glycol monomethyl ether), butyl cellosolve (ethylene glycol monobutyl ether), and methyl methoxybutanol (3-methyl -3-methoxybutanol), butyl carbitol (diethylene glycol monobutyl ether), ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-t-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether (1 -Methoxy-2-propanol), propylene glycol monoethyl ether (1-ethoxy-2-propanol), propylene glycol monoethyl ether acetate, etc. are preferable.
상기 알콜계 용제로서는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 노말프로필알콜, 이소부틸알콜, 노말부틸알콜 등이 바람직하다.As said alcohol solvent, methanol, ethanol, isopropanol, normal propyl alcohol, isobutyl alcohol, normal butyl alcohol, etc. are preferable.
상기 에스테르계 용제로서는 초산 에틸, 초산 노말부틸, 초산 이소부틸, 초산 셀로솔브(에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트), 초산 메톡시부틸(3-메톡시부틸아세테이트), 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-에톡시프로피온산 에틸(EEP), 유산 에스테르(예를 들면 유산 메틸, 유산 에틸, 유산 프로필, 유산 부틸 등)가 바람직하다.Examples of the ester solvents include ethyl acetate, normal butyl acetate, isobutyl acetate, cellosolve acetate (ethylene glycol monomethyl ether acetate), methoxybutyl acetate (3-methoxybutyl acetate), and 3-methyl-3-methoxybutyl Preference is given to acetates, 3-ethoxypropionate (EEP), lactic acid esters (e.g. methyl lactate, ethyl lactate, propyl lactate, butyl lactate, and the like).
상기 케톤계 용제로서는 2-부타논(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK), 시클로헥사논, 시클로펜타논, 아세톤, 디아세톤알콜(4-히드록시-4-메틸-2-펜타논), 이소포론(3,5,5-트리메틸-2-시클로헥센-1-온), 디이소부틸케톤(2,6-디메틸-4-헵타논) 등이 바람직하다.As said ketone solvent, 2-butanone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone, cyclopentanone, acetone, diacetone alcohol (4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone), Isophorone (3,5,5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one), diisobutyl ketone (2,6-dimethyl-4-heptanone) and the like are preferable.
상기 아미드계 용제로서는 디메틸포름아미드(DMF), N-메틸피롤리돈(4-메틸아미노락탐 또는 NMP) 등이 바람직하다.As the amide solvent, dimethylformamide (DMF), N-methylpyrrolidone (4-methylaminolactam or NMP) and the like are preferable.
상기 염소함유 용제로서는 1,1,1-트리클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 퍼클로로에틸렌, 염화 메틸렌, 사염화탄소, 클로로포름, 디클로로에탄, 디클로로벤젠 등이 바람직하다.As the chlorine-containing solvent, 1,1,1-trichloroethane, trichloroethylene, perchloroethylene, methylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, dichloroethane, dichlorobenzene and the like are preferable.
본 발명에 있어서의 용제의 경화성 조성물중에 있어서의 함유량으로서는 상기 경화성 조성물에 대해서 15∼60질량%가 바람직하고, 20∼50질량%가 보다 바람직하고, 30∼40질량%가 특히 바람직하다. 상기 함유량이 상기 범위내이면 조성물중의 착색제의 용해성, 용해후의 보존시에 있어서의 경시 안정성을 효과적으로 향상시킬 수 있다.As content in the curable composition of the solvent in this invention, 15-60 mass% is preferable with respect to the said curable composition, 20-50 mass% is more preferable, 30-40 mass% is especially preferable. When the said content is in the said range, the solubility of the coloring agent in a composition, and stability with time at the time of storage after melt | dissolution can be improved effectively.
상기 용제중에서도, 에틸셀로솔브(에틸렌글리콜모노에틸에테르), 메틸셀로솔 브(에틸렌글리콜모노메틸에테르), 부틸셀로솔브(에틸렌글리콜모노부틸에테르), 메틸메톡시부탄올(3-메틸-3-메톡시부탄올)), 부틸카르비톨(디에틸렌글리콜모노부틸에테르), 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-t-부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(1-메톡시-2-프로판올), 프로필렌글리콜모노에틸에테르(1-에톡시-2-프로판올), 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트,Among the above solvents, ethyl cellosolve (ethylene glycol monoethyl ether), methyl cellosolve (ethylene glycol monomethyl ether), butyl cellosolve (ethylene glycol monobutyl ether), methylmethoxybutanol (3-methyl- 3-methoxybutanol)), butyl carbitol (diethylene glycol monobutyl ether), ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-t-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether (1 -Methoxy-2-propanol), propylene glycol monoethyl ether (1-ethoxy-2-propanol), propylene glycol monoethyl ether acetate,
초산 에틸, 초산 노말부틸, 초산 이소부틸, 초산 셀로솔브(에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트), 초산 메톡시부틸(3-메톡시부틸아세테이트), 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-에톡시프로피온산 에틸(EEP), 유산 메틸, 유산 에틸, 유산 프로필, 유산 부틸, Ethyl acetate, normal butyl acetate, isobutyl acetate, cellosolve acetate (ethylene glycol monomethyl ether acetate), methoxybutyl acetate (3-methoxybutyl acetate), 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-e Ethyl oxypropionate (EEP), methyl lactate, ethyl lactate, propyl lactate, butyl lactate,
2-부타논(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK), 시클로헥사논, 시클로펜타논, 디아세톤알콜(4-히드록시-4-메틸-2-펜타논), 이소포론(3,5,5-트리메틸-2-시클로헥센-1-온), 디이소부틸케톤(2,6-디메틸-4-헵타논),2-butanone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone, cyclopentanone, diacetone alcohol (4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone), isophorone (3,5, 5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one), diisobutyl ketone (2,6-dimethyl-4-heptanone),
N-메틸피롤리돈(4-메틸아미노락탐 또는 NMP),N-methylpyrrolidone (4-methylaminolactam or NMP),
메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 노말프로필알콜, 이소부틸알콜, 노말부틸알콜 등이 바람직하다.Preferred are methanol, ethanol, isopropanol, normal propyl alcohol, isobutyl alcohol, normal butyl alcohol and the like.
또한 본 발명의 경화성 조성물에 있어서는 상기 용제를 단독으로 또는 2종이상을 조합해서 사용할 수 있다.Moreover, in the curable composition of this invention, the said solvent can be used individually or in combination of 2 or more types.
또한, 본 발명의 경화성 조성물의 조제시에는 상기에 열거한 용제 이외의 다른 용제를 병용해도 좋다. 상기 다른 용제는 각 성분의 용해성이나 경화성 조성물 의 도포성을 만족시키면 기본적으로 특별히 한정되지 않지만, 특히 착색제, 바인더의 용해성, 도포성, 안전성을 고려해서 선택되는 것이 바람직하다.In addition, when preparing the curable composition of this invention, you may use together solvents other than the solvent enumerated above. Although the said other solvent will not be specifically limited if it satisfies the solubility of each component and the applicability | paintability of curable composition, It is preferable to select especially in consideration of the solubility, coating property, and safety of a coloring agent and a binder.
상기 다른 용제로서는 상기에 예시한 이외의 에스테르류, 예를 들면 개미산 아밀, 초산 이소아밀, 프로피온산 부틸, 낙산 이소프로필, 낙산 에틸, 낙산 부틸, 알킬에스테르류, 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸, 메톡시 초산 메틸, 메톡시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸,등;Examples of the other solvents include esters other than those exemplified above, for example amyl formic acid, isoamyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl oxy acetate, ethyl oxy acetate, oxy acetate Butyl, methoxy methyl acetate, methoxy ethyl acetate, methoxy butyl acetate, ethoxy methyl acetate, ethoxy ethyl acetate, and the like;
3-옥시프로피온산 메틸, 3-옥시프로피온산 에틸 등의 3-옥시프로피온산 알킬에스테르류(예를 들면 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸 등); 2-옥시프로피온산 메틸, 2-옥시프로피온산 에틸, 2-옥시프로피온산 프로필 등의 2-옥시프로피온산 알킬에스테르류(예를 들면 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산 에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸 등); 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세트초산 메틸, 아세트초산 에틸, 2-옥소부탄산 메틸, 2-옥소부탄산 에틸 등;3-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate (for example, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, etc.); 2-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate and propyl 2-oxypropionate (for example, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, and 2-methoxypropionic acid propyl) , Methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, 2-ethoxy Ethyl-2--2-propionate, etc.); Methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetacetate, ethyl acetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate and the like;
상기에 예시한 이외의 에테르류, 예를 들면 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 테트라히드로푸란, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트,등;Ethers other than those exemplified above, for example, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol Propyl ether acetate, etc .;
상기에 예시한 이외의 케톤류, 예를 들면 메틸에틸케톤, 2-헵타논, 3-헵타논 등; 방향족 탄화수소류, 예를 들면 톨루엔, 크실렌 등을 들 수 있다.Ketones other than those exemplified above, such as methyl ethyl ketone, 2-heptanone, 3-heptanone, and the like; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and the like.
이들 중, 3-에톡시프로피온산 메틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵타논, 에틸카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트 등이 바람직하다.Of these, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol dimethyl ether, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate and the like are preferable.
<분산제><Dispersant>
본 발명의 경화성 조성물이 (c)착색제로서 안료를 함유하는 경우, 상기 안료의 분산성을 향상시키는 관점으로부터 분산제를 첨가하는 것이 바람직하다.When the curable composition of this invention contains a pigment as a (c) coloring agent, it is preferable to add a dispersing agent from a viewpoint of improving the dispersibility of the said pigment.
본 발명에 사용할 수 있는 분산제(안료 분산제)로서는 고분자 분산제〔예를 들면 폴리아미드아민과 그 염, 폴리카르복실산과 그 염, 고분자량 불포화산 에스테르, 변성 폴리우레탄, 변성 폴리에스테르, 변성 폴리(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴계 공중합체, 나프탈렌술폰산 포르말린 축합물〕 및, 폴리옥시에틸렌알킬인산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 알칸올아민, 안료 유도체 등을 들 수 있다.As a dispersant (pigment dispersant) which can be used in the present invention, a polymer dispersant [for example, polyamideamine and its salt, polycarboxylic acid and its salt, high molecular weight unsaturated acid ester, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (meth) ) Acrylate, (meth) acrylic copolymer, naphthalenesulfonic acid formalin condensate], polyoxyethylene alkyl phosphate ester, polyoxyethylene alkylamine, alkanolamine, pigment derivative, etc. are mentioned.
고분자 분산제는 그 구조로부터 또한 직쇄상 고분자, 말단 변성형 고분자, 그래프트형 고분자, 블록형 고분자로 분류할 수 있다.Polymeric dispersants can be further classified into linear polymers, terminal modified polymers, graft polymers, and block polymers from the structure thereof.
고분자 분산제는 안료의 표면에 흡착되어 재응집을 방지하도록 작용한다. 이 때문에, 안료 표면에의 앵커 부위를 갖는 말단 변성형 고분자, 그래프트형 고분자, 블록형 고분자를 바람직한 구조로서 들 수 있다. 한편, 안료 유도체는 안료 표면을 개질함으로써 고분자 분산제의 흡착을 촉진시키는 효과를 갖는다.The polymeric dispersant adsorbs on the surface of the pigment and acts to prevent reagglomeration. For this reason, the terminal modified | denatured type | mold polymer | macromolecule, graft-type polymer, and block polymer which have anchor site | part to a pigment surface are mentioned as a preferable structure. On the other hand, the pigment derivative has the effect of promoting the adsorption of the polymer dispersant by modifying the pigment surface.
본 발명에 사용할 수 있는 안료 분산제의 구체예로서는 BYK Chemie사제 「 Disperbyk-101(폴리아미드아민 인산염), 107(카르복실산 에스테르), 110(산기를 함유하는 공중합물), 130(폴리아미드), 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170(고분자 공중합물)」, 「BYK-P104, P105(고분자량 불포화 폴리카르복실산), EFKA사제 「EKA4047, 4050, 4010, 4165(폴리우레탄계), EFKA4330, 4340(블록 공중합체), 4400, 4402(변성 폴리아크릴레이트), 5010(폴리에스테르아미드), 5765(고분자량 폴리카르복실산 염), 6220(지방산 폴리에스테르), 6745(프탈로시아닌 유도체), 6750(아조 안료 유도체)」, 아지노모토 파인테크노사제 「아지스파PB821, PB822」, 교에이샤 가가쿠사제 「플로렌 TG-710(우레탄올리고머)」, 「폴리플로우 No.50E, No.300(아크릴계 공중합체)」, 구스모토 카세이사제 「디스파론KS-860, 873SN, 874, #2150(지방족 다가 카르복실산), #7004(폴리에테르에스테르), DA-703-50, DA-705, DA-725」, 카오사제 「데몰 RN,N(나프탈렌술폰산 포르말린 중축합물), MS, C, SN-B(방향족 술폰산 포르말린 중축합물)」, 「호모게놀 L-18(고분자 폴리카르복실산)」, 「에말겐 920, 930, 935, 985(폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르)」, 「아세타민 86(스테아릴아민아세테이트)」, 루부리졸사제 「솔스퍼스 5000(프탈로시아닌 유도체), 22000(아조 안료 유도체), 13240(폴리에스테르아민), 3000, 17000, 27000(말단부에 기능부를 갖는 고분자), 24000, 28000, 32000, 38500(그래프트형 고분자)」, 닛코우 케미컬사제 「닛콜 T106(폴리옥시에틸렌소르비탄모노올레이트), MYS-IEX(폴리옥시에틸렌모노스테아레이트)」등을 들 수 있다.As a specific example of the pigment dispersant which can be used for this invention, the product made by BYK Chemie "Disperbyk-101 (polyamideamine phosphate), 107 (carboxylic acid ester), 110 (copolymer containing an acid group), 130 (polyamide), 161 , 162, 163, 164, 165, 166, 170 (polymer copolymer), `` BYK-P104, P105 (high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid), `` EKA4047, 4050, 4010, 4165 (polyurethane), made by EFKA, EFKA4330, 4340 (block copolymer), 4400, 4402 (modified polyacrylate), 5010 (polyesteramide), 5765 (high molecular weight polycarboxylic acid salt), 6220 (fatty acid polyester), 6745 (phthalocyanine derivative), 6750 (Azo pigment derivative), "Aji Spa PB821, PB822" made by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. "Florene TG-710 (urethane oligomer)" by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., "Polyflow No.50E, No.300 (acrylic system) Copolymer) '', `` disparon KS-860, 873SN, 874, # 2150 (aliphatic tagaka) manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd. Carboxylic acid), # 7004 (polyether ester), DA-703-50, DA-705, DA-725, `` demol RN, N (naphthalenesulfonic acid formalin polycondensate), MS, C, SN-B (Aromatic sulfonic acid formalin polycondensate) "," homogenol L-18 (polymeric polycarboxylic acid) "," emalgen 920, 930, 935, 985 (polyoxyethylene nonyl phenyl ether) "," acetamine 86 (ste Arylamine acetate) "," Solpers 5000 (phthalocyanine derivative), 22000 (azo pigment derivative), 13240 (polyesteramine), 3000, 17000, 27000 (polymer having a functional part at the terminal), 24000, 28000 32000, 38500 (graft type polymer), Nikko T106 (polyoxyethylene sorbitan monooleate), MYS-IEX (polyoxyethylene monostearate), and the like.
이들 분산제는 단독으로 사용해도 좋고, 2종이상을 조합해서 사용해도 좋다. 본 발명에 있어서는, 특히, 안료 유도체와 고분자 분산제를 조합해서 사용하는 것 이 바람직하다.These dispersing agents may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. In this invention, it is especially preferable to use combining a pigment derivative and a polymer dispersing agent.
본 발명에 있어서의 분산제의 함유량으로서는, 안료에 대해서 1∼80질량%인 것이 바람직하고, 5∼70질량%가 보다 바람직하고, 10∼60질량%가 더욱 바람직하다.As content of the dispersing agent in this invention, it is preferable that it is 1-80 mass% with respect to a pigment, 5-70 mass% is more preferable, 10-60 mass% is further more preferable.
구체적으로는, 고분자 분산제를 사용하는 경우이면, 그 사용량으로서는 안료에 대해서 5∼100질량%의 범위가 바람직하고, 10∼80질량%의 범위가 보다 바람직하다. 또한 안료 유도체를 사용하는 경우이면, 그 사용량으로서는 안료에 대해서 1∼30질량%의 범위에 있는 것이 바람직하고, 3∼20질량%의 범위에 있는 것이 보다 바람직하고, 5∼15질량%의 범위에 있는 것이 특히 바람직하다.Specifically, in the case of using a polymer dispersant, the amount thereof is preferably in the range of 5 to 100% by mass, and more preferably in the range of 10 to 80% by mass with respect to the pigment. Moreover, when using a pigment derivative, it is preferable to exist in the range of 1-30 mass% with respect to a pigment as the usage-amount, It is more preferable to exist in the range of 3-20 mass%, and to the range of 5-15 mass% It is particularly desirable to have.
본 발명에 있어서, 착색제로서의 안료와 분산제를 사용하는 경우, 경화감도, 색농도의 관점으로부터 착색제 및 분산제의 함유량의 총합이 경화성 조성물을 구성하는 전고형분에 대해서 25질량%이상 95질량%이하인 것이 바람직하고, 25질량%이상 80질량%이하인 것이 보다 바람직하고, 30질량%이상 70질량%이하인 것이 더욱 바람직하다.In this invention, when using the pigment and dispersing agent as a coloring agent, it is preferable that the sum total of content of a coloring agent and a dispersing agent is 25 mass% or more and 95 mass% or less with respect to the total solid which comprises a curable composition from a viewpoint of hardening sensitivity and a color density. It is more preferable that it is 25 mass% or more and 80 mass% or less, and it is still more preferable that they are 30 mass% or more and 70 mass% or less.
<중합 금지제><Polymerization inhibitor>
본 발명에 있어서는 경화성 조성물의 제조중 혹은 보존중에 있어서 중합 가능한 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 화합물의 불필요한 열중합을 저지하기 위해서 소량의 열중합 방지제를 첨가하는 것이 바람직하다.In this invention, it is preferable to add a small amount of thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the compound which has a polymerizable ethylenically unsaturated double bond during manufacture or storage of a curable composition.
본 발명에 사용할 수 있는 열중합 방지제로서는 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, 디-t-부틸-p-크레졸, 피로가롤, t-부틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-티오비스(3-메 틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), N-(니토로소페닐히드록시아민 제1 세륨염 등을 들 수 있다.Examples of the thermal polymerization inhibitor that can be used in the present invention include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogarol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis ( 3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N- (nitorophenyl hydroxyamine cerium salt, etc. are mentioned. Can be.
열중합 방지제의 첨가량은 경화성 조성물의 전고형분에 대해서 약 0.01∼약 5질량%가 바람직하다. 또 필요에 따라, 산소에 의한 중합 저해를 방지하기 위해서 베헨산이나 베헨산 아미드와 같은 고급 지방산 유도체 등을 첨가하고, 도포후의 건조 과정에서 감광층의 표면에 편재시켜도 좋다. 고급 지방산 유도체의 첨가량은 전조성물의 약 0.5∼약 10질량%가 바람직하다.As for the addition amount of a thermal polymerization inhibitor, about 0.01 to about 5 mass% is preferable with respect to the total solid of a curable composition. Moreover, in order to prevent the inhibition of polymerization by oxygen, you may add higher fatty acid derivatives, such as behenic acid and behenic acid amide, and may make it localize on the surface of the photosensitive layer in the drying process after application | coating. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5 to about 10 mass% of the precursor composition.
<밀착 향상제><Adhesion enhancer>
본 발명에 있어서는, 기재인 경질표면(기판)과의 밀착성을 향상시키기 위해서, 밀착 향상제를 첨가할 수도 있다. 밀착 향상제로서는 실란계 커플링제, 티타늄 커플링제 등을 들 수 있다.In this invention, in order to improve adhesiveness with the hard surface (substrate) which is a base material, an adhesion promoter can also be added. As an adhesion promoter, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, etc. are mentioned.
실란계 커플링제로서는, 예를 들면 γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란·염산염, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, 아미노실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-메르캅토프로필트리에톡시실란, 메틸트리메톡시실 란, 메틸트리에톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, γ-클로로프로필트리메톡시실란, 헥사메틸디실라잔, γ-아닐리노프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 옥타데실디메틸[3-(트리메톡시실릴)프로필]암모늄 클로라이드, γ-클로로프로필메틸디메톡시실란, γ-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 메틸트리클로로실란, 디메틸디클로로실란, 트리메틸클로로실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 비스알릴트리메톡시실란, 테트라에톡시실란, 비스(트리메톡시실릴)헥산, 페닐트리메톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-히드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(3-메타크릴옥시-2-히드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, (메타크릴옥시메틸)메틸디에톡시실란, (아크릴옥시메틸)메틸디메톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the silane coupling agent include γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyldimethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl. Trimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyl Trimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane, γ-isocyanatepropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatepropyltriethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyl Trimethoxysilane hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, aminosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxy Silane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, Vinyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxy Ethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, Trimethylchlorosilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, bisallyltrimethoxysilane, tetraethoxysilane, bis (trimethoxysilyl) hexane, phenyltrimethoxysilane, N- (3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, (methacryl Oxymethyl) methyldiethoxysilane, (acryloxymethyl) methyldimethoxysilane, etc. are mentioned. Can be.
그 중에서도 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란이 바람직하고, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란이 가장 바람직하다.Among them, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane and γ-mercaptopropyltri Methoxysilane, (gamma) -aminopropyl triethoxysilane, and phenyl trimethoxysilane are preferable, and (gamma) -methacryloxypropyl trimethoxysilane is the most preferable.
밀착 향상제의 첨가량은 경화성 조성물의 전고형분중 0.1∼30질량%가 바람직하고, 0.5∼10질량%가 보다 바람직하다.0.1-30 mass% is preferable in the total solid of a curable composition, and, as for the addition amount of an adhesion promoter, 0.5-10 mass% is more preferable.
-컬러필터 및 그 제조방법-Color filter and its manufacturing method
다음에 본 발명의 컬러필터 및 그 제조방법에 대해서 설명한다.Next, the color filter of this invention and its manufacturing method are demonstrated.
본 발명의 컬러필터는 지지체 상에 본 발명의 컬러필터용 경화성 조성물을 사용하여 이루어지는 착색 패턴을 갖는 것을 특징으로 한다.The color filter of this invention has a coloring pattern which uses the curable composition for color filters of this invention on a support body, It is characterized by the above-mentioned.
이하, 본 발명의 컬러필터에 대해서 그 제조방법(본 발명의 컬러필터의 제조방법)을 통해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, the color filter of this invention is demonstrated in detail through the manufacturing method (manufacturing method of the color filter of this invention).
본 발명의 컬러필터의 제조방법은 지지체 상에 본 발명의 컬러필터용 경화성 조성물을 도포해서 착색 경화성 조성물층을 형성하는 공정(이하, 적당하게 「착색 경화성 조성물층 형성공정」이라고 약칭함)과, 상기 착색 경화성 조성물층을 마스크를 통해 노광하는 공정(이하, 적당하게 「노광공정」이라고 약칭함)과, 노광후의 상기 착색 경화성 조성물층을 현상해서 착색 패턴을 형성하는 공정(이하, 적당하게 「현상공정」이라고 약칭함)을 포함하는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the color filter of this invention is the process of apply | coating the curable composition for color filters of this invention on a support body, and forming a colored curable composition layer (henceforth abbreviating suitably "color curable composition layer formation process"), The process of exposing the said colored curable composition layer through a mask (henceforth abbreviated "exposure process" suitably), and the process of developing the said colored curable composition layer after exposure, and forming a colored pattern (henceforth "development suitably" Abbreviated as " step ").
구체적으로는, 본 발명의 경화성 조성물을 직접 또는 다른 층을 통해 지지체(기판) 상에 도포하고, 광중합성 조성물층을 형성하고(착색 경화성 조성물층 형성공정), 소정의 마스크 패턴을 통해 노광하고, 광조사된 도포막 부분만을 경화시키고(노광공정), 현상액으로 현상함으로써(현상공정), 각 색(3색 혹은 4색)의 화소로 이루어지는 패턴상 피막을 형성하여 본 발명의 컬러필터를 제조할 수 있다.Specifically, the curable composition of the present invention is applied onto the support (substrate) directly or through another layer, to form a photopolymerizable composition layer (color curable composition layer forming step), and exposed through a predetermined mask pattern, By curing only the coated film portion irradiated with light (exposure step) and developing with a developer (development step), a patterned film composed of pixels of each color (three or four colors) is formed to produce the color filter of the present invention. Can be.
이하, 본 발명의 제조방법에 있어서의 각 공정에 대해서 설명한다.Hereinafter, each process in the manufacturing method of this invention is demonstrated.
<착색 경화성 조성물층 형성공정><Coloring curable composition layer forming process>
착색 경화성 조성물층 형성공정에서는 지지체 상에 본 발명의 경화성 조성물을 도포해서 착색 경화성 조성물층을 형성한다.In the colored curable composition layer forming step, the curable composition of the present invention is applied onto a support to form a colored curable composition layer.
본 공정에 사용할 수 있는 지지체로서는, 예를 들면 액정표시소자 등에 사용되는 소다유리, 무알칼리 유리, 파이렉스(등록상표) 유리, 석영유리, 플라스틱 기 판 및 이들에 투명 도전막을 부착시킨 것이나, 촬상소자 등에 이용되는 광전 변환 소자 기판, 예를 들면 실리콘 기판 등이나 상보성 금속 산화막 반도체(CMOS) 등을 들 수 있다. 이들 기판은 각 화소를 격리하는 블랙 스트라이프가 형성되어 있는 경우도 있다.Examples of the support that can be used in this step include soda glass, alkali free glass, pyrex (registered trademark) glass, quartz glass, plastic substrates, and transparent conductive films attached thereto, for use in liquid crystal display devices and the like, and imaging devices. Photoelectric conversion element substrates used for, for example, silicon substrates and the like, complementary metal oxide semiconductor (CMOS) and the like. These board | substrates may be provided with the black stripe which isolate | separates each pixel.
또한 이들 지지체 상에는 필요에 따라 상부 층과의 밀착 개량, 물질의 확산 방지 또는 기판표면의 평탄화를 위해 프라이머층을 형성해도 좋다.Furthermore, a primer layer may be formed on these supports to improve the adhesion to the upper layer, to prevent the diffusion of materials, or to planarize the substrate surface.
지지체 상에의 본 발명의 경화성 조성물의 도포방법으로서는 슬릿 도포, 잉크젯법, 회전 도포, 롤 도포, 스크린 인쇄법 등의 각종 도포방법을 적용할 수 있다.As a coating method of the curable composition of this invention on a support body, various coating methods, such as a slit coating, an inkjet method, a spin coating, a roll coating, and a screen printing method, can be applied.
경화성 조성물의 도포막 두께로서는 0.1∼10㎛가 바람직하고, 0.2∼5㎛가 보다 바람직하고, 0.5∼3㎛가 더욱 바람직하다.As coating film thickness of a curable composition, 0.1-10 micrometers is preferable, 0.2-5 micrometers is more preferable, 0.5-3 micrometers is more preferable.
지지체 상에 도포된 경화성 조성물은 통상 70∼110℃에서 2∼4분정도의 조건하에서 건조되어, 착색 경화성 조성물층이 형성된다.The curable composition coated on the support is usually dried at 70 to 110 ° C. under conditions of about 2 to 4 minutes to form a colored curable composition layer.
<노광공정>Exposure process
노광공정에서는 상기 착색 경화성 조성물층 형성공정에 있어서 형성된 착색 경화성 조성물층을 마스크를 통해 노광하고, 광조사된 도포막 부분만을 경화시킨다.In an exposure process, the coloring curable composition layer formed in the said colored curable composition layer formation process is exposed through a mask, and only the coating film part irradiated with light was hardened.
노광은 방사선의 조사에 의해 행하는 것이 바람직하고, 노광시에 사용할 수 있는 방사선으로서는, 특히, g선, i선 등의 자외선이 바람직하게 이용되고, 고압 수은등이 보다 바람직하다. 조사 강도는 5mJ∼1500mJ가 바람직하고, 10mJ∼800mJ가 보다 바람직하고, 10mJ∼500mJ가 가장 바람직하다.It is preferable to perform exposure by irradiation of radiation, and as radiation which can be used at the time of exposure, especially ultraviolet rays, such as g line | wire and i line | wire, are used preferably, and a high pressure mercury lamp is more preferable. The irradiation intensity is preferably 5 mJ to 1500 mJ, more preferably 10 mJ to 800 mJ, and most preferably 10 mJ to 500 mJ.
<현상공정>Development Process
노광공정에 계속해서 알칼리 현상처리(현상공정)를 행하여 노광공정에 있어서의 광 미조사 부분을 알카리 수용액에 용출시킨다. 이것에 의해, 광경화된 부분만이 남는다.Subsequent to the exposure step, an alkali development treatment (development step) is performed to elute the tail light irradiated portion in the exposure step into the aqueous alkali solution. This leaves only the photocured portion.
현상 온도로서는 통상 20℃∼30℃이며, 현상 시간은 20∼90초이다.As image development temperature, it is 20 degreeC-30 degreeC normally, and developing time is 20 to 90 second.
또, 본 발명의 제조방법에 있어서는, 상술한 경화성 조성물층 형성공정, 노광공정 및 현상공정을 행한 후에, 필요에 따라 형성된 착색 패턴을 가열 및/또는 노광에 의해 경화하는 경화공정을 포함하고 있어도 좋다.Moreover, in the manufacturing method of this invention, after performing the curable composition layer forming process, exposure process, and image development process mentioned above, you may include the hardening process which hardens the coloring pattern formed by heating and / or exposure as needed. .
이상에서 설명한 착색 경화성 조성물층 형성공정, 노광공정 및 현상공정(또한 필요에 따라 경화공정)을 원하는 색상수만큼 반복함으로써, 원하는 색상으로 이루어지는 컬러필터가 제작된다.The color filter which consists of a desired color is produced by repeating the coloring curable composition layer forming process, exposure process, and image development process (and the hardening process as needed) as many times as desired color demonstrated above.
본 발명에 의하면, 색재현율 향상에 따른 레지스트 안료의 고농도화 및 기판 사이즈의 대형화에 따른 저노광량화(스루풋 향상)에 의한 노광감도 부족을 해소하고, 고감도로 경화되고, 양호한 패턴 형성성을 갖고, 현상잔사가 억제되고, 지지체와의 밀착성이 우수한 경화성 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, the lack of exposure sensitivity due to the high concentration of the resist pigment due to the improvement of color reproducibility and the low exposure dose (throughput improvement) due to the enlargement of the substrate size is eliminated, and it is cured with high sensitivity, and has good pattern formation properties. Developing residue can be suppressed and the curable composition excellent in adhesiveness with a support body can be provided.
상기 경화성 조성물은 특히 착색제로서 안료농도가 높고, 또한 I선 투과율이 낮은 그린을 이용한 경우에 있어서 유효하다.The said curable composition is especially effective when green is used as a coloring agent with high pigment concentration and low I-ray transmittance | permeability.
또한, 본 발명의 경화성 조성물을 사용하여 이루어지는, 높은 색재현성을 갖고, 형상이 양호한 착색 패턴을 갖는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 높은 생산성으 로 제조할 수 있는 제조방법을 제공할 수 있다.Moreover, the color filter which has the high color reproducibility and which has a good shape of a color pattern formed using the curable composition of this invention, and the manufacturing method which can manufacture the said color filter with high productivity can be provided.
(실시예)(Example)
이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또, 특별히 기재하지 않는 한, 「부」는 「질량부」를 나타낸다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, it is not limited to a following example. In addition, "part" shows a "mass part" unless there is particular notice.
<실시예1>Example 1
1-1.안료 분산액의 조제1-1.Preparation of pigment dispersion
안료로서 C.I.피그먼트그린36과 C.I.피그먼트옐로150의 30/70(질량비) 혼합물 40질량부, 분산제로서 BYK2001(Disperbyk:빅케미(BYK)사제, 고형분 농도 45.1질량%) 10질량부(고형분 환산 약 4.51질량부) 및 용매로서 3-에톡시프로피온산 에틸 150질량부로 이루어지는 혼합액을 비드 밀에 의해 15시간 혼합·분산해서 안료 분산액(P1)을 조제했다.40 mass parts of 30/70 (mass ratio) mixture of CI pigment green 36 and CI pigment yellow 150 as a pigment, 10 mass parts (by solid content conversion) of BYK2001 (Disperbyk: BYK Corporation make, solid content concentration 45.1 mass%) as a dispersing agent About 4.51 mass part) and the mixed liquid which consists of 150 mass parts of ethyl 3-ethoxy propionate as a solvent were mixed and disperse | distributed with the bead mill for 15 hours, and the pigment dispersion liquid P1 was prepared.
안료 분산액(P1)에 대해서, 안료의 평균 입경을 동적 광산란법에 의해 측정한 결과, 200㎚였다.About the pigment dispersion (P1), the average particle diameter of the pigment was measured by the dynamic light scattering method and found to be 200 nm.
1-2.경화성 조성물(도포액)의 조제1-2.Preparation of curable composition (coating solution)
·안료 분산액P1(c)…66.6질량부Pigment Dispersion P1 (c)... 66.6 parts by mass
·알칼리 가용성 수지(벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, mol비:70/30, Mw:5000)(d)…1.5질량부Alkali-soluble resin (benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, mol ratio: 70/30, Mw: 5000) (d)... 1.5 parts by mass
·다관능성 단량체 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(a)…4.4질량부Polyfunctional monomer dipentaerythritol hexaacrylate (a)... 4.4 parts by mass
·2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸((A)비이 미다졸계 화합물)…1.0질량부2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole ((A) biimidazole compound)... 1.0 parts by mass
·4,4-비스디에틸아미노벤조페논((B)증감색소)…0.3질량부4,4-bisdiethylaminobenzophenone ((B) sensitizing dye)... 0.3 parts by mass
·화합물C2(하기 식)((C)메르캅토 화합물)…0.3질량부Compound C2 (formula) ((C) mercapto compound)... 0.3 parts by mass
·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트…10.5질량부Propylene glycol monomethyl ether acetate... 10.5 parts by mass
·에틸에톡시프로피오네이트…15.4질량부Ethyl ethoxy propionate 15.4 parts by mass
화합물C2Compound C2
실시예2∼8 및 비교예1∼3에 대해서는, 각 성분의 조성을 표1 및 표2에 기재된 대로 변경한 이외는 실시예1과 동일하게 해서 경화성 조성물의 도포액을 얻었다.About Examples 2-8 and Comparative Examples 1-3, the coating liquid of the curable composition was obtained like Example 1 except having changed the composition of each component as described in Table 1 and Table 2.
〔2.컬러필터의 제작〕[2.Production of color filter]
2-1.경화성 조성물층의 형성2-1.Formation of Curable Composition Layer
상기 안료를 함유하는 경화성 조성물을 레지스트 용액으로서 550mm×650mm의 유리 기판에 하기 조건으로 슬릿 도포한 후, 10분간 그대로의 상태에서 대기시키고, 새로운 유리 기판에 도포하고, 진공건조와 프리베이크(prebake)(100℃ 80초)를 실시해서 경화성 조성물 도막(경화성 조성물층)을 형성했다.The curable composition containing the pigment was slit-coated to a glass substrate of 550 mm x 650 mm as a resist solution under the following conditions, waited for 10 minutes as it was, applied to a new glass substrate, vacuum dried and prebaked. (100 degreeC 80 second) was performed, and the curable composition coating film (curable composition layer) was formed.
(슬릿 도포 조건)(Slit application condition)
도포 헤드 선단의 개구부의 간극:50㎛Gap between the openings at the tip of the coating head: 50 μm
도포속도:100mm/초Dispense Speed: 100mm / sec
기판과 도포 헤드의 클리어런스:150㎛Clearance of substrate and coating head: 150 μm
도포두께(건조두께):2㎛Coating thickness (dry thickness): 2 μm
도포온도:23℃Coating temperature: 23 ℃
프리베이크:100℃×80초Prebaking: 100 degrees Celsius * 80 second
2-2.노광, 현상2-2 Exposure, phenomenon
그 후에 2.5kw의 초고압 수은등을 이용하여 50mj/㎠ 20mW의 조건으로 광경화성 도포막을 패턴형상으로 노광하고, 노광후, 도포막의 전체면을 현상액(상품명:CDK-1 후지 필름 일렉트로닉스 마테리얼즈(주)제)의 1% 수용액을 샤워상으로 분무하고, 60초간 현상 처리했다.Thereafter, the photocurable coating film was exposed in a pattern form under conditions of 50mj / cm 2 and 20mW using an ultra-high pressure mercury lamp of 2.5kw, and after the exposure, the entire surface of the coating film was developed by a developer (brand name: CDK-1 FUJIFILM Materials) A 1% aqueous solution of the agent) was sprayed onto the shower, and developed for 60 seconds.
2-3.가열처리2-3.Heating
정지후, 순수를 샤워상으로 분사해서 현상액을 씻어 내리고, 이러한 광경화처리 및 현상처리를 실시한 도포막을 230℃의 오븐에서 0.5시간 가열했다(포스트베이킹). 이것에 의해 유리 기판 상에 착색 수지 피막(컬러필터)을 형성했다.After stopping, the pure water was sprayed in the shower phase, the developer was wash | cleaned, and the coating film which performed this photocuring process and image development process was heated in 230 degreeC oven for 0.5 hour (postbaking). This formed the colored resin film (color filter) on the glass substrate.
〔3.성능평가〕[3. Performance evaluation]
상기에서 조정된 착색 경화성 조성물을 이용하여 유리 기판 상에 형성된 경화성 조성물 도포막(착색층)의 패턴 형성성, 기판밀착성, 마스크 증가량, 또한 현상 잔사를 하기와 같이 평가했다. 결과를 표1에 나타낸다.The pattern formation property, board | substrate adhesiveness, mask increase amount, and image development residue of the curable composition coating film (color layer) formed on the glass substrate using the colored curable composition adjusted above were evaluated as follows. The results are shown in Table 1.
3-1.패턴 형성성3-1.Pattern Formability
형성된 패턴의 단면형상을 주사 전자 현미경(SEM)으로 관찰했다. 패턴 단면 형상은 순테이퍼가 가장 바람직하고, 직사각형이 다음으로 바람직하다. 언더컷은 바람직하지 못하다.The cross-sectional shape of the formed pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM). As for the pattern cross-sectional shape, pure taper is most preferable, and rectangle is next. Undercuts are undesirable.
<패턴 형성성><Pattern formability>
○순테이퍼:기판의 평면과 형성하는 각도가 75도미만인 것○ taper: the plane of the substrate and the angle to form less than 75 degrees
△직사각형:기판의 평면과 형성하는 각도가 90도미만인 것△ Rectangular: the plane of the substrate and the angle to form less than 90 degrees
×역테이퍼:기판의 평면과 형성하는 각도가 90도를 초과하는 것X reverse taper: Plane of board and angle to form exceed 90 degrees
3-2.기판 밀착성3-2.Board Adhesion
기판 밀착성의 평가로서 패턴결손이 발생하고 있는지의 여부를 관찰했다. 본 평가 항목에 대해서는 하기 기준에 기초해서 평가를 행했다.It was observed whether or not a pattern defect occurred as the evaluation of the substrate adhesion. This evaluation item was evaluated based on the following criteria.
<기판 밀착성><Substrate adhesiveness>
○:패턴결손이 전혀 관찰되지 않았다.○: No pattern defect was observed.
△:패턴결손이 거의 관찰되지 않았지만, 일부분 결손이 관찰되었다.(Triangle | delta): A pattern defect was hardly observed but a partial defect was observed.
×:패턴결손이 현저히 관찰되었다.X: Pattern defect was remarkably observed.
3-3.마스크 증가량3-3.Mask increase
형성된 패턴의 치수를 치수 계측기(ICRON 올림푸스(주)제)로 측정했다. 본 평가 항목에 대해서는 하기 기준에 기초해서 평가를 행했다.The dimension of the formed pattern was measured by the size measuring instrument (made by ICRON Olympus Co., Ltd.). This evaluation item was evaluated based on the following criteria.
<마스크 증가량><Mask increase>
○:마스크에 대해서 +5㎛이상의 증가폭.(Circle): +5 micrometers or more increase with respect to a mask.
△:마스크에 대해서 +2㎛이상, 5㎛미만의 증가폭.(Triangle | delta): +2 micrometer or more and less than 5 micrometers with respect to a mask.
×:마스크에 대해서 +2㎛미만의 증가폭.X: The incremental width less than +2 micrometer with respect to a mask.
3-4.현상 잔사3-4.Residual residue
노광공정에 있어서, 광이 조사되지 않은 영역(미노광부)의 잔사의 유무를 관찰하고, 현상성을 평가했다.In the exposure process, the presence or absence of the residue of the area | region (unexposed part) which was not irradiated with light was observed, and developability was evaluated.
<현상 잔사><Residual residue>
○: 미노광부에는 잔사가 전혀 확인되지 않았다.(Circle): The residue was not confirmed at all in an unexposed part.
△: 미노광부에 잔사가 조금 확인되었지만, 실용상 문제가 없는 정도였다.(Triangle | delta): Although the residue was confirmed in the unexposed part a little, it was a degree which is satisfactory practically.
×: 미노광부에 잔사가 현저히 확인되었다.X: The residue was remarkably confirmed by the unexposed part.
(표1)Table 1
(표2)Table 2
(표3)Table 3
표1∼2의 결과로부터, 본 발명의 경화성 조성물은 모두 노광 감도 및 기판 밀착성이 양호하며, 패턴 단면형상이 우수하고, 또한 미노광부에 있어서의 잔사가 억제되어 있음을 알 수 있다. From the results of Tables 1-2, it is understood that all of the curable compositions of the present invention have good exposure sensitivity and substrate adhesion, are excellent in pattern cross-sectional shape, and the residue in the unexposed part is suppressed.
이것에 대해서 비교예의 경화성 조성물은 노광 감도, 기판 밀착성, 패턴 단면형상 중 어느 것에 있어서나 뒤떨어졌다.On the other hand, the curable composition of a comparative example was inferior in any of exposure sensitivity, board | substrate adhesiveness, and pattern cross-sectional shape.
비교예3의 경화성 조성물은 (b)성분의 함유량이 바람직한 범위로부터 벗어났으며, 실시예5∼8의 경화성 조성물과 비교해서 모든 평가항목에 있어서 뒤떨어진 것을 알 수 있다.Content of (b) component of the curable composition of the comparative example 3 was out of the preferable range, and it turns out that it is inferior in all the evaluation items compared with the curable composition of Examples 5-8.
또, 실시예7 및 8의 경화성 조성물은 (b)성분의 수치가 최적의 범위이며, 실시예5 및 6의 경화성 조성물에 비해 우수함을 알 수 있다.Moreover, it turns out that the curable compositions of Examples 7 and 8 are the optimal ranges in the numerical value of (b) component, and are superior to the curable compositions of Examples 5 and 6.
Claims (9)
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2006-00291471 | 2006-10-26 | ||
JP2006291471 | 2006-10-26 | ||
JP2007256614A JP5191201B2 (en) | 2006-10-26 | 2007-09-28 | Colored curable composition for color filter, color filter, and production method thereof |
JPJP-P-2007-00256614 | 2007-09-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080037583A true KR20080037583A (en) | 2008-04-30 |
Family
ID=39559462
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070107960A KR20080037583A (en) | 2006-10-26 | 2007-10-25 | Colored curable composition for color filter, color filter and process for producing the same |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5191201B2 (en) |
KR (1) | KR20080037583A (en) |
CN (1) | CN101196685B (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010039475A (en) * | 2008-06-10 | 2010-02-18 | Fujifilm Corp | Photosensitive resin composition for ultraviolet laser exposure, pattern forming method, color filter manufactured using the method, method for manufacturing color filter, and liquid crystal display |
KR20140007372A (en) * | 2011-02-18 | 2014-01-17 | 가부시키가이샤 아데카 | Photosensitive coloring composition |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008268751A (en) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Fujifilm Corp | Color filter, method for manufacturing the same and display device |
JP5371313B2 (en) * | 2008-07-28 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | Colored curable composition for color filter, color filter, method for producing color filter, and liquid crystal display element |
JP5623818B2 (en) * | 2009-09-18 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | Colored curable composition, color filter, and method for producing color filter |
KR101453771B1 (en) * | 2010-11-08 | 2014-10-23 | 제일모직 주식회사 | Photosensitive resin composition for color filter and color filter using same |
KR101918661B1 (en) | 2012-05-14 | 2018-11-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | Photoresist composition and method of forming a color filter using the same |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000221675A (en) * | 1999-02-01 | 2000-08-11 | Jsr Corp | Radiation-sensitive composition for color filter |
JP2000310707A (en) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Jsr Corp | Radiation sensitive composition for color filter and color filter |
JP2003330183A (en) * | 2002-05-10 | 2003-11-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive transfer material, image forming method and color filter |
JP3767552B2 (en) * | 2002-12-26 | 2006-04-19 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive composition, black matrix, color filter, and color liquid crystal display device |
JP2005300994A (en) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Jsr Corp | Radiation sensitive composition for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display panel |
JP4411226B2 (en) * | 2005-02-22 | 2010-02-10 | 富士フイルム株式会社 | Photosensitive planographic printing plate |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007256614A patent/JP5191201B2/en active Active
- 2007-10-25 KR KR1020070107960A patent/KR20080037583A/en not_active Application Discontinuation
- 2007-10-26 CN CN2007101679293A patent/CN101196685B/en active Active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010039475A (en) * | 2008-06-10 | 2010-02-18 | Fujifilm Corp | Photosensitive resin composition for ultraviolet laser exposure, pattern forming method, color filter manufactured using the method, method for manufacturing color filter, and liquid crystal display |
KR20140007372A (en) * | 2011-02-18 | 2014-01-17 | 가부시키가이샤 아데카 | Photosensitive coloring composition |
KR101868509B1 (en) * | 2011-02-18 | 2018-06-19 | 가부시키가이샤 아데카 | Photosensitive coloring composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5191201B2 (en) | 2013-05-08 |
CN101196685B (en) | 2012-08-08 |
JP2008134613A (en) | 2008-06-12 |
CN101196685A (en) | 2008-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101526250B1 (en) | Pigment dispersion liquid, curable composition, color filter produced using the same, and solid state imaging device | |
EP2102708B1 (en) | Curable composition, color filter, and manufacturing method of the same | |
KR101460576B1 (en) | Curable composition, color filter and process for production thereof | |
JP5441347B2 (en) | Colored photocurable composition for solid-state image sensor, color filter, method for producing the same, and solid-state image sensor | |
EP2275867B1 (en) | Polymerizable composition, light-blocking color filter for solid-state imaging device, and solid-state imaging device | |
KR101460571B1 (en) | Curable composition, color filter using the same and manufacturing method therefor, and solid image pickup element | |
KR20090124938A (en) | Colored curable composition, color filter, and solid-state image pickup device | |
JP4969189B2 (en) | Curable composition for forming color filter for solid-state image sensor, color filter for solid-state image sensor, and method for producing the same | |
KR20100119874A (en) | Resin, pigment dispersion liquid, coloring curable composition, color filter produced by using the composition, and method for producing the color filter | |
US20080171272A1 (en) | Curable composition, color filter using the same and manufactuirng method therefor, and solid image pickup element | |
KR20100015665A (en) | Pigment-dispersed composition, curable composition, and color filter and production method thereof | |
KR101301160B1 (en) | Colored curable composition, color filter and method for production thereof, and solid imaging element | |
KR20090111822A (en) | Pigment-dispersed composition, curable composition, color filter and production method thereof | |
EP2168989B1 (en) | Colored curable composition, color filter and production method thereof, and solid-state imaging device | |
KR20080096472A (en) | Colored photopolymerizable composition, color filter using the same and method of producing color filter | |
US20090085018A1 (en) | Colored curable composition, color filter, and solid image pickup element | |
KR20070122178A (en) | Compound, photosensitive composition, curable composition, curable composition for color filter, color filter, and producing method thereof | |
KR20080037583A (en) | Colored curable composition for color filter, color filter and process for producing the same | |
KR101321380B1 (en) | Colored curable composition, color filter, and method of producing color filter | |
KR20080070529A (en) | Curable composition, color filter and method of producing thereof | |
JP2008165020A (en) | Curable composition, color filter and method for producing the same | |
KR20100022434A (en) | Color filter, method of producing color filter and liquid crystal display device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |