KR20080023477A - 광 디스크 제조용 마스터 디스크 및 그 제조 방법 - Google Patents

광 디스크 제조용 마스터 디스크 및 그 제조 방법 Download PDF

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KR20080023477A
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김진홍
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엘지전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 고밀도 광 기록 매체의 제조에 사용되는 마스터 디스크의 패턴 형성시에 포토레지스트로 상변화 물질을 사용함으로써, 노광에 의한 패터닝이 아닌 열에 의한 상변화로 패터닝을 함으로써 보다 정교한 패턴을 갖는 마스터 디스크 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
상변화, 마스터 디스크, 패터닝, 레이저, 무기 포토레지스트

Description

광 디스크 제조용 마스터 디스크 및 그 제조 방법{Master disk for manufacturing optical disks and manufacuturing method of the same}
도1은 종래의 광 기록 디스크를 이용하여 정보를 기록하고 재생하는 방식을 나타낸다.
도2는 상변화 물질에 레이저를 조사하였을때 결정질과 비결정질 간의 상변화 상태를 나타낸다.
도3은 종래의 광모드에 의한 패터닝과 본 발명에 따른 열모드에 의한 패턴 형성시의 차이점을 나타낸다.
도4a 내지 도4e는 본 발명의 일 실시예에 따른 열 모드에 의한 마스터 디스크 및 그 제조 방법을 나타낸다.
도5a 및 도5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 스탬퍼 제조 방법을 나타낸다.
도6a 내지 도6c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스터 디스크 제조 방법을 나타낸다.
※도면의 주요 부분에 대한 설명※
41 : 마스터 디스크 42 : 하부 유전층
43 : 열흡수 층 44 : 상변화 무기 포토레지스트
45 : 상부 유전층 46 : 커버층
47 : 패턴 48 : 무전해 도금층
49 : 전해 도금층
본 발명은 광 기록 매체의 제조에 사용되는 마스터 디스크 및 스탬퍼 제조 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 고밀도 광 기록 매체의 제조에 사용되는 마스터 디스크의 패턴 형성시에 포토레지스트로 상변화 물질을 사용함으로써, 노광에 의한 패터닝이 아닌 열에 의한 상변화로 패터닝을 함으로써 보다 정교한 패턴을 갖는 마스터 디스크 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명은 기존의 25 GByte/disc 정도의 용량까지 구현할 수 있는 LBR(Laser Beam Recorder)을 이용하여, 근접장 기록 방식에까지 적용할 수 있는 100 GB/disc 용량을 구현할 수 있는 마스터 디스크 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 상변화 무기(inorganic) 포토 레지스트를 이용하여 마스터 디스크를 패터닝한다.
최근 고밀도 기록 매체에 대한 요구에 힘입어, 근접장 기록(Near-field re 방식, 수퍼 렌즈(Super-RENS) 방식 등 차세대 기록 방식이 연구되고 있다. 이러한 기록 매체의 제조에 있어서는, 최종적으로 광 디스크에 형성될 패턴을 담고 있는 마스터 디스크가 존재하고, 마스터 디스크로부터 스탬퍼를 제조하며, 이 스탬퍼를 이용하여 디스크 기판을 사출성형하여, 광 기록 디스크를 얻게 된다. 여기에, 기록층 및 보호층을 코팅하므로써 최종적인 광 기록 디스크를 얻게 되는 것이다.
종래의 마스터 디스크는 다음과 같은 공정을 통해 제조된다.
유리판 또는 폴리카보네이트 재질의 원형 기판에, 커플링제를 도포한 후 포토레지스트를 적당한 두께로 균일하게 도포한다.
포토레지스트가 코팅된 원반 표면에 레이저를 집광하여 패터닝을 한다. 이 과정에는 LBR(Laser Beam Recorder)이라는 장치를 이용하여 패터닝을 하게 되는데, 이때 이용하는 레이저 파장과 광학계의 개구수(Numerical Aperture)에 의해 광디스크의 밀도가 결정된다. 즉 패터닝되는 패턴의 크기가 결정된다.
패터닝된 원반 위에 현상액을 가하여 노광된 부분을 현상시키면 마스터 디스크의 패터닝이 완성된다.
패터닝이 완료된 마스터 디스크의 표면에 무전해도금 방식으로 얇은 금속막을 형성한다. 그리고 나서, 무전해 도금이 되어있는 마스터 디스크 원반을 황산니켈 도금조에 넣어 전기도금법에 의해 니켈 도금층을 성장시킨다.
니켈 도금층을 마스터 디스크로부터 분리시키면 스탬퍼가 완성된다. 스탬퍼에 보호막을 도포하고, 사출성형에 필요한 내외경을 뚫고, 사출성형 공정을 통해 최종적인 광 기록 디스크를 제조하게 된다.
한편, 도1은 최종적으로 제작한 광 기록 디스크를 이용하여 정보를 기록하고 재생하는 방식을 나타낸다. 광 기록 디스크는 유리 또는 실리콘 기판(11) 위에 기록층(12)이 형성되어 있고, 그 위에 기록층(12)을 보호하기 위한 커버층(13)을 형성하여 구성된다.
파장이 405 nm 인 청색 레이저 광을 NA 0.85 를 갖는 대물 렌즈(14)를 이용하여 집속시키고, 이 레이저 광은 먼저 커버층(13)을 투과한 후 기록층(12)에 도달하게 된다.
종래 기술에 의한 광 기록 디스크의 경우 기록 밀도는 집속된 레이저 광의 크기와 관계 있는데, 레이저 광의 회절을 고려하였을 때 광원의 파장 와 사용 렌즈의 NA 에 의해 결정된다. 레일리(Rayleigh) 회절 한계에 의하면 집속된 레이저 광의 직경 D 는,
Figure 112006065448872-PAT00001
이나, 실제 이용할 수 있는 한계는 가우시안(Gaussian) 강도 분포를 갖는 레이저 광의 반치폭 (Full Width at Half Maximum)에 해당되는 계수인 0.61 로 볼 수 있다. 따라서 패턴 사이즈의 감소에 의한 기록 밀도를 높이기 위해서는 레이저의 파장을 감소시키거나 렌즈의 NA를 증가시키면 되나, 레이저 파장 감소에는 한계가 있고 NA의 증가는 서보 제어의 어려움과 수차의 증가를 동반한다.
현재 청색 파장과 NA 0.85인 광학계를 이용하여 실질적으로 얻을 수 있는 최소 마크의 크기는 직경이 150 nm 정도이고 밀도는 평방인치당 18 Giga bit, 디스크 1장 전체의 용량은 25 GByte 이다.
광 디스크의 용량은 이를 제조하기 위한 마스터 디스크의 용량과 동일하며, 용량이 높은 광 기록 디스크를 제조하기 위해서는 마스터 디스크의 용량도 높아야 한다. 마스터 디스크를 제작할 때, 상술한 바와 같은 종래 기술을 사용할 경우, 현재까지 LBR에서 이용할 수 있는 가장 짧은 레이저 파장은 Deep UV 로 대략 250 nm 정도이고, 이러한 레이저를 이용하여 패터닝하더라도 얻을 수 있는 최대 용량은 최종 제품인 광 디스크와 마찬가지로 25 GByte/disc 이다.
최대 용량의 한계가 존재하는 가장 기본적인 원인은 레이저의 파장으로 볼 수도 있겠으나 실질적인 원인은 유기계 포토레지스트(포토레지스트)에 UV 레이저가 조사될 때 포토레지스트의 반응이 광자 모드(Photon mode)에 의한 반응이기 때문이라고 볼 수 있다.
즉, ,현상 후 패턴을 형성하게 되면, 레이저 빔이 조사되어 광이 도달한 전 영역에서 패턴이 형성되기 때문에, 패턴의 크기를 줄이는데 한계가 있다. 따라서, 종래 방식과 같이 LBR을 이용하는 방식으로는 25 GByte 이상의 용량을 달성하는데 한계가 있다. 또한 디스크 제작후 기록/재생 과정도 도1과 같은 종래의 광학계로는 25 GByte가 한계이다.
따라서 25 GByte 이상의 용량을 갖는 디스크 제작을 위해서는 보다 큰 용량을 갖는 마스터 디스크가 요구되고, 이를 위해서는 새로운 방식의 마스터 디스크 제조 방법이 요구된다.
본 발명은 보다 정밀한 레이저 스폿을 이용하여 고밀도 마스터 기판을 제조할 수 있는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명의 마스터 기판 제조 방법은 최근의 근접장 기록 방식 등의 새로운 기록 방식과 결합되어 보다 고밀도의 디스크를 제조할 수 있는 마스터 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 마스터 디스크는, 원형 기판; 상기 원형 기판 상에 적층된 열 흡수층; 상기 열 흡수층 위에 적층된 하부 유전층; 상기 하부 유전층 위에 도포된 상변화 무기 포토레지스트; 및 상기 상변화 무기 포토 레지스트 위에 적층된 상부 유전층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또다른 실시예에 따른 마스터 디스크는, 원형 기판; 상기 원형 기판 상에 적층된 열 흡수층; 상기 열 흡수층 위에 적층된 하부 유전층; 및 상기 하부 유전층 위에 도포된 상변화 무기 포토레지스트를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또다른 실시예에 따른 마스터 디스크는, 원형 기판; 상기 원형 기판 상에 적층된 열 흡수층; 및 상기 하부 유전층 위에 도포된 상변화 포토레지스트를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 마스터 디스크 패터닝 방법은, 상변화 포토레지스트가 적층된 마스터 디스크를 준비하는 단계; 상기 마스터 디스크 위에 커버층을 도포하는 단계; 레이저를 조사하여 상기 포토레지스트를 상변화시키는 단계; 상기 커버층을 제거하는 단계; 및 상기 포토레지스트를 현상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 마스터 디스크 패터닝 방법은, 상변화 포토레지스트가 적층된 마스터 디스크를 준비하는 단계; 레이저를 조사하여 상기 포토레지스트를 상변화시키는 단계; 및 상기 포토레지스트를 현상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하 본 발명의 실시예를 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.
도2는 상변화 물질에 레이저를 조사하였을때 결정질과 비결정질 간의 상변화 상태를 나타낸다.
이러한 상변화 물질을 디스크의 기록층에 적용한 소위 상변화(phase change) 디스크에서는, 기록층에 레이저를 조사하여, 레이저가 조사되는 부분은 결정질 상태(crystallin)에서 비결정질 상태(amorphous)로, 또는 그 반대로 상변화를 일으키게 되고, 상변화가 일어난 부분과 그렇지 않은 부분이 각각 '0'과 '1'을 나타내어 데이터를 기록하게 된다.
상변화 물질의 경우, 도2와 같이 원자배열 형태에 따라 상 (Phase) 이 결정된다. 원자들이 각 격자점에 위치하여 고체 전체가 낮은 에너지 상태를 유지할 때를 결정질(crystalline) 상이라 하고, 용융후 급냉하여 원자들이 각 격자점에 들어가지 못한 상황을 유지하여 전체적으로 에너지 최소 에너지를 유지하지 못할 때는 비결정질(amorphous) 상이라 한다.
결정질, 비결정질 간의 상변화는 가해지는 온도 및 가열 또는 냉각 시간에 따라 발생하게 된다. 즉, 결정질 상의 고체에 고온의 레이저 빔으로 약 600℃ 이상으로 용융시킨후 급냉시키면 비결정질이 되고, 결정질의 고체에 결정온도, 약 200℃ 이상의 온도로 결정에 필요한 시간이상 가열하면 결정질이 되는 것이다.
본 발명에서는 종래의 감광성 유기 포토레지스트에 레이저를 조사하여 패터닝을 수행하는 광 모드(Photon mode)에 의한 마스터링 공정과는 달리, 공정에 따라 상변화를 일으키는 물질인 무기(Inorganic) 포토레지스트를 이용하고, 무기 포토레지스트에 레이저를 조사하여 상변화를 통해 패턴을 형성하는 열 모드(Thermal mode)에 의해 마스터링을 수행하게 된다.
도3은 종래의 광모드에 의한 패터닝과 본 발명에 따른 열모드에 의한 패턴 형성시의 차이점을 나타낸다.
마스터 디스크는 실리콘 또는 유리 기판(33)과 그 위에 도포된 기록층(32)으로 구성된다. 레이저가 대물 렌즈(31)를 통과하여, 기록층(32) 표면에 초점이 모아지고, 레이저가 조사된 기록층(32)의 부분은 결정질에서 비결정질로, 또는 그 반대로 상변화가 발생되어 패턴을 형성하게 된다. 즉, 기록층(32)을 결정질 상태로 도포하느냐, 또는 비결정질 상태로 도포하느냐에 따라, 패턴을 구성하는 결정의 상태가 달라질 수 있다.
도3에 도시된 바와 같이, 그래프(34)는 레이저 광을 유기 포토레지스트에 조사했을때, 즉 광모드에서의 온도 프로파일을 나타내고, 그래프(35)는 레이저 광을 상변화 무기 포토레지스트에 조사했을때, 즉 열 모드에서의 온도 프로파일을 나타낸다. 유기 포토레지스트 또는 무기 포토레지스트에 소정 온도 프로파일 이상이 되는 영역에 스폿(37)이 형성된다.
조사되는 레이저의 광에 의해 유기 포토레지스트를 감광시켜 패턴을 형성하게 되는 영역은 그래프(34)와 같이 상대적으로 보다 넓은 영역에 걸쳐 분포하고, 열에 의해 패터닝될 때의 온도 프로파일은 그래프(35)와 같이 보다 좁은 영역에 걸쳐 분포된다.
따라서, 광 모드에 의해 형성되는 스폿(37)의 크기는 열 모드에 의해 형성되는 스폿(36)의 크기보다 커지게 되며, 따라서 열 모드에 의해 형성할 수 있는 작은 스폿으로 마스터 디스크를 패터닝 하게 되면, 마스터 디스크에 더 작은 피트(pit) 또는 그루브(groove)를 패터닝할 수 있고, 더 정밀하게 마스터 디스크를 패터닝할 수 있다.
본 발명에 따른 열 모드에 의한 패터닝을 위해서는 종래의 감광성 포토레지스트 대신, 적절한 임계 온도에 의해 상변화를 일으키는 무기 포토레지스트를 사용한다. 바람직하게는, 무기 포토레지스트로는 GeSbTe 와 같은 상변화 물질을 이용할 수 있다. 상변화 물질은 무기 포토레지스트에 한정되지 않고 레이저에 의해 상변화를 일으킬 수 있고 적절한 특성을 갖는 물질이라면 어느 것이든 사용될 수 있다.
도4a 내지 도4e는 본 발명의 일 실시예에 따른 열 모드에 의한 마스터 디스크 및 그 제조 방법을 나타낸다.
도4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스터 디스크의 단면도를 나타낸다. 본 발명의 일 실시예에 따른 마스터 디스크는, 원형 기판(41), 상기 원형 기판(41) 상에 적층된 열 흡수층(42), 상기 열 흡수층(42) 위에 적층된 하부 유전층(43), 상기 하부 유전층(43) 위에 도포된 상변화 무기 포토레지스트(44), 및 상기 상변화 무기 포토 레지스트(44) 위에 적층된 상부 유전층(45)을 포함하여 구성된다.
원형 기판(41)으로는 유리, 실리콘 기판을 사용할 수 있으며, 폴리 카보네이트 기판을 사용할 수도 있다 열 흡수층(42)은 레이저로 패터닝할 때 무기 포토레지스트(44)에 가해지는 열을 흡수하여 방출시키는 역할을 하며, Al, Ag 등의 메탈을 사용할 수 있다.
하부 유전층(43)도 무기 포토레지스트(44)에 가해지는 열을 흡수하여 방출시킴으로써 기판이 패터닝 후 빨리 냉각될 수 있도록 해준다. 하부 유전층(43)으로는 투명 유전체인 ZnS-SiO2를 사용할 수 있다.
상변화 무기 포토레지스트(44)는 기록층에 해당하는 층으로서, 레이저를 조사하면 결정질에서 비결정질로, 또는 그 반대로 상태가 변화하여 패턴을 기록하게 된다.
상부 유전층(45)은 상변화 무기 포토레지스트(44)의 보호층 역할을 하는 동시에, 그 적층되는 두께를 조절함으로써 마스터 디스크의 반사도를 조절하는 역할 을 한다.
마스터 디스크의 상부에 도4b에 도시된 바와 같이, 커버층(46)을 도포한다. 커버층(46)의 하부면은 접착제가 도포되어 있어 상부 유전층(45)과 접착된다. 커버층(46)은 마스터 디스크를 보호하는 역할을 하는 동시에 패터닝 후 현상 공정 전에 상부 유전층(45)을 용이하게 제거하기 위한 것이다.
도4c와 같이, 레이저를 조사하여 상변화 무기 포토레지스트(44)에 패턴을 형성한다. 레이저가 조사된 패턴(47)에는 상변화가 발생하게 된다. 상변화 무기 포토레지스트(44)를 결정질 상태로 적층한 경우는 패턴(47)은 비결정질이 되고, 현상 공정을 거치면, 마스터 디스크는 최종적으로 제조될 디스크의 네거티브 패턴을 갖게 된다. 비결정질 상태로 적층한 경우는 패턴(47)은 결정질이 되고, 현상 공정을 거치고 나면, 마스터 디스크는 최종적으로 제조될 디스크와 동일한 패턴을 갖게 된다.
본 실시예에서는 상변화 무기 포토레지스트(44)를 비결정질 상태로 적층하여 최종 디스크와 동일한 패터을 갖는 마스크 디스크를 제조하는 방법을 설명한다.
패터닝 후에, 도4d와 같이 커버층(46)과 상부 유전층(45)을 제거한다. 커버층(46)을 벗겨내면, 그와 접착되어 있는 상부 유전층(45)도 쉽게 제거될 수 있다.
그리고 나서, 도4e와 같이, 알칼리 용액에 기판을 디핑(dipping)시켜 상변화 무기 포토레지스트(44) 중 결정질로 변화한 패턴(47)을 제거하면 마스터 디스크가 완성된다.
이 때 현상에 이용되는 현상액으로는 알칼리 용액을 이용하게 되는데, 예를 들면 NaOH, KOH, LiOH 등이 이용될 수 있다. 이 중 NaOH를 사용하는 경우 농도는 바람직하게는 0.5~3%, 더욱 바람직하게는 약 1% 이다.
도5a 및 도5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 스탬퍼 제조 방법을 나타낸다.
도5a와 같이, 도4a 내지 도4e의 과정으로 완성한 마스터 디스크에 무전해도금 방식으로 얇은 무전해 도금층(48)을 형성하고, 무전해 도금이 되어있는 마스터 기판을 황산니켈 도금조에 넣어 전기도금법에 의해 도금층, 예컨대 니켈 도금층(45)을 성장시킨다. 그리고 나서, 도5b와 같이, 니켈 도금층(45)을 마스터 디스크로부터 분리시키면 스탬퍼가 된다.
이후에, 스탬퍼에 보호막을 도포하고, 사출성형에 필요한 내외경을 뚫고, 사출성형 공정을 통해 최종적인 광 기록 디스크를 제조하게 된다.
도6a 내지 도6c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스터 디스크 제조 방법을 나타낸다.
도6a는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 마스터 디스크의 단면을 나타낸다.
본 실시예의 마스터 디스크는, 원형 기판(41), 상기 원형 기판(41) 상에 적층된 열 흡수층(42), 상기 열 흡수층(42) 위에 적층된 하부 유전층(43), 및 상기 하부 유전층(43) 위에 도포된 상변화 무기 포토레지스트(44)를 포함하여 구성된다.
각 구성 부분에 대한 설명은 도4a의 구성요소와 동일하므로 생략하기로 한다.
도6b와 같이, 도4c와 같이, 레이저를 조사하여 상변화 무기 포토레지스트(44)에 패턴을 형성한다. 본 실시예에서도 상변화 무기 포토레지스트(44)를 비 결정질 상태로 적층하여 최종 디스크와 동일한 패터을 갖는 마스크 디스크를 제조하는 방법을 설명한다.
그리고 나서, 기판을 알칼리 용액에 디핑(dipping)하면 도6c와 같이 패터닝된 결정질 부분이 제거되어 마스터 디스크가 완성된다.
본 발명에 따른 마스터 디스크로는 도4a 및 도6a에 도시된 구조 외에, 도6a의 구조에서 하부 유전체층(43)이 없는 구조를 사용할 수도 있고, 도6a에 도시된 구조에서 하부 유전체층(43) 및 열흡수층(42)이 둘다 없는 구조를 사용할 수도 있다. 각 경우에 마스터 디스크의 패터닝 방법은 도6a 내지 도6c에 도시된 방법과 동일하다.
본 발명의 마스터 기판 제조 방법에 따르면 보다 정밀한 레이저 스폿을 이용하여 고밀도 마스터 기판을 제조할 수 있다.
본 발명의 마스터 기판 제조 방법은 근접장 기록 방식 중 하나인 SIL(Solid Immersion Lens)을 이용한 광학계용 디스크를 제조하는 데에도 적용되어 보다 고용량의 디스크 기판의 제조에 적용될 수 있다.

Claims (15)

  1. 원형 기판;
    상기 원형 기판 상에 적층된 열 흡수층;
    상기 열 흡수층 위에 적층된 하부 유전층;
    상기 하부 유전층 위에 도포된 상변화 무기 포토레지스트; 및
    상기 상변화 무기 포토 레지스트 위에 적층된 상부 유전층;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크.
  2. 원형 기판;
    상기 원형 기판 상에 적층된 열 흡수층;
    상기 열 흡수층 위에 적층된 하부 유전층; 및
    상기 하부 유전층 위에 도포된 상변화 무기 포토레지스트;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크.
  3. 원형 기판;
    상기 원형 기판 상에 적층된 열 흡수층; 및
    상기 하부 유전층 위에 도포된 상변화 포토레지스트;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크.
  4. 제1,2,3항 중 어느 하나에 있어서,
    상기 열 흡수층은 Al 또는 Ag인 것을 특징으로 하는 마스터 디스크.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 하부 유전층은 ZnS-SiO2인 것을 특징으로 하는 마스터 디스크.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 상변화 포토레지스트는 GeSbTe인 것을 특징으로 하는 마스터 디스크.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 상부 유전층은 SiO2인 것을 특징으로 하는 마스터 디스크.
  8. 상변화 포토레지스트가 적층된 마스터 디스크를 준비하는 단계;
    상기 마스터 디스크 위에 커버층을 도포하는 단계;
    레이저를 조사하여 상기 포토레지스트를 상변화시키는 단계;
    상기 커버층을 제거하는 단계; 및
    상기 포토레지스트를 현상하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크 패터닝 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 마스터 디스크를 준비하는 단계는,
    원형 기판에 열 흡수층을 적층하는 단계; 및
    상기 열 흡수층 위에 상변화 포토레지스트를 적층하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크 패터닝 방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 마스터 디스크를 준비하는 단계는,
    원형 기판에 열 흡수층을 적층하는 단계;
    상기 열 흡수층 위에 하부 유전층을 적층하는 단계; 및
    상기 하부 유전층 위에 상변화 포토레지스트를 적층하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크 패터닝 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 마스터 디스크를 준비하는 단계는,
    상기 상변화 포토레지스트 위에 상부 유전층을 적층하는 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크 패터닝 방법.
  12. 상변화 포토레지스트가 적층된 마스터 디스크를 준비하는 단계;
    레이저를 조사하여 상기 포토레지스트를 상변화시키는 단계; 및
    상기 포토레지스트를 현상하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크 패터닝 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 마스터 디스크를 준비하는 단계는,
    원형 기판에 열 흡수층을 적층하는 단계; 및
    상기 열 흡수층 위에 상변화 포토레지스트를 적층하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크 패터닝 방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 마스터 디스크를 준비하는 단계는,
    원형 기판에 열 흡수층을 적층하는 단계;
    상기 열 흡수층 위에 하부 유전층을 적층하는 단계; 및
    상기 하부 유전층 위에 상변화 포토레지스트를 적층하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크 패터닝 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 마스터 디스크를 준비하는 단계는,
    상기 상변화 포토레지스트 위에 상부 유전층을 적층하는 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스터 디스크 패터닝 방법.
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