KR20080025880A - Etching apparatus and etching method - Google Patents

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Abstract

An etching apparatus and an etching method are provided to need no work for sealing the circumference of glass and prevent the waste of an expensive etchant. An etching apparatus includes: an etching chamber(100) in which glass(400) is etched; a cassette(200) which fixes the circumference of the glass and has many fixation units capable of vertically positioning glass within the etching chamber; and a spray device(300) which sprays an etchant(500) on the upper part of the vertically positioned glass to etch the surfaces of the glass uniformly. An etching method includes the steps of: sealing and fixing the circumference of glass using many fixation units provided in the cassette; transferring the cassette to the inside of the etching chamber to place the glass vertically in the etching chamber; moving the spray device to the upper part of the glass, and spraying the etchant on the sides of the glass; and etching the surface of the glass uniformly by making the sprayed etchant flow down to form a water film.

Description

식각장치 및 식각방법{Etching Apparatus and etching method}Etching Apparatus and Etching Method

도 1은 본 발명에 따른 식각장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다.1 is a view showing a schematic configuration of an etching apparatus according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 카세트의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이다. 2 is a perspective view showing a schematic configuration of a cassette according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 카세트의 상면도이다.3 is a top view of a cassette according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 분사장치가 글라스에 식각액을 분사하는 모습을 나타내는 도면이다.4 is a view showing a state in which the injector according to the invention injects the etching liquid to the glass.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100: 식각 챔버 110: 순환장치100: etching chamber 110: circulator

200: 카세트 210: 고정수단200: cassette 210: fixing means

211: 밀봉수단 300: 분사장치211: sealing means 300: injection device

310: 노즐 400: 글라스310: nozzle 400: glass

500: 식각액 600: 로봇 암500: etchant 600: robot arm

본 발명은 평판디스플레이(Flat panel display) 장치를 제조하는데 이용되는 식각장치 및 식각방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 글라스의 둘레면을 실링 할 필요가 없고 고가의 식각액 낭비를 방지할 수 있는 등 다양한 이점을 가지는 식각장치 및 식각방법에 관한 것이다.The present invention relates to an etching apparatus and an etching method used to manufacture a flat panel display device, and more particularly, there is no need to seal the circumferential surface of the glass and can prevent expensive etching liquid waste. It relates to an etching apparatus and an etching method having an advantage.

일반적으로, 평판디스플레이 장치로서는 LCD(Liquid Crystal Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display), OLED(Organic Light Emitting Diode)등 다양한 장치들이 있다.In general, there are various devices such as a liquid crystal device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescent display (ELD), a vacuum fluorescent display (VFD), and an organic light emitting diode (OLED).

이러한 평판디스플레이 장치는 휴대용 텔레비전이나 노트북 컴퓨터, 휴대폰 등 휴대용 정보기기의 디스플레이 장치로 널리 사용되며 가볍고 휴대 가능하다는 점에서 장점을 가진다. 그러므로 휴대성을 강화하기 위하여 정보기기의 경량화가 계속 연구되고 있으며, 그 일 방편으로 평판디스플레이 장치의 가장 기본요소인 글라스의 중량을 줄이는 연구가 진행되고 있다.Such a flat panel display device is widely used as a display device of a portable information device such as a portable television, a notebook computer, a mobile phone, and has advantages in that it is light and portable. Therefore, in order to enhance portability, the weight reduction of information devices has been continuously studied, and as one method, studies to reduce the weight of glass, which is the most basic element of a flat panel display device, are being conducted.

특히, 글라스는 평판디스플레이 장치를 구성하는 요소 중에서 가장 중량이 크기 때문에 글라스의 중량감소를 통해 평판디스플레이 장치의 중량을 줄이는 연구가 활발히 진행되고 있다.In particular, since glass has the largest weight among the elements constituting the flat panel display device, studies are being actively conducted to reduce the weight of the flat panel display device by reducing the weight of the glass.

하지만, 평판디스플레이 장치가 대형화되어 감에 따라 글라스의 크기를 줄여서 중량을 감소시키는 대는 일정한 한계가 있으므로 현재는 식각장치를 이용해 글라스의 두께를 얇게 함으로써 중량을 감소시키는 방법이 주로 이용된다.However, as the size of the flat panel display increases, there is a certain limit in reducing the size of the glass by reducing the size of the glass. Currently, a method of reducing the weight by thinning the thickness of the glass using an etching apparatus is mainly used.

이러한 글라스의 두께를 줄이기 위해 사용되는 일반적인 식각장치는 식각 챔버, 린스(QDR: Quick Dump Rinse) 배스 및 건조 배스로 구성되며, 상기 식각 챔버의 하부에는 글라스의 식각 효율을 향상시키기 위한 질소 기체 버블(bubble)을 균 일하게 생성하는 다공성의 버블판이 설치된다. A typical etching apparatus used to reduce the thickness of the glass is composed of an etching chamber, a quick dump rinse (QDR) bath and a drying bath, and a lower portion of the etching chamber includes a nitrogen gas bubble to improve the etching efficiency of the glass ( Porous bubble plates are formed to produce bubbles uniformly.

따라서, 글라스가 식각액이 채워진 식각 챔버 내에 담궈지면 식각액에 의해 글라스의 표면이 식각되어 지며 이때, 상기 버블판에서 질소 기체 버블이 생성되어 글라스의 식각이 효율적으로 이루어지게 된다.Therefore, when the glass is immersed in the etching chamber filled with the etching solution, the surface of the glass is etched by the etching solution, whereby nitrogen gas bubbles are generated in the bubble plate to efficiently etch the glass.

그리고, 식각 챔버에서 식각이 완료된 글라스는 린스 배스를 거치며 세정된 후 건조 배스로 이송되어 건조된다.The glass, which has been etched in the etching chamber, is washed through a rinse bath and then transferred to a drying bath to be dried.

이와 같이 현재 글라스의 두께를 줄이기 위해 가장 많이 사용되고 있는 방법이 글라스를 식각액이 채워진 식각 챔버 내에 담궈 상기 식각액에 의해 글라스의 표면이 식각되도록 하는 방법이다.As such, the most widely used method of reducing the thickness of the glass is to immerse the glass in the etching chamber filled with the etching liquid so that the surface of the glass is etched by the etching liquid.

하지만, 이러한 종래의 식각장치를 이용한 글라스 식각은 다음과 같은 문제점이 있었다.However, glass etching using such a conventional etching apparatus has the following problems.

첫째, 상기 글라스 전체가 식각 챔버 내에 채워지는 식각액에 담궈지기 때문에 식각액이 상하부 글라스 사이에 형성된 액정층 등과 접촉하는 것을 방지하기 위해 식각공정이 진행되기 전에 글라스의 둘레면을 실링(sealing)하는 작업이 선행된다. 하지만, 이러한 실링 작업은 수작업으로 이루어지기 때문에 작업이 불편하고 공정비용을 증가시키는 요인이 되었다.First, since the entire glass is immersed in the etching liquid filled in the etching chamber, sealing of the circumferential surface of the glass before the etching process is performed to prevent the etching liquid from contacting the liquid crystal layer formed between the upper and lower glasses. Preceded. However, since the sealing work is made by hand, the work is inconvenient and increases the process cost.

둘째, 상기 글라스 전체가 담궈질 수 있도록 식각 챔버내에 식각액이 채워져야 하기 때문에 실제 글라스의 식각에 필요한 양보다 훨씬 많은 양의 식각액이 사용되는 문제점이 있었다. Second, since the etchant must be filled in the etching chamber so that the entire glass can be immersed, there is a problem that a much larger amount of etchant is used than the amount required for the actual glass etching.

특히, 상기 식각액은 3-4회의 식각공정이 진행되어 식각에 따른 각종 이물질 에 의해 오염되면 외부로 배출된 후 폐기되기 때문에 고가의 식각액이 불필요하게 낭비되는 문제점이 있었다.In particular, the etchant has a problem that the expensive etchant is wasted unnecessary because it is discarded after being discharged to the outside when the etching solution is contaminated by various foreign matters due to the etching process 3-4 times.

셋째, 식각액의 교체없이 수차례의 식각 공정이 진행되면 식각에 따른 각종 이물질이 식각 챔버의 바닥면에 적층되기 때문에 식각액 배출 후 식각 챔버 내부를 세정해 주어야 한다. 하지만, 이러한 세정작업은 힘들고 위험하여 안전사고의 위험이 항상 존재하는 문제점이 있었다.Third, when the etching process is performed several times without replacing the etching liquid, various foreign substances due to the etching are stacked on the bottom surface of the etching chamber, and thus the inside of the etching chamber should be cleaned after the etching liquid is discharged. However, such a cleaning operation is difficult and dangerous, there was a problem that the risk of safety accidents always exist.

본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 글라스의 둘레면을 실링할 필요가 없고, 고가의 식각액 낭비를 방지하는 등 다양한 이점을 가지는 식각장치 및 식각방법을 제공하는 것이다.The present invention has been proposed to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to eliminate the need for sealing the circumferential surface of the glass, and to provide an etching apparatus and an etching method having various advantages, such as preventing expensive etching liquid waste. To provide.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명은 글라스의 식각이 이루어지는 식각 챔버; 상기 글라스의 외주면을 고정시키며, 글라스를 식각 챔버 내에 수직방향으로 위치시키는 다수개의 고정 수단을 구비하는 카세트; 수직방향으로 위치한 상기 글라스의 상부에 식각액을 분사하여 식각액이 흘러내리며 글라스 표면을 균일하게 식각하도록 하는 분사장치를 포함하여 이루어지는 식각장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides an etching chamber in which glass is etched; A cassette for fixing an outer circumferential surface of the glass and having a plurality of fixing means for positioning the glass in an etch chamber in a vertical direction; It provides an etching apparatus comprising an injection device for spraying the etching liquid to the upper portion of the glass located in the vertical direction to flow the etching liquid and to uniformly etch the glass surface.

또한, 본 발명은 카세트에 구비되는 다수개의 고정수단을 이용하여 글라스의 외주면을 밀봉, 고정하는 글라스 고정단계; 상기 카세트를 식각 챔버 내부로 이송시켜 글라스를 식각 챔버 내부에 수직하게 위치시키는 글라스 정렬단계; 상기 글라스의 측면 상부로 분사장치가 이동하여 식각액을 분사하는 스프레이 단계; 그리고, 상기 분사된 식각액이 흘러 내리며 수막을 형성하여 글라스의 표면을 균일하게 식각하는 식각 단계;를 포함하여 이루어지는 식각방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a glass fixing step of sealing and fixing the outer circumferential surface of the glass by using a plurality of fixing means provided in the cassette; A glass alignment step of transferring the cassette into the etching chamber to position the glass vertically inside the etching chamber; A spray step of injecting an etchant by moving the injector to an upper side of the glass; In addition, the sprayed etching solution flows down to form a water film, the etching step of uniformly etching the surface of the glass; provides an etching method comprising a.

이하, 상기 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 실시예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다.Hereinafter, embodiments of the present invention in which the above object can be specifically realized are described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 식각장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이며, 도 2는 본 발명에 따른 카세트의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이다. 도 3은 본 발명에 따른 카세트의 상면도이다. 1 is a view showing a schematic configuration of an etching apparatus according to the present invention, Figure 2 is a perspective view showing a schematic configuration of a cassette according to the present invention. 3 is a top view of a cassette according to the present invention.

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 식각장치는 글라스(400)의 식각이 이루어지는 식각 챔버(100)와, 상기 글라스(400)를 고정시키는 다수개의 고정수단(210)(도 2 및 도 3참조)을 구비하는 카세트(200)와, 상기 글라스(400)에 식각액(50)을 분사하는 분사장치(300)를 포함하여 이루어진다.As shown in Figures 1 to 3, the etching apparatus according to the present invention, the etching chamber 100 is made of the etching of the glass 400, and a plurality of fixing means 210 for fixing the glass 400 (Fig. 2 and 3), and an injection apparatus 300 for injecting an etchant 50 into the glass 400.

상기 카세트(200)에 구비되는 고정수단(210)은 글라스(400)의 외주면을 고정시키며, 상기 글라스(400)를 식각 챔버(100) 내에 수직하게 위치시킨다. 좀더 상세히 설명하면, 상기 카세트(200)에 구비된 고정수단(210)에 글라스(400)의 외주면이 삽입되어 고정되면 상기 글라스(400)는 카세트(200) 내부에 수직하게 위치한다. 이와 같이 카세트(200)의 각 고정수단(210)에 글라스(400)가 삽입되어 고정되면 로봇 암(600)(도 1참조)과 같은 이송수단에 의해 카세트(200)가 식각 챔버(100) 내부로 이송되고 이에 따라, 상기 글라스(400)는 식각 챔버(100) 내부에 수직하게 위치하게 하게 된다.The fixing means 210 provided in the cassette 200 fixes the outer circumferential surface of the glass 400, and vertically positions the glass 400 in the etching chamber 100. In more detail, when the outer circumferential surface of the glass 400 is inserted into and fixed to the fixing means 210 provided in the cassette 200, the glass 400 is vertically positioned inside the cassette 200. As such, when the glass 400 is inserted into and fixed to each fixing means 210 of the cassette 200, the cassette 200 is inside the etching chamber 100 by a transfer means such as the robot arm 600 (see FIG. 1). The glass 400 is positioned perpendicular to the inside of the etching chamber 100.

여기서, 비록 도시하지는 않았지만 상기 카세트(200)의 하부 즉, 고정수 단(210)의 하부에는 글라스(400)가 카세트(200)의 하측으로 이탈하는 것을 방지하기 위해 삽입된 글라스(400)의 좌우측 하면을 지지하는 걸림턱 등이 형성될 수 있다.Here, although not shown, the left and right sides of the glass 400 inserted in the lower portion of the cassette 200, that is, the lower portion of the fixed water end 210, to prevent the glass 400 from escaping to the lower side of the cassette 200. A latching jaw supporting the lower surface may be formed.

한편, 상기 고정수단(210)은 글라스(400)의 외주면이 식각액(500)과 접촉하지 않도록 하는 밀봉수단(211)을 구비한다. 상기 밀봉수단(211)은 식각액(500)이 글라스(400)의 외주면을 통해 내부로 유입되는 것을 방지하여 글라스(400) 내부의 액정층 등이 손상되는 것을 방지한다.On the other hand, the fixing means 210 is provided with a sealing means 211 to prevent the outer peripheral surface of the glass 400 in contact with the etching liquid 500. The sealing means 211 prevents the etchant 500 from being introduced into the glass 400 through the outer circumferential surface of the glass 400 to prevent damage to the liquid crystal layer inside the glass 400.

이와 같이 상기 고정수단(210)은 글라스(400)를 고정함과 동시에 내측에 밀봉수단(211) 등을 구비하여 식각액(500)이 글라스(400) 내부로 유입되는 것을 방지하는 역할도 한다. 따라서, 상기 고정수단(210)은 글라스(400)의 외주면 전체를 감싸도록 구성됨이 바람직하지만 도 2 및 도 3에에 도시된 바와 같이, 글라스(400)의 양측 둘레면만을 감싸도록 구성될 수도 있다. 이는 식각액(500)이 수직하게 위치하는 글라스(400)의 상부에 분사되어 흘러내리기 때문에 식각액(500)의 분사각도 등을 조절하면 글라스(400)의 상하측 둘레면은 고정수단(210)에 의해 밀봉되어지지 않더라도 식각액(500)의 유입이 방지될 수 있기 때문이다. 물론, 상기 고정수단(210)은 글라스(400)의 상측 둘레면과 좌우 양측 둘레면을 감싸는 고정척의 형태로 구성될 수 있는 등 다양한 형태로 변경 가능하다.As described above, the fixing means 210 has a role of preventing the etching liquid 500 from being introduced into the glass 400 by fixing the glass 400 and having a sealing means 211 therein. Therefore, the fixing means 210 is preferably configured to surround the entire outer circumferential surface of the glass 400, but may be configured to surround only both circumferential surfaces of the glass 400 as shown in FIGS. 2 and 3. This is because the etching liquid 500 is sprayed on the upper portion of the glass 400 is located vertically flows down the upper and lower circumferential surface of the glass 400 by the fixing means 210 when adjusting the spray angle of the etching liquid 500, etc. This is because the inflow of the etchant 500 may be prevented even if it is not sealed. Of course, the fixing means 210 may be changed in various forms, such as in the form of a fixing chuck surrounding the upper circumferential surface and the left and right both circumferential surfaces of the glass 400.

또한, 상기 고정수단(210)은 글라스(400)의 외주면이 충격등에 의해 파손되는 것을 방지하기 위해 글라스(400)와의 접촉, 고정부위에 설치되는 완충패드(미도시)를 구비함이 바람직하다. 물론, 상기 완충 패드는 밀봉수단(211)과 같이 글라 스(400)의 외주면이 식각액(500)과 접촉하지 않도록 하는 역할도 수행할 수 있다.In addition, the fixing means 210 is preferably provided with a buffer pad (not shown) which is installed in contact with the glass 400, the fixing portion in order to prevent the outer peripheral surface of the glass 400 from being damaged by an impact. Of course, the buffer pad may also serve to prevent the outer circumferential surface of the glass 400 from coming into contact with the etchant 500 as in the sealing means 211.

상기 분사장치(300)는 도 1에 도시된 바와 같이, 글라스(400)가 카세트(200)에 적재되어 식각 챔버(100) 내부로 이송되면 식각 챔버(100)의 상측을 통해 식각 챔버(100) 내부로 이동한 후 내측에 구비되는 다수개의 노즐(310)을 통해 글라스(400)의 상부에 식각액(500)을 분사한다. As shown in FIG. 1, when the glass 400 is loaded in the cassette 200 and transferred into the etching chamber 100, the injector 300 is etched through the upper side of the etching chamber 100. After moving inside, the etchant 500 is sprayed on the glass 400 through the plurality of nozzles 310 provided inside.

도 4는 본 발명에 따른 분사장치가 글라스에 식각액을 분사하는 모습을 나타내는 도면이다.4 is a view showing a state in which the injector according to the present invention injects the etching liquid to the glass.

이와 같이 분사장치(300)가 글라스(400)의 상부에 식각액(500)을 분사하면 도 4에 도시된 바와 같이, 식각액(500)이 글라스(400) 표면을 따라 흘러내리며 수막을 형성함으로써 글라스(400) 표면이 균일하게 식각된다.As such, when the injector 300 sprays the etching liquid 500 on the glass 400, the etching liquid 500 flows down the surface of the glass 400 to form a water film, as shown in FIG. 4. 400) The surface is uniformly etched.

여기서, 상기 분사장치(300)는 식각공정의 신속한 진행을 위해 글라스(400)의 전후면 양측에 모두 식각액(500)을 분사할 수 있음은 물론 글라스(400)의 일측면에만 식각액(500)을 선택적으로 분사할 수 있다. Here, the injector 300 may spray the etching solution 500 on both front and rear surfaces of the glass 400 for the rapid progress of the etching process, and the etching solution 500 may be applied only to one side of the glass 400. Can be sprayed selectively.

즉, 한쌍의 분사장치(300)가 글라스(400)의 양측면에 각각 위치하도록 하여 글라스(400)의 양측면이 모두 식각되도록 하는 것은 물론, 글라스(400)의 일측에만 분사장치(300)가 위치하도록 하여 선택된 글라스(400)의 일면만이 식각되도록 할 수 있다.That is, the pair of injectors 300 are located on both sides of the glass 400 so that both sides of the glass 400 are etched, and the injectors 300 are positioned only on one side of the glass 400. Therefore, only one surface of the selected glass 400 may be etched.

이와 같이 본 발명은 발명은 글라스(400) 전체가 식각액에 담궈질 필요없이 분사장치(300)를 이용하여 글라스(400) 측면 상부에 필요한 양만큼의 식각액(500)을 직접 분사한다. 따라서, 식각액(500)이 글라스(400) 표면을 따라 흘러내리며 글 라스(400)를 식각하기 때문에 카세트(200)에 구비되는 고정수단(210)이 글라스(400)의 외주면을 밀봉시키면 식각액(500)이 글라스(400) 내부로 유입될 위험이 없다.As described above, according to the present invention, the entire glass 400 is directly sprayed by the amount of the etching liquid 500 on the side surface of the glass 400 using the spraying apparatus 300 without the need for the entire glass 400 to be dipped in the etching liquid. Therefore, since the etchant 500 flows down the surface of the glass 400 to etch the glass 400, when the fixing means 210 provided in the cassette 200 seals the outer circumferential surface of the glass 400, the etchant 500 ) There is no risk of flowing into the glass 400.

즉, 식각액(500)이 글라스(400)에 분사되더라도 글라스(400)의 외주면이 고정수단(210)에 의해 밀봉되면 식각액(500)과 글라스(400) 외주면의 접촉이 차단되어 글라스(400) 내부의 액정층 등이 손상될 염려가 없다.That is, even if the etchant 500 is sprayed on the glass 400, when the outer circumferential surface of the glass 400 is sealed by the fixing means 210, the contact between the etch solution 500 and the outer circumferential surface of the glass 400 is blocked, so that the glass 400 is inside the glass 400. There is no fear of damage to the liquid crystal layer or the like.

따라서, 본 발명은 종래와 같은 식각 공정이 진행되기 전에 필수적으로 이루어져야 하는 글라스(400) 둘레면을 실링하는 작업을 필요로 하지 않으며, 필요한 양만큼의 식각액(500)만을 글라스(400)에 분사하기 때문에 불필요한 식각액(500)의 낭비를 줄일 수 있다. 또한, 카세트(200)를 이용해 다수개의 글라스(400)를 동시에 식각하고 이송시킬 수 있기 때문에 식각공정을 신속히 진행할 수 있다.Therefore, the present invention does not require the sealing operation of the glass 400 circumferential surface that must be made before the etching process proceeds as in the related art, and sprays only the amount of the etching liquid 500 to the glass 400 as necessary. Therefore, waste of the etchant 500 may be reduced. In addition, since the plurality of glasses 400 may be simultaneously etched and transferred using the cassette 200, the etching process may be rapidly performed.

한편, 상기 식각 챔버(100)에는 사용된 식각액의 재사용을 위한 순환장치(110)가 설치된다.(도 1참조) 종래와 같이 식각 챔버(100) 내부에 식각액(500)이 채워져 있을 필요가 없기 때문에 사용된 식각액(500)은 상기 순환장치(110)을 통해 즉시 배출되어 재사용된다.On the other hand, the etching chamber 100 is provided with a circulator 110 for reuse of the used etching liquid (see Fig. 1). As shown in the prior art, the etching liquid 500 does not need to be filled in the etching chamber 100. Therefore, the used etchant 500 is immediately discharged and reused through the circulation device 110.

이와 같이 식각액(500)이 순환장치(110)를 통해 즉시 배출되면 식각액(500)에 함유된 이물질이 식각 챔버(100)의 바닥면에 적층될 시간적 여유를 주지 않기 때문에 종래와 같은 식각공정 완료 후 진행되는 식각 챔버(100)의 세정작업도 한결 간편해 진다. 또한, 식각 챔버(100) 내부에 유독한 식각액(500)이 채워져 있지 않아 식각 챔버(100)의 정비작업을 하는 작업자의 안전이 도모될 수 있다.As such, when the etchant 500 is immediately discharged through the circulation device 110, foreign matters contained in the etchant 500 do not have time to be stacked on the bottom surface of the etching chamber 100. The cleaning operation of the etching chamber 100 is also simplified. In addition, since the toxic etchant 500 is not filled in the etching chamber 100, safety of an operator performing maintenance work on the etching chamber 100 may be promoted.

그리고, 상기 챔버(100)에는 식각액(500)에 함유된 이물질을 제거할 수 있는 필터와 같은 여과장치가 설치된다. 상기 여과장치는 식각액에 함유된 이물질을 제거하여 식각액(500)이 다시 분사장치(300)로 재공급될 수 있도록 함으로써 고가의 식각액(500)이 불필요하게 낭비되는 것을 막아준다. 상기 여과장치는 식각액(500)이 배출되는 순환장치(110)에 구비될 수 있다.In addition, the chamber 100 is provided with a filtration device such as a filter that can remove foreign substances contained in the etchant 500. The filtration apparatus removes foreign substances contained in the etchant to allow the etchant 500 to be supplied back to the injector 300, thereby preventing the expensive etchant 500 from being unnecessarily wasted. The filtration device may be provided in the circulation device 110 through which the etching liquid 500 is discharged.

이와 같이 구성되는 본 발명에 따른 식각장치를 이용한 식각방법에 대해 간략히 설명하면 다음과 같다. The etching method using the etching apparatus according to the present invention configured as described above will be briefly described as follows.

먼저, 카세트(200)에 구비되는 다수개의 고정수단(210)에 글라스(400)의 외주면이 밀봉, 고정되면 로봇 암(600)과 같은 이송수단에 의해 카세트(200)가 식각 챔버(100) 내부로 이송되어 글라스(400)가 식각 챔버(100) 내부에 수직하게 위치한다.First, when the outer circumferential surface of the glass 400 is sealed and fixed to the plurality of fixing means 210 provided in the cassette 200, the cassette 200 is inside the etching chamber 100 by a transfer means such as the robot arm 600. The glass 400 is vertically positioned in the etching chamber 100 by being transferred to the glass chamber 400.

이와 같이 카세트(200)가 식각 챔버(100) 내부로 이송되면 분사장치(300)가 이동하여 상기 글라스(400)의 측면 상부에 식각액(500)을 분사한다. 이때, 상기 분사된 식각액(500)은 글라스(400)표면을 따라 흘러내리며 수막을 형성하여 글라스(400)를 균일하게 식각한다.As such, when the cassette 200 is transferred into the etching chamber 100, the injector 300 moves to spray the etching liquid 500 on the upper side of the glass 400. At this time, the sprayed etchant 500 flows down the surface of the glass 400 to form a water film to uniformly etch the glass 400.

그리고, 상기 식각액(500)은 식각 챔버(100)에 형성된 순환장치(110)을 통해 배출되는데 이 과정에서 상기 식각액(500)에 함유된 각종 이물질은 여과장치에 의해 제거된다. 이와 같이 이물질이 제거된 식각액(500)은 다시 분사장치(300)로 공급되어 글라스(400) 식각에 재사용된다.In addition, the etchant 500 is discharged through the circulation device 110 formed in the etching chamber 100. In this process, various foreign substances contained in the etchant 500 are removed by a filtration device. In this way, the etchant 500 from which the foreign matter is removed is supplied to the injector 300 and reused for etching the glass 400.

이러한 본 발명에 따른 식각장치 및 식각방법은 다음과 같은 효과를 가진다.The etching apparatus and the etching method according to the present invention has the following effects.

첫째, 본 발명은 카세트에 구비되는 고정수단을 이용해 글라스의 외주면을 밀봉, 고정한 상태에서 글라스에 직접 식각액을 분사하여 식각공정을 진행하기 때문에 글라스의 측면을 실링하는 작업을 필요로 하지 않는다.First, the present invention does not need to seal the side surface of the glass because the etching process is performed by spraying the etching liquid directly onto the glass in a state in which the outer peripheral surface of the glass is sealed and fixed using the fixing means provided in the cassette.

둘째, 본 발명은 필요한 양만큼의 식각액을 직접 글라스에 분사하고, 식각액에 함유된 이물질을 여과장치를 통해 분리한 후 식각액을 재사용할 수 있기 때문에 불필요한 식각액의 낭비를 방지할 수 있으며, 이물질이 식각 챔버 바닥면에 적층되지 않아 식각 챔버 내부 세정작업이 간편해 진다.Second, the present invention can directly spray the amount of the etchant in the required amount of glass, separate the foreign matter contained in the etchant through the filter device can be reused after the etching solution can prevent unnecessary waste of the etchant, foreign matter is etched It is not stacked on the bottom of the chamber, which simplifies cleaning inside the etching chamber.

셋째, 본 발명은 식각 챔버에 유독한 식각액이 채워져 있을 필요가 없기 때문에 식각 챔버의 정비작업을 진행하는 작업자의 안전을 도모할 수 있다. Third, the present invention does not need to be filled with toxic etchant in the etching chamber, it is possible to improve the safety of the worker in the maintenance work of the etching chamber.

넷째, 본 발명은 카세트에 구비되는 다수개의 고정수단에 각각 글라스를 고정시킨 후 다수개의 글라스에 대해 동시에 식각공정을 진행하기 때문에 식각공정을 신속히 진행할 수 있다.Fourth, the present invention is to fasten the etching process because the etching process for the plurality of glass at the same time after fixing the glass to each of the plurality of fixing means provided in the cassette.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (10)

글라스의 식각이 이루어지는 식각 챔버;An etching chamber in which the glass is etched; 상기 글라스의 외주면을 고정시키며, 글라스를 식각 챔버 내에 수직방향으로 위치시키는 다수개의 고정 수단을 구비하는 카세트;A cassette for fixing an outer circumferential surface of the glass and having a plurality of fixing means for positioning the glass in an etch chamber in a vertical direction; 수직방향으로 위치한 상기 글라스의 상부에 식각액을 분사하여 식각액이 흘러내리며 글라스 표면을 균일하게 식각하도록 하는 분사장치를 포함하여 이루어지는 식각장치.Etching apparatus comprising a spraying device for spraying the etching liquid to the upper portion of the glass located in the vertical direction flows down the etching liquid to uniformly etch the glass surface. 제 1항에 있어서, 상기 고정수단은 글라스의 외주면을 식각액과 접촉하지 않도록 하는 밀봉수단을 포함함을 특징으로 하는 식각장치.The etching apparatus according to claim 1, wherein the fixing means includes sealing means to prevent the outer circumferential surface of the glass from contacting the etching liquid. 제 1항에 있어서, 상기 고정수단은 글라스와의 접촉, 고정부위에 완충 패드를 구비하는 것을 특징으로 하는 식각장치.The etching apparatus as claimed in claim 1, wherein the fixing means includes a buffer pad in contact with the glass and the fixing portion. 제 1항에 있어서, 상기 분사장치는 글라스의 일측면에만 선택적으로 식각액을 분사할 수 있음을 특징으로 하는 식각장치.The etching apparatus of claim 1, wherein the injector may selectively inject an etchant to one side of the glass. 제 1항에 있어서, 상기 분사장치는 글라스의 일측에만 위치함을 특징으로 하는 식각장치.The etching apparatus of claim 1, wherein the injector is located only on one side of the glass. 제 1항에 있어서, 상기 식각 챔버에는 식각액의 재사용을 위한 순환 장치가 구비됨을 특징으로 하는 식각장치The etching apparatus according to claim 1, wherein the etching chamber is provided with a circulation device for reuse of the etching liquid. 제 1항에 있어서, 상기 식각 챔버에는 사용된 식각액에 함유된 이물질을 제거하기 위한 여과 장치가 구비됨을 특징으로 하는 식각장치.The etching apparatus according to claim 1, wherein the etching chamber is provided with a filtration device for removing foreign substances contained in the used etching liquid. 카세트에 구비되는 다수개의 고정수단을 이용하여 글라스의 외주면을 밀봉, 고정하는 글라스 고정단계;A glass fixing step of sealing and fixing an outer circumferential surface of the glass by using a plurality of fixing means provided in the cassette; 상기 카세트를 식각 챔버 내부로 이송시켜 글라스를 식각 챔버 내부에 수직하게 위치시키는 글라스 정렬단계;A glass alignment step of transferring the cassette into the etching chamber to position the glass vertically inside the etching chamber; 상기 글라스의 측면 상부로 분사장치가 이동하여 식각액을 분사하는 스프레이 단계; 그리고,A spray step of injecting an etchant by moving the injector to an upper side of the glass; And, 상기 분사된 식각액이 흘러 내리며 수막을 형성하여 글라스의 표면을 균일하 게 식각하는 식각 단계;를 포함하여 이루어지는 식각방법.And etching the surface of the glass by etching the sprayed etching liquid to form a water film. 제 8항에 있어서, 상기 고정수단은 내측에 완충 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 식각방법.The etching method as claimed in claim 8, wherein the fixing means has a cushioning member therein. 제 8항에 있어서, 상기 분사된 식각액을 재사용하기 위한 순환단계; 그리고,The method of claim 8, further comprising: a circulation step for reusing the sprayed etchant; And, 상기 분사된 식각액에 함유된 이물질을 제거하는 여과단계;를 더 포함하여 이루어지는 식각방법.And a filtration step of removing foreign substances contained in the sprayed etchant.
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